JP2024012062A - 洗浄剤及び洗浄方法 - Google Patents

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JP2024012062A JP2023043050A JP2023043050A JP2024012062A JP 2024012062 A JP2024012062 A JP 2024012062A JP 2023043050 A JP2023043050 A JP 2023043050A JP 2023043050 A JP2023043050 A JP 2023043050A JP 2024012062 A JP2024012062 A JP 2024012062A
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泰祐 松浦
Taisuke Matsuura
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Arakawa Chemical Industries Ltd
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Arakawa Chemical Industries Ltd
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Abstract

【課題】洗浄剤及び洗浄方法を提供すること。【解決手段】本開示は、洗浄剤に関する。前記洗浄剤は、グリコールエーテル、モノアルコール、アルキレンジオール、アミン及び水を含み、前記グリコールエーテルは、一般式（１）で表される。一般式（１）：Ｒ１－（Ｏ－ＣＨ２－ＣＨＸ）ｎ－ＯＹ（式中、Ｒ１はＣ１～６アルキル基であり、Ｘは水素原子又はメチル基であり、ＹはＣ１～５アルキル基又は水素原子であり、ｎは１～４である。）【選択図】なし

Description

本開示は、洗浄剤及び洗浄方法に関する。
ソルダーペースト等を用いてプリント配線基板の電極に電子部品を接合すると、フラックスが生じる。フラックスを除去するため、様々な洗浄剤が使用されている。
環境への影響が考慮された結果、近年では非フロン系の洗浄剤として、グリコール系洗浄剤等が使用されている。
非フロン系の洗浄剤のうちグリコール系洗浄剤は、各種グリコール系化合物と水とから構成されている（特許文献１～３）。
特開平３－１５２１９７号公報 特開平５－１７５６４１号公報 特開平１０－０４６１９８号公報
洗浄剤には、例えば、各種電子材料に付着したフラックス、ソルダーペースト等の各種汚染物質に対する洗浄性が良いことが求められている。この洗浄性は、汚染物質を除去する能力のみでなく、被洗浄物が変色しないことも含まれる。また、安全上、洗浄剤が引火点を有さないことも求められている。
本発明が解決しようとする課題は、洗浄性が良好であり、引火点を有さない洗浄剤を提供することとする。
本発明者らは、特定の成分を用いることにより、上記課題が解決されることを見出した。
本開示により以下の項目が提供される。
（項目１）
洗浄剤であって、前記洗浄剤は、グリコールエーテル、モノアルコール、アルキレンジオール、アミン及び水を含み、
前記グリコールエーテルは、一般式（１）で表される、洗浄剤。
一般式（１）：Ｒ１－（Ｏ－ＣＨ２－ＣＨＸ）ｎ－ＯＹ
（式中、Ｒ１はＣ１～６アルキル基であり、Ｘは水素原子又はメチル基であり、ＹはＣ１～５アルキル基又は水素原子であり、ｎは１～４である。）
（項目２）
有機酸を含む、上記項目に記載の洗浄剤。
（項目３）
洗浄剤１００質量％に基づくと、
グリコールエーテルの含有量は５～８９．４質量％であり、
モノアルコールの含有量は５～８９．４質量％であり、
アルキレンジオールの含有量は５～８９．４質量％であり、
アミンの含有量は０．１～３０質量％であり、
水の含有量は０．５～２０質量％である、上記項目のいずれか１項に記載の洗浄剤。
（項目４）
洗浄方法であって、前記洗浄方法は、洗浄剤を物品に付着している汚染物質と接触させる工程を含み、
前記洗浄剤は、グリコールエーテル、モノアルコール、アルキレンジオール、アミン及び水を含み、前記グリコールエーテルは、一般式（１）で表される、洗浄方法。
一般式（１）：Ｒ－（Ｏ－ＣＨ２－ＣＨＸ）ｎ－ＯＹ
（式中、ＲはＣ１～６アルキル基であり、Ｘは水素原子又はメチル基であり、ＹはＣ１～５アルキル基又は水素原子であり、ｎは１～４である。）
本開示において、上述した１又は複数の特徴は、明示された組み合わせに加え、さらに組み合わせて提供され得る。
本開示の洗浄剤は、洗浄性が良好であり、引火点を有さない。
本開示の全体にわたり、各物性値、含有量等の数値の範囲は、適宜（例えば下記の各項目に記載の上限及び下限の値から選択して）設定され得る。具体的には、数値αの上限及び下限がＡ３、Ａ２、Ａ１（Ａ３＞Ａ２＞Ａ１とする）である場合、数値αの範囲は、例えば、Ａ３以下、Ａ２以下、Ａ３未満、Ａ２未満、Ａ１以上、Ａ２以上、Ａ１より大きい、Ａ２より大きい、Ａ１～Ａ２（Ａ１以上Ａ２以下）、Ａ１～Ａ３、Ａ２～Ａ３、Ａ１以上Ａ３未満、Ａ１以上Ａ２未満、Ａ２以上Ａ３未満、Ａ１より大きくＡ３未満、Ａ１より大きくＡ２未満、Ａ２より大きくＡ３未満、Ａ１より大きくＡ３以下、Ａ１より大きくＡ２以下、Ａ２より大きくＡ３以下等が挙げられる。
本発明が解決しようとする課題が解決される限り、成分、条件、数値等は、明細書の記載に限定されない。
「Ｃ・・・」は、「炭素数・・・の」を意味する。例えば、「Ｃ１～６アルキル基」は、炭素数１～６のアルキル基を意味する。Ｃ６アルキル基は、炭素数６のアルキル基を意味する。
「分岐アルキル基」は、直鎖アルキル基の少なくとも１つの水素原子がアルキル基によって置換された、環状構造を有さない基を意味する。
シクロアルキル基は、例えば、単環シクロアルキル基、架橋環シクロアルキル基、縮合環シクロアルキル基等が挙げられる。なお、シクロアルキル基の少なくとも１つの水素原子がアルキル基によって置換された基もシクロアルキル基とする。
「単環」は、炭素の共有結合により形成された内部に橋かけ構造を有しない環状構造を意味する。「縮合環」は、２つ以上の単環が２つの原子を共有している（すなわち、それぞれの環の辺を互いに１つだけ共有（縮合）している）環状構造を意味する。「架橋環」は、２つ以上の単環が３つ以上の原子を共有している環状構造を意味する。
Ｃ１～１１アルキル基は、例えば、Ｃ１アルキル基（メチル基）、Ｃ２アルキル基（エチル基）、Ｃ３直鎖アルキル基（ノルマルプロピル基）、Ｃ３分岐アルキル基（イソプロピル基）、Ｃ３シクロアルキル基（シクロプロピル基）、Ｃ４直鎖アルキル基（ノルマルブチル基）、Ｃ４分岐アルキル基、Ｃ４シクロアルキル基、Ｃ５直鎖アルキル基（ノルマルペンチル基）、Ｃ５分岐アルキル基、Ｃ５シクロアルキル基、Ｃ６直鎖アルキル基（ノルマルヘキシル基）、Ｃ６分岐アルキル基、Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ７直鎖アルキル基（ノルマルヘプチル基）、Ｃ７分岐アルキル基、Ｃ７シクロアルキル基、Ｃ８直鎖アルキル基（ノルマルオクチル基）、Ｃ８分岐アルキル基、Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ９直鎖アルキル基（ノルマルノニル基）、Ｃ９分岐アルキル基、Ｃ９シクロアルキル基、Ｃ１０直鎖アルキル基（ノルマルデシル基）、Ｃ１０分岐アルキル基、Ｃ１０シクロアルキル基、Ｃ１１直鎖アルキル基（ノルマルウンデシル基）、Ｃ１１分岐アルキル基、Ｃ１１シクロアルキル基等が挙げられる。
Ｃ４分岐アルキル基は、例えば、１－メチルプロピル基、２－メチルプロピル基、１，１－ジメチルエチル基等が挙げられる。
Ｃ４シクロアルキル基は、例えば、シクロブチル基、１－メチルシクロプロピル基、２－メチルシクロプロピル基等が挙げられる。
Ｃ５分岐アルキル基は、例えば、１－メチルブチル基、２－メチルブチル基、３－メチルブチル基、１－エチルプロピル基、２－エチルプロピル基、１，１－ジメチルプロピル基、２，２－ジメチルプロピル基、１，２－ジメチルプロピル基、
Ｃ５シクロアルキル基は、例えば、シクロペンチル基、１－メチルシクロブチル基、２－メチルシクロブチル基、３－メチルシクロブチル基、１－エチルシクロプロピル基、２－エチルシクロプロピル基、１，２－ジメチルシクロプロピル基、２，３－ジメチルシクロプロピル基等が挙げられる。
Ｃ６分岐アルキル基は、例えば、１－メチルペンチル基、２－メチルペンチル基、３－メチルペンチル基、４－メチルペンチル基、１－エチルブチル基、２－エチルブチル基、３－エチルブチル基、１，１－ジメチルブチル基、２，２－ジメチルブチル基、３，３－ジメチルブチル基、１，２－ジメチルブチル基、２，３－ジメチルブチル基、１－エチル－２－メチルプロピル基、１－メチル－２，２－ジメチルプロピル基、１，１－ジメチル－２－メチルプロピル基等が挙げられる。
Ｃ６シクロアルキル基は、例えば、シクロヘキシル基、１－メチルシクロペンチル基、２－メチルシクロペンチル基、３－メチルシクロペンチル基、１－エチルシクロブチル基、２－エチルシクロブチル基、３－エチルシクロブチル基、１，１－ジメチルシクロブチル基、２，２－ジメチルシクロブチル基、３，３－ジメチルシクロブチル基、１，２－ジメチルシクロブチル基、２，３－ジメチルシクロブチル基、１－ノルマルプロピルシクロプロピル基、１－イソプロピルシクロプロピル基、２－ノルマルプロピルシクロプロピル基、２－イソプロピルシクロプロピル基、１－エチル－２－メチルプロピル基、１－メチル－２－エチルプロピル基、１－メチル－２，２－ジメチルプロピル基、１，２，３－トリメチルシクロプロピル基等が挙げられる。
Ｃ１～５アルキレン基は、例えば、Ｃ１アルキレン基（メチレン基）、Ｃ２アルキレン基（エチレン基）、Ｃ３直鎖アルキレン基（ノルマルプロピレン基）、Ｃ３分岐アルキレン基、Ｃ３シクロアルキレン基（シクロプロピレン基）、Ｃ４直鎖アルキレン基（ノルマルブチレン基）、Ｃ４分岐アルキレン基、Ｃ４シクロアルキレン基、Ｃ５直鎖アルキレン基（ノルマルペンチレン基）、Ｃ５分岐アルキレン基、Ｃ５シクロアルキレン基等が挙げられる。
Ｃ３分岐アルキレン基は、例えば、１－メチルエチレン基、２－メチルエチレン基等が挙げられる。
Ｃ４分岐アルキレン基は、例えば、１－メチルプロピレン基、２－メチルプロピレン基、３－メチルプロピレン基、１，１－ジメチルエチレン基、１－エチルエチレン基、２－エチルエチレン基、１－ノルマルプロピルメチレン基、１－イソプロピルメチレン基、１－エチル－１－メチルメチレン基等が挙げられる。
Ｃ４シクロアルキレン基は、例えば、１，２－シクロブチレン基、１，３－シクロブチレン基、１－メチルシクロプロピレン基、２－メチルシクロプロピレン基、３－メチルシクロプロピレン基等が挙げられる。
Ｃ５分岐アルキレン基は、例えば、１－メチルブチレン基、２－メチルブチレン基、３－メチルブチレン基、４－メチルブチレン基、１－エチルペンチレン基、２－エチルペンチレン基、３－エチルペンチレン基、１，１－ジメチルペンチレン基、２，２－ジメチルペンチレン基、３，３－ジメチルペンチレン基、１，２－ジメチルペンチレン基、１，３－ジメチルペンチレン基、２，３－ジメチルペンチレン基、１－ノルマルプロピルエチレン基、２－ノルマルプロピルエチレン基、１－イソプロピルエチレン基、２－イソプロピルエチレン基、１－エチル－２－メチルエチレン基、２－エチル－１－メチルエチレン基、ノルマルブチルメチレン基、ｓｅｃブチルメチレン基、ｔｅｒｔブチルメチレン基、ノルマルプロピルメチルメチレン基、イソプロピルメチルメチレン基、エチルエチルメチレン基等が挙げられる。
Ｃ５シクロアルキレン基は、例えば、シクロペンチレン基、１－メチルシクロブチレン基、２－メチルシクロブチレン基、３－メチルシクロブチレン基、１－エチルシクロプロピレン基、２－エチルシクロプロピレン基、３－エチルシクロプロピレン基、１－メチル－２－メチルシクロプロピレン基、１－メチル－３－メチルシクロプロピレン基、２，２－ジメチルシクロプロピレン基等が挙げられる。
［洗浄剤］
本開示は、洗浄剤であって、前記洗浄剤は、グリコールエーテル、モノアルコール、アルキレンジオール、アミン及び水を含み、
前記グリコールエーテルは、一般式（１）で表される、洗浄剤に関する。
一般式（１）：Ｒ１－（Ｏ－ＣＨ２－ＣＨＸ）ｎ－ＯＹ
（式中、Ｒ１はＣ１～６アルキル基であり、Ｘは水素原子又はメチル基であり、ＹはＣ１～５アルキル基又は水素原子であり、ｎは１～４である。）
＜グリコールエーテル＞
一般式（１）で表されるグリコールエーテルは、単独又は２種以上で使用され得る。
一般式（１）において、ｎは、例えば、１、２、３、４等が挙げられる。
一般式（１）で表されるグリコールエーテルは、例えば、一般式（１）で表されるエチレングリコールエーテル、一般式（１）で表されるプロピレングリコールエーテル等が挙げられる。
一般式（１）で表されるエチレングリコールエーテルは、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、エチレングリコールモノ－ｉｓｏ－プロピルエーテル、エチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、エチレングリコールモノ－ｉｓｏ－ブチルエーテル、エチレングリコールモノ－ｓｅｃ－ブチルエーテル、エチレングリコールモノ－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、エチレングリコールモノペンチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ－ｉｓｏ－プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ－ｉｓｏ－ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ－ｓｅｃ－ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノペンチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノプロピルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノペンチルエーテル、トリエチレングリコールモノヘキシルエーテル、テトラエチレングリコールモノメチルエーテル、テトラエチレングリコールモノエチルエーテル、テトラエチレングリコールモノプロピルエーテル、テトラエチレングリコールモノブチルエーテル、テトラエチレングリコールモノペンチルエーテル、テトラエチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジ－ｎ－プロピルエーテル、エチレングリコールジ－ｉｓｏ－プロピルエーテル、エチレングリコールジ－ｎ－ブチルエーテル、エチレングリコールジ－ｉｓｏ－ブチルエーテル、エチレングリコールジ－ｓｅｃ－ブチルエーテル、エチレングリコールジ－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、エチレングリコールジペンチルエーテル、エチレングリコールジヘキシルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジ－ｎ－プロピルエーテル、ジエチレングリコールジ－ｉｓｏ－プロピルエーテル、ジエチレングリコールジ－ｎ－ブチルエーテル、ジエチレングリコールジ－ｉｓｏ－ブチルエーテル、ジエチレングリコールジ－ｓｅｃ－ブチルエーテル、ジエチレングリコールジ－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、ジエチレングリコールジペンチルエーテル、ジエチレングリコールジヘキシルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジプロピルエーテル、トリエチレングリコールジブチルエーテル、トリエチレングリコールジペンチルエーテル、トリエチレングリコールジヘキシルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジエチルエーテル、テトラエチレングリコールジプロピルエーテル、テトラエチレングリコールジブチルエーテル、テトラエチレングリコールジペンチルエーテル、テトラエチレングリコールジヘキシルエーテル等が挙げられる。
一般式（１）で表されるプロピレングリコールエーテルは、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ－ｉｓｏ－プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、プロピレングリコールモノ－ｉｓｏ－ブチルエーテル、プロピレングリコールモノ－ｓｅｃ－ブチルエーテル、プロピレングリコールモノ－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、プロピレングリコールモノペンチルエーテル、プロピレングリコールモノヘキシルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ－ｉｓｏ－プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ－ｉｓｏ－ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ－ｓｅｃ－ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノペンチルエーテル、ジプロピレングリコールモノヘキシルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノプロピルエーテル、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノペンチルエーテル、トリプロピレングリコールモノヘキシルエーテル、テトラプロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラプロピレングリコールモノエチルエーテル、テトラプロピレングリコールモノプロピルエーテル、テトラプロピレングリコールモノブチルエーテル、テトラプロピレングリコールモノペンチルエーテル、テトラプロピレングリコールモノヘキシルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジ－ｎ－プロピルエーテル、プロピレングリコールジ－ｉｓｏ－プロピルエーテル、プロピレングリコールジ－ｎ－ブチルエーテル、プロピレングリコールジ－ｉｓｏ－ブチルエーテル、プロピレングリコールジ－ｓｅｃ－ブチルエーテル、プロピレングリコールジ－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、プロピレングリコールジペンチルエーテル、プロピレングリコールジヘキシルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールエチルメチルエーテル、ジプロピレングリコールジ－ｎ－プロピルエーテル、ジプロピレングリコールジ－ｉｓｏ－プロピルエーテル、ジプロピレングリコールジ－ｎ－ブチルエーテル、ジプロピレングリコールジ－ｉｓｏ－ブチルエーテル、ジプロピレングリコールジ－ｓｅｃ－ブチルエーテル、ジプロピレングリコールジ－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、ジプロピレングリコールジペンチルエーテル、ジプロピレングリコールジヘキシルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、トリプロピレングリコールジエチルエーテル、トリプロピレングリコールジプロピルエーテル、トリプロピレングリコールジブチルエーテル、トリプロピレングリコールジペンチルエーテル、トリプロピレングリコールジヘキシルエーテル、テトラプロピレングリコールジメチルエーテル、テトラプロピレングリコールジエチルエーテル、テトラプロピレングリコールジプロピルエーテル、テトラプロピレングリコールジブチルエーテル、テトラプロピレングリコールジペンチルエーテル、テトラプロピレングリコールジヘキシルエーテル等が挙げられる。
洗浄剤１００質量％に基づくと、グリコールエーテルの含有量の上限及び下限は、例えば、８９．４、８５、８０、７５、７０、６５、６０、５５、５２、５１、５０．７、５０、４７、４５、４４、４０、３５、３０、２５、２０、１５、１０、５質量％等が挙げられる。１つの実施形態において、上記含有量は、好ましくは、５～８９．４質量％が挙げられ、より好ましくは、１０～７０質量％が挙げられ、さらに好ましくは、４０～５５質量％が挙げられる。
水１００質量部に基づくと、グリコールエーテルの含有量の上限及び下限は、例えば、１７８８０、１５０００、１２５００、１００００、７５００、５０００、２５００、１０００、９００、８００、７５０、５００、２５０、１２５、１１０、１００、９０、７５、５０、２５質量部等が挙げられる。１つの実施形態において、上記含有量は、好ましくは、２５～１７８８０質量部が挙げられ、より好ましくは、１００質量部超１７８８０質量部以下が挙げられる。
＜モノアルコール＞
モノアルコールは、単独又は２種以上で使用され得る。
モノアルコールは、例えば、Ｃ１～１１アルキルモノアルコール、アリールモノアルコール等が挙げられる。１つの実施形態において、モノアルコールは、好ましくは、Ｃ６～１１アルキルモノアルコール、アリールアルキルモノアルコールが挙げられ、より好ましくは、Ｃ６～７アルキルモノアルコール、ベンジルアルコールが挙げられる。より好ましい範囲（Ｃ６～７アルキルモノアルコール、ベンジルアルコール）とすることにより、引火点を有さず、洗浄性が良好となる洗浄剤を得やすくなる。
１つの実施形態において、モノアルコールとして、好ましくは、モノアルキルアルコールのみを含み、より好ましくは、Ｃ１～９アルキルモノアルコールのみを含み、さらに好ましくは、Ｃ６～７アルキルモノアルコールのみを含む。
Ｃ１～１１アルキルモノアルコールは、一般式（２）で表される。
一般式（２）：Ｒ２－ＯＨ
（式中、Ｒ２はＣ１～１１アルキル基である。）
Ｃ１～１１アルキルモノアルコールは、例えば、Ｃ１～１１直鎖アルキルモノアルコール、Ｃ１～１１分岐アルキルモノアルコール、Ｃ１～１１シクロアルキルモノアルコール等が挙げられる。
Ｃ１～１１直鎖アルキルモノアルコールは、例えば、メタノール、エタノール、１－プロパノール、１－ブタノール、１－ペンタノール、１－ヘキサノール、１－ヘプタノール、１－オクタノール、１－ノナノール、１－デカノール、１－ウンデカノール等が挙げられる。
Ｃ１～１１分岐アルキルモノアルコールは、例えば、２－ヘキサノール、３－ヘキサノール、２－ヘプタノール、３－ヘプタノール、４－ヘプタノール、２－メチル－１－ペンタノール、３－メチル－１－ペンタノール、４－メチル－１－ペンタノール、２、４－ジメチル－３－ペンタノール、３－エチル－３－ペンタノール、２－メチル－３－ヘキサノール、３－メチル－１－ヘキサノール、４－メチル－１－ヘキサノール、５－メチル－２－ヘキサノール等が挙げられる。
Ｃ１～１１シクロアルキルモノアルコールは、例えば、１－メチルシクロペンタノール、シクロペンタンメタノール、１－エチルシクロペンタノール、４－エチルシクロヘキサノール、１－メチルシクロヘキサノール、２－メチルシクロヘキサノール、３－メチルシクロヘキサノール、４－メチルシクロヘキサノール、シクロヘキサンメタノール等が挙げられる。
アリールモノアルコールは、例えば、アリールアルキルモノアルコール等が挙げられる。
アリールアルキルモノアルコールは、例えば、ベンジルアルコール、４－メチルベンジルアルコール、フェネチルアルコール、３－フェニル－１－プロパノール等が挙げられる。
洗浄剤１００質量％に基づくと、モノアルコールの含有量の上限及び下限は、例えば、８９．４、８５、８０、７５、７０、６５、６０、５５、５０、４５、４０、３５、３０、２５、２２、２０、１８、１５、１０、５質量％等が挙げられる。１つの実施形態において、上記含有量は、好ましくは、５～８９．４質量％が挙げられ、より好ましくは、１５～３０質量％が挙げられる。
＜アルキレンジオール＞
アルキレンジオールは、単独又は２種以上で使用され得る。
アルキレンジオールは、例えば、Ｃ２～Ｃ７アルキレンジオール等が挙げられる。１つの実施形態において、アルキレンジオールは、好ましくは、Ｃ２～Ｃ７アルキレンジオールが挙げられ、より好ましくは、Ｃ４～Ｃ７アルキレンジオールが挙げられる。より好ましい範囲（Ｃ４～Ｃ７アルキレンジオール）では、洗浄性及び水すすぎ性が良好となりやすい。
Ｃ２～Ｃ７アルキレンジオールは、一般式（３）で表される。
一般式（３）：Ｒ３１－ＣＲ３２（ＯＨ）－Ｒ３３－ＣＲ３４（ＯＨ）－Ｒ３５
（式中、Ｒ３１はＣ１～５アルキル基又は水素原子であり、Ｒ３２はＣ１～４アルキル基又は水素原子であり、Ｒ３３はＣ１～５アルキレン基又は単結合であり、Ｒ３４はＣ１～４アルキル基又は水素原子であり、Ｒ３５はＣ１～４アルキル基又は水素原子である。）
Ｃ２～Ｃ７アルキレンジオールは、例えば、Ｃ２～７直鎖アルキレンジオール、Ｃ３～Ｃ７分岐アルキレンジオール、Ｃ３～Ｃ７シクロアルキレンジオール等が挙げられる。
Ｃ２～７直鎖アルキレンジオールは、例えば、エチレンジオール、１，３－プロピレンジオール、１，４－ブタンジオール、１，５－ペンタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、１，７－ヘプタンジオール等が挙げられる。
Ｃ３～Ｃ７分岐アルキレンジオールは、例えば、１，２－プロピレンジオール、１，２－ブタンジオール、１，３－ブタンジオール、１，２－ペンタンジオール、１，３－ペンタンジオール、１，４－ペンタンジオール、１，２－ヘキサンジオール、１，３－ヘキサンジオール、１，４－ヘキサンジオール、１，５－ヘキサンジオール、１，２－ヘプタンジオール、１，３－ヘプタンジオール、１，４－ヘプタンジオール、１，５－ヘプタンジオール、１，６－ヘプタンジオール等が挙げられる。
Ｃ３～Ｃ７シクロアルキレンジオールは、例えば、１，３－シクロペンタンジオール、１，２－シクロヘキサンジオール、１，３－シクロヘキサンジオール、１，４－シクロヘキサンジオール、４－（ヒドロキシメチル）シクロヘキサノール等が挙げられる。
洗浄剤１００質量％に基づくと、アルキレンジオールの含有量の上限及び下限は、例えば、８９．４、８５、８０、７５、７０、６５、６０、５５、５０、４５、４０、３５、３０、２７、２５、２３、２０、１５、１０、５質量％等が挙げられる。１つの実施形態において、上記含有量は、好ましくは、５～８９．４質量％が挙げられ、より好ましくは、１０～７０質量％が挙げられ、さらに好ましくは、洗浄性向上の観点から、２０～４０質量％が挙げられる。
＜アミン＞
アミンは、単独又は２種以上で使用され得る。
アミンは、例えば、一般式（４）で表されるアミン等が挙げられる。
一般式（４）：Ｒ４１－ＮＲ４２Ｒ４３
（式中、Ｒ４１は水素原子又はアルキル基であり、Ｒ４２は置換又は非置換のアルキル基であり、Ｒ４３は置換又は非置換のアルキル基である。）
置換基は、例えば、ヒドロキシ基等が挙げられる。
一般式（４）で表される２級アミンは、例えば、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、ジペンチルアミン、ジヘキシルアミン、ジヘプチルアミン、ジオクチルアミン、ジ（２－エチルヘキシル）アミン、ジノニルアミン、ジデシルアミン、ジウンデシルアミン、ジドデシルアミン、メチルドデシルアミン、エチルドデシルアミン、プロピルドデシルアミン等が挙げられる。
一般式（４）で表される３級アミンは、例えば、メチルジデシルアミン、ジメチルドデシルアミン、ジエチルドデシルアミン、ジプロピルドデシルアミン、トリブチルアミン、トリアミルアミン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリウンデシルアミン、ジエチルドデシルアミン、ジエチルドデシルアミン、モノメチルジエタノールアミン、モノエチルジエタノールアミン、モノプロピルジエタノールアミン、モノブチルジエタノールアミン、モノペンチルジエタノールアミン、モノヘキシルジエタノールアミン、モノヘプチルジエタノールアミン、モノオクチルジエタノールアミン、モノノニルジエタノールアミン、モノデシルジエタノールアミン、モノウンデシルジエタノールアミン、モノドデシルジエタノールアミン等が挙げられる。
洗浄剤１００質量％に基づくと、アミンの含有量の上限及び下限は、例えば、３０、２５、２０、１５、１０、９、７、６、５、４、３、２、１、０．９、０．５、０．４、０．２、０．１質量％等が挙げられる。１つの実施形態において、上記含有量は、好ましくは、０．１～３０質量％が挙げられ、より好ましくは、１～２０質量％が挙げられ、さらに好ましくは、１～１５質量％が挙げられる。
＜水＞
水は、単独又は２種以上で使用され得る。
水は、例えば、硬水、軟水、超純水、純水、蒸留水、イオン交換水、水道水等が挙げられる。
洗浄剤１００質量％に基づくと、水の含有量の上限及び下限は、例えば、２０、１７、１５、１３、１０、９、７、６、５、４、３、２、１、０．９、０．５質量％等が挙げられる。１つの実施形態において、上記含有量は、好ましくは、０．５～２０質量％が挙げられ、より好ましくは、１～２０質量％が挙げられ、さらに好ましくは、１～１０質量％が挙げられる。上記好ましい範囲とすることにより、洗浄性が向上する。
＜有機酸＞
１つの実施形態において、洗浄剤は、任意で、有機酸を含み得る。有機酸は、単独又は２種以上で使用され得る。
有機酸は、例えば、カルボン酸等が挙げられる。
カルボン酸は、例えば、ヒドロキシカルボン酸等が挙げられる。
ヒドロキシカルボン酸は、例えば、クエン酸、イソクエン酸、リンゴ酸、酒石酸等が挙げられる。
１つの実施形態において、有機酸は、モノアルキルジエタノールアミン、ジアルキルアミンと組み合わせて使用されることが好ましい。
洗浄剤１００質量％に基づくと、有機酸の含有量の上限及び下限は、例えば、１０、９、８、７、６、５、４、３、２、１、０質量％等が挙げられる。１つの実施形態において、上記含有量は、好ましくは、０～１０質量％が挙げられ、より好ましくは、０～５質量％が挙げられる。
アミン１００質量％に基づくと、有機酸の含有量の上限及び下限は、例えば、２００、１９０、１７５、１５０、１２５、１００、９０、７５、５０、２５、１０、５、２、１、０質量％等が挙げられる。１つの実施形態において、上記含有量は、好ましくは、０～２００質量％が挙げられる。
＜添加剤＞
洗浄剤には、一般式（１）で表されるグリコールエーテル、モノアルコール、アルキレンジオール、アミン、水、有機酸のいずれにも該当しない剤を添加剤として含み得る。
添加剤は、例えば、界面活性剤、ハロゲン原子含有有機溶媒、炭化水素、イミダゾリジノン、アミノ酸、含窒素複素環化合物、酸化防止剤、アルカリ化合物等が挙げられる。
「界面活性剤」は、溶液内において、臨界ミセル濃度以上でミセルのような会合体を形成する物質を意味する。なお、本開示において、一般式（１）で表される化合物は、界面活性剤ではない。
界面活性剤は、例えば、陰イオン界面活性剤、陽イオン界面活性剤、両性界面活性剤、非イオン界面活性剤が挙げられる。
界面活性剤は、例えば、アセチレンアルコール、アセチレングリコール、多価アルコール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン多価アルコール脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンリン酸エステル、ポリオキシアルキレンアミン等が挙げられる。
ハロゲン原子含有有機溶媒は、例えば、フッ素原子含有有機溶媒等が挙げられる。
フッ素原子含有有機溶媒は、例えば、ｃｉｓ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテン、ｔｒａｎｓ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテン等が挙げられる。
「炭化水素」は、炭素原子及び水素原子のみからなる化合物を意味する。炭化水素は、例えば、Ｃ１～９炭化水素、Ｃ６～３０炭化水素、Ｃ８～１４炭化水素、Ｃ１０～２４炭化水素、Ｃ２５以上炭化水素等が挙げられる。
イミダゾリジノンは、例えば、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等が挙げられる。
アミノ酸は、例えば、酸性アミノ酸、塩基性アミノ酸、中性アミノ酸等が挙げられる。
１つの実施形態において、洗浄剤１００質量部に基づくと、添加剤の含有量は、好ましくは、１質量部未満、０．１質量部未満、０．０１質量部未満、０質量部等が挙げられる。
１つの実施形態において、一般式（１）で表されるグリコールエーテル、モノアルコール、アルキレンジオール、アミン、水、有機酸のいずれか１００質量部に基づくと、添加剤の含有量は、好ましくは、１質量部未満、０．１質量部未満、０．０１質量部未満、０質量部等が挙げられる。
洗浄剤は、一般式（１）で表されるグリコールエーテル、モノアルコール、アルキレンジオール、アミン、水並びに必要に応じて有機酸及び添加剤が、分散・混合されることにより製造され得る。
分散・混合手段は、例えば、乳化分散機、超音波分散装置等が挙げられる。
洗浄剤は、例えば、金属洗浄剤、アルミニウム洗浄剤、樹脂洗浄剤、ハンダ付けフラックス洗浄剤、ソルダーペースト洗浄剤、フラックス残渣洗浄剤、工業油洗浄剤等として使用され得る。
洗浄剤のｐＨの上限及び下限は、例えば、９、８．９、８．７、８．５、８．４、８．３、８．２、８．１、８、７．７、７．５、７．３、７、６．５、６等が挙げられる。１つの実施形態において、上記ｐＨは、好ましくは、６～９が挙げられ、より好ましくは、７～９が挙げられる。
ｐＨの測定方法は、下記のとおりである。
（１）洗浄剤を純水で５％に希釈する。
（２）希釈した洗浄剤に電極を浸漬させる（液温２５℃）。
（３）マグネチックスターラーで１分間攪拌する。
（４）ｐＨメーター（（株）堀場製作所製、商品名「Ｄ－７４」）を用いてｐＨを測定する。
洗浄剤の電気伝導度の上限及び下限は、例えば、３０００、２５００、２０００、１５００、１０００、５００、１００、９０、７５、５０、２５、１０、９、７、５、４、３、２、１、０μＳ／ｍ等が挙げられる。１つの実施形態において、上記電気伝導度は、好ましくは、０～３０００μＳ／ｍが挙げられ、より好ましくは、０～１００μＳ／ｍが挙げられる。
電気伝導度の測定方法は、下記のとおりである。
（１）洗浄剤を純水で５％に希釈する。
（２）希釈した洗浄剤に電極を浸漬させる（液温２５℃）。
（３）マグネチックスターラーで１分間攪拌する。
（４）導電率計（（株）堀場製作所製、商品名「ＥＳ－１４」）を用いて電気伝導度を測定する。
洗浄剤の粘度の上限及び下限は、例えば、２００、１７５、１５０、１２５、１００、７５、５０、２５、２０、１５、１４、１２、１１、１０、９、７、５、３、１ｍＰａ・ｓ等が挙げられる。１つの実施形態において、上記粘度は、好ましくは、１～２００ｍＰａ・ｓが挙げられ、より好ましくは、１～５０ｍＰａ・ｓが挙げられる。
粘度は、Ｂ型粘度計（東機産業（株）製、商品名「ＴＶＢ１０形粘度計」）を用いて、２０℃、６０ｒｐｍの条件で測定される。
１つの実施形態において、洗浄剤は、好ましくは、非共沸性洗浄剤が挙げられる。
[洗浄方法]
本開示は、洗浄方法であって、前記洗浄方法は、洗浄剤を物品に付着している汚染物質と接触させる工程を含み、
前記洗浄剤は、グリコールエーテル、モノアルコール、アルキレンジオール、アミン及び水を含み、前記グリコールエーテルは、一般式（１）で表される、洗浄方法に関する。
一般式（１）：Ｒ－（Ｏ－ＣＨ２－ＣＨＸ）ｎ－ＯＹ
（式中、ＲはＣ１～６アルキル基であり、Ｘは水素原子又はメチル基であり、ＹはＣ１～５アルキル基又は水素原子であり、ｎは１～４である。）
洗浄手段は、例えば、浸漬洗浄、シャワー洗浄、スプレー洗浄、超音波洗浄、液中ジェット洗浄、直通式洗浄（ダイレクトパス（登録商標））等が挙げられる。
洗浄装置は、例えば、特開平７－３２８５６５号公報、特開２０００－１８９９１２号公報、特開２００１－０００９３２号公報、特開２００５－１４４４４１号公報に記載の装置等が挙げられる。
１つの実施形態において、洗浄温度は、好ましくは、１５～７０℃が挙げられる。
１つの実施形態において、洗浄時間は、好ましくは、１分～６０分が挙げられる。
汚染物質は、例えば、ハンダ付けフラックス、ソルダーペースト、フラックス残渣、工業油等が挙げられる。
洗浄方法は、例えば、金属の洗浄方法、アルミニウムの洗浄方法、樹脂の洗浄方法、ハンダ付けフラックスの洗浄方法、ソルダーペーストの洗浄方法、フラックス残渣の洗浄方法、工業油の洗浄方法等が挙げられる。
以下、実施例及び比較例を通じて本発明を具体的に説明する。但し、上述の説明及び以下の実施例は、本発明を限定する目的で記載されていない。本発明は、特許請求の範囲のみにより限定される。以下特に説明がない限り、部、％等の数値は質量基準である。
実施例１
１００ｍＬのビーカーに、ジプロピレングリコールモノｎ－ブチルエーテル４５部、１－ヘプタノール２０部、１，２－ペンタンジオール２５部、ジ（２－エチルヘキシル）アミン５部及び水５部を入れ、よく混合することにより、洗浄剤を調製した。
特段言及がない限り、下記例は、表のように変更した以外は、実施例１と同様にして行った。
＜略称の説明＞
ＢＤＧ：ジエチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルジグリコール）
ＢＦＤＧ：ジプロピレングリコールモノｎ－ブチルエーテル（ブチルプロピレンジグリコール）
ＤＢＤＧ：ジエチレングリコールジブチルエーテル（ジブチルジグリコール）
ＨｅＤＧ：ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル（ヘキシルジグリコール）

２－ＥＨ：２－エチルヘキシル
ＭＢＤ：モノ－ｎ－ブチルジエタノールアミン
＜被洗浄物の作製＞
ＡＲＫＷ－ＷＳ基板（（株）エムアールーエー設計センター製）に、マスク厚み１００μｍのメタルマスクを用いて、ソルダーペースト（商品名「ＸＦＰ－１ ＬＦ２１９」荒川化学工業（株）製、商品名「Ｍ７０５－ＧＲＮ３６０－Ｋ２－Ｖ」千住金属工業（株）製）を印刷し、ホットプレートを用いて１６０℃で９０秒加熱した後、さらに２５０℃で４０秒加熱することにより２種類の被洗浄物を作製した。
＜洗浄＞
洗浄剤１００ｇが入った１００ｍＬビーカーに被洗浄物を浸漬し、５０℃、５００ｒｐｍ撹拌で５分間洗浄後、被洗浄物を取り出した。次に、純水を用いて溜めすすぎを３０秒行った。続いて、純水１００ｇが入った１００ｍＬビーカーに被洗浄物を浸漬し、室温、５００ｒｐｍ撹拌で１分間洗浄後、純水の流水でかけ洗いをして、被洗浄物を取り出した。最後に被洗浄物をＮ２ブローで乾燥させた。なお、クロスヘッド型、直径２ｃｍの攪拌子を使用した。
＜洗浄性＞
洗浄後の試験基板に残ったフラックス残渣を光学顕微鏡（装置名：「ＶＨＸ６０００」、（株）キーエンス製）で観察し、以下の式Ａより除去率を求め、２種類のソルダーペーストを使用した基板の平均した値を採用した。評価基準を以下に示す。
下記表に結果を示す（以下同様）。
（式Ａ）除去率（％）＝［｛（フラックス洗浄前の付着面積）－（フラックス洗浄後の付着面積）｝／フラックス洗浄前の付着面積］×１００
◎：除去率が８０％以上
○：除去率が６０％以上８０％未満
△：除去率が４０％以上６０％未満
×：除去率が４０％未満
＜アルミ変色＞
金属の変色は水すすぎ工程で発生することが多いため、水すすぎ工程を想定した条件にて、以下検討を実施した。洗浄剤を純水で５％に希釈した液１００ｇを１００ｍＬビーカーに入れ、アルミ製テストパネル（日本テストパネル、A１０５０P）を浸漬し、４０℃、５００ｒｐｍ撹拌で３０分間洗浄後、被洗浄物を取り出した。純水の流水でかけ洗いをして、最後に被洗浄物をＮ２ブローで乾燥させた後、目視にて判断した。なお、クロスヘッド型、直径２ｃｍの攪拌子を使用した。
○：変色なし
×：変色あり
＜引火点＞
ＪＩＳＫ２２６５に準拠し、引火点が室温から８０℃までの範囲はタグ密閉式により測定し、８０℃までで引火点が測定できなかった場合は、クリーブランド開放式にて測定を実施した。

Claims (4)

  1. 洗浄剤であって、前記洗浄剤は、グリコールエーテル、モノアルコール、アルキレンジオール、アミン及び水を含み、
    前記グリコールエーテルは、一般式（１）で表される、洗浄剤。
    一般式（１）：Ｒ１－（Ｏ－ＣＨ２－ＣＨＸ）ｎ－ＯＹ
    （式中、Ｒ１はＣ１～６アルキル基であり、Ｘは水素原子又はメチル基であり、ＹはＣ１～５アルキル基又は水素原子であり、ｎは１～４である。）
  2. 有機酸を含む、請求項１に記載の洗浄剤。
  3. 洗浄剤１００質量％に基づくと、
    グリコールエーテルの含有量は５～８９．４質量％であり、
    モノアルコールの含有量は５～８９．４質量％であり、
    アルキレンジオールの含有量は５～８９．４質量％であり、
    アミンの含有量は０．１～３０質量％であり、
    水の含有量は０．５～２０質量％である、請求項１又は２に記載の洗浄剤。
  4. 洗浄方法であって、前記洗浄方法は、洗浄剤を物品に付着している汚染物質と接触させる工程を含み、
    前記洗浄剤は、グリコールエーテル、モノアルコール、アルキレンジオール、アミン及び水を含み、前記グリコールエーテルは、一般式（１）で表される、洗浄方法。
    一般式（１）：Ｒ－（Ｏ－ＣＨ２－ＣＨＸ）ｎ－ＯＹ
    （式中、ＲはＣ１～６アルキル基であり、Ｘは水素原子又はメチル基であり、ＹはＣ１～５アルキル基又は水素原子であり、ｎは１～４である。）
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