JP2514682B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents
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Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は,オーディォテープ,ビデオテープ,コンピ
ューターテープ,磁気ディスク,フロッピーディスク,
磁気カードなどとして用いられる磁気記録媒体の改良に
関し,さらに詳しくは,放射線照射により硬化するバイ
ンダーを用いた磁気記録媒体に関する。
ューターテープ,磁気ディスク,フロッピーディスク,
磁気カードなどとして用いられる磁気記録媒体の改良に
関し,さらに詳しくは,放射線照射により硬化するバイ
ンダーを用いた磁気記録媒体に関する。
(従来の技術) 近年,磁気記録媒体においては,放射線硬化性樹脂を
磁性粉およびその他の必要成分とともに混合分散して磁
性塗料を調製し,得られた磁性塗料を支持体上に塗布,
乾燥させた後,放射線を照射し,樹脂を硬化させて磁性
層を形成することが行なわれている。
磁性粉およびその他の必要成分とともに混合分散して磁
性塗料を調製し,得られた磁性塗料を支持体上に塗布,
乾燥させた後,放射線を照射し,樹脂を硬化させて磁性
層を形成することが行なわれている。
そして,これら放射線硬化性樹脂として,塩化ビニル
−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体などの水酸基
を有する塩化ビニル系共重合体に,エチレン不飽和基を
有するモノイソシアネート化合物,たとえばトリレンジ
イソシアネート1モルと2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート1モルとのアダクト体などを反応させて得られる
エチレン不飽和二重結合を有する樹脂が使用されてい
る。しかしながら,これらのウレタン結合を介してエチ
レン不飽和二重結合を有する塩化ビニル系共重合体をバ
インダーとして用いた磁気記録媒体は,摩擦係数が高
く,耐摩耗性,分散性,配向性などが不充分であるとい
う欠点があった。
−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体などの水酸基
を有する塩化ビニル系共重合体に,エチレン不飽和基を
有するモノイソシアネート化合物,たとえばトリレンジ
イソシアネート1モルと2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート1モルとのアダクト体などを反応させて得られる
エチレン不飽和二重結合を有する樹脂が使用されてい
る。しかしながら,これらのウレタン結合を介してエチ
レン不飽和二重結合を有する塩化ビニル系共重合体をバ
インダーとして用いた磁気記録媒体は,摩擦係数が高
く,耐摩耗性,分散性,配向性などが不充分であるとい
う欠点があった。
(発明が解決しようとする課題) 本発明は,上記の種々の欠点を改良したもので,分散
性,配向性,耐摩耗性,耐摩擦性などにすぐれた磁気記
録媒体を提供するものである。
性,配向性,耐摩耗性,耐摩擦性などにすぐれた磁気記
録媒体を提供するものである。
(課題を解決するための手段) 本発明は,水酸基を有する塩化ビニル系共重合体
(A),環状酸無水物(B),およびエチレン不飽和二
重結合を有するエポキシモノマー(C)を反応させて得
られるエチレン不飽和二重結合を有する放射線硬化性樹
脂と磁性粉とを含む磁性層を支持体上に設け,放射線照
射により硬化させてなる磁気記録媒体である。
(A),環状酸無水物(B),およびエチレン不飽和二
重結合を有するエポキシモノマー(C)を反応させて得
られるエチレン不飽和二重結合を有する放射線硬化性樹
脂と磁性粉とを含む磁性層を支持体上に設け,放射線照
射により硬化させてなる磁気記録媒体である。
本発明において,水酸基を有する塩化ビニル系共重合
体(A)としては,塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルア
ルコール共重合体,塩化ビニル−ビニルアルコール共重
合体,塩化ビニル−プロピオン酸ビニル−ビニルアルコ
ール共重合体,塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコ
ール−マレイン酸共重合体,塩化ビニル−ヒドロキシア
ルキル(メタ)アクリレート共重合体,塩化ビニル−ヒ
ドロキシアルキル(メタ)アクリレート−マレイン酸共
重合体,塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール−
グリシジル(メタ)アクリレート共重合体などがある。
これらの中でも,塩化ビニル系共重合体(A)中の水酸
基の数が,分子量1000あたり,0.1〜10個,特に0.3〜5
個のものを用いることが好ましい。
体(A)としては,塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルア
ルコール共重合体,塩化ビニル−ビニルアルコール共重
合体,塩化ビニル−プロピオン酸ビニル−ビニルアルコ
ール共重合体,塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコ
ール−マレイン酸共重合体,塩化ビニル−ヒドロキシア
ルキル(メタ)アクリレート共重合体,塩化ビニル−ヒ
ドロキシアルキル(メタ)アクリレート−マレイン酸共
重合体,塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール−
グリシジル(メタ)アクリレート共重合体などがある。
これらの中でも,塩化ビニル系共重合体(A)中の水酸
基の数が,分子量1000あたり,0.1〜10個,特に0.3〜5
個のものを用いることが好ましい。
本発明において,環状酸無水物(B)としては,飽和
または不飽和の脂肪族ジカルボン酸無水物,芳香族ジカ
ルボン酸無水物,脂環式ジカルボン酸無水物などであ
り,これらは飽和または不飽和の炭化水素基,アリール
基,ハロゲン基,ヘテロ環基などで置換されていてもよ
い。このような環状酸無水物としては,無水マレイン
酸,無水フタル酸,無水1,2−シクロヘキサンジカルボ
ン酸,無水イタコン酸,無水グルタル酸,無水コハク
酸,無水メチルハイミック酸,テトラクロル無水フタル
酸,無水ヘット酸などをあげることができ,また,無水
トリメリット酸を使用することもできる。
または不飽和の脂肪族ジカルボン酸無水物,芳香族ジカ
ルボン酸無水物,脂環式ジカルボン酸無水物などであ
り,これらは飽和または不飽和の炭化水素基,アリール
基,ハロゲン基,ヘテロ環基などで置換されていてもよ
い。このような環状酸無水物としては,無水マレイン
酸,無水フタル酸,無水1,2−シクロヘキサンジカルボ
ン酸,無水イタコン酸,無水グルタル酸,無水コハク
酸,無水メチルハイミック酸,テトラクロル無水フタル
酸,無水ヘット酸などをあげることができ,また,無水
トリメリット酸を使用することもできる。
本発明において,エチレン不飽和二重結合を有するエ
ポキシモノマー(C)としては,グリシジル(メタ)ア
クリレート,グリシジルシンナメート,アリルグリシジ
ルエーテル,ビニルシクロヘキサンモノエポキサイド,
1,3−ブタジエンモノエポキサイドなどがあり,これら
は飽和または不飽和の炭化水素基,アリール基,ハロゲ
ン基,ヘテロ環基などで置換されていてもよい。
ポキシモノマー(C)としては,グリシジル(メタ)ア
クリレート,グリシジルシンナメート,アリルグリシジ
ルエーテル,ビニルシクロヘキサンモノエポキサイド,
1,3−ブタジエンモノエポキサイドなどがあり,これら
は飽和または不飽和の炭化水素基,アリール基,ハロゲ
ン基,ヘテロ環基などで置換されていてもよい。
水酸基を有する塩化ビニル系共重合体(A),環状酸
無水物(B)およびエチレン不飽和二重結合を有するエ
ポキシモノマー(C)の反応においては,先ず,塩化ビ
ニル共重合体(A)中の水酸基と環状酸無水物(B)の
酸無水物基とが優先的に反応し,次いでこの反応によっ
て生じたカルボキシル基とエポキシモノマー(C)のエ
ポキシ基とが反応し,二級の水酸基を生じ,生じた二級
の水酸基と環状酸無水物(B)の酸無水物基とが反応
し,生じたカルボキシル基とエポキシモノマー(C)の
エポキシ基とが反応するというように,順次,同様の反
応を連鎖的にくりかえしていくので,塩化ビニル系共重
合体(A)中の水酸基の数,および環状酸無水物(B)
およびエポキシモノマー(C)のモル数を適宜選ぶこと
により,塩化ビニル系共重合体(A)に所望の長さの分
岐鎖を導入することができる。このように,本発明にお
ける放射線硬化性樹脂は,用いられる塩化ビニル系共重
合体(A)の種類および水酸基の数,環状酸無水物
(B)の種類および量,ならびにエポキシモノマー
(C)の種類および量によって自由に設計することがで
きる。また,用いられる塩化ビニル系共重合体(A)の
水酸基数m,環状酸無水物(B)のモル数n,およびエポキ
シモノマー(C)のモル数lとの間には,環状酸無水物
(B)がジカルボン酸無水物の場合には,n≒lという関
係があればよく,m≦n≒lとすることもでき,この場
合,塩化ビニル系共重合体(A)中の水酸基の一部は未
反応のままであることもある。
無水物(B)およびエチレン不飽和二重結合を有するエ
ポキシモノマー(C)の反応においては,先ず,塩化ビ
ニル共重合体(A)中の水酸基と環状酸無水物(B)の
酸無水物基とが優先的に反応し,次いでこの反応によっ
て生じたカルボキシル基とエポキシモノマー(C)のエ
ポキシ基とが反応し,二級の水酸基を生じ,生じた二級
の水酸基と環状酸無水物(B)の酸無水物基とが反応
し,生じたカルボキシル基とエポキシモノマー(C)の
エポキシ基とが反応するというように,順次,同様の反
応を連鎖的にくりかえしていくので,塩化ビニル系共重
合体(A)中の水酸基の数,および環状酸無水物(B)
およびエポキシモノマー(C)のモル数を適宜選ぶこと
により,塩化ビニル系共重合体(A)に所望の長さの分
岐鎖を導入することができる。このように,本発明にお
ける放射線硬化性樹脂は,用いられる塩化ビニル系共重
合体(A)の種類および水酸基の数,環状酸無水物
(B)の種類および量,ならびにエポキシモノマー
(C)の種類および量によって自由に設計することがで
きる。また,用いられる塩化ビニル系共重合体(A)の
水酸基数m,環状酸無水物(B)のモル数n,およびエポキ
シモノマー(C)のモル数lとの間には,環状酸無水物
(B)がジカルボン酸無水物の場合には,n≒lという関
係があればよく,m≦n≒lとすることもでき,この場
合,塩化ビニル系共重合体(A)中の水酸基の一部は未
反応のままであることもある。
反応に用いられるエポキシモノマー(C)の量は,分
子量1000あたりエチレン不飽和二重結合数が0.02〜6
個,好ましくは0.1〜3個となるようにすることが架橋
密度と物性バランスの上で好ましい。すなわち,分子量
1000あたりのエチレン不飽和二重結合数が0.02個未満で
は架橋密度が若干低くなる傾向があり,また,6個を超え
ると架橋密度は高くなるものの,硬化後の磁性層が脆く
なる傾向があり,得られる磁気記録媒体の耐摩耗性や耐
摩擦性が低くなることがある。
子量1000あたりエチレン不飽和二重結合数が0.02〜6
個,好ましくは0.1〜3個となるようにすることが架橋
密度と物性バランスの上で好ましい。すなわち,分子量
1000あたりのエチレン不飽和二重結合数が0.02個未満で
は架橋密度が若干低くなる傾向があり,また,6個を超え
ると架橋密度は高くなるものの,硬化後の磁性層が脆く
なる傾向があり,得られる磁気記録媒体の耐摩耗性や耐
摩擦性が低くなることがある。
本発明においてエチレン不飽和二重結合を有する放射
線硬化性樹脂は,塩化ビニル系共重合体(A)を必要に
応じて反応に関与しない公知の有機溶剤に溶解し,ちっ
素ガス雰囲気中,公知の触媒,たとえば水酸化アルミニ
ウム,水酸化カリウム,リチウムクロライド,トリエチ
ルアミン,テトラ(n−ブトキシ)チタン,N,N−ジメチ
ルベンジノアミンなどの存在下,環状無水物(B)およ
びエポキシモノマー(C)を反応させて製造することが
できる。また,製造に際しては,公知のラジカル重合禁
止剤,例えばハイドロキノン,モノメトキシハイドロキ
ノンなどを用いることが好ましい。
線硬化性樹脂は,塩化ビニル系共重合体(A)を必要に
応じて反応に関与しない公知の有機溶剤に溶解し,ちっ
素ガス雰囲気中,公知の触媒,たとえば水酸化アルミニ
ウム,水酸化カリウム,リチウムクロライド,トリエチ
ルアミン,テトラ(n−ブトキシ)チタン,N,N−ジメチ
ルベンジノアミンなどの存在下,環状無水物(B)およ
びエポキシモノマー(C)を反応させて製造することが
できる。また,製造に際しては,公知のラジカル重合禁
止剤,例えばハイドロキノン,モノメトキシハイドロキ
ノンなどを用いることが好ましい。
本発明において磁性粉としては,γ−Fe2O3,Fe3O4,γ
−Fe2O3とFe3O4との混晶,コバルトをドープしたγ−Fe
2O3,コバルトをドープしたFe3O4,二酸化クロム,バリウ
ムフェライト,または鉄,コバルト等の金属磁性体,あ
るいは種々の合金磁性体(例えば,Fe−Co,Co−Ni,Fe−C
o−Ni,Ni−Co−B,Fe−Co−Cr,Fe−Cr−Ni,Mo−Biなど)
などをあげることができる。
−Fe2O3とFe3O4との混晶,コバルトをドープしたγ−Fe
2O3,コバルトをドープしたFe3O4,二酸化クロム,バリウ
ムフェライト,または鉄,コバルト等の金属磁性体,あ
るいは種々の合金磁性体(例えば,Fe−Co,Co−Ni,Fe−C
o−Ni,Ni−Co−B,Fe−Co−Cr,Fe−Cr−Ni,Mo−Biなど)
などをあげることができる。
上記放射線硬化性樹脂および磁性粉の他,必要に応じ
て,ポリエステルポリ(メタ)アクリレート,ポリウレ
タンポリ(メタ)アクリレート,エポキシポリ(メタ)
アクリレートなどの上記放射線硬化性樹脂以外の放射線
硬化性樹脂,スチレンなどの希釈モノマー,塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体,塩化ビニル−塩化ビニリデン共
重合体などの塩化ビニル系樹脂,ポリアクリル酸ブチ
ル,アクリル酸ブチル−アクリロニトリル共重合体など
のアクリル樹脂,ニトロセルロースなどのセルロース系
樹脂,ポリアミド系樹脂,フェノール系樹脂,エポキシ
系樹脂などの熱可塑性樹脂,レシチン,オキシアミン化
合物,アルキルアミン系などの界面活性剤,ポリアルキ
レンソルビタンアルキレート,りん酸エステルなどの分
散剤,潤滑剤,研磨剤,帯電防止剤,安定剤,ポリイソ
シアネート化合物などの架橋剤などを添加し,塗布など
の方法により支持体上に磁性層として設け,必要に応じ
て乾燥した後,放射線照射により硬化させ,磁気記録媒
体とされる。また,通常,乾燥に先立って配向処理が,
乾燥後放射線照射に先立って表面平滑化処理が,それぞ
れ施される。
て,ポリエステルポリ(メタ)アクリレート,ポリウレ
タンポリ(メタ)アクリレート,エポキシポリ(メタ)
アクリレートなどの上記放射線硬化性樹脂以外の放射線
硬化性樹脂,スチレンなどの希釈モノマー,塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体,塩化ビニル−塩化ビニリデン共
重合体などの塩化ビニル系樹脂,ポリアクリル酸ブチ
ル,アクリル酸ブチル−アクリロニトリル共重合体など
のアクリル樹脂,ニトロセルロースなどのセルロース系
樹脂,ポリアミド系樹脂,フェノール系樹脂,エポキシ
系樹脂などの熱可塑性樹脂,レシチン,オキシアミン化
合物,アルキルアミン系などの界面活性剤,ポリアルキ
レンソルビタンアルキレート,りん酸エステルなどの分
散剤,潤滑剤,研磨剤,帯電防止剤,安定剤,ポリイソ
シアネート化合物などの架橋剤などを添加し,塗布など
の方法により支持体上に磁性層として設け,必要に応じ
て乾燥した後,放射線照射により硬化させ,磁気記録媒
体とされる。また,通常,乾燥に先立って配向処理が,
乾燥後放射線照射に先立って表面平滑化処理が,それぞ
れ施される。
本発明の磁気記録媒体に用いられる支持体としては,
ポリエチレンテレフタレート,ポリエチレンナフタレー
ト,三酢酸セルロース,ポリカーボネート,ポリプロピ
レン,ポリ塩化ビニル,ポリイミド,ポリアミドイミ
ド,アルミニウム合金などの任意のものをあげることが
できる。
ポリエチレンテレフタレート,ポリエチレンナフタレー
ト,三酢酸セルロース,ポリカーボネート,ポリプロピ
レン,ポリ塩化ビニル,ポリイミド,ポリアミドイミ
ド,アルミニウム合金などの任意のものをあげることが
できる。
また,塗布乾燥後の磁性層の厚さは通常2〜20μmで
ある。
ある。
本発明において使用される放射線としては,電子線加
速器やSr90を線源とした電子線,Co60を線源としたγ線,
X線発生器を線源としたX線,紫外線などである。放射
線として紫外線を用いる場合には,硬化効率の面から光
重合開始剤および必要に応じて光重合促進剤を用いるこ
とが好ましい。このような光重合開始剤としては,ベン
ゾフェノン,メチルベンゾフェノン,o−ベンゾイル安息
香酸メチル−p−ベンゾインエチルエーテルなどの他,
加藤清視編「UV・EB硬化ハンドブック−原料編−」(19
85年12月,高分子刊行会刊)第67〜73頁に記載されてい
るもの,あるいは山下晋三,金子東助編「架橋剤ハンド
ブック」(昭和56年10月,大成社刊)第582〜593頁に記
載されているものがあり,光重合促進剤としては,4,4′
−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン,N−ジメチル
アミノ安息香酸エチル,ジメチルエタノールアミン,グ
リシンなどがある。
速器やSr90を線源とした電子線,Co60を線源としたγ線,
X線発生器を線源としたX線,紫外線などである。放射
線として紫外線を用いる場合には,硬化効率の面から光
重合開始剤および必要に応じて光重合促進剤を用いるこ
とが好ましい。このような光重合開始剤としては,ベン
ゾフェノン,メチルベンゾフェノン,o−ベンゾイル安息
香酸メチル−p−ベンゾインエチルエーテルなどの他,
加藤清視編「UV・EB硬化ハンドブック−原料編−」(19
85年12月,高分子刊行会刊)第67〜73頁に記載されてい
るもの,あるいは山下晋三,金子東助編「架橋剤ハンド
ブック」(昭和56年10月,大成社刊)第582〜593頁に記
載されているものがあり,光重合促進剤としては,4,4′
−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン,N−ジメチル
アミノ安息香酸エチル,ジメチルエタノールアミン,グ
リシンなどがある。
(実 施 例) 以下,実施例により本発明を説明する。例中,部とは
重量部を表わす。
重量部を表わす。
合成例 1 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体
「ビニライトVAGH」(商品名,ユニオンカーバイド社
製)200部をメチルエチルケトン289.9部およびトルエン
289.9部に80℃で溶解させ,次いで,無水1,2−シクロヘ
キサンジカルボン酸8.4部を加え,赤外線吸収スペクト
ルにおいて酸無水物の特性吸収(1790cm-1および1870cm
-1)が消滅するまで80℃で反応させ,さらに,無水1,2
−シクロヘキサンジカルボン酸16.8部,グリシジルメタ
クリレート23.2部,ハイドロキノン0.02部およびトリエ
タノールアミン0.12部を徐々に加え,80℃で25時間反応
させ,酸価が4未満になったことを確認して,分子中に
約20個のエチレン不飽和二重結合を有する分子量約3100
0の樹脂(a)の溶剤溶液(固形分30.0重量%)を得
た。
「ビニライトVAGH」(商品名,ユニオンカーバイド社
製)200部をメチルエチルケトン289.9部およびトルエン
289.9部に80℃で溶解させ,次いで,無水1,2−シクロヘ
キサンジカルボン酸8.4部を加え,赤外線吸収スペクト
ルにおいて酸無水物の特性吸収(1790cm-1および1870cm
-1)が消滅するまで80℃で反応させ,さらに,無水1,2
−シクロヘキサンジカルボン酸16.8部,グリシジルメタ
クリレート23.2部,ハイドロキノン0.02部およびトリエ
タノールアミン0.12部を徐々に加え,80℃で25時間反応
させ,酸価が4未満になったことを確認して,分子中に
約20個のエチレン不飽和二重結合を有する分子量約3100
0の樹脂(a)の溶剤溶液(固形分30.0重量%)を得
た。
合成例 2 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール−マレイ
ン酸共重合体「UCARMAG528」(商品名,ユニオンカーバ
イド社製)200部をメチルエチルケトン288.9部およびト
ルエン288.9部に80℃で溶解させ,次いで,無水フタル
酸24.4部,グリシジルメタクリレート23.2部,ハイドロ
キノン0.02部およびトリエタノールアミン0.12部を加
え,80℃で20時間反応させ,酸価が10未満になったこと
を確認して,分子中に約20個のエチレン不飽和二重結合
を有する分子量約31000の樹脂(b)の溶剤溶液(固形
分30.0重量%)を得た。
ン酸共重合体「UCARMAG528」(商品名,ユニオンカーバ
イド社製)200部をメチルエチルケトン288.9部およびト
ルエン288.9部に80℃で溶解させ,次いで,無水フタル
酸24.4部,グリシジルメタクリレート23.2部,ハイドロ
キノン0.02部およびトリエタノールアミン0.12部を加
え,80℃で20時間反応させ,酸価が10未満になったこと
を確認して,分子中に約20個のエチレン不飽和二重結合
を有する分子量約31000の樹脂(b)の溶剤溶液(固形
分30.0重量%)を得た。
合成例 3 80℃に加熱したトリレンジイソシアネート174部にハ
イドロキノン0.13部を加えた後,2−ヒドロキシエチルメ
タクリレート130部を徐々に滴下することにより加え,80
℃で2時間反応させてアダクト体を得た。
イドロキノン0.13部を加えた後,2−ヒドロキシエチルメ
タクリレート130部を徐々に滴下することにより加え,80
℃で2時間反応させてアダクト体を得た。
「ビニライトVAGH」200部をメチルエチルケトン291部
およびトルエン291部に80℃で溶解させ,これに,得ら
れたアダクト体49.6部およびオクチル酸すず0.12部を加
え,80℃で10時間反応させ,赤外線吸収スペクトルにお
いてイソシアネート基の特性吸収(2270cm-1)の消滅を
確認して,分子中に約20個のエチレン不飽和二重結合を
有する分子量約31000の樹脂(c)の溶剤溶液(固形分3
0.0重量%)を得た。
およびトルエン291部に80℃で溶解させ,これに,得ら
れたアダクト体49.6部およびオクチル酸すず0.12部を加
え,80℃で10時間反応させ,赤外線吸収スペクトルにお
いてイソシアネート基の特性吸収(2270cm-1)の消滅を
確認して,分子中に約20個のエチレン不飽和二重結合を
有する分子量約31000の樹脂(c)の溶剤溶液(固形分3
0.0重量%)を得た。
実施例 1 成分 コバルトをドープした針状γ−Fe2O3(比表面積29m2/g,
Hc610Oe) 100部 カーボンブラック(帯電防止用) 4部 α−Al2O3粉末 8部 大豆レシチン 3部 メチルエチルケトン 50部 トルエン 50部 成分 合成例1において得られた樹脂(a)の溶剤溶液 58部 ウレタンアクリレート「アロニックスM−1200」(商品
名,東亞合成化学工業(株)製) 7部 ステアリン酸ブチル 2部 メチルエチルケトン 90部 トルエン 90部 上記成分をボールミル中にて3時間混合分散させ,
次に,上記成分を加え,さらに48時間混合分散させ,
磁性塗料を得た。得られた磁性塗料を厚さ15μmのポリ
エステルフィルム製支持体上に乾燥塗膜厚2μmとなる
ように塗布することによって磁性層を設け,永久磁石に
て配向させ,乾燥により溶剤を除去した後,表面平滑化
処理を行ない,電子線照射装置「CB150−15−10」(商
品名,エナジーサイエンス社製)を用いて,照射線量5M
radで電子線を照射し,磁性層を硬化させて磁気シート
を得た。
Hc610Oe) 100部 カーボンブラック(帯電防止用) 4部 α−Al2O3粉末 8部 大豆レシチン 3部 メチルエチルケトン 50部 トルエン 50部 成分 合成例1において得られた樹脂(a)の溶剤溶液 58部 ウレタンアクリレート「アロニックスM−1200」(商品
名,東亞合成化学工業(株)製) 7部 ステアリン酸ブチル 2部 メチルエチルケトン 90部 トルエン 90部 上記成分をボールミル中にて3時間混合分散させ,
次に,上記成分を加え,さらに48時間混合分散させ,
磁性塗料を得た。得られた磁性塗料を厚さ15μmのポリ
エステルフィルム製支持体上に乾燥塗膜厚2μmとなる
ように塗布することによって磁性層を設け,永久磁石に
て配向させ,乾燥により溶剤を除去した後,表面平滑化
処理を行ない,電子線照射装置「CB150−15−10」(商
品名,エナジーサイエンス社製)を用いて,照射線量5M
radで電子線を照射し,磁性層を硬化させて磁気シート
を得た。
得られた磁気シートについて,磁気記録媒体としての
特性である光沢反射率(磁性粉の分散性),角型比(Br
/Bm),摩擦係数および耐摩耗性を測定した。測定した
結果を表に示す。
特性である光沢反射率(磁性粉の分散性),角型比(Br
/Bm),摩擦係数および耐摩耗性を測定した。測定した
結果を表に示す。
なお,測定の方法は次の通りである。
光沢反射率:磁性層表面の60゜反射角の反射率を光沢計
を用いて測定した。光沢が良好なものは磁性粉の分散性
がすぐれている。
を用いて測定した。光沢が良好なものは磁性粉の分散性
がすぐれている。
角型比(Br/Bm):磁気シートをたて12.5mm横50mmの大
きさの切片とし,磁気特性測定機を用いて測定した。
きさの切片とし,磁気特性測定機を用いて測定した。
摩擦係数:磁気シートを0.5inch幅に切断して得られた
磁気テープを摩擦シリンダー巻きつけて走行させたとき
の入口テンションと出口テンションとを測定し,オイラ
ーの式より算出した。
磁気テープを摩擦シリンダー巻きつけて走行させたとき
の入口テンションと出口テンションとを測定し,オイラ
ーの式より算出した。
耐摩耗性:研磨紙を張りつけた回転ドラムに磁気シート
を0.5inch幅に切断して得られた磁気テープを接触させ
て,荷重20gをかけ,毎分150回転の速度で回転させ,磁
性層の一部が脱落するまでのドラムの回転回数を測定し
た。
を0.5inch幅に切断して得られた磁気テープを接触させ
て,荷重20gをかけ,毎分150回転の速度で回転させ,磁
性層の一部が脱落するまでのドラムの回転回数を測定し
た。
実施例 2 合成例1において得られた樹脂(a)の溶剤溶液の代
りに,合成例2において得られた樹脂(b)の溶剤溶液
を同量用いた以外は,実施例1と同様にして磁気シート
を得た。
りに,合成例2において得られた樹脂(b)の溶剤溶液
を同量用いた以外は,実施例1と同様にして磁気シート
を得た。
得られた磁気シートについて,実施例1と同様にして
測定した結果をあわせて表に示す。
測定した結果をあわせて表に示す。
比較例 1 合成例1において得られた樹脂(a)の溶剤溶液の代
りに,合成例3において得られた樹脂(c)の溶剤溶液
を同量用いた以外は,実施例1と同様にして磁気シート
を得た。
りに,合成例3において得られた樹脂(c)の溶剤溶液
を同量用いた以外は,実施例1と同様にして磁気シート
を得た。
得られた磁気シートについて,実施例1と同様にして
測定した結果をあわせて表に示す。
測定した結果をあわせて表に示す。
〔発明の効果〕 表からも明らかなように,本発明により,磁性粉の分
散性および配向性,耐摩擦性および耐摩耗性にすぐれた
磁気記録媒体が得られるようになった。
散性および配向性,耐摩擦性および耐摩耗性にすぐれた
磁気記録媒体が得られるようになった。
Claims (1)
- 【請求項1】水酸基を有する塩化ビニル系共重合体
(A),環状酸無水物(B),およびエチレン不飽和二
重結合を有するエポキシモノマー(C)を反応させて得
られるエチレン不飽和二重結合を有する放射線硬化性樹
脂と磁性粉とを含む磁性層を支持体上に設け,放射線照
射により硬化させてなる磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63017462A JP2514682B2 (ja) | 1988-01-29 | 1988-01-29 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63017462A JP2514682B2 (ja) | 1988-01-29 | 1988-01-29 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01194125A JPH01194125A (ja) | 1989-08-04 |
JP2514682B2 true JP2514682B2 (ja) | 1996-07-10 |
Family
ID=11944690
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63017462A Expired - Fee Related JP2514682B2 (ja) | 1988-01-29 | 1988-01-29 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2514682B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7001955B2 (en) | 2003-05-28 | 2006-02-21 | Tdk Corporation | Electron beam curing resin for magnetic recording medium, method for manufacturing the same, and magnetic recording medium including the same |
US7026371B2 (en) | 2002-03-29 | 2006-04-11 | Tdk Corporation | Electron beam curable urethane resin for magnetic recording medium, method of manufacturing the same, and magnetic recording medium using the same |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5984919A (ja) * | 1982-11-05 | 1984-05-16 | Sony Corp | 電子線硬化性樹脂 |
-
1988
- 1988-01-29 JP JP63017462A patent/JP2514682B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7026371B2 (en) | 2002-03-29 | 2006-04-11 | Tdk Corporation | Electron beam curable urethane resin for magnetic recording medium, method of manufacturing the same, and magnetic recording medium using the same |
US7001955B2 (en) | 2003-05-28 | 2006-02-21 | Tdk Corporation | Electron beam curing resin for magnetic recording medium, method for manufacturing the same, and magnetic recording medium including the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH01194125A (ja) | 1989-08-04 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |