JP2536914B2 - 吸引乾燥機の濾板のクリ―ニング方法 - Google Patents

吸引乾燥機の濾板のクリ―ニング方法

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、吸引乾燥すべき懸濁液槽を備え、該槽内に
は濾板からなる１個以上の円板状要素が回転し、濾板の
表面に濾過ケーキが集められると共に通過する吸引流の
作用によって脱水され、該濾過ケーキは濾板の表面から
かき取り又は他の手段で除去される吸引乾燥方法に関す
る。
従来から微細孔濾板を有する濾過円板を備えた吸引乾
燥機が知られている。上記の円板は脱水ずべき懸濁液中
で回転し、吸引作用によって濾過ケーキが濾板の平坦な
表面に集められ、該ケーキは濾板の表面から削り取られ
る。
吸引乾燥機の最近の進歩については本出願人のフィン
ランド特許第870706号、第870707号及び第871312号明細
書を参照のこと、また構造については上記明細書の詳細
な説明を参照のこと。
通常セラミックで作られた上記の濾板は、その孔構造
部に常時微細物質が入るので目詰まりを起し易い。除去
すべき液体の循環方向と逆方向に濾板にクリーニング液
（清掃液）を流すことによって濾板をクリーニングする
状来技術においては、クリーニング液として水を使用す
る。また濾板の外側のクリーニングにブラッシ装置を用
いる。
しかし、状来技術によれば長期に亘って濾板の濾過性
を維持することは不可能であり、また他面耐久性がない
ので濾板を頻ぱんに交換する必要があった。このため濾
過費が高くなりかつ工程の停止を起した。
本発明の主たる目的は上述した従来技術の欠点を改善
することである。
本発明の特別の目的は吸引濾過装置を実質的に変更し
ないで吸引濾板をクリーニングする方法を提供し、該方
法が適宜の長期間に亘って順調にできかつ吸引乾燥機の
クリーニング機能と実施が効果的に行なわれるものであ
る。
上記目的を達成するために、本発明は、槽内の微細物
質の懸濁液が、回転式の微孔質セラミック濾過円板を通
す懸濁液吸引によって除水され、濾過ケーキが濾過円板
上に形成されるとともに濾間円板から取除かれる吸引乾
燥機にて、濾過円板をその微孔質構造を維持するために
清掃する吸引乾燥機の清掃方法において、懸濁液を槽か
ら排出し、槽に清掃液を満たし、セラミック濾過円板を
回転しつつ槽を満たした清掃液に超音波周波数を通し、
以て超音波振動を増大させて濾過円板の微孔質構造を維
持する各段階を有するとともに、濾過される懸濁液の流
通方向とは逆方向に、清掃液がセラミック濾過円板を通
過すること、を特徴とする方法を提供する。
以下、本発明が限定されることのない添付図面に示す
本発明の一実施例について本発明を詳細に説明する。
第１図は本発明にかかる方法によってクリーニングさ
れるように配設された吸引乾燥機の概略側面図、第２図
は吸引乾燥機を端面から見た第１図と同様の図である。
第１図及び第２図に示す吸引乾燥機10は枠部11と、該
枠部に配設された懸濁液槽12とを備え、該槽には精選さ
れた金属鉱石、泥炭の懸濁液及び同等物等が通される。
枠部11には水平状の軸13が回転自在に設けられ、該軸13
はウォームギヤ18を仲介としたモータＭによって駆動さ
れる。軸13には濾過円板14が垂直状に取付けられ、この
濾過円板には同一出願人によるフィンランド特許第8539
63号及び第870979号に述べたような種類のセラミック濾
板14aが設けられる。濾過円板14の濾板14aの間の内部空
間は、半径方向の吸引管15を介して軸13に接続した吸引
管に連通する。この吸引管は又分配ヘッド16に連通して
いる。該分配ヘット16は吸引管17を通して誘起された負
圧を、槽12の懸濁液に漬った濾過円板14の濾板14a又は
脱水された濾過ケーキの表面に分配する。
濾過ケーキは調節機20によって濾過円板14の濾板14a
の表面からかき取られる。調節機20の両刃20aは第１図
に示すように濾板14aの背中合わせの両作用面に互に向
き合っている。調節機20の両刃20aは中間案内腕19によ
って連結され、該中間案内腕19を介して互に向き合って
対に設けられ、適当な力で付勢されている。
濾板14a及び吸引乾燥機に関しては、同一出願人にか
かるフィンランド特許第853963号、第870706号、第8707
07号、第870979号及び第871312号に詳しく述べられてい
る。
懸濁液槽12に接続して、微細孔を有するセラミックの
濾過板14の濾板14aに対する本発明の清掃方法を実施す
るクリーニング装置が設けられている。クリーニング装
置は槽12の最低部付近に固着された超音波検知機30を備
え、この検知機30には導線31を介して超音波発生機32か
ら電力が送られる。超音波発生機32とクリーニング装置
全体の作動は接続部34を介した制御ユニット33によって
制御される。制御ユニット33から延びた接続部35を介し
て、濾過円板14を回転させるモータＭの作動及び清掃液
管22の電磁弁21等の他の装置の作動が制御ユニット33で
制御される。清掃液管22を介して清潔で温かい清掃液が
懸濁液槽に送られる。制御ユニット33の接続部材35を介
して制御される装置または給水手段を含む。該給水手段
によって分配ヘッド16及び吸引管15を介して、循環清掃
液は濾板14aの表面を通って槽12内に落ちる。
詳細に述べると本発明の清掃方法は下記の順序に行な
われる。懸濁液槽12は、濾過すべき懸濁液が空にされて
いて、清潔な温水が清掃液管22と電磁弁21とを通して該
槽12に送られる。槽12が必要ならば塩酸等の洗剤を加え
た清掃液で略一杯になるとモータＭを始動して軸13を回
わす。これと同時に清掃液が濾板14aを通して再循環し
始める。超音波発生機32が制御ユニット33によって始動
し、検知機30を介して充分な強さの超音波振動の場が回
転する濾過円板14のセラミック又は均等物の濾板14aに
作用する。
超音波クリーニング中に、槽12中の清掃液は超音波場
の媒体液（connecting liquid）を役目をする。該媒体
液は、回転中の濾板14aに振動を効率よく伝播する。従
ってクリーニング効果は濾過円板14の濾板14aの全面に
亘って一様に拡がる。
充分に強い超音波場によって槽12内の清掃液にキャビ
テーションとインプロージョンとが生じ、これによって
クリーニングすべき濾板14aの表面が深部に亘って有効
にクリーニングされる。キャビテーションは表面張力に
よるが、必要があれば槽内の水の温度を上げ、或は洗剤
を使用することによってキャビテーションを増加するこ
とができる。
導線31を通じて供給される超音波エネルギの周波数は
通常15〜300kHz程度である。好ましくは槽の垂直中心面
の両側に対称的に配置された超音波検知機30は、例えば
共振振動数又はその付近で作動するように配列された磁
気に感応するピエゾ電気発振器又は同様の発振器であ
る。
予備試験の結果、超音波に適当な電力は約100〜500w/
m2で、好ましくは200〜300w/m2の電力がクリーニングす
べき濾板14aの単位面積にかけられることが判明してい
る。また、例えば精選された金属鉱石を脱水する吸引乾
燥機10における適当な清掃時間は、１週につき約１時間
であり、１回のクリーニングに使用される超音波エネル
ギの量は約0.1〜0.5 KWH/m2である。
第１図及び第２図に示すような吸引乾燥機を数台備え
た設備においては、超音波発生機32を移動式にしかつ超
音波検知機30を常時吸引乾燥機10の槽12の底部に設け
る。その場合クリーニングすべき吸引乾燥機10に超音波
発生機32を移動して導線31のプラッグをソケット3aに差
込み、制御ユニット33又は手動によって超音波クリーニ
ングが行なわれる。
極めて多数の吸引乾燥機10を備えた設備又はクリーニ
ングの時間間隔が比較的短い設備においては、超音波発
生機32をクリーニングすべき各吸引乾燥機10に交互に接
続するようにマルチプレクサを仲介させる。懸濁液槽12
内に清掃液の供給、濾板14aを通しての清掃液の再循環
等の必要な作動は制御ユニット33の自動制御又は必要が
あれば手動制御によって行なわれる。
以下に請求の範囲を示す。本発明の思想はこの請求の
範囲に述べられているが、発明は種々に変形されるもの
であり、一例のみを示した上述の実施例の詳細な説明と
は異なっていることを示している。

Claims (10)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】槽内の微細物質の懸濁液が、回転式の微孔
    質のセラミック濾過円板を通す懸濁吸引によって除水さ
    れ、濾過ケーキが該濾過円板上に形成されるとともに該
    濾過円板から取除かれる吸引乾燥機にて、該濾過円板を
    その微孔質構造を維持するために清掃する吸引乾燥機の
    清掃方法において、 前記懸濁液を前記槽から排出し、該槽に清掃液を満た
    し、前記セラミック濾過円板を回転しつつ該槽を満たし
    た清掃液に超音波周波数を通し、以て超音波振動を増大
    させて該濾過円板の微孔質構造を維持する各段階を有
    し、 濾過される懸濁液の流通方向とは逆方向に、前記清掃液
    が前記セラミック濾過円板を通過すること、 を特徴とする方法。
  2. 【請求項２】前記超音波周波数の付与に使用される電力
    が15〜300kHzの範囲にある請求項１に記載の方法。
  3. 【請求項３】前記超音波周波数が、前記セラミック濾過
    円板の単位面積に対し100〜500W/m2の範囲の超音波電力
    によって生成される請求項１又は２に記載の方法。
  4. 【請求項４】前記超音波電力が200〜300W/m2の範囲にあ
    る請求項３に記載の方法。
  5. 【請求項５】前記清掃液が水である請求項１から４まで
    のいずれか１項に記載の方法。
  6. 【請求項６】前記槽へ導入する前に前記水を加熱する請
    求項５に記載の方法。
  7. 【請求項７】前記水に洗剤が混入される請求項５に記載
    の方法。
  8. 【請求項８】前記洗剤が塩酸である請求項７に記載の方
    法。
  9. 【請求項９】前記超音波周波数を生成するために、磁気
    ひずみ発振器又は圧電結晶発振器が使用される請求項１
    から８までのいずれか１項に記載の方法。
  10. 【請求項１０】前記磁気ひずみ発振器又は圧電結晶発振
    器が前記槽の底部に配置される請求項９に記載の方法。
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