JP2534554B2 - 干渉計方式で長さを測定するレ―ザ干渉測距計 - Google Patents

干渉計方式で長さを測定するレ―ザ干渉測距計

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Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はレーザ干渉に基づき長さを測定するレーザ干
渉測距計に関する。
［技術的背景］ 詳しくは，本発明は，干渉計方式で長さを測定するレ
ーザ干渉測距計であって，半導体レーザ発振器を備え，
半導体レーザ発振器の出力レーザ光線が，ビーム分割器
によって，被測定可動対象物と結合された１つの反射器
を含む２つの反射器を備えた測定干渉計と，レーザ光線
の波長を調整する役割を行い固定反射器を備えた基準干
渉計とに供給され，基準干渉計は測定干渉計と空間的に
隣接して配設され，基準干渉計の干渉光線光束が，半導
体レーザ発振器の出力レーザ光線の周波数を追従制御す
る制御回路に接続された基準信号検出器に供給され，こ
の制御回路によって基準信号検出器の出力信号が一定に
保持され，他方において，被測定長さに関する情報を包
含する測定干渉計の干渉光線光束が干渉信号検出器に入
射し，その出力信号が可動対象物の距離の変化を決定す
る評価装置に供給される形式のものに関する。
レーザ干渉測距計は，長さ，行程，速度などの幾何学
的な量を把握するために長さ測定技術において使用され
ている。特に工作機械および座標測定器において使用さ
れている。高精度を得るため，波長基準として使用され
るレーザ光線に対する環境空気の屈折率の影響を考慮す
ることが必要である。空気温度，気圧および空気湿度の
変化にもとづく屈折率の影響のそのような考慮は，しば
しばいわゆるパラメータ法によって行われ，この際，得
られた結果によって長さの測定を補正するため，空気温
度，気圧および空気湿度の個々の測定から屈折率が求め
られる。したがって、正しい測定結果が得られるまで時
間的に遅れるだけでなく，屈折率に影響を与えるパラメ
ータが急速に変化した場合，前述の考慮を行うことがで
きないため，問題が生じる。
測定干渉計およびレーザ光線波長の調整に使用される
基準（参照）干渉計によって長さを測定するレーザ干渉
測距計は，西ドイツ特許出願公開第3404963号公報から
知られている。基準干渉計は，使用された半導体レーザ
の周波数ないし波長を安定化するのに使用され，コンパ
クトでスペースをとらない構造にするため，測定干渉計
の光学的な要素と共にベース板に固定されている。レー
ザ光線の波長を安定化させるために使用される基準干渉
計のアームは，コンパクトにするために小さくされたベ
ース板と平行に，測定干渉計の測定アームにおける光線
の伝播方向と直角に延びている。この基準干渉計の光線
が，測定アームに対して側方に偏位した基準路反射器に
達する行程において短い空気区間を通過するため，レー
ザ光線波長を安定化する場合，ベース板上の空気の，温
度，圧力および湿度による，屈折率に対する影響に応じ
て補償が行われる。
［目的］ 本発明の基本的な課題は，レーザ干渉測距計の測定ア
ームにおける測定路が，この測定路内の局部的な乱れお
よび不均質性によって妨害された場合でも，高い測定精
度が得られるよう，冒頭に述べた形式のレーザ干渉測距
計を改良することである。
［発明による課題の解決手段］ この目的は，本発明によれば，基準干渉計の基準路
（区間）が，基準路の長さに対して小さな側方の間隔を
置いて測定干渉計の測定路（区間）と平行に測定路に近
似する行程だけ延び，基準路の半導体レーザ発振器と反
対側の端部において基準路反射器によって限定され，測
定中は固定される基準路反射器の位置を，測定路および
基準路の縦方向に調整可能とすることによって達成され
る。
［作用及び効果］ レーザ干渉測距計の測定アームにおける空気の屈折率
が変化した場合，半導体レーザ発振器への供給電流およ
び動作温度が，測定干渉計に沿って延びた基準干渉計お
よびこれと接続された制御回路によって，空気の屈折率
に対する真空波長の比率，すなわち空気波長が，一定に
維持されるように変化される。このようにして，基準干
渉計および測定干渉計が，ほぼ同じ空気容積による影響
を受けるため，測定光線による実際に通過された空気容
積に対する波長基準が一定の長さを有するようになる。
本発明の好適な発展形態および実施態様が，請求の範
囲の従属項に示されている。
次に、図示された実施例によって，本発明を一層詳細
に考察する。
［図面の簡単な説明］ 第１図は本発明による測定干渉計およびこれと結合さ
れた基準干渉計の概略図， 第２図は基準干渉計の出力信号に応じて半導体レーザ
を制御する制御回路を示している。
［実施例］ 幾何学的な量を干渉計方式で測定する第１図に示され
たレーザ干渉測距計は，半導体レーザ発振器１を使用し
ており，この半導体レーザ発振器１は，第１図におい
て，これに設けられたレンズ系２と共に概略的に示され
ている。レンズ系２を通過するレーザ光線光束３は，主
ビーム分割器４によって，基準光線光束５と測定光線光
束６とに分割される。
測定光線光束６は，第１図に概略的に示されマイケル
ソン干渉計として構成された測定干渉計７を作動させる
のに使用される。基準光線光束５は，転向鏡８を介し
て，基準干渉計９としての役割を行う第２のマイケルソ
ン干渉計に供給される。
測定干渉計７に供給される測定光線光束６は，測定路
（区間）ビーム分割器10によって第１の光束11と第２の
光束12とに分割される。第１の光束11は測定反射器13に
達し，この測定反射器13は三段反射器（Trippel reflec
tor,例えばキューブミラー・レトロレフレクター等の平
行反射器）であり，第１の光束11を測定信号検出器20の
方に方向変換する。
第２の光束12は，測定路に沿って伝播し，最終的に
は，光束12の伝播方向に動くことが可能な測定路反射器
14に達し，この測定路反射器14は同様に三段反射器であ
り，例えば被測定対象の動き，または被測定対象の輪郭
に追従する。測定路（区間）の長さは，例えば1mの大き
さにすることができる。測定路反射器14の二方向矢印15
の方向の動きは，例えば同様に1mの大きさにすることが
できる。
測定路反射器14によって側方に偏位して逆反射された
第２の光束12が，新たに測定路を進行し，最終的に測定
路ビーム分割器10の裏側に達し，これによって第２の光
束12が測定信号検出器20の方に方向変換され，その際，
第２の光束12が第１の光束11と共に干渉光線光束16を形
成する。
被監視対象物の移動または被検出輪郭の推移に応じ
て，可動の測定路反射器14を動かす場合，第２の光束12
の進む距離および測定干渉計７の循環位相が変化し，し
たがって，測定信号検出器20において一連の信号最大値
および信号最小値が，光の波長，および測定路ならびに
測定路反射器14の移動路における媒体の屈折率に応じて
生じる。
波長基準としての役割をする波長の，屈折率の変化に
よって生じる変化が，補償されない場合，測定信号検出
器20における干渉信号が第２の光束12が通過する媒体の
屈折率に依存するため，測定誤差が生じる場合がある。
第１図に概略的に示された干渉計の場合，測定干渉計
７に使用されている第２の光束12の波長が空気中におい
て一定に保持されるように，屈折率の変化に応じて半導
体レーザ光線の周波数ないし真空波長を追従制御するた
め，屈折率の影響の補償が，屈折率の変化を検出する前
述の基準干渉計９によって行われる。
基準光線光束５は，転向鏡８によって方向変換が行わ
れた後，測定干渉計７と同様に基準路（区間）ビーム分
割器17を備えた基準干渉計９に達する。基準路ビーム分
割器17によって方向変換された第１の基準光線光束18
は，基準反射器21によって方向が逆転され，基準路ビー
ム分割器17を通過した後，基準信号検出器22に達する。
この基準信号検出器22は，半導体レーザ発振器１と同様
に，第２図に示された回路装置に接続されるが，測定信
号検出器20に対応する測定路を評価する回路装置は図に
示されていない。
転向鏡８は反対の基準ビーム分割器17の側において，
第２の基準光線光束19が，例えば1mの長さを有する基準
路に沿って伝播し，固定した基準路反射器24に達する。
この基準路反射器24は，測定路反射器14と異なり，規定
された位置に設けられているが，測定路の（区間）長さ
に適合させるため，基準路の長さを調整する装置を設け
ることができる。
測定干渉計７における温度，気圧，空気湿度および空
気組成の変化を基準干渉計９によっても可及的に把握さ
れるようにするため，測定干渉計７の測定路と基準干渉
計９の基準路との間の側方の間隔は，可及的に小さくさ
れ，例えば僅かに1cmにされている。この理由から，第
２の光束12と第２の基準光線光束19とが可及的に互いに
接近しているのみならず，測定路における殆んどすべて
の局限された障害が基準路によって検出されることを保
証するため，基準路と測定路とが互いに匹敵する長さに
延びている。
基準路反射器24によって入射方向と平行に側方に偏位
して逆方向へ反射された第２の基準光線光束19は，干渉
光線光束26が形成されるように，基準路ビーム分割器17
によって基準信号検出器22の方に方向変換される。基準
信号検出器22に入力する信号は，循環（サイクル）位相
に応じて最小値，最大値またはフランクにある。
第２図に示されている制御回路は，基準路における屈
折率が変化しても，基準信号検出器22における干渉信号
を一定に保持するのに使用される。これは，半導体レー
ザ発振器１の電流および温度の電子制御によって行わ
れ，その場合，基準路媒体における真空波長の基準路媒
体の屈折率に対する比，すなわち基準路の媒体における
実際の波長が，一定に保持されるように，半導体レーザ
発振器１の真空波長ないし周波数が変化される。
測定基準としての役割をする実際の波長が，基準路お
よび測定路の媒体において媒体の屈折率の変動と無関係
に一定に維持されるように，半導体レーザ発振器１の出
力レーザ光線の真空波長またはその周波数を変化させる
ため，第２図から判るように，基準信号検出器22は，制
御プログラムおよび安定化プログラムが記憶されたマイ
クロプロセッサ32の１つの入力端子に，増幅器30および
アナログ／ディジタル変換器31を介して給電する。
さらに，半導体レーザ発振器１によって同様に照射さ
れたホトダイオード33の信号がマイクロプロセッサ32に
供給される。このホトダイオード33は監視ダイオードと
して使用され，その出力信号は，半導体レーザ発振器１
の供給電流および温度が所定の範囲内に維持されるよう
にするため，増幅器34およびしきい値判別回路35を介し
てマイクロプロセッサ32に供給される。
ホトダイオード33によって行われる保護作用は，例え
ば半導体レーザ発振器１が最大出力に達した場合，電流
調整および温度調整の限定がマイクロプロセッサ32によ
って行われるように作用する。
電流目標値発生器36および温度目標値発生器37が，同
様にマイクロプロセッサ32の入力端子に接続され，この
マイクロプロセッサ32は，電流制御出力端子39および温
度制御出力端子38を介して半導体レーザ発振器１の供給
電流および温度を制御する。
電流制御出力端子39がディジタル／アナログ変換器40
を介して電流調整器41の入力端子に接続され，電流調整
器41の出力導線42に半導体レーザ発振器１が接続されて
いる。電流調整器41は演算増幅器43を備え，この演算増
幅器43は，ディジタル／アナログ変換器40および電流目
標値発生器36から供給された信号の集計が行われるよう
に抵抗44〜49と接続されている。
マイクロプロセッサ32の温度制御出力端子38はディジ
タル／アナログ変換器50に接続され，その出力が温度調
整器51に供給される。温度調整器51は，温度目標値発生
器37のほかに演算増幅器53および抵抗54,55,56を備え，
これらの抵抗はそれぞれ演算増幅器53の非反転入力端子
に接続されている。演算増幅器53の反転入力端子は温度
センサ57に接続され，この温度センサ57は熱的に半導体
レーザ発振器１と結合されて温度を検出する。
演算増幅器53の出力端子は，同様に半導体レーザ発振
器１と熱的に結合されたペルチェ冷却器58に接続されて
いる。半導体レーザ発振器１の真空波長または周波数に
対する比較的ゆっくりした粗調整はペルチェ冷却器58に
よって行うことができるが，第２図に矢印59によって示
されている測定路および基準路における時間的に速く変
化する屈折率の影響を補償するため，出力導線42による
電流の供給によって高速で慣性のない微調整を行うこと
ができる。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−225005（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−218903（ＪＰ，Ａ) 実開 昭56−65411（ＪＰ，Ｕ)

Claims (7)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】干渉計方式で長さを測定するレーザ干渉測
    距計であって，半導体レーザ発振器を備え，該半導体レ
    ーザ発振器の出力レーザ光線が，ビーム分割器によっ
    て，被測定可動対象物と結合された１つの反射器を含む
    ２つの反射器を備えた測定干渉計と，レーザ光線の波長
    を調整する役割を行い固定反射器を備えた基準干渉計と
    に供給され，基準干渉計は測定干渉計と空間的に隣接し
    て配され，基準干渉計の干渉光線光束が，半導体レーザ
    発振器の出力レーザ光線の周波数を追従制御する制御回
    路に接続された基準信号検出器に供給され，該制御回路
    によって基準信号検出器の出力信号が一定に保持され，
    他方において，被測定長さに関する情報を包含する測定
    干渉計の干渉光線光束が干渉信号検出器に入射し，その
    出力信号が可動対象物の距離の変化を決定する評価装置
    に供給される形式のものにおいて，基準干渉計（９）の
    基準路（19）が，基準路（19）の長さに対して小さな側
    方の間隔を置いて測定干渉計（７）の測定路（12）と平
    行に測定路（12）とほぼ等しい行程だけ延びると共に，
    基準路（19）の半導体レーザ発振器（１）と反対側の端
    部において基準路反射器（24）によって限定され，測定
    中は固定される基準路反射器（24）の位置が，測定路
    （12）および基準路（19）の縦方向に調整可能であるこ
    とを特徴とする，干渉計方式で長さを測定するレーザ干
    渉測距計。
  2. 【請求項２】制御回路（30〜58）が，半導体レーザ発振
    器（１）と熱的に結合されたペルチェ冷却器（58）に接
    続されることを特徴とする，請求項１記載のレーザ干渉
    測距計。
  3. 【請求項３】制御回路（30〜50）が，半導体レーザ発振
    器（１）と熱的に結合された温度センサ（57）を備える
    ことを特徴とする，請求項２記載のレーザ干渉測距計。
  4. 【請求項４】制御回路（30〜58）がマイクロプロセッサ
    （32）を備え，このマイクロプロセッサ（32）によっ
    て，基準信号検出器（22）から供給された実際値が供給
    電流の目標値および半導体レーザ発振器（１）の動作温
    度と結合されることを特徴とする，請求項１ないし３の
    いずれかに記載のレーザ干渉測距計。
  5. 【請求項５】半導体レーザ発振器（１）の出力レーザ光
    線が入射する感光性の監視ダイオード（33）が設けら
    れ，この監視ダイオード（33）によって，半導体レーザ
    発振器（１）の供給電流および動作温度が限定されるこ
    とを特徴とする，請求項４記載のレーザ干渉測距計。
  6. 【請求項６】基準信号検出器（22）の一定に保持された
    出力信号が，干渉信号の最大値，最小値またはフランク
    に対応することを特徴とする，請求項１ないし５のいず
    れかに記載のレーザ干渉測距計。
  7. 【請求項７】基準干渉計（９）の基準路が，測定干渉計
    （７）の測定路と平行に数cmの側方への間隔を置いて延
    びることを特徴とする，請求項１ないし６のいずれかに
    記載のレーザ干渉測距計。
JP63501597A 1987-02-27 1988-02-12 干渉計方式で長さを測定するレ―ザ干渉測距計 Expired - Fee Related JP2534554B2 (ja)

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Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3830962A1 (de) * 1988-09-12 1990-03-15 Spindler & Hoyer Kg Einrichtung zum messen von laengen oder winkeln mit einem interferometer
AT393763B (de) * 1989-03-21 1991-12-10 Tabarelli Werner Einrichtung zur konstanthaltung der luftwellenlaenge von laserlicht
DE59001953D1 (en) * 1989-06-07 1993-08-19 Tabarelli Werner Interferometeranordnung.
DE3932663A1 (de) * 1989-09-29 1991-04-18 Hommelwerke Gmbh Stehende-wellen-sensor
US5374991A (en) * 1991-03-29 1994-12-20 Gradient Lens Corporation Compact distance measuring interferometer
GB2268582B (en) * 1992-07-09 1995-12-20 Roke Manor Research Improvements in or relating to interferometers
JPH0634318A (ja) * 1992-07-14 1994-02-08 Nikon Corp 干渉計測装置
DE4230748C2 (de) * 1992-09-14 1997-01-16 Heidenhain Gmbh Dr Johannes Interferometrisches Meßverfahren sowie für seine Durchführung geeignete Laserinterferometeranordnung
US5585922A (en) * 1992-12-24 1996-12-17 Nikon Corporation Dual interferometer apparatus compensating for environmental turbulence or fluctuation and for quantization error
DE4314488C2 (de) * 1993-05-03 1997-11-20 Heidenhain Gmbh Dr Johannes Interferometrisches Meßverfahren für Absolutmessungen sowie dafür geeignete Laserinterferometeranordnung
DE4314486C2 (de) * 1993-05-03 1998-08-27 Heidenhain Gmbh Dr Johannes Absolutinterferometrisches Meßverfahren sowie dafür geeignete Laserinterferometeranordnung
US5430537A (en) * 1993-09-03 1995-07-04 Dynamics Research Corporation Light beam distance encoder
GB9320500D0 (en) * 1993-10-05 1993-11-24 Rensihaw Plc Interferometric distance measuring apparatus
US5404222A (en) * 1994-01-14 1995-04-04 Sparta, Inc. Interferametric measuring system with air turbulence compensation
DE4427352C1 (de) * 1994-08-02 1996-01-18 Siemens Ag Verfahren zur hochauflösenden Abstandsmessung mittels FMCW-Laser-Radar
DE19520305C2 (de) * 1995-06-02 1997-04-17 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren und Meßvorrichtung zur interferometrischen Abstandsmessung
US5991033A (en) * 1996-09-20 1999-11-23 Sparta, Inc. Interferometer with air turbulence compensation
US7224464B2 (en) * 1998-11-04 2007-05-29 Manning Christopher J Fourier-transform spectrometers
US6547397B1 (en) 2000-04-19 2003-04-15 Laser Projection Technologies, Inc. Apparatus and method for projecting a 3D image
JP5541713B2 (ja) * 2009-08-21 2014-07-09 キヤノン株式会社 レーザ干渉測長器、それを用いた加工装置および部品の製造方法
GB201013896D0 (en) * 2010-08-19 2010-10-06 Isis Innovation Apparatus and method for measuring distance
EP3835717A1 (en) 2019-12-11 2021-06-16 Taylor Hobson Limited Wavelength reference unit and interferometric measuring device

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1154646B (de) * 1960-10-18 1963-09-19 Jenoptik Jena Gmbh Vorrichtung zur kontinuierlichen Laengenmessung mittels Interferenzen in einem ueberdie Kohaerenzlaenge hinausgehenden Messbereich
NL279098A (ja) * 1961-05-31
US3588254A (en) * 1968-09-13 1971-06-28 Gen Electric Frequency control for tunable laser utilized in a position control system
JPS596585A (ja) * 1982-07-05 1984-01-13 Ricoh Co Ltd 半導体レ−ザ出力制御方法
DE3235484A1 (de) * 1982-09-24 1984-03-29 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zur unterdrueckung einer stoerung bei der messung von signalverlaeufen mit einer korpuskularsonde und vorrichtung zur durchfuehrung eines solchen verfahrens
DE3425476A1 (de) * 1983-07-15 1985-01-24 WERO oHG Röth & Co, 6490 Schlüchtern Laengenmessvorrichtung nach dem zweistrahl-laser-interferometerprinzip
US4583228A (en) * 1983-11-21 1986-04-15 At&T Bell Laboratories Frequency stabilization of lasers
GB2154787B (en) * 1984-01-17 1987-04-01 Standard Telephones Cables Ltd Laser stabilisation circuit
DE3404963C2 (de) * 1984-02-11 1986-09-25 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V., 8000 München Laser-Interferometer zur Längenmessung
DE3421213C2 (de) * 1984-06-07 1986-08-28 Daimler-Benz Ag, 7000 Stuttgart Zweikanal-Zweifrequenz-Laserinterferometer
KR900002117B1 (ko) * 1985-03-28 1990-04-02 시부야 고오교오 가부시끼가이샤 레이저 광선을 이용한 거리측정방법과 장치
DE3528259A1 (de) * 1985-08-07 1987-02-19 Adolf Friedrich Prof D Fercher Verfahren und anordnung zur interferometrischen laengenmessung mit halbleiterlasern als lichtquelle

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