JP2522550Y2 - 光ファイバ製造装置 - Google Patents
光ファイバ製造装置Info
- Publication number
- JP2522550Y2 JP2522550Y2 JP1990059277U JP5927790U JP2522550Y2 JP 2522550 Y2 JP2522550 Y2 JP 2522550Y2 JP 1990059277 U JP1990059277 U JP 1990059277U JP 5927790 U JP5927790 U JP 5927790U JP 2522550 Y2 JP2522550 Y2 JP 2522550Y2
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- Japan
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- optical fiber
- cooling
- cooling cylinder
- diameter
- resin
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- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本考案は、光ファイバの製造を行う光ファイバ製造装
置に関するものである。
置に関するものである。
［従来の技術］ 線引炉で線引きした光ファイバは、温度が高く、その
まま樹脂被覆器に通して樹脂を被覆しようとしても樹脂
の付きが悪い。このため、光ファイバを冷却した後、樹
脂被覆器に通す必要がある。
まま樹脂被覆器に通して樹脂を被覆しようとしても樹脂
の付きが悪い。このため、光ファイバを冷却した後、樹
脂被覆器に通す必要がある。
従来、光ファイバ製造時の線引き速度が120〜180m/分
程度では、自然室内空冷で冷却は十分であった。
程度では、自然室内空冷で冷却は十分であった。
しかし、線引き速度の増加と共に冷却された不活性ガ
スの如き冷却ガスによる光ファイバの強制冷却が行われ
てきている。これは、設備的限界から線引きタワーの高
さを高くして空冷距離を長くすることができないからで
ある。この場合、冷却効果は主に冷却ガスの熱伝導率に
依存しており、表−１に示すようにHeガスが安全性，熱
伝導率共に最も優れている。
スの如き冷却ガスによる光ファイバの強制冷却が行われ
てきている。これは、設備的限界から線引きタワーの高
さを高くして空冷距離を長くすることができないからで
ある。この場合、冷却効果は主に冷却ガスの熱伝導率に
依存しており、表−１に示すようにHeガスが安全性，熱
伝導率共に最も優れている。
このような強制冷却を伴う従来の光ファイバの製造
は、第２図及び第３図に示すような光ファイバ製造装置
により行っていた。即ち、この装置では、光ファイバ母
材１を線引炉２で加熱して光ファイバ3Aの線引きを行
い、得られた光ファイバ3Aの外径を外径測定器４を冷却
筒５内にその上部のアイリスシャッター６の光ファイバ
貫通口6Aを経て導き、該冷却筒５で冷却した光ファイバ
3Aを樹脂被覆器７に通してその表面に例えば紫外線硬化
樹脂の如き樹脂を被覆して光ファイバ心線3Bとなし、該
光ファイバ心線3Bを紫外線照射器の如き樹脂硬化器８に
通して表面の樹脂被覆層の硬化を行っていた。この場
合、冷却筒５は内筒体5Aと外筒体5Bとが同軸状に配置さ
れた構造となっていて、内筒体5A内には下部から上部に
Heガスの如き不活性ガスを冷却した冷却ガスを流し、外
筒体5Bと内筒体5Aとの間には冷却水の如き冷却液を流し
て光ファイバ3Aの冷却を行っていた。
は、第２図及び第３図に示すような光ファイバ製造装置
により行っていた。即ち、この装置では、光ファイバ母
材１を線引炉２で加熱して光ファイバ3Aの線引きを行
い、得られた光ファイバ3Aの外径を外径測定器４を冷却
筒５内にその上部のアイリスシャッター６の光ファイバ
貫通口6Aを経て導き、該冷却筒５で冷却した光ファイバ
3Aを樹脂被覆器７に通してその表面に例えば紫外線硬化
樹脂の如き樹脂を被覆して光ファイバ心線3Bとなし、該
光ファイバ心線3Bを紫外線照射器の如き樹脂硬化器８に
通して表面の樹脂被覆層の硬化を行っていた。この場
合、冷却筒５は内筒体5Aと外筒体5Bとが同軸状に配置さ
れた構造となっていて、内筒体5A内には下部から上部に
Heガスの如き不活性ガスを冷却した冷却ガスを流し、外
筒体5Bと内筒体5Aとの間には冷却水の如き冷却液を流し
て光ファイバ3Aの冷却を行っていた。
このような冷却筒５を用いる冷却方法とは別に、第４
図に示すような光ファイバ貫通口９を有する板状体10を
用いて、線引炉２から繰り出される光ファイバ3Aの表面
の熱空気層を引き剥がすことにより光ファイバ3Aの冷却
を行い、しかる後に樹脂被覆器７を通して樹脂の被覆を
行う光ファイバ製造装置も提案されている（特開昭63-2
30534号）。
図に示すような光ファイバ貫通口９を有する板状体10を
用いて、線引炉２から繰り出される光ファイバ3Aの表面
の熱空気層を引き剥がすことにより光ファイバ3Aの冷却
を行い、しかる後に樹脂被覆器７を通して樹脂の被覆を
行う光ファイバ製造装置も提案されている（特開昭63-2
30534号）。
［考案が解決しようとする課題］ しかしながら、第２図及び第３図に示すような従来の
光ファイバ製造装置で光ファイバの強制冷却を行って
も、線速が例えば300m/分を越えると、冷却効果が十分
でなくなり、樹脂被覆層の被覆肉厚が不安定になる問題
点があった。
光ファイバ製造装置で光ファイバの強制冷却を行って
も、線速が例えば300m/分を越えると、冷却効果が十分
でなくなり、樹脂被覆層の被覆肉厚が不安定になる問題
点があった。
また、第４図に示すような板状体10を用いて冷却を行
う従来の光ファイバ製造装置では、冷却を充分に行えな
い上に、例えば光ファイバ3Aが振動したりすると、該光
ファイバ3Aが板状体10の光ファイバ貫通口９の内周面に
接触し、光ファイバ3Aに損傷を与え、強度低下を招く問
題点があった。
う従来の光ファイバ製造装置では、冷却を充分に行えな
い上に、例えば光ファイバ3Aが振動したりすると、該光
ファイバ3Aが板状体10の光ファイバ貫通口９の内周面に
接触し、光ファイバ3Aに損傷を与え、強度低下を招く問
題点があった。
本考案の目的は、線引き速度の高速化に伴う冷却効率
の低下を防ぐことができる光ファイバ製造装置を提供す
ることにある。
の低下を防ぐことができる光ファイバ製造装置を提供す
ることにある。
［課題を解決するための手段］ 上記の目的を達成するための本考案の構成を説明する
と、本考案は光ファイバ母材を加熱して光ファイバの線
引きを行う線引炉と、前記線引炉で線引きされた前記光
ファイバの冷却を行う冷却筒と、前記冷却筒で冷却され
た前記光ファイバの表面に樹脂を被覆する樹脂被覆器と
を有し、前記冷却筒ではその内部に下部から供給された
冷却ガスを上昇させその過程で前記光ファイバの冷却を
行う光ファイバ製造装置において、 前記冷却筒の上端における光ファイバ貫通口の直径が
４〜10mmの範囲の大きさに定められ、 前記冷却筒の上端と下端を除いた中間部分の内径は前
記光ファイバ貫通口の内径より大きく形成されているこ
とを特徴とする。
と、本考案は光ファイバ母材を加熱して光ファイバの線
引きを行う線引炉と、前記線引炉で線引きされた前記光
ファイバの冷却を行う冷却筒と、前記冷却筒で冷却され
た前記光ファイバの表面に樹脂を被覆する樹脂被覆器と
を有し、前記冷却筒ではその内部に下部から供給された
冷却ガスを上昇させその過程で前記光ファイバの冷却を
行う光ファイバ製造装置において、 前記冷却筒の上端における光ファイバ貫通口の直径が
４〜10mmの範囲の大きさに定められ、 前記冷却筒の上端と下端を除いた中間部分の内径は前
記光ファイバ貫通口の内径より大きく形成されているこ
とを特徴とする。
［作用］ このように冷却筒の上端の光ファイバ貫通口の直径を
４〜10mmにすると、光ファイバの線引き速度が上昇して
も光ファイバの冷却を十分に行うことができる。
４〜10mmにすると、光ファイバの線引き速度が上昇して
も光ファイバの冷却を十分に行うことができる。
また、この光ファイバ製造装置では、冷却筒で内径が
小さくなっている部分は該冷却筒の上端と下端の光ファ
イバ貫通口だけであるので、光ファイバと接触する可能
性のある部分を最小限度に止めることができ、接触によ
る光ファイバの強度低下を可及的に回避することができ
る。
小さくなっている部分は該冷却筒の上端と下端の光ファ
イバ貫通口だけであるので、光ファイバと接触する可能
性のある部分を最小限度に止めることができ、接触によ
る光ファイバの強度低下を可及的に回避することができ
る。
［実施例］ 以下、本考案の実施例を図面を参照して詳細に説明す
る。
る。
本実施例の光ファイバ製造装置の概略構成は、第２図
及び第３図と同様である。
及び第３図と同様である。
このような光ファイバ製造装置で、冷却筒５の上端の
アイリスシャッター６の光ファイバ貫通口6Aの直径即ち
アイリス径（mm）と、該光ファイバ貫通口6Aから抜ける
Heガス（冷却ガス）の流量（l/分）とを表−２のように
変え、線速200m/分の条件で冷却を行ったときのプライ
マリ樹脂被覆層の直径即ちプライマリ径（μｍ）の変化
についての実験を行ったところ、第１図に示すような結
果が得られた。
アイリスシャッター６の光ファイバ貫通口6Aの直径即ち
アイリス径（mm）と、該光ファイバ貫通口6Aから抜ける
Heガス（冷却ガス）の流量（l/分）とを表−２のように
変え、線速200m/分の条件で冷却を行ったときのプライ
マリ樹脂被覆層の直径即ちプライマリ径（μｍ）の変化
についての実験を行ったところ、第１図に示すような結
果が得られた。
なお，第１図において，実線ａはHeガスを流して冷却
効果ありの場合のプライマリ径の変化、１点鋭線ｂはHe
ガスを流さず冷却効果なしの場合のプライマリ径の状態
を示す。
効果ありの場合のプライマリ径の変化、１点鋭線ｂはHe
ガスを流さず冷却効果なしの場合のプライマリ径の状態
を示す。
該第１図から明らかなように、Heガスを流したときの
アイリス径が10mmまでは冷却が良好である。一方、アイ
リル径が4mm以下では、光ファイバ3Aの強度が低下し易
く、実用的でない。
アイリス径が10mmまでは冷却が良好である。一方、アイ
リル径が4mm以下では、光ファイバ3Aの強度が低下し易
く、実用的でない。
そこで、本実施例の光ファイバ製造装置では、冷却筒
５の上端における光ファイバ貫通口6Aの直径が４〜10mm
の範囲の大きさに定められ、冷却筒５の上端と下端を除
いた中間部分の内径は第２図に示すように光ファイバ貫
通口6Aの内径より大きく形成されている。
５の上端における光ファイバ貫通口6Aの直径が４〜10mm
の範囲の大きさに定められ、冷却筒５の上端と下端を除
いた中間部分の内径は第２図に示すように光ファイバ貫
通口6Aの内径より大きく形成されている。
また、本考案で冷却ガスは、Heに限定されるものでは
なく、例えばAr,N2,CO2,CCl2F2,CCHF2,Xe等の不活性ガ
ス等でも同様の効果を得ることができる。
なく、例えばAr,N2,CO2,CCl2F2,CCHF2,Xe等の不活性ガ
ス等でも同様の効果を得ることができる。
［考案の効果］ 以上説明したように本考案に係る光ファイバ製造装置
では、冷却筒の上端の光ファイバ貫通口の直径を４〜10
mmの範囲にしたので、光ファイバの線引き速度が上昇し
ても光ファイバの冷却効率が上昇し、光ファイバを十分
に冷却することができる。このため、光ファイバの線速
が上昇しても樹脂の被覆を良好に行うことができる。
では、冷却筒の上端の光ファイバ貫通口の直径を４〜10
mmの範囲にしたので、光ファイバの線引き速度が上昇し
ても光ファイバの冷却効率が上昇し、光ファイバを十分
に冷却することができる。このため、光ファイバの線速
が上昇しても樹脂の被覆を良好に行うことができる。
また、この光ファイバ製造装置では、冷却筒で内径が
小さくなっている部分は該冷却筒の上端と下端の光ファ
イバ貫通口だけであるので、光ファイバと接触する可能
性のある部分を最小限度に止めることができ、光ファイ
バが冷却筒に接触することにより該光ファイバに強度低
下を招く確率が小さくなり、実用化が容易となる利点が
ある。
小さくなっている部分は該冷却筒の上端と下端の光ファ
イバ貫通口だけであるので、光ファイバと接触する可能
性のある部分を最小限度に止めることができ、光ファイ
バが冷却筒に接触することにより該光ファイバに強度低
下を招く確率が小さくなり、実用化が容易となる利点が
ある。
第１図は冷却ありと冷却なしの各場合におけるアイリス
径の変化に対するプライマリ径の変化の例を示す線図、
第２図は光ファイバ製造装置の一例の概略構成を示す縦
断面図、第３図は第２図の冷却筒の横断面図、第４図は
従来の板状体の平面図である。 １……光ファイバ母材、２……線引炉、3A……光ファイ
バ、3B……光ファイバ心線、６……アイリスシャッタ
ー、6A……光ファイバ貫通口、７……樹脂被覆器、８…
…樹脂硬化器。
径の変化に対するプライマリ径の変化の例を示す線図、
第２図は光ファイバ製造装置の一例の概略構成を示す縦
断面図、第３図は第２図の冷却筒の横断面図、第４図は
従来の板状体の平面図である。 １……光ファイバ母材、２……線引炉、3A……光ファイ
バ、3B……光ファイバ心線、６……アイリスシャッタ
ー、6A……光ファイバ貫通口、７……樹脂被覆器、８…
…樹脂硬化器。
Claims (1)
- 【請求項１】光ファイバ母材を加熱して光ファイバの線
引きを行う線引炉と、前記線引炉で線引された前記光フ
ァイバの冷却を行う冷却筒と、前記冷却筒で冷却された
前記光ファイバの表面に樹脂を被覆する樹脂被覆器とを
有し、前記冷却筒ではその内部に下部から供給された冷
却ガスを上昇させその過程で前記光ファイバの冷却を行
う光ファイバ製造装置において、 前記冷却筒の上端における光ファイバ貫通口の直径が４
〜10mmの範囲の大きさに定められ、 前記冷却筒の上端と下端を除いた中間部分の内径は前記
光ファイバ貫通口の内径より大きく形成されていること
を特徴とする光ファイバ製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1990059277U JP2522550Y2 (ja) | 1990-06-05 | 1990-06-05 | 光ファイバ製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1990059277U JP2522550Y2 (ja) | 1990-06-05 | 1990-06-05 | 光ファイバ製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0418627U JPH0418627U (ja) | 1992-02-17 |
| JP2522550Y2 true JP2522550Y2 (ja) | 1997-01-16 |
Family
ID=31585632
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1990059277U Expired - Fee Related JP2522550Y2 (ja) | 1990-06-05 | 1990-06-05 | 光ファイバ製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2522550Y2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2547806B2 (ja) * | 1988-01-27 | 1996-10-23 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバの冷却方法及びその装置 |
-
1990
- 1990-06-05 JP JP1990059277U patent/JP2522550Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0418627U (ja) | 1992-02-17 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |