JPH01196547A - 石英ガラス検査方法 - Google Patents
石英ガラス検査方法Info
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- JPH01196547A JPH01196547A JP1989888A JP1989888A JPH01196547A JP H01196547 A JPH01196547 A JP H01196547A JP 1989888 A JP1989888 A JP 1989888A JP 1989888 A JP1989888 A JP 1989888A JP H01196547 A JPH01196547 A JP H01196547A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/958—Inspecting transparent materials or objects, e.g. windscreens
-
- G—PHYSICS
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- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
- G01N21/63—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
- G01N21/64—Fluorescence; Phosphorescence
- G01N21/645—Specially adapted constructive features of fluorimeters
- G01N21/6456—Spatial resolved fluorescence measurements; Imaging
- G01N2021/646—Detecting fluorescent inhomogeneities at a position, e.g. for detecting defects
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はフォトマスク等に使用される石英ガラスの検査
方法に関するものである。
方法に関するものである。
一巖に、フォトマスク用基板においては各種のガラスが
使用されているが、遠紫外線露光法の登場と共に、３０
０ｎｍ以下の短波長域においても透過率が一定な石英ガ
ラスが使用されるようになってきている。この石英ガラ
スは、気泡や脈理が問題になることが少なく、熱膨張係
数も低膨張ガラスよりも小さい等、あらゆる点で他のガ
ラスより優れている。
使用されているが、遠紫外線露光法の登場と共に、３０
０ｎｍ以下の短波長域においても透過率が一定な石英ガ
ラスが使用されるようになってきている。この石英ガラ
スは、気泡や脈理が問題になることが少なく、熱膨張係
数も低膨張ガラスよりも小さい等、あらゆる点で他のガ
ラスより優れている。
ところで、このような石英ガラス基板の検査は従来、投
光器で光を照射し、目視により傷やゴミの付着があるか
ないかをチエツクしたり、或いは分光光度計により分光
スペクトルを検出することにより行っている。
光器で光を照射し、目視により傷やゴミの付着があるか
ないかをチエツクしたり、或いは分光光度計により分光
スペクトルを検出することにより行っている。
ところで、フォトマスクのパターニングの一つの方法と
してドライエツチングが行われている。
してドライエツチングが行われている。
クロム膜のドライエツチングにおいては、例えば、ＣＣ
１，＋Ｏ□ガス等をプラズマ状態にし、そのラジカル、
イオン等を利用してクロム膜を除去している。然し、石
英基板の中には、エツチング後のガラス部、つまりクロ
ム膜を除去した箇所が赤く着色する現象を示すものが発
見された。このような着色が生じる状態においては光の
透過率が変化し、正常な石英ガラスを用いたフォトマス
クと比較し、満足すべきパターニングを行えない、しか
も、このような欠陥を生ずる石英ガラスは従来の目視検
査や分光光度計では検出することができないという問題
がある。
１，＋Ｏ□ガス等をプラズマ状態にし、そのラジカル、
イオン等を利用してクロム膜を除去している。然し、石
英基板の中には、エツチング後のガラス部、つまりクロ
ム膜を除去した箇所が赤く着色する現象を示すものが発
見された。このような着色が生じる状態においては光の
透過率が変化し、正常な石英ガラスを用いたフォトマス
クと比較し、満足すべきパターニングを行えない、しか
も、このような欠陥を生ずる石英ガラスは従来の目視検
査や分光光度計では検出することができないという問題
がある。
本発明は上記問題点を解決するためのもので、短時間に
精度よ（石英ガラスの欠陥の有無を検出することができ
る石英ガラス検査方法を提供することを目的とする。
精度よ（石英ガラスの欠陥の有無を検出することができ
る石英ガラス検査方法を提供することを目的とする。
そのために本発明の石英ガラス検査方法は、プラズマ処
理後石英ガラスに所定波長域を含む光を照射し、石英ガ
ラスから所定波長の螢光、または所定波長域における透
過率の低下が検出されるか否かにより石英ガラスの欠陥
の有無を検査することを特徴とする。
理後石英ガラスに所定波長域を含む光を照射し、石英ガ
ラスから所定波長の螢光、または所定波長域における透
過率の低下が検出されるか否かにより石英ガラスの欠陥
の有無を検査することを特徴とする。
本発明の石英ガラス検査方法は、プラズマ処理後、２５
０ ｎｍ付近、または６３０ｎｍ付近の波長域を含む光
を照射すると、欠陥のある石英ガラスはこの波長域の光
を吸収して６５０ｎｍ付近の波長の螢光を生じ、また３
００ｎｍ以下、６２０〜６８０ ｎｍ波長域で透過率の
低下が生じ、これを検出することにより石英ガラスの欠
陥の有無を検出することができる。
０ ｎｍ付近、または６３０ｎｍ付近の波長域を含む光
を照射すると、欠陥のある石英ガラスはこの波長域の光
を吸収して６５０ｎｍ付近の波長の螢光を生じ、また３
００ｎｍ以下、６２０〜６８０ ｎｍ波長域で透過率の
低下が生じ、これを検出することにより石英ガラスの欠
陥の有無を検出することができる。
以下、実施例を図面に基づき説明する。
前述したように、本出願人は石英ガラス基板をドライエ
ツチングしてクロム膜のバターニングを行ったところク
ロム膜のない所が赤く着色している現象を発見した。こ
のような着色を生じた石英ガラス基板の透過率を測定し
たところ第１図に示すような結果が得られた。第１図に
おいて、Ａは変色を生じなかった箇所の透過率特性、Ｂ
、Ｃは変色を生じた箇所の透過率特性である。なお、Ｂ
、Ｃは変色の程度が異なっている場合である。
ツチングしてクロム膜のバターニングを行ったところク
ロム膜のない所が赤く着色している現象を発見した。こ
のような着色を生じた石英ガラス基板の透過率を測定し
たところ第１図に示すような結果が得られた。第１図に
おいて、Ａは変色を生じなかった箇所の透過率特性、Ｂ
、Ｃは変色を生じた箇所の透過率特性である。なお、Ｂ
、Ｃは変色の程度が異なっている場合である。
この原因を探すために、さらにプラズマ処理前と処理後
について、透過率９１〜９３％を拡大してみたところ第
２図に示すような特性が得られた。
について、透過率９１〜９３％を拡大してみたところ第
２図に示すような特性が得られた。
第２図においてＤはプラズマ処理前、Ｅはプラズマ処理
後のものである。ただし、第２図においてはオフセント
分が入っているので、これを差し引く必要があるが、こ
の特性から分かるように、３ＱＱｎｍ以下、６２０〜６
８０ｎｍ付近で透過率が低下し、他の波長域においては
そのような低下はないことが分かる。そして、赤い着色
については６５０ｎｍの螢光が発せられていることが検
出された。
後のものである。ただし、第２図においてはオフセント
分が入っているので、これを差し引く必要があるが、こ
の特性から分かるように、３ＱＱｎｍ以下、６２０〜６
８０ｎｍ付近で透過率が低下し、他の波長域においては
そのような低下はないことが分かる。そして、赤い着色
については６５０ｎｍの螢光が発せられていることが検
出された。
第３図は変色の様子を示す図で、同図（イ）はプラズマ
発光光による露光でクロム膜を除去した状態での着色の
様子を示し、同図（ロ）は、（イ）の状態のクロム膜を
Ｃｒのウェットエツチング処理により全て除去した状態
における着色の様子を示し、同図（ハ）は着色が生じな
い正常なガラスの場合を示し、同図（ニ）は全面着色し
た場合を示している。
発光光による露光でクロム膜を除去した状態での着色の
様子を示し、同図（ロ）は、（イ）の状態のクロム膜を
Ｃｒのウェットエツチング処理により全て除去した状態
における着色の様子を示し、同図（ハ）は着色が生じな
い正常なガラスの場合を示し、同図（ニ）は全面着色し
た場合を示している。
プラズマ処理が原因で着色が生じ、透過率が低下するの
で、露光に使用したプラズマ発光光のスペクトルを測定
したところ、第３図のような結果が得られた。
で、露光に使用したプラズマ発光光のスペクトルを測定
したところ、第３図のような結果が得られた。
第３図はドライエツチング処理時のプラズマ発光スペク
トルでありＣｒの発光スペクトルも含まれている。クロ
ムのスペクトル光が消失した状態ではクロム膜がエツチ
ング除去され、石英ガラスに各種のプラズマ発光光が照
射される。
トルでありＣｒの発光スペクトルも含まれている。クロ
ムのスペクトル光が消失した状態ではクロム膜がエツチ
ング除去され、石英ガラスに各種のプラズマ発光光が照
射される。
そこでこのスペクトルの中でどの帯域の波長光が影響し
ているのかいろいろ調べたところ、２ｓＱｎｍ付近の短
波長光と６３０ ｎｍ付近の発光スペクトルが影響して
いることが分かった。この波長域の光を照射すると、あ
る種の石英ガラスではこれを吸収し、その後この波長域
成分を含む光を照射すると、６５０ｎｍ付近の螢光、ま
たは３００ｎｍ以下、６２０〜６８０ｎｍ波長域の透過
率の低下を生ずる。したがって、この螢光光、または透
過率の低下があるか否かを検出することにより石英ガラ
スの良、不良をチエツクすることが可能となる。
ているのかいろいろ調べたところ、２ｓＱｎｍ付近の短
波長光と６３０ ｎｍ付近の発光スペクトルが影響して
いることが分かった。この波長域の光を照射すると、あ
る種の石英ガラスではこれを吸収し、その後この波長域
成分を含む光を照射すると、６５０ｎｍ付近の螢光、ま
たは３００ｎｍ以下、６２０〜６８０ｎｍ波長域の透過
率の低下を生ずる。したがって、この螢光光、または透
過率の低下があるか否かを検出することにより石英ガラ
スの良、不良をチエツクすることが可能となる。
なお検査用に照射すべき光は、プラズマ処理後、２５Ｏ
ｎｍ付近の短波長光、６３０ｎｍ付近の単色光を照射す
る等適宜選択すればよい。
ｎｍ付近の短波長光、６３０ｎｍ付近の単色光を照射す
る等適宜選択すればよい。
また上記実施例ではフォトマスク用石英ガラス基板につ
いての検査を例にして説明したが、フォトマスク用石英
ガラス基板に限らず、光ファイバ等、石英ガラスを使用
するもの全てに通用することができることは言うまでも
ない。
いての検査を例にして説明したが、フォトマスク用石英
ガラス基板に限らず、光ファイバ等、石英ガラスを使用
するもの全てに通用することができることは言うまでも
ない。
以上のように本発明によれば、プラズマ処理後、２５０
ｎｍ付近、６３０ｎｍ付近の波長域を含む光を照射し
、そのとき生ずる螢光、または透過率の低下を検出する
ことにより容易に石英ガラスの検査を行うことが可能と
なる。
ｎｍ付近、６３０ｎｍ付近の波長域を含む光を照射し
、そのとき生ずる螢光、または透過率の低下を検出する
ことにより容易に石英ガラスの検査を行うことが可能と
なる。
第１図は石英ガラスの透過率を示す図、第２図はプラズ
マ処理前後の石英ガラスの透過率特性を示す図、第３図
は石英ガラス基板の着色状態を示す図、第４図はプラズ
マ発光スペクトルを示す図である。 出 願 人 大日本印刷株式会社代理人 弁理士
蛭 川 昌 信（外４名）第３図 （イ） （ロ） （ハ） （ニ）
マ処理前後の石英ガラスの透過率特性を示す図、第３図
は石英ガラス基板の着色状態を示す図、第４図はプラズ
マ発光スペクトルを示す図である。 出 願 人 大日本印刷株式会社代理人 弁理士
蛭 川 昌 信（外４名）第３図 （イ） （ロ） （ハ） （ニ）
Claims (1)
- 石英ガラスにプラズマ発光光を照射した後、所定波長域
を含む光を照射し、石英ガラスから所定波長の螢光、ま
たは所定波長域における透過率の低下が検出されるか否
かにより石英ガラスの欠陥の有無を検査することを特徴
とする石英ガラス検査方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63019898A JP2572410B2 (ja) | 1988-01-30 | 1988-01-30 | 石英ガラス検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63019898A JP2572410B2 (ja) | 1988-01-30 | 1988-01-30 | 石英ガラス検査方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01196547A true JPH01196547A (ja) | 1989-08-08 |
| JP2572410B2 JP2572410B2 (ja) | 1997-01-16 |
Family
ID=12012017
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63019898A Expired - Lifetime JP2572410B2 (ja) | 1988-01-30 | 1988-01-30 | 石英ガラス検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2572410B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01167258A (ja) * | 1987-12-23 | 1989-06-30 | Shinetsu Sekiei Kk | レーザ光学系素体 |
-
1988
- 1988-01-30 JP JP63019898A patent/JP2572410B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01167258A (ja) * | 1987-12-23 | 1989-06-30 | Shinetsu Sekiei Kk | レーザ光学系素体 |
| JPH0463019B2 (ja) * | 1987-12-23 | 1992-10-08 | Shinetsu Sekiei Kk |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2572410B2 (ja) | 1997-01-16 |
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