JP2511225Y2 - Ｘ線分光器 - Google Patents
Ｘ線分光器Info
- Publication number
- JP2511225Y2 JP2511225Y2 JP1991074239U JP7423991U JP2511225Y2 JP 2511225 Y2 JP2511225 Y2 JP 2511225Y2 JP 1991074239 U JP1991074239 U JP 1991074239U JP 7423991 U JP7423991 U JP 7423991U JP 2511225 Y2 JP2511225 Y2 JP 2511225Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- rays
- same
- dispersive
- analysis
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この考案は、分析試料から出射さ
れたＸ線を分光するＸ線分光器に関するものである。
れたＸ線を分光するＸ線分光器に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】材料の元素分析を行う装置として、従来
より、Ｘ線管からの励起Ｘ線を分析試料に照射し、この
分析試料からの蛍光Ｘ線の強度をＸ線検出器で検出し、
これを分析する蛍光Ｘ線分析装置がある。この種の分析
装置では、蛍光Ｘ線を分光素子で回析させて、所定の波
長のＸ線のみをＸ線検出器で検出するものがある。この
一例を図２に示す。
より、Ｘ線管からの励起Ｘ線を分析試料に照射し、この
分析試料からの蛍光Ｘ線の強度をＸ線検出器で検出し、
これを分析する蛍光Ｘ線分析装置がある。この種の分析
装置では、蛍光Ｘ線を分光素子で回析させて、所定の波
長のＸ線のみをＸ線検出器で検出するものがある。この
一例を図２に示す。
【０００３】図２において、図示しないＸ線管から出射
された一次Ｘ線Ｂ１は、分析試料１の原子を励起して、
分析試料１を構成する元素固有の蛍光Ｘ線Ｂ２を発生さ
せる。発生した蛍光Ｘ線Ｂ２は、分析試料１から出射さ
れて、単一の入射スリット２を介して、分光器３内に入
射する。入射スリット２を通過した蛍光Ｘ線Ｂ２は、湾
曲型の分光結晶（分光素子）４に入射して、ブラッグの
式を満足する所定の波長を有する蛍光Ｘ線のみが回析さ
れる。この回析により、蛍光Ｘ線は単色化つまり分光さ
れる。この分光結晶４によって反射された回析Ｘ線Ｂ３
は、受光スリット５を通過して単一のＸ線検出器６に入
射する。Ｘ線検出器６は入射する回析Ｘ線Ｂ３をカウン
トする。この計数値に基づいて、所定のＸ線分析がなさ
れる。なお、入射スリット２、分光結晶４および受光ス
リット５は、破線で示すローランド円Ｃ上に配置されて
いる。
された一次Ｘ線Ｂ１は、分析試料１の原子を励起して、
分析試料１を構成する元素固有の蛍光Ｘ線Ｂ２を発生さ
せる。発生した蛍光Ｘ線Ｂ２は、分析試料１から出射さ
れて、単一の入射スリット２を介して、分光器３内に入
射する。入射スリット２を通過した蛍光Ｘ線Ｂ２は、湾
曲型の分光結晶（分光素子）４に入射して、ブラッグの
式を満足する所定の波長を有する蛍光Ｘ線のみが回析さ
れる。この回析により、蛍光Ｘ線は単色化つまり分光さ
れる。この分光結晶４によって反射された回析Ｘ線Ｂ３
は、受光スリット５を通過して単一のＸ線検出器６に入
射する。Ｘ線検出器６は入射する回析Ｘ線Ｂ３をカウン
トする。この計数値に基づいて、所定のＸ線分析がなさ
れる。なお、入射スリット２、分光結晶４および受光ス
リット５は、破線で示すローランド円Ｃ上に配置されて
いる。
【０００４】
【考案が解決しようとする課題】ところで、分析試料１
によっては、分析試料１の広い面積から蛍光Ｘ線を取り
込んで、強度を大きくしたい場合がある。つまり、分析
試料１の分析面１１を大きくしたい場合がある。この分
析面１１は、分光結晶４を湾曲方向Ａに大きくすれば大
きくなる。
によっては、分析試料１の広い面積から蛍光Ｘ線を取り
込んで、強度を大きくしたい場合がある。つまり、分析
試料１の分析面１１を大きくしたい場合がある。この分
析面１１は、分光結晶４を湾曲方向Ａに大きくすれば大
きくなる。
【０００５】しかし、図３のように、分光結晶４を湾曲
方向Ａに大きくすると、分光結晶４の成型誤差が、その
端部において大きくなるのは避けられず、特に、ヨハン
型分光器では幾何学的な収差５ａも大きくなる。そのた
め、入射スリット２または受光スリット５の開口幅を大
きくする必要が生じ、したがって、ブラッグの式を満足
する波長の領域が広がる。その結果、バックグラウンド
が高くなるので、つまり、分解能が低くなるので、分析
精度の低下を招く。この考案は、上記従来の問題に鑑み
てなされたもので、分析試料の分析面積を大きくするこ
とができるとともに、分解能の低下するおそれのないＸ
線分光器を提供することを目的とする。
方向Ａに大きくすると、分光結晶４の成型誤差が、その
端部において大きくなるのは避けられず、特に、ヨハン
型分光器では幾何学的な収差５ａも大きくなる。そのた
め、入射スリット２または受光スリット５の開口幅を大
きくする必要が生じ、したがって、ブラッグの式を満足
する波長の領域が広がる。その結果、バックグラウンド
が高くなるので、つまり、分解能が低くなるので、分析
精度の低下を招く。この考案は、上記従来の問題に鑑み
てなされたもので、分析試料の分析面積を大きくするこ
とができるとともに、分解能の低下するおそれのないＸ
線分光器を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この考案は、集中法式のＸ線分光器において、同一
の格子面間隔を有する複数の分光素子を設け、各分光素
子においてその反射面全体に、分析試料から出射された
Ｘ線のうち互いに異なる部分が同一角度で入射して、同
一波長のＸ線が回折されて反射するように、上記複数の
分光素子が配置されている。
に、この考案は、集中法式のＸ線分光器において、同一
の格子面間隔を有する複数の分光素子を設け、各分光素
子においてその反射面全体に、分析試料から出射された
Ｘ線のうち互いに異なる部分が同一角度で入射して、同
一波長のＸ線が回折されて反射するように、上記複数の
分光素子が配置されている。
【０００７】
【作用】この考案によれば、同一の格子面間隔を有する
複数の分光素子を設け、各分光素子においてその反射面
全体に、分析試料から出射されたＸ線のうち互いに異な
る部分が同一角度で入射して、同一波長のＸ線が回折さ
れて反射するように、上記複数の分光素子を配置したの
で、分光素子を湾曲方向に大きくすることなく、分析試
料の分析面積を大きくすることができる。
複数の分光素子を設け、各分光素子においてその反射面
全体に、分析試料から出射されたＸ線のうち互いに異な
る部分が同一角度で入射して、同一波長のＸ線が回折さ
れて反射するように、上記複数の分光素子を配置したの
で、分光素子を湾曲方向に大きくすることなく、分析試
料の分析面積を大きくすることができる。
【０００８】
【実施例】以下、この考案の一実施例を図１に基づいて
説明する。図１において、第１および第２の分光結晶
（分光素子）４Ａ，４Ｂは、それぞれ、分光結晶４Ａ，
４Ｂの反射面４ａの湾曲する方向Ａに並べて設けられて
いる。第１の分光結晶４Ａは、入射スリット２を通過し
た蛍光Ｘ線Ｂ２を、回析Ｘ線Ｂ３として反射し、第１の
受光スリット５Ａに集光させる。一方、第２の分光結晶
４Ｂは入射スリット２を通過した蛍光Ｘ線Ｂ２を回析Ｘ
線Ｂ３として反射し、第２の受光スリット５Ｂに集光さ
せる。これらの集光した回析Ｘ線Ｂ３は、単一のＸ線検
出器６に入射する。
説明する。図１において、第１および第２の分光結晶
（分光素子）４Ａ，４Ｂは、それぞれ、分光結晶４Ａ，
４Ｂの反射面４ａの湾曲する方向Ａに並べて設けられて
いる。第１の分光結晶４Ａは、入射スリット２を通過し
た蛍光Ｘ線Ｂ２を、回析Ｘ線Ｂ３として反射し、第１の
受光スリット５Ａに集光させる。一方、第２の分光結晶
４Ｂは入射スリット２を通過した蛍光Ｘ線Ｂ２を回析Ｘ
線Ｂ３として反射し、第２の受光スリット５Ｂに集光さ
せる。これらの集光した回析Ｘ線Ｂ３は、単一のＸ線検
出器６に入射する。
【０００９】上記入射スリット２、第１の分光結晶４Ａ
および第１の受光スリット５Ａは、１つのローランド円
（図示せず）上に配置されている。一方、入射スリット
２、第２の分光結晶４Ｂおよび第２の受光スリット５Ｂ
は、他のローランド円（図示せず）上に配置されてい
る。なお、上記分光結晶４Ａ，４Ｂおよび受光スリット
５Ａ，５Ｂは、１つの図示しないゴニオメータで、分光
角度２θが互いに同一、つまり入射角度θが互いに同一
となるように駆動される。換言すると、第１の分光結晶
４Ａと第２の分光結晶４Ｂは、それぞれの反射面全体
に、分析試料１から出射され入射スリット２を通過した
蛍光Ｘ線Ｂ２のうち異なる部分が同一角度θで入射し
て、そのうち同一の所定単一波長の蛍光Ｘ線のみを回折
Ｘ線Ｂ３として反射するように、配置されており、その
ために両分光結晶４Ａ，４Ｂの格子面間隔もブラッグの
条件から同一である。なお、分析試料１に含まれる複数
の各元素に固有である波長の相異なる蛍光Ｘ線の分析に
対応すべく、上記所定の単一波長は上述したようにゴニ
オメータで入射角度θを変えることにより、連続的に変
化させることが可能であることや、その他の構成は上記
従来例と同様であり、同一部分または相当部分に同一符
号を付して、その詳しい説明を省略する。
および第１の受光スリット５Ａは、１つのローランド円
（図示せず）上に配置されている。一方、入射スリット
２、第２の分光結晶４Ｂおよび第２の受光スリット５Ｂ
は、他のローランド円（図示せず）上に配置されてい
る。なお、上記分光結晶４Ａ，４Ｂおよび受光スリット
５Ａ，５Ｂは、１つの図示しないゴニオメータで、分光
角度２θが互いに同一、つまり入射角度θが互いに同一
となるように駆動される。換言すると、第１の分光結晶
４Ａと第２の分光結晶４Ｂは、それぞれの反射面全体
に、分析試料１から出射され入射スリット２を通過した
蛍光Ｘ線Ｂ２のうち異なる部分が同一角度θで入射し
て、そのうち同一の所定単一波長の蛍光Ｘ線のみを回折
Ｘ線Ｂ３として反射するように、配置されており、その
ために両分光結晶４Ａ，４Ｂの格子面間隔もブラッグの
条件から同一である。なお、分析試料１に含まれる複数
の各元素に固有である波長の相異なる蛍光Ｘ線の分析に
対応すべく、上記所定の単一波長は上述したようにゴニ
オメータで入射角度θを変えることにより、連続的に変
化させることが可能であることや、その他の構成は上記
従来例と同様であり、同一部分または相当部分に同一符
号を付して、その詳しい説明を省略する。
【００１０】上記構成において、この考案は、分光結晶
４Ａ，４Ｂの反射面４ａの湾曲する方向Ａに分光結晶を
複数個設けたので、すなわち、同一の格子面間隔を有す
る複数の分光結晶４Ａ，４Ｂを設け、各分光結晶４Ａ，
４Ｂにおいてその反射面全体に、分析試料１から出射さ
れたＸ線Ｂ２のうち互いに異なる部分が同一角度θで入
射して、同一波長のＸ線Ｂ３が回折されて反射するよう
に、上記複数の分光結晶４Ａ，４Ｂを配置したので、分
光結晶４Ａ，４Ｂを湾曲方向Ａに大きくすることなく、
分析試料１の分析面積を大きくすることができる。した
がって、分光結晶４Ａ，４Ｂの成型誤差が大きくならな
いので、入射スリット２または受光スリット５Ａ，５Ｂ
の開口幅を大きくする必要がないから、バックグラウン
ド成分が増加しない。その結果、分解能、つまり、Ｓ／
Ｎ比が向上して、分析精度が向上する。
４Ａ，４Ｂの反射面４ａの湾曲する方向Ａに分光結晶を
複数個設けたので、すなわち、同一の格子面間隔を有す
る複数の分光結晶４Ａ，４Ｂを設け、各分光結晶４Ａ，
４Ｂにおいてその反射面全体に、分析試料１から出射さ
れたＸ線Ｂ２のうち互いに異なる部分が同一角度θで入
射して、同一波長のＸ線Ｂ３が回折されて反射するよう
に、上記複数の分光結晶４Ａ，４Ｂを配置したので、分
光結晶４Ａ，４Ｂを湾曲方向Ａに大きくすることなく、
分析試料１の分析面積を大きくすることができる。した
がって、分光結晶４Ａ，４Ｂの成型誤差が大きくならな
いので、入射スリット２または受光スリット５Ａ，５Ｂ
の開口幅を大きくする必要がないから、バックグラウン
ド成分が増加しない。その結果、分解能、つまり、Ｓ／
Ｎ比が向上して、分析精度が向上する。
【００１１】なお、上記実施例は、分光結晶４Ａ，４Ｂ
を２つ設けたものについて説明したが、分光結晶は３つ
以上設けてもよい。また、この考案は、ヨハン型分光器
のほかに、ヨハンソン型分光器やログ・スパイラル型分
光器にも適用できる。
を２つ設けたものについて説明したが、分光結晶は３つ
以上設けてもよい。また、この考案は、ヨハン型分光器
のほかに、ヨハンソン型分光器やログ・スパイラル型分
光器にも適用できる。
【００１２】
【考案の効果】以上説明したように、この考案によれ
ば、同一の格子面間隔を有する複数の分光素子を設け、
各分光素子においてその反射面全体に、分析試料から出
射されたＸ線のうち互いに異なる部分が同一角度で入射
して、同一波長のＸ線が回折されて反射するように、上
記複数の分光素子を配置したので、分光素子を湾曲方向
に大きくすることなく、分析面積を大きくすることがで
きる。したがって、分光素子の成型誤差が大きくならな
いので、その所定の同一波長のＸ線について、分解能を
低下させることなく、大きな強度が得られる。
ば、同一の格子面間隔を有する複数の分光素子を設け、
各分光素子においてその反射面全体に、分析試料から出
射されたＸ線のうち互いに異なる部分が同一角度で入射
して、同一波長のＸ線が回折されて反射するように、上
記複数の分光素子を配置したので、分光素子を湾曲方向
に大きくすることなく、分析面積を大きくすることがで
きる。したがって、分光素子の成型誤差が大きくならな
いので、その所定の同一波長のＸ線について、分解能を
低下させることなく、大きな強度が得られる。
【図１】この考案の一実施例を示すＸ線分光器の概略構
成図である。
成図である。
【図２】従来のＸ線分光器を示す概略構成図である。
【図３】従来例において、分光結晶を大きくした状態を
示す概略構成図である。
示す概略構成図である。
１…分析試料、２…入射スリット、３…Ｘ線分光器、４
Ａ，４Ｂ…分光素子、５Ａ，５Ｂ…受光スリット、６…
Ｘ線検出器、Ｂ２…（蛍光）Ｘ線、Ｂ３…回析Ｘ線。
Ａ，４Ｂ…分光素子、５Ａ，５Ｂ…受光スリット、６…
Ｘ線検出器、Ｂ２…（蛍光）Ｘ線、Ｂ３…回析Ｘ線。
Claims (1)
- 【請求項１】 分析試料から出射されたＸ線を分光器に
入射させる単一の入射スリットと、この入射スリットを
通過したＸ線を回析して単色化する湾曲型の分光素子
と、この分光素子によって反射された回析Ｘ線を通過さ
せて単一のＸ線検出器に入射させる受光スリットとを備
えた集中法式のＸ線分光器において、上記分光素子が同一の格子面間隔を有する複数個であ
り、各分光素子においてその反射面全体に、上記分析試
料から出射されたＸ線のうち互いに異なる部分が同一角
度で入射して、同一波長のＸ線が回折されて反射するよ
うに、上記複数の分光素子が配置されている ことを特徴
とするＸ線分光器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1991074239U JP2511225Y2 (ja) | 1991-08-21 | 1991-08-21 | Ｘ線分光器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1991074239U JP2511225Y2 (ja) | 1991-08-21 | 1991-08-21 | Ｘ線分光器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0517554U JPH0517554U (ja) | 1993-03-05 |
| JP2511225Y2 true JP2511225Y2 (ja) | 1996-09-25 |
Family
ID=13541413
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1991074239U Expired - Lifetime JP2511225Y2 (ja) | 1991-08-21 | 1991-08-21 | Ｘ線分光器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2511225Y2 (ja) |
-
1991
- 1991-08-21 JP JP1991074239U patent/JP2511225Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0517554U (ja) | 1993-03-05 |
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