JP2515351B2 - 罐端部に粘着性の密閉剤を付着させる装置 - Google Patents

罐端部に粘着性の密閉剤を付着させる装置

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JP2515351B2 JP62290433A JP29043387A JP2515351B2 JP 2515351 B2 JP2515351 B2 JP 2515351B2 JP 62290433 A JP62290433 A JP 62290433A JP 29043387 A JP29043387 A JP 29043387A JP 2515351 B2 JP2515351 B2 JP 2515351B2
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Description

【発明の詳細な説明】 イ．産業上の利用分野 本発明は実質的に平坦な表面、特に罐端部、に対して
環状の形を以て粘着性の密閉剤を付着させる装置であつ
て、材料移転ヘツドの上自由端に設けられた概ね水平の
環状移転面と、前記材料移転ヘツドに設けられて前記移
転面に向かつて開口する出口であつて連続的に作動する
ポンプから前記密閉剤を給送されるものと、前記材料移
転ヘツドに設けられて前記移転面によつて包囲される頂
の開いた内部であつて過剰密閉剤のための復流管と接続
されているものと、それによつて前記罐端部が前記移転
面に対して垂直方向に運動し得る移転装置とを有するも
のに係る。
ロ．従来の技術 前記形式の装置はドイツ特許公報第2421315号から既
知である。それに対して密閉剤が付着される罐端部は、
少なくとも１個の帽子型の開放タブであつてヒンジ区域
を残して前記罐端部から部分ポンチングによつて形成さ
れたものと、部分的にポンチングによつて画成された相
対的穴とを有する。開放タブ及び、または、罐端部を包
囲する穴の区域は、該穴の縁区域が罐端外側において前
記開放タブの縁区域とオーバーラツプするように常温成
形されている。開放タブを罐端部に対して密閉しそして
外部から働く小さい力の下においてすら開放タブの意図
せざる開放を防止するために、前記密閉剤、通常はプラ
スチゾル、は罐端内側において前記開放タブ及び穴の縁
区域に付着されなくてはならない。この密閉剤は爾後加
熱されてゼリー状に固化される。
前記既知装置の作動は、密閉剤が下方から前記移転面
に対して、密閉リングを形成するのに実際上必要とされ
る量より多い量を以て、連続的にポンプによつて圧送さ
れるようにして行われる。材料の過剰量は部分的に内側
に流れて前記内部内に入りそしてそこから復流管を通じ
てリザーバ内に戻り、そして部分的に材料移転ヘツドの
外側に沿つて下方へ流れて前記移転ヘツドを包囲する回
収トラフ内に入り、そしてそこから前記リザーバへ戻
る。前記開放タブ及び穴の縁区域へ密閉剤を環状の形で
移転するために、その内側を下に向けて水平に位置され
る前記罐端部は、前記移転装置によつて前記移転面に向
かつて接近され、そしてその後、再び上昇されて前記移
転面を離れる。かくのごとき作動によつて、比較的多量
の密閉剤が環状の形で罐端内側に、言うなれば、捺印さ
れる。前記移転面から離れるように罐端部を上昇させる
とき、最初、罐端内側に付着している密閉剤は前記移転
面に存在する密閉剤に接合したままの状態になつてい
る。罐端部の上昇間、ホース状の密閉剤が形成され、該
ホースは前記材料移転ヘツドからの罐端部の距離が増大
するにつれて次第に薄くなり、そして該密閉剤の組成に
応じる特定上昇距離ののちに裂断する。前記ホースが裂
断するとき、付着した密閉剤リングから下垂する残存ホ
ースは最初閉じて半球状ブリスタ（泡状態）になつて下
垂し、その最深点に滴が形成されることが現在判明して
いる。最終的に、前記半球状ブリスタは破裂しそして、
破裂時に、該半球状ブリスタの材料は飛散する。この飛
散密閉剤は罐端内側面に飛沫の形で集まるだけでなく、
前記材料移転ヘツド、その周辺及び後続作業区域を汚染
する。そのような汚染物質は毎分当り塗着回数300以上
の塗着速度において厚く累積するから、これら汚染物質
は故障及び作業中断時間の増加を招来する可能性があ
る。これに加えて、材料移転ヘツドの外側に流れ出る密
閉剤もまた故障の原因になり得る。実際上、この密閉剤
はリングの形で材料移転ヘツドを包囲する回収トラフに
よつて収集されるが、このトラフは占有空間の理由から
極めて浅く設計されておりそして僅少の傾斜を有するに
過ぎない。従つて、密閉剤は、特にもしそれが比較的多
量に材料移転ヘツドの外側に流れ出るならば、前記回収
トラフに渋滞を生じさせて、密閉剤の溢出を招く。
ハ．発明が解決しようとする問題点 従つて、本発明は実質的に平坦な表面、特に冒頭に言
及されたタイプの罐端部、に粘着性の密閉剤を環状の形
で付着させるための装置であつて、密閉剤の飛散を伴わ
ない供給を可能にするとともに回収トラフにおける密閉
剤による渋滞並びに材料移転ヘツドに隣接する機械部品
の汚染を防止し得るものを提供する問題に指向される。
ニ．問題点を解決するための手段 本発明に従つて、前記問題は、前記材料移転ヘツドの
内部が真空給源に恒久的に接続されることによつて解決
される。この簡単な手段によつて、罐端内側における半
球状ブリスタの形成と、それから結果する密閉剤の飛散
は効果的に防止される。また、前記内部に存剤する真空
は、罐端部を前記移転面から離れるように上昇させる
間、前記密閉剤ホースの内部へ伝播し、その結果、該ホ
ースは前述したごとき半球状ブリスタを形成することな
く、比較的短い上昇距離運動したのち裂断し得る。該ホ
ースの裂断に伴つて、たとえ密閉剤の飛滴が発生して
も、それらは真空によつて前記内部に吸引され、従つ
て、材料移転ヘツドを包囲する機械部品及び該ヘツドに
隣接する機械部品の汚染を防止する。それに加えて、前
記永久真空によつて、前記移転面から連続的に出現する
過剰密閉剤はとりわけ前記内部に吸引される。このこと
は、また、過剰の材料が材料移転ヘツドの外側に流れ出
て前記回収トラフ内における密閉剤による渋滞を生じさ
せる可能性をも無くする。
本発明の有利な諸構成は、前掲特許請求の範囲におけ
る従属請求の範囲に特徴的に記載されている。
以下、添付図面に示される実施例に基づいて、より詳
細に本発明を説明する。
ホ．実施例 材料移転ヘツド１は、実質的に、下方へ向かつて少し
膨張する環状横断面を有する外スリーブ２と、該外スリ
ーブ２から少し離されてそれに対して同心に配置された
内管３とから構成される。該外スリーブ２と内管３との
間には環状の材料通路４が画成される。前記外スリーブ
２の上口2aと前記内管３の上口3aは協働して移転面を構
成する。前記材料通路４は前記移転面即ち上口2a,3aに
向かつて開いており、そして通路孔５を介して下方に向
かつて接続されている。第１図に概略的に図示されるよ
うに、前記通路孔５は、リザーバ６からプラスチゾルの
ごとき密閉剤を受取るポンプP1を通じて補給管７を介し
て密閉剤を補給される。前記ポンプP1は連続的に作動し
て、密閉剤を連続的に圧縮し、それを環状の前記材料通
路４を通じてやはり環状の前記移転面即ち上口2a,3aへ
送る。
前記内管３は開頂内部８を有する。さらに、前記内管
３は復流管９を通じてリザーバ10と接続される。真空ポ
ンプP2と接続された真空管11が前記リザーバ10と接続さ
れている。前記真空管11は図面においては一点鎖線によ
つて表される最高可能材料レベル19の上方において前記
リザーバ10内で終端している。
前記リザーバ10内で生じた真空が、前記復流管９を通
じて、前記内管３の上端、即ち前記内部８、に達するま
で持続されることを保証するため、該内部８の横断面及
び前記復流管９の横断面は、前記内部８と前記復流管９
とを通じて流れ戻る密閉剤横断面より実質的に大きくさ
れることが効果的である。
さらに、前記材料移転ヘツド１は、前記外スリーブ２
の外側に恐らく流れ落ちる密閉剤を回収するのに役立つ
回収トラフ12によつて包囲されている。該回収トラフ12
は前記リザーバ６に、または図示されない他のリザーバ
に、またはもし必要ならば、復流管13を通じて前記リザ
ーバ10に、持続される。
さらに、第１図には少なくとも１個、通常は２個、の
帽子型の開放タブ15を有する罐端部14が図示される。前
記開放タブ15はヒンジ区域を残して罐端部14からポンチ
ングによつて形成され、その結果、穴16が画成されてい
る。前記開放タブ15及び、または、穴16を包囲する端区
域は、穴16の縁区域17が罐端外側において前記開放タブ
15の縁区域15aとオーバーラツプするように常温成形さ
れている。罐端部14に対して前記開放タブ15を密閉する
ためには、密閉剤が罐端内側14aから、即ち下から、前
記縁区域15a,17に対してリング形状で付着されなくては
ならない。この目的のため、前記罐端部14を保持し、そ
れを前記移転ヘツド１に接近させ、そして前記密閉剤を
リング状に移転した後、それを再び前記移転ヘツド１か
ら離脱させるための移動装置18が配設される。
以下、本発明装置の作動について説明する。
ポンプP1を通じて密閉剤Ｄが下から前記材料移転ヘツ
ド１の材料通路４を通じて該ヘツド１の移転面2a,3aま
で連続的に圧送される。これにより供給される密閉剤の
量は、密閉リングを形成するのに実際上必要とされるそ
れよりも大きい。前記ポンプP2によつて、真空が前記リ
ザーバ10内に恒久的に発生し、該真空は前記復流管９を
介して前記内部８に達するまで持続する。経験に従え
ば、該リザーバ10内の真空は、前記内部８が閉鎖された
状態で測定されたとき、約−0.1バールであるべきであ
る。しかし、通常は、前記内部８は開いており、該内部
８の真空は矢印によつて表されるように下方へ指向され
る空気流を生じさせる。この空気流によつて、前記移転
面2a,3aの頂において材料通路４から脱出する密閉剤は
とりわけ前記内部８内に吸込まれ、そして前記復流管９
を介して前記リザーバ10へ返送される。これによつて、
密閉剤はもはや前記スリーブ２に沿つて流れ落ちず、ま
たは、ほとんど流れ落ちない。
密閉剤が前記移転面2a,3aから連続的に出現してそこ
に密閉剤から成る環状リツジＷを形成するのに対し、前
記罐端部14は前記移転装置18によつて方向Ａへ下降され
る。前記移転装置18の下降運動は、図示されていないス
トツパによつて、前記罐端部14が、第２図に示されるよ
うに、前記移転面2a,3aの上方僅少距離内に位置された
状態になるように停止される。これにより、前記環状密
閉剤リツジＷの主要部分は前記罐端部14の縁区域15a,17
へ移転される。その後、前記移転装置18は再び上方へ方
向Ｂに運動し、従つて前記罐端部14は材料移転ヘツド１
から離脱される。前記移転面2a,3aからの罐端部14の上
昇時、罐端部内側に環形に付着している密閉剤Ｒは、最
初、前記移転面2a,3a上の密閉剤リツジＷに接合したま
まである。罐端部14の上昇間、密閉剤のホースＳが形成
される。前記リザーバ10内と前記内部８内とに存在する
真空は前記ホースＳの内部へ伝播し、それにより、前記
ホースＳの壁は内側へ引張られて裂断する。前記密閉剤
ホースＳの裂断は、方向Ｂへの極めて短い上昇距離の後
に既に生じる。密閉剤の小滴を形成する前記ホースＳの
残存部は直ちに真空によつて内部８内に吸引される。従
つて、それらは罐端内側14aの下面に到達し得ず、該内
部に集まる。同時に、密閉剤の小滴は材料移転ヘツド１
の外側に沿つて落下することを阻止される。従つて該材
料移転ヘツド１及びその他の隣接機械部分は清潔な状態
に止どまる。真空の使用が行われないならば、前記密閉
剤ホースＳはより長い上昇距離以前には裂断しないであ
ろう。下端面に残留したホース残存物は、すべて、第４
図に一点鎖線によつて示されるごとく、密閉剤リングＲ
から始まる半球上ブリスタ（泡状体）Ｈを形成し、その
最低点に密閉剤の滴Ｔが集結する。前記半球状ブリスタ
Ｈの爾後の破裂時に、前記密閉剤の複数の滴が形成さ
れ、該滴は部分的に落下して前記材料移転ヘツド１を汚
染し、または罐端部14が前進する場合において、隣接機
械部品を汚染する。これに加えて、前記滴の若干は罐端
内側14aに集まる。しかし、真空を使用することによつ
て、前記密閉剤ホースＳは、より詳細に既に説明された
ように、極めて初期に既に裂断されており、従つて、記
述半球状ブリスタの形成が回避され得る。
前記外スリーブ２の外側における密閉剤の溢流を確実
に阻止するために、前記材料移転ヘツド１は、前記外ス
リーブ２の上口2aが、前記内管３の上口3aに対して、百
分の数mm、好ましくは約0.05mm、上方へ突出するように
設計されるのが効果的である。この手段により、前記内
部８内において恒久的に働く真空に支持されて、外スリ
ーブ２の外側における密閉剤の溢出は確実に防止され
る。
以上説明されたごとき実施例においては、その全円周
に沿つて実質的に同じ幅と厚さとを有する密閉剤のリン
グが使用される。しかし、脆弱な密閉材料の場合、該密
閉剤のリングが前記ヒンジ区域と対向する開放タブの部
分において、より大きい幅及び、または、厚さを有する
ことが、前記リングの可撓性を増すのに役立ち得る。何
故ならば、該部分においては、前記密閉剤のリングは罐
の内部圧力に起因する最大応力下に在り、それは特に低
温殺菌処理間において比較的高いからである。
【図面の簡単な説明】
第１図は罐端部と移転装置が出発位置に在るときの材料
移転ヘツドの縦断面図である。 第２図は材料移転ヘツド及び移転位置に在る罐端部を示
す縦断面図である。 第３図は材料移転ヘツド及び材料移転後の中間位置に在
る罐端部を示す縦断面図である。 第４図は材料移転ヘツド及び最終位置に在る罐端部を示
す縦断面図である。 図面上、１……材料移転ヘツド、２……外スリーブ、３
……内管、４……材料通路、6,10……リザーバ、９……
復流管、８……内部、11……真空管、12……回収トラ
フ、14……罐端部、15……開放タブ、16……穴、15a,17
……縁区域、2a,3a……上口、Ｄ……密閉剤、P2……真
空ポンプ、P1……ポンプ。

Claims (7)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】実質的に平坦な表面、特に罐端部、に対し
    て環状の形を以て粘着性の密閉剤を付着させる装置であ
    って、材料転移ヘッドの上自由端に設けられた概ね水平
    の環状移転面と、前記材料移転ヘッドに設けられて前記
    移転面に向かって開口する通路であって連続的に作動す
    るポンプ装置から密閉剤を給送されるものと、前記材料
    移転ヘッドに設けられて前記移転面によっ包囲される頂
    の開いた内部であって過剰密閉剤のための復流管がそれ
    に接続されるものと、それによって前記罐端部が前記移
    転面に対して垂直方向に運動し得る移転装置とを有する
    ものにおいて、前記材料移転ヘッド（１）の内部（８）
    が真空給源（P2）に恒久的に接続されていることを特徴
    とする罐端部に粘着性の密閉剤を付着させる装置。
  2. 【請求項２】特許請求の範囲第１項記載の装置におい
    て、前記内部（８）が復流管（９）によって前記真空給
    源（P2）と接続されていることを特徴とする装置。
  3. 【請求項３】特許請求の範囲第１項または第２項記載の
    装置において、前記内部（８）の横断面及びリザーバ
    （10）と接続された前記復流管（９）の横断面が、流れ
    戻る密閉剤の横断面より実質的に大きく、そして真空管
    （11）が前記リザーバ（10）を前記真空給源（P2）に接
    続しそして最高可能材料レベル（19）の上方において前
    記リザーバ（10）内で終端することを特徴とする装置。
  4. 【請求項４】特許請求の範囲第３項記載の装置におい
    て、前記リザーバ（10）内の真空が、前記内部（８）の
    閉鎖時において約−0.1バールであることを特徴とする
    装置。
  5. 【請求項５】特許請求の範囲第１項記載の装置におい
    て、前記材料移転ヘッド（１）が内管（３）と、該内管
    から少し離されてそれに対して同心に配置された外スリ
    ーブ（２）とを有し、その結果、前記内管とスリーブと
    の間に環状の材料通路（４）が画成され、そして前記内
    管（３）の内部（８）が前記真空給源（P2）に接続され
    ていることを特徴とする装置。
  6. 【請求項６】特許請求の範囲第５項記載の装置におい
    て、前記外スリーブ（２）の上口（2a）が、前記内管
    （３）の上口（3a）に対して百分の数mm上方へ突出して
    いることを特徴とする装置。
  7. 【請求項７】特許請求の範囲第６項記載の装置におい
    て、前記外スリーブ（２）の上口（2a）が前記内管
    （３）の上口（3a）に対して約0.05mm上方へ突出してい
    ることを特徴とする装置。
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