JP2570604Y2 - ガス遮断器 - Google Patents
ガス遮断器Info
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- JP2570604Y2 JP2570604Y2 JP1992001723U JP172392U JP2570604Y2 JP 2570604 Y2 JP2570604 Y2 JP 2570604Y2 JP 1992001723 U JP1992001723 U JP 1992001723U JP 172392 U JP172392 U JP 172392U JP 2570604 Y2 JP2570604 Y2 JP 2570604Y2
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- puffer
- gas
- suction
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Description
【考案の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本考案は、ガス遮断器に関するも
ので、特に吸込みパッファ室を備えた自力消弧形ガス遮
断器の消弧技術に関するものである。
ので、特に吸込みパッファ室を備えた自力消弧形ガス遮
断器の消弧技術に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、吸込みパッファ室を備えた自力消
弧形ガス遮断器が提案されている。これを図２を用いて
説明する。図２は、従来例のガス遮断器の要部断面図で
ある。図において、中心線より左半分は遮断器の投入状
態を示しており、右半分は遮断動作中を示している。
弧形ガス遮断器が提案されている。これを図２を用いて
説明する。図２は、従来例のガス遮断器の要部断面図で
ある。図において、中心線より左半分は遮断器の投入状
態を示しており、右半分は遮断動作中を示している。
【０００３】固定コンタクト１、コイル２、アークラン
ナ３が昇圧室４内に収納されて自力消弧室を形成してい
る。また、可動コンタクト８には吸込みパッファシリン
ダ９が一体に形成され、該吸込みパッファシリンダ９は
昇圧室壁６を固定ピストンとして、吸込みパッファ室１
０を形成している。そして、吸込みパッファシリンダ９
の底部１５には、開口１４を塞ぐ逆止弁１１が設けられ
ている。
ナ３が昇圧室４内に収納されて自力消弧室を形成してい
る。また、可動コンタクト８には吸込みパッファシリン
ダ９が一体に形成され、該吸込みパッファシリンダ９は
昇圧室壁６を固定ピストンとして、吸込みパッファ室１
０を形成している。そして、吸込みパッファシリンダ９
の底部１５には、開口１４を塞ぐ逆止弁１１が設けられ
ている。
【０００４】遮断器の投入状態において電流は、上部電
極７−固定コンタクト１−可動コンタクト８を通って流
れている。
極７−固定コンタクト１−可動コンタクト８を通って流
れている。
【０００５】遮断器の遮断時には、図示しない操作機構
により可動コンタクト８が図示下方に移動し、固定コン
タクト１と可動コンタクト８との間が離れる。これによ
り両コンタクト間にアークが発生する。更に可動コンタ
クト８が下方に移動すると、アークの一端は固定コンタ
クト１からアークランナ３に移行し、電流は上部電極７
−コイル２−アークランナ３−可動コンタクト８の経路
を通って流れる。アークはアークランナ３と可動コンタ
クト８の間に発生する。コイル２に流れる電流により磁
界が発生し、この磁界により前記アークを駆動する力が
発生し、アークは中心軸を中心としてアークランナ３の
上を高速で回転する。
により可動コンタクト８が図示下方に移動し、固定コン
タクト１と可動コンタクト８との間が離れる。これによ
り両コンタクト間にアークが発生する。更に可動コンタ
クト８が下方に移動すると、アークの一端は固定コンタ
クト１からアークランナ３に移行し、電流は上部電極７
−コイル２−アークランナ３−可動コンタクト８の経路
を通って流れる。アークはアークランナ３と可動コンタ
クト８の間に発生する。コイル２に流れる電流により磁
界が発生し、この磁界により前記アークを駆動する力が
発生し、アークは中心軸を中心としてアークランナ３の
上を高速で回転する。
【０００６】また、吸込みパッファシリンダ９が下方に
移動することにより、吸込みパッファ室１０の内部の圧
力が下がる。
移動することにより、吸込みパッファ室１０の内部の圧
力が下がる。
【０００７】可動コンタクト８が昇圧室４のノズル５を
塞いでいる間は、昇圧室４内部のガスは回転するアーク
により膨張させられ、膨張・昇圧させられたガスは、昇
圧室４内に蓄積される。そして、図示右半分に示すよう
に、可動コンタクト８の先端がノズル５から外れると、
昇圧室４内の高圧ガスは低圧の吸込みパッファ室１０内
へ流れ込む。このガスの流れがアークに対してガスの吹
き付けによる消弧作用を行う。そして、電流の零点で電
流遮断が行われる。流れ込んだガスにより吸込みパッフ
ァ室１０内のガス圧が高くなると、バネ１２により支え
られた逆止弁１１が開き、吸込みパッファ室１０内のガ
スが過剰にならないようにしている。
塞いでいる間は、昇圧室４内部のガスは回転するアーク
により膨張させられ、膨張・昇圧させられたガスは、昇
圧室４内に蓄積される。そして、図示右半分に示すよう
に、可動コンタクト８の先端がノズル５から外れると、
昇圧室４内の高圧ガスは低圧の吸込みパッファ室１０内
へ流れ込む。このガスの流れがアークに対してガスの吹
き付けによる消弧作用を行う。そして、電流の零点で電
流遮断が行われる。流れ込んだガスにより吸込みパッフ
ァ室１０内のガス圧が高くなると、バネ１２により支え
られた逆止弁１１が開き、吸込みパッファ室１０内のガ
スが過剰にならないようにしている。
【０００８】
【考案が解決しようとする課題】上記従来例において
は、昇圧室４内のガスは吸込みパッファ室１０へ流れ込
むのみで、その流れ込んだ量に対するガスの補給がな
い。このため、遮断動作の進行により昇圧室４内のガス
密度が低下する。この昇圧室４内のガス密度の低下によ
り、昇圧室４内部で絶縁破壊が生じることがある。
は、昇圧室４内のガスは吸込みパッファ室１０へ流れ込
むのみで、その流れ込んだ量に対するガスの補給がな
い。このため、遮断動作の進行により昇圧室４内のガス
密度が低下する。この昇圧室４内のガス密度の低下によ
り、昇圧室４内部で絶縁破壊が生じることがある。
【０００９】本考案の目的は、遮断動作の進行に伴う昇
圧室４内のガス密度の低下を防止して、より高い消弧性
能のガス遮断器を提供しようとするものである。
圧室４内のガス密度の低下を防止して、より高い消弧性
能のガス遮断器を提供しようとするものである。
【００１０】本考案の前記ならびに他の目的と新規な特
徴を、本明細書の記述及び添付図面から明らかにする。
徴を、本明細書の記述及び添付図面から明らかにする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本考案は、前記目的を達
成するために、吸込みパッファ室を付加したガス遮断器
において、固定コンタクト、コイル、アークランナが昇
圧室内に収納されて、自力消弧室を形成し、前記昇圧室
はノズルを有する昇圧室壁と上部電極により囲われ、遮
断器の投入状態では、可動コンタクトが固定コンタクト
と接触し、同時に、可動コンタクトがノズルを塞いで、
昇圧室を密封し、前記可動コンタクトには、吸込みパッ
ファシリンダが一体に形成され、該吸込みパッファシリ
ンダは、昇圧室壁を固定ピストンとして、吸込みパッフ
ァ室を形成し、該吸込みパッファ室の底部に開口が設け
られ、該開口に対向して逆止弁が設けられ、前記吸込み
パッファ室の下方に別のパッファ室が設けられ、該パッ
ファ室は、吸込みパッファシリンダの下方に設けられた
パッファシリンダと、固定位置にあるパッファピストン
とにより形成され、前記パッファ室内は可動コンタクト
に設けられた連通路を通って昇圧室内と連通し、前記パ
ッファシリンダには、段部が設けられ、該段部より下方
ではパッファシリンダの内径は小さくなっており、パッ
ファシリンダとパッファピストンは接触し、前記段部よ
り上方ではパッファシリンダの内径は大きくなってお
り、パッファピストンとの間が離れ、この離れた状態で
パッファ室は、その空間を下方においてガス遮断器の容
器内の空間へ開放していることを特徴とする。
成するために、吸込みパッファ室を付加したガス遮断器
において、固定コンタクト、コイル、アークランナが昇
圧室内に収納されて、自力消弧室を形成し、前記昇圧室
はノズルを有する昇圧室壁と上部電極により囲われ、遮
断器の投入状態では、可動コンタクトが固定コンタクト
と接触し、同時に、可動コンタクトがノズルを塞いで、
昇圧室を密封し、前記可動コンタクトには、吸込みパッ
ファシリンダが一体に形成され、該吸込みパッファシリ
ンダは、昇圧室壁を固定ピストンとして、吸込みパッフ
ァ室を形成し、該吸込みパッファ室の底部に開口が設け
られ、該開口に対向して逆止弁が設けられ、前記吸込み
パッファ室の下方に別のパッファ室が設けられ、該パッ
ファ室は、吸込みパッファシリンダの下方に設けられた
パッファシリンダと、固定位置にあるパッファピストン
とにより形成され、前記パッファ室内は可動コンタクト
に設けられた連通路を通って昇圧室内と連通し、前記パ
ッファシリンダには、段部が設けられ、該段部より下方
ではパッファシリンダの内径は小さくなっており、パッ
ファシリンダとパッファピストンは接触し、前記段部よ
り上方ではパッファシリンダの内径は大きくなってお
り、パッファピストンとの間が離れ、この離れた状態で
パッファ室は、その空間を下方においてガス遮断器の容
器内の空間へ開放していることを特徴とする。
【００１２】
【作用】上記した手段によれば、吹き付けパッファ室で
圧縮されたガスは可動コンタクト中空部を通って昇圧室
へ排気されるため、このガスの吹き付け口はアークの発
生している真近であり、吹き込みパッファ効果による遮
断効果が充分に発揮される。 前記昇圧室から抜け出るガ
スはノズルで整流された後広い吸込みパッファ室へ排気
され、さらに遮断後期には吹き付けパッファ室下部が開
口し、ガスの圧縮効果がなくなり、吸込みパッファ室の
圧力が昇圧室からのガスによって上昇すると、逆止弁が
開き、昇圧室からのガスがさらに流れるため、大電流域
の遮断性能が充分に発揮される。 つまり、遮断動作に伴
ってパッファ室により圧縮されたガスが昇圧室内へ導か
れ、昇圧室内のガス密度を高くする。これにより、昇圧
室内のガスが吸込みパッファ室内へ流れ込んでいって
も、昇圧室内に残るガスの密度は高く保たれ著しく低下
することはない。したがって、昇圧室内での絶縁破壊が
防止される。また、昇圧室内のガス密度が高められるこ
とにより、昇圧室内のガスの圧力の上昇が十分に得られ
ることとなり、より高い消弧能力が得られる。
圧縮されたガスは可動コンタクト中空部を通って昇圧室
へ排気されるため、このガスの吹き付け口はアークの発
生している真近であり、吹き込みパッファ効果による遮
断効果が充分に発揮される。 前記昇圧室から抜け出るガ
スはノズルで整流された後広い吸込みパッファ室へ排気
され、さらに遮断後期には吹き付けパッファ室下部が開
口し、ガスの圧縮効果がなくなり、吸込みパッファ室の
圧力が昇圧室からのガスによって上昇すると、逆止弁が
開き、昇圧室からのガスがさらに流れるため、大電流域
の遮断性能が充分に発揮される。 つまり、遮断動作に伴
ってパッファ室により圧縮されたガスが昇圧室内へ導か
れ、昇圧室内のガス密度を高くする。これにより、昇圧
室内のガスが吸込みパッファ室内へ流れ込んでいって
も、昇圧室内に残るガスの密度は高く保たれ著しく低下
することはない。したがって、昇圧室内での絶縁破壊が
防止される。また、昇圧室内のガス密度が高められるこ
とにより、昇圧室内のガスの圧力の上昇が十分に得られ
ることとなり、より高い消弧能力が得られる。
【００１３】以下、本考案の構成について、実施例と共
に説明する。
に説明する。
【００１４】
【実施例】図１は、本考案の１実施例のガス遮断器の要
部断面図である。中心線より左半分は遮断器の投入状態
を示し、右半分は遮断動作の途中の状態を表している。
部断面図である。中心線より左半分は遮断器の投入状態
を示し、右半分は遮断動作の途中の状態を表している。
【００１５】本例のガス遮断器は、図示しない容器に例
えばＳＦ６ガスのような消弧媒体と共に収納されてい
る。固定コンタクト１、コイル２、アークランナ３が昇
圧室４内に収納されて、自力消弧室を形成している。昇
圧室４は、ノズル５を有する昇圧室壁６と上部電極７に
より囲われている。
えばＳＦ６ガスのような消弧媒体と共に収納されてい
る。固定コンタクト１、コイル２、アークランナ３が昇
圧室４内に収納されて、自力消弧室を形成している。昇
圧室４は、ノズル５を有する昇圧室壁６と上部電極７に
より囲われている。
【００１６】遮断器の投入状態では、可動コンタクト８
が固定コンタクト１と接触し、電流は、上部電極７−固
定コンタクト１−可動コンタクト８を通って流れてい
る。同時に、可動コンタクト８がノズル５を塞いで、昇
圧室４を密封している。
が固定コンタクト１と接触し、電流は、上部電極７−固
定コンタクト１−可動コンタクト８を通って流れてい
る。同時に、可動コンタクト８がノズル５を塞いで、昇
圧室４を密封している。
【００１７】また、可動コンタクト８には、吸込みパッ
ファシリンダ９が一体に形成されている。該吸込みパッ
ファシリンダ９は、昇圧室壁６を固定ピストンとして、
吸込みパッファ室１０を形成している。そして、吸込み
パッファ室１０の底部１５に開口１４が設けられ、該開
口１４に対向して逆止弁１１が設けられている。
ファシリンダ９が一体に形成されている。該吸込みパッ
ファシリンダ９は、昇圧室壁６を固定ピストンとして、
吸込みパッファ室１０を形成している。そして、吸込み
パッファ室１０の底部１５に開口１４が設けられ、該開
口１４に対向して逆止弁１１が設けられている。
【００１８】本例においては更に、吸込みパッファ室１
０の下方に別のパッファ室１６が設けられる。このパッ
ファ室１６は、吸込みパッファシリンダ９の下方に設け
られたパッファシリンダ１８と、固定位置にあるパッフ
ァピストン１７とにより形成されている。また、パッフ
ァ室１６内は可動コンタクト８に設けられた連通路１９
を通って昇圧室４内と連通している。
０の下方に別のパッファ室１６が設けられる。このパッ
ファ室１６は、吸込みパッファシリンダ９の下方に設け
られたパッファシリンダ１８と、固定位置にあるパッフ
ァピストン１７とにより形成されている。また、パッフ
ァ室１６内は可動コンタクト８に設けられた連通路１９
を通って昇圧室４内と連通している。
【００１９】パッファシリンダ１８には、段部２０が設
けられる。この段部２０より下方ではパッファシリンダ
１８の内径は小さくなっており、パッファシリンダ１８
とパッファピストン１７は接触する（図の左半分参
照）。段部２０より上方ではパッファシリンダ１８の内
径は大きくなっており、パッファピストン１７との間が
離れる（図の左半分参照）。この離れた状態でパッファ
室１６は、その空間を下方においてガス遮断器の容器内
の空間へ開放している。
けられる。この段部２０より下方ではパッファシリンダ
１８の内径は小さくなっており、パッファシリンダ１８
とパッファピストン１７は接触する（図の左半分参
照）。段部２０より上方ではパッファシリンダ１８の内
径は大きくなっており、パッファピストン１７との間が
離れる（図の左半分参照）。この離れた状態でパッファ
室１６は、その空間を下方においてガス遮断器の容器内
の空間へ開放している。
【００２０】遮断器の遮断動作時には、図示しない操作
機構により可動コンタクト８が図示下方に移動し、固定
コンタクト１と可動コンタクト８の間が離れる。これに
より両コンタクト間にアークが発生する。更に可動コン
タクト８が下方に移動すると、アークの一端は固定コン
タクト１からアークランナ３に移行し、電流は上部電極
７−コイル２−アークランナ３−可動コンタクト８の経
路を通って流れる。アークはアークランナ３と可動コン
タクト８の間に発生する。コイル２に流れる電流により
磁界が発生し、この磁界により前記アークを駆動する力
が発生し、アークは中心軸を中心としてアークランナ３
の上を高速で回転する。
機構により可動コンタクト８が図示下方に移動し、固定
コンタクト１と可動コンタクト８の間が離れる。これに
より両コンタクト間にアークが発生する。更に可動コン
タクト８が下方に移動すると、アークの一端は固定コン
タクト１からアークランナ３に移行し、電流は上部電極
７−コイル２−アークランナ３−可動コンタクト８の経
路を通って流れる。アークはアークランナ３と可動コン
タクト８の間に発生する。コイル２に流れる電流により
磁界が発生し、この磁界により前記アークを駆動する力
が発生し、アークは中心軸を中心としてアークランナ３
の上を高速で回転する。
【００２１】また、可動コンタクト８が下方に移動する
と吸込みパッファシリンダ９及びパッファシリンダ１８
も下方に移動する。吸込みパッファシリンダ９の移動に
より吸込みパッファ室１０の内部の圧力が下がる。パッ
ファシリンダ１８の移動により、パッファ室１６内のガ
スが圧縮され、連通路１９を通して昇圧室４内へ導入さ
れ、昇圧室４内のガス密度を高める。
と吸込みパッファシリンダ９及びパッファシリンダ１８
も下方に移動する。吸込みパッファシリンダ９の移動に
より吸込みパッファ室１０の内部の圧力が下がる。パッ
ファシリンダ１８の移動により、パッファ室１６内のガ
スが圧縮され、連通路１９を通して昇圧室４内へ導入さ
れ、昇圧室４内のガス密度を高める。
【００２２】遮断器の遮断動作中で可動コンタクト８が
昇圧室４のノズル５を塞いでいる間は、昇圧室４内部の
ガスは回転するアークにより膨張させられる。本例では
この昇圧室４内には前記のようにパッファ室１６から圧
縮ガスが送り込まれているので、昇圧室４内のガス圧力
は十分に高められる。膨張・昇圧させられたガスは、昇
圧室４内に蓄積される。また、アークがガス中で回転運
動を行うことにより、相対的にガスがアークに吹き付け
られる消弧作用も行われる。
昇圧室４のノズル５を塞いでいる間は、昇圧室４内部の
ガスは回転するアークにより膨張させられる。本例では
この昇圧室４内には前記のようにパッファ室１６から圧
縮ガスが送り込まれているので、昇圧室４内のガス圧力
は十分に高められる。膨張・昇圧させられたガスは、昇
圧室４内に蓄積される。また、アークがガス中で回転運
動を行うことにより、相対的にガスがアークに吹き付け
られる消弧作用も行われる。
【００２３】そして、更に可動コンタクト８が下方へ移
動してその先端がノズル５から外れると、図の右半分に
示した状態となり、昇圧室４内の高圧ガスはノズル５か
ら圧力の低い吸込みパッファ室１０内へ流れ込む。この
ガスの流れが、アークランナ３と可動コンタクト８の間
のアークに対してガスを吹き付ける消弧作用を行い、電
流の零点で電流遮断が行われる。
動してその先端がノズル５から外れると、図の右半分に
示した状態となり、昇圧室４内の高圧ガスはノズル５か
ら圧力の低い吸込みパッファ室１０内へ流れ込む。この
ガスの流れが、アークランナ３と可動コンタクト８の間
のアークに対してガスを吹き付ける消弧作用を行い、電
流の零点で電流遮断が行われる。
【００２４】本例においては、昇圧室４の圧力は、パッ
ファ室１６よりの圧縮ガスにより十分に高くされている
ので、ガス吹き付けによる消弧能力はより高いものとな
っている。更に、昇圧室４内のガスは、吸込みパッファ
室１０内へ流れ込むが、予めパッファ室１６よりの圧縮
ガスが供給されているので、昇圧室４内に残ったガスの
密度の低下は抑制されている。したがって、昇圧室４内
での絶縁破壊が防止される。
ファ室１６よりの圧縮ガスにより十分に高くされている
ので、ガス吹き付けによる消弧能力はより高いものとな
っている。更に、昇圧室４内のガスは、吸込みパッファ
室１０内へ流れ込むが、予めパッファ室１６よりの圧縮
ガスが供給されているので、昇圧室４内に残ったガスの
密度の低下は抑制されている。したがって、昇圧室４内
での絶縁破壊が防止される。
【００２５】また、この可動コンタクト８が下方へ移動
してその先端がノズル５から外れた時点で、パッファ室
１６のパッファシリンダ１８の段部２０がパッファピス
トン１７より下方へ移動することとなる。これにより、
パッファピストン１７とパッファシリンダ１８の間に間
隙が生じ、パッファ室１６はガス遮断器の容器内の空間
と連通する。したがって、昇圧室４から流れ込んだ吸込
みパッファ室１０内の高圧ガスは、バネ１２により支え
られていた逆止弁１１を開いて、パッファ室１６を通っ
て外部空間へ放出される。この作用により、吸込みパッ
ファ室１０内のガスの圧力が過剰になることはないの
で、昇圧室４から吸込みパッファ室１０へのガスの流れ
を阻害することはない。
してその先端がノズル５から外れた時点で、パッファ室
１６のパッファシリンダ１８の段部２０がパッファピス
トン１７より下方へ移動することとなる。これにより、
パッファピストン１７とパッファシリンダ１８の間に間
隙が生じ、パッファ室１６はガス遮断器の容器内の空間
と連通する。したがって、昇圧室４から流れ込んだ吸込
みパッファ室１０内の高圧ガスは、バネ１２により支え
られていた逆止弁１１を開いて、パッファ室１６を通っ
て外部空間へ放出される。この作用により、吸込みパッ
ファ室１０内のガスの圧力が過剰になることはないの
で、昇圧室４から吸込みパッファ室１０へのガスの流れ
を阻害することはない。
【００２６】
【００２７】
【考案の効果】本考案によれば、アークエネルギーによ
り昇圧室内のガスが昇圧されている間、パッファ室から
昇圧室内にガスが供給されるので、密度の高められたガ
スが昇圧室内に蓄積される。したがって、昇圧室からガ
スが吸込みパッファ室へ排出された後、昇圧室内に残存
するガスの密度は昇圧中に十分に高められているので、
ガス密度の低下が抑制されているため、ガス密度の低下
による絶縁破壊が生ずることがなくなる。
り昇圧室内のガスが昇圧されている間、パッファ室から
昇圧室内にガスが供給されるので、密度の高められたガ
スが昇圧室内に蓄積される。したがって、昇圧室からガ
スが吸込みパッファ室へ排出された後、昇圧室内に残存
するガスの密度は昇圧中に十分に高められているので、
ガス密度の低下が抑制されているため、ガス密度の低下
による絶縁破壊が生ずることがなくなる。
【００２８】また、昇圧室内のガス圧は、アークエネル
ギーとパッファ室の加圧ガスとによって、十分に高めら
れているので、消弧能力がより高いものとなる。
ギーとパッファ室の加圧ガスとによって、十分に高めら
れているので、消弧能力がより高いものとなる。
【００２９】更に、パッファ室を吸込みパッファ室の下
方に配置し、吸込みパッファ室の逆止弁をパッファ室内
に設けることも可能で、このように構成しても逆止弁の
動作は妨げられることはなく、パッファ室の追加にかか
わらず全体の形状を格別に大きくすることがない。
方に配置し、吸込みパッファ室の逆止弁をパッファ室内
に設けることも可能で、このように構成しても逆止弁の
動作は妨げられることはなく、パッファ室の追加にかか
わらず全体の形状を格別に大きくすることがない。
【図１】 本考案の１実施例のガス遮断器の要部断面
図。
図。
【図２】 従来のガス遮断器の要部断面図。
１…固定コンタクト、２…コイル、３…アークランナ、
４…昇圧室、５…ノズル、６…昇圧室壁、７…上部電
極、８…可動コンタクト、９…吸込みパッファシリン
ダ、１０…吸込みパッファ室、１１…逆止弁、１２…バ
ネ、１４…開口、１５…底部、１６…パッファ室、１７
…パッファピストン、１８…パッファシリンダ、１９…
連通路、２０…段部。
４…昇圧室、５…ノズル、６…昇圧室壁、７…上部電
極、８…可動コンタクト、９…吸込みパッファシリン
ダ、１０…吸込みパッファ室、１１…逆止弁、１２…バ
ネ、１４…開口、１５…底部、１６…パッファ室、１７
…パッファピストン、１８…パッファシリンダ、１９…
連通路、２０…段部。
Claims (1)
- 【請求項１】 昇圧室内でアークによりガスを昇圧さ
せ、その昇圧したガスの流れを用いる自力消弧形のガス
遮断器に吸込みパッファ室を付加したガス遮断器におい
て、固定コンタクト１、コイル２、アークランナ３が昇
圧室４内に収納されて、自力消弧室を形成し、前記昇圧
室４はノズル５を有する昇圧室壁６と上部電極７により
囲われ、遮断器の投入状態では、可動コンタクト８が固
定コンタクト１と接触し、同時に、可動コンタクト８が
ノズル５を塞いで、昇圧室４を密封し、前記可動コンタ
クト８には、吸込みパッファシリンダ９が一体に形成さ
れ、該吸込みパッファシリンダ９は、昇圧室壁６を固定
ピストンとして、吸込みパッファ室１０を形成し、該吸
込みパッファ室１０の底部１５に開口１４が設けられ、
該開口１４に対向して逆止弁１１が設けられ、前記吸込
みパッファ室１０の下方に別のパッファ室１６が設けら
れ、該パッファ室１６は、吸込みパッファシリンダ９の
下方に設けられたパッファシリンダ１８と、固定位置に
あるパッファピストン１７とにより形成され、前記パッ
ファ室１６内は可動コンタクト８に設けられた連通路１
９を通って昇圧室４内と連通し、前記パッファシリンダ
１８には、段部２０が設けられ、該段部２０より下方で
はパッファシリンダ１８の内径は小さくなっており、パ
ッファシリンダ１８とパッファピストン１７は接触し、
前記段部２０より上方ではパッファシリンダ１８の内径
は大きくなっており、パッファピストン１７との間が離
れ、この離れた状態でパッファ室１６は、その空間を下
方においてガス遮断器の容器内の空間へ開放しているこ
とを特徴とするガス遮断器。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1992001723U JP2570604Y2 (ja) | 1992-01-22 | 1992-01-22 | ガス遮断器 |
| TW82104405A TW240350B (en) | 1991-12-04 | 1993-06-02 | Air breaker |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1992001723U JP2570604Y2 (ja) | 1992-01-22 | 1992-01-22 | ガス遮断器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0568050U JPH0568050U (ja) | 1993-09-10 |
| JP2570604Y2 true JP2570604Y2 (ja) | 1998-05-06 |
Family
ID=11509490
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1992001723U Expired - Lifetime JP2570604Y2 (ja) | 1991-12-04 | 1992-01-22 | ガス遮断器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2570604Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019079698A (ja) * | 2017-10-25 | 2019-05-23 | 株式会社日立製作所 | ガス遮断器 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ES8800634A1 (es) * | 1985-07-09 | 1987-11-16 | Dow Chemical Co | Un metodo para fijar un perfil de sujetador de plastico a una banda movil. |
-
1992
- 1992-01-22 JP JP1992001723U patent/JP2570604Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0568050U (ja) | 1993-09-10 |
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