JP2501061Y2 - レ―ザマ―キング装置 - Google Patents
レ―ザマ―キング装置Info
- Publication number
- JP2501061Y2 JP2501061Y2 JP1989098004U JP9800489U JP2501061Y2 JP 2501061 Y2 JP2501061 Y2 JP 2501061Y2 JP 1989098004 U JP1989098004 U JP 1989098004U JP 9800489 U JP9800489 U JP 9800489U JP 2501061 Y2 JP2501061 Y2 JP 2501061Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- laser light
- marking
- convex cylindrical
- cylindrical lens
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Description
【考案の詳細な説明】 技術分野 本考案はレーザマーキング装置に関し、特にレーザ発
振器から出射されたレーザ光をガラスマスクに照射し、
ガラスマスクを透過したレーザ光により文字などのパタ
ーンを被加工物上に結像させるレーザマーキング装置に
関する。
振器から出射されたレーザ光をガラスマスクに照射し、
ガラスマスクを透過したレーザ光により文字などのパタ
ーンを被加工物上に結像させるレーザマーキング装置に
関する。
従来技術 従来、この種のレーザマーキング装置においては、第
５図に示すように、レーザ発振器１から発振されたレー
ザ光が導入部ミラー2,3を介してビームエキスパンダ４
に入射されると、レーザ光はビームエキスパンダ４で拡
大されて平行に伝播され、レデューサ25によって断面が
楕円のビームに整形される。
５図に示すように、レーザ発振器１から発振されたレー
ザ光が導入部ミラー2,3を介してビームエキスパンダ４
に入射されると、レーザ光はビームエキスパンダ４で拡
大されて平行に伝播され、レデューサ25によって断面が
楕円のビームに整形される。
レデューサ25によって整形されたレーザ光はガラスマ
スク10に照射され、ガラスマスク10を透過することによ
り文字などのパターンとして反射鏡11および結像レンズ
12を介して加工面13上に結像する。
スク10に照射され、ガラスマスク10を透過することによ
り文字などのパターンとして反射鏡11および結像レンズ
12を介して加工面13上に結像する。
このとき、ガラスマスク10においては、第６図に示す
ように、文字（「ABCD」）などのパターンが配列された
長方形の領域が楕円形のレーザ光に内接するように形成
されている。
ように、文字（「ABCD」）などのパターンが配列された
長方形の領域が楕円形のレーザ光に内接するように形成
されている。
このような従来のレーザマーキング装置では、ガラス
マスク10上の文字などのパターンの配列が全体として長
方形の領域を形成する場合、ガラスマスク10に照射され
るレーザ光の断面が楕円形となっているので、ガラスマ
スク10において楕円形のレーザ光に内接する長方形の領
域以外の領域が文字などのパターンを加工面13に結像す
るマーキングに寄与しないため、レーザ光のエネルギを
効率よくマーキングに利用することができないという欠
点がある。
マスク10上の文字などのパターンの配列が全体として長
方形の領域を形成する場合、ガラスマスク10に照射され
るレーザ光の断面が楕円形となっているので、ガラスマ
スク10において楕円形のレーザ光に内接する長方形の領
域以外の領域が文字などのパターンを加工面13に結像す
るマーキングに寄与しないため、レーザ光のエネルギを
効率よくマーキングに利用することができないという欠
点がある。
また、レーザ光の断面の中心ほど空間的エネルギ密度
が高くなるという性質が楕円形に整形されたレーザ光の
強度分布にもそのまま現れるので、中心部が周囲に比し
て強くなる傾向にあり、マーキングの均一性に欠けると
いう欠点がある。
が高くなるという性質が楕円形に整形されたレーザ光の
強度分布にもそのまま現れるので、中心部が周囲に比し
て強くなる傾向にあり、マーキングの均一性に欠けると
いう欠点がある。
考案の目的 本考案は上記のような従来のものの欠点を除去すべく
なされたもので、レーザ光のエネルギを効率よくマーキ
ングに利用することができ、均一なマーキングを行うこ
とができるレーザマーキング装置の提供を目的とする。
なされたもので、レーザ光のエネルギを効率よくマーキ
ングに利用することができ、均一なマーキングを行うこ
とができるレーザマーキング装置の提供を目的とする。
考案の構成 本考案によるレーザマーキング装置は、マスクを透過
したレーザ光によって被加工物上に所定パターンをマー
キングするレーザマーキング装置であって、レーザ発振
器から出射されるレーザ光を、その光束の断面の中心部
分を分割境界として複数に分割する分割手段と、前記分
割手段によって分割された前記複数のレーザ光を合成す
る合成手段とを前記マスクの前段に備え、前記合成手段
は、前記分割境界が、合成されたレーザ光の光束断面の
周辺部となるとともに、合成されたレーザ光の光束の断
面形状が略四辺形となるように前記複数のレーザ光を合
成することを特徴とする。
したレーザ光によって被加工物上に所定パターンをマー
キングするレーザマーキング装置であって、レーザ発振
器から出射されるレーザ光を、その光束の断面の中心部
分を分割境界として複数に分割する分割手段と、前記分
割手段によって分割された前記複数のレーザ光を合成す
る合成手段とを前記マスクの前段に備え、前記合成手段
は、前記分割境界が、合成されたレーザ光の光束断面の
周辺部となるとともに、合成されたレーザ光の光束の断
面形状が略四辺形となるように前記複数のレーザ光を合
成することを特徴とする。
実施例 次に、本考案について図面を参照して説明する。
第１図は本考案の一実施例を示す構成図であり、第２
図は第１図の各部におけるレーザ光のパターンを示す図
である。これらの図において、レーザ発振器１から発振
したレーザ光は導入部ミラー2,3を介してビームエキス
パンダ４に入射され、ビームエキスパンダ４で拡大され
てからプリズム５で２つの半円形のパターンに分割され
る［第２図（ａ）参照］。
図は第１図の各部におけるレーザ光のパターンを示す図
である。これらの図において、レーザ発振器１から発振
したレーザ光は導入部ミラー2,3を介してビームエキス
パンダ４に入射され、ビームエキスパンダ４で拡大され
てからプリズム５で２つの半円形のパターンに分割され
る［第２図（ａ）参照］。
プリズム５で２つの半円形のパターンに分割されたレ
ーザ光は、プリズム５の出射口で直線部が外側に向き、
円弧部が内側を向くようにして夫々プリズム6,7に伝播
される。
ーザ光は、プリズム５の出射口で直線部が外側に向き、
円弧部が内側を向くようにして夫々プリズム6,7に伝播
される。
プリズム6,7を夫々通過したレーザ光は、各々の円弧
部が重ね合わされて凸型シリンドリカルレンズ８の入射
口に入射される［第２図（ｂ）参照］。
部が重ね合わされて凸型シリンドリカルレンズ８の入射
口に入射される［第２図（ｂ）参照］。
凸型シリンドリカルレンズ８に入射されたレーザ光
は、凸型シリンドリカルレンズ８によって横方向に引き
伸ばされて凸型シリンドリカルレンズ９に入射される。
すなわち、各々の円弧部が重ね合わされたレーザ光は、
凸型シリンドリカルレンズ８によって互いに対向する少
なくとも一対の辺が直線となる双楕円形に整形される
［第２図（ｃ）参照］。
は、凸型シリンドリカルレンズ８によって横方向に引き
伸ばされて凸型シリンドリカルレンズ９に入射される。
すなわち、各々の円弧部が重ね合わされたレーザ光は、
凸型シリンドリカルレンズ８によって互いに対向する少
なくとも一対の辺が直線となる双楕円形に整形される
［第２図（ｃ）参照］。
凸型シリンドリカルレンズ９に入射されたレーザ光は
そのまま平行にガラスマスク10に伝播され［第２図
（ｄ）参照］、ガラスマスク10を透過した文字などのパ
ターンとなったレーザ光が反射鏡11および結像レンズ12
を介して加工面13上に結像される。
そのまま平行にガラスマスク10に伝播され［第２図
（ｄ）参照］、ガラスマスク10を透過した文字などのパ
ターンとなったレーザ光が反射鏡11および結像レンズ12
を介して加工面13上に結像される。
これにより、ガラスマスク10には凸型シリンドリカル
レンズ８によって互いに対向する少なくとも一対の辺が
直線となる双楕円形に整形されたレーザ光が照射される
ので、レーザ光のエネルギを効率よくマーキングに利用
することができる。
レンズ８によって互いに対向する少なくとも一対の辺が
直線となる双楕円形に整形されたレーザ光が照射される
ので、レーザ光のエネルギを効率よくマーキングに利用
することができる。
また、レーザ光はプリズム５で２つの半円形のパター
ンに分割され、凸型シリンドリカルレンズ８によって互
いに対向する少なくとも一対の辺が直線となる双楕円形
に整形されるので、レーザ発振器１から発振されたとき
には空間的エネルギ密度が高いレーザ光の中心部が外側
になってガラスマスク10に照射されるため、レーザ光の
空間強度分布が均一化され、加工性能が均一なマーキン
グを行うことができる。
ンに分割され、凸型シリンドリカルレンズ８によって互
いに対向する少なくとも一対の辺が直線となる双楕円形
に整形されるので、レーザ発振器１から発振されたとき
には空間的エネルギ密度が高いレーザ光の中心部が外側
になってガラスマスク10に照射されるため、レーザ光の
空間強度分布が均一化され、加工性能が均一なマーキン
グを行うことができる。
第３図は本考案の他の実施例を示す構成図であり、第
４図は第３図の各部におけるレーザ光のパターンを示す
図である。これらの図において、レーザ発振器１から発
振したレーザ光はビームエキスパンダ４で拡大されてか
らプリズム14で４つの扇形（1/4円形）のパターンに分
割される［第４図（ａ）参照］。
４図は第３図の各部におけるレーザ光のパターンを示す
図である。これらの図において、レーザ発振器１から発
振したレーザ光はビームエキスパンダ４で拡大されてか
らプリズム14で４つの扇形（1/4円形）のパターンに分
割される［第４図（ａ）参照］。
プリズム14で４つの扇形のパターンに分割されたレー
ザ光は、プリズム５の出射口で直線部が外側に向き、円
弧部が内側を向くようにして夫々プリズム15〜18に伝播
される。
ザ光は、プリズム５の出射口で直線部が外側に向き、円
弧部が内側を向くようにして夫々プリズム15〜18に伝播
される。
プリズム15〜18を夫々通過したレーザ光は、各々の円
弧部が重ね合わされて上下２つのパターンとして凸型シ
リンドリカルレンズ19の入射口に入射される［第４図
（ｂ）〜（ｄ）参照］。
弧部が重ね合わされて上下２つのパターンとして凸型シ
リンドリカルレンズ19の入射口に入射される［第４図
（ｂ）〜（ｄ）参照］。
すなわち、プリズム15,16を夫々通過したレーザ光
は、各々の円弧部が重ね合わされてほぼ正方形に近い形
状のパターンに合成されて凸型シリンドリカルレンズ19
の入射口に入射される［第４図（ｂ），（ｄ）参照］。
は、各々の円弧部が重ね合わされてほぼ正方形に近い形
状のパターンに合成されて凸型シリンドリカルレンズ19
の入射口に入射される［第４図（ｂ），（ｄ）参照］。
また、プリズム17,18を夫々通過したレーザビーム
は、各々の円弧部が重ね合わされてほぼ正方形に近い形
状のパターンに合成されて凸型シリンドリカルレンズ19
の入射口に入射される［第４図（ｃ），（ｄ）参照］。
は、各々の円弧部が重ね合わされてほぼ正方形に近い形
状のパターンに合成されて凸型シリンドリカルレンズ19
の入射口に入射される［第４図（ｃ），（ｄ）参照］。
凸型シリンドリカルレンズ19に上下２つのパターンと
して入射されたレーザ光は夫々横方向に引き伸ばされ、
断面がほぼ長方形に近い形状のパターンに整形されて凸
型シリンドリカルレンズ20に入射される［第４図（ｅ）
参照］。
して入射されたレーザ光は夫々横方向に引き伸ばされ、
断面がほぼ長方形に近い形状のパターンに整形されて凸
型シリンドリカルレンズ20に入射される［第４図（ｅ）
参照］。
凸型シリンドリカルレンズ20を通過したレーザ光は、
プリズム21,22によって上下の２つのパターンが重ね合
わされてほぼ長方形の形状のパターンに合成されて凸型
シリンドリカルレンズ23の入射口に入射される［第４図
（ｆ）参照］。
プリズム21,22によって上下の２つのパターンが重ね合
わされてほぼ長方形の形状のパターンに合成されて凸型
シリンドリカルレンズ23の入射口に入射される［第４図
（ｆ）参照］。
凸型シリンドリカルレンズ23に入射されたレーザ光は
横方向に圧縮され、縦方向に引伸ばされて縦長の長方形
として凸型シリンドリカルレンズ24の入射口に入射され
る［第４図（ｇ）参照］。
横方向に圧縮され、縦方向に引伸ばされて縦長の長方形
として凸型シリンドリカルレンズ24の入射口に入射され
る［第４図（ｇ）参照］。
凸型シリンドリカルレンズ24に入射されたレーザビー
ムはそのまま平行にガラスマスク（図示せず）に伝播さ
れ、ガラスマスクを透過した文字などのパターンとなっ
たレーザ光が反射鏡（図示せず）および結像レンズ（図
示せず）を介して図示せぬ加工面上に結像される。
ムはそのまま平行にガラスマスク（図示せず）に伝播さ
れ、ガラスマスクを透過した文字などのパターンとなっ
たレーザ光が反射鏡（図示せず）および結像レンズ（図
示せず）を介して図示せぬ加工面上に結像される。
これにより、ガラスマスクにはプリズム21,22および
凸型シリンドリカルレンズ23,24によってほぼ長方形に
合成されたレーザ光が照射されるので、レーザ光のエネ
ルギを効率よくマーキングに利用することができる。
凸型シリンドリカルレンズ23,24によってほぼ長方形に
合成されたレーザ光が照射されるので、レーザ光のエネ
ルギを効率よくマーキングに利用することができる。
また、レーザ光はプリズム14で４つの扇形のパターン
に分割され、プリズム15〜18,21,22および凸型シリンド
リカルレンズ19,20,23,24によってほぼ長方形に整形さ
れるので、レーザ発振器１から発振されたときには空間
的エネルギ密度が高いレーザ光の中心部が外側になって
ガラスマスクに照射されるため、レーザ光の空間強度分
布が均一化され、加工性能が均一なマーキングを行うこ
とができる。
に分割され、プリズム15〜18,21,22および凸型シリンド
リカルレンズ19,20,23,24によってほぼ長方形に整形さ
れるので、レーザ発振器１から発振されたときには空間
的エネルギ密度が高いレーザ光の中心部が外側になって
ガラスマスクに照射されるため、レーザ光の空間強度分
布が均一化され、加工性能が均一なマーキングを行うこ
とができる。
このように、ガラスマスク10に入射されるレーザ光を
プリズム5,14によって複数のパターンに分割し、この複
数のパターンに分割されたレーザ光をプリズム6,7,15〜
18,21,22および凸型シリンドリカルレンズ8,9,19,20,2
3,24によって互いに対向する少なくとも一対の辺が各々
直線となる略四辺形（双楕円形または長方形に近い形
状）のパターンに合成するようにすることによって、レ
ーザ光のエネルギを効率よくマーキングに利用すること
ができる。
プリズム5,14によって複数のパターンに分割し、この複
数のパターンに分割されたレーザ光をプリズム6,7,15〜
18,21,22および凸型シリンドリカルレンズ8,9,19,20,2
3,24によって互いに対向する少なくとも一対の辺が各々
直線となる略四辺形（双楕円形または長方形に近い形
状）のパターンに合成するようにすることによって、レ
ーザ光のエネルギを効率よくマーキングに利用すること
ができる。
また、複数のパターンに分割してからレーザ光の中心
部が外側になるように合成されるので、レーザ光の空間
強度分布が均一化され、均一なマーキングを行うことが
できる。
部が外側になるように合成されるので、レーザ光の空間
強度分布が均一化され、均一なマーキングを行うことが
できる。
考案の効果 以上説明したように、本考案にレーザマーキング装置
によれば、レーザ発振器から発振された時点ではエネル
ギ密度が高いレーザ光の光束の中心部分がガラスマスク
の周辺部分に照射されるために、レーザ光の空間強度分
布が均一化され、均一なマーキングを行うことができる
という効果がある。
によれば、レーザ発振器から発振された時点ではエネル
ギ密度が高いレーザ光の光束の中心部分がガラスマスク
の周辺部分に照射されるために、レーザ光の空間強度分
布が均一化され、均一なマーキングを行うことができる
という効果がある。
さらに、マスクに照射すべきレーザ光の断面形状を略
四辺形となるように合成することによって、レーザ光の
エネルギを効率よくマーキングに利用することができる
という効果もある。
四辺形となるように合成することによって、レーザ光の
エネルギを効率よくマーキングに利用することができる
という効果もある。
第１図は本考案の一実施例を示す構成図、第２図は第１
図の各部におけるレーザ光のパターンを示す図、第３図
は本考案の他の実施例を示す構成図、第４図は第３図の
各部におけるレーザ光のパターンを示す図、第５図は従
来例の構成を示す図、第６図は第５図のガラスマスクに
照射されるレーザ光の形状を示す図である。 主要部分の符号の説明 ５〜7,14〜18,21,22……プリズム 8,9,19,20,23,24……凸型シリンドリカルレンズ 10……ガラスマスク
図の各部におけるレーザ光のパターンを示す図、第３図
は本考案の他の実施例を示す構成図、第４図は第３図の
各部におけるレーザ光のパターンを示す図、第５図は従
来例の構成を示す図、第６図は第５図のガラスマスクに
照射されるレーザ光の形状を示す図である。 主要部分の符号の説明 ５〜7,14〜18,21,22……プリズム 8,9,19,20,23,24……凸型シリンドリカルレンズ 10……ガラスマスク
Claims (1)
- 【請求項１】マスクを透過したレーザ光によって被加工
物上に所定パターンをマーキングするレーザマーキング
装置であって、 レーザ発振器から出射されるレーザ光を、その光束の断
面の中心部分を分割境界として複数に分割する分割手段
と、 前記分割手段によって分割された前記複数のレーザ光を
合成する合成手段とを前記マスクの前段に備え、 前記合成手段は、前記分割境界が、合成されたレーザ光
の光束断面の周辺部となるとともに、合成されたレーザ
光の光束の断面形状が略四辺形となるように前記複数の
レーザ光を合成することを特徴とするレーザマーキング
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989098004U JP2501061Y2 (ja) | 1989-08-23 | 1989-08-23 | レ―ザマ―キング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989098004U JP2501061Y2 (ja) | 1989-08-23 | 1989-08-23 | レ―ザマ―キング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0336377U JPH0336377U (ja) | 1991-04-09 |
| JP2501061Y2 true JP2501061Y2 (ja) | 1996-06-12 |
Family
ID=31647121
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1989098004U Expired - Lifetime JP2501061Y2 (ja) | 1989-08-23 | 1989-08-23 | レ―ザマ―キング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2501061Y2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4648044B2 (ja) * | 2005-03-15 | 2011-03-09 | 株式会社ディスコ | レーザー加工装置 |
| GB201106623D0 (en) * | 2011-04-20 | 2011-06-01 | Rolls Royce Plc | Laser beam intensity distribution |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2510759Y2 (ja) * | 1987-05-11 | 1996-09-18 | アイシン精機株式会社 | 刺繍枠固定装置 |
-
1989
- 1989-08-23 JP JP1989098004U patent/JP2501061Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0336377U (ja) | 1991-04-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2536023B2 (ja) | 露光装置、及び露光方法 | |
| JPS583478B2 (ja) | レ−ザ加熱方法および装置 | |
| JPH02295692A (ja) | レーザ加工装置 | |
| JPH01306088A (ja) | 可変ビームレーザ加工装置 | |
| JPH06181153A (ja) | 光描画装置 | |
| JPS622540A (ja) | ライトインテグレ−タとそれを含むケ−ラ−照明系 | |
| JP2501061Y2 (ja) | レ―ザマ―キング装置 | |
| JPH0375846B2 (ja) | ||
| JPS6096391A (ja) | レ−ザ加工機 | |
| JPH1062710A (ja) | 照明光学系 | |
| JPH07221000A (ja) | レーザ露光描画装置 | |
| JPS63114186A (ja) | 照明装置 | |
| JPH04284994A (ja) | レーザ加工装置 | |
| JP3627355B2 (ja) | スキャン式露光装置 | |
| JP2003080388A (ja) | レーザ加工装置 | |
| JPH0530868Y2 (ja) | ||
| JPS6381420A (ja) | 照明装置 | |
| JPS56140768A (en) | Optical device for multibeam scanning | |
| JPH08330225A (ja) | 照明光学装置および露光装置ならびに露光方法 | |
| JP2685019B2 (ja) | レーザ加工装置 | |
| JP2836273B2 (ja) | マスク形レーザー刻印装置 | |
| JPS62110892A (ja) | レ−ザマ−キング装置 | |
| JPS6384786A (ja) | レ−ザマ−キング装置 | |
| JPS63257225A (ja) | 露光照明装置 | |
| JPH05188318A (ja) | レーザ加工用光学装置 |