JP2543227B2 - 光ディスク装置 - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はレーザ発光素子からのレーザ光を絞った微小
スポットを用いて光ディスクの情報記録面に情報を記録
したり、あるいは記録した情報を消去・再生する光ディ
スク装置に関するものである。
スポットを用いて光ディスクの情報記録面に情報を記録
したり、あるいは記録した情報を消去・再生する光ディ
スク装置に関するものである。
従来の技術 第６図は、従来の光ディスク装置の光ヘッドの構成を
示した構成図である。第６図において、レーザ光を発生
するレーザ発光素子１から出射した光ビーム２は、第２
の光学素子であるホログラム素子３を通って第１の光学
素子である対物レンズ４で絞られる。絞られた光ビーム
２は光ディスク５の情報記録面６上に焦点７を結ぶ。焦
点７の光ビーム２は反射されて対物レンズ４を通り、ホ
ログラム素子３により回折され、回折光８及び９とな
る。回折光８及び９は２分割した２つの光検出器10及び
11にそれぞれ入射する。
示した構成図である。第６図において、レーザ光を発生
するレーザ発光素子１から出射した光ビーム２は、第２
の光学素子であるホログラム素子３を通って第１の光学
素子である対物レンズ４で絞られる。絞られた光ビーム
２は光ディスク５の情報記録面６上に焦点７を結ぶ。焦
点７の光ビーム２は反射されて対物レンズ４を通り、ホ
ログラム素子３により回折され、回折光８及び９とな
る。回折光８及び９は２分割した２つの光検出器10及び
11にそれぞれ入射する。
一方、レーザ発光素子１から情報記録面とは反対に向
かう後光12は、光検出器13でモニタされ、レーザ発光素
子１の光出力の制御に用いられる。ケース14には、一般
にはレーザ発光素子１と光検出器10及び11と光検出器13
とが納められている。
かう後光12は、光検出器13でモニタされ、レーザ発光素
子１の光出力の制御に用いられる。ケース14には、一般
にはレーザ発光素子１と光検出器10及び11と光検出器13
とが納められている。
以上のように構成された光ヘッドについて、以下その
動作について説明する。まずレーザ発光素子１からの光
ビーム２が光ディスク５の記録情報面６に焦点を結ぶよ
うに対物レンズ４の位置をフォーカス制御する必要があ
る。これは、光ディスク５からの反射光をホログラム素
子３により回折光８及び９に分離し、その差信号より発
生したフォーカス誤差信号を用いて行う。
動作について説明する。まずレーザ発光素子１からの光
ビーム２が光ディスク５の記録情報面６に焦点を結ぶよ
うに対物レンズ４の位置をフォーカス制御する必要があ
る。これは、光ディスク５からの反射光をホログラム素
子３により回折光８及び９に分離し、その差信号より発
生したフォーカス誤差信号を用いて行う。
第７図を用いてフォーカス誤差信号の発生を詳しく説
明する。
明する。
第７図はホログラム３と光検出器10及び11上の光スポ
ットの変化を示す模式図である。ホログラム素子３上は
領域が２分割されて公知のナイフエッジ法の働きを持つ
パターンが刻まれており、それぞれの領域で回折光８及
び９を発生して、光検出器10,11上の光スポットとな
る。光スポットの形状はデフォーカス時には半円形にな
る。光検出器10の２分割した領域を10A,10Bで示す。同
様に光検出器11の２分割した領域を11A,11Bで示す。
ットの変化を示す模式図である。ホログラム素子３上は
領域が２分割されて公知のナイフエッジ法の働きを持つ
パターンが刻まれており、それぞれの領域で回折光８及
び９を発生して、光検出器10,11上の光スポットとな
る。光スポットの形状はデフォーカス時には半円形にな
る。光検出器10の２分割した領域を10A,10Bで示す。同
様に光検出器11の２分割した領域を11A,11Bで示す。
まず、光ディスク５と対物レンズ４が離れすぎると、
光スポットは光検出器10A,11A上で半円形に広がる（第
７図（ａ））。逆に光ディスク５と対物レンズ４が近づ
きすぎると光スポットは光検出器10B,11B上で半円形に
広がる（第７図（ｃ））。
光スポットは光検出器10A,11A上で半円形に広がる（第
７図（ａ））。逆に光ディスク５と対物レンズ４が近づ
きすぎると光スポットは光検出器10B,11B上で半円形に
広がる（第７図（ｃ））。
次に、光ビーム２が光ディスク５の情報記録面上でフ
ォーカスが合うと、第７図（ｂ）に示すように光スポッ
トが２分割の線上に小さく集光する。これにより光検出
器10,11の２分割した領域の出力を10A,10B,11A,11Bとす
れば、フォーカス誤差信号FEは、 FE＝（10A＋11A）−（10B＋11B） の式で求めることができる。
ォーカスが合うと、第７図（ｂ）に示すように光スポッ
トが２分割の線上に小さく集光する。これにより光検出
器10,11の２分割した領域の出力を10A,10B,11A,11Bとす
れば、フォーカス誤差信号FEは、 FE＝（10A＋11A）−（10B＋11B） の式で求めることができる。
次に、トラッキング誤差信号TEは、ファーフィールド
の光量変化の差を利用する一般的なプッシュプル法によ
り、 TE＝（10A＋10B）−（11A＋11B） の式で求めることができる。
の光量変化の差を利用する一般的なプッシュプル法によ
り、 TE＝（10A＋10B）−（11A＋11B） の式で求めることができる。
また、再生RF信号は光検出器10,11の各領域の総和に
より、 RF＝10A＋10B＋11A＋11B の式で求めることができる。
より、 RF＝10A＋10B＋11A＋11B の式で求めることができる。
一方、レーザ発光素子１のレーザ光の出力は、温度や
経時変化により大きく変動し、光ディスク装置の信頼性
に影響する。このため光出力を一定に保つように、半導
体レーザ１の後光12を光検出器13でモニタしてリアルタ
イムで制御をかけている。
経時変化により大きく変動し、光ディスク装置の信頼性
に影響する。このため光出力を一定に保つように、半導
体レーザ１の後光12を光検出器13でモニタしてリアルタ
イムで制御をかけている。
次に、第８図を用いて、フォーカス制御手段を詳しく
説明する。11A,11B,10A,10Bは２分割の光検出器で、差
動増幅器20によりその出力の差が取られ、焦点ずれを示
すフォーカス誤差信号FEとなる。フォーカス誤差信号FE
は位相補償回路21により、フォーカス制御系に最適な位
相補償が行なわれ、次段のアンプ22に送られる。アンプ
22は抵抗R1,R2によりゲインが設定され、フォーカス駆
動電圧VFEを発生し、電流源23を駆動する。電流源23に
よる駆動電流IFEでフォーカス・アクチュエータ24が光
軸と平行なフォーカス方向に駆動される。
説明する。11A,11B,10A,10Bは２分割の光検出器で、差
動増幅器20によりその出力の差が取られ、焦点ずれを示
すフォーカス誤差信号FEとなる。フォーカス誤差信号FE
は位相補償回路21により、フォーカス制御系に最適な位
相補償が行なわれ、次段のアンプ22に送られる。アンプ
22は抵抗R1,R2によりゲインが設定され、フォーカス駆
動電圧VFEを発生し、電流源23を駆動する。電流源23に
よる駆動電流IFEでフォーカス・アクチュエータ24が光
軸と平行なフォーカス方向に駆動される。
以上のようにして、フォーカス誤差信号FEを用いて、
光ビームが常に光ディスク５の情報記録面６に焦点が合
うよう対物レンズ４が制御される。
光ビームが常に光ディスク５の情報記録面６に焦点が合
うよう対物レンズ４が制御される。
トラッキング制御手段もフォーカス制御手段とほぼ同
様の構成であり、ここでは説明を省略する。
様の構成であり、ここでは説明を省略する。
発明が解決しようとする課題 しかしながら上記のような構成では、フォーカス誤差
信号FE及びトラッキング誤差信号TEを検出する光検出器
10,11とレーザ発光素子１の光出力をモニタする光検出
器13とが必要である。したがって、この二つの光検出器
を必要とするために、実装面積が大きく、出力のピン数
が多くなる等の理由で光ヘッドを小型化、薄型化するの
が困難であるという問題点を有していた。ひいては光デ
ィスク装置を小型化、薄型化することが困難、あるいは
コストを下げることが困難である等の問題があった。
信号FE及びトラッキング誤差信号TEを検出する光検出器
10,11とレーザ発光素子１の光出力をモニタする光検出
器13とが必要である。したがって、この二つの光検出器
を必要とするために、実装面積が大きく、出力のピン数
が多くなる等の理由で光ヘッドを小型化、薄型化するの
が困難であるという問題点を有していた。ひいては光デ
ィスク装置を小型化、薄型化することが困難、あるいは
コストを下げることが困難である等の問題があった。
本発明はかかる点に鑑み、コストを低減させ、小型
化、薄型化を可能とする光ディスク装置を提供すること
を目的とする。
化、薄型化を可能とする光ディスク装置を提供すること
を目的とする。
課題を解決するための手段 本発明は、光源となるレーザ発光素子と、レーザ発光
素子から発光される光ビームを光ディスクの情報記録面
に集束する第１の光学素子と、情報記録面の反射光から
光ビームの情報記録面に対するフォーカス誤差あるいは
トラッキング誤差に対応した第１の回折光を発生する第
１の回折光発生領域と所定の反射率を有する膜を表面に
コーティングしてレーザ発光素子から情報記録面に向か
う光ビームの一部を反射回折してモニタ光に対応する第
２の回折光を発生する第２の回折光発生領域とから構成
された第２の光学素子と、第２の光学素子で発生した第
１の回折光と第２の回折光とを検出する光検出器と、前
記光検出器の出力により光ビームを集束するフォーカス
制御手段と、前記光検出器の出力により光ビームを所望
のトラックに追従させるトラッキング制御手段と、前記
光検出器の出力によりレーザ発光素子の光出力を所定の
値に制御する光出力制御手段とを備えた光ディスク装置
である。
素子から発光される光ビームを光ディスクの情報記録面
に集束する第１の光学素子と、情報記録面の反射光から
光ビームの情報記録面に対するフォーカス誤差あるいは
トラッキング誤差に対応した第１の回折光を発生する第
１の回折光発生領域と所定の反射率を有する膜を表面に
コーティングしてレーザ発光素子から情報記録面に向か
う光ビームの一部を反射回折してモニタ光に対応する第
２の回折光を発生する第２の回折光発生領域とから構成
された第２の光学素子と、第２の光学素子で発生した第
１の回折光と第２の回折光とを検出する光検出器と、前
記光検出器の出力により光ビームを集束するフォーカス
制御手段と、前記光検出器の出力により光ビームを所望
のトラックに追従させるトラッキング制御手段と、前記
光検出器の出力によりレーザ発光素子の光出力を所定の
値に制御する光出力制御手段とを備えた光ディスク装置
である。
作用 本発明は前記した構成により、第２の光学素子の第１
の回折光発生領域で情報記録面の反射光からフォーカス
誤差あるいはトラッキング誤差に対応した第１の回折光
を発生する。また、表面に所定の反射率を有する膜をコ
ーティングした第２の回折光発生領域でレーザ発光素子
から情報記録面に向かう光ビームの一部の反射回折して
モニタ光に対応した第２の回折光を第１の回折光と同じ
向きに発生する。第１の回折光を検出する光検出器で、
第２の回折光も検出する。同一の光検出器の出力によ
り、レーザ発光素子の光出力の制御、フォーカス制御、
トラッキング制御を行う。
の回折光発生領域で情報記録面の反射光からフォーカス
誤差あるいはトラッキング誤差に対応した第１の回折光
を発生する。また、表面に所定の反射率を有する膜をコ
ーティングした第２の回折光発生領域でレーザ発光素子
から情報記録面に向かう光ビームの一部の反射回折して
モニタ光に対応した第２の回折光を第１の回折光と同じ
向きに発生する。第１の回折光を検出する光検出器で、
第２の回折光も検出する。同一の光検出器の出力によ
り、レーザ発光素子の光出力の制御、フォーカス制御、
トラッキング制御を行う。
また、光ディスク装置の立ち上げ時には、第２の回折
光を用いて、まず、レーザ発光素子の光出力を所定の光
出力に設定する。光出力が所定値に設定されると、サー
ボ系のゲインが安定に決定されるため、第１の回折光を
用いてフォーカス制御手段とトラッキング制御手段を立
ち上げて、光ディスク装置を立ち上げるようにする。
光を用いて、まず、レーザ発光素子の光出力を所定の光
出力に設定する。光出力が所定値に設定されると、サー
ボ系のゲインが安定に決定されるため、第１の回折光を
用いてフォーカス制御手段とトラッキング制御手段を立
ち上げて、光ディスク装置を立ち上げるようにする。
実施例 第１図は本発明の第１の実施例における、光ディスク
装置の光ヘッドを示す構成図である。ここでは、先に説
明した従来例の第６図で変更した部分を説明する。
装置の光ヘッドを示す構成図である。ここでは、先に説
明した従来例の第６図で変更した部分を説明する。
変更したのは、レーザ発光素子１の後光12を無くし、
同時に、後光12をモニタする光検出器13を無くしたこと
である。また、第２の光学素子３において、フォーカス
誤差あるいはトラッキング誤差に対応した第１の回折光
８及び９を発生する第１の回折光発生領域3aの外側に、
レーザ発光素子１から情報記録面６に向かう光ビームの
一部を反射回折してモニタ光に対応する第２の回折光25
及び26を発生する第２の回折光発生領域3bを付加した。
第２の回折光発生領域3bの表面には、所定の反射率を有
する膜がコーティングされている。膜の材料としては例
えばアルミ、金などが利用できる。第１の回折光８及び
９を検出する光検出器10及び11で、モニタ光に対応する
第２の回折光25,26を検出する。また、第２の光学素子
３はケース14に一体化している。
同時に、後光12をモニタする光検出器13を無くしたこと
である。また、第２の光学素子３において、フォーカス
誤差あるいはトラッキング誤差に対応した第１の回折光
８及び９を発生する第１の回折光発生領域3aの外側に、
レーザ発光素子１から情報記録面６に向かう光ビームの
一部を反射回折してモニタ光に対応する第２の回折光25
及び26を発生する第２の回折光発生領域3bを付加した。
第２の回折光発生領域3bの表面には、所定の反射率を有
する膜がコーティングされている。膜の材料としては例
えばアルミ、金などが利用できる。第１の回折光８及び
９を検出する光検出器10及び11で、モニタ光に対応する
第２の回折光25,26を検出する。また、第２の光学素子
３はケース14に一体化している。
以上のように構成された光ヘッドを用いた光ディスク
装置の動作を、以下説明していく。
装置の動作を、以下説明していく。
まず、第２図で光検出器10及び11の構成、動作から説
明する。先に説明した従来例の第７図と異なるのは、第
１の回折光８及び９の光スポット以外にモニタ光に対応
する第２の回折光25及び26の光スポットがあることであ
る。第２の回折光25及び26は、レーザ発光素子１から情
報記録面６に向かう光ビームの一部を回折しているた
め、情報記録面６と対物レンズ４との距離に依らず、常
に光検出器10及び11にはDC的な光スポットが当たること
になる。一方、フォーカス誤差及びトラッキング誤差に
対応する第１の回折光８及び９は従来と同様に変化して
いる。
明する。先に説明した従来例の第７図と異なるのは、第
１の回折光８及び９の光スポット以外にモニタ光に対応
する第２の回折光25及び26の光スポットがあることであ
る。第２の回折光25及び26は、レーザ発光素子１から情
報記録面６に向かう光ビームの一部を回折しているた
め、情報記録面６と対物レンズ４との距離に依らず、常
に光検出器10及び11にはDC的な光スポットが当たること
になる。一方、フォーカス誤差及びトラッキング誤差に
対応する第１の回折光８及び９は従来と同様に変化して
いる。
このような光検出器10及び11の出力を用いて、レーザ
発光素子１の光出力の制御、フォーカス制御、トラッキ
ング制御を行う方法を説明する。順序としては、最初に
レーザ発光素子１の光出力の設定を行い、その後に、フ
ォーカス制御及びトラッキング制御を行っていく。
発光素子１の光出力の制御、フォーカス制御、トラッキ
ング制御を行う方法を説明する。順序としては、最初に
レーザ発光素子１の光出力の設定を行い、その後に、フ
ォーカス制御及びトラッキング制御を行っていく。
まず、対物レンズ４と情報記録面６が近づいたデフォ
ーカス状態にする（第２図（ａ））。このデフォーカス
状態において、第１の回折光８及び９の半円形の光スポ
ットは２分割した光検出器10及び11のそれぞれ10B,11B
のみに当たっている。もう一方の光検出器10A,11Aに
は、それぞれ第２の光学素子３に設けた第２の回折光発
生領域3bで反射回折したモニタ光に対応する第２の回折
光25及び26が当たっている。このような状態では、光検
出器10A,11Aの出力から、レーザ発光素子１の光出力を
モニタして、レーザ発光素子１の光出力を所定の光出力
に設定することができる。ここで、光検出器10A,11Aの
出力をそれぞれVM0,VM1として保持しておく。
ーカス状態にする（第２図（ａ））。このデフォーカス
状態において、第１の回折光８及び９の半円形の光スポ
ットは２分割した光検出器10及び11のそれぞれ10B,11B
のみに当たっている。もう一方の光検出器10A,11Aに
は、それぞれ第２の光学素子３に設けた第２の回折光発
生領域3bで反射回折したモニタ光に対応する第２の回折
光25及び26が当たっている。このような状態では、光検
出器10A,11Aの出力から、レーザ発光素子１の光出力を
モニタして、レーザ発光素子１の光出力を所定の光出力
に設定することができる。ここで、光検出器10A,11Aの
出力をそれぞれVM0,VM1として保持しておく。
レーザ発光素子１の光出力を所定の光出力に設定した
後は、フォーカス誤差信号FEを求めるとフォーカス制御
が行える。具体的には、光検出器10A,11Aに当たってい
る第２の回折光25及び26のDC成分をキャンセルすれば良
い。これは、先の光出力の設定時に保持した電圧VM0,VM
1を用いてフォーカス誤差信号が、 FE＝（10A＋11A）−（10B＋11B）−（VM0＋VM1） の式で求められる。このフォーカス誤差信号FEを用い
て、フォーカス制御手段によりフォーカス制御を行うこ
とができる。
後は、フォーカス誤差信号FEを求めるとフォーカス制御
が行える。具体的には、光検出器10A,11Aに当たってい
る第２の回折光25及び26のDC成分をキャンセルすれば良
い。これは、先の光出力の設定時に保持した電圧VM0,VM
1を用いてフォーカス誤差信号が、 FE＝（10A＋11A）−（10B＋11B）−（VM0＋VM1） の式で求められる。このフォーカス誤差信号FEを用い
て、フォーカス制御手段によりフォーカス制御を行うこ
とができる。
同様に、トラッキング誤差信号TEを求めればトラッキ
ング制御が行える。第２の回折光25及び26をキャンセル
するようにして、トラッキング誤差信号TEは、 TE＝（10A＋10B−VM0）−（11A＋11B−VM1） の式で求められる。このトラッキング誤差信号TEを用い
て、トラッキング制御手段によりトラッキング制御を行
うことができる。
ング制御が行える。第２の回折光25及び26をキャンセル
するようにして、トラッキング誤差信号TEは、 TE＝（10A＋10B−VM0）−（11A＋11B−VM1） の式で求められる。このトラッキング誤差信号TEを用い
て、トラッキング制御手段によりトラッキング制御を行
うことができる。
次に、光出力制御手段についてさらに詳しく説明す
る。第３図は、光出力制御手段の構成図である。10B,11
Bは、第２の光学素子３に設けた第２の回折光発生領域3
bで反射回折したモニタ光に対応する第２の回折光25及
び26をモニタする光検出器である。30は電流電圧変換器
（IV）、31はゲイン抵抗で、光検出器10A,11Aのモニタ
電流IMをモニタ電圧VMに変換する。32はAD変換器で、ア
ナログ電圧VMをディジタル電圧VDに変換する。33は演算
器でディジタル電圧VDの演算を行い、制御電圧VSを出力
して、レーザ発光素子１の光出力を所定の光出力に制御
する。34はDA変換器でディジタルの制御電圧VSをアナロ
グの制御電圧VAに変換する。制御電圧VAは電流源35を駆
動して、レーザ発光素子１の駆動電流ILを制御する。
る。第３図は、光出力制御手段の構成図である。10B,11
Bは、第２の光学素子３に設けた第２の回折光発生領域3
bで反射回折したモニタ光に対応する第２の回折光25及
び26をモニタする光検出器である。30は電流電圧変換器
（IV）、31はゲイン抵抗で、光検出器10A,11Aのモニタ
電流IMをモニタ電圧VMに変換する。32はAD変換器で、ア
ナログ電圧VMをディジタル電圧VDに変換する。33は演算
器でディジタル電圧VDの演算を行い、制御電圧VSを出力
して、レーザ発光素子１の光出力を所定の光出力に制御
する。34はDA変換器でディジタルの制御電圧VSをアナロ
グの制御電圧VAに変換する。制御電圧VAは電流源35を駆
動して、レーザ発光素子１の駆動電流ILを制御する。
以上の構成の光出力制御手段の動作を第４図を用いて
説明する。
説明する。
第４図はレーザ発光素子１の駆動電流Ｉと光出力Ｐと
の関係を表す特性図である。レーザ発光素子１に設定し
たい所定の光出力をPSとする。演算器33は２種類の駆動
電流I1,I2に対応する制御電圧VSを発生し、そのときの
光検出器10B,11Bのモニタ電圧VMより、光出力P1,P2のデ
ータを得る。演算器33は駆動電流I1,I2と光出力P1,P2の
データより、その傾き（SL）を（I1−I2）／（P1−P2）
と計算する。直線の傾き（SL）より、設定したい所定の
光出力PSに対応する駆動電流ISが計算できる。駆動電流
ISに対応する制御電圧VSを演算器が設定して、レーザ発
光素子１の光出力を所定の光出力PSに設定することが終
了する。
の関係を表す特性図である。レーザ発光素子１に設定し
たい所定の光出力をPSとする。演算器33は２種類の駆動
電流I1,I2に対応する制御電圧VSを発生し、そのときの
光検出器10B,11Bのモニタ電圧VMより、光出力P1,P2のデ
ータを得る。演算器33は駆動電流I1,I2と光出力P1,P2の
データより、その傾き（SL）を（I1−I2）／（P1−P2）
と計算する。直線の傾き（SL）より、設定したい所定の
光出力PSに対応する駆動電流ISが計算できる。駆動電流
ISに対応する制御電圧VSを演算器が設定して、レーザ発
光素子１の光出力を所定の光出力PSに設定することが終
了する。
以上のように本実施例によれば、光源となるレーザ発
光素子と、レーザ発光素子の光ビームを情報記録面に集
束する第１の光学素子と、情報記録面の反射光から光ビ
ームの情報記録面に対するフォーカス誤差あるいはトラ
ッキング誤差に対応した第１の回折光を発生する第１の
回折光発生領域と所定の反射率を有する膜を表面にコー
ティングしてレーザ発光素子から情報記録面に向かう光
ビームの一部を反射回折してモニタ光に対応する第２の
回折光を発生する第２の回折光発生領域とから構成され
た第２の光学素子と、第２の光学素子で発生した第１の
回折光と第２の回折光とを検出する光検出器と、前記光
検出器の出力により光ビームを集束するフォーカス制御
手段と、前記光検出器の出力により光ビームを所望のト
ラックに追従させるトラッキング制御手段と、前記光検
出器の出力によりレーザ発光素子の光出力を所定の値に
制御する光出力制御手段とを設けることにより、第１の
回折光と第２の回折光の光検出器を同一の光検出器で兼
ね、コストを低減すると共に、光ディスク装置を小型化
することが出来る。またレーザ発光素子は後光を出す必
要がなく、高さ方向の薄型化を可能にすることができ
る。
光素子と、レーザ発光素子の光ビームを情報記録面に集
束する第１の光学素子と、情報記録面の反射光から光ビ
ームの情報記録面に対するフォーカス誤差あるいはトラ
ッキング誤差に対応した第１の回折光を発生する第１の
回折光発生領域と所定の反射率を有する膜を表面にコー
ティングしてレーザ発光素子から情報記録面に向かう光
ビームの一部を反射回折してモニタ光に対応する第２の
回折光を発生する第２の回折光発生領域とから構成され
た第２の光学素子と、第２の光学素子で発生した第１の
回折光と第２の回折光とを検出する光検出器と、前記光
検出器の出力により光ビームを集束するフォーカス制御
手段と、前記光検出器の出力により光ビームを所望のト
ラックに追従させるトラッキング制御手段と、前記光検
出器の出力によりレーザ発光素子の光出力を所定の値に
制御する光出力制御手段とを設けることにより、第１の
回折光と第２の回折光の光検出器を同一の光検出器で兼
ね、コストを低減すると共に、光ディスク装置を小型化
することが出来る。またレーザ発光素子は後光を出す必
要がなく、高さ方向の薄型化を可能にすることができ
る。
さらに、ホログラム等の回折素子を使うと、モニタ光
に対応する第２の回折光は計算により任意の最適な位置
に発生させることができる。
に対応する第２の回折光は計算により任意の最適な位置
に発生させることができる。
第５図に、本発明の第２の実施例の構成図を示す。第
１の実施例である第１図と異なる点は、第２の光学素子
３の回折光発生領域の場所である。第１図では、第１の
回折光発生領域3aと第２の回折光発生領域3bとは同一面
上に構成していた。第５図の第２の実施例では、第１の
回折光発生領域3aと第２の回折光発生領域3bとは異なる
面上に構成している。
１の実施例である第１図と異なる点は、第２の光学素子
３の回折光発生領域の場所である。第１図では、第１の
回折光発生領域3aと第２の回折光発生領域3bとは同一面
上に構成していた。第５図の第２の実施例では、第１の
回折光発生領域3aと第２の回折光発生領域3bとは異なる
面上に構成している。
光ディスク装置としての動作は、第１の実施例の場合
と全く同様であり、ここでは説明を省略する。
と全く同様であり、ここでは説明を省略する。
第１の回折光発生領域3aと第２の回折光発生領域3bと
を異なる面上に構成するのは、以下の理由である。第２
図で、第２の光学素子の回折パターンを示しているが、
この場合には、第１の回折光発生領域3aと第２の回折光
発生領域3bとはクロスせずに独立にパターンが刻まれて
いる。この場合にはパターンの最小寸法は比較的大きく
とれることから製造が容易である。
を異なる面上に構成するのは、以下の理由である。第２
図で、第２の光学素子の回折パターンを示しているが、
この場合には、第１の回折光発生領域3aと第２の回折光
発生領域3bとはクロスせずに独立にパターンが刻まれて
いる。この場合にはパターンの最小寸法は比較的大きく
とれることから製造が容易である。
これに対し、第１の回折光発生領域3aと第２の回折光
発生領域3bとがクロスして重なる場合がある。この場合
には、パターンの最小寸法が独立な回折光発生領域の場
合よりも、かなり小さくなり製造が困難になる。
発生領域3bとがクロスして重なる場合がある。この場合
には、パターンの最小寸法が独立な回折光発生領域の場
合よりも、かなり小さくなり製造が困難になる。
このような問題に対して、第５図に示すように、第１
の回折光発生領域3aと第２の回折光発生領域3bとを異な
る面上に構成する。パターンの最小寸法は、第１の回折
光発生領域3aと第２の回折光発生領域3bそれぞれの寸法
になり、小さくせずに済むため、製造が容易になる。
の回折光発生領域3aと第２の回折光発生領域3bとを異な
る面上に構成する。パターンの最小寸法は、第１の回折
光発生領域3aと第２の回折光発生領域3bそれぞれの寸法
になり、小さくせずに済むため、製造が容易になる。
なお、本発明の説明において、光出力制御手段は、AD
変換器32,演算器33,DA変換器34等で構成するとしたが、
これはフォーカス制御手段、トラッキング制御手段等が
ディジタル制御であれば、これらの回路を流用すること
が可能である。
変換器32,演算器33,DA変換器34等で構成するとしたが、
これはフォーカス制御手段、トラッキング制御手段等が
ディジタル制御であれば、これらの回路を流用すること
が可能である。
発明の効果 以上説明したように本発明によれば、光源となるレー
ザ発光素子と、レーザ発光素子の光ビームを情報記録面
に集束する第１の光学素子と、情報記録面の反射光から
光ビームの情報記録面に対するフォーカス誤差あるいは
トラッキング誤差に対応した第１の回折光を発生する第
１の回折光発生領域と所定の反射率を有する膜を表面に
コーティングしてレーザ発光素子から情報記録面に向か
う光ビームの一部を反射回折してモニタ光に対応する第
２の回折光を発生する第２の回折光発生領域とから構成
された第２の光学素子と、第２の光学素子で発生した第
１の回折光と第２の回折光とを検出する光検出器と、前
記光検出器の出力により光ビームを集束するフォーカス
制御手段と、前記光検出器の出力により光ビームを所望
のトラックに追従させるトラッキング制御手段と、前記
光検出器の出力によりレーザ発光素子の光出力を所定の
値に制御する光出力制御手段とを設けることにより、第
１の回折光と第２の回折光の光検出器を同一の光検出器
で兼ね、コストを低減して、光ディスク装置を小型化す
ることができる。
ザ発光素子と、レーザ発光素子の光ビームを情報記録面
に集束する第１の光学素子と、情報記録面の反射光から
光ビームの情報記録面に対するフォーカス誤差あるいは
トラッキング誤差に対応した第１の回折光を発生する第
１の回折光発生領域と所定の反射率を有する膜を表面に
コーティングしてレーザ発光素子から情報記録面に向か
う光ビームの一部を反射回折してモニタ光に対応する第
２の回折光を発生する第２の回折光発生領域とから構成
された第２の光学素子と、第２の光学素子で発生した第
１の回折光と第２の回折光とを検出する光検出器と、前
記光検出器の出力により光ビームを集束するフォーカス
制御手段と、前記光検出器の出力により光ビームを所望
のトラックに追従させるトラッキング制御手段と、前記
光検出器の出力によりレーザ発光素子の光出力を所定の
値に制御する光出力制御手段とを設けることにより、第
１の回折光と第２の回折光の光検出器を同一の光検出器
で兼ね、コストを低減して、光ディスク装置を小型化す
ることができる。
また、レーザ発光素子は後光を出す必要がなく、高さ
方向の薄型化を可能にすることができると共に、光出力
制御手段を専用の回路でなく他の回路で流用することが
でき、その実用的効果は大きい。
方向の薄型化を可能にすることができると共に、光出力
制御手段を専用の回路でなく他の回路で流用することが
でき、その実用的効果は大きい。
第１図は本発明の第１の実施例における光ディスク装置
の光ヘッドの構成図、第２図は本発明の光検出器におけ
る第１の回折光と第２の回折光の様子を説明する模式
図、第３図は本発明の光出力制御手段を示す構成図、第
４図は本発明のレーザ発光素子の駆動電流と光出力を説
明する特性図、第５図は本発明の第２の実施例における
光ディスク装置の光ヘッドの構成図、第６図は従来の光
ディスク装置の光ヘッドの構成図、第７図は従来の光検
出器における第１の回折光の様子を説明する模式図、第
８図は従来のフォーカス制御手段の構成図である。 １……レーザ発光素子、３……第２の光学素子、3a……
第１の回折光発生領域、3b……第２の回折光発生領域、
４……対物レンズ（第１の光学素子）、５……光ディス
ク、６……情報記録面、8,9……第１の回折光、10,11…
…光検出器、12……後光、13……光検出器、14……ケー
ス、25,26……第２の回折光、32……AD変換器、33……
演算器、34……DA変換器。
の光ヘッドの構成図、第２図は本発明の光検出器におけ
る第１の回折光と第２の回折光の様子を説明する模式
図、第３図は本発明の光出力制御手段を示す構成図、第
４図は本発明のレーザ発光素子の駆動電流と光出力を説
明する特性図、第５図は本発明の第２の実施例における
光ディスク装置の光ヘッドの構成図、第６図は従来の光
ディスク装置の光ヘッドの構成図、第７図は従来の光検
出器における第１の回折光の様子を説明する模式図、第
８図は従来のフォーカス制御手段の構成図である。 １……レーザ発光素子、３……第２の光学素子、3a……
第１の回折光発生領域、3b……第２の回折光発生領域、
４……対物レンズ（第１の光学素子）、５……光ディス
ク、６……情報記録面、8,9……第１の回折光、10,11…
…光検出器、12……後光、13……光検出器、14……ケー
ス、25,26……第２の回折光、32……AD変換器、33……
演算器、34……DA変換器。
Claims (5)
- 【請求項１】光源となるレーザ発光素子と、 前記レーザ発光素子から発光される光ビームを光ディス
クの情報記録面に集束する第１の光学素子と、 情報記録面の反射光から光ビームの情報記録面に対する
フォーカス誤差あるいはトラッキング誤差に対応した第
１の回折光を発生する第１の回折光発生領域と、所定の
反射率を有する膜を表面にコーティングしてレーザ発光
素子から情報記録面に向かう光ビームの一部を反射回折
してモニタ光に対応する第２の回折光を発生する第２の
回折光発生領域とから構成された第２の光学素子と、 前記第２の光学素子で発生した第１の回折光と第２の回
折光とを検出する光検出器と、 前記光検出器の出力により光ビームを集束するフォーカ
ス制御手段と、 前記光検出器の出力により光ビームを所望のトラックに
追従させるトラッキング制御手段と、 前記光検出器の出力により前記レーザ発光素子の光出力
を所定の値に制御する光出力制御手段とを備えたことを
特徴とする光ディスク装置。 - 【請求項２】請求項１記載の光ディスク装置において、
第２の光学素子は、第１の回折光発生領域と第２の回折
光発生領域とを異なる面上に構成したことを特徴とする
光ディスク装置。 - 【請求項３】光出力制御手段でレーザ発光素子の光出力
を所定の値に設定した後で、フォーカス制御手段及びト
ラッキング制御手段を動作させて光ディスク装置を立ち
上げることを特徴とする請求項１及び２記載の光ディス
ク装置。 - 【請求項４】第２の光学素子は、回折格子あるいはホロ
グラム素子等の光学素子で構成された請求項1,2及び３
記載の光ディスク装置。 - 【請求項５】レーザ発光素子と、第２の光学素子と、光
検出器とを一つのケースに納めたことを特徴とする請求
項1,2,3及び４記載の光ディスク装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2137818A JP2543227B2 (ja) | 1990-05-28 | 1990-05-28 | 光ディスク装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2137818A JP2543227B2 (ja) | 1990-05-28 | 1990-05-28 | 光ディスク装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0432032A JPH0432032A (ja) | 1992-02-04 |
| JP2543227B2 true JP2543227B2 (ja) | 1996-10-16 |
Family
ID=15207571
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2137818A Expired - Fee Related JP2543227B2 (ja) | 1990-05-28 | 1990-05-28 | 光ディスク装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2543227B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100326688B1 (ko) * | 1993-01-04 | 2002-06-20 | 요트.게.아. 롤페즈 | 광주사장치및방사원검출장치 |
| JP2001256666A (ja) | 2000-03-09 | 2001-09-21 | Ricoh Co Ltd | 光ピックアップ装置 |
-
1990
- 1990-05-28 JP JP2137818A patent/JP2543227B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0432032A (ja) | 1992-02-04 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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