JP3044754B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JP3044754B2 JP3044754B2 JP2175657A JP17565790A JP3044754B2 JP 3044754 B2 JP3044754 B2 JP 3044754B2 JP 2175657 A JP2175657 A JP 2175657A JP 17565790 A JP17565790 A JP 17565790A JP 3044754 B2 JP3044754 B2 JP 3044754B2
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- radiation
- vinyl chloride
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、オーディオテープ、ビデオテープ、コンピ
ューターテープ、磁気ディスク、フロッピーディスク、
磁気カードなどに関して用いられる磁気記録媒体の性能
向上に関し、さらに詳しくは、放射線により硬化するバ
インダを用いた磁気記録媒体に関する。
ューターテープ、磁気ディスク、フロッピーディスク、
磁気カードなどに関して用いられる磁気記録媒体の性能
向上に関し、さらに詳しくは、放射線により硬化するバ
インダを用いた磁気記録媒体に関する。
（従来の技術） 近年、磁気記録媒体においては、放射線硬化性樹脂を
磁性粉およびその他の必須成分とともに混合分散して磁
性塗料を調整し、えらめれる磁性塗料を支持体上に塗
布、乾燥させた後、放射線硬化し磁性層を形成すること
が行なわれている。
磁性粉およびその他の必須成分とともに混合分散して磁
性塗料を調整し、えらめれる磁性塗料を支持体上に塗
布、乾燥させた後、放射線硬化し磁性層を形成すること
が行なわれている。
そして、これら放射線硬化性樹脂として、塩化ビニル
−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体などの水酸基
を有する塩化ビニル系共重合体に、エチレン不飽和基を
有するモノイソシアネート化合物、たとえばトリレンジ
イソシアネート１モルと２−ヒドロキシエチルアクリレ
ート１モルとのアダクト体などを反応させて放射線硬化
性樹脂を得たり、または水酸基を有する塩化ビニル系共
重合体と酸無水物を反応させ、その後グリシジルアクリ
レート化合物を反応させて放射線硬化性樹脂を得たりし
ている。
−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体などの水酸基
を有する塩化ビニル系共重合体に、エチレン不飽和基を
有するモノイソシアネート化合物、たとえばトリレンジ
イソシアネート１モルと２−ヒドロキシエチルアクリレ
ート１モルとのアダクト体などを反応させて放射線硬化
性樹脂を得たり、または水酸基を有する塩化ビニル系共
重合体と酸無水物を反応させ、その後グリシジルアクリ
レート化合物を反応させて放射線硬化性樹脂を得たりし
ている。
しかしながら、これら放射線硬化性樹脂をバインダと
して用いた場合、極性基を持たないた分散剤を使用しな
ければならず、塗膜物性の低下が生じる。また高分子鎖
から長い側鎖を用いてエチレン性不飽和化合物を結合さ
せているため磁性粉の分散性、配向性が不十分であり、
高記録密度化に対して不十分であるという欠点を有して
いる。
して用いた場合、極性基を持たないた分散剤を使用しな
ければならず、塗膜物性の低下が生じる。また高分子鎖
から長い側鎖を用いてエチレン性不飽和化合物を結合さ
せているため磁性粉の分散性、配向性が不十分であり、
高記録密度化に対して不十分であるという欠点を有して
いる。
（発明が解決しようとする課題） 本発明は、上記の種々の欠点を改良したもので、分散
性、配向性に優れた高記録密度化に適した磁気記録媒体
を提供するものである。
性、配向性に優れた高記録密度化に適した磁気記録媒体
を提供するものである。
（課題を解決するための手段） 本発明は、水酸基、およびスルホン酸金属塩基を有す
る塩化ビニル系共重合体（Ａ）とエチレン性不飽和二重
結合を１個以上およびイソシアネート基を有し、ウレタ
ン結合を分子中に持たないモノマーとを反応させ得られ
る放射線硬化性樹脂と磁性粉とを含む磁性層が支持体上
に設けられ、放射線により硬化されてなる磁気記録媒体
である。
る塩化ビニル系共重合体（Ａ）とエチレン性不飽和二重
結合を１個以上およびイソシアネート基を有し、ウレタ
ン結合を分子中に持たないモノマーとを反応させ得られ
る放射線硬化性樹脂と磁性粉とを含む磁性層が支持体上
に設けられ、放射線により硬化されてなる磁気記録媒体
である。
本発明において、水酸基および極性基を有する塩化ビ
ニル系共重合体（Ａ）としては、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−ビニルア
ルコール共重合体、塩化ビニル−ヒドロキシアルキル
（メタ）アクリレート共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル−ビニルアルコール−グリシジル（メタ）アクリレー
ト共重合体などがあり、水酸基の数としては１分子中に
３〜60個、好ましくは５〜30個であり、また、水酸基以
外にスルホン酸金属塩基（−SO3M基（Ｍ原子はＨ、Li、
Na、Ｋ、Ba、Csなどを示す。））を含有する。
ニル系共重合体（Ａ）としては、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−ビニルア
ルコール共重合体、塩化ビニル−ヒドロキシアルキル
（メタ）アクリレート共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル−ビニルアルコール−グリシジル（メタ）アクリレー
ト共重合体などがあり、水酸基の数としては１分子中に
３〜60個、好ましくは５〜30個であり、また、水酸基以
外にスルホン酸金属塩基（−SO3M基（Ｍ原子はＨ、Li、
Na、Ｋ、Ba、Csなどを示す。））を含有する。
本発明において、エチレン性不飽和二重結合を１個以
上およびイソシアネート基１個を１分子中に有しかつウ
レタン結合を分子中に持たないモノマー（Ｂ）として
は、２−イソシアネートエチル（メタ）アクリレートな
どがある。この分子の様にイソシアネート基とアクリル
基の距離は短くなければならない。
上およびイソシアネート基１個を１分子中に有しかつウ
レタン結合を分子中に持たないモノマー（Ｂ）として
は、２−イソシアネートエチル（メタ）アクリレートな
どがある。この分子の様にイソシアネート基とアクリル
基の距離は短くなければならない。
水酸基、およびスルホン酸金属塩基を有する塩化ビニ
ル系共重合体（Ａ）とモノマー（Ｂ）との反応によって
ウレタン結合によりエチレン性不飽和二重結合を導入す
るが、水酸基およびスルホン酸金属塩基を有する塩化ビ
ニル系共重合体（Ａ）とモノマー（Ｂ）のモル比によっ
て放射線硬化性を自由に設計できる。しかしながら、ウ
レタン結合濃度を上げすぎると分散性の低下が生じる。
そこで分散性と硬化性のバランスを取ると、水酸基およ
びスルホン酸金属塩基を有する塩化ビニル系共重合体
（Ａ）１分子あたり１〜20個、好ましくは２〜10個のモ
ノマー（Ｂ）を反応させると分散性、硬化性ともに優れ
た放射線硬化性樹脂を得ることができる。
ル系共重合体（Ａ）とモノマー（Ｂ）との反応によって
ウレタン結合によりエチレン性不飽和二重結合を導入す
るが、水酸基およびスルホン酸金属塩基を有する塩化ビ
ニル系共重合体（Ａ）とモノマー（Ｂ）のモル比によっ
て放射線硬化性を自由に設計できる。しかしながら、ウ
レタン結合濃度を上げすぎると分散性の低下が生じる。
そこで分散性と硬化性のバランスを取ると、水酸基およ
びスルホン酸金属塩基を有する塩化ビニル系共重合体
（Ａ）１分子あたり１〜20個、好ましくは２〜10個のモ
ノマー（Ｂ）を反応させると分散性、硬化性ともに優れ
た放射線硬化性樹脂を得ることができる。
本発明における、水酸基およびスルホン酸金属塩基を
有する塩化ビニル系共重合体（Ａ）とモノマー（Ｂ）の
反応は、必要に応じて反応に関与しない公知の有機溶剤
に水酸基およびスルホン酸金属塩基を有する塩化ビニル
系共重合体を溶解させ、公知のウレタン化反応触媒を用
い、公知のラジカル重合禁止剤、たとえばハイドロキノ
ンを用い、反応温度60℃以下で行なわれる。
有する塩化ビニル系共重合体（Ａ）とモノマー（Ｂ）の
反応は、必要に応じて反応に関与しない公知の有機溶剤
に水酸基およびスルホン酸金属塩基を有する塩化ビニル
系共重合体を溶解させ、公知のウレタン化反応触媒を用
い、公知のラジカル重合禁止剤、たとえばハイドロキノ
ンを用い、反応温度60℃以下で行なわれる。
本発明において磁性粉としては、γ‐Fe2O3、Fe3O4、
γ‐Fe2O3とFe3O4の混晶、コバルトをドープしたγ‐Fe
2O3、コバルトをドープしたFe3O4、二酸化クロム、ドリ
ウムフェライト、または鉄、コバルト等の金属磁性体、
あるいは種々の合金磁性体等をあげることができる。
γ‐Fe2O3とFe3O4の混晶、コバルトをドープしたγ‐Fe
2O3、コバルトをドープしたFe3O4、二酸化クロム、ドリ
ウムフェライト、または鉄、コバルト等の金属磁性体、
あるいは種々の合金磁性体等をあげることができる。
上記放射線硬化性樹脂および磁性粉のほかに、ポリエ
ステルアクリレート、ポリウレタンアクリレート、エポ
キシアクリレートなどの放射線硬化性樹脂、スチレンな
どの希釈モノマー、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤などを
添加し、塗布などの方法により支持体上に磁性層として
設け、必要に応じて乾燥した後、放射線照射により硬化
させて磁気記録媒体を得る。
ステルアクリレート、ポリウレタンアクリレート、エポ
キシアクリレートなどの放射線硬化性樹脂、スチレンな
どの希釈モノマー、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤などを
添加し、塗布などの方法により支持体上に磁性層として
設け、必要に応じて乾燥した後、放射線照射により硬化
させて磁気記録媒体を得る。
本発明の磁気記録媒体に用いられる支持体としては、
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリイミド、ポリアミドイミド、アルミニウム合金
などの任意の物をあげることができる。また、塗布乾燥
後の磁性層の厚さは通常２〜20μｍである。
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリイミド、ポリアミドイミド、アルミニウム合金
などの任意の物をあげることができる。また、塗布乾燥
後の磁性層の厚さは通常２〜20μｍである。
本発明において使用される放射線としては、電子線加
速器などを線源とした電子線、Co60を線源としたγ線、
Ｘ線発生器を線源としたＸ線、紫外線などである。
速器などを線源とした電子線、Co60を線源としたγ線、
Ｘ線発生器を線源としたＸ線、紫外線などである。
（実施例） 以下、実施例により本発明を説明する。実施例中部と
は、重量部を表わす。
は、重量部を表わす。
合成例１ 塩化ビニル系共重合体「MR110」（商品名、日本ゼオ
ン社製）100部をメチルエチルケトン200部とトルエン50
部に溶解させ、ついでフェノチアジン、ハイドロキノン
を各々アクリル化合物に対して200ppm混合した。その後
２−イソシアナートエチルメタアクリレート（MOI、昭
和電工社製）５部、ウレタン化反応触媒のジ−ｎ−ブチ
ルチンラウレート（DBTL）をMOIに対して1000ppm混合
し、反応温度60℃で８時間攪拌を行なった。IRスペクト
ルによりイソシアネート基の吸収がないことを確認し
た。
ン社製）100部をメチルエチルケトン200部とトルエン50
部に溶解させ、ついでフェノチアジン、ハイドロキノン
を各々アクリル化合物に対して200ppm混合した。その後
２−イソシアナートエチルメタアクリレート（MOI、昭
和電工社製）５部、ウレタン化反応触媒のジ−ｎ−ブチ
ルチンラウレート（DBTL）をMOIに対して1000ppm混合
し、反応温度60℃で８時間攪拌を行なった。IRスペクト
ルによりイソシアネート基の吸収がないことを確認し
た。
合成例２ 80℃に加熱したトリレンジイソシアネート174部にハ
イドロキノン0.13部を加えた後、２−ヒドロキシエチル
メタアクリレート130部を徐々に滴下することにより加
え、80℃で２時間反応させてアダクト体を得た。
イドロキノン0.13部を加えた後、２−ヒドロキシエチル
メタアクリレート130部を徐々に滴下することにより加
え、80℃で２時間反応させてアダクト体を得た。
塩化ビニル系共重合体「VROH」（商品名、ユニオンカ
ーバイド社製）200部をメチルエチルケトン400部、トル
エン180部に60℃で溶解させ、これに得られたアダクト
体50部を加え、ウレタン化反応触媒のDBTLを0.1部加え
た。60℃で８時間攪拌し、IRスペクトルによりイソシア
ネート基の吸収のないことを確認した。
ーバイド社製）200部をメチルエチルケトン400部、トル
エン180部に60℃で溶解させ、これに得られたアダクト
体50部を加え、ウレタン化反応触媒のDBTLを0.1部加え
た。60℃で８時間攪拌し、IRスペクトルによりイソシア
ネート基の吸収のないことを確認した。
合成例３ 塩化ビニル系共重合体「VROH」200部をメチルエチル
ケトン290部に60℃で溶解させ、次いで無水フタル酸25
部、グリシジルメタアクリレート25部、ハイドロキノン
0.02部およびトリエタノールアミン0.12部を加え、80℃
で20時間反応させ、酸価が10未満になったのを確認し
た。
ケトン290部に60℃で溶解させ、次いで無水フタル酸25
部、グリシジルメタアクリレート25部、ハイドロキノン
0.02部およびトリエタノールアミン0.12部を加え、80℃
で20時間反応させ、酸価が10未満になったのを確認し
た。
実施例１ 成分 成分 上記成分をボールミル中にて３時間混合分散させ、
次いで上記成分を加え、５時間混合分散させて磁性塗
料を得た。得られた磁性塗料を厚さ15μｍのポリエステ
ルフィルム製支持体に塗布することによって磁性層を設
け、磁場配向させ、電子線を5Mrad照射することにより
硬化させた。
次いで上記成分を加え、５時間混合分散させて磁性塗
料を得た。得られた磁性塗料を厚さ15μｍのポリエステ
ルフィルム製支持体に塗布することによって磁性層を設
け、磁場配向させ、電子線を5Mrad照射することにより
硬化させた。
得られた磁気フィルムについて、磁気記録媒体の性能
評価を行なうために表面光沢（グロス60度）、角形比
（Rs）の測定を行った。
評価を行なうために表面光沢（グロス60度）、角形比
（Rs）の測定を行った。
なお、上記の磁性塗料は24時間放置後も磁性粉の沈殿
やバインダーの分離等はほとんど認められず非常に安定
なものであった。
やバインダーの分離等はほとんど認められず非常に安定
なものであった。
比較例１ 実施例１において、合成例１で得られた樹脂の溶剤溶
液のかわりに、合成例２で得られた樹脂の溶剤溶液を使
用し、同様の組成および分散条件で磁性塗料を調整し、
同様の評価を行った。なお磁性塗料の安定性は不良であ
った。
液のかわりに、合成例２で得られた樹脂の溶剤溶液を使
用し、同様の組成および分散条件で磁性塗料を調整し、
同様の評価を行った。なお磁性塗料の安定性は不良であ
った。
比較例２ 実施例１において、合成例１で得られた樹脂の溶剤溶
液のかわりに、合成例３で得られた樹脂の溶剤溶液を使
用し、同様の組成および分散条件で磁性塗料を調整し、
同様の評価を行った。なお、磁性塗料の安定性は不良で
あった。
液のかわりに、合成例３で得られた樹脂の溶剤溶液を使
用し、同様の組成および分散条件で磁性塗料を調整し、
同様の評価を行った。なお、磁性塗料の安定性は不良で
あった。
得られた磁気フィルムについて、実施例と比較例との
評価結果を第１表に示す。
評価結果を第１表に示す。
第１表から明らかなように、本発明のバインダーを使
用することにより、磁性粉の分散性、配向性を著しく向
上させることができる。
用することにより、磁性粉の分散性、配向性を著しく向
上させることができる。
（発明の効果） 本発明により、磁気記録媒体用の放射線硬化性塩化ビ
ニル系バインダが得られ、これをバインダーとして使用
することにより、磁性塗料は安定性に優れ、かつ磁性粉
の分散性、配向性に優れるため、高記録密度化に適した
磁気記録媒体を提供することができる。
ニル系バインダが得られ、これをバインダーとして使用
することにより、磁性塗料は安定性に優れ、かつ磁性粉
の分散性、配向性に優れるため、高記録密度化に適した
磁気記録媒体を提供することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−59621（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−129935（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−72320（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−84423（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−144210（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−89207（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−105322（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G11B 5/702 C09D 123/26 ＣＡ（ＳＴＮ) ＣＡＯＬＤ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ) ＷＰＩＤＳ（ＳＴＮ)
Claims (1)
- 【請求項１】水酸基およびスルホン酸金属塩基を有する
塩化ビニル系共重合体（Ａ）とエチレン性不飽和二重結
合を一個以上およびイソシアネート基を有し、ウレタン
結合を分子中に持たないモノマー（Ｂ）とを反応させて
得られる放射線硬化性樹脂と磁性分とを含む磁性層が支
持体上に設けられ、放射線照射により硬化されてなる磁
気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2175657A JP3044754B2 (ja) | 1990-07-02 | 1990-07-02 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2175657A JP3044754B2 (ja) | 1990-07-02 | 1990-07-02 | 磁気記録媒体 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11232979A Division JP2000109537A (ja) | 1999-08-19 | 1999-08-19 | 放射線硬化性樹脂 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0467314A JPH0467314A (ja) | 1992-03-03 |
| JP3044754B2 true JP3044754B2 (ja) | 2000-05-22 |
Family
ID=15999935
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2175657A Expired - Fee Related JP3044754B2 (ja) | 1990-07-02 | 1990-07-02 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3044754B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7026371B2 (en) | 2002-03-29 | 2006-04-11 | Tdk Corporation | Electron beam curable urethane resin for magnetic recording medium, method of manufacturing the same, and magnetic recording medium using the same |
| JP2004352804A (ja) | 2003-05-28 | 2004-12-16 | Tdk Corp | 磁気記録媒体用電子線硬化型樹脂、その製造方法およびそれを用いた磁気記録媒体 |
| JP5450300B2 (ja) * | 2009-07-31 | 2014-03-26 | 富士フイルム株式会社 | 放射線硬化性塩化ビニル系樹脂組成物およびその製造方法、塩化ビニル系樹脂、磁気記録媒体、ならびに放射線硬化性塩化ビニル系樹脂用保存安定剤 |
-
1990
- 1990-07-02 JP JP2175657A patent/JP3044754B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0467314A (ja) | 1992-03-03 |
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Legal Events
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Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080317 Year of fee payment: 8 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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