JP2534123B2 - 塗布装置 - Google Patents

塗布装置

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JP2534123B2
JP2534123B2 JP1034942A JP3494289A JP2534123B2 JP 2534123 B2 JP2534123 B2 JP 2534123B2 JP 1034942 A JP1034942 A JP 1034942A JP 3494289 A JP3494289 A JP 3494289A JP 2534123 B2 JP2534123 B2 JP 2534123B2
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coating liquid
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康人 成瀬
悟 松本
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Fujifilm Holdings Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • B05C5/0254Coating heads with slot-shaped outlet
    • B05C5/0266Coating heads with slot-shaped outlet adjustable in length, e.g. for coating webs of different width

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  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は写真用フィルム・印画紙等の写真感光材料や
写真製版材料,磁気録音テープ等の磁気記録材料・感圧
記録紙,感熱記録紙等記録材料の製造において、連続走
行する長尺可撓性支持体(以下「ウエブ」と称する)に
液状塗布組成物(以下「塗布液」と称する)を塗布する
装置の改良に関し、更に詳しくは改良された装置に関す
るものである。
〔従来の技術〕
従来より連続走行しているウエブに塗布液を塗布する
方法としては、各種の方法が提案されて来た。
一般に塗布工程は、ウエブに塗布液を転移せしめる部
分(以下「アプリケーション系」という)とウエブに転
移された塗布液を所望の塗布量に計量する部分(以下
「計量系」という)とに分けて考えられるため、塗布方
法はアプリケーション系、計量系の相違により分類され
ていた。
アプリケーション系の相違に基づいて、ローラ塗布方
法、ディップ塗布方法、ファウンテン塗布方法等、計量
系の相違に基づいて、エアーナイフ塗布方法、ブレード
塗布方法、バー塗布方法等が知られていた。
これらのなかで、エキストルージョン塗布方法及びビ
ード塗布方法は、コーターが支持体と直接接触しない精
密な塗布方法として使用されてきた。エキストルージョ
ン塗布方法及びビード塗布方法のようにエキストルージ
ョン型コーターを用いる塗布方法は例えば特公昭45−12
390号公報,特公昭46−26236号公報,特公昭47−24650
号公報に開示されているようなエキストルージョン多層
塗布装置、特開昭50−142643号公報に開示されている単
層に関する塗布方法、あるいは特開昭56−95363号公
報,特開昭62−110776号公報に開示されている吐出スロ
ットが上向に位置している塗布方法及び装置等数多くの
特許が出願されている。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、一定のスロットの液吐出口幅にて、そ
の幅以内の任意の幅のウエブに塗布液を塗布しようとす
ると、一般にウエブ幅の外側にはみ出たコーターのスロ
ットより吐出する塗布液によりローラ,及びウエブのエ
ッジが汚れる。この汚れ防止の方法として特開昭56−95
363号公報,特開昭62−110776号公報に開示されている
方法で、ごく限られた条件でローラを汚さないで塗布は
できるが、スピードアップあるいは送液量の増加により
ローラが汚れてくる。
本発明の目的はこのようなローラの汚れあるいはウエ
ブエッジの汚れがスロット幅がウエブ幅より大なる場合
においても生じないようにし、これにより、ウエブ幅が
変化する際にもコーターを取変えることなく塗布可能な
らしめる装置を提供するものである。
〔課題を解決するための手段及び作用〕
本発明の上記目的は、 (1)連続走行する支持体表面にスロットより塗布液を
供給する塗布装置において、該スロットルの液吐出口と
給液ポケットとの間の一部に小ポケット部を設け、該小
ポケット部に移動可能なロッドあるいはロッドにスペー
サーが付属したものを配置し、該支持体幅の変動をエッ
ジポジション検出器で検出し、該変動に対応してロッド
あるいはロッドにスペーサーが付属したものを自動的に
追従移動させる装置を具備することを特徴とする塗布装
置 により達成される。
以下添付した図面により、本発明の実施態様について
詳述する。第1図は本発明の塗布方法を説明する塗布装
置の1実施例の斜視図(a)とコーター本体の側面断面
図(b)である。
第1図において、エキストルージョン型コーター4は
ウエブ1の下面において、ウエブ1とコータースロット
5の液吐出口6との間に塗布液架橋を形成し塗布を行っ
ている。
該スロット5の液吐出口6と塗布液給液ポケット7と
の間の一部に設けられた小ポケット部8a内には、移動可
能なロッド9aが配置されている。
ロッド9aとしては種々形状のものを用いることができ
る。例えば第2図に示す如くように小ポケット8bとスロ
ット5の一部内を移動出来るようにスペーサとロッドを
一体化させた形状のロッド9bを用いることも出来る。
また、第4図(b)のように小ポケット8dを複数個設
けそれに合わせた形状のロッド9dを設けることも可能で
ある。
スペーサー或いはロッドの液吐出口側の先端の位置は
スロットのクリアランス,塗布液粘度,流量等によって
異なるが、スロットの液吐出口表面より0.5〜7mmぐらい
スロット内に入り込んだ位置がよい。
この位置が少なすぎると、液吐出口先端の塗布液面の
盛り上がりにより塗布液がウエブエッジあるいはバック
アップローラに転写することになり、また多すぎると動
圧抑制効果が薄れ、同じく塗布液がウエブエッジとバッ
クアップローラに付着することになる。
上述したようなロッド、あるいはロッドとスペーサー
の一体化した移動物体により、液吐出口に吐出される液
はロッド等が挿入された幅方向位置においては、動圧が
抑制され、その結果第1、2図に示す如くウエブエッ
ジ,バックアップローラあるいはウエブ裏面への塗布液
付着を防止することが出来る。
コーターの設置位置は第1,2図に示すようにバックア
ップローラの真下だけでなく、第3図(a)〜(d)に
示すように種々の位置を選択することが出来る。又、バ
ックアップローラ3はメタルローラのみでなく、第3図
(e)のようにエアーフローティングドラム10を用いる
こともできる。
又本発明は更にバックアップローラを用いない第4図
(f)にしめすエキストルージョン型コーター等にも用
いることが出来る。
又、ロッド9はウエブ1の幅が左右に移動する場合に
対しては第5図に示すようにウエブのエッジ11の位置を
エッジポジション検出器12で検出し、ウエブのエッジ11
の左右移動に対応してガイドレール14に沿ってドライバ
ー13を動かすことによって、エッジポジション検出器12
とロッド9とが一体となって動き、ロッド9がウエブエ
ッジ11の位置に対応して幅方向に自動的に移動する装置
を備えている。
本発明に更に説明を付加すると、本発明における塗布
液としては特に限定されるものではなく、高分子化合物
の水または有機溶媒液,顔料水分散液,コロイド溶液等
が含まれる。また、塗布液の物性も特に限定されるもの
ではないが、ウエブ上に塗布された液の条件としては粘
度は低い方が適しており、100cps以下特に50cps以下の
状態が適している。表面張力も特に限定されないが、50
dyne/cm以下で好ましい結果が得られる。
本発明におけるウエブとは紙,プラスチックフィル
ム,レジンコーティッド紙,アルミニウムウエブ,合成
紙等が含まれる。プラスチックフィルムの材質は、たと
えば、ポリエチレン,ポリプロピレン等のポリオレフィ
ン、ポリ酢酸ビニル,ポリ塩化ビニルとポリスチレン等
のビニル重合体、6,6−ナイロン,6−ナイロン等のポリ
アミド、ポリエチレンテレフタレート,ポリエチレン−
2,6−ナフタレート等のポリエステル、ポリカーボネー
ト、セルローストリアセテート,セルロースダイアセテ
ート等のセルロースアセテート等が使用される。またレ
ジンコーティッド紙に用いる樹脂としては、ポリエチレ
ンをはじめとするポリオレフィンが代表的であるが、必
ずしもこれに限定されない。
〔実 施 例〕
本発明の効果を一層明瞭ならしめるために、実施例を
あげる。
実施例−1 厚さ200μm,幅1000mmのポリエチレンテレフタレート
フィルムの表面に第1表に示す組成及び物性を有する塗
布液を第1図に示す塗布装置を用いて、塗布速度60m/mi
nで塗布量80cc/m2で塗布した。この際円形断面のロッド
9aを用い、ロッド先端をウエブエッジの内側1mmの位置
に設定した。
この時バックアップローラ3には塗布液が全く転写せ
ず塗布することが出来た。
比較例−1 実施例−1に示した塗布液と同一条件で、但しロッド
は幅方向にウエブ外側に退避させ塗布したところ、バッ
クアップローラ3に第6図の15に示すように塗布液が付
着転写した。
〔発明の効果〕
上記に説明したように本発明の装置によって、ウエブ
幅よりコータースロット幅が大なる場合においても、ウ
エブエッジ及びローラに塗布液を付着させずに塗布する
ことが可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の塗布方法を説明するための塗布装置の
1実施例の斜視図(a)とコーター本体の側面図
(b)、第2図は第1図と同じく本発明の塗布方法を説
明するための塗布装置の別の実施例の斜視図(a)とコ
ーター本体の側面図(b)、第3図は本発明の塗布方法
が可能なコーターのバックアップローラに対する関係位
置を示す側面図、左下部(a),下部(b),右下部
(c),上部(d),バックアップローラがエアフロー
ティングドラムの場合(e),バックアップローラが無
いエキストルージョン型コーターの場合(f)、第4図
は第1図(b)と同じく本発明に用いる小ポケット及び
ロッドを説明するための塗布装置の別の実施例の断面図
(b)、第5図は本発明のスペーサー或いはロッドをウ
エブエッジに対応して位置制御する装置を有する塗布装
置の1実施例の部分斜視図、第6図は第1図において本
発明のスペーサー或いはロッドを使用しない場合の塗布
状況を示す斜視図である。 1……ウエブ、2……塗布済ウエブ 3……バックアップローラ 4……エキストルージョン型コーター 5……スロット、6……塗布液吐出口 7……給液ポケット 8,8a,8b,8d,……小ポケット 9,9a,9b,9d,……ロッド 10……エアフローティングドラム 11……ウエブエッジ 12……エッジポジション検出器 13……ドライバー 14……ガイドレール 15……ウエブエッジ及びバックアップローラに付着転写
した塗布液

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】連続走行する支持体表面にスロットより塗
    布液を供給する塗布装置において、該スロットルの液吐
    出口と給液ポケットとの間の一部に小ポケット部を設
    け、該小ポケット部に移動可能なロッドあるいはロッド
    にスペーサーが付属したものを配置し、該支持体幅の変
    動をエッジポジション検出器で検出し、該変動に対応し
    てロッドあるいはロッドにスペーサーが付属したものを
    自動的に追従移動させる装置を具備することを特徴とす
    る塗布装置。
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