JPH0530868Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0530868Y2 JPH0530868Y2 JP1987141567U JP14156787U JPH0530868Y2 JP H0530868 Y2 JPH0530868 Y2 JP H0530868Y2 JP 1987141567 U JP1987141567 U JP 1987141567U JP 14156787 U JP14156787 U JP 14156787U JP H0530868 Y2 JPH0530868 Y2 JP H0530868Y2
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- JP
- Japan
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- optical system
- laser
- variable optical
- area
- mask
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- Expired - Lifetime
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 31
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims description 6
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 4
- 238000010330 laser marking Methods 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
Description
【考案の詳細な説明】
〔考案の目的〕
（産業上の利用分野）
本考案はレーザマーキング装置に関する。
（従来の技術）
レーザマーキング装置にはレーザ光をワークに
対して相対的に２次元方向に走査して集光し、一
筆書きの要領でマーキングを行ういわゆるスキヤ
ニング方式のものと、所定のパターンを切欠形成
したマスクを用い、マスクを通過したレーザ光を
ワークに結像するマスク方式のものとの二つの形
式がある。前者の場合には連続発振のYAGレー
ザにＡ−OQスイツチを付加したものが主に使わ
れ、後者ではTEA CO2レーザやパルス発振の
YAGレーザが用いられている。
対して相対的に２次元方向に走査して集光し、一
筆書きの要領でマーキングを行ういわゆるスキヤ
ニング方式のものと、所定のパターンを切欠形成
したマスクを用い、マスクを通過したレーザ光を
ワークに結像するマスク方式のものとの二つの形
式がある。前者の場合には連続発振のYAGレー
ザにＡ−OQスイツチを付加したものが主に使わ
れ、後者ではTEA CO2レーザやパルス発振の
YAGレーザが用いられている。
（考案が解決しようとする問題点）
レーザ光をワークＷに対して相対的に２次元方
向に走査する技術ではエネルギの利用効率は高い
反面第３図に示すようにビームスポツトS1の半径
分だけパターンP1のエツジE1が丸味を帯びシヤ
ープさに欠ける問題と、走査のためのプログラム
作成とインプツト操作等の労力に多大な時間がか
かる不都合があつた。
向に走査する技術ではエネルギの利用効率は高い
反面第３図に示すようにビームスポツトS1の半径
分だけパターンP1のエツジE1が丸味を帯びシヤ
ープさに欠ける問題と、走査のためのプログラム
作成とインプツト操作等の労力に多大な時間がか
かる不都合があつた。
一方、マスクを使う技術では、上記の問題や不
都合は解消される。しかしエネルギ利用効率向上
のためたとえば第４図に示すような文字が横方向
に並んだパターンに形成された通過部P2をもつ
マスクM1の場合では、円形ビームを楕円形ビー
ムS2に整形して照射することが行われているもの
のこの整形されたビームの面積利用率は依然とし
て低い。すなわち、上記の例で、パターンP2を
囲う最小区域Ｚを図中の一点鎖線の矩形部分とす
ると約37％の損失として計算される。本考案はマ
スクによるシヤープなマーキングをレーザビーム
の利用効率を向上して得られる装置を提供するこ
とを目的とする。
都合は解消される。しかしエネルギ利用効率向上
のためたとえば第４図に示すような文字が横方向
に並んだパターンに形成された通過部P2をもつ
マスクM1の場合では、円形ビームを楕円形ビー
ムS2に整形して照射することが行われているもの
のこの整形されたビームの面積利用率は依然とし
て低い。すなわち、上記の例で、パターンP2を
囲う最小区域Ｚを図中の一点鎖線の矩形部分とす
ると約37％の損失として計算される。本考案はマ
スクによるシヤープなマーキングをレーザビーム
の利用効率を向上して得られる装置を提供するこ
とを目的とする。
〔考案の構成〕
（問題点を解決するための手段と作用）
レーザ発振器と、このレーザ発振器から放出さ
れたレーザ光を２次元方向に走査する可変光学系
と、所定のパターンに形成されかつ上記レーザ光
を通過させる通過部を有し上記可変光学系を経た
レーザ光の光路上に設けられたマスクと、このマ
スクを通過したレーザ光をマーキング面に結像す
る結像光学系と、上記パターンを囲う区域を定め
る区域設定部と、上記レーザ発振器と可変光学系
との間に設けられ上記レーザ光を上記区域内の一
部を照射する光束径の平行光にする整形光学系
と、この整形光学系を経たレーザ光が上記パター
ンを囲う最少区域内面内に走査されるように上記
可変光学系を制御する制御部とを備えた構成と
し、エネルギの利用効果率を向上させてシヤープ
なマーキングを行えるようにしたものである。
れたレーザ光を２次元方向に走査する可変光学系
と、所定のパターンに形成されかつ上記レーザ光
を通過させる通過部を有し上記可変光学系を経た
レーザ光の光路上に設けられたマスクと、このマ
スクを通過したレーザ光をマーキング面に結像す
る結像光学系と、上記パターンを囲う区域を定め
る区域設定部と、上記レーザ発振器と可変光学系
との間に設けられ上記レーザ光を上記区域内の一
部を照射する光束径の平行光にする整形光学系
と、この整形光学系を経たレーザ光が上記パター
ンを囲う最少区域内面内に走査されるように上記
可変光学系を制御する制御部とを備えた構成と
し、エネルギの利用効果率を向上させてシヤープ
なマーキングを行えるようにしたものである。
（実施例）
以下、実施例を示す図面に基いて本考案を説明
する。
する。
第１図は本考案の一実施例で、１はＡ−OQス
イツチを備えたYAGをレーザ物質としたレーザ
発振器で、この発振器から放出されたレーザ光
L1の光路にはレーザ光L1のビーム径を縮小し平
行光にする整形光学系２が設けられている。整形
光学系２を経たレーザ光L2は反射鏡３を経て制
御部４により２次元方向に制御走査される可変光
学系５に入射するようになつている。可変光学系
５はＸ方向の走査を行うガルバノ式の第１の光学
系６とＹ方向の走査を行う同じくガルバノ式の第
２の光学系７とが構成されている。なお、可変光
学系５はポリゴンミラーにしてもよい。第２の光
学系７を経たレーザ光L2の光路には所定のパタ
ーンに形成されレーザ光L2を通過させる通過部
P2を有したマスクM1が設けられ、さらに通過部
P2を通過したレーザ光L2をワーク１０のマーキ
ング面に結像する結像レンズ１１が設けられてい
る。
イツチを備えたYAGをレーザ物質としたレーザ
発振器で、この発振器から放出されたレーザ光
L1の光路にはレーザ光L1のビーム径を縮小し平
行光にする整形光学系２が設けられている。整形
光学系２を経たレーザ光L2は反射鏡３を経て制
御部４により２次元方向に制御走査される可変光
学系５に入射するようになつている。可変光学系
５はＸ方向の走査を行うガルバノ式の第１の光学
系６とＹ方向の走査を行う同じくガルバノ式の第
２の光学系７とが構成されている。なお、可変光
学系５はポリゴンミラーにしてもよい。第２の光
学系７を経たレーザ光L2の光路には所定のパタ
ーンに形成されレーザ光L2を通過させる通過部
P2を有したマスクM1が設けられ、さらに通過部
P2を通過したレーザ光L2をワーク１０のマーキ
ング面に結像する結像レンズ１１が設けられてい
る。
ところで、上記制御部４にはＸ・Ｙ方の走査区
域を定めるプログラムをもつ区域設定部１５が付
帯されている。上記プログラムはたとえば第２図
に示すパターンP2の場合、このパターンP2の中
心点Ｃから、パターンP2の外側四方の最大突出
部イ，ロ，ハ，ニの各XY座標を入力すること
で、矩形状の区域Ｚを定めるようになつている。
そして、この定められた区域Ｚに基いて制御部４
は整形光学系２で区域Ｚ内の一部を照射する縮小
平行光にされたスポツトS2がわずかに重畳するよ
うにして区域Ｚ全面を走査する指令を可変光学系
５に与えるようになつている。なお、区域設定部
１０において、区域は矩形状に限らず、パターン
に応じて三角形、円形、楕円形等の指定が任意に
選択できるようになつている。また、スポツト
P2は可変光学系５の反射率を低下させたりある
いはマスクM1を溶融または穴をあけるなどの損
傷を及ぼさないエネルギ密度にされていることは
いうまでもない。
域を定めるプログラムをもつ区域設定部１５が付
帯されている。上記プログラムはたとえば第２図
に示すパターンP2の場合、このパターンP2の中
心点Ｃから、パターンP2の外側四方の最大突出
部イ，ロ，ハ，ニの各XY座標を入力すること
で、矩形状の区域Ｚを定めるようになつている。
そして、この定められた区域Ｚに基いて制御部４
は整形光学系２で区域Ｚ内の一部を照射する縮小
平行光にされたスポツトS2がわずかに重畳するよ
うにして区域Ｚ全面を走査する指令を可変光学系
５に与えるようになつている。なお、区域設定部
１０において、区域は矩形状に限らず、パターン
に応じて三角形、円形、楕円形等の指定が任意に
選択できるようになつている。また、スポツト
P2は可変光学系５の反射率を低下させたりある
いはマスクM1を溶融または穴をあけるなどの損
傷を及ぼさないエネルギ密度にされていることは
いうまでもない。
以上の構成とビーム走査により、レーザ光L1
のスポツトS2が通過部P2の全面を通過しワーク
１０のマーキング面に通過部P2どうりのパター
ンがシヤープにマーキングされる。
のスポツトS2が通過部P2の全面を通過しワーク
１０のマーキング面に通過部P2どうりのパター
ンがシヤープにマーキングされる。
従来技術で述べたスキヤンニング方式、マスク
方式の利点を兼ね備えたレーザマーキング装置を
提供することができた。とくにエネルギの利用効
率の点では第４図における斜線部分のエネルギ損
失がなくなつた分効率の向上が達成された。
方式の利点を兼ね備えたレーザマーキング装置を
提供することができた。とくにエネルギの利用効
率の点では第４図における斜線部分のエネルギ損
失がなくなつた分効率の向上が達成された。
第１図は本考案の一実施例を示す構成図、第２
図は第１図におけるレーザ光の走査を示す平面
図、第３図および第４図は従来のマーキング方式
を示す平面図である。 １……レーザ発振器、２……整形光学系、４…
…制御部、５……可変光学系、M1……マスク、
１１……結像レンズ、１５……区域設定部。
図は第１図におけるレーザ光の走査を示す平面
図、第３図および第４図は従来のマーキング方式
を示す平面図である。 １……レーザ発振器、２……整形光学系、４…
…制御部、５……可変光学系、M1……マスク、
１１……結像レンズ、１５……区域設定部。
Claims (1)
- レーザ発振器と、このレーザ発振器から放出さ
れたレーザ光を２次元方向に走査する可変光学系
と、所定のパターンに形成されかつ上記レーザ光
を通過させる通過部を有し上記可変光学系を経た
レーザ光の光路上に設けられたマスクと、このマ
スクを通過したレーザ光をマーキング面に結像す
る結像光学系と、上記パターンを囲う区域を定め
る区域設定部と、上記レーザ発振器と可変光学系
との間に設けられ上記レーザ光を上記区域内の一
部を照射する光束径の平行光にする整形光学系
と、この整形光学系を経たレーザ光が上記区域全
面に走査されるように上記可変光学系を制御する
制御部とを備えたことを特徴とするレーザマーキ
ング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987141567U JPH0530868Y2 (ja) | 1987-09-18 | 1987-09-18 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987141567U JPH0530868Y2 (ja) | 1987-09-18 | 1987-09-18 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6449390U JPS6449390U (ja) | 1989-03-27 |
| JPH0530868Y2 true JPH0530868Y2 (ja) | 1993-08-06 |
Family
ID=31406746
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1987141567U Expired - Lifetime JPH0530868Y2 (ja) | 1987-09-18 | 1987-09-18 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0530868Y2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2633954B2 (ja) * | 1989-04-10 | 1997-07-23 | 株式会社日立製作所 | 液晶式マーキング方法及びその装置 |
| JP2520041B2 (ja) * | 1989-08-31 | 1996-07-31 | 株式会社小松製作所 | レ―ザ印字装置 |
-
1987
- 1987-09-18 JP JP1987141567U patent/JPH0530868Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6449390U (ja) | 1989-03-27 |
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