JP2024004833A - 塗布装置 - Google Patents

Abstract

【課題】吐出部の先端の位置の変化に依存することなく、塗布位置を高精度かつ容易に把握することが可能な塗布装置を提供する。【解決手段】塗布装置１は、収容部材２１と、吐出部２２と、計測部５と、算出部４１とを有する。前記収容部材には、塗布剤が収容される。前記吐出部は、前記収容部材から供給された前記塗布剤を先端から吐出する。前記計測部は、前記吐出部の位置を計測して計測結果を示す位置情報を出力する。前記算出部は、前記位置情報に基づいて前記塗布剤を塗布するための塗布位置を算出する。前記位置情報は、前記先端の位置を示す先端位置情報を含む。【選択図】図１

Description

本開示は、塗布装置に関する。

従来の液体材料吐出装置は、液体材料を吐出するニードル先端を撮像する下カメラと、液体材料の塗布対象物を撮像する上カメラとを備える（例えば、特許文献１）。液体材料吐出装置では、上カメラ及び下カメラが治具を撮像することで、上カメラ及び下カメラのずれ量を補正している。

特開２０１３－１８８７３７号公報

一般的に、液体材料吐出装置におけるニードル先端の位置は、例えば、ニードルの交換によって変化する。特許文献１の液体材料吐出装置は、ニードル先端の位置の変化を検出できず、所望の吐出位置に液体材料を精密に吐出できない可能性がある。

本開示は上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、吐出部の先端の位置の変化に依存することなく、塗布位置を高精度かつ容易に把握することが可能な塗布装置を提供することにある。

本開示の例示的な塗布装置は、対象物に塗布剤を塗布する。本開示の例示的な塗布装置は、収容部材と、吐出部と、計測部と、算出部とを有する。前記収容部材には、前記塗布剤が収容される。前記吐出部は、前記収容部材から供給された前記塗布剤を先端から吐出する。前記計測部は、前記吐出部の位置を計測して計測結果を示す位置情報を出力する。前記算出部は、前記位置情報に基づいて前記塗布剤を塗布するための塗布位置を算出する。前記位置情報は、前記先端の位置を示す先端位置情報を含む。

例示的な本開示によれば、吐出部の先端の位置の変化に依存することなく、塗布位置を高精度かつ容易に把握することが可能となる。

図１は、例示的な実施形態１の塗布装置の概要を示す図である。 図２は、撮像部によって生成された計測画像を示す図である。 図３は、塗布ユニットの模式図である。 図４は、例示的な実施形態２の塗布装置を示す図である。 図５は、回転機構による塗布ユニットの回転を示す図である。 図６は、例示的な実施形態３の塗布装置を示す図である。 図７は、例示的な実施形態４の塗布装置を示す図である。

以下、本開示の例示的な実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、図中、同一又は相当部分については同一の参照符号を付して説明を繰り返さない。

［実施形態１］
図１を参照して、例示的な実施形態１の塗布装置１を説明する。図１は、例示的な実施形態１の塗布装置１の概要を示す図である。

塗布装置１は、対象物Ｐに塗布剤（以降、塗布剤Ｊと記載）を塗布する。対象物Ｐは、一例として、筐体部品である。塗布剤Ｊは、一例として、シリコン系の樹脂又は他の樹脂である。塗布装置１は、塗布ユニット２と、ベースユニット３と、制御部４とを有する。塗布ユニット２は、対象物Ｐに塗布剤Ｊを塗布する。塗布ユニット２は、ベースユニット３に連結される。塗布ユニット２は、ベースユニット３によって対象物Ｐの上方に位置した状態で支持される。ベースユニット３は、例えば床面に設置される。制御部４は、塗布ユニット２及びベースユニット３の少なくとも一方を制御する。制御部４は、塗布装置１の内部に設けられる。

例えば、制御部４は、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）等のプロセッサーと、記憶部とを含む。記憶部は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）及びＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）等の主記憶装置と、ソリッドステートドライブ、又は、ハードディスクドライブのような補助記憶装置とを含む。例えば、記憶部には、各種のプログラム及びデータ等が記憶されている。

塗布ユニット２は、収容部材２１と、吐出部２２と、保持部２３と、連結部２４とを有する。収容部材２１には、塗布剤Ｊが収容される。吐出部２２は、収容部材２１から供給された塗布剤Ｊを吐出部２２の先端２２Ｔから吐出する。保持部２３は、収容部材２１を保持する。連結部２４は、保持部２３とベースユニット３とを連結する。

ベースユニット３は、配置部３１と、設置部３２と、支持部３３とを有する。配置部３１には、対象物Ｐが配置される。設置部３２は、床面に設置される。支持部３３は、塗布ユニット２の連結部２４を支持する。塗布ユニット２が支持部３３に支持された状態において、吐出部２２は、対象物Ｐの上方に位置する。典型的には、吐出部２２は、対象物Ｐに対して略垂直に延びる状態を維持する。

実施形態１において、塗布ユニット２は、対象物Ｐに対して鉛直方向及び水平方向に移動可能である。例えば、ベースユニット３において、支持部３３には、鉛直方向及び水平方向に沿って延びる図示しないスライドレールが配置される。塗布ユニット２の連結部２４がスライドレールに嵌合し、スライドレールに沿って移動することで、塗布ユニット２が対象物Ｐに対して鉛直方向及び水平方向の３次元方向に移動する。その結果、吐出部２２と先端２２Ｔとは、対象物Ｐに対して近づいたり離れたりすることが可能である。

塗布ユニット２の移動は、塗布装置１の使用者によって手動で行われる。または、塗布ユニット２又はベースユニット３に図示しない駆動機構が設けられ、駆動機構によって塗布ユニット２の移動が行われる。駆動機構は、例えば、モータ、ギア及びシャフト等を組み合わせて構成される。

駆動機構によって塗布ユニット２が移動する場合、制御部４が駆動機構を制御する。具体的には、制御部４は、使用者によって塗布装置１に入力された指示に従って、モータの回転等を制御する。その結果、塗布ユニット２は、対象物Ｐに対して近づいたり離れたりする。

塗布ユニット２が対象物Ｐに近づいた状態において、吐出部２２は、使用者の操作により、又は制御部４の制御により塗布剤Ｊを先端２２Ｔから対象物Ｐに向けて吐出する。

塗布装置１は、計測部５を更に有する。計測部５は、吐出部２２の位置を計測して計測結果を示す位置情報を出力する。計測部５は、例えば、撮像部５１と画像処理部５２とを有する。撮像部５１は、吐出部２２の先端２２Ｔを撮像して撮像結果を示す画像を生成する。画像処理部５２は、撮像部５１によって生成された画像に対して画像処理を実行し、画像処理に基づき位置情報を生成する。言い換えると、画像処理部５２は、画像処理の結果、先端２２Ｔの位置を示す先端位置情報を含む位置情報を生成する。塗布装置１に撮像部５１を設けることで、容易な方法で先端２２Ｔの位置及び状態の把握が可能になる。撮像部５１及び画像処理部５２は、一例として、デジタルカメラである。

例えば、撮像部５１は、ベースユニット３に配置される。具体的には、撮像部５１は、撮像部５１の光軸Ｌが吐出部２２に向いて延びた状態で設置部３２に固定される。

撮像部５１は、光軸Ｌを中心とする計測範囲Ｅ１を撮像して計測画像Ｇ１を生成する。実施形態１において、撮像部５１の光軸Ｌは、例えば水平方向に延びる。先端２２Ｔは、計測範囲Ｅ１の内側に位置する。

次に、図２を参照して、位置情報について説明する。図２は、撮像部５１によって生成された計測画像Ｇ１を示す図である。

計測画像Ｇ１には、吐出部２２の少なくとも一部を示す画素が含まれる。吐出部２２の少なくとも一部には、先端２２Ｔが含まれる。計測画像Ｇ１において、各画素の位置は、ピクセル座標で表現される。例えば、ピクセル座標は、計測画像Ｇ１における左上の画素が原点（０，０）とし、右方向がＸ軸の正方向、かつ下方向がＹ軸の正方向の座標である。例えば、計測画像Ｇ１における右上の画素のピクセル座標は（ＸＸ，０）で表現される。計測画像Ｇ１における左下の画素のピクセル座標は（０，ＹＹ）で表現される。計測画像Ｇ１における右下の画素のピクセル座標は（ＸＸ，ＹＹ）で表現される。

画像処理部５２は、計測画像Ｇ１に対して画像処理を実行し、吐出部２２及び先端２２Ｔを検出する。具体的には、画像処理部５２は、吐出部２２の少なくとも一部を示す画素と、先端２２Ｔを示す画素とを特定する。画像処理部５２は、先端２２Ｔを示す画素のピクセル座標を取得する。図２に示す例では、先端２２Ｔのピクセル座標ＪＰ１は、（Ｘ１、Ｙ１）である。ピクセル座標ＪＰ１は、先端位置情報の一例である。

また、例えば、画像処理部５２は、対象物Ｐに対する吐出部２２の傾斜角度αを算出する。図２に示す例では、対象物Ｐと計測画像Ｇ１のＸ軸とが平行である。対象物Ｐと計測画像Ｇ１のＸ軸とは平行でなくてもよい。

具体的には、画像処理部５２は、計測画像Ｇ１に含まれる画素のうち、吐出部２２の少なくとも一部を示す複数の画素のピクセル座標を取得する。画像処理部５２は、取得した複数の画素のピクセル座標に基づいて、計測画像Ｇ１における複数の画素を結ぶ直線の傾きを、吐出部２２の先端２２Ｔの傾きとして算出する。更に、画像処理部５２は、計測画像Ｇ１のＹ軸に対する対象物Ｐの角度と、算出した傾きとに基づいて、対象物Ｐに対する吐出部２２の傾斜角度αを算出する。

画像処理部５２は、位置情報を生成する。位置情報は、ピクセル座標ＪＰ１と、傾斜角度αを示す角度情報ＪＰ２と含む。位置情報に角度情報ＪＰ２を含めることで、制御部４において、先端２２Ｔと対象物Ｐとの位置関係をより高精度に算出することができる。その結果、塗布装置１において、より精密な塗布剤Ｊの塗布が可能になる。

再び図１を参照して、制御部４は、算出部４１を有する。具体的には、制御部４は記憶部のプログラムを実行することで、算出部４１として機能する。算出部４１は、画像処理部５２によって生成された位置情報を取得し、位置情報に基づいて塗布剤Ｊを塗布するための塗布位置を算出する。その結果、使用者が塗布位置を高精度かつより容易に把握できる。例えば、制御部４は、算出された塗布位置を示す画像を生成し、塗布装置１の内部又は外部に設けられた表示装置に表示させる処理を行う。または、例えば、制御部４は、塗布装置１に設けられたレーザポインタ等の発光装置を塗布位置に向けて照射するように制御する。

次に、図３を参照して、塗布ユニット２について詳細に説明する。図３は、塗布ユニット２の模式図である。図３は、撮像部５１の光軸Ｌの延びる方向から塗布ユニット２を見た図である。

実施形態１において、吐出部２２を含む塗布ユニット２は、撮像部５１の光軸Ｌに対して垂直な平面で回転可能である。具体的には、塗布ユニット２は、回転機構２５を有する。回転機構２５は、吐出部２２を含む塗布ユニット２を、回転軸線Ｃ１を中心に時計回り又は反時計回りに回転させる。回転軸線Ｃ１は、吐出部２２の延びる方向に直交するとともに、計測部５の計測範囲Ｅ１の内側に位置する。したがって、吐出部２２を対象物Ｐに対して略垂直以外の状態に調整することが可能になり、吐出部２２を対象物Ｐの形状等に応じた適切な位置及び角度に調整することが可能になる。回転機構２５は、本開示の「回転部」の一例である。

例えば、回転機構２５は、円弧上のスライドレールと、塗布ユニット２をスライドレールに移動可能に取付られる図示しない駆動機構とで構成される。一例として、スライドレールは、保持部２３に固定される。駆動機構は、塗布ユニット２を手動又は電動でスライドレール上を移動させる。電動の場合、駆動機構は、制御部４によって制御される。

例えば、回転軸線Ｃ１は、撮像部５１の光軸Ｌに重なる。したがって、先端２２Ｔは、撮像部５１の光軸Ｌを中心に回転する。つまり、先端２２Ｔは、計測画像Ｇ１の中心を軸に回転する。その結果、より高精度な位置情報が画像処理部５２によって生成される。

再び図１を参照して、実施形態１において、制御部４は、駆動機構を制御して塗布位置と先端２２Ｔとの相対的な位置を変える。つまり、実施形態１において、駆動機構は、対象物Ｐに対して吐出部２２を移動させる第１移動部の一例である。制御部４が位置情報に基づいて算出した塗布位置へ吐出部２２を移動させる制御を行うことで、塗布位置へより精度よく吐出部２２を移動させることができる。例えば、塗布装置１の使用に伴う吐出部２２の消耗及び交換により先端２２Ｔに位置等に変化が生じた場合においても、変化前と同じ塗布位置に吐出部２２を移動させることができる。

具体的には、制御部４は、位置情報の示す先端２２Ｔの位置と、先端２２Ｔの基準位置との差分を算出し、差分に応じて駆動機構のモータの回転数等を変更する。例えば、先端２２Ｔの基準位置を示す情報は、予め主記憶装置に記憶されている。

実施形態１において、撮像部５１及び画像処理部５２は、デジタルカメラであるとしたが、これに限らず、例えば、撮像部５１及び画像処理部５２は、高さ情報、言い換えると奥行情報を含む３次元画像データを生成可能な３Ｄカメラであってもよい。奥行情報は、撮像部５１の光軸Ｌの延びる方向に沿った距離を示す。具体的には、撮像部５１は、複数の撮像素子を有する。複数の撮像素子は、それぞれ、計測範囲Ｅ１を撮像し、計測画像Ｇ１を生成する。画像処理部５２は、複数の計測画像Ｇ１に対して画像処理を実行し、奥行情報を含む３次元画像データを生成する。更に、画像処理部５２は、３次元画像データに基づいて位置情報を生成する。この場合、位置情報には、先端位置情報及び角度情報に加えて先端奥行情報が含まれる。先端奥行情報は、撮像部５１の光軸Ｌの延びる方向に沿った先端２２Ｔの位置を示す情報である。

実施形態１において、計測部５が撮像部５１と画像処理部５２とを有し、撮像及び画像処理によって位置情報が生成されたが、これに限らず、位置情報は、撮像及び画像処理以外の方法によって生成されてもよい。例えば、計測部５は、ファイバセンサ等の検出装置を有し、検出装置の検出結果に基づいて位置情報を生成してもよい。

［実施形態２］
続いて、図４及び図５を参照して、例示的な実施形態２の塗布装置１Ａを説明する。実施形態２は、撮像部５１による計測範囲Ｅ１の撮像方法が実施形態１と異なる。以下、実施形態２について実施形態１と異なる事項を説明し、実施形態１と重複する事項の説明は割愛する。

図４を参照して、例示的な実施形態２の塗布装置１Ａについて説明する。図４は、例示的な実施形態２の塗布装置１Ａを示す図である。

塗布装置１Ａは、塗布装置１と比べて、保持部２３が遮蔽部２３Ａを更に有し、回転機構２５の代わりに回転機構２５Ａが設けられる。遮蔽部２３Ａは、遮蔽物の一例である。

遮蔽部２３Ａは、保持部２３の連結部２４と反対側の端部に設けられる。言い換えると、遮蔽部２３Ａは、撮像部５１と吐出部２２との間に設けられる。つまり、遮蔽部２３Ａは、計測範囲Ｅ１に向かって延び、計測範囲Ｅ１を遮る。

遮蔽部２３Ａは、貫通孔２６を有する。貫通孔２６は、例えば、円形である。言い換えると、貫通孔２６は、遮蔽部２３Ａに設けられる。貫通孔２６は、撮像部５１の光軸Ｌに沿った方向に遮蔽部２３Ａを貫通する。よって、撮像部５１は、貫通孔２６を通して先端２２Ｔを撮像することが可能である。

その結果、実施形態２において撮像部５１が生成する計測画像には、先端２２Ｔと、貫通孔２６を含む遮蔽部２３Ａとが含まれる。画像処理部５２による画像処理の際、貫通孔２６及び遮蔽部２３Ａを画像処理に利用することで、吐出部２２及び先端２２Ｔの検出精度が向上する。

次に、図４及び図５を参照して、回転機構２５Ａについて説明する。図５は、回転機構２５Ａによる塗布ユニット２の回転を示す図である。図５は、撮像部５１の光軸Ｌの延びる方向から塗布ユニット２を見た図である。

例えば、回転機構２５Ａは、貫通孔２６に配置される。回転機構２５Ａは、円筒形状を有する。円筒の側面の表面は、貫通孔２６の外周に接する。回転機構２５Ａは、貫通孔２６に沿って時計回り又は反時計回りに回転可能である。回転機構２５Ａの吐出部２２側の端部には、塗布ユニット２が固定して取り付けられる。したがって、回転機構２５Ａは、回転軸線Ｃ１を中心に時計回り又は反時計回りに塗布ユニット２を回転させる。例えば、回転軸線Ｃ１は、先端２２Ｔに重なる。

［実施形態３］
続いて、図６を参照して、例示的な実施形態３の塗布装置１Ｂを説明する。実施形態３は、撮像部５１の配置が実施形態２と異なる。以下、実施形態３について実施形態２と異なる事項を説明し、実施形態２と重複する事項の説明は割愛する。

図６を参照して、例示的な実施形態３の塗布装置１Ｂについて説明する。図６は、例示的な実施形態３の塗布装置１Ｂを示す図である。

塗布装置１Ｂは、塗布装置１Ａと比べて、撮像部５１がベースユニット３に設けられず、塗布ユニット２に設けられる。具体的には、塗布ユニット２の保持部２３は、支持機構２３Ｂを有する。支持機構２３Ｂは、撮像部５１を支持する。

支持機構２３Ｂは、配置部２３ａと、一対の連結部２３ｂとを有する。配置部２３ａには、撮像部５１が配置される。一対の連結部２３ｂは、配置部２３ａと保持部２３とを連結する。一対の連結部２３ｂの各々は、撮像部５１及び貫通孔２６を介して互いに反対側に配置される。詳細には、一対の連結部２３ｂの一方は、遮蔽部２３Ａと配置部２３ａとを連結する。

撮像部５１が塗布ユニット２に設けられることで、撮像部５１は、塗布ユニット２とともに移動する。したがって、先端２２Ｔは、撮像部５１の計測範囲Ｅ１内に常に位置する。その結果、図４に示すような撮像部５１がベースユニット３に配置される場合と比べて、塗布ユニット２の移動に伴う先端２２Ｔの位置の変化を抑えることができ、より高精度な位置情報を画像処理部５２が生成しやすくなる。

［実施形態４］
続いて、図７を参照して、例示的な実施形態４の塗布装置１Ｃを説明する。実施形態４は、撮像部５１の配置が実施形態２と異なる。以下、実施形態４について実施形態３と異なる事項を説明し、実施形態３と重複する事項の説明は割愛する。

図７を参照して、例示的な実施形態４の塗布装置１Ｃについて説明する。図７は、例示的な実施形態４の塗布装置１Ｃを示す図である。

塗布装置１Ｃは、塗布装置１Ｂと比べて、塗布ユニット２が対象物Ｐに対して鉛直方向及び水平方向に移動不可能である代わりに、配置部３１が鉛直方向及び水平方向に移動不可能である。具体的には、塗布ユニット２は、保持部２３及び連結部２４を有しない。塗布ユニット２は、支持部３３に移動不可能に固定されて支持される。塗布ユニット２が支持部３３に指示された状態において、吐出部２２は、対象物Ｐの上方に位置する。

塗布装置１Ｃにおいて、支持部３３は、遮蔽部３３Ａを有する。遮蔽部３３Ａは、例えば、設置部３２に連結される。遮蔽部３３Ａは、支持部３３に設けられる以外、遮蔽部２３Ａと同じ機能を有する。更に、支持部３３は、遮蔽部２３Ａにおける貫通孔２６の代わりに、貫通孔３６を有する。支持部３３は、貫通孔３６には、回転機構２５Ａの代わりに、回転機構３５Ａが設けられる。貫通孔３６及び回転機構３５Ａの機能は、それぞれ、貫通孔２６及び回転機構２５Ａの機能と同じである。

また、塗布装置１Ｃにおいて、支持機構２３Ｂは、支持部３３に設けられる。塗布装置１Ｃにおいて、一対の連結部２３ｂの一方は、遮蔽部３３Ａと配置部２３ａとを連結する。

塗布装置１Ｃは、配置部３１を移動させる駆動機構３４を更に有する。駆動機構３４は、吐出部２２に対して配置部３１を移動させる。駆動機構３４は、例えば、配置部３１を回転させるターンテーブル、及び配置部３１を設置部３２に対して昇降させる昇降台等である。なお、駆動機構３４は、ターンテーブル及び昇降台以外に、例えば、配置部３１を水平移動させたり、配置部３１の傾斜を変更させてもよい。更に、駆動機構３４は、配置部３１の回転、昇降、水平移動及び傾斜変更を組み合わせて配置部３１を移動させてもよい。駆動機構３４は、第２移動部の一例である。

塗布装置１Ｃにおいて、制御部４は、駆動機構３４を制御して塗布位置と吐出部２２の先端２２Ｔとの相対的な位置を変える。つまり、実施形態４において、制御部４が位置情報に基づいて算出した塗布位置へ、対象物Ｐが位置するように配置部３１を移動させる制御を行うことで、塗布位置へ対象物Ｐより精度よく位置するように対象物Ｐ及び配置部３１を移動させることができる。塗布ユニット２が移動せず、配置部３１が移動することで、例えば、塗布ユニット２の移動に伴う振動を抑えることができる。したがって、塗布ユニット２に収容された塗布剤Ｊへの振動の影響を低減できる。

以上、図面を参照して本開示の実施形態について説明した。ただし、本開示は、上記の実施形態に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々の態様において実施できる。また、上記の実施形態に開示される複数の構成要素は適宜改変可能である。例えば、ある実施形態に示される全構成要素のうちのある構成要素を別の実施形態の構成要素に追加してもよく、または、ある実施形態に示される全構成要素のうちのいくつかの構成要素を実施形態から削除してもよい。

また、図面は、開示の理解を容易にするために、それぞれの構成要素を主体に模式的に示しており、図示された各構成要素の厚さ、長さ、個数、間隔等は、図面作成の都合上から実際とは異なる場合もある。また、上記の実施形態で示す各構成要素の構成は一例であって、特に限定されるものではなく、本開示の効果から実質的に逸脱しない範囲で種々の変更が可能であることは言うまでもない。

なお、本技術は、以下のような構成をとることが可能である。
（１） 対象物に塗布剤を塗布する塗布装置であって、
前記塗布剤が収容された収容部材と、
前記収容部材から供給された前記塗布剤を先端から吐出する吐出部と、
前記吐出部の位置を計測して計測結果を示す位置情報を出力する計測部と、
前記位置情報に基づいて前記塗布剤を塗布するための塗布位置を算出する算出部と
を有し、
前記位置情報は、前記先端の位置を示す先端位置情報を含む、塗布装置。
（２）前記吐出部の延びる方向に直交する回転軸線を中心に前記吐出部を回転させる回転部を更に備え、
前記回転軸線は、前記計測部の計測範囲内に位置する、（１）に記載の塗布装置。
（３）前記計測部は、
前記先端を撮像する撮像部と、
前記撮像部の撮像結果を示す画像に対して画像処理を実行し、前記画像処理に基づき前記位置情報を生成する画像処理部と
を有する、（２）に記載の塗布装置。
（４）前記回転軸線が前記撮像部の光軸に重なる、（３）に記載の塗布装置。
（５）前記撮像部は、前記撮像部と前記吐出部との間の遮蔽物に設けられた貫通孔を通して前記先端を撮像する（３）又は（４）に記載の塗布装置。
（６）前記位置情報は、前記対象物に対する前記吐出部の傾斜角度を示す角度情報を更に含む、（１）～（４）のいずれかに記載の塗布装置。
（７）前記対象物が配置される配置部と、
前記対象物に対して前記吐出部を移動させる第１移動部と、
前記第１移動部を制御し、前記塗布位置と前記先端との相対的な位置を変える制御部と
を更に有する、（１）～（６）のいずれかに記載の塗布装置。
（８）前記対象物が配置される配置部と、
前記吐出部に対して前記配置部を移動させる第２移動部と、
前記第２移動部を制御し、前記塗布位置と前記先端との相対的な位置を変える制御部と
を更に有する、（１）～（６）のいずれかに記載の塗布装置。

本開示は、塗布装置の分野に利用可能である。

１、１Ａ、１Ｂ、１Ｃ ：塗布装置
４ ：制御部
５ ：計測部
２１ ：収容部材
２２ ：吐出部
２２Ｔ ：先端
２３Ａ、３３Ａ ：遮蔽部
２３ａ ：配置部
２５、２５Ａ、３５Ａ ：回転機構
２６、３６ ：貫通孔
３４ ：駆動機構
４１ ：算出部
５１ ：撮像部
５２ ：画像処理部
Ｃ１ ：回転軸線
Ｅ１ ：計測範囲
Ｊ ：塗布剤
ＪＰ２ ：角度情報
Ｌ ：撮像部５１の光軸
Ｐ ：対象物
α ：傾斜角度

Claims (8)

1. 対象物に塗布剤を塗布する塗布装置であって、
   前記塗布剤が収容された収容部材と、
   前記収容部材から供給された前記塗布剤を先端から吐出する吐出部と、
   前記吐出部の位置を計測して計測結果を示す位置情報を出力する計測部と、
   前記位置情報に基づいて前記塗布剤を塗布するための塗布位置を算出する算出部と
   を有し、
   前記位置情報は、前記先端の位置を示す先端位置情報を含む、塗布装置。
2. 前記吐出部の延びる方向に直交する回転軸線を中心に前記吐出部を回転させる回転部を更に備え、
   前記回転軸線は、前記計測部の計測範囲内に位置する、請求項１に記載の塗布装置。
3. 前記計測部は、
   前記先端を撮像する撮像部と、
   前記撮像部の撮像結果を示す画像に対して画像処理を実行し、前記画像処理に基づき前記位置情報を生成する画像処理部と
   を有する、請求項２に記載の塗布装置。
4. 前記回転軸線が前記撮像部の光軸に重なる、請求項３に記載の塗布装置。
5. 前記撮像部は、前記撮像部と前記吐出部との間の遮蔽物に設けられた貫通孔を通して前記先端を撮像する、請求項４に記載の塗布装置。
6. 前記位置情報は、前記対象物に対する前記吐出部の傾斜角度を示す角度情報を更に含む、請求項１に記載の塗布装置。
7. 前記対象物が配置される配置部と、
   前記対象物に対して前記吐出部を移動させる第１移動部と、
   前記第１移動部を制御し、前記塗布位置と前記先端との相対的な位置を変える制御部とを更に有する、請求項１に記載の塗布装置。
8. 前記対象物が配置される配置部と、
   前記吐出部に対して前記配置部を移動させる第２移動部と、
   前記第２移動部を制御し、前記塗布位置と前記先端との相対的な位置を変える制御部と
   を更に有する、請求項１に記載の塗布装置。

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