JP2024092133A - 化粧シートおよび化粧シートの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】艶消し感を有し、耐久性に優れた化粧シートおよび化粧シートの製造方法を提供する。
【解決手段】化粧シート１０は、原反層２と、前記原反層２の上側ＵＰに設けられ、表面に畝状に突出して設けられた畝状部を有し、凹凸形状が形成された表面保護層６と、を備え、前記表面保護層６の前記凹凸形状において、算術平均粗さＲａに対する平均長さＲＳｍの比率が、１０以上３００以下である。化粧シート１０の製造方法は、原反層２の上側ＵＰに表面保護層６を塗工する保護層塗工工程と、前記表面保護層６の表面へ波長２００ｎｍ以下の光を照射して畝状部を形成する光照射工程と、を備える。
【選択図】図１

Description

本発明は、化粧シートおよび化粧シートの製造方法に関する。

従来、住宅等の建築物の内装材や造作材、建具等の建築資材、家具什器類、住設機器又は家電製品等の表面化粧に用いられる化粧シートがある。化粧シートは、長期間に亘って使用しても表面の美観を損なわないように、耐摩耗性、耐擦傷性、耐汚染性等の耐久性を求められる。

また、化粧シートの表面に設けられた保護層へシリカ又はタルク等の艶消し剤を添加することによって艶消し感を付与した化粧シートがある。艶消し剤として不規則な角部や稜部を有する不定形状の粒子を使用し、この粒子の一部を保護層の平均表面から突出させて微細な凹凸形状を形成させることで化粧シートへ艶消し感が付与される。

しかしながら、艶消し剤が添加された化粧シートにおいて、化粧シートの表面に物品等が接触したとき、物品等の接触によって艶消材として添加されている粒子が脱落する虞がある。また、脱落した粒子が保護層の表面を擦ることによって、化粧シートの表面に傷が付いて保護層の表面形状が変化し、化粧シートの表面の艶の変化や美観の低下が生じる虞がある。

耐久性に優れて艶消し感を有する化粧シートとして、特許文献１に記載のある化粧材がある。特許文献１に記載のある化粧材は、基材の表面に透明な樹脂組成物を主成分とする保護層が設けられてなる化粧材である。保護層は、基材側から順に、艶消し剤を含有する第一保護層と、艶消し剤を含有せずに硬質球状粒子を含有する第二保護層とからなる。そのため、第二保護層によって、第一保護層による艶消し感を摩耗や擦傷から保護して長期に亘り持続させることができる。

特許第４５７８７５６号公報

しかしながら、特許文献１に記載のある化粧材は、艶消し感を有する第一保護層を保護する第二保護層を有するため、第二保護層によって艶が上がってしまい低光沢にする事が困難な虞がある。

上記事情を踏まえ、本発明は、艶消し感を有し、耐久性に優れた化粧シートおよび化粧シートの製造方法を提供することを目的とする。

上記課題を解決するために、この発明は以下の手段を提案している。
本発明の化粧シートは、原反層と、前記原反層の上側に設けられ、表面に畝状に突出して設けられた畝状部を有し、凹凸形状が形成された表面保護層と、を備え、前記表面保護層の前記凹凸形状において、算術平均粗さＲａに対する平均長さＲＳｍの比率が、１０以上３００以下である。

上記化粧シートでは、前記表面保護層は、電離放射線硬化性樹脂を含み、前記表面における、６０度反射光沢が５以下、かつ、６０度反射光沢に対する８５度反射光沢の比率が３以下であってもよい。

上記化粧シートでは、前記表面保護層に前記畝状部を有さない化粧シートに対して光沢度が±１０の範囲のとき、前記畝状部を有さない前記化粧シートと比較して、前記表面保護層の前記表面における指による動摩擦係数値が低い値であってもよい。

上記化粧シートでは、前記表面保護層は、平均粒径が５μｍ以下の粒子を含んでもよい。

上記化粧シートでは、前記表面保護層は、前記電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対して、前記粒子の添加量が０．５質量部以下であってもよい。

本発明の化粧シートの製造方法は、原反層の上側に表面保護層を塗工する保護層塗工工程と、前記表面保護層の表面へ波長２００ｎｍ以下の光を照射して畝状部を形成する光照射工程と、を備える。

上記化粧シートの製造方法では、前記光照射工程における前記表面保護層へ照射する前記光は、波長１７２ｎｍのエキシマＶＵＶ光であってもよい。

上記化粧シートの製造方法では、前記光照射工程の後に、前記表面保護層に電離放射線を照射して前記表面保護層を硬化させる保護層硬化工程を備えてもよい。

本発明の化粧シートおよび化粧シートによれば、艶消し感を有し、耐久性に優れた化粧シートおよび化粧シートの製造方法を提供することができる。

本実施形態に係る化粧シートを模式的に示す断面図である。 同化粧シートの上側からの平面視における凹凸形状の例を示す写真である。 同化粧シートの表面保護層を模式的に示す断面図である。 化粧シートの製造方法の一例を示すフローチャートである。

本発明の一実施形態について、図面を参照して説明する。

図１は、本実施形態に係る化粧シート１０を模式的に示す断面図である。
本実施形態では、図１に示すように、化粧シート１０の厚さ方向を「上下方向Ｖ」、化粧シート１０の表面保護層６が設けられた向きを上下方向Ｖにおける「上側ＵＰ」、反対向きを上下方向Ｖにおける「下側ＬＯ」と定義する。

化粧シート１０は、プライマ層１と、原反層２と、絵柄層３と、接着剤層４と、透明樹脂層５と、表面保護層６とを備える。

プライマ層１は、化粧シート１０の下側ＬＯに設けられた層である。プライマ層１として、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂又はアクリル系樹脂等を採用できる。プライマ層１には、特に、２液硬化型ウレタン系樹脂を採用するのが望ましい。プライマ層１は、グラビア印刷、オフセット印刷、フレキソ印刷、シルクスクリーン印刷又はインクジェット印刷等の公知の印刷方法によって、後述する原反層２の下側ＬＯに形成されている。また、プライマ層１は、公知のコーティング装置を用いて形成されてもよい。

原反層２は、プライマ層１の上側ＵＰに設けられた層である。原反層２として、薄葉紙、チタン紙又は樹脂含浸紙等の紙や、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアミド、エチレン－酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアルコール又はアクリル等の合成樹脂を採用できる。

また、原反層２として、エチレン－プロピレン共重合ゴム、エチレン－プロピレン－ジエン共重合ゴム、スチレン－ブタジエン共重合ゴム、スチレン－イソプレン－スチレンブロック共重合ゴム、スチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合ゴム又はポリウレタン等のゴムを採用できる。また、原反層２として、有機系や無機系の不織布を採用してもよいし、アルミニウム、鉄、金又は銀等の金属を用いた金属箔を採用してもよい。

原反層２の厚さは、印刷性やコスト性の観点から、２０μｍ以上２５０μｍ以下が望ましい。また、原反層２としてオレフィン系の樹脂を用いる場合、原反層２の表面が不活性な状態である虞がある。そのため、木質の板又は金属系の板等の図示しない基材を原反層２の下側ＬＯに設ける場合、原反層２と基材との間にプライマ層１を設けることで、原反層２と基材との密着性を向上できる。

絵柄層３は、原反層２の上側ＵＰに設けられた層である。絵柄層３は、例えば、木目、石目又は砂目等の絵柄の印刷を施すことで形成された層である。印刷方法として、グラビア印刷、オフセット印刷、フレキソ印刷、シルクスクリーン印刷又はインクジェット印刷等の公知の印刷方法を採用できる。また、絵柄層３には、採用する印刷方法に適した公知の印刷インキを採用できる。また、絵柄層３として、２液硬化型のウレタンインキを採用するのが望ましい。絵柄層３は、インキのバインダ樹脂に光安定剤や紫外線吸収剤等の添加剤を含んでいてもよい。

接着剤層４は、絵柄層３の上側ＵＰに設けられた層である。接着剤層４として、ポリエチレン系、アクリル系、ポリエステル系、エポキシ系等の公知の接着性樹脂を採用できる。接着剤層４には、絵柄層３の絵柄を透視できる程度に透明又は半透明な材質を採用するのが望ましい。接着剤層４を形成する方法として、溶融押出成形法を採用できる。また、接着剤層４は、グラビア印刷、オフセット印刷、フレキソ印刷、シルクスクリーン印刷又はインクジェット印刷等の公知の印刷方法や、公知のコーティング装置を用いて形成されてもよい。

透明樹脂層５は、接着剤層４の上側ＵＰに設けられた層である。透明樹脂層５として、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブテン、ポリエステル等を採用できる。透明樹脂層５として、結晶性ポリプロピレンを採用するのが望ましい。透明樹脂層５として結晶性ポリプロピレンを用いることで、化粧シート１０の表面の強度を向上できる。また、透明樹脂層５は、光安定剤や紫外線吸収剤等の添加剤を含んでいてもよい。透明樹脂層５には、接着剤層４を通して絵柄層３の絵柄を透視できる程度に透明又は半透明な材質を採用するのが望ましい。

表面保護層６は、透明樹脂層５の上側ＵＰに設けられた層である。表面保護層６として、（メタ）アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂又はエポキシ系樹脂等の電離放射線硬化性樹脂等を採用できる。表面保護層６には、接着剤層４および透明樹脂層５を通して絵柄層３の絵柄を透視できる程度に透明又は半透明な材質を採用するのが望ましい。

図２は、化粧シート１０の上側ＵＰからの平面視における凹凸形状の例を示す写真である。
表面保護層６は、コア部６ａと、コア部６ａの上側ＵＰの面から畝状に突出して設けられた畝状部６ｂとを有している。これにより、表面保護層６の表面には凹凸形状が形成されている。ここで、「畝状」とは、上側ＵＰに細長く盛り上がり、上側ＵＰからの平面視において線状に連なった形状を示す。

図３は、化粧シート１０の表面保護層６を模式的に示す断面図である。コア部６ａは、表面保護層６において、畝状形状が形成されていない部分である。畝状部６ｂは、コア部６ａの上側ＵＰの面から畝状に突出して設けられ、表面保護層６における畝状形状を形成している部分である。

畝状部６ｂは、上側ＵＰからの平面視において曲線状であっても直線状であってもよいが、化粧シート１０の耐指紋性の観点から曲線状であるのが望ましい。また、本実施形態において、畝状部６ｂは、例えば、表面保護層６の表面に設けられた凹凸形状の上下方向Ｖにおける最も低い部分から最も高い部分までの部分であり、コア部６ａは、表面保護層６における畝状部６ｂ以外の部分である。

畝状部６ｂは、図３に示すように、細長く盛り上がり、上側ＵＰからの平面視において線状に連なった形状をしている。畝状部６ｂは、表面保護層６の表面（上側ＵＰの面）に対して後述する特定波長の光を照射し、表面保護層６を形成する樹脂（電離放射線硬化性樹脂等）の表面を収縮させることにより形成される。

表面保護層６における表面の凹凸形状は、算術平均粗さＲａ（μｍ）に対する平均長さＲＳｍ（μｍ）の比率ＲＳｍ／Ｒａが、１０以上３００以下である。ここで、算術平均粗さＲａおよび平均長さＲＳｍは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１に準拠した表面性状パラメータであり、算術平均粗さＲａは、凹凸形状における厚さ方向（上下方向Ｖ）の表面粗さを示す表面性状パラメータである。また、平均長さＲＳｍは、凹凸形状における巾方向の表面粗さを示す表面性状パラメータである。

凹凸形状において、算術平均粗さＲａに対する平均長さＲＳｍの比率ＲＳｍ／Ｒａが１０未満であると畝状形状が細かく、例えば、図３に示す溝深さＨ１に対する溝幅Ｗ１が小さいため、表面保護層６に付着した汚れを拭き取りにくく、耐汚染性が劣る。また、比率ＲＳｍ／Ｒａが３００より大きいと、畝状形状の間隔が広く、例えば、図３に示す溝深さＨ１に対する溝幅Ｗ１が大きく、表面保護層６の光沢が高くなり低光沢にならない。

凹凸形状における算術平均粗さＲａに対する平均長さＲＳｍの比率を１０以上３００以下とすることで、化粧シート１０は、耐汚染性に優れ、かつ、低光沢な意匠を有することができる。

また、算術平均粗さＲａに対する平均長さＲＳｍの比率ＲＳｍ／Ｒａは、５０以上２５０以下が望ましい。比率ＲＳｍ／Ｒａが５０以上２５０以下であると、畝状形状の間隔が適度に広いため、水又は洗浄剤（界面活性剤やアルコールを含んだ水等）に対する親和性が向上する。その結果、表面保護層６の表面に付着した汚れを容易に拭き取ることができる。

表面保護層６は、表面における６０度反射光沢が５以下、かつ、６０度反射光沢に対する８５度反射光沢の比率が３以下であるのが望ましい。ここで、図３に示す入射角αの光において、６０度反射光沢とは、入射角αが６０度である光における反射光の光沢を示す。また、８５度反射光沢は、入射角αが８５度である光における反射光の光沢を示す。

６０度反射光沢を５以下とすることで、化粧シート１０は、優れた低光沢な意匠を有することができる。また、６０度反射光沢に対する８５度反射光沢の比率を３以下とすることで、６０度反射光沢と８５度反射光沢との値（光沢）の差が大きくなり過ぎず、化粧シート１０は、入射角αによらず、均一に低光沢な意匠を有することができる。

また、表面保護層６の表面における指による動摩擦係数値は、同程度の艶を有し、かつ、畝状部６ｂを有さない化粧シートと比較して低い値である。表面保護層６の表面における指による動摩擦係数値は、特に、畝状部６ｂを有さない化粧シートに対して光沢度が±１０の範囲のとき、この畝状部６ｂを有さない化粧シートと比較して低い値であることが望ましい。ここで、光沢度とは、前述の６０度反射光沢や８５度反射光沢等であり、入射光と正反射光との強度比を数値化したものを示すが、入射角αは６０度又は８５度に限定されるものではなく、任意の入射角αに対する光沢度である。化粧シートにおいて、一般的に表面の凹凸形状の高低差が大きいと、表面の光沢が抑えられ、低光沢になる。しかしながら、表面の凹凸形状の高低差が大きいと動摩擦係数も大きくなり、指で触ったときの触感が劣る。表面保護層６の表面における指による動摩擦係数を、同程度の艶を有し、かつ、畝状部６ｂを有さない化粧シートと比較して低い値とすることで、低光沢を有しつつ、触感に優れた化粧シート１０を実現できる。

表面保護層６を透明樹脂層５の上側ＵＰへ積層する方法として、グラビア印刷、オフセット印刷、フレキソ印刷、シルクスクリーン印刷又はインクジェット印刷等の公知の印刷方法や、公知のコーティング装置を採用できる。

表面保護層６は、粒子を含んでいるのが望ましい。粒子として、ポリエチレンワックス、ポリプロピレンワックス、樹脂ビーズなどの有機材料や、シリカ、ガラス、アルミナ、チタニア、ジルコニア、炭酸カルシウム、硫酸バリウムなどの無機材料を用いることができる。表面保護層６が含む粒子は、表面保護層６の光沢を調整するための艶消し剤として作用する。

表面保護層６が含む粒子の平均粒径は、５μｍ以下が望ましい。粒子の平均粒径を５μｍ以下とすることで、粒子の脱落による化粧シート１０の耐傷性の低下を抑制できる。また、表面保護層６において、表面保護層６を形成する電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対して、粒子の添加量は０．５質量部以下が望ましい。粒子の添加量を０．５質量部以下とすることで、表面保護層６は、均一な面状態を形成することができ、低光沢な意匠をより安定して有することができる。表面保護層６は、畝状部６ｂを有することで、表面保護層６を形成する電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対する粒子の添加量が０．５質量部以下でも低光沢な意匠を実現できる。そのため、低光沢な意匠（艶消し感）と、耐久性を両立した化粧シート１０を実現できる。また、表面保護層６において、粒子（艶消し剤）による透明感の低下を抑制でき、化粧シート１０は優れた意匠を有することができる。

また、表面保護層６には、電離放射線硬化性樹脂におけるＵＶ光による硬化を安定させるため、光開始剤を添加してもよい。光開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン系、アセトフェノン系、ベンゾインエーテル系、チオキサントン系等が採用できる。また、表面保護層６に、必要に応じて紫外線吸収剤や光安定剤を添加してもよい。

次に、化粧シート１０の製造方法の一例について説明する。

図４は、化粧シート１０の製造方法の一例を示すフローチャートである。本実施形態において、化粧シート１０の製造方法は、絵柄印刷工程Ｓ１と、溶融押出工程Ｓ２と、押出ラミネート工程Ｓ３と、保護層塗工工程Ｓ４と、光照射工程Ｓ５と、保護層硬化工程Ｓ６と、を備える。

まず、化粧シート製造システムは、ステップＳ１（絵柄印刷工程）を実行する。ステップＳ１において、原反層２の上側ＵＰの面に任意の絵柄を印刷して絵柄層３を形成する。このとき、原反層２の上側ＵＰの面にコロナ処理等の表面処理を施した後に絵柄層３を印刷してもよい。また、原反層２の下側ＬＯの面にプライマ層１を印刷して形成する。

次に、化粧シート製造システムは、ステップＳ２（溶融押出工程）を実行する。ステップＳ２において、接着剤層４を形成する樹脂と、透明樹脂層５を形成する樹脂とを溶融押出機を用いて共押出しして、接着剤層４および透明樹脂層５を形成する。

次に、化粧シート製造システムは、ステップＳ３（押出ラミネート工程）を実行する。ステップＳ３において、ステップＳ１で形成した絵柄層３の上側ＵＰの面にドライラミネート用接着剤を塗布する。次に、ステップＳ２で形成した接着剤層４を介して、絵柄層３のドライラミネート用接着剤を塗布した面と、ステップＳ２で形成した透明樹脂層５とを押出ラミネート法により貼り合わせる。ここで、貼り合わせた透明樹脂層５の上側ＵＰの面に、金型ロールのプレス等によってエンボス模様（形状）を施してもよい。エンボス模様を施して透明樹脂層５に凹凸形状を付与することで、化粧シート１０は、視覚的な立体感を得ることができる。また、透明樹脂層５に施すエンボス模様として、絵柄層３が有する絵柄と同調した模様をエンボス加工してもよい。

次に、化粧シート製造システムは、ステップＳ４（保護層塗工工程）を実行する。ステップＳ４において、透明樹脂層５の上側ＵＰの面に、表面保護層６を形成する電離放射線硬化性樹脂を塗工する。

次に、化粧シート製造システムは、ステップＳ５（光照射工程）を実行する。ステップＳ５において、ステップＳ４で塗工した電離放射線硬化性樹脂の表面（上側ＵＰの面）に波長１７２ｍｍのエキシマＶＵＶ光を照射する。波長２００ｍｍ以下のエキシマＶＵＶ光を照射することで電離放射線硬化性樹脂の表面が収縮して、表面保護層６における畝状部６ｂが形成される。ここで、ステップＳ５で照射するエキシマＶＵＶ光の酸素濃度を１００ｐｐｍ、積算光量を３０ｍＪ／ｃｍ^２としてもよい。

次に、化粧シート製造システムは、ステップＳ６（保護層硬化工程）を実行する。ステップＳ６において、ステップＳ５で畝状部６ｂを形成した電離放射線硬化性樹脂の表面に電離放射線を照射する。エキシマＶＵＶ光によって畝状部６ｂが形成された電離放射線硬化性樹脂に電離放射線を照射することで電離放射線硬化性樹脂が硬化して、コア部６ａおよび畝状部６ｂを有し、凹凸形状が形成された表面保護層６が形成される。表面保護層６を形成して、化粧シート１０の製造工程を完了する。

本実施形態の化粧シート１０および化粧シート１０の製造方法によれば、化粧シート１０は、原反層２と、原反層２の上側ＵＰに設けられ、表面に畝状に突出して設けられた畝状部６ｂを有し、凹凸形状が形成された表面保護層６とを備える。また、凹凸形状において、算術平均粗さＲａに対する平均長さＲＳｍの比率が１０以上３００以下である。そのため、表面保護層６において、電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対する粒子（艶消し剤）の添加量が０．５質量部以下でも低光沢な意匠を実現でき、表面保護層６を保護する層等を備えなくても耐傷性および耐汚染性に優れる。
その結果、艶消し感を有し、耐久性に優れた化粧シート１０および化粧シート１０の製造方法を提供することができる。

以上、本発明の一実施形態について図面を参照して詳述したが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。また、上述の一実施形態および以下で示す変形例において示した構成要素は適宜に組み合わせて構成することが可能である。

（変形例１）
上記実施形態において、化粧シート１０は、透明樹脂層５を備えるが、化粧シート１０の態様はこれに限定されない。化粧シートは、透明樹脂層５を備えなくてもよい。化粧シート１０が透明樹脂層５を備え、透明樹脂層５にエンボス模様を施すことで視覚的な立体感を化粧シート１０に付与できる。化粧シートにエンボス模様による視覚的な立体感を付与する必要が無い場合は、化粧シートは、透明樹脂層５を備えなくてもよい。また、化粧シートが透明樹脂層５を備える場合でも、透明樹脂層５にエンボス模様を施さなくてもよい。

（変形例２）
上記実施形態において、化粧シート１０は、接着剤層４とプライマ層１とを備えるが、化粧シート１０の態様はこれに限定されない。化粧シートは、接着剤層４又はプライマ層１を備えなくてもよい。接着剤層４およびプライマ層１は、接着剤層４又はプライマ層１を挟んで積層された層同士の密着性を向上させることができる。化粧シートが有する各層において、接着剤層４又はプライマ層１によって密着性を向上させなくても十分な密着性を有することができる場合は、化粧シートは接着剤層４又はプライマ層１を備えなくてもよい。

以下実施例により、本発明を詳細に説明する。本発明は以下の実施例に限定されるものではない。

（実施例１）
（絵柄印刷工程Ｓ１）
原反層２として、厚さ５５μｍのオレフィンフィルム（リケンテクノス株式会社製）を準備し、原反層２の上側ＵＰの面にコロナ処理を施した。原反層２のコロナ処理を施した上側ＵＰの面に絵柄を印刷して絵柄層３を形成した。絵柄層３には、２液型ウレタンインキ（東洋インキ株式会社製のＶ１８０）に、当該インキのバインダ樹脂分に対してヒンダードアミン系光安定剤（ＢＡＳＦ社製のキマソーブ９４４）を０．５質量部添加したインキを用いた。また、原反層２の下側ＬＯの面に、２液型ウレタンインキ（東洋インキ株式会社製のＶ１８０）を印刷してプライマ層１を形成した。

（溶融押出工程Ｓ２）
透明樹脂層５を形成する樹脂として結晶性ポリプロピレン樹脂（ペンタッド分率９７．８％、分子量分布２．３、ＭＦＲ １８ｇ／１０ｍｉｎ）１００質量部に対して、ヒンダードアミン系光安定剤（ＢＡＳＦ社製のキマソーブ９４４）０．５質量部、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤（ＢＡＳＦ社製のチヌビン３２８）０．５質量部を混合した混合物と、接着剤層４を形成する樹脂としてポリエチレン系の易接着性樹脂とを溶融押出機を用いて共押出しして、厚さ６０μｍの透明樹脂層５と厚さ１０μｍの接着性樹脂層とを製膜した。

（押出ラミネート工程Ｓ３）
絵柄印刷工程Ｓ１で形成した絵柄層３の上側ＵＰの面に、ドライラミネート用接着剤（三井化学株式会社製のタケラックＡ５４０）を塗布量２ｇ／ｍ^２で塗布した。溶融押出工程Ｓ２で製膜した接着剤層４を介して、ドライラミネート用接着剤を塗布した絵柄層３の上側ＵＰの面と、溶融押出工程Ｓ２で製膜した透明樹脂層５の下側ＬＯの面とを押出ラミネート法により貼り合わせた。さらに、絵柄層３と貼り合わせた透明樹脂層５の上側ＵＰの面にエンボス形成用の金型ロールを用いてプレスをし、エンボス模様を施した。

（保護層塗工工程Ｓ４）
押出ラミネート工程Ｓ３でエンボス模様を施した透明樹脂層５の上側ＵＰの面に表面保護層６を形成する表面保護層用塗液を層厚５μｍとなるように塗布した。

表面保護層用塗液（ＤＰＨＡ ０％）として、下記の電離放射線硬化性樹脂に、下記の粒子を配合した塗液を用いた。
・電離放射線硬化性樹脂
種類：トリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート（ＥＯ１５モル付加）
品名：ＳＲ９０３５（Ｓａｒｔｏｍｅｒ社製）
配合：１００質量部
・粒子
品名：サイリシア２５０Ｎ（富士シリシア化学社製）
粒径：５μｍ
配合：０．５質量部

（光照射工程Ｓ５）
保護層塗工工程Ｓ４で塗布した表面保護層用塗液の表面に波長１７２ｍｍのエキシマＶＵＶ光を照射して、表面保護層用塗液の表面を収縮させた。このとき、エキシマＶＵＶ光の酸素濃度は１００ｐｐｍ、積算光量は３０ｍＪ／ｃｍ^２とした。

（保護層硬化工程Ｓ６）
光照射工程Ｓ５でエキシマＶＵＶ光により収縮させた表面保護層用塗液の表面に電離放射線を照射し、表面保護層用塗液を硬化させて表面保護層６を形成した。こうして、実施例１の化粧シート１０を得た。

（実施例２）
表面保護層６を形成する表面保護層用塗液（ＤＰＨＡ ２０％）に用いる電離放射線硬化性樹脂として、下記の電離放射線硬化性樹脂を用いた以外は実施例１と同様の方法により、実施例２の化粧シート１０を得た。
・電離放射線硬化性樹脂
種類：トリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート（ＥＯ１５モル付加）
品名：ＳＲ９０３５（Ｓａｒｔｏｍｅｒ社製）
配合：８０質量部
種類：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
配合：２０質量部

（比較例１）
表面保護層を形成する表面保護層用塗液に用いる電離放射線硬化性樹脂として、下記の電離放射線硬化性樹脂を用いて、かつ、光照射工程Ｓ５を施さない以外は実施例１と同様の方法により、比較例１の化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
種類：トリメチロールプロパントアクリレート
品名：ＮＫエステルＡ－ＴＭＰＴ（新中村化学社製）
艶消し剤：富士シリシア化学製のサイリシア２５０Ｎを、表面保護層の６０度反射光沢が０．４になるように電離放射線硬化性樹脂中に配合した。

（比較例２）
表面保護層を形成する表面保護層用塗液に用いる電離放射線硬化性樹脂として、下記の電離放射線硬化性樹脂を用いて、かつ、光照射工程Ｓ５を施さない以外は実施例１と同様の方法により、比較例２の化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
種類：トリメチロールプロパントアクリレート
品名：ＮＫエステルＡ－ＴＭＰＴ（新中村化学社製）
艶消し剤：富士シリシア化学製のサイリシア２５０Ｎを、表面保護層の６０度反射光沢が３．２７になるように電離放射線硬化性樹脂中に配合した。

（比較例３）
表面保護層を形成する表面保護層用塗液に用いる電離放射線硬化性樹脂として、下記の電離放射線硬化性樹脂を用いて、かつ、光照射工程Ｓ５を施さない以外は実施例１と同様の方法により、比較例３の化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
種類：トリメチロールプロパントアクリレート
品名：ＮＫエステルＡ－ＴＭＰＴ（新中村化学社製）
艶消し剤：富士シリシア化学製のサイリシア２５０Ｎを、表面保護層の６０度反射光沢が５．７３になるように電離放射線硬化性樹脂中に配合した。

（比較例４）
表面保護層を形成する表面保護層用塗液に用いる電離放射線硬化性樹脂として、下記の電離放射線硬化性樹脂を用いて、かつ、光照射工程Ｓ５を施さない以外は実施例１と同様の方法により、比較例４の化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
種類：トリメチロールプロパントアクリレート
品名：ＮＫエステルＡ－ＴＭＰＴ（新中村化学社製）
艶消し剤：富士シリシア化学製のサイリシア２５０Ｎを、表面保護層の６０度反射光沢が１０．８になるように電離放射線硬化性樹脂中に配合した。

（比較例５）
表面保護層を形成する表面保護層用塗液に用いる電離放射線硬化性樹脂として、下記の電離放射線硬化性樹脂を用いて、かつ、光照射工程Ｓ５を施さない以外は実施例１と同様の方法により、比較例５の化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
種類：トリメチロールプロパントアクリレート
品名：ＮＫエステルＡ－ＴＭＰＴ（新中村化学社製）
艶消し剤：富士シリシア化学製のサイリシア２５０Ｎを、表面保護層の６０度反射光沢が１５．２になるように電離放射線硬化性樹脂中に配合した。

（実験１）
実施例１－２および比較例１－５の化粧シートの表面（上側の面）にＪＩＳ Ｋ ５６００－５－４（引っかき硬度（鉛筆法））に準拠した鉛筆硬度試験を実施した。鉛筆硬度試験では、鉛筆の硬度Ｂから６Ｂまで荷重７５０ｇで実施し、傷や艶変の無い硬さを確認した。

（実験２）
実施例１－２および比較例１－５の化粧シートの表面にスチールウールラビング試験を実施した。スチールウールラビング試験では、化粧シートの下側に木質基板を貼り付けた後、スチールウールに１００ｇの荷重をかけて化粧シートの表面を２０往復擦り、化粧シートの表面に生じた傷や光沢の変化を目視にて確認した。
評価基準は５段階とした。
５：艶変化のない良好なもの。
４：僅かに傷はあるが、ほとんど光沢変化のないもの。
３：著しい傷や光沢の変化が一部にあるもの。
２：著しい傷や光沢の変化が全面にあるもの。
１：トップコート（表面保護層）が完全に剥がれてしまうもの。

（実験３）
実施例１－２および比較例１－５の化粧シートの表面にホフマンスクラッチ試験を実施した。ホフマンスクラッチ試験では、化粧シートの表面に円柱型の刃を４５°の角度で当て、刃に２００ｇ刻みで２００ｇから２０００ｇまでの荷重をかけながら一定速度で化粧シートの表面を移動させた。このとき、化粧シートの表面に傷がつかない荷重の上限値を確認した。

（実験４）
実施例１－２および比較例１－５の化粧シートの表面に耐汚染試験を実施した。耐汚染試験では、化粧シートの表面に１％ＮａＯＨ、５％硫酸、エタノール、ラッカーシンナーを滴下して時計皿で覆い、２４時間後に化粧シートの表面を水洗いしてから化粧シートの外観を確認した。
評価基準は３段階とした。
〇：外観に変化の無いもの。
△：光沢変化したもの。
×：白化したもの。

（実験５）
実施例１－２および比較例１－５の化粧シートの表面に動摩擦係数試験を実施した。動摩擦係数試験では、トライボギア（新東科学社製のＴＲＩＢＯＧＥＡＲ ＴＹＰＥ：３３）を用いた。トライボギアの試料テーブルに内蔵されたストレインゲージによりＸ、Ｙ、Ｚ方向の摩擦力を検出し、試料テーブル上に置いた化粧シートの表面を指でなぞることで動摩擦係数を測定した。
評価者は、試料テーブルに置いた化粧シートの表面を指で１０ｃｍなぞり、それを２往復行った。動摩擦係数試験において、指を２往復させた動摩擦係数の平均値を確認した。４人の評価者で試験を行い、指でなぞる速度は、評価者Ａ、評価者Ｂおよび評価者Ｄは２．５ｃｍ／ｓｅｃ、評価者Ｃは５．０ｃｍ／ｓｅｃとした。また、指を化粧シートに押し当てる圧力は５ｇｆ／ｃｍ^２とした。

（実験結果）
実験１－４の結果を表１に示す。表１において、「８５度／６０度」は、６０度反射光沢に対する８５度反射光沢の比率である。また、「ＲＳｍ／Ｒａ」は、算術平均粗さＲａに対する平均長さＲＳｍの比率である。

表面に形成した畝状形状によって低光沢な意匠を実現した実施例１－２の化粧シート１０は、表面に畝状形状を有さずに艶消し剤の配合によって低光沢な意匠を実現した比較例１－５の化粧シートと比較して、同等又はそれ以上の耐久性（耐傷性および耐汚染性）を有する結果であった。

実験５の結果を表２および表３に示す。表２および表３において、「８５度／６０度」は、６０度反射光沢に対する８５度反射光沢の比率である。表２は、実施例１および比較例２の化粧シートにおける実験５の結果である。光沢値が近い実施例１と比較例２において、畝状形状を有する実施例１は、畝状形状を有さない比較例２と比較して動摩擦係数の値が低い。また、実験５で化粧シートの表面を指で擦ったときの官能評価では、比較例２の化粧シートは引っかかる感触を有するのに対して、実施例１の化粧シート１０はすべすべ感のみを有する結果であった。

また、表３は、実施例２および比較例３の化粧シートにおける実験５の結果である。光沢値が近い実施例２と比較例３において、畝状形状を有する実施例２は、畝状形状を有さない比較例３と比較して動摩擦係数の値が低い。また、実験５で化粧シートの表面を指で擦ったときの官能評価では、比較例３の化粧シートは引っかかる感触を有するのに対して、実施例２の化粧シート１０はすべすべ感のみを有する結果であった。

１０ 化粧シート
１ プライマ層
２ 原反層
３ 絵柄層
４ 接着剤層
５ 透明樹脂層
６ 表面保護層
６ａ コア部
６ｂ 畝状部
Ｓ１ 絵柄印刷工程
Ｓ２ 溶融押出工程
Ｓ３ 押出ラミネート工程
Ｓ４ 保護層塗工工程
Ｓ５ 光照射工程
Ｓ６ 保護層硬化工程
Ｖ 上下方向
ＵＰ 上側
ＬＯ 下側

Claims (8)

1. 原反層と、
   前記原反層の上側に設けられ、表面に畝状に突出して設けられた畝状部を有し、凹凸形状が形成された表面保護層と、
   を備え、
   前記表面保護層の前記凹凸形状において、算術平均粗さＲａに対する平均長さＲＳｍの比率が、１０以上３００以下である、
   化粧シート。
2. 前記表面保護層は、
   電離放射線硬化性樹脂を含み、
   前記表面における、６０度反射光沢が５以下、かつ、６０度反射光沢に対する８５度反射光沢の比率が３以下である、
   請求項１に記載の化粧シート。
3. 前記表面保護層に前記畝状部を有さない化粧シートに対して光沢度が±１０の範囲のとき、前記畝状部を有さない前記化粧シートと比較して、前記表面保護層の前記表面における指による動摩擦係数値が低い値である、
   請求項２に記載の化粧シート。
4. 前記表面保護層は、平均粒径が５μｍ以下の粒子を含む、
   請求項３に記載の化粧シート。
5. 前記表面保護層は、前記電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対して、前記粒子の添加量が０．５質量部以下である、
   請求項４に記載の化粧シート。
6. 原反層の上側に表面保護層を塗工する保護層塗工工程と、
   前記表面保護層の表面へ波長２００ｎｍ以下の光を照射して畝状部を形成する光照射工程と、
   を備える、
   化粧シートの製造方法。
7. 前記光照射工程における前記表面保護層へ照射する前記光は、波長１７２ｎｍのエキシマＶＵＶ光である、
   請求項６に記載の化粧シートの製造方法。
8. 前記光照射工程の後に、前記表面保護層に電離放射線を照射して前記表面保護層を硬化させる保護層硬化工程を備える、
   請求項６又は請求項７に記載の化粧シートの製造方法。