JP2523325B2 - 新規な下降流の流動化接触分解反応器 - Google Patents

新規な下降流の流動化接触分解反応器

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JP2523325B2 JP62147195A JP14719587A JP2523325B2 JP 2523325 B2 JP2523325 B2 JP 2523325B2 JP 62147195 A JP62147195 A JP 62147195A JP 14719587 A JP14719587 A JP 14719587A JP 2523325 B2 JP2523325 B2 JP 2523325B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、触媒組成物の存在下で炭化水素供給原料を
より小さい分子を有する炭化水素生成物質まで接触転化
するための装置および方法に関する。
加熱法で炭化水素を連続熱分解するための装置は米国
特許第3,215,505号公報に開示されており、この場合上
昇流再生器はたとえば砂のような伝熱粒子を長形の空気
圧エレベータ内で再生して、その分離後に蒸気と共に熱
分解反応器中へ移送するよう作用する。熱キヤリヤ材料
のための流入路は熱分解反応器の頂部に突入し、この反
応器は内部の邪魔板構造を備えて、気泡が伝熱材料を上
方向へ推進させるという問題を克服する。
固体材料(触媒としうる)の存在下で液体炭化水素を
転化するための他の装置が米国特許第2,458,162号公報
に開示されている。その第2図には、下降流反応器が例
示されており、緻密相を設けた床から得られた固体粒子
は転化装置に収容された触媒材料の量に制御作用を及ぼ
した後に、転化カラムにおけるほぼ中間に流入する液体
供給物と接触する。下降する触媒の量は比較的緻密な触
媒相の充分なレベルを反応器の底部に与えるよう調節さ
れる。使用済み触媒は触媒再生器にて新鮮触媒まで再生
された後、コンベアを介して転化装置の上方の緻密相触
媒ホツパに供給される。
米国特許第2,420,632号および第2,411,603号は、介在
する邪魔板セクシヨンにより規定された蛇行する流動パ
ターンをもつた反応帯域の使用を例示している。
上昇流再生器に連通した下降流接触分解反応器が米国
特許第4,514,285号公報に開示されている。反応器は反
応生成物と触媒とを反応帯域から阻害物のない弾道分離
帯域の上部に軸方向下方に直接放出し、前記分離帯域は
反応帯域の断面積の20〜30倍の範囲の断面積を有する。
この種の下降流反応の際、より少量のコークスが形成さ
れ、触媒は重力によつて移動する一方、コークスが比較
的多量に形成され続ける。このように阻害されない帯域
中へ下降流反応器の底部から放出することは、触媒と炭
化水素原料との長い接触時間に対し重大な「後熱分解」
の問題をもたらす。
米国特許第3,835,029号公報には下降流の向流接触分
解操作が開示されており、蒸気状の炭化水素供給物を下
降流としてゼオライト型触媒および水蒸気と0.2〜5秒
の時間にわたり接触させることにより収率を増大させ
る。慣用のストリッパおよび分離器が触媒および炭化水
素生成物を受け入れ、かつ蒸気を固体粒子から効率的に
分離するには付加的な垂直位置するサイクロン分離器を
必要とする。
本発明は少なくとも3種の関連容器を用いる一体的な
炭化水素接触分解転化装置および方法に関するものであ
り、前記3種の容器は、(1)上昇流ライザ再生器と、
(2)下降流炭化水素転化反応器と、(3)上昇流ライ
ザ再生器の底部(入口)と下降流反応器の底部(出口)
とを接続する水平サイクロン分離器とを備える。
再生器頂部(出口)と反応器頂部(入口)との相互接
続は、新たに再生された触媒床の圧力レツグシールによ
つて行なわれ、接触炭化水素転化が下降流反応器内でラ
イザ反応器に対比し比較的低い圧力低下に生ずるよう確
保する。この一体的接触転化システムの操作を可能にす
るため、実際には触媒は炭化水素反応体の供給流および
必要に応じ希釈水蒸気で分散させて水蒸気の速度により
「吹き落される」。この方法の1つの重要な利点は、炭
化水素供給原料の同一処理量を転化するのに必要な触媒
在庫量が5〜10倍減少することである。
したがつて本発明は、炭化水素供給原料を、より小分
子の炭化水素生成物質に接触転化するための一体的な炭
化水素接触分解転化装置を提供し、この装置は (a)頂部と底部とを備える長形の接触下降流反応器で
あつて、前記下降流反応器の前記頂部に隣接した位置に
おける炭化水素供給入口と、前記下降流反応器の前記頂
部に隣接した位置における再生接触入口と、前記下降流
反応器の前記底部に隣接した位置における生成物および
使用済み触媒の抜取り出口とを備えてなる長形の接触下
降流反応器と; (b)前記接触下降流反応器から移送された前記使用済
み触媒を再生するための頂部と底部とを備えた長形の上
昇流接触ライザ再生器であつて、前記再生器の前記底部
に隣接した位置における使用済み触媒入口と、前記再生
器の前記底部に隣接した位置における酸素含有ガスを導
入するための再生ガス入口手段と、前記再生器の前記頂
部に隣接した位置における再生触媒および蒸気相の出口
とを備え、この出口は再生触媒と前記使用済み触媒上に
存在するコークスの酸化から生じた蒸気とを前記酸素含
有再生ガスと共に抜取るのに適した手段を備えてなる長
形の上昇流接触ライザ再生器と; (c)炭化水素生成物質から使用済み触媒を分離するた
め、前記接触下降流反応器の前記底部および前記上昇流
ライザ再生器の前記底部と連通した水平サイクロン分離
手段と; (d)前記上昇流ライザ再生器から得られた再生触媒を
使用済み酸化ガスから分離するため、前記上昇流ライザ
再生器の前記頂部および前記接触下降流反応器の前記頂
部と連通した接続分離手段であつて、この手段は前記上
昇流再生器の前記頂部と前記接触下降流反応器の前記頂
部との中間に比較的緻密な触媒相を備えてなる接続分離
手段と; (e)接触下降流反応器の直ぐ上流における第2の比較
的緻密な相における圧力を前記接触下降流反応器の前記
頂部における圧力よりも高くするための減圧手段と を備えることを特徴とする。
好適には、水平分離手段は、 (i)頂部と第1無孔側壁と底部と炭化水素生成物の出
口抜取り導管を挿入するための第2有孔側壁とからなる
本体を備えた水平長形容器であつて、この容器本体の前
記頂部は前記水平本体の直径を貫通する垂直平面によつ
て規定される前記容器の頂部における中心線から外れた
位置にて前記接触下降流反応器と連通し、この連通個所
は使用済み触媒と炭化水素生成物との混合物を前記長形
容器中へ下方向に通過させるのに充分である水平長形容
器と; (ii)長形の比較的垂直なダウンカマー導管であって、
前記容器の前記連通個所とは相対的に反対側の前記容器
の端部にて前記容器底部を前記接触下降流反応器と連通
させて、前記垂直なダウンカマー導管中に比較的少量の
前記使用済み触媒を下方向へ通過させるダウンカマー導
管と; (iii)前記接触下降流反応器と前記容器頂部との前記
連通個所の下側およびその側部である前記容器の第2側
壁に位置して、前記使用済み触媒から二次的遠心分離し
た後に前記炭化水素生成物を連続的に抜取るための炭化
水素生成物抜取り導管と; (iv)前記容器底部を前記容器頂部との前記接触下降流
反応器の連通個所から前記容器の外周にわたる角度(36
0°は前記外周の完全な1回転に等しい)で測定して少
なくとも90°離間した位置にて連結する傾斜したスロツ
ト型固体落下手段であつて、前記水平容器で少なくとも
90°の角度だけ前記使用済み触媒を遠心加速することに
より前記炭化水素生成物から使用済み触媒を主物質分離
して使用済み触媒を受入れ、前記使用済み触媒を前記水
平外周に対し加速させて主物質流動分離を生ぜしめるこ
とにより、前記使用済み触媒の大部分を前記ダウンカマ
ー垂直導管まで前記傾斜した固体落下手段に通過させる
ようにしたスロツト型固体落下手段と を備え; (v)前記炭化水素生成物の抜取り導管と前記水平容器
と前記接触下降流反応器とを、前記炭化水素生成物抜取
り導管の直径が前記水平容器の直径よりも小さくなりか
つ前記炭化水素生成物と使用済み触媒との混合物の中心
から外れた進入が操作に際し0.2よりも大きい渦巻比
(これは前記接触下降流反応器の断面に対する前記炭化
水素生成物の接線方向速度を前記炭化水素生成物抜取り
導管の断面を流過する流体の見かけ軸線方向速度によつ
て割算することにより規定される)を与えるように構成
して、少量の前記使用済み触媒を同伴した前記炭化水素
生成物の渦流を前記炭化水素生成物抜取り導管に対向す
る前記無孔壁部から延在する螺旋通路で生ぜしめること
により二次的遠心分離を生ぜしめると共に、前記少量の
同伴使用済み触媒を前記螺旋通路の炭化水素生成物から
分離させ、これによりこの分離した少量の非同伴使用済
み触媒を前記容器と前記ダウンカマー垂直導管との連結
点まで通過させ、前記脱着分離した使用済み触媒をスト
リツピング帯域まで前記ダウンカマー導管を介して移送
するよう構成し、さらに (vi)前記ダウンカマー垂直導管および前記上昇流ライ
ザ再生器の底部と連通するストリツピング帯域をも備
え、このストリツピング帯域は操作に際し、(1)前記
傾斜したスロツト型固体落下手段を介する前記主物質流
分離と、(2)前記ダウンカマー垂直導管を介する前記
二次遠心分離との両者から受入れた使用済み触媒の緻密
床を備え、操作に際しストリツピングガスをストリツピ
ングガス入口手段により前記ストリツピング帯域に移送
すると共に、前記第2側壁から前記炭化水素生成物抜取
り出口まで延在する前記炭化水素生成物質の前記螺旋流
路は前記ストリツピングガスの少なくとも1部が前記ダ
ウンカマー垂直導管を介して上方に前記水平容器中へ移
動するのを防止することを特徴とする。
後記に一層詳細に説明する第1図、第2図および第3
図に示したように、比較的小さい短い滞留時間の緻密な
触媒床を、下降流反応器の頂部に対し載置した位置に配
置する。この小さい短い滞留時間の緻密は触媒床は有能
なレツグシールを形成するよう作用して、下降流反応器
の頂部より上方の圧力が下降流反応器自身における圧力
と比較して高くなるよう確保する。下降流反応器および
緻密床のレツグシールに関するこの配置は、反応器に触
媒を流下させながら反応体炭化水素供給原料を適切に分
散させるには特殊な差圧手段の存在を必要とする。この
機能を果しうる弁の種々の業者は特にクボタ・アメリカ
ン・コーポレーシヨン社,チヤツプマン・エンジニヤー
ス・インコーポレーシヨン社またはタプコ・インターナ
シヨナル・インコーポレーション社を含む。こらの差圧
弁は、下降流反応器にて所望の炭化水素転化を達成する
のに望ましい量の触媒の存在を与えかつ確保する。たと
えば、流量制限パイプのような他の手段も、適切な差圧
を達成するために使用することができる。
下降流反応器の頂部に位置する差圧手段により上方の
触媒のレツグシール緻密床は、上昇流ライザ再生器の出
口と下降流炭化水素接触反応器に対する入口とを相互接
続する水平サイクロン分離器によつて供給することがで
きる。この分離容器は、後記する水平サイクロン分離器
と同様であつて、下降流反応器およびライザ再生器の各
底部を相互接続する。
本発明の特定実施例においては、或る程度の再生が、
下降流反応器の頂部に位置する差圧手段より上方のレツ
グシール緻密触媒床にて生じ或いは積極的に行なうこと
ができる。
下降流反応器に存在する工程パラメータは極めて低い
圧力低下(すなわちほぼ0)、4〜5バールの圧力(た
だし1〜50バールも考えらえる)、0.2〜5秒の滞留時
間および260〜649℃の温度である。下降流反応器に存在
する差圧と緻密相レツグシール(下降流反応器の上に存
在する)における圧力との差は34.5ミリバールより大で
ある。これはたとえば水蒸気、炭化水素反応体および触
媒のような全ての使用しうる材料を充分分散した相とし
てはほぼ0の圧力低下にて流下させることができかつこ
の流下を促進する。
熱分解反応器とライザ再生器との両者は、蒸気の同伴
速度が触媒材料の終端速度を越えた際に発生する急速流
動条件下で操作される。同伴速度は、個々の粒子の終端
速度の3〜100倍程度の大きさとすることができる。何
故なら、緻密触媒は粒子の群、すなわちストリーマとし
て流動するからである。急速流動条件の最小速度は、蒸
気の同伴速度が触媒材料の終端速度を越えた際に生ず
る。触媒粒子の急速流動に対する最小速度は、典型的な
密度において約1m/秒である。
急速流動系における圧力低下は速度ヘツド(1/2PsVs
-)と共に増大するのに対し、流動床における圧力低下
は速度ヘツドまたは流速に対し比較的一定である。
急速流動系における小規模混合は乱流のため極めて効
率的であるが、大規模なバツクミキシングは流動床にお
けるよりもずつと少ない。ライザ再生器は、流動床にお
けるよりも少ない空気消費にて触媒上の炭素をより少な
い量まで燃焼することができる。事実、流動床の反応速
度は理論的燃焼速度の約10%に過ぎないのに対し、ライ
ザはほぼ100%を達成することができる。ライザ再生器
で成功するには、このような高効率が必要とされる。
下降流反応器も、その下方向の配向にもかかわらず急
速流動化型である。蒸気速度(程度)は、触媒の終端速
度を越える。蒸気は、固体を自由落下させずに、これら
固体を反応器下方まで同伴する。下降流反応器の底部
は、反応した蒸気を迅速分離しかつ固体の停滞を防止す
るべく邪魔を最小にしなければならない。これは、以下
説明する独特な水平サイクロン分離器中へ直接放出させ
て達成される。下降流反応器における触媒滞留量は、典
型的な蒸気速度を有するライザ反応器における滞留量の
約半分であると予想される。これは、主として急速流動
化(乱流同伴)条件に基づいている。触媒接触時間は1/
3〜1/2程度となり、その後の再生はしたがつてこの系に
おいてずつと容易となる。
炭化水素供給原料は、上記差圧手段を介して水蒸気と
混合された再生触媒の入口に隣接する個所において下降
流反応器へ転化することができる。炭化水素供給原料は
一般に93〜427℃の沸点を有し、部分的な蒸気および部
分的な液体として下降流反応器の上部へ、或いはその上
部の触媒の緻密相に供給される。より小さい分子を有す
る炭化水素生成物に転化される使用しうる炭化水素反応
体は天然原油および合成原油から一般に得られるもので
ある。これら炭化水素反応体の特定例は、減圧ガス油範
囲で沸とうする蒸留分、常圧蒸留の底流留分、ケロシン
沸とう炭化水素材料またはナフサである。さらに、炭化
水素反応体としてはアスフアルテン材料も使用できると
考えられるが、少量の水素しか存在しないため必ずしも
同等な熱分解結果が生ずるとは限らない。
本発明の好適触媒では極めて急速に失活が観察される
ので(以下説明する)、触媒粒子と炭化水素反応体との
間には短い接触時間が実際上望ましい。この理由で、複
数の反応体供給入口個所を下降流反応器に沿つて用いる
ことにより、活性触媒が実際に炭化水素反応体と接触す
る時間を最大化させ、または最小化することができる。
触媒が失活した後(比較的急速に生じうる)、触媒と炭
化水素反応体との接触は非生産的となる。炭化水素供給
流反応体よりも小さい分子を有する炭化水素生成物は、
好ましくは内燃エンジンに使用するガソリン、或いはた
とえばジエツト燃料、デイーゼル燃料および加熱油のよ
うな他の燃料である。
下降流反応器は上昇流ライザ再生器と底部対底部およ
び頂部対頂部の関係で相互接続する。この相互接続は、
特に底部対底部の相互接続の場合には迅速分離手段によ
つて行なわれる。頂部対頂部の接続におけるこの迅速分
離手段は水平サイクロン分離器、垂直サイクロン分離
器、逆流分離器または反応帯域の直径の4倍以下もしく
は断面積の16倍以下に等しい入口寸法を有するエルボ分
離器で構成しうると考えられる。この独特な水平サイク
ロンを用いた場合、下降流反応器底部の下流における使
用済み触媒の分離時間は0.2〜2.0秒であるのに対し、米
国特許第4,514,285号における邪魔のない分離時間の場
合には約8秒〜1分間である。したがつて底部対底部の
接続における迅速分離手段には少なくとも1個の水平サ
イクロン分離器を設け、好ましくはここに説明したもの
と同程度にする必要がある。
水平サイクロン分離器は、好ましくは下降流反応器の
最下部(出口)および上昇流ライザ再生器の最下部(入
口)と連通する。この水平サイクロン分離器は水平サイ
クロン分離器の底部に片寄つた入口を備えて、使用済み
触媒と炭化水素生成物とを重力よりも相当大きい角加速
度にて分離器へ供給することにより、使用済み触媒を水
平サイクロン分離器の側壁部に対し衝突させ、これによ
りこの触媒を角加速度および遠心力を用いた主物質分離
によつて分離する。
水平サイクロン分離器には渦流安定器を装着すること
ができ、この安定器はサイクロン分離器の一端部からそ
の炭化水素生成物の出口端部まで蒸気の螺旋流路を形成
するよう作用する。この渦流は二次的な使用済み触媒お
よび炭化水素生成物相の分離手段として作用し、全ての
同伴した使用済み触媒を炭化水素生成物質から除去す
る。水平サイクロン分離器には特殊なスロツト型固体落
下手段を装着して、使用済み触媒および炭化水素生成物
(気相)の入口に隣接した水平サイクロン分離器の底部
と、ダウンカマーとを相互連結し、ダウンカマーは水平
サイクロン分離器の対向端部を相互接続する。この好適
実施例において、使用済み触媒は炭化水素物質から極め
て急速に分離され、これにより後の熱分解または過度の
コークス形成が排除され、または少なくとも緩和され
る。この水平サイクロン分離器は下降流反応器およびラ
イザ反応器と共に機能して、特に上記米国特許第4,514,
285号で従来認められているよりも融通性が大きくかつ
良好なコークス形成処理を有する工程をもたらす。しか
しながら、ストリツピング帯域を水平サイクロン分離器
の底部およびライザ再生器の底部に相互接続するのが好
適である。ストリツピング帯域においては、ストリツピ
ング媒体(特に好ましくは水蒸気または煙道ガス)を触
媒組成物と緊密接触させ、この触媒物質は失活性コーク
スを0.1〜5.0重量%炭素の程度で付着して、吸着および
侵入炭化水素物質を使用済み触媒から除去する。ストリ
ツピング容器は、底部に使用済み触媒の緻密相を有する
慣用の垂直ストリツピング容器の形態とすることがで
き、或いはこのストリツピング容器は水平ストリツピン
グ容器として、ほぼ完全に使用済み触媒の緻密相と未占
有空間とで構成された保持室までデイツプレツグ漏斗状
触媒を設けることもできる。用いる形状とは関係なく、
ストリツピング容器は一般に通常454〜566℃の範囲の下
降流反応器とほぼ同じ温度に維持される。好適ストリツ
ピングガス(一般に水蒸気または窒素)は、通常0.7〜
2.4バールの範囲の圧力にて揮発成分を使用済み触媒か
らほぼ完全に除去するのに充分な量で導入される。スト
リツピング帯域の流下側は、上昇流ライザ再生器と連通
する可動弁手段と相互接続する。
ライザ再生器は多くの形状で構成して、使用済み触媒
をほぼ新鮮な触媒の活性レベルまで再生することができ
る。ライザ再生器の基本的思想は、この再生器の全長に
わたり緻密な急速流動化方式にて操作することである。
ライザ再生器の底部でコークス燃焼を開始させるには、
温度をライザ再生器の底部に供給されたストリツピング
使用済み触媒の温度に対比して高めねばならない。この
温度を高める幾つかの手段は、実際の燃焼熱(すなわ
ち、コークスからのCOへの酸化)をライザ再生器の底部
までバツクミキシングすることである。これらの手段
は、緻密な触媒床の存在と、再生触媒の循環と、伝熱剤
の向流と、拡大したバツクミキシング部分とを含む。た
とえば、緻密な触媒床は再生器の底部近傍に配置しうる
が、好ましくは触媒の在庫を減らすために最少にすべき
である。このような在庫の減少から得られる他の利点
は、投資コストの節減、触媒失活の緩和および触媒磨耗
の減少である。触媒のバツクミキシングが生ずると、ラ
イザ再生器の底部における温度は燃焼が開始する温度近
くの点まで上昇し、すなわちここでは炭素割合が物質移
動および非酸化速度によつて制限される。この温度上昇
は、流入するストリツピングされた使用済み触媒の自生
温度よりも55.6〜166.7℃高くすることができる。この
バツクミキシング部分は、前記温度上昇に必要な緻密な
再循環帯域と呼ぶこともできる。
本発明の一実施例において、上昇流ライザ再生器は使
用済みの再生触媒の緻密相(第1緻密相)をその底部に
有しかつその上方に第2分離器(好ましくは水平サイク
ロンストリツパ)に流入する触媒の希薄相を有するライ
ザ再生器で構成する。ストリツピング帯域からの使用済
みであるがストリツプされた触媒はライザ再生器の底部
に供給され、ここには緻密な触媒床を存在させて炭素燃
焼速度の温度を達成することができる。さらに、この種
の緻密な触媒床を用いる場合、その在庫は慣用のライザ
再生器と比較して最少にせねばならない。所望ならば、
サイクロン分離器を有するまたは持たない循環手段を設
け、再生触媒を再生器の内部または外部から緻密な触媒
床へ循環させて炭素燃焼温度を得ることもできる。この
循環再生触媒の量は、ライザ再生器の緻密相における温
度を監視しかつそれにしたがつて循環触媒の量を変化さ
せることにより最もよく調整することができる。さら
に、触媒循環自身が流動化手段を有して再生循環触媒を
流動化させることも本発明の範囲内である。循環導管に
おける流動化の程度は、ライザ再生器の底部における緻
密な触媒相の温度をより良好に制御すべく、再生装置に
おける温度に呼応して行なうことができる。
再生器における触媒の緻密相は、使用済み触媒に存在
するコークスを一酸化炭素までかつ次いで二酸化炭素ま
で酸化するのに有用な流動化ガスによつて流動化され、
二酸化炭素は最終的に工程から除去され、或いはライザ
再生器の下流に位置する動力回収系にて動力を発生させ
るために利用される。最も好適な流動化ガスは空気であ
つて、好ましくはコークス酸化を行なうのに要するより
僅か化学量論的過剰(酸素に基づき)で存在する。過剰
の酸素は、再生により最も活性な触媒を得るためにコー
クス酸化に理論上必要とされる量の0.1〜25%の範囲で
変化することができる。
FCC装置における温度制御が主として考えられ、した
がつて再生器における温度は緊密に監視せねばならな
い。上昇流ライザ再生器に対する技術上の障害は、低い
入口温度および短い滞留時間である。これらの困難性を
緩和するため、精製所は互いに関連しない3種の方法の
1つを採用することが望ましい。第1に、伝熱ペレツト
をライザを介し落下させて熱をバツクミキシングし、触
媒滞留時間を増大させ、或いは物質移動係数を最大化さ
せることができる。適切な空圧式上昇手段を用いて、ペ
レツトをライザの底部からライザの頂部まで、ペレツト
を循環させることが望ましければ循環させることができ
る。第2に、再生触媒をライザの底部に再循環させて、
熱をバツクミキシングすることができる。第3に、膨脹
部分をライザの底部に設けて、熱をライザ再生器の入口
帯域でバツクミキシングすることができる。
触媒はライザ内で再生を受け、触媒の緻密相にてほぼ
完全に再生することができる。必要に応じトーチ油を最
初に燃焼させて達成されかつライザ再生器内で維持され
る反応条件は621〜768℃の範囲の温度かつ0.35〜3.5バ
ールの範囲の圧力である。所望ならば、二次的な酸素含
有ガスを希薄相へ触媒緻密床の下流の個所に添加するこ
ともできる。特に好ましくは、この二次的酸化ガス源
を、再生器の底部から排出する場合には触媒の緻密相の
直ぐ上の個所に添加することが望ましい。さらに望まし
くは、燃焼促進剤を混入して温度をより綿密に制御する
と共に、触媒に対するコークスの量を減少させることが
できる。米国特許第4,341,623号および第4,341,660号は
考慮される再生燃焼促進剤を説明しており、それらの教
示を全て本明細書中に参考のため引用する。
ライザ再生器にその底部にて緻密な触媒床を維持する
実施例において、再生触媒は緻密相から排出され、次い
で希薄相帯域に移送されて649〜815℃の範囲の温度に維
持される。ここでも常に熱再生触媒を供給するのに必要
な再生帯域と全工程における熱消費を最少化させる反応
帯域との温度関係を調和させねばならない。触媒在庫を
標準的上昇流ライザ反応器に対し著しく減少させ、した
がつて下降流反応器および上昇流再生器における温度の
より正確な調和を達成しかつ維持せねばならないことを
認識することが肝要である。さらに、ライザ再生器は、
脱着室中に移送される触媒の希薄相をも有することを考
慮し、再生器における第2の緻密な触媒床を底部に維持
して蓄積させ、かつ再生触媒循環手段に通過させて、ラ
イザ再生器の底部における緻密相の触媒床まで移動させ
る。
さらに本発明の範囲内において、たとえば球状金属ポ
ール、相変化材料、熱交換ペレツトまたはその他の低コ
ークス状固体のような選択された既知の固体粒子伝熱物
質を触媒で分散させることもできる。この好適実施例に
おいて、ヒートシンク粒子は再生器ライザの底部におけ
る上昇温度を維持するよう作用し、かつ一般に触媒の実
際の機能に対し不活性であり、さらに炭化水素反応原料
の所望の転化に対し不活性である。伝熱材料の存在にも
かかわらず、再生触媒における炭素の量は0.5重量%未
満、好ましくは0.02重量%未満のコークスに保つことが
好ましい。
本発明に用いる触媒は、炭化水素原料の転化に対し初
期に高活性を有する触媒活性の結晶アルミノ珪酸塩から
なつている。好適触媒は、アルミナマトリツクスに分散
されたゼオライトからなつている。さらに、シリカ・ア
ルミナ組成物を使用することも考えられる。他の耐火性
金属酸化物、たとえばマグネシウムもしくはジルコニウ
ムも使用しうるが、一般にシリカアルミナ触媒ほど効率
的でない。適当なモレキユラシープもアルミナマトリツ
クスに配合してまたは配合せずに用いることができ、た
とえばフオージヤサイト、チヤバザイト、X型およびY
型アルミノシリケート物質、並びに超安定性の大気孔結
晶アルミノシリケート物質、たとえばZSM−5もしくはZ
SM−8型触媒である。これら物質の金属イオンは、使用
前にアンモニウムもしくは水素につき交換すべきであ
る。少なくとも極く少量のみのアルカリもしくはアルカ
リ土類金属を存在させるのが好適である。
本発明による方法の全体的観点から、ライザ再生器は
下降流反応器よりも長くする。この形状における寸法変
化の理由は、下降流反応器における触媒活性の急速な喪
失にある。下降流接触反応器はライザ再生器の長さの半
分以下であることが好ましい。
さらに本発明は炭化水素供給原料をより小さい分子を
有する炭化水素生成物質まで下降流接触反応器にて連続
熱分解する方法にも関し、この方法は前記炭化水素供給
原料を長形の下降流反応器の頂部へ接触分解組成物の存
在下に260〜815℃の温度、1〜50バールの圧力かつほぼ
0の圧力低下で流入させて、0.2〜5秒の滞留時間内に
前記炭化水素供給原料の分子をより小さい分子まで熱分
解させると共に、前記炭化水素供給原料を前記反応器の
出口方向へ下方向に流動させ; 炭化水素生成物質とコークスが付着した使用済み触媒
とを前記滞留時間の後に前記反応器の出口から抜取り; 前記炭化水素生成物質を水平サイクロン分離器にて前
記使用済み触媒から分離すると共に、前記炭化水素生成
物質をこの工程から生成物質として抜取り; コークスが付着した前記使用済み触媒を前記水平サイ
クロン分離器からライザ上昇流再生器へ移送すると共に
酸素含有ガスからなる再生ガスを添加し; 温度上昇手段によつて前記再生器の底部における温度
を炭素燃焼速度に到達するよう上昇させると共に、上昇
流ライザ再生器のほぼ全長にわたり再生触媒の比較的緻
密な急速流動化する床を維持し、前記再生器は593〜982
℃の温度と1〜50気圧の圧力とを有し、前記触媒を前記
上昇流再生器内に約30〜約300秒間の滞留時間にわたつ
て残留させ; 前記再生触媒と前記酸素含有ガスの存在下で前記コー
クスの酸化により形成した蒸気相とを水平状態で配置さ
れたサイクロン分離器に移送し; 前記再生触媒を前記水平サイクロン分離器にて前記蒸
気相から分離すると共にこの蒸気相をこの工程から抜取
り; 前記水平サイクロン分離器から分離された再生触媒を
約538〜982℃の温度かつ約1〜50バールの圧力に維持さ
れた緻密な触媒床に移送して、この触媒を前記緻密床内
に約1〜600秒の滞留時間にわたつて残留させ;かつ 再生触媒を前記緻密床から前記下降流反応器の頂部へ
移送して、この下降流反応器の頂部に流入する炭化水素
供給原料と接触させ、前記緻密な触媒床における圧力を
前記下降流反応器における圧力と比較して34.5ミリバー
ル高くする ことを特徴とする。
第1図は、水平サイクロン分離器2を介してライザ再
生器3と連通する下降流反応器1を示している。炭化水
素供給物を流れ図において導管5および制御弁6を介し
て下降流反応器1の頂部もしくはその近傍に添加する。
この供給物はマニホールド系(図示せず)を介して流入
させ、供給物を下降流反応器の頂部全体に完全に分散さ
せて再生触媒の存在下に下方向へ移動させることが好適
である。特に好ましくは、供給物の添加は、ここには弁
として示した差圧手段の約2m下方で行なつて触媒の加速
および分散を生ぜしめる。再生触媒は差圧弁手段7を介
して下降流反応器1に添加することにより、下降流反応
器1の頂部(参照符号8として示す)の上方の圧力が下
降流反応器(参照符号10として示す)における圧力より
も高くなるよう確保する。この差圧は34.5ミリバールよ
り大として、比較的短い滞留時間内に下降流反応器全体
に触媒を分散させうるようにするのが特に好適である。
下降流反応器における温度条件は特に好ましくは427
〜815℃であり、圧力は4〜5バールである。下降流反
応器は平均ライザ温度よりも高い温度で操作して、分散
水蒸気の量を減少させることにより触媒対油の比をより
高くすべきである。本発明による1つの顕著な利点とし
ては、下降流接触反応器全体における圧力低下がほぼ0
になることである。所望ならば、水蒸気を供給流に隣接
した個所で添加することができ、特に好ましくは水蒸気
を導管9および弁11によつて第2の緻密相の触媒12の床
に添加することができる。この第2の緻密相の触媒12の
床は下降流反応器内に適切な差圧を確保するのに必要で
ある。触媒をこの第2の緻密相の触媒床に上記2つの部
分の間で適切なレツグシールを確保するのに要する時間
のみ滞留させるのが好適である。デイツプレツグにおけ
る滞留時間は5分間以内、好ましくは30秒未満とするの
が好適である。
下降流反応器1は、水平サイクロン分離器2およびス
トリツピング帯域14によつてライザ再生器3と連通す
る。使用済み触媒と炭化水素生成物質とは、下降流反応
器1の底部から水平サイクロン2中へこのサイクロンの
水平本体に対し偏位した個所で流入する。異なる固相と
流体相との流入は有角の力(通常270℃)を受けて、こ
れらの相を主物質流分離によつて分離する。固体粒子は
固体スロツト落下手段16(側面図では見られない)によ
つてダウンカマー15に直接移送され、この落下手段は固
定手段17によつて支持することができる。固体の使用済
み触媒の少量部分が炭化水素流体生成物に同伴され続け
る。水平サイクロン2は、容器中に流入する流体の接線
方向速度(Ui)を抜取り導管18を通過する流体の軸線方
向速度(Vi)によつて割算した値が次式により規定して
0.2より大きくなるような形状を有する: 〔式中、Re=下降流反応器1の半径、 Ri=抜取り導管18の半径、 F=管状反応器の断面積を流体抜取り導管の断面積で割
算した値〕。
この関係を満たすには、任意の渦流安定器20から出発
しかつ炭化水素生成物出口18まで連続する水平方向軸線
にて参照符号19の個所に流体の螺旋状もしくは渦巻流流
路を形成する。これあ、ダウンカマー15を介してストリ
ツパ14まで移動する固体の使用済み触媒の少量部分を離
脱させる。
ストリツパ14は第3の緻密な触媒21(使用済み)の床
を備え、この触媒をストリツピングガス入口導管22と制
御弁23とを介して流入するストリツピング剤、好ましく
は空気もしくは水蒸気と直ちに接触させる。吸収された
炭化水素の1部を触媒の表面から離脱させるのに充分な
ストリツパ14における短い滞留時間(好ましくは10〜10
0秒間)の後、使用済みのストリツプされた触媒を接続
導管25および流量制御装置26によつて第1の緻密相の触
媒24まで移送する。第3の緻密相の触媒床21は一般に26
0〜537℃の温度を有する。
第1緻密相の触媒床24は特殊寸法の格子(図示せず)
に維持されて、この格子に対する蒸気の上昇流および緻
密な触媒相からの使用済み触媒の下降流を可能にする。
適する流動化剤は酸素含有ガスであり、これは触媒上の
コークスを一酸化炭素と二酸化炭素とまで酸化するのに
も使用される。酸素含有ガスは導管29および分配マニホ
ールド31を介して供給される。再生器3に添加される流
動化用ガスの量は、燃焼帯域における温度或いは第1緻
密触媒床24における触媒の量もしくはレベルに応じて調
整することも本発明の範囲内である。所望ならば、再生
触媒の循環流27を形成して、この再生触媒をライザ再生
器3の希薄相の上部から流量制御弁28を有する導管27に
介して循環することができ、この制御弁28は再生帯域の
希薄相における温度に応じて調整することができる。こ
の触媒循環流は、ライザ再生器に対し外部に示されてい
るが、内部位置に設置して循環している触媒が第1緻密
相の触媒床24に至るその通路内で過度に冷却されないよ
う確保することもできる。さらに、導管27は導管25と交
差することができ、さらに再生触媒と使用済み触媒との
「塩およびコシヨー」混合物を同時に第1緻密相の触媒
床24へ導管25を介して添加することも考えられる。
再生触媒と酸素によるコークスの酸化から生じた蒸気
流出物とは、触媒33の希薄相から分離手段(好ましくは
水平サイクロン分離器まで移送されるが、たとえば垂直
サイクロン分離器のような他の同等な分離器も使用する
ことができる。この場合も、2個以上のサイクロン分離
器を直列もしくは並列の流路方式で使用することが考え
られる。再生触媒の上昇流は、一般に1000ppm未満のCO
を含有する蒸気から導管41を介して除去し、これを導管
43にて工程から除去され、或いは動力回収装置45または
一酸化炭素ボイラ装置(図示せず)へ移送することもで
きる。サイクロン連通導管47は触媒粒子を望ましくない
蒸気から分離するよう作用すると共に、再生触媒を第2
緻密相の触媒12まで移動させて、下降流反応器の上にレ
ツグシールを形成する。
第2図は、使用済み触媒と炭化水素生成物とを下降流
反応器からストリツパおよび最終的に上昇流ライザ再生
器における第1緻密相の触媒まで取出すよう設計した本
発明による水平サイクロン分離器2を一層詳細に示して
いる。
第3図は、本発明による一層精巧な装置および流れ方
式を示しており、これは頭上の水平サイクロン分離器10
2によつて相互接続された下降流反応器101とライザ再生
器103とを備える。ライザ再生器103の下部には導管105
およびマニホールド107によつて酸素含有ガスが供給さ
れる。選択的に穿孔した格子109を形成して、流動床触
媒の底部を維持する。触媒の緻密相が極めて小さく、す
なわち直径2.44mの場合には、格子を必要としないこと
もある。触媒111の緻密相を適当な再生を行なう条件
(すなわち649〜815℃の温度)に維持して触媒上のコー
クスを0.05重量%もしくはそれ未満に減少させる。ライ
ザ再生器103にて再生を受けた触媒は希薄相113中へ流入
し、この希薄相はその底部に導管115および/または導
管117の二次空気供給手段によつて燃焼促進剤を添加す
る能力を有する。空気量は、一般に酸素含有量が有害コ
ークスを一酸化炭素まで燃焼し、次いでその幾分かまた
は全部を二酸化炭素まで変換するのに化学量論上充分と
なるように調整される。再生した触媒は、上記条件に維
持された希薄相中を上方向に同伴され、水平サイクロン
分離器102中へ流入するか、或いは循環導管121とこの導
管121に設けた制御弁手段123とを介し再生触媒111の緻
密相に循環される。ここでも、この循環流は再生器に対
し外部に存在するとして示したが、内部に設けることも
できかつたとえば液面表示器もしくは温度検知および制
御装置のような各種の工程流量制御装置を備えて、希薄
相113内に存在する条件に応じて温度を調整することも
できる。一般に、主として二酸化炭素と窒素と水とより
なる燃焼生成物は渦流排出導管131を介して水平サイク
ロン分離器102から流出する。渦流排出導管はライザ再
生器103に対しほぼ垂直方向に触媒135の螺旋流を水平サ
イクロン分離器全体に確立する。好ましくは、この触媒
の螺旋流は全体的に流れ偏位用の円錐装置137を包囲し
て、粒状触媒を下方向へ緻密相レツグシール139まで移
送する。相互連結導管141は水平サイクロン分離器の延
長部とすることができ、或いは単にそこからの触媒移送
導管とすることもできる。供給物は、減圧弁147の下流
における導管145によつて添加される。所望ならば、水
蒸気も導管149もしくは151またはその両者によつて添加
することができる。差圧弁147を存在させて、炭化水素
が触媒のシールレツグ中の上方向へ流動しないよう確保
する。このようにして、たとえば触媒粒子のような固体
は下降する蒸気の速度によつて吹き落とされ、触媒−炭
化水素反応体−水蒸気の良好な分散を与える。これら3
種のものは全て反応器101内で下方向に移動して、必要
とされる炭化水素生成物を生成する。この実施例におい
ては、第2の水平サイクロン分離器を下降流反応器101
の底部に設ける。この実施例において蒸気は慣用の垂直
サイクロン分離器157に接続された渦流排出導管167を介
して流出するが、ダウンカマーの両側において蒸気を流
出させることもできる。垂直サイクロン分離器において
は、ガスを導管159にて工程から抜取る一方、蒸気から
分離された固体触媒をデイツプレツグ161によつて水蒸
気ストリツピング帯域165に存在する他の触媒163の緻密
相まで移送する。さらに、渦流排出導管167は使用済み
触媒169の第2の螺旋流路を形成して、渦流安定器171を
介してストリツパ緻密相163まで移送する。触媒163の緻
密相にもデイツプレツグ173を設けて、ストリツパカラ
ムの底部に存在する触媒175の他の緻密相のために触媒
を供給することも考えられる。これは、導管177および1
79における2つの水蒸気源によつて与えられる。ストリ
ツピングされ、しかも使用済みの触媒は導管181を介し
てストリツパ装置165の底部から抜取られ、かつ摺動制
御弁183を介しライザ再生器103の緻密床111まで移送さ
れる。
熱蒸気の流れを導管131にて水平サイクロン分離器102
から除去する。次いで、これを慣用の垂直触媒サイクロ
ン分離器201まで移送し、この分離器は蒸気出口手段203
と触媒デイツプレツグ205とを備えて、回収された再生
触媒を緻密相111まで逆送する。垂直分離器201は排出ガ
スを水平サイクロン分離器102と形状が類似した第3の
水平サイクロン分離器207まで移送する。ここでも、再
生触媒は熱蒸気から回収されて循環導管209を介し緻密
相の触媒床111まで循環される。排出ガスは主として導
管211内で固体物質を含有せず、水平サイクロン分離器2
07から抜取られ、かつ極めて広義にはタービン215から
なる動力回収手段に移送されて電動モータ発電機221に
動力を供給することにより、精製所の他の部門における
工程の他の部材を可動させ、或いは動力発生用として一
般に市販され、次いでコンプレツサ213まで移送され
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による方法の全体的略図であり、 第2図はライザ再生器と下降流反応器とを相互接続する
水平サイクロン分離器の底部図であり、 第3図は粒状触媒回収に関する本発明による方法の好適
実施例の工程流れ図である。 1……下降流反応器、2……サイクロン分離器、3……
ライザ再生器、6……制御弁、7……差圧弁手段、12…
…触媒。

Claims (13)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】炭化水素供給原料を、より小分子の炭化水
    素生成物質に接触転化するための一体的な炭化水素接触
    分解転化装置において、 (a)頂部と底部とを備える長形の接触下降流反応器で
    あって、前記下降流反応器の前記頂部に隣接した位置に
    おける炭化水素供給入口と、前記下降流反応器の前記頂
    部に隣接した位置における再生触媒入口と、前記下降流
    反応器の前記底部に隣接した位置における生成物および
    使用済み触媒の抜取り出口とを備えてなる長形の接触下
    降流反応器と; (b)前記接触下降流反応器から移送された前記使用済
    み触媒を再生するための頂部と底部とを備えた、再生し
    ている触媒の均一床に適した長形の上昇流接触ライザ再
    生器であって、前記再生器の前記底部に隣接した位置に
    おける使用済み触媒入口と、前記再生器の前記底部に隣
    接した位置における酸素含有ガスを導入するための再生
    ガス入口手段と、前記再生器の前記頂部に隣接した位置
    における再生触媒および蒸気相の出口とを備え、この出
    口は再生触媒と前記使用済み触媒上に存在するコークス
    の酸化から生じた蒸気とを前記酸素含有再生ガスと共に
    抜取るのに適した手段を備えてなる長形の上昇流接触ラ
    イザ再生器と; (c)炭化水素生成物質から使用済み触媒を分離するた
    め、前記接触下降流反応器の前記底部および前記上昇流
    ライザ再生器の前記底部と連通した水平サイクロン分離
    手段と; (d)前記上昇流ライザ再生器から得られた再生触媒を
    使用済み酸化ガスから分離するため、前記上昇流ライザ
    再生器の前記頂部および前記接触下降流反応器の前記頂
    部と連通した接続分離手段であって、この手段は前記上
    昇流再生器の前記頂部と前記接触下降流反応器の前記頂
    部との中間に比較的緻密な触媒相を備えてなる接続分離
    手段と; (e)接触下降流反応器の直ぐ上流における第2の比較
    的緻密な相における圧力を前記接触下降流反応器の前記
    頂部における圧力よりも高くするための減圧手段と を備えたことを特徴とする一体的な炭化水素接触分解転
    化装置。
  2. 【請求項2】水平サイクロン分離手段が、 (i)頂部と第1無孔側壁と底部と炭化水素生成物の出
    口抜取り導管を挿入するための第2有孔側壁とからなる
    本体を備えた水平長形容器であって、この容器本体の前
    記頂部は前記水平本体の直径を貫通する垂直平面によっ
    て規定される前記容器の頂部における中心線から外れた
    位置にて前記接触下降流反応器と連通し、この連通個所
    は使用済み触媒と炭化水素生成物との混合物を前記長形
    容器中へ下方向に通過させるのに充分である水平長形容
    器と; (ii)長形の比較的垂直なダウンカマー導管であって、
    前記容器の前記連通個所とは相対的に反対側の前記容器
    の端部にて前記容器底部を前記接触下降流反応器と連通
    させて、前記垂直なダウンカマー導管中に比較的少量の
    前記使用済み触媒を下方向へ通過させるダウンカマー導
    管と; (iii)前記接触下降流反応器と前記容器頂部との前記
    連通個所の下側およびその側部である前記容器の第2側
    壁に位置して、前記使用済み触媒から二次的遠心分離し
    た後に前記炭化水素生成物を連続的に抜取るための炭化
    水素生成物抜取り導管と; (iv)前記容器底部を前記容器頂部との前記接触下降流
    反応器の連通個所から前記容器の外周にわたる角度(36
    0°は前記外周の完全な1回転に等しい)で測定して少
    なくとも90°離間した位置にて連結する傾斜したスロッ
    ト型固体落下手段であって、前記水平容器で少なくとも
    90°の角度だけ前記使用済み触媒を遠心加速することに
    より前記炭化水素生成物から使用済み触媒を主物質分離
    して使用済み触媒を受入れ、前記使用済み触媒を前記水
    平外周に対し加速させて主物質流動分離を生ぜしめるこ
    とにより、前記使用済み触媒の大部分を前記ダウンカマ
    ー垂直導管まで前記傾斜した固体落下手段に通過させる
    ようにしたスロット型固体落下手段と を備え; (v)前記炭化水素生成物の抜取り導管と前記水平容器
    と前記接触下降流反応器とを、前記炭化水素生成物抜取
    り導管の直径が前記水平容器の直径よりも小さくなりか
    つ前記炭化水素生成物と使用済み触媒との混合物の中心
    から外れた進入が操作に際し0.2よりも大きい渦巻比
    (これは前記接触下降流反応器の断面に対する前記炭化
    水素生成物の接線方向速度を前記炭化水素生成物抜取り
    導管の断面を流過する流体の見かけ軸線方向速度によっ
    て割算することにより規定される)を与えるように構成
    して、少量の前記使用済み触媒を同伴した前記炭化水素
    生成物の渦流を前記炭化水素生成物抜取り導管に対向す
    る前記無孔壁部から延在する螺旋通路で生ぜしめること
    により二次的遠心分離を生ぜしめると共に、前記少量の
    同伴使用済み触媒を前記螺旋通路の炭化水素生成物から
    分離させ、これによりこの分離した少量の非同伴使用済
    み触媒を前記容器と前記ダウンカマー垂直導管との連結
    点まで通過させ、前記脱着分離した使用済み触媒をスト
    リッピング帯域まで前記ダウンカマー導管を介して移送
    するよう構成し、さらに (vi)前記ダウンカマー垂直導管および前記上昇流ライ
    ザ再生器の底部と連通するストリッピング帯域を備え、
    このストリッピング帯域は操作に際し、(1)前記傾斜
    したスロット型固体落下手段を介する前記主物質流分離
    と、(2)前記ダウンカマー垂直導管を介する前記二次
    遠心分離との両者から受入れた使用済み触媒の緻密床を
    備え、操作に際しストリッピングガスをストリッピング
    ガス入口手段により前記ストリッピング帯域に移送する
    と共に、前記第2側壁から前記炭化水素生成物抜取り出
    口まで延在する前記炭化水素生成物質の前記螺旋流路は
    前記ストリッピングガスの少なくとも1部が前記ダウン
    カマー垂直導管を介して上方に前記水平容器中へ移動す
    るのを防止する よう構成してなる特許請求の範囲第1項記載の装置。
  3. 【請求項3】再生している触媒の均一床が、前記再生器
    の底部における触媒の比較的緻密な第1床と、前記再生
    器の頂部における触媒の比較的希薄な相とからなる特許
    請求の範囲第1項記載の装置。
  4. 【請求項4】再生している触媒の均一床が、再生触媒循
    環手段を介しライザ再生器の底部へ循環させた再生触媒
    の1部を含む特許請求の範囲第1項記載の装置。
  5. 【請求項5】再生している触媒の均一床が、上昇する再
    生触媒の流動パターンに対し向流の流動パターンで位置
    せしめた付加的な熱交換手段を備える特許請求の範囲第
    1項記載の装置。
  6. 【請求項6】炭化水素供給入口が、減圧手段の直下の個
    所に位置する特許請求の範囲第1項記載の装置。
  7. 【請求項7】上昇流ライザ再生器の頂部および接触下降
    流反応器の頂部と連通する接続分離手段が、 (i)前記上昇流ライザ再生器の頂部と連通する入口手
    段と; (ii)再生触媒を使用済み酸化ガスから分離するため、
    前記再生触媒を螺旋流路内でほぼ水平方向に加速する渦
    流排出管と; (iii)前記渦流排出管における使用済み酸化ガスを抜
    取るための使用済み酸化ガス排出手段と; (iv)前記渦流排出管の配置の端部に対向した前記分離
    手段における位置に配置された渦流安定器を備える円錐
    状流動制御手段であって、前記使用済み酸化ガスの螺旋
    状通路に前記円錐状流動制御手段の円錐形状を付与する
    よう位置せしめた円錐状流動制御手段と; (v)再生触媒の第2の比較的緻密な相と連通して再生
    触媒を前記接続分離手段から触媒の前記第2の比較的緻
    密な相まで移送する出口手段と を備える特許請求の範囲第1項記載の装置。
  8. 【請求項8】接触下降流反応器に載置した比較的緻密な
    再生触媒の相が水蒸気入口手段を備えて、水蒸気を前記
    触媒と共に前記接触下降流反応器に添加する特許請求の
    範囲第1項記載の装置。
  9. 【請求項9】スパイク状になった先端を有する、細い方
    尖塔(オベリスク)形状である流動方向制御手段を有す
    る特許請求の範囲第2項記載の装置。
  10. 【請求項10】減圧手段が空気圧摺動制御弁を備えて、
    下降流反応器の上部における比較的緻密な触媒床の圧力
    が、前記減圧手段に隣接した炭化水素触媒下降流反応器
    の頂部に存在する圧力よりも高いレベルに維持されるよ
    う確保する特許請求の範囲第1項記載の装置。
  11. 【請求項11】炭化水素供給原料を下降流接触反応器に
    てより小さい分子を有する炭化水素生成物質まで連続分
    解するに際し、 (a)前記炭化水素供給原料を長形の下降流反応器の頂
    部へ接触分解組成物の存在下に260〜815℃の温度、1〜
    50バールの圧力かつほぼ0の圧力低下で流入させて、0.
    5〜5秒の滞留時間内に前記炭化水素供給原料の分子を
    より小さい分子まで分解させると共に、前記炭化水素供
    給原料を前記反応器の出口方向へ下方向に流動させ、 (b)炭化水素生成物質とコークスが付着した使用済み
    触媒とを前記滞留時間の後に前記反応器の出口から抜取
    り、 (c)前記炭化水素生成物質を水平サイクロン分離器に
    て前記使用済み触媒から分離すると共に、前記炭化水素
    生成物質をこの工程から生成物質として抜取り、 (d)コークスが付着した前記使用済み触媒を前記水平
    サイクロン分離器からライザ上昇流再生器へ移送すると
    共に酸素含有ガスからなる再生ガスを添加し、 (e)温度上昇手段によって前記再生器の底部における
    温度を炭素燃焼速度温度に到達するよう上昇させると共
    に、前記ライザ再生器内に比較的緻密な急速流動する再
    生触媒の床を上昇流ライザ再生器のほぼ全長さにわたっ
    て維持することにより、再生触媒と使用済み再生ガスの
    蒸気相とを生ぜしめ、 (f)前記再生触媒と前記酸素含有ガスの存在下で前記
    コークスの酸化により形成した蒸気相とを遠心分離器に
    移送し、 (g)前記再生触媒を前記遠心分離器にて前記蒸気相か
    ら分離すると共にこの蒸気相をこの工程から抜取り、 (h)前記遠心分離器から分離された再生触媒を537〜9
    82℃の温度かつ1〜50バールの圧力に維持された緻密な
    触媒床に移送して、この触媒を前記緻密床内に2〜600
    秒の滞留時間にわたって残留させ、かつ (i)再生触媒を前記緻密床から前記下降流反応器の頂
    部へ移送して、この下降流反応器の頂部に流入する炭化
    水素供給原料と接触させ、前記緻密な触媒床における圧
    力を前記下降流反応器における圧力と比較して34.5ミリ
    バールより高くする ことを特徴とする炭化水素供給原料の連続分解方法。
  12. 【請求項12】下降流反応器の底部からの使用済み触媒
    を427〜649℃の温度で水蒸気と接触させて、炭化水素原
    料を前記使用済み触媒からストリッピングする特許請求
    の範囲第11項記載の方法。
  13. 【請求項13】ライザ再生器における緻密な触媒床から
    抜取った触媒を酸素含有再生ガスの二次流と接触させ
    て、再生程度を100ppm未満の一酸化炭素が前記ライザ再
    生器の頂部に存在するような程度まで向上させる特許請
    求の範囲第11項記載の方法。
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