JP2024045429A - 表示パネル - Google Patents

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広樹 安達
晋吾 江口
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    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549Organic PV cells

Abstract

【課題】利便性または信頼性に優れた新規な表示パネルを提供する。【解決手段】第1の領域と、第2の領域と、表示領域と、を有する表示パネルであって、第2の領域は表示領域の一部を含み、第2の領域は第1の部材を備え、第2の領域は第1の部材を外側に向けて湾曲することができ、第1の部材は第1の弾性体および第2の弾性体を備え、第2の弾性体は第1の弾性体に一部または全部が覆われる端部を備え、第2の弾性体は第1の弾性体より大きい弾性率を備える。【選択図】図1

Description

本発明の一態様は、表示パネル、表示装置、入出力装置、情報処理装置または半導体装置
に関する。
なお、本発明の一態様は、上記の技術分野に限定されない。本明細書等で開示する発明の
一態様の技術分野は、物、方法、または、製造方法に関するものである。または、本発明
の一態様は、プロセス、マシン、マニュファクチャ、または、組成物(コンポジション・
オブ・マター)に関するものである。そのため、より具体的に本明細書で開示する本発明
の一態様の技術分野としては、半導体装置、表示装置、発光装置、蓄電装置、記憶装置、
それらの駆動方法、または、それらの製造方法、を一例として挙げることができる。
第1の面と、第1の面に対向する第2の面と、第1の面と第2の面の間に中立面と、を備
える機能パネルであって、第1の面から中立面までの領域に、機能層の厚さの半分以上の
厚さを備える機能層の一部が配置される構成が知られている(特許文献1)。
特開2016-081051号公報
本発明の一態様は、利便性または信頼性に優れた新規な表示パネルを提供することを課題
の一とする。または、利便性または信頼性に優れた新規な表示装置を提供することを課題
の一とする。または、利便性または信頼性に優れた新規な入出力装置を提供することを課
題の一とする。または、利便性または信頼性に優れた新規な情報処理装置を提供すること
を課題の一とする。または、新規な表示パネル、新規な表示装置、新規な入出力装置、新
規な情報処理装置または新規な半導体装置を提供することを課題の一とする。
なお、これらの課題の記載は、他の課題の存在を妨げるものではない。なお、本発明の一
態様は、これらの課題の全てを解決する必要はないものとする。なお、これら以外の課題
は、明細書、図面、請求項などの記載から、自ずと明らかとなるものであり、明細書、図
面、請求項などの記載から、これら以外の課題を抽出することが可能である。
(1)本発明の一態様は、第1の領域700Aと、第2の領域700Bと、表示領域23
1と、を有する表示パネルである。
第1の領域700Aは、表示領域231の一部を含む。
第2の領域700Bは表示領域231の他の一部を含み、第2の領域700Bは第1の部
材791を備え、第2の領域700Bは第1の部材791を外側に向けて湾曲することが
できる。
第1の部材791は、第1の弾性体791Aおよび第2の弾性体791Cを備える。
第2の弾性体791Cは第1の弾性体791Aに一部または全部が覆われる端部を備え、
第2の弾性体791Cは第1の弾性体791Aより大きい弾性率を備える。
これにより、第2の領域700Bの湾曲のし易さを調整することができる。または、所定
の大きさより大きい曲率半径で湾曲することができる。または、曲率半径が所定の大きさ
より小さくならないように湾曲することができる。または、曲率半径が異なる複数の湾曲
部を第2の領域700Bに形成することができる。または、U字型に湾曲することができ
る。または、繰り返し湾曲することができる。または、不可逆な折り目の形成を抑制する
ことができる。または、第2の領域700Bと重なる表示領域を保護することができる。
または、第2の領域700Bの強度を高めることができる。その結果、利便性または信頼
性に優れた新規な表示パネルを提供することができる。
(2)また、本発明の一態様は、上記の表示領域231が、第1の部材791が配設され
ていない方向に向けて表示をする機能を備える表示パネルである。
これにより、第1の部材791に遮られることなく表示をすることができる。または、第
2の領域700Bにおいてしわの形成を抑制することができる。その結果、利便性または
信頼性に優れた新規な表示パネルを提供することができる。
(3)また、本発明の一態様は、上記の第2の領域700Bが、2mmより大きい曲率半
径で湾曲することができる表示パネルである。
これにより、不具合を生じることなく表示パネルを繰り返し湾曲することができる。また
は、湾曲した状態の厚さを薄くできる。例えば、曲率半径が5mm以上、好ましくは2m
m以上、より好ましくは2mmより大きい曲率半径で湾曲することができる。具体的には
、5万回以上繰り返して湾曲することができる。その結果、利便性または信頼性に優れた
新規な表示パネルを提供することができる。
(4)また、本発明の一態様は、上記の第2の領域700Bが、前記第1の部材791の
厚さに100μmを加えた厚さより薄く、好ましくは80μmを加えた厚さより薄く、よ
り好ましくは50μmを加えた厚さより薄い、表示パネルである。
これにより、表示パネルの厚さを薄くすることができる。その結果、利便性または信頼性
に優れた新規な表示パネルを提供することができる。
(5)また、本発明の一態様は、上記の第1の部材791が、断面において、端部に向か
って薄くなる形状を備える表示パネルである。
これにより、第1の部材791の剛性を端部に向かって緩やかに小さくすることができる
。または、曲率半径が端部に向かって緩やかに小さくなるように、第2の領域700Bを
湾曲することができる。その結果、利便性または信頼性に優れた新規な表示パネルを提供
することができる。
(6)また、本発明の一態様は、上記の第1の部材791が、表示領域231を横切る帯
状の形状を備える表示パネルである。
これにより、第1の部材791に沿って表示領域を二つに畳むことができる。または、表
示領域231の一部を他の一部と向い合せることができる。または、表示パネルの外形を
小さくすることができる。その結果、利便性または信頼性に優れた新規な表示パネルを提
供することができる。
(7)また、本発明の一態様は、封止材705、第1の基材510と、第2の基材770
と、第3の領域700Cと、を有する表示パネルである。
封止材705は、第1の基材510および第2の基材770の間に挟まれる。
第2の基材770は、第1の基材510と重なる領域を備える。
第1の領域700Aは上記の重なる領域の一部を含み、第2の領域700Bは上記の重な
る領域の他の一部を含む。
第3の領域700Cは上記の重なる領域、第1の基材510の端部、第2の基材770お
よび第2の部材792を含む。
第2の部材792は第1の基材510の端部を覆い、第2の部材792は封止材705よ
り低い透湿性を備える表示パネルである。
これにより、外部から第1の基材510および第2の基材770の間の機能層520また
は表示素子550(i,j)への不純物の拡散を抑制することができる。または、第1の
基材510および第2の基材770の端部を保護することができる。その結果、利便性ま
たは信頼性に優れた新規な表示パネルを提供することができる。
(8)また、本発明の一態様は、画素702(i,j)を有する表示パネルである。
画素702(i,j)は、機能層520および表示素子550(i,j)を備える。
機能層520は画素回路530(i,j)を備え、画素回路530(i,j)は表示素子
550(i,j)と電気的に接続される。
これにより、電子データを表示することができる。その結果、利便性または信頼性に優れ
た新規な表示パネルを提供することができる。
(9)また、本発明の一態様は、上記の表示領域231が、一群の画素702(i,1)
乃至画素702(i,n)、他の一群の画素702(1,j)乃至画素702(m,j)
、走査線G2(i)および信号線S2(j)を備える表示パネルである。
一群の画素702(i,1)乃至画素702(i,n)は画素702(i,j)を含み、
一群の画素702(i,1)乃至画素702(i,n)は、行方向に配設される。
他の一群の画素702(1,j)乃至画素702(m,j)は画素702(i,j)を含
み、他の一群の画素702(1,j)乃至画素702(m,j)は、行方向と交差する列
方向に配設される。
走査線G2(i)は、一群の画素702(i,1)乃至画素702(i,n)と電気的に
接続される。
信号線S2(j)は、他の一群の画素702(1,j)乃至画素702(m,j)と電気
的に接続される。
これにより、複数の画素に画像情報を供給することができる。その結果、利便性または信
頼性に優れた新規な表示パネルを提供することができる。
(10)また、本発明の一態様は、上記の表示パネル700と、制御部238と、を有す
る表示装置である。
制御部238は画像情報V1および制御情報CIを供給され、制御部238は画像情報V
1に基づいて情報V11を生成し、制御部238は制御情報CIにもとづいて制御信号S
Pを生成し、制御部238は情報V11および制御信号SPを供給する。
表示パネル700は情報V11または制御信号SPを供給され、画素は情報に基づいて表
示する。
これにより、表示素子を用いて画像情報を表示することができる。その結果、利便性また
は信頼性に優れた新規な表示装置を提供することができる。
(11)また、本発明の一態様は、入力部240と、表示部230と、を有する入出力装
置である。
表示部230は、上記の表示パネル700を備える。
入力部240は検知領域241を備え、入力部240は検知領域241に近接するものを
検知する。検知領域241は画素702(i,j)と重なる領域を備える。
これにより、表示部を用いて画像情報を表示しながら、表示部と重なる領域に近接するも
のを検知することができる。または、表示部に近接させる指などをポインタに用いて、位
置情報を入力することができる。または、位置情報を表示部に表示する画像情報に関連付
けることができる。その結果、利便性または信頼性に優れた新規な入出力装置を提供する
ことができる。
(12)また、本発明の一態様は、演算装置210と、入出力装置220と、を有する情
報処理装置である。
演算装置210は入力情報IIまたは検知情報DSを供給され、演算装置210は制御情
報CIおよび画像情報V1を供給する。
入出力装置220は入力情報IIおよび検知情報DSを供給し、入出力装置220は制御
情報CIおよび画像情報V1を供給され、入出力装置220は、表示部230、入力部2
40および検知部250を備える。
表示部230は上記の表示パネル700を備え、表示部230は制御情報CIに基づいて
画像情報V1を表示する。
入力部240は入力情報IIを生成し、検知部250は検知情報DSを生成する。
(13)また、本発明の一態様は、キーボード、ハードウェアボタン、ポインティングデ
バイス、タッチセンサ、照度センサ、撮像装置、音声入力装置、視線入力装置、姿勢検出
装置、のうち一以上と、上記の表示パネルと、を含む、情報処理装置である。
これにより、さまざまな入力装置を用いて供給する情報に基づいて、画像情報または制御
情報を演算装置に生成させることができる。その結果、利便性または信頼性に優れた新規
な情報処理装置を提供することができる。
本明細書に添付した図面では、構成要素を機能ごとに分類し、互いに独立したブロックと
してブロック図を示しているが、実際の構成要素は機能ごとに完全に切り分けることが難
しく、一つの構成要素が複数の機能に係わることもあり得る。
本明細書においてトランジスタが有するソースとドレインは、トランジスタの極性及び各
端子に与えられる電位の高低によって、その呼び方が入れ替わる。一般的に、nチャネル
型トランジスタでは、低い電位が与えられる端子がソースと呼ばれ、高い電位が与えられ
る端子がドレインと呼ばれる。また、pチャネル型トランジスタでは、低い電位が与えら
れる端子がドレインと呼ばれ、高い電位が与えられる端子がソースと呼ばれる。本明細書
では、便宜上、ソースとドレインとが固定されているものと仮定して、トランジスタの接
続関係を説明する場合があるが、実際には上記電位の関係に従ってソースとドレインの呼
び方が入れ替わる。
本明細書においてトランジスタのソースとは、活性層として機能する半導体膜の一部であ
るソース領域、或いは上記半導体膜に接続されたソース電極を意味する。同様に、トラン
ジスタのドレインとは、上記半導体膜の一部であるドレイン領域、或いは上記半導体膜に
接続されたドレイン電極を意味する。また、ゲートはゲート電極を意味する。
本明細書においてトランジスタが直列に接続されている状態とは、例えば、第1のトラン
ジスタのソースまたはドレインの一方のみが、第2のトランジスタのソースまたはドレイ
ンの一方のみに接続されている状態を意味する。また、トランジスタが並列に接続されて
いる状態とは、第1のトランジスタのソースまたはドレインの一方が第2のトランジスタ
のソースまたはドレインの一方に接続され、第1のトランジスタのソースまたはドレイン
の他方が第2のトランジスタのソースまたはドレインの他方に接続されている状態を意味
する。
本明細書において接続とは、電気的な接続を意味しており、電流、電圧または電位が、供
給可能、或いは伝送可能な状態に相当する。従って、接続している状態とは、直接接続し
ている状態を必ずしも指すわけではなく、電流、電圧または電位が、供給可能、或いは伝
送可能であるように、配線、抵抗、ダイオード、トランジスタなどの回路素子を介して間
接的に接続している状態も、その範疇に含む。
本明細書において回路図上は独立している構成要素どうしが接続されている場合であって
も、実際には、例えば配線の一部が電極として機能する場合など、一の導電膜が、複数の
構成要素の機能を併せ持っている場合もある。本明細書において接続とは、このような、
一の導電膜が、複数の構成要素の機能を併せ持っている場合も、その範疇に含める。
また、本明細書中において、トランジスタの第1の電極または第2の電極の一方がソース
電極を、他方がドレイン電極を指す。
本発明の一態様によれば、利便性または信頼性に優れた新規な表示パネルを提供すること
ができる。または、利便性または信頼性に優れた新規な表示装置を提供することができる
。または、利便性または信頼性に優れた新規な入出力装置を提供することができる。また
は、利便性または信頼性に優れた新規な情報処理装置を提供することができる。または、
新規な表示パネル、新規な表示装置、新規な入出力装置、新規な情報処理装置または新規
な半導体装置を提供することができる。
なお、これらの効果の記載は、他の効果の存在を妨げるものではない。なお、本発明の一
態様は、必ずしも、これらの効果の全てを有する必要はない。なお、これら以外の効果は
、明細書、図面、請求項などの記載から、自ずと明らかとなるものであり、明細書、図面
、請求項などの記載から、これら以外の効果を抽出することが可能である。
実施の形態に係る表示パネルの構成を説明する図。 実施の形態に係る表示パネルの構成を説明する図。 実施の形態に係る表示パネルの構成を説明する図。 実施の形態に係る表示パネルの構成を説明する図。 実施の形態に係る表示パネルの構成を説明する上面図。 実施の形態に係る表示パネルの構成を説明する断面図および回路図。 実施の形態に係る表示パネルの構成を説明する断面図。 実施の形態に係る表示パネルの構成を説明する断面図。 実施の形態に係る表示パネルの構成を説明するブロック図。 実施の形態に係る表示装置の構成を説明する図。 実施の形態に係る入出力装置の構成を説明するブロック図。 実施の形態に係る情報処理装置の構成を説明するブロック図および投影図。 実施の形態に係る情報処理装置の駆動方法を説明するフローチャート。 実施の形態に係る情報処理装置の駆動方法を説明する図。 実施の形態に係る情報処理装置の人工知能部を説明する図。 実施例に係るトランジスタの特性を説明する図。
本発明の一態様は、第1の領域と、第2の領域と、表示領域と、を有する表示パネルであ
って、第2の領域は表示領域の一部を含み、第2の領域は第1の部材を備え、第2の領域
は第1の部材を外側に向けて湾曲することができ、第1の部材は第1の弾性体および第2
の弾性体を備え、第2の弾性体は第1の弾性体に一部または全部が覆われる端部を備え、
第2の弾性体は第1の弾性体より大きい弾性率を備える。
これにより、所定の大きさより大きい曲率半径で湾曲することができる。または、曲率半
径が所定の大きさより小さくならないように湾曲することができる。または、繰り返し湾
曲することができる。または、不可逆な折り目の形成を抑制することができる。その結果
、利便性または信頼性に優れた新規な表示パネルを提供することができる。
実施の形態について、図面を用いて詳細に説明する。但し、本発明は以下の説明に限定さ
れず、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し
得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本発明は以下に示す実施の形態の
記載内容に限定して解釈されるものではない。なお、以下に説明する発明の構成において
、同一部分又は同様な機能を有する部分には同一の符号を異なる図面間で共通して用い、
その繰り返しの説明は省略する。
(実施の形態1)
本実施の形態では、本発明の一態様の表示パネルの構成について、図1乃至図4を参照し
ながら説明する。
図1は本発明の一態様の表示パネルの構成を説明する図である。図1(A)は本発明の一
態様の表示パネルの斜視図であり、図1(B)は図1(A)の側面図であり、図1(C)
は図1(A)の上面図である。
図2は本発明の一態様の表示パネルの構成を説明する図である。図2(A)は本発明の一
態様の表示パネルの上面図であり、図2(B)は図2(A)の切断線A1-A2における
断面図であり、図2(C)は湾曲した状態を説明する断面図である。
図3(A)は図2(B)の一部を説明する断面図であり、図3(B)は図2(B)の一部
を湾曲した状態の断面図である。
図4は本発明の一態様の表示パネルの構成を説明する図である。図4(A)は本発明の一
態様の表示パネルの上面図であり、図4(B)は図4(A)の切断線A1-A2における
断面図であり、図4(C)は図4(B)の一部を説明する図である。
なお、本明細書において、1以上の整数を値にとる変数を符号に用いる場合がある。例え
ば、1以上の整数の値をとる変数pを含む(p)を、最大p個の構成要素のいずれかを特
定する符号の一部に用いる場合がある。また、例えば、1以上の整数の値をとる変数mお
よび変数nを含む(m,n)を、最大m×n個の構成要素のいずれかを特定する符号の一
部に用いる場合がある。
<表示パネルの構成例1.>
本実施の形態で説明する表示パネル700は、領域700Aと、領域700Bと、表示領
域231と、を有する(図1(A)および図1(C)参照)。
《表示領域231の構成例1.》
表示領域231は画像を表示する機能を備える。
《領域700A》
領域700Aは、表示領域231の一部を含む。
《領域700Bの構成例1.》
領域700Bは、表示領域231の他の一部を含む。
領域700Bは、部材791を備え、領域700Bは、部材791を外側に向けて湾曲す
ることができる。
《部材791の構成例1.》
部材791は、弾性体791Aおよび弾性体791Cを備える(図1(B)参照)。
弾性体791Cは弾性体791Aに一部または全部が覆われる端部を備え、弾性体791
Cは弾性体791Aより大きい弾性率を備える。または、弾性体791Cは弾性体791
Aより小さい破断伸び率を備える。なお、引っ張り試験において、試料が破断したときの
長さの、元の長さに対する比を破断伸び率という。
《弾性体791A、弾性体791Cの構成例》
例えば、樹脂、ゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴムなどを弾性体791Aおよび弾性体
791Cに用いることができる。
具体的には、弾性率が0.1MPa以上0.8MPa以下の材料を弾性体791Aに用い
ることができる。また、弾性率が0.8MPa以上1.2MPa以下の材料を弾性体79
1Cに用いることができる。または、破断伸び率350%の材料を弾性体791Aに用い
ることができる。また、破断伸び率200%の材料を弾性体791Cに用いることができ
る。
弾性体791Cは、弾性体791Aに比べて湾曲しにくい。これにより、領域700Bを
湾曲する場合、弾性体791Cと重なる部分P3の曲率半径R3は、弾性体791Aと重
なる部分P1の曲率半径R1より大きい(図3(A)および図3(B)参照)。また、弾
性体791Cおよび弾性体791Aの境界P2と重なる部分の曲率半径R2は、曲率半径
R1より大きく、曲率半径R3より小さい。
これにより、領域700Bの湾曲のし易さを調整することができる。または、所定の大き
さより大きい曲率半径で湾曲することができる。または、曲率半径が所定の大きさより小
さくならないように湾曲することができる。または、曲率半径が異なる複数の湾曲部を領
域700Bに形成することができる。または、U字型に湾曲することができる。
または、領域700Bにおいて、繰り返し湾曲することができる。または、不可逆な折り
目の形成を抑制することができる。または、領域700Bと重なる表示領域231を保護
することができる。または、領域700Bの強度を高めることができる。その結果、利便
性または信頼性に優れた新規な表示パネルを提供することができる。
《表示領域231の構成例2.》
表示領域231は、部材791が配設されていない方向に向けて表示をする機能を備える
(図1(A)参照)。
これにより、部材791に遮られることなく表示をすることができる。または、第2の領
域700Bにおいてしわの形成を抑制することができる。その結果、利便性または信頼性
に優れた新規な表示パネルを提供することができる。
《領域700Bの構成例2.》
領域700Bは、2mmより大きい曲率半径で湾曲することができる(図1(B)参照)
これにより、不具合を生じることなく表示パネルを繰り返し湾曲することができる。また
は、湾曲した状態の厚さを薄くできる。例えば、曲率半径が5mm以上、好ましくは2m
m以上、より好ましくは2mmより大きい曲率半径で湾曲することができる。具体的には
、5万回以上繰り返して湾曲することができる。その結果、利便性または信頼性に優れた
新規な表示パネルを提供することができる。
《領域700Bの構成例3.》
領域700Bは、部材791の厚さT22に100μmを加えた厚さT21より薄い(図
3(A)参照)。なお、領域700Bは、部材791の厚さT22に80μmを加えた厚
さより薄いと好ましく、厚さT22に50μmを加えた厚さより薄いとより好ましい。
これにより、表示パネルの厚さを薄くすることができる。その結果、利便性または信頼性
に優れた新規な表示パネルを提供することができる。
《部材791の構成例2.》
部材791は、断面において、端部に向かって薄くなる形状を備える((図3(A)およ
び図3(B)参照)。
これにより、部材791の剛性を端部に向かって緩やかに小さくすることができる。また
は、曲率半径が端部に向かって緩やかに小さくなるように領域700Bを湾曲することが
できる。その結果、利便性または信頼性に優れた新規な表示パネルを提供することができ
る。
《部材791の構成例3.》
部材791は、表示領域231を横切る帯状の形状を備える(図2(A)および図2(B
)参照)。
これにより、第1の部材に沿って表示領域を二つに畳むことができる(図2(C)参照)
。または、表示領域の一部を他の一部と向い合せることができる。または、表示パネルの
外形を小さくすることができる。その結果、利便性または信頼性に優れた新規な表示パネ
ルを提供することができる。
<表示パネルの構成例2.>
また、本実施の形態で説明する表示パネル700は、封止材705、基材510と、基材
770と、領域700Cと、を有する(図4(A)および図4(B)参照)。また、部材
791は弾性体791A、弾性体791Bおよび弾性体791Cを備える。なお、弾性体
791Cは弾性体791Bに一部が覆われる端部を備え、弾性体791Cは弾性体791
Bより大きい弾性率を備える。または、弾性体791Cは弾性体791Bより小さい破断
伸び率を備える。例えば、弾性体791Aに用いることができる材料を、弾性体791B
に用いることができる。
《封止材705の構成例》
封止材705は、第1の基材510および第2の基材770の間に挟まれる。
《基材510および基材770の構成例》
基材770は、基材510と重なる領域を備える。
領域700Aは上記の重なる領域の一部を含み、領域700Bは上記の重なる領域の他の
一部を含む。
基材510および基材770は、可撓性を備える。
例えば、樹脂、樹脂フィルムまたはプラスチック等の有機材料を基材510または基材7
70に用いることができる。具体的には、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド、
ポリイミド、ポリカーボネートまたはアクリル樹脂等の樹脂フィルムまたは樹脂板を用い
ることができる。これにより、重量を低減することができる。または、例えば、落下によ
る破損等の発生頻度を低減することができる。
例えば、金属板、薄板状のガラス板または無機材料等の膜を樹脂フィルム等に貼り合わせ
た複合材料を基材510または基材770に用いることができる。例えば、繊維状または
粒子状の金属、ガラスもしくは無機材料等を樹脂フィルムに分散した複合材料を用いるこ
とができる。例えば、繊維状または粒子状の樹脂もしくは有機材料等を無機材料に分散し
た複合材料を用いることができる。
また、単層の材料または複数の層が積層された材料を、基材510または基材770に用
いることができる。例えば、基材と基材に含まれる不純物の拡散を防ぐ絶縁膜等が積層さ
れた材料を用いることができる。具体的には、ガラスとガラスに含まれる不純物の拡散を
防ぐ酸化シリコン層、窒化シリコン層または酸化窒化シリコン層等から選ばれた一または
複数の膜が積層された材料を用いることができる。または、樹脂と樹脂を透過する不純物
の拡散を防ぐ酸化シリコン膜、窒化シリコン膜または酸化窒化シリコン膜等が積層された
材料を用いることができる。
具体的には、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド(ナイロン、アラミド等)、ポ
リイミド、ポリカーボネート、ポリウレタン、アクリル樹脂、エポキシ樹脂もしくはシリ
コーン等のシロキサン結合を有する樹脂を含む材料を基材510または基材770に用い
ることができる。例えば、これらの樹脂を含む樹脂フィルム、樹脂板または積層材料等を
用いることができる。
具体的には、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PE
N)、ポリエーテルサルフォン(PES)、シクロオレフィンポリマー(COP)または
シクロオレフィンコポリマー(COC)等を基材510または基材770に用いることが
できる。
また、紙または木材などを基材510または基材770に用いることができる。
例えば、可撓性を有する材料を基材510または基材770に用いることができる。
なお、トランジスタまたは容量素子等を基板に直接形成する方法を用いることができる。
または、作製工程中に加わる熱に耐性を有する工程用の基板にトランジスタまたは容量素
子等を形成し、形成されたトランジスタまたは容量素子等を、例えば、基材510または
基材770に転置する方法を用いることができる。これにより、例えば可撓性を有する基
板にトランジスタまたは容量素子等を形成できる。
《領域700C》
領域700Cは、上記の重なる領域、基材510の端部、基材770および部材792を
含む(図4(C)参照)。
《部材792》
部材792は基材510の端部を覆い、部材792は封止材705より低い透湿性を備え
る。
例えば、部材791の一部を部材792に用いることができる。具体的には、弾性体79
1Aまたは弾性体791Bを部材792に用いることができる。
または、膜または積層膜を部材792に用いることができる。具体的には、透湿性が10
-5g/(m・day)以下、好ましくは10-6g/(m・day)以下の材料を
部材792に用いることができる。例えば、無機膜または有機膜を含む材料を部材792
に用いることができる。具体的には、金属膜、金属および酸素を含む膜、金属および窒素
を含む膜、架橋高分子を含む膜などを部材792に用いることができる。
または、弾性体791A以上の弾性率を備える材料を部材792に用いることができる。
または、弾性体791B以上の弾性率を備える材料を部材792に用いることができる。
弾性体791A以下の破断伸び率を備える材料を部材792に用いることができる。また
は、弾性体791B以下の破断伸び率を備える材料を部材792に用いることができる。
または、部材791以上の剛性を備える材料を、部材792に用いることができる。
これにより、外部から第1の基材510および第2の基材770の間の機能層520また
は表示素子550(i,j)への不純物の拡散を抑制することができる。または、第1の
基材510および第2の基材770の端部を保護することができる。その結果、利便性ま
たは信頼性に優れた新規な表示パネルを提供することができる。
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる
(実施の形態2)
本実施の形態では、本発明の一態様の表示パネルの構成について、図5乃至図7を参照し
ながら説明する。
図5は本発明の一態様の表示パネルの構成を説明する図である。図5(A)は表示パネル
の上面図であり、図5(B)および図5(C)は図5(A)に示す表示パネルの画素の一
部を説明する上面図である。
図6(A)は図5(A)の切断線X1-X2、切断線X3-X4、切断線X9-X10に
おける断面図である。また、図6(B)は表示パネルが備える画素回路の構成を説明する
回路図である。
図7(A)は、本発明の一態様の表示パネルの画素の構成を説明する図である。図7(B
)は、図7(A)に示す画素の一部を説明する断面図である。
<表示パネルの構成例3.>
本実施の形態で説明する表示パネル700は、画素702(i,j)を有する(図5(A
)参照)。
《画素702(i,j)の構成例1.》
画素702(i,j)は、機能層520および表示素子550(i,j)を備える(図6
(A)参照)。
《機能層520の構成例1.》
機能層520は画素回路530(i,j)を備える。
《画素回路530(i,j)の構成例1.》
画素回路530(i,j)は表示素子550(i,j)と電気的に接続される(図6(A
)および図6(B)参照)。
例えば、画素回路530(i,j)は、開口部591Aにおいて、表示素子550(i,
j)と電気的に接続される(図7(A)参照)。
例えば、スイッチ、トランジスタ、ダイオード、抵抗素子、インダクタまたは容量素子等
を画素回路530(i,j)に用いることができる。
画素回路530(i,j)は、スイッチSW2、トランジスタMおよび容量素子C21を
含む。
例えば、トランジスタをスイッチSW2に用いることができる(図6(B)、図7(A)
および図7(B)参照)。
《表示素子550(i,j)の構成例1.》
表示素子550(i,j)は、光を射出する機能を備える。
表示素子550(i,j)は、発光性の材料を含む層553(j)を備える(図7(A)
参照)。
例えば、光を射出する機能を備える表示素子を表示素子550(i,j)に用いることが
できる。具体的には、有機エレクトロルミネッセンス素子、無機エレクトロルミネッセン
ス素子、発光ダイオードまたはQDLED(Quatum Dot LED)等を、表示
素子550(i,j)に用いることができる。
《発光性の材料を含む層553(j)の構成例1.》
例えば、信号線S2(j)に沿って列方向に長い帯状の積層材料を、発光性の材料を含む
層553(j)に用いることができる。
具体的には、発光性の材料を含む層553(j)、発光性の材料を含む層553(j+1
)および発光性の材料を含む層553(j+2)に、色相が互いに異なる光を発する材料
を用いることができる。これにより、例えば、表示素子550(i,j)が射出する光の
色相を、列ごとに異ならせることができる。
例えば、青色の光を発する材料、緑色の光を発する材料および赤色の光を発する材料を、
色相が互いに異なる光を発する材料に用いることができる。
《発光性の材料を含む層553(j)の構成例2.》
例えば、白色の光を射出するように積層された積層材料を、発光性の材料を含む層553
(j)に用いることができる。
具体的には、色相が互いに異なる光を発する材料を、発光性の材料を含む層553(j)
に用いることができる。
例えば、青色の光を射出する蛍光材料を含む発光性の材料を含む層と、緑色および赤色の
光を射出する蛍光材料以外の材料を含む層を積層した積層材料を、発光性の材料を含む層
553(j)に用いることができる。または、青色の光を射出する蛍光材料を含む発光性
の材料を含む層と、黄色の光を射出する蛍光材料以外の材料を含む層と、を積層した積層
材料を、発光性の材料を含む層553(j)に用いることができる。
例えば、発光ユニットを発光性の材料を含む層553(j)に用いることができる。発光
ユニットは、一方から注入された電子が他方から注入された正孔と再結合する領域を1つ
備える。また、発光ユニットは発光性の材料を含み、発光性の材料は、電子と正孔の再結
合により生じるエネルギーを光として放出する。
例えば、複数の発光ユニットおよび中間層を発光性の材料を含む層553(j)に用いる
ことができる。中間層は、二つの発光ユニットの間に挟まれる領域を備える。中間層は電
荷発生領域を備え、中間層は陰極側に配置された発光ユニットに正孔を供給し、陽極側に
配置された発光ユニットに電子を供給する機能を備える。また、複数の発光ユニットおよ
び中間層を備える構成をタンデム型の発光素子という場合がある。
例えば、一の色相の光を発する材料を含む発光ユニットと、他の色相の光を発する材料を
含む発光ユニットを、発光性の材料を含む層553(j)に用いることができる。
例えば、高分子化合物(オリゴマー、デンドリマー、ポリマー等)、中分子化合物(低分
子と高分子の中間領域の化合物:分子量400以上4000以下)等を、発光性の材料を
含む層553(j)に用いることができる。
《電極551(i,j)、電極552》
電極551(i,j)は、開口部591A(i,j)において、画素回路530(i,j
)と電気的に接続される(図7(A)参照)。
例えば、配線等に用いることができる材料を電極551(i,j)または電極552に用
いることができる。具体的には、可視光について透光性を有する材料を電極551(i,
j)または電極552に用いることができる。
例えば、導電性酸化物またはインジウムを含む導電性酸化物、酸化インジウム、インジウ
ム錫酸化物、インジウム亜鉛酸化物、酸化亜鉛、ガリウムを添加した酸化亜鉛などを用い
ることができる。または、光が透過する程度に薄い金属膜を用いることができる。または
、可視光について透光性を有する材料を用いることができる。
例えば、光の一部を透過し、光の他の一部を反射する金属膜を電極551(i,j)また
は電極552に用いることができる。これにより、例えば、電極551(i,j)および
電極552の間の距離を調整することができる。または、微小共振器構造を表示素子55
0(i,j)に設けることができる。または、所定の波長の光を他の光より効率よく取り
出すことができる。または、スペクトルの半値幅が狭い光を取り出すことができる。また
は、鮮やかな色の光を取り出すことができる。
例えば、効率よく光を反射する膜を、電極551(i,j)または電極552に用いるこ
とができる。具体的には、銀およびパラジウム等を含む材料または銀および銅等を含む材
料を金属膜に用いることができる。
《画素回路530(i,j)の構成例2.》
画素回路530(i,j)は、スイッチSW2、トランジスタMおよび容量素子C21を
含む。例えば、トランジスタをスイッチSW2に用いることができる。
《スイッチSW2の構成例1.》
スイッチSW2に用いるトランジスタは半導体を含む(図7(B)参照)。
トランジスタは、半導体膜508、導電膜504、導電膜512Aおよび導電膜512B
を備える(図7(B)参照)。
半導体膜508は、導電膜512Aと電気的に接続される領域508A、導電膜512B
と電気的に接続される領域508Bを備える。半導体膜508は、領域508Aおよび領
域508Bの間に領域508Cを備える。
導電膜504は領域508Cと重なる領域を備え、導電膜504はゲート電極の機能を備
える。
絶縁膜506は、半導体膜508および導電膜504の間に挟まれる領域を備える。絶縁
膜506はゲート絶縁膜の機能を備える。
導電膜512Aはソース電極の機能またはドレイン電極の機能の一方を備え、導電膜51
2Bはソース電極の機能またはドレイン電極の機能の他方を備える。
《トランジスタMの構成例1.》
例えば、同一の工程で形成することができる半導体膜をスイッチSW2に用いるトランジ
スタおよびトランジスタMに用いることができる。また、同一の構成をスイッチSW2に
用いるトランジスタおよびトランジスタMに用いることができる。
また、導電膜524をトランジスタに用いることができる。導電膜524は、導電膜50
4との間に半導体膜508を挟む領域を備える。導電膜524は、第2のゲート電極の機
能を備える。導電膜524を、例えば、導電膜504と電気的に接続することができる。
なお、例えば、同一の工程で形成することができる半導体膜を駆動回路および画素回路の
トランジスタに用いることができる。
例えば、ボトムゲート型のトランジスタまたはトップゲート型のトランジスタなどを画素
回路530(i,j)に用いることができる。または、駆動回路のトランジスタに用いる
ことができる。
《半導体膜508の構成例1.》
例えば、14族の元素を含む半導体を半導体膜508に用いることができる。具体的には
、シリコンを含む半導体を半導体膜508に用いることができる。
[水素化アモルファスシリコン]
例えば、水素化アモルファスシリコンを半導体膜508に用いることができる。または、
微結晶シリコンなどを半導体膜508に用いることができる。これにより、例えば、ポリ
シリコンを半導体膜508に用いる表示パネルより、表示ムラが少ない表示パネルを提供
することができる。または、表示パネルの大型化が容易である。
[ポリシリコン]
例えば、ポリシリコンを半導体膜508に用いることができる。これにより、例えば、水
素化アモルファスシリコンを半導体膜508に用いるトランジスタより、トランジスタの
電界効果移動度を高くすることができる。または、例えば、水素化アモルファスシリコン
を半導体膜508に用いるトランジスタより、駆動能力を高めることができる。または、
例えば、水素化アモルファスシリコンを半導体膜508に用いるトランジスタより、画素
の開口率を向上することができる。
または、例えば、水素化アモルファスシリコンを半導体膜508に用いるトランジスタよ
り、トランジスタの信頼性を高めることができる。
または、トランジスタの作製に要する温度を、例えば、単結晶シリコンを用いるトランジ
スタより、低くすることができる。
または、駆動回路のトランジスタに用いる半導体膜を、画素回路のトランジスタに用いる
半導体膜と同一の工程で形成することができる。または、画素回路を形成する基板と同一
の基板上に駆動回路を形成することができる。または、電子機器を構成する部品数を低減
することができる。
[単結晶シリコン]
例えば、単結晶シリコンを半導体膜508に用いることができる。これにより、例えば、
水素化アモルファスシリコンを半導体膜508に用いる表示パネルより、精細度を高める
ことができる。または、例えば、ポリシリコンを半導体膜508に用いる表示パネルより
、表示ムラが少ない表示パネルを提供することができる。または、例えば、スマートグラ
スまたはヘッドマウントディスプレイを提供することができる。
《半導体膜508の構成例2.》
例えば、金属酸化物を半導体膜508に用いることができる。これにより、アモルファス
シリコンを半導体膜508に用いたトランジスタを利用する画素回路と比較して、画素回
路が画像信号を保持することができる時間を長くすることができる。具体的には、フリッ
カーの発生を抑制しながら、選択信号を30Hz未満、好ましくは1Hz未満、より好ま
しくは一分に一回未満の頻度で供給することができる。その結果、情報処理装置の使用者
に蓄積する疲労を低減することができる。また、駆動に伴う消費電力を低減することがで
きる。
例えば、酸化物半導体を用いるトランジスタを利用することができる。具体的には、イン
ジウムを含む酸化物半導体またはインジウムとガリウムと亜鉛を含む酸化物半導体を半導
体膜508に用いることができる。
一例を挙げれば、オフ状態におけるリーク電流が、半導体膜508にアモルファスシリコ
ンを用いたトランジスタより小さいトランジスタを用いることができる。具体的には、酸
化物半導体を半導体膜508に用いたトランジスタを用いることができる。
例えば、インジウム、ガリウムおよび亜鉛を含む厚さ25nmの膜を、半導体膜508に
用いることができる。
タンタルおよび窒素を含む厚さ10nmの膜と、銅を含む厚さ300nmの膜と、を積層
した導電膜を導電膜504に用いることができる。なお、銅を含む膜は、絶縁膜506と
の間に、タンタルおよび窒素を含む膜を挟む領域を備える。
例えば、シリコンおよび窒素を含む厚さ400nmの膜と、シリコン、酸素および窒素を
含む厚さ200nmの膜と、を積層した積層膜を、絶縁膜506に用いることができる。
なお、シリコンおよび窒素を含む膜は、半導体膜508との間に、シリコン、酸素および
窒素を含む膜を挟む領域を備える。
例えば、タングステンを含む厚さ50nmの膜と、アルミニウムを含む厚さ400nmの
膜と、チタンを含む厚さ100nmの膜と、をこの順で積層した導電膜を、導電膜512
Aまたは導電膜512Bに用いることができる。なお、タングステンを含む膜は、半導体
膜508と接する領域を備える。
ところで、例えば、アモルファスシリコンを半導体に用いるボトムゲート型のトランジス
タの製造ラインは、酸化物半導体を半導体に用いるボトムゲート型のトランジスタの製造
ラインに容易に改造できる。また、例えばポリシリコンを半導体に用いるトップゲート型
のトランジスタの製造ラインは、酸化物半導体を半導体に用いるトップゲート型のトラン
ジスタの製造ラインに容易に改造できる。いずれの改造も、既存の製造ラインを有効に活
用することができる。
これにより、チラツキを抑制することができる。または、消費電力を低減することができ
る。または、動きの速い動画を滑らかに表示することができる。または、豊かな階調で写
真等を表示することができる。その結果、利便性または信頼性に優れた新規な表示パネル
を提供することができる。
《半導体膜508の構成例3.》
例えば、化合物半導体をトランジスタの半導体に用いることができる。具体的には、ガリ
ウムヒ素を含む半導体を用いることができる。
例えば、有機半導体をトランジスタの半導体に用いることができる。具体的には、ポリア
セン類またはグラフェンを含む有機半導体を半導体膜に用いることができる。
《画素702(i,j)の構成例2.》
表示領域231は、複数の画素を備える。例えば、色相が互いに異なる色を表示する機能
を備える画素を表示領域231に用いることができる。または、当該複数の画素を用いて
、各々の画素では表示できない色相の色を、加法混色または減法混色により表示すること
ができる。
なお、色相が異なる色を表示することができる複数の画素を混色に用いる場合において、
それぞれの画素を副画素と言い換えることができる。また、複数の副画素を一組にして、
画素と言い換えることができる。
例えば、画素702(i,j)を副画素と言い換えることができ、画素702(i,j)
、画素702(i,j+1)および画素702(i,j+2)を一組にして、画素703
(i,k)と言い換えることができる(図5(C)参照)。
また、画素702(i,j)を副画素と言い換えることができ、画素702(i,j)、
画素702(i,j+1)、画素702(i+1,j)および画素702(i+1,j+
1)を一組にして、画素703(i,k)と言い換えることができる(図5(E)参照)
具体的には、青色を表示する副画素、緑色を表示する副画素および赤色を表示する副画素
を一組にして、画素703(i,k)に用いることができる。また、シアンを表示する副
画素、マゼンタを表示する副画素およびイエローを表示する副画素を一組にして、画素7
03(i,k)に用いることができる。
また、例えば、白色等を表示する副画素を上記の一組に加えて、画素に用いることができ
る。
《機能層520の構成例2.》
機能層520は画素回路530(i,j)および絶縁膜516を備える。例えば、下面お
よび下面に対向する上面を備える絶縁膜を、絶縁膜516に用いることができる。
具体的には、半導体膜508に接する下面および半導体膜508(2)に接する上面を備
える絶縁膜を、絶縁膜516に用いることができる(図8(B)および図8(C)参照)
例えば、積層膜を絶縁膜516に用いることができる。具体的には、半導体膜508上に
絶縁膜516の一部を形成し、当該一部の上に絶縁膜516の他の部分を形成し、当該他
の部分の上に半導体膜508(2)を形成することができる。
《画素回路530(i,j)の構成例3.》
画素回路530(i,j)は、スイッチSW2、トランジスタMおよび容量素子C21を
含む。
例えば、トランジスタMに用いる半導体膜を形成する工程とは別の工程で形成された半導
体膜を備えるトランジスタをスイッチSW2に用いることができる(図8(A)、図8(
B)および図8(C)参照)。または、トランジスタMに用いる半導体膜の組成とは別の
組成の半導体膜を備えるトランジスタをスイッチSW2に用いることができる。
具体的には、半導体膜508を備えるトランジスタをスイッチSW2に用い、半導体膜5
08(2)を備えるトランジスタをトランジスタMに用いることができる。
これにより、例えば、スイッチSW2に用いるトランジスタより、トランジスタMの電流
駆動能力を高くすることができる。または、スイッチSW2に用いるトランジスタのソー
ス電極またはドレイン電極を、トランジスタMのゲート電極に用いることができる。また
は、スイッチSW2に用いるトランジスタの半導体膜508とトランジスタMの半導体膜
508(2)の距離を近づけることができる。または、スイッチSW2に用いるトランジ
スタおよびトランジスタMが占有する面積を小さくすることができる。または、画素の開
口率を高めることができる。または、画素を微細にすることができる。または、高精細な
表示パネルを提供することができる。または、画素回路のレイアウトの自由度を高めるこ
とができる。または、微細な画素に配置するトランジスタの数を多くすることができる。
なお、図示しないが、他の構成としては、例えば、半導体膜508(2)を備えるトラン
ジスタをスイッチSW2に用い、半導体膜508を備えるトランジスタをトランジスタM
に用いてもよい。
<表示パネルの構成例4.>
また、表示パネル700は、表示領域231を有する(図5(A)参照)。
表示領域231は、走査線G2(i)および信号線S2(j)を備える。
《表示領域231の構成例3.》
表示領域231は、画素702(i,j)、画素702(i,j+1)および画素702
(i,j+2)を備える(図5(C)参照)。
画素702(i,j)は、CIE1931色度座標における色度xが0.680より大き
く0.720以下、色度yが0.260以上0.320以下の色の光を射出する。
画素702(i,j+1)は、CIE1931色度座標における色度xが0.130以上
0.250以下、色度yが0.710より大きく0.810以下の色の光を射出する。
画素702(i,j+2)は、CIE1931色度座標における色度xが0.120以上
0.170以下、色度yが0.020以上0.060未満である色の光を射出する。
また、画素702(i,j)、画素702(i,j+1)および画素702(i,j+2
)を、CIE色度図(x,y)におけるBT.2020の色域に対する面積比が80%以
上、または、該色域に対するカバー率が75%以上になるように備える。好ましくは、面
積比が90%以上、または、カバー率が85%以上になるように備える。
<表示パネルの構成例5.>
また、表示パネル700は、基材510、基材770および絶縁膜501Cを備える(図
7(A)参照)。
絶縁膜501Cは、基材510および基材770の間に挟まれる領域を備え、機能層52
0は、絶縁膜501Cおよび基材770の間に挟まれる領域を備える。
《機能層520の構成例3.》
機能層520は、絶縁膜521、絶縁膜518、絶縁膜516、絶縁膜506および絶縁
膜501C等を備える。
[絶縁膜521]
絶縁膜521は、画素回路530(i,j)および表示素子550(i,j)の間に挟ま
れる領域を備える(図7(A)参照)。
例えば、絶縁性の無機材料、絶縁性の有機材料または無機材料と有機材料を含む絶縁性の
複合材料を、絶縁膜521に用いることができる。
具体的には、無機酸化物膜、無機窒化物膜または無機酸化窒化物膜等またはこれらから選
ばれた複数を積層した積層材料を、絶縁膜521に用いることができる。
例えば、酸化シリコン膜、窒化シリコン膜、酸化窒化シリコン膜、酸化アルミニウム膜等
またはこれらから選ばれた複数を積層した積層材料を含む膜を、絶縁膜521に用いるこ
とができる。なお、窒化シリコン膜は緻密な膜であり、不純物の拡散を抑制する機能に優
れる。
例えば、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリイミド、ポリカーボネート、
ポリシロキサン若しくはアクリル樹脂等またはこれらから選択された複数の樹脂の積層材
料もしくは複合材料などを絶縁膜521に用いることができる。また、感光性を有する材
料を用いて形成してもよい。これにより、絶縁膜521は、例えば、絶縁膜521と重な
るさまざまな構造に由来する段差を平坦化することができる。
なお、ポリイミドは熱的安定性、絶縁性、靱性、低誘電率、低熱膨張率、耐薬品性などの
特性において他の有機材料に比べて優れた特性を備える。これにより、特にポリイミドを
絶縁膜521等に好適に用いることができる。
例えば、感光性を有する材料を用いて形成された膜を絶縁膜521に用いることができる
。具体的には、感光性のポリイミドまたは感光性のアクリル樹脂等を用いて形成された膜
を絶縁膜521に用いることができる。
例えば、透光性を有する材料を絶縁膜521に用いることができる。具体的には、窒化シ
リコンを絶縁膜521に用いることができる。
[絶縁膜518]
絶縁膜518は、画素回路530(i,j)および絶縁膜521の間に挟まれる領域を備
える(図7(B)参照)。なお、積層膜を絶縁膜518に用いることができる。
例えば、絶縁膜521に用いることができる材料を絶縁膜518に用いることができる。
例えば、酸素、水素、水、アルカリ金属、アルカリ土類金属等の拡散を抑制する機能を備
える材料を絶縁膜518に用いることができる。具体的には、窒化物絶縁膜を絶縁膜51
8に用いることができる。例えば、窒化シリコン、窒化酸化シリコン、窒化アルミニウム
、窒化酸化アルミニウム等を絶縁膜518に用いることができる。これにより、トランジ
スタの半導体膜への不純物の拡散を抑制することができる。
[絶縁膜516]
絶縁膜516は、画素回路530(i,j)および絶縁膜518の間に挟まれる領域を備
える(図7(B)参照)。なお、積層膜を絶縁膜516に用いることができる。具体的に
は、絶縁膜516Aおよび絶縁膜516Bを積層した絶縁膜を絶縁膜516に用いること
ができる。
例えば、絶縁膜521に用いることができる材料を絶縁膜516に用いることができる。
具体的には、絶縁膜518とは作製方法が異なる膜を絶縁膜516に用いることができる
[絶縁膜506、絶縁膜501D]
絶縁膜506は、半導体膜508および導電膜504Eの間に挟まれる領域を備える(図
7(B)参照)。また、絶縁膜501Dは、半導体膜508および導電膜524の間に挟
まれる領域を備える。
例えば、絶縁膜521に用いることができる材料を絶縁膜506または絶縁膜501Dに
用いることができる。具体的には、酸化シリコン膜、酸化窒化シリコン膜、窒化酸化シリ
コン膜、窒化シリコン膜、酸化アルミニウム膜、酸化ハフニウム膜、酸化イットリウム膜
、酸化ジルコニウム膜、酸化ガリウム膜、酸化タンタル膜、酸化マグネシウム膜、酸化ラ
ンタン膜、酸化セリウム膜または酸化ネオジム膜を含む膜を絶縁膜506に用いることが
できる。
[絶縁膜501C]
絶縁膜501Cは、画素回路530(i,j)および基材510の間に挟まれる領域を備
える(図7(A)参照)。
例えば、絶縁膜521に用いることができる材料を絶縁膜501Cに用いることができる
。具体的には、シリコンおよび酸素を含む材料を絶縁膜501Cに用いることができる。
これにより、画素回路または表示素子等への不純物の拡散を抑制することができる。
[絶縁膜528]
絶縁膜528は、絶縁膜521および基材770の間に挟まれる領域を備え、表示素子5
50(i,j)と重なる領域に開口部を備える(図7(A)参照)。電極551(i,j
)の周縁に沿って形成される絶縁膜528は、電極551(i,j)および電極552の
短絡を防止する。
例えば、絶縁膜521に用いることができる材料を絶縁膜528に用いることができる。
具体的には、酸化シリコン膜、アクリル樹脂を含む膜またはポリイミドを含む膜を絶縁膜
528に用いることができる。
《封止材705》
封止材705は、機能層520および基材770の間に挟まれる領域を備え、機能層52
0および基材770を貼り合わせる機能を備える。
無機材料、有機材料または無機材料と有機材料の複合材料等を封止材705に用いること
ができる。
例えば、熱溶融性の樹脂または硬化性の樹脂等の有機材料を、封止材705に用いること
ができる。
例えば、反応硬化型接着剤、光硬化型接着剤、熱硬化型接着剤または/および嫌気型接着
剤等の有機材料を封止材705に用いることができる。
具体的には、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、ポリイミ
ド樹脂、イミド樹脂、PVC(ポリビニルクロライド)樹脂、PVB(ポリビニルブチラ
ル)樹脂、EVA(エチレンビニルアセテート)樹脂等を含む接着剤を封止材705に用
いることができる。
《機能層720》
機能層720は、着色膜CF1、絶縁膜771および遮光膜BMを備える。
着色膜CF1は、基材770および表示素子550(i,j)の間に挟まれる領域を備え
る。
遮光膜BMは、画素702(i,j)と重なる領域に開口部を備える。
《機能膜770P等》
機能膜770Pは、表示素子550(i,j)と重なる領域を備える。
例えば、反射防止フィルム、偏光フィルム、位相差フィルム、光拡散フィルムまたは集光
フィルム等を機能膜770Pに用いることができる。
具体的には、円偏光フィルムを機能膜770Pに用いることができる。
また、ゴミの付着を抑制する帯電防止膜、汚れを付着しにくくする撥水性の膜、反射防止
膜(アンチ・リフレクション膜)、非光沢処理膜(アンチ・グレア膜)、使用に伴う傷の
発生を抑制するハードコート膜などを、機能膜770Pに用いることができる。
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる
(実施の形態3)
本実施の形態では、本発明の一態様で開示されるトランジスタの半導体膜に用いることが
できる金属酸化物について説明する。なお、トランジスタの半導体膜に金属酸化物を用い
る場合、当該金属酸化物を酸化物半導体と読み替えてもよい。
酸化物半導体は、単結晶酸化物半導体と、非単結晶酸化物半導体と、に分けられる。非単
結晶酸化物半導体としては、CAAC-OS(c-axis-aligned crys
talline oxide semiconductor)、多結晶酸化物半導体、n
c-OS(nanocrystalline oxide semiconductor
)、擬似非晶質酸化物半導体(a-like OS:amorphous-like o
xide semiconductor)、及び非晶質酸化物半導体などがある。
また、非単結晶酸化物半導体の1つとして、半結晶性酸化物半導体(Semi-crys
talline oxide semiconductor)と呼称される酸化物半導体
が挙げられる。半結晶性酸化物半導体とは、単結晶酸化物半導体と非晶質酸化物半導体と
の中間構造を有する。半結晶性酸化物半導体は、非晶質酸化物半導体と比較して構造が安
定である。例えば、半結晶性酸化物半導体としては、CAAC構造を有し、かつCAC(
Cloud-Aligned Composite)構成である酸化物半導体がある。C
ACの詳細については、以下で説明を行う。
また、本発明の一態様で開示されるトランジスタの半導体膜には、CAC-OS(Clo
ud-Aligned Composite oxide semiconductor
)を用いてもよい。
なお、本発明の一態様で開示されるトランジスタの半導体膜は、上述した非単結晶酸化物
半導体またはCAC-OSを好適に用いることができる。また、非単結晶酸化物半導体と
しては、nc-OSまたはCAAC-OSを好適に用いることができる。
なお、本発明の一態様では、トランジスタの半導体膜として、CAC-OSを用いると好
ましい。CAC-OSを用いることで、トランジスタに高い電気特性または高い信頼性を
付与することができる。
以下では、CAC-OSの詳細について説明する。
CAC-OSまたはCAC-metal oxideは、材料の一部では導電性の機能と
、材料の一部では絶縁性の機能とを有し、材料の全体では半導体としての機能を有する。
なお、CAC-OSまたはCAC-metal oxideを、トランジスタのチャネル
形成領域に用いる場合、導電性の機能は、キャリアとなる電子(またはホール)を流す機
能であり、絶縁性の機能は、キャリアとなる電子を流さない機能である。導電性の機能と
、絶縁性の機能とを、それぞれ相補的に作用させることで、スイッチングさせる機能(O
n/Offさせる機能)をCAC-OSまたはCAC-metal oxideに付与す
ることができる。CAC-OSまたはCAC-metal oxideにおいて、それぞ
れの機能を分離させることで、双方の機能を最大限に高めることができる。
また、CAC-OSまたはCAC-metal oxideは、導電性領域、及び絶縁性
領域を有する。導電性領域は、上述の導電性の機能を有し、絶縁性領域は、上述の絶縁性
の機能を有する。また、材料中において、導電性領域と、絶縁性領域とは、ナノ粒子レベ
ルで分離している場合がある。また、導電性領域と、絶縁性領域とは、それぞれ材料中に
偏在する場合がある。また、導電性領域は、周辺がぼけてクラウド状に連結して観察され
る場合がある。
また、CAC-OSまたはCAC-metal oxideにおいて、導電性領域と、絶
縁性領域とは、それぞれ0.5nm以上10nm以下、好ましくは0.5nm以上3nm
以下のサイズで材料中に分散している場合がある。
また、CAC-OSまたはCAC-metal oxideは、異なるバンドギャップを
有する成分により構成される。例えば、CAC-OSまたはCAC-metal oxi
deは、絶縁性領域に起因するワイドギャップを有する成分と、導電性領域に起因するナ
ローギャップを有する成分と、により構成される。当該構成の場合、キャリアを流す際に
、ナローギャップを有する成分において、主にキャリアが流れる。また、ナローギャップ
を有する成分が、ワイドギャップを有する成分に相補的に作用し、ナローギャップを有す
る成分に連動してワイドギャップを有する成分にもキャリアが流れる。このため、上記C
AC-OSまたはCAC-metal oxideをトランジスタのチャネル形成領域に
用いる場合、トランジスタのオン状態において高い電流駆動力、つまり大きなオン電流、
及び高い電界効果移動度を得ることができる。
すなわち、CAC-OSまたはCAC-metal oxideは、マトリックス複合材
(matrix composite)または金属マトリックス複合材(metal m
atrix composite)と呼称することもできる。
CAC-OSは、例えば、金属酸化物を構成する元素が、0.5nm以上10nm以下、
好ましくは、1nm以上2nm以下またはその近傍のサイズで偏在した材料の一構成であ
る。なお、以下では、金属酸化物において、一つあるいはそれ以上の金属元素が偏在し、
該金属元素を有する領域が、0.5nm以上10nm以下、好ましくは、1nm以上2n
m以下またはその近傍のサイズで混合した状態をモザイク状またはパッチ状ともいう。
なお、金属酸化物は、少なくともインジウムを含むことが好ましい。特にインジウム及び
亜鉛を含むことが好ましい。また、それらに加えて、アルミニウム、ガリウム、イットリ
ウム、銅、バナジウム、ベリリウム、ホウ素、シリコン、チタン、鉄、ニッケル、ゲルマ
ニウム、ジルコニウム、モリブデン、ランタン、セリウム、ネオジム、ハフニウム、タン
タル、タングステン、またはマグネシウムなどから選ばれた一種または複数種が含まれて
いてもよい。
例えば、In-Ga-Zn酸化物におけるCAC-OS(CAC-OSの中でもIn-G
a-Zn酸化物を、特にCAC-IGZOと呼称してもよい。)とは、インジウム酸化物
(以下、InOX1(X1は0よりも大きい実数)とする。)、またはインジウム亜鉛酸
化物(以下、InX2ZnY2Z2(X2、Y2、及びZ2は0よりも大きい実数)と
する。)と、ガリウム酸化物(以下、GaOX3(X3は0よりも大きい実数)とする。
)、またはガリウム亜鉛酸化物(以下、GaX4ZnY4Z4(X4、Y4、及びZ4
は0よりも大きい実数)とする。)などと、に材料が分離することでモザイク状となり、
モザイク状のInOX1、またはInX2ZnY2Z2が、膜中に均一に分布した構成
(以下、クラウド状ともいう。)である。
つまり、CAC-OSは、GaOX3が主成分である領域と、InX2ZnY2Z2
またはInOX1が主成分である領域とが、混合している構成を有する複合金属酸化物で
ある。なお、本明細書において、例えば、第1の領域の元素Mに対するInの原子数比が
、第2の領域の元素Mに対するInの原子数比よりも大きいことを、第1の領域は、第2
の領域と比較して、Inの濃度が高いとする。
なお、IGZOは通称であり、In、Ga、Zn、及びOによる1つの化合物をいう場合
がある。代表例として、InGaO(ZnO)m1(m1は自然数)、またはIn(1
+x0)Ga(1-x0)(ZnO)m0(-1≦x0≦1、m0は任意数)で表さ
れる結晶性の化合物が挙げられる。
上記結晶性の化合物は、単結晶構造、多結晶構造、またはCAAC(c-axis al
igned crystal)構造を有する。なお、CAAC構造とは、複数のIGZO
のナノ結晶がc軸配向を有し、かつa-b面においては配向せずに連結した結晶構造であ
る。
一方、CAC-OSは、金属酸化物の材料構成に関する。CAC-OSとは、In、Ga
、Zn、及びOを含む材料構成において、一部にGaを主成分とするナノ粒子状に観察さ
れる領域と、一部にInを主成分とするナノ粒子状に観察される領域とが、それぞれモザ
イク状にランダムに分散している構成をいう。従って、CAC-OSにおいて、結晶構造
は副次的な要素である。
なお、CAC-OSは、組成の異なる二種類以上の膜の積層構造は含まないものとする。
例えば、Inを主成分とする膜と、Gaを主成分とする膜との2層からなる構造は、含ま
ない。
なお、GaOX3が主成分である領域と、InX2ZnY2Z2、またはInOX1
主成分である領域とは、明確な境界が観察できない場合がある。
なお、ガリウムの代わりに、アルミニウム、イットリウム、銅、バナジウム、ベリリウム
、ホウ素、シリコン、チタン、鉄、ニッケル、ゲルマニウム、ジルコニウム、モリブデン
、ランタン、セリウム、ネオジム、ハフニウム、タンタル、タングステン、またはマグネ
シウムなどから選ばれた一種、または複数種が含まれている場合、CAC-OSは、一部
に該金属元素を主成分とするナノ粒子状に観察される領域と、一部にInを主成分とする
ナノ粒子状に観察される領域とが、それぞれモザイク状にランダムに分散している構成を
いう。
CAC-OSは、例えば基板を意図的に加熱しない条件で、スパッタリング法により形成
することができる。また、CAC-OSをスパッタリング法で形成する場合、成膜ガスと
して、不活性ガス(代表的にはアルゴン)、酸素ガス、及び窒素ガスの中から選ばれたい
ずれか一つまたは複数を用いればよい。また、成膜時の成膜ガスの総流量に対する酸素ガ
スの流量比は低いほど好ましく、例えば酸素ガスの流量比を0%以上30%未満、好まし
くは0%以上10%以下とすることが好ましい。
CAC-OSは、X線回折(XRD:X-ray diffraction)測定法のひ
とつであるOut-of-plane法によるθ/2θスキャンを用いて測定したときに
、明確なピークが観察されないという特徴を有する。すなわち、X線回折測定から、測定
領域のa-b面方向、及びc軸方向の配向は見られないことが分かる。
またCAC-OSは、プローブ径が1nmの電子線(ナノビーム電子線ともいう。)を照
射することで得られる電子線回折パターンにおいて、リング状に輝度の高い領域と、該リ
ング領域に複数の輝点が観測される。従って、電子線回折パターンから、CAC-OSの
結晶構造が、平面方向、及び断面方向において、配向性を有さないnc(nano-cr
ystal)構造を有することがわかる。
また例えば、In-Ga-Zn酸化物におけるCAC-OSでは、エネルギー分散型X線
分光法(EDX:Energy Dispersive X-ray spectros
copy)を用いて取得したEDXマッピングにより、GaOX3が主成分である領域と
、InX2ZnY2Z2、またはInOX1が主成分である領域とが、偏在し、混合し
ている構造を有することが確認できる。
CAC-OSは、金属元素が均一に分布したIGZO化合物とは異なる構造であり、IG
ZO化合物と異なる性質を有する。つまり、CAC-OSは、GaOX3などが主成分で
ある領域と、InX2ZnY2Z2、またはInOX1が主成分である領域と、に互い
に相分離し、各元素を主成分とする領域がモザイク状である構造を有する。
ここで、InX2ZnY2Z2、またはInOX1が主成分である領域は、GaOX3
などが主成分である領域と比較して、導電性が高い領域である。つまり、InX2Zn
Z2、またはInOX1が主成分である領域を、キャリアが流れることにより、酸化
物半導体としての導電性が発現する。従って、InX2ZnY2Z2、またはInO
が主成分である領域が、酸化物半導体中にクラウド状に分布することで、高い電界効果
移動度(μ)が実現できる。
一方、GaOX3などが主成分である領域は、InX2ZnY2Z2、またはInO
が主成分である領域と比較して、絶縁性が高い領域である。つまり、GaOX3などが
主成分である領域が、酸化物半導体中に分布することで、リーク電流を抑制し、良好なス
イッチング動作を実現できる。
従って、CAC-OSを半導体素子に用いた場合、GaOX3などに起因する絶縁性と、
InX2ZnY2Z2、またはInOX1に起因する導電性とが、相補的に作用するこ
とにより、高いオン電流(Ion)、及び高い電界効果移動度(μ)を実現することがで
きる。
また、CAC-OSを用いた半導体素子は、信頼性が高い。従って、CAC-OSは、表
示パネルをはじめとするさまざまな半導体装置に最適である。
本実施の形態は、他の実施の形態と適宜組み合わせることができる。
(実施の形態4)
本実施の形態では、本発明の一態様の表示パネルの構成について、図5および図9を参照
しながら説明する。
図9は、本発明の一態様の表示パネルの構成を説明する図である。
<表示パネルの構成例6.>
本実施の形態で説明する表示パネル700は、表示領域231を有する(図9参照)。
《表示領域231の構成例5.》
表示領域231は、一群の画素702(i,1)乃至画素702(i,n)と、他の一群
の画素702(1,j)乃至画素702(m,j)と、走査線G2(i)と、信号線S2
(j)と、を有する(図9参照)。なお、iは1以上m以下の整数であり、jは1以上n
以下の整数であり、mおよびnは1以上の整数である。
また、図示しないが、表示領域231は、導電膜VCOM2と、導電膜ANOとを有する
一群の画素702(i,1)乃至画素702(i,n)は画素702(i,j)を含み、
一群の画素702(i,1)乃至画素702(i,n)は行方向(図中に矢印R1で示す
方向)に配設される。
他の一群の画素702(1,j)乃至画素702(m,j)は画素702(i,j)を含
み、他の一群の画素702(1,j)乃至画素702(m,j)は行方向と交差する列方
向(図中に矢印C1で示す方向)に配設される。
走査線G2(i)は、行方向に配設される一群の画素702(i,1)乃至画素702(
i,n)と電気的に接続される。
信号線S2(j)は、列方向に配設される他の一群の画素702(1,j)乃至画素70
2(m,j)と電気的に接続される。
これにより、複数の画素に画像情報を供給することができる。その結果、利便性または信
頼性に優れた新規な表示パネルを提供することができる。
表示領域231は、1インチあたり600個以上の画素を備える。
これにより、画素の精細度を保ちつつ、開口率を大きくすることができる。または、開口
率を保ちつつ、画素の精細度を高めることができる。その結果、利便性または信頼性に優
れた新規な表示パネルを提供することができる。
《表示領域231の構成例6.》
表示領域231は7600個以上の画素を行方向に備え、表示領域231は4300個以
上の画素を列方向に備える。例えば、7680個の画素を行方向に備え、4320個の画
素を列方向に備える。
<表示パネルの構成例7.>
表示領域231は、画素702(i,j)、画素702(i,j+1)および画素702
(i,j+2)を備える(図5(C)参照)。
画素702(i,j)は、CIE1931色度座標における色度xが0.680より大き
く0.720以下、色度yが0.260以上0.320以下の色を表示する。
画素702(i,j+1)は、CIE1931色度座標における色度xが0.130以上
0.250以下、色度yが0.710より大きく0.810以下の色を表示する。
画素702(i,j+2)は、CIE1931色度座標における色度xが0.120以上
0.170以下、色度yが0.020以上0.060未満の色を表示する。
また、画素702(i,j)、画素702(i,j+1)および画素702(i,j+2
)を、CIE色度図(x,y)におけるBT.2020の色域に対する面積比が80%以
上、または、該色域に対するカバー率が75%以上になるように備える。好ましくは、面
積比が90%以上、または、カバー率が85%以上になるように備える。
<表示パネルの構成例8.>
また、本実施の形態で説明する表示パネル700は、複数の駆動回路を備えることができ
る。例えば、駆動回路GDA、駆動回路GDBまたは駆動回路SDを備えることができる
(図9参照)。
《駆動回路GDA、駆動回路GDB》
駆動回路GDAおよび駆動回路GDBは、制御情報に基づいて選択信号を供給する機能を
有する。
一例を挙げれば、制御情報に基づいて、30Hz以上、好ましくは60Hz以上の頻度で
一の走査線に選択信号を供給する機能を備える。これにより、動画像をなめらかに表示す
ることができる。
例えば、制御情報に基づいて、30Hz未満、好ましくは1Hz未満、より好ましくは一
分に一回未満の頻度で一の走査線に選択信号を供給する機能を備える。これにより、フリ
ッカーが抑制された状態で静止画像を表示することができる。
複数の駆動回路を備える場合、例えば、駆動回路GDAが選択信号を供給する頻度と、駆
動回路GDBが選択信号を供給する頻度とを、異ならせることができる。具体的には、静
止画像を表示する一の領域に選択信号を供給する頻度より高い頻度で、動画像を表示する
他の領域に選択信号を供給することができる。これにより、一の領域にフリッカーが抑制
された状態で静止画像を表示し、他の領域に滑らかに動画像を表示することができる。
または、プログレッシブ方式を用いて、120Hzのフレーム周波数で表示をすることが
できる。または、国際規格であるRecommendation ITU-R BT.2
020-2を満たす、極めて高解像度な表示をすることができる。または、極めて高解像
度な表示をすることができる。
《駆動回路SD(1)》
駆動回路SD(1)は、情報V11に基づいて画像信号を供給する機能を有する(図9参
照)。
駆動回路SD(1)は、画像信号を生成する機能と、当該画像信号を一の表示素子と電気
的に接続される画素回路に供給する機能を備える。
例えば、シフトレジスタ等のさまざまな順序回路等を駆動回路SD(1)に用いることが
できる。
例えば、シリコン基板上に形成された集積回路を駆動回路SD(1)に用いることができ
る。
例えば、COG(Chip on glass)法またはCOF(Chip on Fi
lm)法を用いて、集積回路を端子に実装することができる。具体的には、異方性導電膜
を用いて、集積回路を端子に実装することができる。
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる
(実施の形態5)
本実施の形態では、本発明の一態様の表示装置の構成について、図10を参照しながら説
明する。
図10は本発明の一態様の表示装置の構成を説明するブロック図である。
<表示装置の構成例>
本実施の形態で説明する表示装置は、制御部238と、表示パネル700とを有する(図
10参照)。
《制御部238の構成例》
制御部238は、画像情報V1および制御情報CIを供給される。例えば、クロック信号
またはタイミング信号などを制御情報CIに用いることができる。
制御部238は画像情報V1に基づいて情報V11を生成し、制御情報CIにもとづいて
制御信号SPを生成する。また、制御部238は情報V11および制御信号SPを供給す
る。例えば、情報V11は、8bit以上好ましくは12bit以上の階調を含む。
具体的には、制御部238は、制御回路233、伸張回路234および画像処理回路23
5を備える。
《制御回路233》
制御回路233は制御信号SPを生成し、供給する機能を備える。
制御回路233は制御信号SPを供給する機能を備える。例えば、クロック信号またはタ
イミング信号などを制御信号SPに用いることができる。具体的には、駆動回路GDA(
1)または駆動回路SDA(1)等の動作を開始するスタートパルスを制御信号SPに用
いることができる。これにより、複数の駆動回路の動作を同期することができる。
例えば、タイミングコントローラを制御回路233に用いることができる。
なお、制御回路233を表示パネルに含めることもできる。例えば、リジッド基板に実装
された制御回路233を表示パネルに用いることができる。また、リジッド基板に実装さ
れた制御回路233を、フレキシブルプリント基板を用いて駆動回路に電気的に接続する
ことができる。
具体的には、駆動回路GDA(1)、駆動回路GDB(1)、駆動回路GDA(2)およ
び駆動回路GDB(2)と電気的に接続することができる。また、駆動回路SDA(1)
、駆動回路SDB(1)、駆動回路SDC(1)、駆動回路SDA(2)、駆動回路SD
B(2)および駆動回路SDC(2)と電気的に接続することができる。
《伸張回路234》
伸張回路234は、圧縮された状態で供給される画像情報V1を伸張する機能を備える。
伸張回路234は、記憶部を備える。記憶部は、例えば伸張された画像情報を記憶する機
能を備える。
《画像処理回路235》
画像処理回路235は、例えば、記憶領域を備える。記憶領域は、例えば、画像情報V1
に含まれる情報を記憶する機能を備える。
画像処理回路235は、例えば、所定の特性曲線に基づいて画像情報V1を補正して情報
V11を生成する機能と、情報V11を供給する機能を備える。
《表示パネルの構成例》
表示パネル700は情報V11または制御信号SPを供給される。駆動回路は制御信号S
Pに基づいて動作し、画素702(i,j)は、情報V11に基づいて表示する。
例えば、実施の形態1乃至実施の形態4において説明する表示パネルを用いることができ
る。
例えば、駆動回路GDA(1)、駆動回路GDB(1)、駆動回路GDA(2)および駆
動回路GDB(2)は、制御信号SPに基づいて選択信号を供給する機能を備える。
例えば、駆動回路SDA(1)、駆動回路SDB(1)、駆動回路SDC(1)、駆動回
路SDA(2)、駆動回路SDB(2)および駆動回路SDC(2)は制御信号SPを供
給され、情報V11を供給する。
これにより、表示素子を用いて画像情報を表示することができる。その結果、利便性また
は信頼性に優れた新規な表示装置を提供することができる。
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる
(実施の形態6)
本実施の形態では、本発明の一態様の入出力装置の構成について、図11を参照しながら
説明する。
図11は本発明の一態様の入出力装置の構成を説明するブロック図である。
<入出力装置の構成例>
本実施の形態で説明する入出力装置は、入力部240と、表示部230と、を有する(図
11参照)。
《表示部230》
例えば、実施の形態1または実施の形態2に記載の表示パネル700を表示部230に用
いることができる。なお、入力部240および表示部230を有する構成を入出力パネル
700TPということができる。
《入力部240の構成例1.》
入力部240は検知領域241を備える。入力部240は検知領域241に近接するもの
を検知する機能を備える。
検知領域241は、画素702(i,j)と重なる領域を備える。
これにより、表示部を用いて画像情報を表示しながら、表示部と重なる領域に近接するも
のを検知することができる。または、表示部に近接させる指などをポインタに用いて、位
置情報を入力することができる。または、位置情報を表示部に表示する画像情報に関連付
けることができる。その結果、利便性または信頼性に優れた新規な入出力装置を提供する
ことができる。
《入力部240の構成例2.》
入力部240は発振回路OSCおよび検知回路DCを備えることができる(図11参照)
《検知領域241》
検知領域241は、例えば、単数または複数の検知素子を備える。
検知領域241は、一群の検知素子775(g,1)乃至検知素子775(g,q)と、
他の一群の検知素子775(1,h)乃至検知素子775(p,h)と、を有する。なお
、gは1以上p以下の整数であり、hは1以上q以下の整数であり、pおよびqは1以上
の整数である。
一群の検知素子775(g,1)乃至検知素子775(g,q)は、検知素子775(g
,h)を含み、行方向(図中に矢印R2で示す方向)に配設される。なお、矢印R2で示
す方向は、矢印R1で示す方向と同じであっても良いし、異なっていてもよい。
また、他の一群の検知素子775(1,h)乃至検知素子775(p,h)は、検知素子
775(g,h)を含み、行方向と交差する列方向(図中に矢印C2で示す方向)に配設
される。
《検知素子》
検知素子は近接するポインタを検知する機能を備える。例えば、指やスタイラスペン等を
ポインタに用いることができる。例えば、金属片またはコイル等を、スタイラスペンに用
いることができる。
具体的には、静電容量方式の近接センサ、電磁誘導方式の近接センサ、光学方式の近接セ
ンサ、抵抗膜方式の近接センサなどを、検知素子に用いることができる。
また、複数の方式の検知素子を併用することもできる。例えば、指を検知する検知素子と
、スタイラスペンを検知する検知素子とを、併用することができる。
これにより、ポインタの種類を判別することができる。または、判別したポインタの種類
に基づいて、異なる命令を検知情報に関連付けることができる。具体的には、ポインタに
指を用いたと判別した場合は、検知情報をジェスチャーと関連付けることができる。また
は、ポインターにスタイラスペンを用いたと判別した場合は、検知情報を描画処理と関連
付けることができる。
具体的には、静電容量方式または光学方式の近接センサを用いて、指を検知することがで
きる。または、電磁誘導方式または光学方式の近接センサを用いて、スタイラスペンを検
知することができる。
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる
(実施の形態7)
本実施の形態では、本発明の一態様の情報処理装置の構成について、図12乃至図15を
参照しながら説明する。
図12(A)は本発明の一態様の情報処理装置の構成を説明するブロック図である。図1
2(B)は、情報処理装置の外観の一例を説明する投影図である。
図13は、本発明の一態様のプログラムを説明するフローチャートである。図13(A)
は、本発明の一態様のプログラムの主の処理を説明するフローチャートであり、図13(
B)は、割り込み処理を説明するフローチャートである。
図14は、本発明の一態様のプログラムを説明する図である。図14(A)は、本発明の
一態様のプログラムの割り込み処理を説明するフローチャートである。また、図14(B
)は、情報処理装置の操作を説明する模式図であり、図14(C)は、本発明の一態様の
情報処理装置の動作を説明するタイミングチャートである。
図15は本発明の一態様の人工知能部を説明する図である。図15(A)は本発明の一態
様の人工知能部を説明するブロック図である。図15(B)は本発明の一態様のニューラ
ルネットワークを説明するブロック図である。図15(C)は本発明の一態様のニューロ
ン回路を説明するブロック図である。
<情報処理装置の構成例1.>
本実施の形態で説明する情報処理装置200は、演算装置210と、入出力装置220と
、を有する(図12(A)参照)。なお、入出力装置220は、演算装置210と電気的
に接続される。また、情報処理装置200は筐体を備えることができる(図12(B)参
照)。
《演算装置210の構成例1.》
演算装置210は入力情報IIまたは検知情報DSを供給される。演算装置210は制御
情報CIおよび画像情報V1を供給する。
演算装置210は、演算部211および記憶部212を備える。また、演算部211は、
伝送路214および入出力インターフェース215を備える。
伝送路214は、演算部211、記憶部212、および入出力インターフェース215と
電気的に接続される。
《演算部211》
演算部211は、例えばプログラムを実行する機能を備える。
《記憶部212》
記憶部212は、例えば演算部211が実行するプログラム、初期情報、設定情報または
画像等を記憶する機能を有する。
具体的には、ハードディスク、フラッシュメモリまたは酸化物半導体を含むトランジスタ
を用いたメモリ等を用いることができる。
《入出力インターフェース215、伝送路214》
入出力インターフェース215は端子または配線を備え、情報を供給し、情報を供給され
る機能を備える。例えば、伝送路214と電気的に接続することができる。また、入出力
装置220と電気的に接続することができる。
伝送路214は配線を備え、情報を供給し、情報を供給される機能を備える。例えば、入
出力インターフェース215と電気的に接続することができる。また、演算部211、記
憶部212または入出力インターフェース215と電気的に接続することができる。
《入出力装置220の構成例》
入出力装置220は、入力情報IIおよび検知情報DSを供給する。入出力装置220は
、制御情報CIおよび画像情報V1を供給される(図12(A)参照)。
例えば、キーボードのスキャンコード、位置情報、ボタンの操作情報、音声情報または画
像情報等を入力情報IIに用いることができる。または、例えば、情報処理装置200が
使用される環境等の照度情報、姿勢情報、加速度情報、方位情報、圧力情報、温度情報ま
たは湿度情報等を検知情報DSに用いることができる。
例えば、画像情報V1を表示する輝度を制御する信号、彩度を制御する信号、色相を制御
する信号を、制御情報CIに用いることができる。または、画像情報V1の一部の表示を
変化させる信号を、制御情報CIに用いることができる。
入出力装置220は、表示部230、入力部240および検知部250を備える。例えば
、実施の形態6において説明する入出力装置を用いることができる。
表示部230は制御情報CIに基づいて、画像情報V1を表示する。
入力部240は入力情報IIを生成する。
検知部250は検知情報DSを生成する。
《表示部230》
表示部230は画像情報V1に基づいて画像を表示する機能を備える。表示部230は制
御情報CIに基づいて画像を表示する機能を備える。
表示部230は、制御部238と、駆動回路GDA(1)と、駆動回路SDA(1)と、
表示パネル700と、を有する(図10参照)。例えば、実施の形態5において説明する
表示装置を表示部230に用いることができる。
《入力部240》
入力部240は、位置情報を供給する機能を備える。さまざまなヒューマンインターフェ
イス等を入力部240に用いることができる(図12(A)参照)。
例えば、キーボード、ハードウェアボタン、ポインティングデバイス、タッチセンサ、撮
像装置、音声入力装置、視線入力装置、姿勢検出装置、マイクまたはカメラ等を入力部2
40に用いることができる。なお、表示部230に重なる領域を備えるタッチセンサを用
いることができる。表示部230と表示部230に重なる領域を備えるタッチセンサを備
える入出力装置を、タッチパネルまたはタッチスクリーンということができる。
例えば、使用者は、タッチパネルに触れた指をポインタに用いて様々なジェスチャー(タ
ップ、ドラッグ、スワイプまたはピンチイン等)をすることができる。
例えば、演算装置210は、タッチパネルに接触する指の位置または軌跡等の情報を解析
し、解析結果が所定の条件を満たすとき、特定のジェスチャーが供給されたとすることが
できる。これにより、使用者は、所定のジェスチャーにあらかじめ関連付けられた所定の
操作命令を、当該ジェスチャーを用いて供給できる。
一例を挙げれば、使用者は、画像情報の表示位置を変更する「スクロール命令」を、タッ
チパネルに沿ってタッチパネルに接触する指を移動するジェスチャーを用いて供給できる
《検知部250》
検知部250は検知情報DSを供給する機能を備える。検知部250は、例えば、情報処
理装置200が使用される環境の照度を検出する機能を備え、照度情報を供給する機能を
備える。
検知部250は、周囲の状態を検知して検知情報を供給する機能を備える。具体的には、
照度情報、姿勢情報、加速度情報、方位情報、圧力情報、温度情報または湿度情報等を供
給できる。
例えば、光検出器、照度センサ、姿勢検出器、加速度センサ、方位センサ、GPS(Gl
obal positioning System)信号受信回路、圧力センサ、温度セ
ンサ、湿度センサまたはカメラ等を、検知部250に用いることができる。
《通信部290》
通信部290は、ネットワークに情報を供給し、ネットワークから情報を取得する機能を
備える。
《筐体》
なお、筐体は入出力装置220または演算装置210を収納する機能を備える。または、
筐体は表示部230または演算装置210を支持する機能を備える。
これにより、情報処理装置は、情報処理装置が使用される環境において、情報処理装置の
筐体が受ける光の強さを把握して動作することができる。または、情報処理装置の使用者
は、表示方法を選択することができる。その結果、利便性または信頼性に優れた新規な情
報処理装置を提供することができる。
なお、これらの構成は明確に分離できず、一つの構成が他の構成を兼ねる場合や他の構成
の一部を含む場合がある。例えばタッチセンサが表示パネルに重ねられたタッチパネルは
、表示部であるとともに入力部でもある。
《演算装置210の構成例2.》
演算装置210は人工知能部213を備える(図12(A)参照)。
《人工知能部213の構成例1.》
人工知能部213は、入力情報IIまたは検知情報DSに基づいて、制御情報CIを生成
する(図15(A)参照)。
人工知能部213は半導体装置90を備える。
[入力情報IIに対する自然言語処理]
具体的には、人工知能部213は入力情報IIを自然言語処理して、入力情報II全体か
ら1つの特徴を抽出することができる。例えば、人工知能部213は、入力情報IIに込
められた感情等を推論し特徴とすることができる。また、当該特徴に好適であると経験的
に感じられる色彩、模様または書体等を推論することができる。また、人工知能部213
は、文字の色、模様または書体を指定する情報、背景の色または模様を指定する情報を生
成し、制御情報CIに用いることができる。
具体的には、人工知能部213は入力情報IIを自然言語処理して、入力情報IIに含ま
れる一部の言葉を抽出することができる。例えば、人工知能部213は文法的な誤り、事
実誤認または感情を含む表現等を抽出することができる。また、人工知能部213は、抽
出した一部を他の一部とは異なる色彩、模様または書体等で表示する制御情報CIを生成
し、制御情報CIに用いることができる。
[入力情報IIに対する画像処理]
具体的には、人工知能部213は入力情報IIを画像処理して、入力情報IIから1つの
特徴を抽出することができる。例えば、人工知能部213は、入力情報IIが撮影された
年代、入力情報IIが撮影された環境が屋内であるかまたは屋外であるか、入力情報II
が撮影された環境が昼であるかまたは夜であるか、等を推論し、それを特徴とすることが
できる。また、当該特徴に好適であると経験的に感じられる色調を推論し、当該色調を表
示に用いるための制御情報CIを生成することができる。具体的には、濃淡の表現に用い
る色(例えば、フルカラー、白黒または茶褐色等)を指定する情報を制御情報CIに用い
ることができる。
具体的には、人工知能部213は入力情報IIを画像処理して、入力情報IIに含まれる
一部の画像を抽出することができる。例えば、抽出した画像の一部と他の一部の間に境界
を表示する制御情報CIを生成することができる。具体的には、抽出した画像の一部を囲
む矩形を表示する制御情報CIを生成することができる。
[検知情報DSを用いる推論]
具体的には、人工知能部213は検知情報DSを情報INに用いて、推論RIを生成する
ことができる。または、推論RIに基づいて、情報処理装置200の使用者が快適である
と感じられるようにするための制御情報CIを生成することができる。
具体的には、環境の照度等に基づいて、人工知能部213は、表示の明るさが快適である
と感じられるように、表示の明るさを調整する制御情報CIを生成することができる。ま
たは、人工知能部213は環境の騒音等に基づいて大きさが快適であると感じられるよう
に、音量を調整する制御情報CIを生成することができる。
なお、表示部230が備える制御部238に供給するクロック信号またはタイミング信号
などを制御情報CIに用いることができる。または、入力部240が備える制御部に供給
するクロック信号またはタイミング信号などを制御情報CIに用いることができる。
《半導体装置90》
半導体装置90は入力情報IIまたは検知情報DSに基づいて、制御情報CIを供給する
半導体装置90は情報INを供給され、推論RIを供給する(図15(A)、図15(B
)参照)。例えば、入力情報IIまたは検知情報DSを情報INに用いることができる。
または、例えば、推論RIを制御情報CIに用いることができる。
例えば、半導体装置90は、入力情報IIまたは検知情報DSから、特徴を抽出すること
ができる。半導体装置90は、抽出した特徴に基づいて制御情報CIを生成することがで
きる。
例えば、半導体装置90は、入力情報IIまたは検知情報DSから、一部を抽出すること
ができる。半導体装置90は、抽出した一部を他の一部とは異なるように表示する制御情
報CIを生成することができる。
これにより、好適であると感じられるように表示する制御情報を生成することができる。
または、好適であると感じられるように表示することができる。または、快適であると感
じられるように表示する制御情報を生成することができる。または、快適であると感じら
れるように表示することができる。その結果、利便性または信頼性に優れた新規な情報処
理装置を提供することができる。
《半導体装置90の構成例2.》
半導体装置90はニューラルネットワーク80を備える(図15(A)参照)。
《ニューラルネットワーク80》
ニューラルネットワーク80は、入力層81、中間層82および出力層83を備える(図
15(B)参照)。例えば、畳み込みニューラルネットワークをニューラルネットワーク
80に用いることができる。または、再帰型ニューラルネットワークをニューラルネット
ワーク80に用いることができる。
入力層81は第1の一群のニューロン回路を備える。
中間層82は第2の一群のニューロン回路を備える。
出力層83は第3の一群のニューロン回路を備える。
第2の一群のニューロン回路は、第1のニューロン回路71および第2のニューロン回路
72を含む。
第1のニューロン回路71は、第1の一群のニューロン回路と電気的に接続される。
第2のニューロン回路72は、第3の一群のニューロン回路と電気的に接続される。
第1の一群のニューロン回路は情報INを供給される。例えば、入力情報IIまたは検知
情報DSを情報INに用いることができる。
第3の一群のニューロン回路は、推論RIを供給する。例えば、推論RIを制御情報CI
に用いることができる。
《ニューロン回路71》
ニューロン回路71は積和演算器10および変換器30を備える(図15(C)参照)。
《積和演算器10》
積和演算器10は一群の入力信号X[1]乃至入力信号X[N]を供給される。積和演算
器10は一群の重み情報W[1]乃至重み情報W[N]を供給される。また、積和演算器
10はバイアス信号Bを供給される。
積和演算器10は一群の入力信号X[1]乃至入力信号X[N]および重み情報W[1]
乃至重み情報W[N]の積和値およびバイアス信号Bに基づいて積和信号uを生成し、供
給する。例えば、酸化物半導体を含むトランジスタを用いたメモリ等を、重み情報W[1
]乃至重み情報W[N]を記憶するメモリに用いることができる。具体的には、インジウ
ムを含む酸化物半導体またはインジウムとガリウムと亜鉛を含む酸化物半導体を含むトラ
ンジスタをメモリに用いることができる。また、例えば、アナログ演算回路を積和演算器
10に用いることができる。これにより、デジタル演算回路と比較して、回路規模を小さ
くすることができる。または、消費電力を低減することができる。
《変換器30》
変換器30は積和演算器10と電気的に接続される。変換器30は積和信号uに基づいて
出力信号f(u)を生成し供給する。
<情報処理装置の構成例3.>
本発明の一態様の情報処理装置の別の構成について、図13(A)および図13(B)を
参照しながら説明する。
《プログラム》
本発明の一態様のプログラムは、下記のステップを有する(図13(A)参照)。
[第1のステップ]
第1のステップにおいて、設定を初期化する(図13(A)(S1)参照)。
例えば、起動時に表示する所定の画像情報と、当該画像情報を表示する所定のモードと、
当該画像情報を表示する所定の表示方法を特定する情報と、を記憶部212から取得する
。具体的には、一の静止画像情報または他の動画像情報を所定の画像情報に用いることが
できる。また、第1のモードまたは第2のモードを所定のモードに用いることができる。
[第2のステップ]
第2のステップにおいて、割り込み処理を許可する(図13(A)(S2)参照)。なお
、割り込み処理が許可された演算装置は、主の処理と並行して割り込み処理を行うことが
できる。割り込み処理から主の処理に復帰した演算装置は、割り込み処理をして得た結果
を主の処理に反映することができる。
なお、カウンタの値が初期値であるとき、演算装置に割り込み処理をさせ、割り込み処理
から復帰する際に、カウンタを初期値以外の値としてもよい。これにより、プログラムを
起動した後に常に割り込み処理をさせることができる。
[第3のステップ]
第3のステップにおいて、第1のステップまたは割り込み処理において選択された、所定
のモードまたは所定の表示方法を用いて画像情報を表示する(図13(A)(S3)参照
)。なお、所定のモードは情報を表示するモードを特定し、所定の表示方法は画像情報を
表示する方法を特定する。また、例えば、画像情報V1を表示する情報に用いることがで
きる。
例えば、画像情報V1を表示する一の方法を、第1のモードに関連付けることができる。
または、画像情報V1を表示する他の方法を第2のモードに関連付けることができる。こ
れにより、選択されたモードに基づいて表示方法を選択することができる。
《第1のモード》
具体的には、30Hz以上、好ましくは60Hz以上の頻度で一の走査線に選択信号を供
給し、選択信号に基づいて表示をする方法を、第1のモードに関連付けることができる。
例えば、30Hz以上、好ましくは60Hz以上の頻度で選択信号を供給すると、動画像
の動きを滑らかに表示することができる。
例えば、30Hz以上、好ましくは60Hz以上の頻度で画像を更新すると、使用者の操
作に滑らかに追従するように変化する画像を、使用者が操作中の情報処理装置200に表
示することができる。
《第2のモード》
具体的には、30Hz未満、好ましくは1Hz未満、より好ましくは一分に一回未満の頻
度で一の走査線に選択信号を供給し、選択信号に基づいて表示をする方法を、第2のモー
ドに関連付けることができる。
30Hz未満、好ましくは1Hz未満、より好ましくは一分に一回未満の頻度で選択信号
を供給すると、フリッカーまたはちらつきが抑制された表示をすることができる。また、
消費電力を低減することができる。
例えば、情報処理装置200を時計に用いる場合、1秒に一回の頻度または1分に一回の
頻度等で表示を更新することができる。
ところで、例えば、発光素子を表示素子に用いる場合、発光素子をパルス状に発光させて
、画像情報を表示することができる。具体的には、パルス状に有機EL素子を発光させて
、その残光を表示に用いることができる。有機EL素子は優れた周波数特性を備えるため
、発光素子を駆動する時間を短縮し、消費電力を低減することができる場合がある。また
は、発熱が抑制されるため、発光素子の劣化を軽減することができる場合がある。
[第4のステップ]
第4のステップにおいて、終了命令が供給された場合は第5のステップに進み、終了命令
が供給されなかった場合は第3のステップに進むように選択する(図13(A)(S4)
参照)。
例えば、割り込み処理において供給された終了命令を判断に用いてもよい。
[第5のステップ]
第5のステップにおいて、終了する(図13(A)(S5)参照)。
《割り込み処理》
割り込み処理は以下の第6のステップ乃至第8のステップを備える(図13(B)参照)
[第6のステップ]
第6のステップにおいて、例えば、検知部250を用いて、情報処理装置200が使用さ
れる環境の照度を検出する(図13(B)(S6)参照)。なお、環境の照度に代えて環
境光の色温度や色度を検出してもよい。
[第7のステップ]
第7のステップにおいて、検出した照度情報に基づいて表示方法を決定する(図13(B
)(S7)参照)。例えば、表示の明るさを暗すぎないように、または明るすぎないよう
に決定する。
なお、第6のステップにおいて環境光の色温度や環境光の色度を検出した場合は、表示の
色味を調節してもよい。
[第8のステップ]
第8のステップにおいて、割り込み処理を終了する(図13(B)(S8)参照)。
<情報処理装置の構成例3.>
本発明の一態様の情報処理装置の別の構成について、図14を参照しながら説明する。
図14(A)は、本発明の一態様のプログラムを説明するフローチャートである。図14
(A)は、図13(B)に示す割り込み処理とは異なる割り込み処理を説明するフローチ
ャートである。
なお、情報処理装置の構成例3は、供給された所定のイベントに基づいて、モードを変更
するステップを割り込み処理に有する点が、図13(B)を参照しながら説明する割り込
み処理とは異なる。ここでは、異なる部分について詳細に説明し、同様の構成を用いるこ
とができる部分について上記の説明を援用する。
《割り込み処理》
割り込み処理は以下の第6のステップ乃至第8のステップを備える(図14(A)参照)
[第6のステップ]
第6のステップにおいて、所定のイベントが供給された場合は、第7のステップに進み、
所定のイベントが供給されなかった場合は、第8のステップに進む(図14(A)(U6
)参照)。例えば、所定の期間に所定のイベントが供給されたか否かを条件に用いること
ができる。具体的には、5秒以下、1秒以下または0.5秒以下好ましくは0.1秒以下
であって0秒より長い期間を所定の期間とすることができる。
[第7のステップ]
第7のステップにおいて、モードを変更する(図14(A)(U7)参照)。具体的には
、第1のモードを選択していた場合は、第2のモードを選択し、第2のモードを選択して
いた場合は、第1のモードを選択する。
例えば、表示部230の一部の領域について、表示モードを変更することができる。具体
的には、駆動回路GDA、駆動回路GDBおよび駆動回路GDCを備える表示部230の
一の駆動回路が選択信号を供給する領域について、表示モードを変更することができる(
図14(B)参照)。
例えば、駆動回路GDBが選択信号を供給する領域と重なる領域にある入力部240に、
所定のイベントが供給された場合に、駆動回路GDBが選択信号を供給する領域の表示モ
ードを変更することができる(図14(B)および図14(C)参照)。具体的には、指
等を用いてタッチパネルに供給する「タップ」イベントに応じて、駆動回路GDBが供給
する選択信号の頻度を変更することができる。
なお、信号GCLKは駆動回路GDBの動作を制御するクロック信号であり、信号PWC
1および信号PWC2は駆動回路GDBの動作を制御するパルス幅制御信号である。駆動
回路GDBは、信号GCLK、信号PWC1および信号PWC2等に基づいて、選択信号
を走査線G2(m+1)乃至走査線G2(2m)に供給する。
これにより、例えば、駆動回路GDAおよび駆動回路GDCが選択信号を供給することな
く、駆動回路GDBが選択信号を供給することができる。または、駆動回路GDAおよび
駆動回路GDCが選択信号を供給する領域の表示を変えることなく、駆動回路GDBが選
択信号を供給する領域の表示を更新することができる。または、駆動回路が消費する電力
を抑制することができる。
[第8のステップ]
第8のステップにおいて、割り込み処理を終了する(図14(A)(U8)参照)。なお
、主の処理を実行している期間に割り込み処理を繰り返し実行してもよい。
《所定のイベント》
例えば、マウス等のポインティング装置を用いて供給する、「クリック」や「ドラッグ」
等のイベント、指等をポインタに用いてタッチパネルに供給する、「タップ」、「ドラッ
グ」または「スワイプ」等のイベントを用いることができる。
また、例えば、ポインタが指し示すスライドバーの位置、スワイプの速度、ドラッグの速
度等を用いて、所定のイベントに関連付けられた命令の引数を与えることができる。
例えば、検知部250が検知した情報をあらかじめ設定された閾値と比較して、比較結果
をイベントに用いることができる。
具体的には、筐体に押し込むことができるように配設されたボタン等に接する感圧検知器
等を検知部250に用いることができる。
《所定のイベントに関連付ける命令》
例えば、終了命令を、特定のイベントに関連付けることができる。
例えば、表示されている一の画像情報から他の画像情報に表示を切り替える「ページめく
り命令」を、所定のイベントに関連付けることができる。なお、「ページめくり命令」を
実行する際に用いるページをめくる速度などを決定する引数を、所定のイベントを用いて
与えることができる。
例えば、一の画像情報の表示されている一部分の表示位置を移動して、一部分に連続する
他の部分を表示する「スクロール命令」などを、所定のイベントに関連付けることができ
る。なお、「スクロール命令」を実行する際に用いる表示を移動する速度などを決定する
引数を、所定のイベントを用いて与えることができる。
例えば、表示方法を設定する命令または画像情報を生成する命令などを、所定のイベント
に関連付けることができる。なお、生成する画像の明るさを決定する引数を所定のイベン
トに関連付けることができる。また、生成する画像の明るさを決定する引数を、検知部2
50が検知する環境の明るさに基づいて決定してもよい。
例えば、プッシュ型のサービスを用いて配信される情報を、通信部290を用いて取得す
る命令などを、所定のイベントに関連付けることができる。
なお、情報を取得する資格の有無を、検知部250が検知する位置情報を用いて判断して
もよい。具体的には、所定の教室、学校、会議室、企業、建物等の内部または領域にいる
場合に、情報を取得する資格を有すると判断してもよい。これにより、例えば、学校また
は大学等の教室で配信される教材を受信して、情報処理装置200を教科書等に用いるこ
とができる(図12(B)参照)。または、企業等の会議室で配信される資料を受信して
、会議資料に用いることができる。
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる

[実施例]
本実施例では、本発明の一態様の表示パネルに用いることができるトランジスタを作製し
た結果を、図8および図16を参照しながら説明する。
図16は、作製したトランジスタの特性を説明する図である。なお、作製したトランジス
タは、図8に示すトランジスタと同様の構成を備える。
<作製方法>
はじめに、絶縁膜501Cを形成し、絶縁膜501C上に導電膜504を形成した。次い
で、導電膜504上に絶縁膜506を形成し、絶縁膜506上に半導体膜508を形成し
、絶縁膜506に開口部を形成した。次いで、半導体膜508に接する導電膜512Aお
よび導電膜512Bを形成し、絶縁膜516を形成した。また、導電膜512Aを形成す
る工程で導電膜512Cを形成した。これにより、スイッチSW2に用いるトランジスタ
を形成した。なお、スイッチSW2に用いるトランジスタのチャネル幅Wを3μm、チャ
ネル長を3μmとした。
次いで、絶縁膜516上に半導体膜508(2)を形成し、絶縁膜516に開口部を形成
した。次いで、半導体膜508(2)に接する導電膜512Dおよび導電膜512Eを形
成し、絶縁膜516(2)を形成した。これにより、トランジスタMを形成した。トラン
ジスタMのチャネル幅Wを50μm、チャネル長を3μmとした。
なお、酸化物半導体膜を半導体膜508および半導体膜508(2)に用いた。
<評価>
作製したトランジスタMの特性を示す。具体的には、ソースとドレインの間の電圧(Vd
s)を0.1Vにした場合と20Vにした場合について、ドレイン電流-ゲート電圧(I
D-VG)特性を示す(図16(a)参照)。
作製したスイッチSW2に用いるトランジスタの特性を示す。具体的には、ソースとドレ
インの間の電圧(Vds)を0.1Vにした場合と20Vにした場合について、ドレイン
電流-ゲート電圧(ID-VG)特性を示す(図16(b)参照)。
いずれも、良好なトランジスタ特性を有していた。
例えば、本明細書等において、XとYとが接続されている、と明示的に記載されている場
合は、XとYとが電気的に接続されている場合と、XとYとが機能的に接続されている場
合と、XとYとが直接接続されている場合とが、本明細書等に開示されているものとする
。したがって、所定の接続関係、例えば、図または文章に示された接続関係に限定されず
、図または文章に示された接続関係以外のものも、図または文章に開示されているものと
する。
ここで、X、Yは、対象物(例えば、装置、素子、回路、配線、電極、端子、導電膜、層
、など)であるとする。
XとYとが直接的に接続されている場合の一例としては、XとYとの電気的な接続を可能
とする素子(例えば、スイッチ、トランジスタ、容量素子、インダクタ、抵抗素子、ダイ
オード、表示素子、発光素子、負荷など)が、XとYとの間に接続されていない場合であ
り、XとYとの電気的な接続を可能とする素子(例えば、スイッチ、トランジスタ、容量
素子、インダクタ、抵抗素子、ダイオード、表示素子、発光素子、負荷など)を介さずに
、XとYとが、接続されている場合である。
XとYとが電気的に接続されている場合の一例としては、XとYとの電気的な接続を可能
とする素子(例えば、スイッチ、トランジスタ、容量素子、インダクタ、抵抗素子、ダイ
オード、表示素子、発光素子、負荷など)が、XとYとの間に1個以上接続されることが
可能である。なお、スイッチは、オンオフが制御される機能を有している。つまり、スイ
ッチは、導通状態(オン状態)、または、非導通状態(オフ状態)になり、電流を流すか
流さないかを制御する機能を有している。または、スイッチは、電流を流す経路を選択し
て切り替える機能を有している。なお、XとYとが電気的に接続されている場合は、Xと
Yとが直接的に接続されている場合を含むものとする。
XとYとが機能的に接続されている場合の一例としては、XとYとの機能的な接続を可能
とする回路(例えば、論理回路(インバータ、NAND回路、NOR回路など)、信号変
換回路(DA変換回路、AD変換回路、ガンマ補正回路など)、電位レベル変換回路(電
源回路(昇圧回路、降圧回路など)、信号の電位レベルを変えるレベルシフタ回路など)
、電圧源、電流源、切り替え回路、増幅回路(信号振幅または電流量などを大きく出来る
回路、オペアンプ、差動増幅回路、ソースフォロワ回路、バッファ回路など)、信号生成
回路、記憶回路、制御回路など)が、XとYとの間に1個以上接続されることが可能であ
る。なお、一例として、XとYとの間に別の回路を挟んでいても、Xから出力された信号
がYへ伝達される場合は、XとYとは機能的に接続されているものとする。なお、XとY
とが機能的に接続されている場合は、XとYとが直接的に接続されている場合と、XとY
とが電気的に接続されている場合とを含むものとする。
なお、XとYとが電気的に接続されている、と明示的に記載されている場合は、XとYと
が電気的に接続されている場合(つまり、XとYとの間に別の素子又は別の回路を挟んで
接続されている場合)と、XとYとが機能的に接続されている場合(つまり、XとYとの
間に別の回路を挟んで機能的に接続されている場合)と、XとYとが直接接続されている
場合(つまり、XとYとの間に別の素子又は別の回路を挟まずに接続されている場合)と
が、本明細書等に開示されているものとする。つまり、電気的に接続されている、と明示
的に記載されている場合は、単に、接続されている、とのみ明示的に記載されている場合
と同様な内容が、本明細書等に開示されているものとする。
なお、例えば、トランジスタのソース(又は第1の端子など)が、Z1を介して(又は介
さず)、Xと電気的に接続され、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)が、Z
2を介して(又は介さず)、Yと電気的に接続されている場合や、トランジスタのソース
(又は第1の端子など)が、Z1の一部と直接的に接続され、Z1の別の一部がXと直接
的に接続され、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)が、Z2の一部と直接的
に接続され、Z2の別の一部がYと直接的に接続されている場合では、以下のように表現
することが出来る。
例えば、「XとYとトランジスタのソース(又は第1の端子など)とドレイン(又は第2
の端子など)とは、互いに電気的に接続されており、X、トランジスタのソース(又は第
1の端子など)、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)、Yの順序で電気的に
接続されている。」と表現することができる。または、「トランジスタのソース(又は第
1の端子など)は、Xと電気的に接続され、トランジスタのドレイン(又は第2の端子な
ど)はYと電気的に接続され、X、トランジスタのソース(又は第1の端子など)、トラ
ンジスタのドレイン(又は第2の端子など)、Yは、この順序で電気的に接続されている
」と表現することができる。または、「Xは、トランジスタのソース(又は第1の端子な
ど)とドレイン(又は第2の端子など)とを介して、Yと電気的に接続され、X、トラン
ジスタのソース(又は第1の端子など)、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など
)、Yは、この接続順序で設けられている」と表現することができる。これらの例と同様
な表現方法を用いて、回路構成における接続の順序について規定することにより、トラン
ジスタのソース(又は第1の端子など)と、ドレイン(又は第2の端子など)とを、区別
して、技術的範囲を決定することができる。
または、別の表現方法として、例えば、「トランジスタのソース(又は第1の端子など)
は、少なくとも第1の接続経路を介して、Xと電気的に接続され、前記第1の接続経路は
、第2の接続経路を有しておらず、前記第2の接続経路は、トランジスタを介した、トラ
ンジスタのソース(又は第1の端子など)とトランジスタのドレイン(又は第2の端子な
ど)との間の経路であり、前記第1の接続経路は、Z1を介した経路であり、トランジス
タのドレイン(又は第2の端子など)は、少なくとも第3の接続経路を介して、Yと電気
的に接続され、前記第3の接続経路は、前記第2の接続経路を有しておらず、前記第3の
接続経路は、Z2を介した経路である。」と表現することができる。または、「トランジ
スタのソース(又は第1の端子など)は、少なくとも第1の接続経路によって、Z1を介
して、Xと電気的に接続され、前記第1の接続経路は、第2の接続経路を有しておらず、
前記第2の接続経路は、トランジスタを介した接続経路を有し、トランジスタのドレイン
(又は第2の端子など)は、少なくとも第3の接続経路によって、Z2を介して、Yと電
気的に接続され、前記第3の接続経路は、前記第2の接続経路を有していない。」と表現
することができる。または、「トランジスタのソース(又は第1の端子など)は、少なく
とも第1の電気的パスによって、Z1を介して、Xと電気的に接続され、前記第1の電気
的パスは、第2の電気的パスを有しておらず、前記第2の電気的パスは、トランジスタの
ソース(又は第1の端子など)からトランジスタのドレイン(又は第2の端子など)への
電気的パスであり、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)は、少なくとも第3
の電気的パスによって、Z2を介して、Yと電気的に接続され、前記第3の電気的パスは
、第4の電気的パスを有しておらず、前記第4の電気的パスは、トランジスタのドレイン
(又は第2の端子など)からトランジスタのソース(又は第1の端子など)への電気的パ
スである。」と表現することができる。これらの例と同様な表現方法を用いて、回路構成
における接続経路について規定することにより、トランジスタのソース(又は第1の端子
など)と、ドレイン(又は第2の端子など)とを、区別して、技術的範囲を決定すること
ができる。
なお、これらの表現方法は、一例であり、これらの表現方法に限定されない。ここで、X
、Y、Z1、Z2は、対象物(例えば、装置、素子、回路、配線、電極、端子、導電膜、
層、など)であるとする。
なお、回路図上は独立している構成要素同士が電気的に接続しているように図示されてい
る場合であっても、1つの構成要素が、複数の構成要素の機能を併せ持っている場合もあ
る。例えば配線の一部が電極としても機能する場合は、一の導電膜が、配線の機能、及び
電極の機能の両方の構成要素の機能を併せ持っている。したがって、本明細書における電
気的に接続とは、このような、一の導電膜が、複数の構成要素の機能を併せ持っている場
合も、その範疇に含める。
ANO:導電膜、B:バイアス信号、C21:容量素子、CI:制御情報、DS:検知情
報、G2:走査線、GDA:駆動回路、GDB:駆動回路、GDC:駆動回路、GCLK
:信号、II:入力情報、IN:情報、P1:部分、P2:境界、P3:部分、PWC1
:信号、PWC2:信号、R1:曲率半径、R2:曲率半径、R3:曲率半径、S2:信
号線、SD:駆動回路、SDA:駆動回路、SDB:駆動回路、SDC:駆動回路、SP
:制御信号、SW2:スイッチ、U:積和信号、V1:画像情報、V11:情報、VCO
M2:導電膜、W:情報、10:積和演算器、30:変換器、71:ニューロン回路、7
2:ニューロン回路、80:ニューラルネットワーク、81:入力層、82:中間層、8
3:出力層、90:半導体装置、200:情報処理装置、210:演算装置、211:演
算部、212:記憶部、213:人工知能部、214:伝送路、215:入出力インター
フェース、220:入出力装置、230:表示部、231:表示領域、233:制御回路
、234:伸張回路、235:画像処理回路、238:制御部、240:入力部、241
:検知領域、248:制御部、250:検知部、290:通信部、400:分子量、50
1C:絶縁膜、504:導電膜、506:絶縁膜、508:半導体膜、508A:領域、
508B:領域、508C:領域、510:基材、512A:導電膜、512B:導電膜
、512C:導電膜、512D:導電膜、512E:導電膜、516:絶縁膜、516A
:絶縁膜、516B:絶縁膜、518:絶縁膜、520:機能層、521:絶縁膜、52
4:導電膜、528:絶縁膜、530:画素回路、550:表示素子、551:電極、5
52:電極、553:層、591A:開口部、700:表示パネル、700A:領域、7
00B:領域、700C:領域、700TP:入出力パネル、702:画素、703:画
素、720:機能層、770:基材、770P:機能膜、771:絶縁膜、775:検知
素子、791:部材、791A:弾性体、791B:弾性体、791C:弾性体、792
:部材

Claims (7)

  1. 可撓性を有する第1の基材と、可撓性を有する第2の基材と、前記第1の基材と前記第2の基材との間の発光素子と、第1の部材と、を有する表示パネルであって、
    前記第1の基材は、第1の面と、前記第1の面と対向する第2の面と、を有し、
    前記第1の基材の前記第1の面は、前記第2の基材と対向し、
    前記第1の部材は、前記第1の基材の前記第2の面に接して設けられ、
    前記第1の部材は、第1の弾性体および第2の弾性体を備え、
    前記第2の弾性体は、前記第1の弾性体より大きい弾性率を備え、
    前記第2の弾性体は、前記第1の基材の前記第2の面に接して設けられ、
    前記第1の弾性体は、前記第2の弾性体の上面に接する領域と、前記第2の弾性体の側面に接する領域と、前記第1の基材の前記第2の面に接する領域と、を有し、
    前記表示パネルは、第1の領域と、第2の領域と、を有し、
    前記第1の領域は、前記第1の基材と、前記第2の基材と、前記発光素子と、を含み、
    前記第2の領域は、前記第1の基材と、前記第2の基材と、前記発光素子と、前記第1の部材と、を含み、
    前記第2の領域は、前記第1の部材を外側に向けて湾曲することができ、
    前記第1の領域及び前記第2の領域にわたって表示領域が設けられた、表示パネル。
  2. 可撓性を有する第1の基材と、可撓性を有する第2の基材と、前記第1の基材と前記第2の基材との間の発光素子と、第1の部材と、を有する表示パネルであって、
    前記第1の基材は、第1の面と、前記第1の面と対向する第2の面と、を有し、
    前記第1の基材の前記第1の面は、前記第2の基材と対向し、
    前記第1の部材は、前記第1の基材の前記第2の面に接して設けられ、
    前記第1の部材は、第1の弾性体および第2の弾性体を備え、
    前記第2の弾性体は、前記第1の弾性体より大きい弾性率を備え、
    前記第2の弾性体は、前記第1の基材の前記第2の面に接して設けられ、
    前記第1の弾性体は、前記第2の弾性体の上面に接する領域と、前記第2の弾性体の側面に接する領域と、前記第1の基材の前記第2の面に接する領域と、を有し、
    前記表示パネルは、第1の領域と、第2の領域と、を有し、
    前記第1の領域は、前記第1の基材と、前記第2の基材と、前記発光素子と、を含み、
    前記第2の領域は、前記第1の基材と、前記第2の基材と、前記発光素子と、前記第1の部材と、を含み、
    前記第2の領域は、前記第1の部材を外側に向けて湾曲することができ、
    前記第2の弾性体の側面は、前記第2の領域が曲げられたときと前記第2の領域が曲げられていないときの両方で前記第1の弾性体と接触し、
    前記第1の領域及び前記第2の領域にわたって表示領域が設けられた、表示パネル。
  3. 請求項1または請求項2において、
    前記表示領域は、前記第1の部材が配設されていない方向に向けて表示をする機能を備える、表示パネル。
  4. 請求項1乃至請求項3のいずれか一において、
    前記第2の領域は、2mmより大きい曲率半径で湾曲することができる、表示パネル。
  5. 請求項1乃至請求項4のいずれか一において、
    前記第2の領域は、前記第1の部材の厚さに100μmを加えた厚さより薄い、表示パネル。
  6. 請求項1乃至請求項5のいずれか一において、
    前記第1の部材は、断面において、端部に向かって薄くなる形状を備える、表示パネル。
  7. 請求項1乃至請求項6のいずれか一において、
    前記第1の部材は、前記表示領域を横切る帯状の形状を備える、表示パネル。
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