JP2511685B2 - 不溶性アノ―ド用材料 - Google Patents

不溶性アノ―ド用材料

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JP2511685B2 JP62327758A JP32775887A JP2511685B2 JP 2511685 B2 JP2511685 B2 JP 2511685B2 JP 62327758 A JP62327758 A JP 62327758A JP 32775887 A JP32775887 A JP 32775887A JP 2511685 B2 JP2511685 B2 JP 2511685B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は種々の水溶液電解に使用される不溶性アノー
ド用材料の中で、特に高濃度の非酸化性の酸などの電解
溶液中において使用の際、不働態膜が成長せず、浴電圧
も安定し、優れた耐食性を示す不溶性アノード用材料に
関する。
〔従来の技術〕 不溶性アノードとして現在、黒鉛、鉛、白金めっき、
あるいは白金クラッドチタン材などが使用されている
が、黒鉛や鉛は使用中に溶解によりわずかながら消耗し
てゆき、液の汚濁が起きる。
一方、白金めっき、あるいは白金クラッドチタン材
は、高価な白金を使用することより非常にコストが高く
つき、また、それゆえに表面にわずかだけ白金コーティ
ングしてあるため、予想以上に寿命が短い場合がある。
本発明者らはこれらの欠点をなくすため、Ti−Ni合金を
開発することに成功したが、近年はよりきびしい要求が
アノード材料に求められ、Ti−Ni合金と言えども時には
耐食性が十分でなく、溶解が起こることがあり、この合
金に代る、より優れた耐食性を有した材料が必要となっ
てきている。
一方、電気めっき工程における生産性の点から高速め
っきの必要性が高まっており、この場合、可溶性アノー
ドであるとアノードの消耗は非常に速くアノードの調整
及び取り替え作業を頻繁に行なわねばならず、これは電
気めっき工程における生産性の大きな障害となるので、
不溶性アノードが活発に採用されつつある。
これらの背景より、よりきびしい腐食環境において、
高い電位を印加したり、高電流密度を流せる新しいアノ
ード材料の開発が望まれていた。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、このような電解採取あるいは電気めっ
きにおける不溶性アノード材料に、現在完全に性能上満
足できる材料はいまだ開発されていない。
例えば、腐食の点から言えば、高濃度の塩酸、硫酸水
溶液のような非常にきびしい非酸化性酸環境下において
はTi−Nb合金、Ti−Mo合金、Ti−Pd合金などがあるが、
いずれもチタンより高価な金属を添加することから経済
的に問題があると共に、アノード側に電位を印加する
と、陽極酸化のため電流が流れなくなり、現在ほとんど
アノード材料としては使用されていない。
本発明は、これらの状況に鑑みて見い出されたもので
あり、特に、高濃度の非酸化性の酸などの電解溶液中に
おいて使用の際、不働態膜が成長せず、浴電圧も安定
し、優れた耐食性を示す不溶性アノード用材料を提供す
ることを目的としている。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は、上記目的を達成するためニッケルが45wt%
以上、60wt%以下でPt,Rh,Au,Pd,Ir,Os,Ruの元素が合計
で0.01wt%以上、5wt%以下で残部がチタン及び不可避
的不純物からなることを特徴とした高濃度の非酸化性の
酸などの電解溶液中において使用の際、不働態膜が成長
せず、浴電圧も安定し、優れた耐食性を示す不溶性アノ
ード用材料を提供する。
次に、本発明について詳細に述べる。
チタンは優れた耐食性を有し、しかも軽いのでアノー
ド材として適しているが、電圧を印加しアノード側に分
極すると、チタン表面に不働態皮膜が厚く形成され浴電
圧の上昇を招き、遂には通電不能となってしまう。これ
を防ぐため、本発明者らは、チタンにニッケルを合金化
することにより、通電が可能となることを見い出した。
ニッケルをチタンに添加する範囲を45〜60wt%としたの
は、この範囲でのみ良好な加工性が得られるためであ
る。しかし、これだけでは十分な耐食性は得られず、P
t,Rh,Au,Pd,Ir,Os,Ruの元素を単独もしくは複数添加す
ることにより、はじめて耐食性が著しく改善された不溶
性アノードが得られる。
チタンにニッケルを45〜60wt%添加すると、その組成
のほとんどがTiNiより構成され、このTiNiは加工性は優
れているが、耐食性は満足されるものではない。
例えば、Ti−50wt%Ni合金を5wt%HCl水溶液中にて80
℃でアノード分極挙動を調べた結果、アノード側に分極
すると、0.1V(vs Ag/AgCl)付近より急に電流が流れは
じめて腐食が起こった。このような現象は硫酸水溶液中
でも起こり、アノード用材料としてはこのような環境下
では不向きであることがわかった。
このような欠点を補うため、第2添加元素を種々添加
し研究を行った結果、Pt,Rh,Au,Pd,Ir,Os,Ruが耐食性向
上に非常に大きな効果があることが判明した。
ここで、Pt,Rh,Au,Pd,Ir,Os,Ruの合計の下限を0.01wt
%としたのは、これより少ない量では耐食性の向上が望
めず、また上限を5wt%以下としたのは、これより多く
添加しても経済的な負担に較べその効果が小さくなるた
めである。
ニッケルのコストは、チタンのそれとほとんど同じで
あり、ニッケル添加によるコストアップはまったく考え
なくてよく、また、Pt,Rh,Au,Pd,Ir,Os,Ruは高価な金属
ではあるが、非常に少ない量にて十分な効果が得られる
ため、実質的にコストアップはわずかである。また、こ
れらの元素を本発明の範囲内で添加しても加工性の劣化
は全くない。
〔実施例〕
次に、本発明を具体的な実施例を基いて説明する。
Ti−50wt%Ni合金を5wt%HCl水溶液中にて80℃でアノ
ード分極挙動を実現により調査し、その結果を第1図に
示した。第1図よりわかるように電位を印加していない
時は良好な耐食性を示しているのに対し、アノード側に
分極すると0.1V(vs Ag/AgCl)付近より急に電流が流れ
腐食が起こり始めた。このような現象は硫酸水溶液中で
も起こり、アノード用材料としてはこのような環境下で
は不向きであることがわかった。
そこで、80℃,5%HCl水溶液にて第1図の実験のごと
く各供試材のアノード分極曲線を調べ、アノード反応が
起きる電位を求めた。
その結果を第1表に示す。
この第1表で、まったく白金系元素を添加していない
No.1の供試材及びPdを0.005wt%だけ添加したNo.2の供
試材は、電位が0.11Vにて腐食が始まっているのに対
し、Pdを0.01wt%以上添加した合金(No.3〜8)は、さ
らに高い電位にて始めて腐食が起こる。これにより、Pd
を0.01wt%以上添加することにより耐食性が向上するこ
とが確認された。
一方、No.7及びNo.8は、1.4Vにてアノード反応が起こ
り始めているが、これは腐食ではなく酸素の発生による
アノード反応であり、さらに高い電位まで耐食性は維持
される。一般に、アノード用材料としては、酸素発生電
位が印加されており、No.7の5wt%のPd添加で十分な耐
食性が得られたこととなる。したがって、Pd添加の上限
は、5wt%とすることが適切である。
以下、No.9〜No.50に、Rh,Au,Pt,Ir,Os,Ruを添加した
場合のアノード反応発生電位を示してあるが、その傾向
はPdとほとんど同じであり、Pdと同様、下限を0.01wt
%、上限を5wt%とするのが適切である。
次に、第2表に白金系元素を複数添加した場合の影響
を調べた結果を示すが、単独添加と同様な効果があるこ
とが確認された。
また、これら白金系元素を添加しても加工性の低下は
見られない。
以上のことから、本発明材料は高濃度の非酸化性の酸
などの電解溶液中において使用の際、不働態膜が成長せ
ず、浴電圧も安定し、極めて優れた耐食性を有し、しか
も加工性、アノード電極特性も優れているまったく新し
いチタン合金であることがわかった。
なお、本発明材料は電解液と接するところに存在すれ
ば十分であるので、例えばクラッドや溶接接合等のよう
に内部に異種材料を用い表面のみ本発明材料から構成さ
れている電極材、あるいは溶射やめっき等の表面被覆を
施した後それを拡散して本発明の合金組成を形成する電
極材も当然本発明に含まれる。
〔発明の効果〕
上記の本発明によれば、ニッケルが45wt%以上、60wt
%以下で、Pt,Rh,Au,Pd,Ir,Os,Ruの元素が合計で0.01wt
%以上、5wt%以下で残部がチタン及び不可避的不純物
とすることによりほとんどTiNi合金となり電解採取、あ
るいは電気めっきにおける不溶性アノード用材料として
使用しても不働態膜が成長することなく浴電圧が安定し
ており、優れた耐食性を有しその上熱間、冷間の加工性
に優れた不溶性アノード用材料が得られる。このように
一般に使用される不溶性アノード材としてはもとより電
極に二酸化マンガンを析出させる電解二酸化マンガン製
造用等のアノード材としても好適に使用できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る実施例材料Ti−50%Niの温度80
℃,5%HCl水溶液におけるアノード分極挙動を示すグラ
フである。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ニッケルが45wt%以上、60wt%以下でPt,R
    h,Au,Pd,Ir,Os,Ruの元素が合計で0.01wt%以上、5wt%
    以下で残部がチタン及び不可避的不純物からなることを
    特徴とした高濃度の非酸化性酸の電解溶液中において使
    用の際、不働態膜が成長せず、浴電圧も安定し、優れた
    耐食性を示す不溶性アノード用材料。
JP62327758A 1987-12-24 1987-12-24 不溶性アノ―ド用材料 Expired - Lifetime JP2511685B2 (ja)

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