JP2513815B2 - マニホ―ルド装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はマニホールド装置に関し、特に、複数の電磁
弁が搭載されて集中配線や集中配管が行われるマニホー
ルド装置に適用して有効な技術に関する。

〔従来の技術〕 たとえば、複数の電磁弁が搭載されて集中配管や集中
配線が行われるマニホールド装置として、互いに交軸方
向に沿って連結された各ベースに複数の電磁弁，集中配
線ブロック，集中配管ブロックなどが搭載される装置が
ある。

この場合に、各ベースは、電磁弁，集中配線ブロッ
ク，集中配管ブロックなどを搭載できるように汎用性の
ある構造とされている。

また、各ベースの側面側に各電磁弁ごとの端子台が併
設される装置もある。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところで、近年、電磁弁などのマニホールド装置は、
従来の高集積化の要求に加え、配線作業や配管作業の合
理化，配線方法などの制御とのマッチング，メンテナン
ス性の向上，フレキシビリティ，多様化，他機器との複
合化などの要求が強く求められている。

しかしながら、前記したマニホールド装置において
は、各ベースが電磁弁，集中配線ブロック，集中配管ブ
ロックなどを搭載できるように汎用性のある構造とさ
れ、その汎用性の構造上からの一定の制限を受けるた
め、前記した近年の各要求に応じられなくなってきてい
る。

また、各ベースの側面側に各電磁弁ごとの端子台が併
設されている構造のマニホールド装置においては、その
複数の端子台のスペースによる装置全体の大形化、配線
や配線作業の煩雑化を招いている。

本発明の目的は、配線作業や配管作業の合理化，配線
方法などの制御とのマッチング，メンテナンス性の向
上，フレキシビリティ，多様化，他機器との複合化，装
置の小形化を図ることができるマニホールド装置を提供
することにある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明のマニホールド装置の構造は、複数のベースが
異なる機能ごとに互いに独立して形成されているととも
に、選択的に連結可能とされ、また前記ベースとして弁
搭載専用の複数のベースと集中配線ブロック搭載専用の
ベースとを少なくとも備えている構造としたものであ
る。

この場合に、前記ベースとして集中配管ブロック搭載
専用のベースを備えている構造とすることができる。

〔作用〕

前記した手段によれば、複数のベースが、たとえば弁
搭載専用や集中配線ブロック搭載専用などに、異なる機
能ごとに互いに独立して形成されているとともに、選択
的に連結可能とされていることにより、異なる機能が集
合されているベースのような構造上の制限を受けること
がないので、配線作業の合理化，配線方法などの制御と
のマッチング，メンテナンス性の向上，フレキシビリテ
ィ，多様化，他機器との複合化，装置の小形化を図るこ
とができる。

この場合に、前記ベースとして集中配管ブロック搭載
専用のベースを備えている構造とすると、配管作業の合
理化および前記した効果を更に確実に図ることができ
る。

〔実施例１〕 第１図は本発明の一実施例であるマニホールド装置を
示す斜視図である。

本実施例のマニホールド装置は、互いに独立して形成
されているとともに、互いに選択的に連結可能とされて
いる弁搭載専用の複数のベース１と集中配線ブロック搭
載専用のベース２とを備えている。

前記ベース１の上面には、ソケット３と接続ポート４
とが配設され、またベース１には、ソケット３の配線５
などが導出される導出部６と、所定の接続ポート４に夫
々連通されている入力流路７および排出流路８と、連結
孔９とが形成されている。

ベース１の導出部６は、該ベース１の交軸方向に沿っ
て延在している空間部10と、係止つめ11aがベース１の
係止孔1aに挿入されることにより空間部10の底面側の開
口部を着脱自在に閉じる底板11とから形成されている。

ベース１の入力流路７と、排出流路８と、連結孔９と
は、該ベース１の交軸方向に沿って貫通・形成されてい
る。

このように形成されたベース１には、第１図に示すよ
うに、一対の出力ポート12aを有する切換弁などの電磁
弁12が着脱自在に搭載されるようになっている。

通常、電磁弁の搭載は、電磁弁12をねじ等によってベ
ース１に設けた接続部と締結される（図示せず）。

すなわち、電磁弁12の下面から突出しているプラグ
（図示せず）がソケット３に差し込まれ、また電磁弁12
の下面に開設されている流体ポート（図示せず）が夫々
ベース１の所定の接続ポート４に接続されて搭載される
構造とされている。

一方、前記ベース２の上側の両端には、係止つめ2aが
対向して突設され、またベース２には、上部が開口され
ている配線用の導出部13と、前記ベース１と同様な入力
流路14および排出流路15と連結孔16とが形成されてい
る。

そして、このような構造のベース２に、下側の両端に
係止孔17a,18aが対抗して開設された集中配線ブロック1
7ないし18が着脱自在に搭載されるようになっている。

すなわち、係止爪2aが係止孔17a,18aに挿入され係止
されることにより、集中配線ブロック17ないし18が夫々
着脱自在に搭載される構造とされている。

本実施例のマニホールド装置は、更に、集中配管専用
ブロック19と一対のエンドプレート20とを備えている。

前記集中配管専用ブロック19の上面には、入力ポート
21および消音機能を備えた排出ポート22とが開設され、
また集中配管専用ブロック19には、前記ベース1,2と同
様な配線用の導出部23と図示しない入力流路および排出
流路と連結孔とが形成されている。

前記エンドプレート20には、一対の連結孔24が貫通・
形成され、また取付レール用の取付溝25および取付孔26
が夫々形成されている。

第１図に示すように、エンドプレート20は、所定の間
隔をおいて対抗して配置され、このエンドプレート20,2
0の間に、電磁弁12が夫々搭載されたベース１と、集中
配線ブロック17ないし18が搭載されたベース２と、集中
配管専用ブロック19とが夫々の交軸方向に沿って配置さ
れるようになっている。

そして、連結部材27aの継ぎ足しにより長さ調整の可
能な連結棒27が夫々の連結孔9,16,24および集中配管専
用ブロック19の連結孔（図示せず）に貫通されてナット
28に締結されることにより、電磁弁12が夫々搭載された
ベース１と、集中配線ブロック17,18の一方が搭載され
たベース２と、集中配管専用ブロック19とが夫々交軸方
向に沿って着脱自在に連結される構造とされている。

この連結状態において、夫々の導出部6,13,23は互い
に連通されていて、この連通状態の導出部6,13に各ベー
ス１のソケット３から延出される配線５などが挿通さ
れ、ベース２に搭載された集中配線ブロック17ないし18
に導出され電気的に接続されることにより、各電磁弁12
の配線が集中配線ブロック17ないし18に集中されるよう
になっている。

また、各ベース1,2の入力流路7,14および集中配管専
用ブロック19の入力流路（図示せず）が互いに連通され
て集中配管専用ブロック19の入力ポート21に接続され、
また各ベース1,2の排出流路8,15および集中配管専用ブ
ロック19の排出流路（図示せず）が互いに連通されて集
中配管専用ブロック19の排出ポート22に接続されること
により、各電磁弁12の制御流体用の配管が集中配管専用
ブロック19に集中されるようになっている。

次に本実施例の作用について説明する。

前記したような連結状態において、所定の駆動電源
（図示せず）から、駆動電圧がベース２に搭載された集
中配線ブロック17ないし18,各導出部6,13に挿通されて
いる配線5,各ベース１のソケット3,各電磁弁12のプラグ
（図示せず）を通じて各電磁弁12に供給されると、各電
磁弁12が夫々駆動されて弁切り換え作動される。

この各電磁弁12の弁切り換え作動中において、集中配
管専用ブロック19の入力ポート21に、所定の流体圧源
（図示せず）から圧縮空気などの流体圧が供給されるこ
とにより、該流体圧が集中配管専用ブロック19の入力流
路（図示せず），各ベース１の入力流路７から各ベース
１の所定の接続ポート４に分流し各電磁弁12の入力用の
流体ポート（図示せず）に供給される。

そして、この各電磁弁12に供給された流体圧が夫々の
弁切り換え位置に応じて夫々の出力ポート12aの一方か
ら出力され、該出力ポート12aに接続されている所定の
流体圧作動機器（図示せず）などに送られることによ
り、該流体圧作動機器（図示せず）などが作動される。

また、前記流体圧作動機器（図示せず）から排出され
た流体圧が各電磁弁の夫々の弁切り換え位置に応じて夫
々の他方の出力ポート12aに排出され、該出力ポート12a
に接続されている各ベース１の所定の接続ポート４に送
られる。

そして、この各接続ポート４に送られた流体圧が各ベ
ース１の排出流路８および集中配管専用ブロック19の排
出流路（図示せず）に合流し、該集中配管専用ブロック
19の排出ポート22から外部に排出される。

本実施例のマニホールド装置は、このように使用され
る。

この場合に、本実施例のマニホールド装置は、ベース
1,2が弁搭載専用や集中配線ブロック搭載専用とされて
異なる機能ごとに互いに独立して形成されているととも
に、選択的に連結可能とされているので、所望の位置に
集中配線部や集中配管部を設けたり、複数の集中配線部
や集中配管部を設けることが可能となり、異なる機能が
集合されているベースのような構造上の制限を受けるこ
とがない。

このため、配線作業の合理化，配線方法などの制御と
のマッチング，メンテナンス性の向上，フレキシビリテ
ィ，多様化，他機器との複合化，装置の小形化を図るこ
とができる。

〔実施例２〕 第２図は本発明の他の実施例であるマニホールド装置
を示す斜視図である。

この実施例２のマニホールド装置は、互いに独立して
形成されているとともに、互いに選択的に連結可能とさ
れている弁搭載専用のベース１と集中配線ブロック搭載
専用のベース２と集中配管ブロック搭載専用のベース29
とを備えている。

前記ベース１の側面には、急速継手30が夫々接続され
ている給排ポート31,32が開設され、この給排ポート31,
32は入力流路7,排出流路８に所定の接続ポート４を介し
て連通されるようになっている。そして、この給排ポー
ト31,32に所定の流体圧作動機器が接続されるようにな
っている。

また、この実施例２のベース１のソケット３は、ナッ
ト33aを介在させた接触金具33が孔34に差し込まれて形
成され、この接触金具33のナット33aに端子ねじ35を螺
入させることにより、配線５が接続されるようになって
いる。

前記ベース２には、端子台仕様の集中配線ブロック3
6,フラットケーブルコネクタ仕様の集中配線ブロック3
7,D-sub仕様の集中配線ブロック38が夫々搭載可能とさ
れている。

また、ベース1,2,29の底面側は、裏蓋39が取り付けら
れるようになっている。

前記ベース29には、ベース１の入力流路７に連通され
る入力流路29aおよびベース１の排出流路８に連通され
る排出流路29bが形成され、後者の排出流路29bに吸音材
40が介装されるようになっている。

また、ベース29には、連結棒27が貫通される連通孔29
cが形成されている。

そして、このようなベース29に、集中配管ブロック4
1,42,43,44が夫々搭載可能とされている。

なお、この実施例２を示す第２図中、45は圧力プラ
グ、46はガスケット、47はエンドプレート20の流体ポー
ト47aを閉塞する閉栓、48はベース用などの取付レー
ル、49は取付レール48のエンドプレート用の固定金具、
50は連結棒用の締結ねじなどを夫々示すものである。

なお、作用については実施例１と同様のため、省略す
る。

以上のように本発明を実施例に基づき具体的に説明し
たが、本発明は前記実施例に限定されるものではなく、
その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。

たとえば、前記実施例１においては、弁搭載専用のベ
ース１および集中配線ブロック搭載専用のベース２、ま
た前記実施例２においては、前記したと同様なベース1,
2の他に、集中配管ブロック搭載専用のベース29を夫々
備えている構造とされているが、本発明においては、前
記したベースの他に次のようなベースを備えている構造
とすることが可能である。

すなわち、たとえば、その第１の例としては、位置検
出センサなどのセンサ用配線を中継し、集中配線するブ
ロックを専用に搭載するベースである。

第２の例としては、マニホールドへ供給される圧縮空
気などの調質を行う機器（フィルタ，レギュレータ，ル
ブリケータなど）のブロックを専用に搭載するベースで
ある。

第３の例としては、圧力センサを専用に搭載するベー
スである。

第４の例としては、マニホールドへの流体圧の供給を
制御する主制御弁を専用に搭載するベースである。

第５の例としては、外部制御機器との信号の送受信に
おいて送信，受信，変調，復調，変換などの機能を有す
るブロックを専用に搭載するベースである。

また、前記した実施例２においては、ベース２が単数
とされ、この単数のベース２に集中配線ブロック36,37,
38のいずれかが搭載されるようになっているが、たとえ
ば本発明においては、前記ベース２を複数として、この
複数のベース２の夫々に複数の所要の集中配線ブロック
36,37,38が搭載されるようにしても良い。

〔発明の効果〕

本発明のマニホールド装置の構造によれば、以下の効
果を得ることができる。

（１）．複数のベースが、たとえば弁搭載専用や集中配
線ブロック搭載専用などとされて異なる機能ごとに互い
に独立して形成されているとともに、選択的に連結可能
とされていることにより、異なる機能が集合されている
ベースのような構造上の制限をなくすことができる。

（２）．前記した（１）の効果により、配線作業の合理
化，配線方法などの制御とのマッチング，メンテナンス
性の向上，フレキシビリティ，多様化，他機器との複合
化，装置の小形化を図ることができる。

（３）．前記した場合に、前記ベースとして集中配管ブ
ロック搭載専用のベースを備えている構造とすると、配
管作業の合理化および前記した効果を更に確実に図るこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例であるマニホールド装置を示
す斜視図、第２図は本発明の他の実施例であるマニホー
ルド装置を示す斜視図である。 １……ベース、1a……係止孔、２……ベース、2a……係
止つめ、３……ソケット、４……接続ポート、５……配
線、６……導出部、７……入力流路、８……排出流路、
９……連結孔、10……空間部、11……底板、11a……係
止つめ、12……電磁弁、12a……出力ポート、13……導
出部、14……入力流路、15……排出流路、16……連結
孔、17,18……集中配線ブロック、17a,18a……係止孔、
19……集中配管専用ブロック、20……エンドプレート、
21……入力ポート、22……排出ポート、23……導出部、
24……連結孔、25……取付溝、26……取付孔、27a……
連結部材、27……連結棒、28……ナット、29……ベー
ス、29a……入力流路、29b……排出流路、29c……連結
孔、30……急速継手、31,32……給排ポート、33……接
触金具、33a……ナット、34……孔、35……端子ねじ、3
6,37,38……集中配線ブロック、39……裏蓋、40……吸
音材、41,42,43,44……集中配管ブロック、45……圧力
プラグ、46……ガスケット、47……閉栓、47a……流体
ポート、48……取付レール、49……固定金具、50……締
結ねじ。

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】複数のベースが異なる機能ごとに互いに独
   立して形成されているとともに、選択的に連結可能とさ
   れ、また前記ベースとして弁搭載専用の複数のベースと
   集中配線ブロック搭載専用のベースとを少なくとも備え
   ていることを特徴とするマニホールド装置。
2. 【請求項２】前記ベースとして集中配管ブロック搭載専
   用のベースを備えていることを特徴とする請求項１記載
   のマニホールド装置。