JP2558094B2 - 低刺激性洗浄剤組成物 - Google Patents
低刺激性洗浄剤組成物Info
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は低刺激性洗浄剤組成物、更に詳細には、皮膚
や眼に対する刺激性が低く、しかも良好な洗浄力および
起泡力を有する洗浄剤組成物に関する。
や眼に対する刺激性が低く、しかも良好な洗浄力および
起泡力を有する洗浄剤組成物に関する。
洗浄剤は洗浄力,起泡力等の洗浄性が優れたものであ
ることが当然に要求される他、人体の洗浄をする洗浄剤
(シヤンプー,ボデイシヤンプー等),食器調理具用洗
浄剤,羊毛軽質洗浄剤等、洗浄剤の皮膚等が直接接触す
るものは、特に皮膚に対する刺激性が低いこと、眼に対
する刺激性が低いことが更に加えて要求される。
ることが当然に要求される他、人体の洗浄をする洗浄剤
(シヤンプー,ボデイシヤンプー等),食器調理具用洗
浄剤,羊毛軽質洗浄剤等、洗浄剤の皮膚等が直接接触す
るものは、特に皮膚に対する刺激性が低いこと、眼に対
する刺激性が低いことが更に加えて要求される。
これらの洗浄剤の主成分である界面活性剤は、主とし
て、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩(LAS),アル
キル硫酸エステル塩(AS),ポリオキシエチレンアルキ
ルエーテル硫酸エステル塩(AES),α−オレフインス
ルホン酸塩(AOS)等のアニオン性界面活性剤が使用さ
れている。しかし、アニオン性界面活性剤は洗浄力は良
好であるが、反面いずれも皮膚,眼に対して刺激があり
最善の該洗浄剤の主成分界面活性剤とはいえない。
て、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩(LAS),アル
キル硫酸エステル塩(AS),ポリオキシエチレンアルキ
ルエーテル硫酸エステル塩(AES),α−オレフインス
ルホン酸塩(AOS)等のアニオン性界面活性剤が使用さ
れている。しかし、アニオン性界面活性剤は洗浄力は良
好であるが、反面いずれも皮膚,眼に対して刺激があり
最善の該洗浄剤の主成分界面活性剤とはいえない。
ところでこれらの要求をある程度満足する系として、
最近、(A)ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸
塩と(B)イミダゾリン系両性界面活性剤を組合せて用
いることが、特にシヤンプーで好んで行われるようにな
つてきた。しかしながら、この組合せでは(A)ポリオ
キシアルキルエーテル硫酸塩の比率が高いと起泡性、洗
浄力等のシヤンプーとしての起泡性は満足するものの刺
激性が比較的高くなり、一方(B)イミダゾリン系両性
界面活性剤の比率が高いと刺激性は低くなるものの、起
泡性、洗浄力が不十分となるという欠点があつた。
最近、(A)ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸
塩と(B)イミダゾリン系両性界面活性剤を組合せて用
いることが、特にシヤンプーで好んで行われるようにな
つてきた。しかしながら、この組合せでは(A)ポリオ
キシアルキルエーテル硫酸塩の比率が高いと起泡性、洗
浄力等のシヤンプーとしての起泡性は満足するものの刺
激性が比較的高くなり、一方(B)イミダゾリン系両性
界面活性剤の比率が高いと刺激性は低くなるものの、起
泡性、洗浄力が不十分となるという欠点があつた。
本発明者は、かかる問題点を解決するため鋭意検討し
た結果、(A)ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫
酸塩と特定の(B)イミダゾリン系両性界面活性剤を含
む洗浄組成物に、特定の(C)スルホコハク酸エステル
系界面活性剤を加えることにより、起泡力、洗浄力を損
うことなく、刺激性を低下させることができることを見
出し、本発明を完成するに至つた。
た結果、(A)ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫
酸塩と特定の(B)イミダゾリン系両性界面活性剤を含
む洗浄組成物に、特定の(C)スルホコハク酸エステル
系界面活性剤を加えることにより、起泡力、洗浄力を損
うことなく、刺激性を低下させることができることを見
出し、本発明を完成するに至つた。
すなわち本発明は、(A)ポリオキシエチレンアルキ
ルエーテル硫酸塩および (B)次の〜で示される化合物からなる群から選ば
れる1種または2種以上のイミダゾリン系両性界面活性
剤を、 次式〔II〕 〔式中、R2は炭素数7〜21の直鎖もしくは分岐鎖のアル
キル基又はアルケニル基を、R3は−CH2COOMまたは−CH2
CH2COOM(Mは水素、あるいはアルカリ金属、アルカリ
土類金属、アンモニウムおよび有機アンモニウムからな
る群より選ばれる水溶性塩を形成する陽イオンを示す)
を、R4は水素、−CH2COOMまたは−CH2CH2COOM(Mは前
記と同じ)を示す〕 で表わされる3級アミド型イミダゾリン系両性界面活性
剤; 次式〔III〕 〔式中、R5は水素、−CH2COOMまたは−CH2CH2COOM(M
は前記と同じ)を示し、R2およびR4は前記と同じ〕 で表わされる2級アミド型イミダゾリン系両性界面活性
剤; 次式〔IV〕 〔式中、R6は炭素数6〜20の直鎖もしくは分岐鎖のアル
キル基またはアルケニル基を、R7は水素または−C2H4OH
を、R8は−C2H4OH、−C2H4OC2H4COOMまたは−C2H4COOM
(Mは前記と同じ)を、R9は水素または−C2H4COOM(M
は前記と同じ)を示す〕 で表わされるα位付加型イミダゾリン系両性界面活性
剤; (A)+(B)の総量が3〜40重量%、(A)/(B)
の重量比が10/1〜1/2となるように含む洗浄剤組成物
に、 (C)次式〔I〕 〔式中、RはR1O−(CH2CH2O)m−またはR2CONH−(CH
2CH2O)m−(R1は炭素数8〜22の直鎖もしくは分岐鎖
のアルキル基またはアルケニル基を、R2は炭素数7〜21
の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基またはアルケニル基
を示し、mは平均して1〜20の数を示す)を示し、Mは
水素、あるいはアルカリ金属、アルカリ土類金属、アン
モニウムおよび有機アンモニウムからなる群より選ばれ
る水溶性塩を形成する陽イオンを示す〕 で表されるスルホコハク酸エステル系界面活性剤を
(C)/〔(A)+(B)〕の重量比が1/20〜1/1とな
るように含有せしめたことを特徴とする低刺激性洗浄剤
組成物を提供するものである。
ルエーテル硫酸塩および (B)次の〜で示される化合物からなる群から選ば
れる1種または2種以上のイミダゾリン系両性界面活性
剤を、 次式〔II〕 〔式中、R2は炭素数7〜21の直鎖もしくは分岐鎖のアル
キル基又はアルケニル基を、R3は−CH2COOMまたは−CH2
CH2COOM(Mは水素、あるいはアルカリ金属、アルカリ
土類金属、アンモニウムおよび有機アンモニウムからな
る群より選ばれる水溶性塩を形成する陽イオンを示す)
を、R4は水素、−CH2COOMまたは−CH2CH2COOM(Mは前
記と同じ)を示す〕 で表わされる3級アミド型イミダゾリン系両性界面活性
剤; 次式〔III〕 〔式中、R5は水素、−CH2COOMまたは−CH2CH2COOM(M
は前記と同じ)を示し、R2およびR4は前記と同じ〕 で表わされる2級アミド型イミダゾリン系両性界面活性
剤; 次式〔IV〕 〔式中、R6は炭素数6〜20の直鎖もしくは分岐鎖のアル
キル基またはアルケニル基を、R7は水素または−C2H4OH
を、R8は−C2H4OH、−C2H4OC2H4COOMまたは−C2H4COOM
(Mは前記と同じ)を、R9は水素または−C2H4COOM(M
は前記と同じ)を示す〕 で表わされるα位付加型イミダゾリン系両性界面活性
剤; (A)+(B)の総量が3〜40重量%、(A)/(B)
の重量比が10/1〜1/2となるように含む洗浄剤組成物
に、 (C)次式〔I〕 〔式中、RはR1O−(CH2CH2O)m−またはR2CONH−(CH
2CH2O)m−(R1は炭素数8〜22の直鎖もしくは分岐鎖
のアルキル基またはアルケニル基を、R2は炭素数7〜21
の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基またはアルケニル基
を示し、mは平均して1〜20の数を示す)を示し、Mは
水素、あるいはアルカリ金属、アルカリ土類金属、アン
モニウムおよび有機アンモニウムからなる群より選ばれ
る水溶性塩を形成する陽イオンを示す〕 で表されるスルホコハク酸エステル系界面活性剤を
(C)/〔(A)+(B)〕の重量比が1/20〜1/1とな
るように含有せしめたことを特徴とする低刺激性洗浄剤
組成物を提供するものである。
本発明で使用する(A)ポリオキシエチレンアルキル
エーテル硫酸塩としては、例えば、次式〔V〕 R10−O(CH2CH2OnSO3M1 〔V〕 (式中、R10は平均炭素原子数8〜22の直鎖もしくは分
岐鎖のアルキル基またはアルケニル基を、nは平均付加
モル数で0.5〜3の数を示し、M1はアルカリ金属、アル
カリ土類金属、アンモニウムおよび有機アンモニウムか
らなる群より選ばれる水溶性塩を形成する陽イオンを示
す) で表わされる高級アルコールエトキシレートの硫酸化物
が好適なものとして挙げられる。エトキシ基の重合数n
は、大きいほど刺激性が低下するものの、洗浄剤として
の基本性能は低下するため、2〜3であることがより好
ましい。
エーテル硫酸塩としては、例えば、次式〔V〕 R10−O(CH2CH2OnSO3M1 〔V〕 (式中、R10は平均炭素原子数8〜22の直鎖もしくは分
岐鎖のアルキル基またはアルケニル基を、nは平均付加
モル数で0.5〜3の数を示し、M1はアルカリ金属、アル
カリ土類金属、アンモニウムおよび有機アンモニウムか
らなる群より選ばれる水溶性塩を形成する陽イオンを示
す) で表わされる高級アルコールエトキシレートの硫酸化物
が好適なものとして挙げられる。エトキシ基の重合数n
は、大きいほど刺激性が低下するものの、洗浄剤として
の基本性能は低下するため、2〜3であることがより好
ましい。
(B)イミダゾリン系両性界面活性剤としては、次の
〜で示される化合物からなる群から選ばれる1種ま
たは2種以上が用いられる 次式〔II〕 〔式中、R2は炭素数7〜21の直鎖もしくは分岐鎖のアル
キル基またはアルケニル基を、R3は−CH2COOMまたは−C
H2CH2COOM(Mは前記と同じ)を、R4は水素、−CH2COOM
または−CH2CH2COOM(Mは前記と同じ)を示す〕 で表わされる3級アミド型イミダゾリン系両性界面活性
剤。
〜で示される化合物からなる群から選ばれる1種ま
たは2種以上が用いられる 次式〔II〕 〔式中、R2は炭素数7〜21の直鎖もしくは分岐鎖のアル
キル基またはアルケニル基を、R3は−CH2COOMまたは−C
H2CH2COOM(Mは前記と同じ)を、R4は水素、−CH2COOM
または−CH2CH2COOM(Mは前記と同じ)を示す〕 で表わされる3級アミド型イミダゾリン系両性界面活性
剤。
次式〔III〕 〔式中、R5は水素、−CH2COOMまたは−CH2CH2COOM(M
は前記と同じ)を、R2およびR4は前記と同じ〕 で表わされる2級アミド型イミダゾリン系両性界面活性
剤。
は前記と同じ)を、R2およびR4は前記と同じ〕 で表わされる2級アミド型イミダゾリン系両性界面活性
剤。
次式〔IV〕 〔式中、R6は炭素数6〜20の直鎖もしくは分岐鎖のアル
キル基またはアルケニル基を、R7は水素または−C2H4OH
を、R8は−C2H4OH、−C2H4OC2H4COOMまたは−C2H4COOM
(Mは前記と同じ)を、R9は水素または−C2H4COOM(M
は前記と同じ)を示す〕 で表わされるα位付加型イミダゾリン系両性界面活性
剤。
キル基またはアルケニル基を、R7は水素または−C2H4OH
を、R8は−C2H4OH、−C2H4OC2H4COOMまたは−C2H4COOM
(Mは前記と同じ)を、R9は水素または−C2H4COOM(M
は前記と同じ)を示す〕 で表わされるα位付加型イミダゾリン系両性界面活性
剤。
これらの化合物は、単独であるいは2種以上を組み合
せて使用される。また、上記式〔II〕におけるR2CO−基
または〔IV〕におけるR6CHCO−基としては、ラウリン
酸、オレイン酸、ヤシ油脂肪酸由来のものが好ましい。
Mとしては、ナトリウム、水素が最も好ましい。更にま
た、式〔II〕および〔III〕において−CH2CH2COOM基を
もつもの、および式〔IV〕で表わされる化合物は、アク
リル酸エチルの付加によつて誘導されるものであつて、
食塩等の副生塩類を含まないため、メチルセルロース、
ヒドロキシエチルセルロース等の非イオン性セルロース
を用いて洗浄剤組成物を増粘するときに好適に使用され
る。
せて使用される。また、上記式〔II〕におけるR2CO−基
または〔IV〕におけるR6CHCO−基としては、ラウリン
酸、オレイン酸、ヤシ油脂肪酸由来のものが好ましい。
Mとしては、ナトリウム、水素が最も好ましい。更にま
た、式〔II〕および〔III〕において−CH2CH2COOM基を
もつもの、および式〔IV〕で表わされる化合物は、アク
リル酸エチルの付加によつて誘導されるものであつて、
食塩等の副生塩類を含まないため、メチルセルロース、
ヒドロキシエチルセルロース等の非イオン性セルロース
を用いて洗浄剤組成物を増粘するときに好適に使用され
る。
本発明における(C)スルホコハク酸エステル系界面
活性剤としては、前記式〔I〕で示される高級アルコー
ルエトキシレートまたは高級脂肪酸アミド由来でエトキ
シ基を有するものが使用される。式〔I〕におけるエト
キシ基の重合数mは、大きいほど刺激性は低下するもの
の、洗浄剤としての基本性能は低下するため、2〜10で
あることがより好ましい。またR1OHで示される高級アル
コールとしては1級アルコールのみならず、2級アルコ
ールも好適に使用される。
活性剤としては、前記式〔I〕で示される高級アルコー
ルエトキシレートまたは高級脂肪酸アミド由来でエトキ
シ基を有するものが使用される。式〔I〕におけるエト
キシ基の重合数mは、大きいほど刺激性は低下するもの
の、洗浄剤としての基本性能は低下するため、2〜10で
あることがより好ましい。またR1OHで示される高級アル
コールとしては1級アルコールのみならず、2級アルコ
ールも好適に使用される。
好ましい高級アルコールエトキシレートのスルホコハ
ク酸エステルとしては、例えば炭素数11〜13の2級アル
コールエトキシレートのスルホコハク酸エステル・2ナ
トリウム塩〔例えば、日本触媒化学工業、ソフタノール
MES−3,5,7,9,12(それぞれ数字はエチレンオキサイド
の平均付加モル数(EO)を示す)〕、ラウリルアルコー
ルエトキシレート(EO=3,6,9,12)のスルホコハク酸エ
ステル・2ナトリウム塩、炭素数12−15の合成1級アル
コールエトキシレート(EO=1〜4)のスルホコハク酸
エステル・2ナトリウム塩等が挙げられる。
ク酸エステルとしては、例えば炭素数11〜13の2級アル
コールエトキシレートのスルホコハク酸エステル・2ナ
トリウム塩〔例えば、日本触媒化学工業、ソフタノール
MES−3,5,7,9,12(それぞれ数字はエチレンオキサイド
の平均付加モル数(EO)を示す)〕、ラウリルアルコー
ルエトキシレート(EO=3,6,9,12)のスルホコハク酸エ
ステル・2ナトリウム塩、炭素数12−15の合成1級アル
コールエトキシレート(EO=1〜4)のスルホコハク酸
エステル・2ナトリウム塩等が挙げられる。
また、高級脂肪酸アミドのスルホコハク酸エステルと
しては、ラウリン酸モノエタノールアミドのスルホコハ
ク酸エステル・2ナトリウム塩、ラウリン酸ポリエチレ
ングリコール(EO=2)アミドのスルホコハク酸エステ
ル・2ナトリウム塩、オレイン酸ポリエチレングリコー
ル(EO=2)アミドのスルホコハク酸エステル・2ナト
リウム塩、ヤシ脂肪酸ポリエチレングリコール(EO=
4)のスルホコハク酸エステル・ナトリウム塩等が挙げ
られる。
しては、ラウリン酸モノエタノールアミドのスルホコハ
ク酸エステル・2ナトリウム塩、ラウリン酸ポリエチレ
ングリコール(EO=2)アミドのスルホコハク酸エステ
ル・2ナトリウム塩、オレイン酸ポリエチレングリコー
ル(EO=2)アミドのスルホコハク酸エステル・2ナト
リウム塩、ヤシ脂肪酸ポリエチレングリコール(EO=
4)のスルホコハク酸エステル・ナトリウム塩等が挙げ
られる。
本発明において(A)ポリオキシエチレンアルキルエ
ーテル硫酸塩および(B)イミダゾリン系両性界面活性
剤は、その総量(A)+(B)が3〜40重量%、重量比
(A)/(B)が10/1〜1/2となるように用いられる。
(A)+(B)が3重量%より少ないと十分な起泡力、
洗浄力が得られず、(A)+(B)が40重量%を超える
と均一で安定な組成物を得るのが困難となる。(A)/
(B)が10/1を超えると洗浄力、起泡力は十分なもの
の、(C)成分を添加しても十分低刺激な組成物が得ら
れず、一方(A)/(B)が1/2より少ないと(C)成
分添加の有無にかかわらず刺激性は問題ないものの、十
分な起泡力、洗浄力が得られない。(C)スルホコハク
酸エステル系界面活性剤は(C)/〔(A)+(B)〕
の重量比が1/20〜1/1となるように用いないと、相乗効
果による低刺激化が発揮されない。
ーテル硫酸塩および(B)イミダゾリン系両性界面活性
剤は、その総量(A)+(B)が3〜40重量%、重量比
(A)/(B)が10/1〜1/2となるように用いられる。
(A)+(B)が3重量%より少ないと十分な起泡力、
洗浄力が得られず、(A)+(B)が40重量%を超える
と均一で安定な組成物を得るのが困難となる。(A)/
(B)が10/1を超えると洗浄力、起泡力は十分なもの
の、(C)成分を添加しても十分低刺激な組成物が得ら
れず、一方(A)/(B)が1/2より少ないと(C)成
分添加の有無にかかわらず刺激性は問題ないものの、十
分な起泡力、洗浄力が得られない。(C)スルホコハク
酸エステル系界面活性剤は(C)/〔(A)+(B)〕
の重量比が1/20〜1/1となるように用いないと、相乗効
果による低刺激化が発揮されない。
本発明の洗浄剤組成物には、これら(A),(B),
(C)の必須成分の他に、洗浄剤に一般に使用される界
面活性剤を総量で0−10重量%の範囲で用いることがで
きる。またグリセリン、プロピレングリコール、エタノ
ール、尿素等の溶解補助剤;水溶性高分子、ポリエチレ
ングリコール脂肪酸エステル、食塩等の増粘剤;パラベ
ン等の防腐剤、BHT等の酸化防止剤を賦型化、安定化の
ため総量で0−20重量%の範囲で用いることができる。
更に付加的に色素、香料、抗フケ剤、消炎剤、ビタミン
類、植物エキス、タンパク質およびその誘導体もしくは
分解物を総量で0−5重量%の範囲で用いることができ
る。残余は水であり、30−95重量%の範囲となる。
(C)の必須成分の他に、洗浄剤に一般に使用される界
面活性剤を総量で0−10重量%の範囲で用いることがで
きる。またグリセリン、プロピレングリコール、エタノ
ール、尿素等の溶解補助剤;水溶性高分子、ポリエチレ
ングリコール脂肪酸エステル、食塩等の増粘剤;パラベ
ン等の防腐剤、BHT等の酸化防止剤を賦型化、安定化の
ため総量で0−20重量%の範囲で用いることができる。
更に付加的に色素、香料、抗フケ剤、消炎剤、ビタミン
類、植物エキス、タンパク質およびその誘導体もしくは
分解物を総量で0−5重量%の範囲で用いることができ
る。残余は水であり、30−95重量%の範囲となる。
本発明の洗浄剤組成物は、所望により液状(ローシヨ
ン状)、ペースト状、ゲル状等種々の剤型にすることが
できる。pHは必要により酸またはアルカリを用いて4〜
10、より好ましくは5.5〜7.5に調整される。
ン状)、ペースト状、ゲル状等種々の剤型にすることが
できる。pHは必要により酸またはアルカリを用いて4〜
10、より好ましくは5.5〜7.5に調整される。
本発明の洗浄剤組成物におけるスルホコハク酸エルテ
ル系界面活性剤の刺激緩和作用の機構は不明であるが、
本発明によれば低刺激性で洗浄力に優れた洗浄剤を得る
ことができる。従つて、本発明組成物は、例えば乳幼児
用の毛髪、皮膚洗浄剤、手の荒れやすい主婦のための台
所用洗剤、毎日洗髪する人のためのデイリーシヤンプー
として、更に職業的にシヤンプーと長時間接触さぜるを
得ない人のための低刺激性理美容用シヤンプーとして好
適である。
ル系界面活性剤の刺激緩和作用の機構は不明であるが、
本発明によれば低刺激性で洗浄力に優れた洗浄剤を得る
ことができる。従つて、本発明組成物は、例えば乳幼児
用の毛髪、皮膚洗浄剤、手の荒れやすい主婦のための台
所用洗剤、毎日洗髪する人のためのデイリーシヤンプー
として、更に職業的にシヤンプーと長時間接触さぜるを
得ない人のための低刺激性理美容用シヤンプーとして好
適である。
次に実施例を挙げて説明する。なお、実施例における
各試験は次の方法により行なつた。
各試験は次の方法により行なつた。
(1) 起泡力試験法 洗浄剤組成物の1%水溶液に人工汚垢を0.5%加
え、平型プロペラで40℃に於て回転数1000rpmで10秒毎
反転の条件下で5分間シリンダー中で撹拌し、撹拌終了
後、30秒後の泡量により評価を行なつた。
え、平型プロペラで40℃に於て回転数1000rpmで10秒毎
反転の条件下で5分間シリンダー中で撹拌し、撹拌終了
後、30秒後の泡量により評価を行なつた。
毛巾による官能評価 25gの毛巾に温水(40℃)を含ませたのち、洗浄剤組
成物0.5gをつけ、約2分間しごき、その泡量を官能評価
した。
成物0.5gをつけ、約2分間しごき、その泡量を官能評価
した。
評価基準 ◎ よく泡立つ ○ 普通 △ やや泡立ちが悪い × 泡立ちが悪い (2) 洗浄力試験法 人工汚染布 人工油性汚垢を溶剤に均一に分散させ、ウールモスリ
ン羊毛布をこの液に接液し乾燥して、人工油性汚垢を均
一に付着させる。この布を10cm×10cmの試験片とし、実
験に供した。
ン羊毛布をこの液に接液し乾燥して、人工油性汚垢を均
一に付着させる。この布を10cm×10cmの試験片とし、実
験に供した。
洗浄条件および洗浄方法 ドイツ硬度15゜d硬水に洗浄剤組成物を溶解し、3%
洗浄剤組成物水溶液1を調整する。人工汚染布5枚と
この水溶液をそのまま、ターゴトメーター用ステンレス
ビーカーに移し、ターゴトメーターにて75rpm,40℃、3
分間撹拌する。流水下ですすいだ後、アイロンプレスし
反射率測定に供した。
洗浄剤組成物水溶液1を調整する。人工汚染布5枚と
この水溶液をそのまま、ターゴトメーター用ステンレス
ビーカーに移し、ターゴトメーターにて75rpm,40℃、3
分間撹拌する。流水下ですすいだ後、アイロンプレスし
反射率測定に供した。
洗浄率の算出 洗浄率の算出は下式に従つた。
洗浄前の原布及び洗浄前後の汚染布の460mμにおける
反射率を自記色彩計(島津製作所製)にて測定し、次式
によつて洗浄率(%)を算出した。
反射率を自記色彩計(島津製作所製)にて測定し、次式
によつて洗浄率(%)を算出した。
以下5枚の平均値をもつて示した。なお、洗浄前の洗
浄剤組成物水溶液のpHは7.0であつた。
浄剤組成物水溶液のpHは7.0であつた。
(3) 蛋白質変性率測定法 宮澤ら〔日本香粧品科学会誌,18(2),96(198
4)〕の方法に基づき、水系高速液体クロマトグラフイ
ーを利用した行なつた。卵白アルブミンpH7.0緩衝溶液
に洗浄剤組成物濃度として5%になるように試料を加
え、30℃下48時間作用させた場合の卵白アルブミン変性
率を220nmの吸収ピークを用いて測定した。
4)〕の方法に基づき、水系高速液体クロマトグラフイ
ーを利用した行なつた。卵白アルブミンpH7.0緩衝溶液
に洗浄剤組成物濃度として5%になるように試料を加
え、30℃下48時間作用させた場合の卵白アルブミン変性
率を220nmの吸収ピークを用いて測定した。
Ho:卵白アルブミンの220nm吸収ピークの高さ Hs:卵白アルブミン緩衝溶液に試料を加えて30℃,48時間
後の220nm吸収ピークの高さ (4) 手荒れ試験法 各試料につき、男女各5名、合計10名のパネルを用
い、左右どちらか一方の手を、洗浄剤組成物濃度5%、
温度40℃の水溶液に、他方の手を同温度の水に、10分間
浸漬する操作を1日当り2回、5日間続けて行ない、左
右の手の肌荒れ状態の差を肉眼で判定した。
後の220nm吸収ピークの高さ (4) 手荒れ試験法 各試料につき、男女各5名、合計10名のパネルを用
い、左右どちらか一方の手を、洗浄剤組成物濃度5%、
温度40℃の水溶液に、他方の手を同温度の水に、10分間
浸漬する操作を1日当り2回、5日間続けて行ない、左
右の手の肌荒れ状態の差を肉眼で判定した。
◎…手荒れ性著しく弱い 10人中0〜1名試料側に手荒
れが認められた ○…手荒れ性やや弱い 10人中2〜4名試料側に手荒
れが認められた △…手荒れ性やや強い 10人中5〜7名試料側に手荒
れが認められた ×…手荒れ性著しく強い 10人中8〜10名試料側に手荒
れが認められた 実施例1 第1表に示す組成の液体洗浄剤組成物を調整し、その
洗浄力、起泡力、蛋白変性率を評価した。その結果を第
1表に示す。なお、各組成物は、いずれも少量のクエン
酸でpHを7.0に調整した。
れが認められた ○…手荒れ性やや弱い 10人中2〜4名試料側に手荒
れが認められた △…手荒れ性やや強い 10人中5〜7名試料側に手荒
れが認められた ×…手荒れ性著しく強い 10人中8〜10名試料側に手荒
れが認められた 実施例1 第1表に示す組成の液体洗浄剤組成物を調整し、その
洗浄力、起泡力、蛋白変性率を評価した。その結果を第
1表に示す。なお、各組成物は、いずれも少量のクエン
酸でpHを7.0に調整した。
実施例2 第2表に示す組成の液体洗浄剤組成物を調整し、それ
の起泡力及び手荒れ試験を行なつた。その結果を第2表
に示す。
の起泡力及び手荒れ試験を行なつた。その結果を第2表
に示す。
第2表から、本発明組成物は良好な泡立ち、洗浄性を
し、しかも手荒れが起こりにくく皮膚、眼に対して低刺
激であるので、ベビー用あるいは抗フケ用の低刺激シヤ
ンプーベースとして好適に使用できることが分る。
し、しかも手荒れが起こりにくく皮膚、眼に対して低刺
激であるので、ベビー用あるいは抗フケ用の低刺激シヤ
ンプーベースとして好適に使用できることが分る。
実施例3 抗フケ用シヤンプー (組成) ポリオキシエチレン(3)ラウリル硫酸ナトリウム 8.5
(重量%) イミダゾリン型両性界面活性剤1) 3.0 スルホコハク酸エステル系界面活性剤2) 4.0 ヤシ油脂肪酸ジエタノールアミド 1.0 ピロクトンオーラミン3) 0.8 尿素 6.0 香料,色素 微量 水 バランス (クエン酸でpH7.0〜6.5に調整) 1)式〔II〕でR2=C11H23、R3=CH2COOMa 2)式〔I〕でR=C11H23CONHC2H4O(ラウリルアミド
型)、M=Na 3)抗フケ剤(ヘキスト社)
(重量%) イミダゾリン型両性界面活性剤1) 3.0 スルホコハク酸エステル系界面活性剤2) 4.0 ヤシ油脂肪酸ジエタノールアミド 1.0 ピロクトンオーラミン3) 0.8 尿素 6.0 香料,色素 微量 水 バランス (クエン酸でpH7.0〜6.5に調整) 1)式〔II〕でR2=C11H23、R3=CH2COOMa 2)式〔I〕でR=C11H23CONHC2H4O(ラウリルアミド
型)、M=Na 3)抗フケ剤(ヘキスト社)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭57−90099(JP,A) 特開 昭60−168796(JP,A) 特開 昭56−82859(JP,A) 特開 昭55−86893(JP,A) 特開 昭56−38395(JP,A) 特開 昭56−82898(JP,A)
Claims (1)
- 【請求項1】(A)ポリオキシエチレンアルキルエーテ
ル硫酸塩および (B)次の〜で示される化合物からなる群から選ば
れる1種または2種以上のイミダゾリン系両性界面活性
剤を、 次式〔II〕 〔式中、R2は炭素数7〜21の直鎖もしくは分岐鎖のアル
キル基又はアルケニル基を、R3は−CH2COOMまたは−CH2
CH2COOM(Mは水素、あるいはアルカリ金属、アルカリ
土類金属、アンモニウムおよび有機アンモニウムからな
る群より選ばれる水溶性塩を形成する陽イオンを示す)
を、R4は水素、−CH2COOMまたは−CH2CH2COOM(Mは前
記と同じ)を示す〕 で表わされる3級アミド型イミダゾリン系両性界面活性
剤; 次式〔III〕 〔式中、R5は水素、−CH2COOMまたは−CH2CH2COOM(M
は前記と同じ)を示し、R2およびR4は前記と同じ〕 で表わされる2級アミド型イミダゾリン系両性界面活性
剤; 次式〔IV〕 〔式中、R3は炭素数6〜20の直鎖もしくは分岐鎖のアル
キル基またはアルケニル基を、R7は水素または−C2H4OH
を、R8は−C2H4OH、−C2H4OC2H4COOMまたは−C2H4COOM
(Mは前記と同じ)を、R9は水素または−C2H4COOM(M
は前記と同じ)を示す〕 で表わされるα位付加型イミダゾリン系両性界面活性
剤; (A)+(B)の総量が3〜40重量%、(A)/(B)
の重量比が10/1〜1/2となるように含む洗浄剤組成物
に、 (C)次式〔I〕 〔式中、RはR1O−(CH2CH2O)m−またはR2CONH−(CH
2CH2O)m−(R1は炭素数8〜22の直鎖もしくは分岐鎖
のアルキル基またはアルケニル基を、R2は炭素数7〜21
の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基またはアルケニル基
を示し、mは平均して1〜20の数を示す)を示し、Mは
水素、あるいアルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモ
ニウムおよび有機アンモニウムからなる群より選ばれる
水溶性塩を形成する陽イオンを示す〕 で表されるスルホコハク酸エステル系界面活性剤を
(C)/〔(A)+(B)〕の重量比が1/20〜1/1とな
るように含有せしめたことを特徴とする低刺激性洗浄剤
組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60267935A JP2558094B2 (ja) | 1985-11-28 | 1985-11-28 | 低刺激性洗浄剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60267935A JP2558094B2 (ja) | 1985-11-28 | 1985-11-28 | 低刺激性洗浄剤組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62127396A JPS62127396A (ja) | 1987-06-09 |
JP2558094B2 true JP2558094B2 (ja) | 1996-11-27 |
Family
ID=17451647
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60267935A Expired - Fee Related JP2558094B2 (ja) | 1985-11-28 | 1985-11-28 | 低刺激性洗浄剤組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2558094B2 (ja) |
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JPH0721154B2 (ja) * | 1988-10-15 | 1995-03-08 | 三洋化成工業株式会社 | 洗浄剤組成物 |
JPH03115498A (ja) * | 1989-09-29 | 1991-05-16 | Kao Corp | 洗浄剤組成物 |
JP4717250B2 (ja) * | 2001-04-16 | 2011-07-06 | 日本メナード化粧品株式会社 | 洗髪用化粧料 |
JP5602199B2 (ja) * | 2011-10-12 | 2014-10-08 | 花王株式会社 | 手洗い用食器洗浄剤組成物 |
JP5654537B2 (ja) * | 2011-10-12 | 2015-01-14 | 花王株式会社 | 手洗い用食器洗浄剤組成物 |
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---|---|---|---|---|
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JPS5638395A (en) * | 1979-09-05 | 1981-04-13 | Nippon Catalytic Chem Ind | Nonnirritani surfactant composition |
JPS5682898A (en) * | 1979-12-11 | 1981-07-06 | Sanyo Chemical Ind Ltd | Low irritating shampoo composition |
JPS5682895A (en) * | 1979-12-11 | 1981-07-06 | Sanyo Chemical Ind Ltd | Surfactant composition for liquid detergent |
JPS5920718B2 (ja) * | 1980-11-27 | 1984-05-15 | 花王株式会社 | 低刺激性洗浄剤 |
JPS60168796A (ja) * | 1984-02-10 | 1985-09-02 | 株式会社資生堂 | 洗浄剤組成物 |
-
1985
- 1985-11-28 JP JP60267935A patent/JP2558094B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62127396A (ja) | 1987-06-09 |
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