JP2504541B2 - 弗素および/または塩素を含有しているトリフルオロメチルアミノベンゼン並びにその製法 - Google Patents

弗素および/または塩素を含有しているトリフルオロメチルアミノベンゼン並びにその製法

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JP2504541B2 JP63276326A JP27632688A JP2504541B2 JP 2504541 B2 JP2504541 B2 JP 2504541B2 JP 63276326 A JP63276326 A JP 63276326A JP 27632688 A JP27632688 A JP 27632688A JP 2504541 B2 JP2504541 B2 JP 2504541B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、弗素および/または塩素を含有しているト
リフルオロメチルアミノベンゼン類からなる系からの新
規な化合物類並びにそれらの製造方法に関するものであ
る。
現在までに、弗素および/または塩素を含有している
トリフルオロメチルアミノベンゼン類からなる系からは
例えば2,5−ジフルオロ−3−アミノ−ベンゾトリフル
オライド、2−クロロ−3−アミノ−5−フルオロ−ベ
ンゾトリフルオライド、2−フルオロ−3−アミノ−5
−クロロ−ベンゾトリフルオライドおよび2,5,6−トリ
フルオロ−3−クロロ−4−アミノベンゾトリフルオラ
イドの如きほんの数種類の化合物しか開示されていない
(ヨーロッパ公開明細書0,138,359、米国特許明細書4,2
75,210、ドイツ公開明細書2,812,169およびズルナル・
オブシュチェイ・キミイ(Zh.Obshch.Khim.)、33
(7)、2538-64(1963)参照)。
これらの公知の弗素および/または塩素を含有してい
るトリフルオロメチルアミノベンゼン類の数種は多段階
方法により非常に複雑な方法でしか得られず、この型の
他の化合物類はこれまでに全く記載されていない。
2−アミノ−4−フルオロ−ベンゾトリフルオライド
は例えば、無水4−フルオロフタル酸を五塩化燐を用い
て塩素化し、次に三塩化アンチモンを用いて弗素化し、
得られたトリフルオロメチル−フルオロ−ベンゾイルフ
ルオライドを対応するアミドに転化させ、そしてこれか
ら次亜臭素酸塩を用いるホフマン減成により対応するア
ニリンを得ることにより製造できる(ズルナル・オブシ
ュチェイ・キミイ(Zh.Obshch.Khim.)、33(7)、253
8-64(1963)参照)。多段階工程は不利である。
この方法は他の弗素および/または塩素を含有してい
るトリフルオロメチルアミノベンゼン類の製造には応用
できず、その理由は別の置換形式では反応性が異なるか
らである。
トリフルオロメチル基が1−位置にあり、しかも a)アミノ基が2−位置にあり、そして1個の弗素原子
が6−位置にあるかまたは2個の弗素原子が5−および
6−位置にあるかまたは1個の弗素原子が5−位置にあ
り且つ1個の塩素原子が6−位置にあるか、或いは b)アミノ基が3−位置にあり、そして1個の弗素原子
が2−位置にあるかまたは2個の弗素原子が2−および
6−位置にあるかまたは1個の塩素原子が2−位置にあ
り且つ1個の弗素原子が6−位置にあるか、或いは c)アミノ基が4−位置にあり、そして1個の弗素原子
が2−位置にあり且つさらに1個の別の弗素原子が3−
もしくは6−位置にあるかまたは2個の別の塩素原子が
5−および6−位置にあるかまたは1個の別の弗素原子
が6−位置にあり且つ2個の塩素原子が3−および5−
位置にあるかまたは1個の塩素原子が3−位置にあるか
または2個の塩素原子が3−および5−位置にあるか、
或いは d)アミノ基が4−位置にあり、そして2個の弗素原子
が3−および5−位置にあるかまたは2個の塩素原子が
2−および3−位置にあるかまたは1個の弗素原子が3
−位置にあり且つ1個の塩素原子が5−位置にあるか、
或いは e)アミノ基が2−、3−または4−位置にあり、しか
も3個の塩素原子が芳香族環上にある、弗素および/ま
たは塩素を含有している新規なトリフルオロメチルアミ
ノベンゼン類を今見いだした。
詳細に述べると、上記のa)〜d)部分の化合物は2
−アミノ−6−フルオロ−ベンゾトリフルオライド、2
−アミノ−5,6−ジフルオロ−ベンゾトリフルオライ
ド、2−アミノ−5−フルオロ−6−クロロ−ベンゾト
リフルオライド、2−フルオロ−3−アミノ−ベンゾト
リフルオライド、2,6−ジフルオロ−3−アミノ−ベン
ゾトリフルオライド、2−クロロ−3−アミノ−6−フ
ルオロ−ベンゾトリフルオライド、2,3−ジフルオロ−
4−アミノ−ベンゾトリフルオライド、2,6−ジフルオ
ロ−4−アミノ−ベンゾトリフルオライド、2,5,6−ト
リフルオロ−4−アミノ−ベンゾトリフルオライド、2,
6−ジフルオロ−3,5−ジクロロ−4−アミノ−ベンゾト
リフルオライド、2−フルオロ−3−クロロ−4−アミ
ノ−ベンゾトリフルオライド、2−フルオロ−3,5−ジ
クロロ−4−アミノ−ベンゾトリフルオライド、3,5−
ジフルオロ−4−アミノ−ベンゾトリフルオライド、2,
3−ジクロロ−4−アミノ−ベンゾトリフルオライドお
よび3−フルオロ−4−アミノ−5−クロロ−ベンゾト
リフルオライドである。e)部分からの化合物では、2,
5,6−トリフルオロ−4−アミノ−ベンゾトリフルオラ
イド、3−アミノ−4,5,6−トリフルオロ−ベンゾトリ
フルオライドおよび2,4,6−トリフルオロ−3−アミノ
−ベンゾトリフルオライドが挙げられる。
これらの化合物の中では、2−アミノ−6−フルオロ
−ベンゾトリフルオライド、2−フルオロ−3−アミノ
−ベンゾトリフルオライド、2,6−ジフルオロ−3−ア
ミノ−ベンゾトリフルオライド、2,3−ジフルオロ−4
−アミノ−ベンゾトリフルオライド、2,6−ジフルオロ
−4−アミノ−ベンゾトリフルオライド、3,5−ジフル
オロ−4−アミノ−ベンゾトリフルオライド、3−フル
オロ−4−アミノ−5−クロロ−ベンゾトリフルオライ
ドおよび2,5,6−トリフルオロ−4−アミノ−ベンゾト
リフルオライドが好適である。
本発明はまた、本発明に従う弗素および/または塩素
を含有しているトリフルオロメチルアミノベンゼン類の
製造にも関するものである。
トリフルオロメチル基が1−位置にあり、しかも a)アミノ基が2−位置にあり、そして1個の弗素原子
が6−位置にあるかまたは2個の弗素原子が5−および
6−位置にあるかまたは1個の弗素原子が5−位置にあ
り且つ1個の塩素原子が6−位置にあるか、或いは b)アミノ基が3−位置にあり、そして1個の弗素原子
が2−位置にあるかまたは2個の弗素原子が2−および
6−位置にあるかまたは1個の塩素原子が2−位置にあ
り且つ1個の弗素原子が6−位置にあるか、或いは c)アミノ基が4−位置にあり、そして1個の弗素原子
が2−位置にあり且つさらに1個の別の弗素原子が3−
もしくは6−位置にあるかまたは2個の別の弗素原子が
5−および6−位置にあるかまたは1個の別の弗素原子
が6−位置にあり且つ2個の塩素原子が3−および5−
位置にあるかまたは1個の塩素原子が3−位置にあるか
または2個の塩素原子が3−および5−位置にあるか、
或いは d)アミノ基が4−位置にあり、そして2個の弗素原子
が3−および5−位置にあるかまたは2個の塩素原子が
2−および3−位置にあるかまたは1個の弗素原子が3
−位置にあり且つ1個の塩素原子が5−位置にあるか、
或いは e)アミノ基が2−、3−または4−位置にあり、しか
も3個の塩素原子が芳香族環上にある、弗素および/ま
たは塩素を含有しているトリフルオロメチルアミノベン
ゼン類の好適な製造方法は、弗素および/または塩素を
含有している対応するトリフルオロメチルベンゼン類を
ニトロ化し、そしてこのようにして得られた弗素および
/または塩素を含有しているトリフルオロメチルニトロ
ベンゼン類を還元することにより特徴づけられている。
本発明に従うこの方法で使用される弗素および/また
は塩素を含有しているがアミノ基を含まないトリフルオ
ロメチルベンゼン類は公知である(例えばザ・ジャーナ
ル・オブ・ザ・ケミカル・ソサイエテイ(J.Chem.So
c.)、C、(8)1547-1549(1971)およびザ・ジャー
ナル・オブ・ザ・カナディアン・ケミカル・ソサイエテ
イ(Can.J.Chem.Soc.)、57(7)807-812(1979)参
照)。
ニトロ化は一般的なニトロ化剤、例えば硝酸および硫
酸の混合物、を用いて実施できる。この方法における温
度は例えば0〜80℃の範囲内であることができ、好適に
はそれは20〜50℃である。ニトロ化剤は例えば、反応混
合物中で1モルの出発化合物当たり0.8〜1.5モルのニト
ロ化剤が生成するような量で使用できる。好適には、1
モルの出発化合物当たり1〜1.1モルのニトロ化剤が生
成するのに充分なニトロ化剤が使用される。ニトロ化は
希望により不活性有機溶媒の存在下で実施することもで
きる。例えば塩化メチレンが適している。
その後の還元は、例えば還元用の金属または金属塩を
使用して、化学的に実施することができる。例えば、
鉄、亜鉛、錫、塩化錫(II)および塩化チタン(III)
が適している。この型の還元剤は好適には化学量論的量
で使用される。この型の還元用には、ニトロ化合物は例
えばそれらがニトロ化中で生成するような形で使用する
こともまたは純粋形で使用することもできる。
還元は水素を用いて接触的に実施することもでき、こ
の場合には例えば金属を含有している触媒または金属か
らなる触媒を使用できる。元素の周期律表の副族VIIIの
金属、特にパラジウム、白金およびニッケル、が例えば
適している。該金属は元素状でまたは化合物形で、そし
て特に活性化された形で、例えばラネー金属状でまたは
担体物質に適用された金属もしくは金属化合物状で、存
在できる。ラネーニッケル、炭素上のパラジウムおよび
酸化アルミニウム上のパラジウムが好適である。
接触還元は好適には溶媒の存在下で実施される。アル
コール類およびエーテル類、例えばメタノール、エタノ
ールおよびテトラヒドロフラン、が適している。接触還
元は例えば10〜60℃の範囲内の温度および例えば1〜10
0バールの範囲内の水素圧において実施できる。水素の
過剰量は一般的に厳密なものではない。
酸を含まないニトロ化合物が接触還元用に好適に使用
される。従って、製法によってはそれらを必要に応じて
例えば水洗によりまたは塩基を用いる中和により酸を除
去しなければならない。
化学的還元または接触水酸化後に存在している反応混
合物の処理は、例えば、存在しているかもしれない固体
成分類を最初に濾別しそして必要に応じて水で洗浄した
後に濾液を蒸留することにより、実施できる。異性体類
の混合物が反応生成物として製造される場合には、それ
らを任意に精留により分離することができる。
上記の接触還元の変法では、反応は塩基の存在下で、
例えばアルカリ金属の水酸化物もしくは炭酸塩または第
三級アミンの存在下で、実施される。例えばトリエチル
アミンまたはピリジンの如き第三級アミン類が好適であ
る。接触還元で各場合とも1モルのニトロ化合物当たり
1当量の塩基を使用すると、接触還元中に1当量の塩素
原子を後者からさらに除去することができる。このよう
にして例えば弗素および塩素を含有しているニトロベン
ゾフルオライドから塩素を含まない弗素含有アミノベン
ゾトリフルオライドが得られる。
トリフルオロメチル基が1−位置にあり、しかも a′)アミノ基が2−位置にあり、そして1個の弗素原
子が6−位置にあるかまたは2個の弗素原子が5−およ
び6−位置にあるかまたは1個の弗素原子が5−位置に
あり且つ1個の塩素原子が6−位置にあるか、或いは b′)アミノ基が4−位置にあり、そして1個の弗素原
子が2−位置にあり且つさらに1個の別の弗素原子が3
−もしくは6−位置にあるかまたは2個の別の弗素原子
が5−および6−位置にあるかまたは1個の別の弗素原
子が6−位置にあり且つ2個の塩素原子が3−および5
−位置にあるかまたは1個の塩素原子が3−位置にある
かまたは2個の塩素原子が3−および5−位置にある
か、或いは c′)アミノ基が4−位置にあり、そして2個の弗素原
子が3−および5−位置にあるかまたは2個の塩素原子
が2−および3−位置にあるかまたは1個の弗素原子が
3−位置にあり且つ1個の塩素原子が5−位置にある
か、或いは d′)アミノ基が2−または4−位置にあり、しかも3
個の塩素原子が芳香族環上にある、弗素および/または
塩素を含有しているトリフルオロメチルアミノベンゼン
類の製造に関する別の方法は、弗素および/または塩素
を含有している対応する2−および/または4−ハロゲ
ノ−トリフルオロメチル−ベンゼン類を高圧下で有機溶
媒の存在下でアンモニアと反応させることにより特徴づ
けられている。
この方法で使用される2−および/または4−ハロゲ
ノ−トリフルオロメチル−ベンゼン類は公知である(イ
ズベスチア・シブ・オツデレミイ・アカデミイ・ナウク
・SSSR・シリア・キミチェスキス・ナウク(Izv.Sib.Ot
d.Akad.Nauk.SSSR,Ser.Khim.Nauk.)、(2)、133-141
(1977)参照)。それらは好適には2−および/または
4−クロロ−トリフルオロメチル−ベンゼン類或いは2
−および/または4−フルオロ−トリフルオロメチル−
ベンゼン類である。
アンモニアは液体もしくは気体状で、例えば物質(気
体状もしくは液体状)中の形状または水溶液状で加える
ことができる。2−および/または4−位置でNH2基に
より置換しようとする1モルのハロゲン原子当たり、1
〜10モルのアンモニアを使用できる。好適にはこの量は
3〜8モルである。この反応用に適している温度は例え
ば80〜160℃であり、100〜130℃の範囲が好適である。
反応は閉鎖容器中で反応温度に調節されているアンモニ
アの固有圧力下で、例えば10〜20バールの範囲内で、実
施できる。それより高い圧力、例えば100バールまでの
圧力、も使用できる。
この反応用の溶媒としては、多種類の不活性または実
質的に不活性の有機溶媒を使用できる。それらは例えば
アルコール類、エーテル類、スルホン類および芳香族炭
化水素類である。
例えば反応混合物を最初に冷却し、圧力を解放し、次
に溶媒を除去し、そしてその後に好適には減圧下で蒸留
することにより、反応後に存在している反応混合物から
希望する反応生成物が得られる。
本発明に従う弗素および/または塩素を含有している
トリフルオロメチルアミノベンゼン類は有用な中間生成
物である。例えば、それらをジアゾ化条件下でアクリロ
ニトリルと反応させてα−クロロ−β−フェニルプロピ
オニトリルを得て、それのフェニル部分(NH2基を除
く)を各場合ともここで使用した本発明に従う生成物と
同じ方法で置換し、これを脱ハロゲン化水素化により対
応するシンナモニトリルに転化させ、そしてそれからス
ルホニルメチルイソシアニドとの反応により3−シアノ
−4−フェニル−ピロールを得て、それのフェニル部分
(NH2基を除く)を各場合ともここで使用した本発明に
従う生成物と同じ方法で置換する。この型の3−シアノ
−4−フェニル−ピロール類は、特にプラスモジオフォ
ロミセテス(P lasmodiophoromycetes)、卵菌類(O om
ycetes)、キトリジオミセテス(C hytridiomycete
s)、接合菌類(Z ygomycetes)、嚢子菌類(A scomyce
tes)、担子菌類(B asidomycetes)、および不完全菌
類(D euteromycetes)を防除するための、殺菌・殺カ
ビ剤(fungicides)として特別良好な活性を有する。
そのような3−シアノ−4−フェニル−ピロール類、
それらの製造、並びに有害生物防除剤(pesticides)と
してのそれらの使用は親会社による別の特許出願に包含
されている。
実施例 実施例1 a)220gのニトロ化用の酸(33重量%の硝酸、67重量%
の硫酸)を50〜55℃において162gの2,6−ジフルオロ−
ベンゾトリフルオライドに加えた。1時間の反応時間後
に、混合物を氷上に注ぎ、有機相をジクロロメタンを用
いて分離し、そして乾燥後に蒸留した。22ミリバールに
おける96〜100℃の沸点および1.4570の屈折率▲n20 D
を有する178gの3−ニトロ−2,6−ジフルオロ−ベンゾ
トリフルオライドが得られた。
b)680mlのテトラヒドロフラン中の178gのa)に従い
得られたニトロ化合物を最初に15gのラネーニッケルと
一緒に水素化装置中に加え、そして混合物を25〜45℃に
おいて30〜50バールの水素圧を使用して水素化した。も
はや水素が吸収されなくなった時に、混合物を冷却し、
そして圧力を解放した。濾過された反応混合物の蒸留に
より、18ミリバールにおける89〜90℃の沸点を有する14
7gの2,6−ジフルオロ−3−アミノ−ベンゾトリフルオ
ライドが得られた。
実施例2 最初に200mlのテトラヒドロフランおよび50gの2,4,6
−トリフルオロベンゾトリフルオライドをステンレス鋼
製のオートクレーブ中に加え、そしてそれを30mlの液体
アンモニアを用いて加圧した。次に、混合物を撹拌しな
がら6時間にわたり120℃に冷却した。冷却しそして圧
力を解放した後に、反応混合物を分別蒸留にかけた。15
gの2−アミノ−4,6−ジフルオロ−ベンゾトリフルオラ
イドが12ミリバールにおける57〜58℃の沸点において得
られた。少量の中間生成物の蒸留後に、32gの2,6−ジフ
ルオロ−4−アミノ−ベンゾトリフルオライドが16ミリ
バールにおける103〜105℃の沸点において通過した。得
られた2,6−ジフルオロ−4−アミノ−ベンゾトリフル
オライドの融点は66℃であった。
実施例3 最初に500gの3,4,5−トリフルオロ−ベンゾトリフル
オライドをステンレス鋼製のオートクレーブ中に加え、
2000mlのテトラヒドロフランを加え、そしてそれを150g
の液体アンモニアを用いて加圧した。オートクレーブを
撹拌しながら5時間にわたり120〜130℃に加熱し、次に
冷却し、そして圧力を20℃において解放した。溶媒およ
び出発物質の他に、16ミリバールにおける58〜60℃の沸
点を有する272gの3,5−ジフルオロ−4−アミノベンゾ
トリフルオライドが得られた。
実施例4 最初に500mlのテトラヒドロフラン中の200gの2,3,4−
トリフルオロベンゾトリフルオライドをオートクレーブ
中に加え、そしてそれを60mlの液体アンモニアを用いて
加圧した。130℃で6時間に撹拌した後に(最大圧力18
バール)、混合物を冷却し、そして圧力を解放した。蒸
留により、26ミリバールにおける60〜64℃の沸点を有す
る72gの2−アミノ−3,4−ジフルオロ−ベンゾトリフル
オライドおよび26ミリバールにおける92〜93℃の沸点を
有する92gの2,3−ジフルオロ−4−アミノ−ベンゾトリ
フルオライドが得られた。
実施例5 最初に300mlのテトラヒドロフラン中の100gの2,6−ジ
フルオロベンゾトリフルオライドをステンレス鋼製のオ
ートクレーブ中に加え、そしてそれを30mlの液体アンモ
ニアを用いて加圧した。125℃に段階的に加熱した後
に、オートクレーブをこの温度で5時間撹拌した。20℃
に冷却した後に、圧力を20℃において解放し、そして溶
液を減圧下で蒸留した。8ミリバールにおける49〜50℃
の沸点を有する46gの2−アミノ−6−フルオロ−ベン
ゾトリフルオライドが得られた。
実施例6 a)最初に100gの2−フルオロ−5−クロロ−ベンゾト
リフルオライドを撹拌されている装置中に加え、そして
120gのニトロ化用の酸(33重量%の硝酸、67重量%の硫
酸)を40℃において滴々添加した。混合物を40〜45℃に
おいて1時間撹拌し、次に冷却し、そして氷上に注い
だ。有機相をジクロロメタンを用いて抽出し、乾燥し、
そして蒸留した。91.3重量%の2−フルオロ−5−クロ
ロ−3−ニトロ−ベンゾトリフルオライドを含有してい
る112gのニトロ化合物が18ミリバールにおける92〜94℃
の沸点において通過した。
b)500mlgのテトラヒドロフラン中の111gのa)に従い
得られたニトロ化合物を最初に水素化装置中に加え、そ
して50gのトリエチルアミンおよび15gのラネーニッケル
を連続して加えた。装置に水素を流した後に、混合物を
25〜120℃において30〜80バールの水素圧を使用して水
素化した。水素の吸収が完了した後に、混合物を冷却
し、そして圧力を解放した。反応混合物を濾過し、テト
ラヒドロフランで洗浄し、そして一緒にした濾液からテ
トラヒドロフランの大部分を大気圧においてカラムを介
して蒸留除去した。残渣を200mlの水と共に撹拌し、次
に有機相を分離し、乾燥し、そして減圧下で精留にかけ
た。16ミリバールにおける70〜72℃の沸点において52g
の2−フルオロ−3−アミノ−ベンゾトリフルオライド
が通過した。
実施例7 最初に200mlのテトラヒドロフラン中の110gの2,3,4,6
−テトラフルオロ−ベンゾトリフルオライドを0.7リッ
トルのステンレス鋼製のオートクレーブ中に加え、そし
てそれを30mlの液体アンモニアを用いて加圧した。混合
物を次に3時間にわたり100℃に加熱し、10バールの最
大圧力に調節した。冷却後に、圧力を解放し、そして液
体相を分別蒸留にかけた。8ミリバールにおける47〜48
℃の沸点を有する42gの2−アミノ−3,4,6−トリフルオ
ロ−ベンゾトリフルオライドが最初に得られ、次に中間
生成物の蒸留後に、8ミリバールにおける75〜78℃の沸
点を有する46gの2,5,6−トリフルオロ−4−アミノ−ベ
ンゾトリフルオライドが得られた。
実施例8 a)最初に40gの2,3,4−トリフルオロベンゾトリフルオ
ライドを30℃において撹拌されているガラス製の装置中
に加え、そして45gの混酸(33重量%の硝酸、67重量%
の硫酸)を滴々添加した。混合物を次に30℃において1
時間そして40℃において1時間撹拌し、次にさらに30ml
の混酸を加え、そしてそれを40℃において再び2時間撹
拌した。混合物を次に冷却し、バッチを氷上に注ぎ、有
機相をジクロロメタンを用いて抽出し、分離し、そして
乾燥した。分別蒸留すると、35gの2,3,4−トリフルオロ
−5−ニトロ−ベンゾトリフルオライドが10ミリバール
において60〜62℃で生成した。
b)最初に150mlgのテトラヒドロフラン中の35gの2,3,4
−トリフルオロ−5−ニトロ−ベンゾトリフルオライド
を水素化装置中に加え、3gのラネーニッケルを加え、そ
して窒素を流した後に、混合物を25〜45℃において30バ
ールの水素圧を使用して一定圧力となるまで水素化し
た。水素の吸収が完了した後に、圧力を解放し、反応溶
液を濾過し、そして次に分別蒸留した。15ミリバールに
おける82〜83℃の沸点を有する27gの2,3,4−トリフルオ
ロ−5−アミノ−ベンゾトリフルオライドが得られた。
実施例9 a)撹拌されているガラス製の装置中に最初に加えられ
ている100gの2,4,6−トリフルオロ−ベンゾトリフルオ
ライドに120gのニトロ化用の酸(33重量%の硝酸、67重
量%の硫酸)を30℃において加えた。混合物を30℃にお
いて1時間そして40〜45℃において1時間撹拌し、次に
冷却し、そしてバッチを氷上に注いだ。有機相をジクロ
ロメタンを用いて分離し、そして乾燥後に蒸留した。22
ミリバールにおける78〜80℃の沸点において1.4340の屈
折率▲n20 D▼を有する98gの2,4,6−トリフルオロ−5−
ニトロ−ベンゾトリフルオライドが得られた。
b)上記で得られた98gの2,4,6−トリフルオロ−5−ニ
トロ−ベンゾトリフルオライドを水素化装置中で400ml
のテトラヒドロフラン中に加え、そして8gのラネーニッ
ケルを加えた。混合物を次に25〜45℃において30〜50バ
ールの水素圧を使用して水素化した。過剰の水素圧の解
放後に、反応溶液を濾過し、そして次に蒸留した。12ミ
リバールにおける70℃の沸点および1.4330の屈折率▲n
20 D▼を有する85gの2,4,6−トリフルオロ−5−アミノ
−ベンゾトリフルオライドが得られた。
実施例10 最初に600mlのテトラヒドロフラン中の225gの2,4,5−
トリフルオロベンゾトリフルオライドをオートクレーブ
中に加え、そしてそれを100mlの液体アンモニアを用い
て加圧した。混合物を400rpmで撹拌しながら8時間にわ
たり140℃に加熱し、そして次に20℃に冷却した。未使
用のアンモニアの圧力を解放した後に、バッチを蒸留し
た。主要量は78℃/18ミリバールで蒸留され、そしてそ
れはNMR分光器の測定によると154gの収量を有する2,5−
ジフルオロ−4−アミノ−ベンゾトリフルオライドであ
った。(▲n20 D▼:1.4560)。
本発明の主なる特徴および態様は以下のとおりであ
る。
1. トリフルオロメチル基が1−位置にあり、しかも a)アミノ基が2−位置にあり、そして1個の弗素原子
が6−位置にあるかまたは2個の弗素原子が5−および
6−位置にあるかまたは1個の弗素原子が5−位置にあ
り且つ1個の塩素原子が6−位置にあるか、或いは b)アミノ基が3−位置にあり、そして1個の弗素原子
が2−位置にあるかまたは2個の弗素原子が2−および
6−位置にあるかまたは1個の塩素原子が2−位置にあ
り且つ1個の弗素原子が6−位置にあるか、或いは c)アミノ基が4−位置にあり、そして1個の弗素原子
が2−位置にあり且つさらに1個の別の弗素原子が3−
もしくは6−位置にあるかまたは2個の別の弗素原子が
5−および6−位置にあるかまたは1個の別の弗素原子
が6−位置にあり且つ2個の塩素原子が3−および5−
位置にあるかまたは1個の塩素原子が3−位置にあるか
または2個の塩素原子が3−および5−位置にあるか、
或いは d)アミノ基が4−位置にあり、そして2個の弗素原子
が3−および5−位置にあるかまたは2個の塩素原子が
2−および3−位置にあるかまたは1個の弗素原子が3
−位置にあり且つ1個の塩素原子が5−位置にあるか、
或いは e)アミノ基が2−、3−または4−位置にあり、しか
も3個の塩素原子が芳香族環上にあることを特徴とす
る、弗素および/または塩素を含有しているトリフルオ
ロメチルアミノベンゼン類。
2. 2−アミノ−6−フルオロ−ベンゾトリフルオライ
ド、2−アミノ−5,6−ジフルオロ−ベンゾトリフルオ
ライド、2−アミノ−5−フルオロ−6−クロロ−ベン
ゾトリフルオライド、2−フルオロ−3−アミノ−ベン
ゾトリフルオライド、2,6−ジフルオロ−3−アミノ−
ベンゾトリフルオライド、2−クロロ−3−アミノ−6
−フルオロ−ベンゾトリフルオライド、2,3−ジフルオ
ロ−4−アミノ−ベンゾトリフルオライド、2,6−ジフ
ルオロ−4−アミノ−ベンゾトリフルオライド、2,5,6
−トリフルオロ−4−アミノ−ベンゾトリフルオライ
ド、2,6−ジフルオロ−3,5−ジクロロ−4−アミノ−ベ
ンゾトリフルオライド、2−フルオロ−3−クロロ−4
−アミノ−ベンゾトリフルオライド、2−フルオロ−3,
5−ジクロロ−4−アミノ−ベンゾトリフルオライド、
3,5−ジフルオロ−4−アミノ−ベンゾトリフルオライ
ド、2,3−ジクロロ−4−アミノ−ベンゾトリフルオラ
イド、3−フルオロ−4−アミノ−5−クロロ−ベンゾ
トリフルオライド、2,5,6−トリフルオロ−4−アミノ
−ベンゾトリフルオライド、4−アミノ−4,5,6−トリ
フルオロ−ベンゾトリフルオライドまたは2,4,6−トリ
フルオロ−3−アミノ−ベンゾトリフルオライドであ
る、上記1に記載の弗素および/または塩素を含有して
いるトリフルオロメチルアミノベンゼン類。
3. トリフルオロメチル基が1−位置にあり、しかも a)アミノ基が2−位置にあり、そして1個の弗素原子
が6−位置にあるかまたは2個の弗素原子が5−および
6−位置にあるかまたは1個の弗素原子が5−位置にあ
り且つ1個の塩素原子が6−位置にあるか、或いは b)アミノ基が3−位置にあり、そして1個の弗素原子
が2−位置にあるかまたは2個の弗素原子が2−および
6−位置にあるかまたは1個の塩素原子が2−位置にあ
り且つ1個の弗素原子が6−位置にあるか、或いは c)アミノ基が4−位置にあり、そして1個の弗素原子
が2−位置にあり且つさらに1個の別の弗素原子が3−
もしくは6−位置にあるかまたは2個の別の弗素原子が
5−および6−位置にあるかまたは1個の別の弗素原子
が6−位置にあり且つ2個の塩素原子が3−および5−
位置にあるかまたは1個の塩素原子が3−位置にあるか
または2個の塩素原子が3−および5−位置にあるか、
或いは d)アミノ基が4−位置にあり、そして2個の弗素原子
が3−および5−位置にあるかまたは2個の塩素原子が
2−および3−位置にあるかまたは1個の弗素原子が3
−位置にあり且つ1個の塩素原子が5−位置にあるか、
或いは e)アミノ基が2−、3−または4−位置にあり、しか
も3個の塩素原子が芳香族環上にある、弗素および/ま
たは塩素を含有しているトリフルオロメチルアミノベン
ゼン類の製造方法において、弗素および/または塩素を
含有している対応するトリフルオロメチルベンゼン類を
ニトロ化し、そしてこのようにして得られた弗素および
/または塩素を含有しているトリフルオロメチルニトロ
ベンゼン類を還元することを特徴とする方法。
4. ニトロ化を硝酸および硫酸の混合物を用いて0〜80
℃の範囲内の温度において実施することを特徴とする、
上記3に記載の方法。
5. 還元を化学的にまたは水素を使用して接触的に実施
することを特徴とする、上記3および4に記載の方法。
6. 還元を還元用金属または金属塩を使用して実施する
ことを特徴とする、上記3〜5に記載の方法。
7. 水素を使用し、元素の周期律表の副族VIIIの金属を
金属形でまたは化合物形で含有している触媒を使用し、
そして10〜60℃の範囲内の温度および1〜100バールの
範囲内の水素圧において、還元を接触的に実施すること
を特徴とする、上記3〜5に記載の方法。
8. 還元を塩基の存在下で実施することを特徴とする、
上記3〜5および7に記載の方法。
9. トリフルオロメチル基が1−位置にあり、しかも a′)アミノ基が2−位置にあり、そして1個の弗素原
子が6−位置にあるかまたは2個の弗素原子が5−およ
び6−位置にあるかまたは1個の弗素原子が5−位置に
あり且つ1個の塩素原子が6−位置にあるか、或いは b′)アミノ基が4−位置にあり、そして1個の弗素原
子が2−位置にあり且つさらに1個の別の弗素原子が3
−もしくは6−位置にあるかまたは2個の別の弗素原子
が5−および6−位置にあるかまたは1個の別の弗素原
子が6−位置にあり且つ2個の塩素原子が3−および5
−位置にあるかまたは1個の塩素原子が3−位置にある
かまたは2個の塩素原子が3−および5−位置にある
か、或いは c′)アミノ基が4−位置にあり、そして2個の弗素原
子が3−および5−位置にあるかまたは2個の塩素原子
が2−および3−位置にあるかまたは1個の弗素原子が
3−位置にあり且つ1個の塩素原子が5−位置にある
か、或いは d′)アミノ基が2−または4−位置にあり、しかも3
個の塩素原子が芳香族環上にある、弗素および/または
塩素を含有しているトリフルオロメチルアミノベンゼン
類の製造方法において、弗素および/または塩素を含有
している対応する2−および/または4−ハロゲノ−ト
リフルオロメチル−ベンゼン類を高圧下で有機溶媒の存
在下でアンモニアと反応させることを特徴とする方法。

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】トリフルオロメチル基が1−位置にあり、
    しかも a)アミノ基が2−位置にあり、そして1個の弗素原子
    が6−位置にあるかまたは2個の弗素原子が5−および
    6−位置にあるかまたは1個の弗素原子が5−位置にあ
    り且つ1個の塩素原子が6−位置にあるか、或いは b)アミノ基が3−位置にあり、そして1個の弗素原子
    が2−位置にあるかまたは2個の弗素原子が2−および
    6−位置にあるかまたは1個の塩素原子が2−位置にあ
    り且つ1個の弗素原子が6−位置にあるか、或いは c)アミノ基が4−位置にあり、そして1個の弗素原子
    が2−位置にあり且つさらに1個の別の弗素原子が3−
    もしくは6−位置にあるかまたは2個の別の弗素原子が
    5−および6−位置にあるかまたは1個の別の弗素原子
    が6−位置にあり且つ2個の塩素原子が3−および5−
    位置にあるかまたは1個の塩素原子が3−位置にあるか
    または2個の塩素原子が3−および5−位置にあるか、
    或いは d)アミノ基が4−位置にあり、そして2個の弗素原子
    が3−および5−位置にあるかまたは2個の塩素原子が
    2−および3−位置にあるかまたは1個の弗素原子が3
    −位置にあり且つ1個の塩素原子が5−位置にあるか、
    或いは e)アミノ基が2−、3−または4−位置にあり、しか
    も3個の塩素原子が芳香族環上にあることを特徴とす
    る、弗素および/または塩素を含有しているトリフルオ
    ロメチルアミノベンゼン類。
  2. 【請求項2】トリフルオロメチル基が1−位置にあり、
    しかも a)アミノ基が2−位置にあり、そして1個の弗素原子
    が6−位置にあるかまたは2個の弗素原子が5−および
    6−位置にあるかまたは1個の弗素原子が5−位置にあ
    り且つ1個の塩素原子が6−位置にあるか、或いは b)アミノ基が3−位置にあり、そして1個の弗素原子
    が2−位置にあるかまたは2個の弗素原子が2−および
    6−位置にあるかまたは1個の塩素原子が2−位置にあ
    り且つ1個の弗素原子が6−位置にあるか、或いは c)アミノ基が4−位置にあり、そして1個の弗素原子
    が2−位置にあり且つさらに1個の別の弗素原子が3−
    もしくは6−位置にあるかまたは2個の別の弗素原子が
    5−および6−位置にあるかまたは1個の別の弗素原子
    が6−位置にあり且つ2個の塩素原子が3−および5−
    位置にあるかまたは1個の塩素原子が3−位置にあるか
    または2個の塩素原子が3−および5−位置にあるか、
    或いは d)アミノ基が4−位置にあり、そして2個の弗素原子
    が3−および5−位置にあるかまたは2個の塩素原子が
    2−および3−位置にあるかまたは1個の弗素原子が3
    −位置にあり且つ1個の塩素原子が5−位置にあるか、
    或いは e)アミノ基が2−、3−または4−位置にあり、しか
    も3個の塩素原子が芳香族環上にある、弗素および/ま
    たは塩素を含有しているトリフルオロメチルアミノベン
    ゼン類の製造方法において、弗素および/または塩素を
    含有している対応するトリフルオロメチルベンゼン類を
    ニトロ化し、そしてこのようにして得られた弗素および
    /または塩素を含有しているトリフルオロメチルニトロ
    ベンゼン類を還元することを特徴とする方法。
  3. 【請求項3】トリフルオロメチル基が1−位置にあり、
    しかも a′)アミノ基が2−位置にあり、そして1個の弗素原
    子が6−位置にあるかまたは2個の弗素原子が5−およ
    び6−位置にあるかまたは1個の弗素原子が5−位置に
    あり且つ1個の塩素原子が6−位置にあるか、或いは b′)アミノ基が4−位置にあり、そして1個の弗素原
    子が2−位置にあり且つさらに1個の別の弗素原子が3
    −もしくは6−位置にあるかまたは2個の別の弗素原子
    が5−および6−位置にあるかまたは1個の別の弗素原
    子が6−位置にあり且つ2個の塩素原子が3−および5
    −位置にあるかまたは1個の塩素原子が3−位置にある
    かまたは2個の塩素原子が3−および5−位置にある
    か、或いは c′)アミノ基が4−位置にあり、そして2個の弗素原
    子が3−および5−位置にあるかまたは2個の塩素原子
    が2−および3−位置にあるかまたは1個の弗素原子が
    3−位置にあり且つ1個の塩素原子が5−位置にある
    か、或いは d′)アミノ基が2−または4−位置にあり、しかも3
    個の塩素原子が芳香族環上にある、弗素および/または
    塩素を含有しているトリフルオロメチルアミノベンゼン
    類の製造方法において、弗素および/または塩素を含有
    している対応する2−および/または4−ハロゲノ−ト
    リフルオロメチル−ベンゼン類を高圧下で有機溶媒の存
    在下でアンモニアと反応させることを特徴とする方法。
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