JP2024501917A

JP2024501917A - 電磁弁

Info

Publication number: JP2024501917A
Application number: JP2023526316A
Authority: JP
Inventors: 舟兪; 馬，彦▲ティン▼; 元陽林
Original assignee: Zhejiang Dunan Artificial Environment Co Ltd
Current assignee: Zhejiang Dunan Artificial Environment Co Ltd
Priority date: 2021-01-08
Filing date: 2022-01-07
Publication date: 2024-01-17
Also published as: EP4276337A1; WO2022148444A1

Abstract

入口（１１）、出口（１２）及び入口（１１）と出口（１２）の両方に連通した弁チャンバ（１３）を有する弁座（１０）と、弁チャンバ（１３）内に可動的に設けられ、内部にかしめチャンバ（２１）が設けられている芯金（２０）と、かしめチャンバ内に弁座（１０）の軸方向に可動的に設けられた鋼球（３０）と、を含む電磁弁を開示し、従来技術における電磁弁の弁差圧が比較的小さいという技術課題を解決することができる。【選択図】図１

Description

本出願は、２０２１年１月８日に中国国家知識産権局に提出された、出願番号が２０２１２００５４５０６．６であり、出願の名称が「電磁弁」である特許出願の優先権、及び２０２１年１月８日に中国国家知識産権局に提出された、出願番号が２０２１１００２６４９２．１であり、出願の名称が「電磁弁」である特許出願の優先権を主張する。

本出願は電磁弁の技術分野に関し、具体的には、電磁弁に関する。

現在、従来技術における電磁弁は、一般的に、弁座、芯金部材、入口接続パイプ及び出口接続パイプを含み、弁座内には、入口、出口及び入口と出口の両方に連通した弁チャンバが設けられており、芯金部材は弁チャンバ内に可動的に設けられ、入口接続パイプは入口に設けられ、出口接続パイプは出口に設けられている。一般的に、芯金部材は芯金及び鋼球を含む。

しかしながら、従来技術における電磁弁は、弁差圧が比較的小さいため、最低動作電圧を低減させるのに不利である。

本出願の主な目的は、従来技術における電磁弁の弁差圧が比較的小さいという技術課題を解決する電磁弁を提供することである。

上述の目的を実現するために、本出願は、入口、出口及び入口と出口の両方に連通した弁チャンバを有する弁座と、弁チャンバ内に可動的に設けられ、内部にかしめチャンバが設けられている芯金と、かしめチャンバ内に弁座の軸方向に可動的に設けられた鋼球と、を含む電磁弁を提供する。

更に、鋼球は、かしめチャンバと当接された第１の当接位置及び第２の当接位置を有し、第１の当接位置と第２の当接位置との高低差はｈであって、０．３ｍｍ≦ｈ≦０．５ｍｍである。

更に、かしめチャンバは、テーパ状のチャンバである。

更に、芯金には、弁座の径方向に伸び、かしめチャンバと連通した均衡化孔も設けられている。

更に、電磁弁は、弁座の出口に設けられ、内部に弁チャンバと連通した連通通路が設けられている弁口座を更に含み、弁口座は、対向して設けられた接続端及び支持端を有し、支持端は弁チャンバ内に設けられ、接続端は弁座外まで突出し、接続端と支持端との間には、弁座の出口と当接して位置決めされるために用いられる第１の位置決め段差が設けられている。

更に、第１の位置決め段差は、互いに接続された第１の位置決め面及び第２の位置決め面を含み、弁座の開口には、互いに接続された位置決め内壁及び位置決め側壁を有し、第１の位置決め面と位置決め内壁とは密着して位置決めされ、第２の位置決め面の少なくとも一部と位置決め側壁とは密着して位置決めされ、第２の位置決め面は位置決め側壁より突出して設けられている。

更に、第２の位置決め面は、軸方向に接続して設けられた第１の係合環面及び第２の係合環面を含み、第１の係合環面と位置決め側壁とはインターフェアランスフィットされ、溶接材料が第２の係合環面と位置決め側壁との間の隙間内に入るように、第２の係合環面と位置決め側壁とは間隔をおいて設けられている。

更に、電磁弁は、弁口座の接続端に接続された第１の接続パイプを更に含み、弁座、弁口座及び第１の接続パイプは同一の溶接ビードによって接続されている。

更に、弁口座には、第１の位置決め段差の接続端に近い一方側に設けられた第２の位置決め段差が更に設けられており、電磁弁は、第２の位置決め段差に位置決め係合された第１の接続パイプを更に含む。

更に、第２の位置決め段差は、第３の位置決め面及び第４の位置決め面を更に含み、第３の位置決め面と第１の接続パイプの端部とは密着して位置決めされ、第４の位置決め面の少なくとも一部と第１の接続パイプの内壁とはインターフェアランスフィットされている。

更に、電磁弁は、弁座に嵌合されたスリーブを更に含み、スリーブの肉厚はδ_１であって、０．４５ｍｍ≦δ_１≦０．６ｍｍである。

更に、電磁弁は、入口及び／又は出口に設けられた接続口管を更に含む。

更に、接続口管の外径はｄであって、ｄ≦８ｍｍである。

更に、接続口管は赤銅より製造され、接続口管の肉厚はδ_２であって、１ｍｍ≦δ_２≦１．２５ｍｍである。

更に、接続口管は鋼材料より製造され、接続口管の肉厚はδ_２であって、０．５ｍｍ≦δ_２≦１ｍｍである。

更に、スリーブの一端は弁座に溶接されている。

更に、スリーブは弁座に第１の溶接ビードを有し、第１の溶接ビードの溶接深さはδ_３であって、δ_３／δ_１≧０．５である。

更に、電磁弁は、スリーブの他端に設けられた吸引子を更に含む。

更に、スリーブの他端は吸引子に溶接されている。

更に、スリーブは吸引子に第２の溶接ビードを有し、第２の溶接ビードの溶接深さはδ_４であって、δ_４／δ_１≧０．５である。

本出願の技術態様を適用すると、鋼球がかしめチャンバ内で軸方向に一定の距離差を有するように、鋼球をかしめチャンバ内に弁座の軸方向に可動的に設けることで、開弁差圧を大幅に増加させ、作業の信頼性を向上させ、最低動作電圧を低減させることができる。従って、本実施例により提供される技術態様によって、従来技術における電磁弁の弁差圧が比較的小さいという技術課題を解決することができる。

本出願の一部を構成する明細書の図面は、本出願に対する更なる理解を提供するためのものであり、本出願の模式的な実施例及びその説明は、本出願を解釈するためのものであり、本出願を不適切に限定するものではない。

本出願の実施例によって提供される電磁弁の構造模式図を示す。図１におけるＡ箇所の拡大図を示す。本出願の実施例によって提供される鋼球が第１の当接位置にある場合の構造模式図を示す。本出願の実施例によって提供される鋼球が第２の当接位置にある場合の構造模式図を示す。本出願の実施例によって提供される鋼球が第１の当接位置及び第２の当接位置にある場合の高低差の構造模式図を示す。本考案の実施例によって提供される電磁弁の部分寸法の模式図を示す。

ここで、上述の図面には以下の符号が含まれる。
１０弁座、１１入口、１２出口、１３弁チャンバ、２０芯金、２１かしめチャンバ、２２均衡化孔、３０鋼球、４０弁口座、４１連通通路、４２第１の位置決め段差、４２１第１の位置決め面、４２２第２の位置決め面、４２２１第１の係合環面、４２２２第２の係合環面、４３第２の位置決め段差、４３１第３の位置決め面、４３２第４の位置決め面、５１第１の接続パイプ、５２第２の接続パイプ、６０吸引子、７０復元バネ、８０スリーブ、９０分磁リング。

説明すべきこととして、矛盾がない限り、本出願における実施例及び実施例における特徴は互いに組み合わされてもよい。以下、図面を参照して、実施例と併せて本出願を詳細に説明する。

図１から図６に示されるように、本出願の実施例１は、弁座１０、芯金２０、鋼球３０、吸引子６０、復元バネ７０、スリーブ８０及び分磁リング９０を含み、弁座１０は、入口１１、出口１２及び入口１１と出口１２の両方に連通した弁チャンバ１３を有する電磁弁を提供している。芯金２０は弁チャンバ１３内に可動的に設けられ、芯金２０の内部にはかしめチャンバ２１が設けられている。鋼球３０はかしめチャンバ２１内に弁座１０の軸方向に可動的に設けられ、鋼球３０と弁座１０とはかしめられている。

本実施例により提供される電磁弁を用いると、鋼球３０がかしめチャンバ２１内で軸方向に一定の距離差を有するように、鋼球３０をかしめチャンバ２１内に弁座１０の軸方向に可動的に設けることで、開弁差圧を大幅に増加させ、作業の信頼性を向上させ、最低動作電圧を低減させることができる。従って、本実施例により提供される技術態様によって、従来技術における電磁弁の弁差圧が比較的小さいという技術課題を解決することができる。

本実施例において、鋼球３０はかしめチャンバ２１と当接された第１の当接位置及び第２の当接位置を有し、第１の当接位置と第２の当接位置との高低差はｈであって、０．３ｍｍ≦ｈ≦０．５ｍｍである。第１の当接位置と第２の当接位置との高低差を上述の距離範囲内に設けることで、開弁差圧をより良好に増加しやすくなり、皆様の信頼性をより良好に向上させ、動作電圧を低減させることが容易になる。

具体的には、本実施例におけるかしめチャンバ２１は、テーパ状のチャンバであって、鋼球３０をかしめチャンバ２１内で円滑に移動させることが容易になるとともに、生産・製造することも容易になる。

本実施例において、芯金２０には、弁座１０の径方向に伸び、かしめチャンバ２１と連通した均衡化孔２２が更に設けられている。このような構造を用いて設けると、かしめチャンバ２１内の液体が均衡化孔２２内に容易に流れ込むようにすることができる。具体的には、本実施例における鋼球３０とかしめチャンバ２１の内壁との間には一定の隙間を有して、かしめチャンバ２１内の液体が均衡化孔２２内に円滑に流れ込むことが容易になる。具体的には、本実施例における鋼球３０とかしめチャンバ２１の内壁との間の隙間は０．１ｍｍ以上である。

具体的には、本実施例における電磁弁は、弁座１０の出口１２に設けられ、内部に弁チャンバ１３と連通した連通通路４１が設けられている弁口座４０を更に含む。弁口座４０は、対向して設けられた接続端及び支持端を有し、支持端は弁チャンバ１３内に設けられ、接続端は弁座１０外まで突出し、接続端と支持端との間には、弁座１０の出口１２と当接して位置決めされるために用いられる第１の位置決め段差４２が設けられている。このような構造を用いて設けると、弁座１０及び弁口座４０の２つの部品を設けることで、弁座１０の加工難度を容易に低減させることができ、弁口座４０を弁座１０の出口１２に取り付けるだけで済み、加工効率も向上させる。

具体的には、弁口座４０は逆テーパ状の構造を含み、弁口座４０内には、弁チャンバ１３と連通するために用いられる流通通路が設けられている。支持端は逆テーパ状の端部に位置している。

本実施例において、第１の位置決め段差４２は、互いに接続された第１の位置決め面４２１及び第２の位置決め面４２２を含み、弁座１０の開口には、互いに接続された位置決め内壁及び位置決め側壁を有し、第１の位置決め面４２１と位置決め内壁とは密着して位置決めされ、第２の位置決め面４２２の少なくとも一部と位置決め側壁とは密着して位置決めされ、第２の位置決め面４２２は位置決め側壁より突出して設けられている。このような構造を用いて設けると、弁座１０と弁口座４０との位置決めが容易になり、設置の安定性を向上させる。同時に、「第２の位置決め面４２２は位置決め側壁より突出して設けられている」とは、即ち「第２の位置決め面４２２が弁座１０の地面から露出して設けられるように、第２の位置決め面４２２の高さは位置決め側壁の高さより高い」ことであり、このようにすると取り付けも容易になる。

具体的には、本実施例における第２の位置決め面４２２は、弁座１０の軸方向に接続して設けられた第１の係合環面４２２１及び第２の係合環面４２２２を含み、第１の係合環面４２２１と位置決め側壁とはインターフェアランスフィットされ、溶接材料が第２の係合環面４２２２と位置決め側壁との間の隙間内に入るように、第２の係合環面４２２２と位置決め側壁とは間隔をおいて設けられている。このような構造を用いて設けると、容易に溶接を行うことができ、溶接の安定性を向上させる。

本実施例において、電磁弁は、弁口座４０の接続端に接続された第１の接続パイプ５１を更に含み、弁座１０、弁口座４０及び第１の接続パイプ５１は同一の溶接ビードによって接続されている。このような構造を用いて設けると、一体化溶接を行うことができ、溶接効率を保証し、接続の安定性を向上させ、ＣＯ２（二酸化炭素）システムの高圧力の要件を満たすことができる。

具体的には、本実施例における弁口座４０には、第１の位置決め段差４２の接続端に近い一方側に設けられた第２の位置決め段差４３が更に設けられており、電磁弁は、第２の位置決め段差４３に位置決め係合された第１の接続パイプ５１を更に含む。このような構造を用いて設けると、第１の接続パイプ５１に対する接続及び位置決めが容易になり、第１の接続パイプ５１の設置安定性を向上させる。

本実施例において、第２の位置決め段差４３は、第３の位置決め面４３１及び第４の位置決め面４３２を更に含み、第３の位置決め面４３１と第１の接続パイプ５１の端部とは密着して位置決めされ、第４の位置決め面４３２の少なくとも一部と第１の接続パイプ５１の内壁とはインターフェアランスフィットされている。具体的には、第４の位置決め面４３２は、弁座１０の軸方向に接続して設けられた第３の係合環面及び第４の係合環面を含み、第３の係合環面と第１の接続パイプ５１の内壁とはインターフェアランスフィットされ、第４の係合環面と第１の接続パイプ５１の内壁とは間隔をおいて設けられ、このようにすると、組立ての安定性を保証できるだけでなく、組立てを行うのが容易になることも保証できる。

本実施例において、電磁弁は、弁座１０の入口１１に接続された第２の接続パイプ５２を更に含む。第１の接続パイプ５１及び第２の接続パイプ５２は、いずれも弁座１０に溶接されている。第１の接続パイプ５１は、拡径された後に弁座１０に係合して溶接され、第２の接続パイプ５２は、縮径された後に弁座１０に係合して溶接される。

本実施例において、電磁弁の弁座１０の部材は、弁口座４０、弁座１０、入口接続パイプ（第２の接続パイプ５２）、出口接続パイプ（第１の接続パイプ５１）から構成され、ここで、弁口座４０と弁座１０の一部の係合面とはインターフェアランスフィットされ、同時に、一部の係合面はクリアランスフィットされて、溶接材料の流通が容易になるようにし、弁口座４０、弁座１０、出口接続パイプは、一体に溶接されて、１つの溶接ビード構造を共有する。弁口座４０には、弁座１０に制限係合された段差面（第１の位置決め段差４２）が設けられており、弁口は弁口座４０に設けられている。弁口座４０は、弁座１０に押圧装着された後に弁座１０の底面から露出し、距離δ＞０であり、弁口座４０と出口接続パイプとはインターフェアランスフィットされ、同時に、一部はクリアランスフィットされて、溶接材料の流通が容易になるようにし、接続パイプと弁口座４０との接触端面は弁座１０の底面から露出し、距離δ＞０である（図２に示される通り）。入口１１のパイプは、縮径された後に弁座１０に係合して溶接され、出口１２のパイプは、拡径された後に弁口座４０に係合して溶接される。芯金２０の部材は芯金２０及び鋼球３０から構成され、鋼球３０と芯金２０とがかしめられてなり、かしめられた後、鋼球３０と芯金２０とは柔軟に移動可能であり、移動距離ｈ＝０．３～０．５である。

具体的には、本実施例における電磁弁は、かしめチャンバ２１内に移動可能に設けられた鋼球３０を更に含み、スリーブ８０は弁座１０に嵌合され、スリーブ８０の肉厚はδ_１であって、０．４５ｍｍ≦δ_１≦０．６ｍｍである。

本実施例により提供される電磁弁を用いると、鋼球３０がかしめチャンバ２１内で一定の距離差を有するように、鋼球３０をかしめチャンバ２１内に移動可能に設け、具体的には、鋼球３０をかしめチャンバ２１の軸方向に移動させることで、弁差圧を大幅に増加させ、作業の信頼性を向上させ、最低動作電圧を低減させることができる。スリーブ８０の肉厚を上述の範囲内に設けることで、スリーブ８０の構造強度を保証することができ、ＣＯ_２（二酸化炭素）システムの使用条件を満たし、電磁弁の耐圧レベルを向上させる。従って、本考案により提供される電磁弁は、従来技術における電磁弁の耐圧レベルが不十分であるという技術課題を解決することができる。

具体的には、本実施例における電磁弁は、入口及び／又は出口に設けられた接続口管を更に含む。接続口管によって他の接続管に接続することが容易になるように、入口及び出口にはいずれも接続口管が設けられていることが好ましい。具体的には、接続口管は、第１の接続パイプ５１及び第２の接続パイプ５２を含む。

本実施例において、接続口管の外径はｄであって、ｄ≦８ｍｍである。

具体的には、本実施例における接続口管は赤銅より製造され、接続口管の外径が８ｍｍ以下である場合、接続口管の肉厚はδ_２であって、１ｍｍ≦δ_２≦１．２５ｍｍであり、耐圧強度を保証する。

具体的には、本実施例における接続口管は鋼材料より製造され、接続口管の外径が８ｍｍ以下である場合、接続口管の肉厚はδ_２であって、０．５ｍｍ≦δ_２≦１ｍｍであり、耐圧強度を保証する。

本実施例において、スリーブ８０の一端は弁座１０に溶接されて、接続強度を保証する。

具体的には、本実施例におけるスリーブ８０は弁座１０に第１の溶接ビードを有し、第１の溶接ビードの溶接深さはδ_３であって、δ_３／δ_１≧０．５である。このような構造を用いて設けると、溶接強度を保証して、耐圧強度を確保することができる。

本実施例において、電磁弁は、スリーブ８０の他端に設けられた吸引子６０を更に含む。

具体的には、本実施例におけるスリーブ８０の他端は吸引子６０に溶接されて、接続強度を向上させる。

本実施例において、スリーブ８０は吸引子６０に第２の溶接ビードを有し、第２の溶接ビードの溶接深さはδ_４であって、δ_４／δ_１≧０．５である。このような構造を用いて設けると、溶接強度を保証して、耐圧強度を確保することができる。

以上の記述から、本出願の上述の実施例は、開発差圧を増加させ、動作の信頼性を向上させ、最低動作電圧を低減させる技術的効果を実現していることが分かる。

留意すべきこととして、ここで使用される用語は、単に具体的な実施形態を記述するためのものであり、本出願による例示的な実施形態を制限することを意図していない。ここで使用されるように、文脈において別途に明瞭に明示していない限り、単数形式は複数形式も含むことを意図しており、更に、本明細書において「包含」及び／又は「含む」という用語が用いられる場合、特徴、ステップ、操作、デバイス、アセンブリ及び／又はこれらの組み合わせの存在を示すことも理解すべきである。

別途の具体的な説明がない限り、これらの実施例で述べた部材及びステップの相対的な配置、数式及び数値は、本出願の範囲を制限するものではない。同時に、記述の便宜上、図面に示された各部分の寸法は、実際の比例関係に従って描かれたものでないことを理解すべきである。当業者に知られている技術、方法及び設備に関して、詳細に論じないが、適切な場合において、記述した技術、方法及び設備は、許可された明細書の一部とみなされるべきである。ここに示し且つ論じた全ての例示において、いかなる具体的な値も単に例示的なものであり、制限的なものとして解釈されるべきではない。従って、例示的な実施例の他の例示は、異なる値を有してもよい。類似の符号及び文字は以下の図面において類似の要素を示すことに留意すべきであり、従って、１つの図面で一度いずれかの要素が定義されれば、続く図面においてはそれに対する更なる説明を必要としない。

本出願の記述において、「前」、「後」、「上」、「下」、「左」、「右」、「横方向、縦方向、垂直、水平」及び「頂部、底部」等の方位語で指示された方位又は位置関係は、通常、図示に基づく方位又は位置関係であって、単に本出願の記述の便宜上及び記述を簡略にするためのものにすぎず、相反する説明がされない場合に、これらの方位語は、指定された装置又は素子が特定の方位を有するか、あるいは特定の方位で構成及び操作されなければならないことを指示及び暗示するものではないため、本出願の保護範囲を制限するものとして理解されてはならず、方位語「内」、「外」は、各部材自体の輪郭に対する内、外を意味することを理解すべきである。

記述の便宜上、ここでは、「～の上にある」、「～の上方にある」、「～上面にある」、「上面の」等のような空間的に相対的な用語が、図示された１つのデバイス又は特徴と他のデバイス又は特徴との空間的な位置関係を記述するために用いられてもよい。空間的に相対的な用語は、図面に記述された方位に加えて、使用又は操作中のデバイスの異なる方位を包含することを意図するものとして理解すべきである。例えば、図面におけるデバイスが倒置されると、「他のデバイス又は構造の上方にある」又は「他のデバイス又は構造の上にある」デバイスと記述された後、「他のデバイス又は構造の下方にある」又は「他のデバイス又は構造の下にある」と位置決めされる。従って、例示的な用語「～上方にある」は、「～上方にある」及び「～下方にある」の両方の方位を含んでもよい。このデバイスは、他の異なる方式で（９０度回転又は他の方位で）位置決めされ、且つここで使用される空間的に相対的な記述は、それに応じて解釈されてもよい。

更に、説明すべきこととして、「第１」、「第２」等の単語を使用して部品を限定するのは、単に対応する部品を容易に区別するためのものであり、別途の記載がない限り、上述の単語は特別な意味を持たないため、本出願の保護範囲を制限するものとして理解してはならない。

上述したものは本出願の好ましい実施例にすぎず、本出願を制限するためのものではなく、当業者にとって本出願は様々な変更及び変化が可能である。本出願の趣旨及び原則の範囲内でなされたいかなる修正、同等の置換、改良等は、いずれも本出願の保護範囲内に包含されるべきである。

Claims

入口（１１）、出口（１２）及び前記入口（１１）と前記出口（１２）の両方に連通した弁チャンバ（１３）を有する弁座（１０）と、
前記弁チャンバ（１３）内に可動的に設けられ、内部にかしめチャンバ（２１）が設けられている芯金（２０）と、
前記かしめチャンバ（２１）内に前記弁座（１０）の軸方向に可動的に設けられた鋼球（３０）と、
を含む電磁弁。
前記鋼球（３０）は、前記かしめチャンバ（２１）と当接された第１の当接位置及び第２の当接位置を有し、前記第１の当接位置と前記第２の当接位置との高低差はｈであって、０．３ｍｍ≦ｈ≦０．５ｍｍである、請求項１に記載の電磁弁。
前記かしめチャンバ（２１）は、テーパ状のチャンバである、請求項１に記載の電磁弁。
前記芯金（２０）には、前記弁座（１０）の径方向に伸び、前記かしめチャンバ（２１）と連通した均衡化孔（２２）が更に設けられている、請求項１に記載の電磁弁。
前記弁座（１０）の出口（１２）に設けられ、内部に前記弁チャンバ（１３）と連通した連通通路（４１）が設けられている弁口座（４０）を更に含み、前記弁口座（４０）は、対向して設けられた接続端及び支持端を有し、前記支持端は前記弁チャンバ（１３）内に設けられ、前記接続端は前記弁座（１０）外まで突出し、前記接続端と前記支持端との間には、前記弁座（１０）の出口（１２）と当接して位置決めされるために用いられる第１の位置決め段差（４２）が設けられている、請求項１に記載の電磁弁。
前記第１の位置決め段差（４２）は、互いに接続された第１の位置決め面（４２１）及び第２の位置決め面（４２２）を含み、前記弁座（１０）の開口には、互いに接続された位置決め内壁及び位置決め側壁を有し、前記第１の位置決め面（４２１）と前記位置決め内壁とは密着して位置決めされ、前記第２の位置決め面（４２２）の少なくとも一部と前記位置決め側壁とは密着して位置決めされ、前記第２の位置決め面（４２２）は前記位置決め側壁より突出して設けられている、請求項５に記載の電磁弁。
前記第２の位置決め面（４２２）は、軸方向に接続して設けられた第１の係合環面（４２２１）及び第２の係合環面（４２２２）を含み、前記第１の係合環面（４２２１）と前記位置決め側壁とはインターフェアランスフィットされ、溶接材料が前記第２の係合環面（４２２２）と前記位置決め側壁との間の隙間内に入るように、前記第２の係合環面（４２２２）と前記位置決め側壁とは間隔をおいて設けられている、請求項６に記載の電磁弁。
前記電磁弁は、前記弁口座（４０）の接続端に接続された第１の接続パイプ（５１）を更に含み、前記弁座（１０）、前記弁口座（４０）及び前記第１の接続パイプ（５１）は同一の溶接ビードによって接続されている、請求項７に記載の電磁弁。
前記弁口座（４０）には、前記第１の位置決め段差（４２）の前記接続端に近い一方側に設けられた第２の位置決め段差（４３）が更に設けられており、
前記電磁弁は、前記第２の位置決め段差（４３）に位置決め係合された第１の接続パイプ（５１）を更に含む、請求項５に記載の電磁弁。
前記第２の位置決め段差（４３）は、第３の位置決め面（４３１）及び第４の位置決め面（４３２）を更に含み、前記第３の位置決め面（４３１）と前記第１の接続パイプ（５１）の端部とは密着して位置決めされ、前記第４の位置決め面（４３２）の少なくとも一部と前記第１の接続パイプ（５１）の内壁とはインターフェアランスフィットされている、請求項９に記載の電磁弁。
前記弁座（１０）に嵌合されたスリーブ（８０）を更に含み、前記スリーブ（８０）の肉厚はδ_１であって、０．４５ｍｍ≦δ_１≦０．６ｍｍである、請求項１に記載の電磁弁。
前記入口及び／又は前記出口に設けられた接続口管を更に含む、請求項１１に記載の電磁弁。
前記接続口管の外径はｄであって、ｄ≦８ｍｍである、請求項１２に記載の電磁弁。
前記接続口管は赤銅より製造され、前記接続口管の肉厚はδ_２であって、１ｍｍ≦δ_２≦１．２５ｍｍである、請求項１３に記載の電磁弁。
前記接続口管は鋼材料より製造され、前記接続口管の肉厚はδ_２であって、０．５ｍｍ≦δ_２≦１ｍｍである、請求項１３に記載の電磁弁。
前記スリーブ（８０）の一端は前記弁座（１０）に溶接されている、請求項１１に記載の電磁弁。
前記スリーブ（８０）は前記弁座（１０）に第１の溶接ビードを有し、前記第１の溶接ビードの溶接深さはδ_３であって、δ_３／δ_１≧０．５である、請求項１１に記載の電磁弁。
前記スリーブ（８０）の他端に設けられた吸引子（６０）を更に含む、請求項１１に記載の電磁弁。
前記スリーブ（８０）の他端は前記吸引子（６０）に溶接されている、請求項１８に記載の電磁弁。
前記スリーブ（８０）は前記吸引子（６０）に第２の溶接ビードを有し、前記第２の溶接ビードの溶接深さはδ_４であって、δ_４／δ_１≧０．５である、請求項１９に記載の電磁弁。