JP2023529807A - 中心波長を制御するためのシステム及び方法 - Google Patents

中心波長を制御するためのシステム及び方法 Download PDF

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Abstract

本開示は、中心波長を制御するためのシステム及び方法を対象とする。一例では、方法は中心波長誤差を推定することを含む。方法はまた、第１のプリズムの動きを制御する第１のアクチュエータの第１の作動量を推定した中心波長誤差に基づいて決定することを含む。方法はまた、第１のアクチュエータを作動量に基づいて作動させることを含む。方法はまた、第１のプリズムが中心からずれているかどうかを判定することを含む。方法はまた、第１のプリズムが中心からずれていると判定したことに応答して、第１のアクチュエータの第２の作動量を決定し、第２のプリズムの動きを制御するための第２のアクチュエータの第３の作動量を決定することを含む。方法はまた、第１のアクチュエータ及び第２のアクチュエータをそれぞれ第２及び第３の作動量に基づいて作動させることを含む。方法は多焦点結像動作に応用される。【選択図】 図５

Description

関連出願の相互参照
[0001] この出願は、いずれもSYSTEMS AND METHODS FOR CONTROLLING A CENTER WAVELENGTHと題する２０２０年６月９日出願の米国出願第６３／０３６，７００号及び２０２０年９月１６日出願の米国出願第６３／０７９，１９１号の優先権を主張するものであり、いずれも参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
[0002] 本開示は、光を生成するエキシマレーザなどのレーザシステムとその中心波長を制御するためのシステム及び方法とに関する。
[0003] リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板に適用するように構築された機械である。リソグラフィ装置は、例えば集積回路（ＩＣ）の製造に使用可能である。リソグラフィ装置は、例えばパターニングデバイス（例えばマスク）のパターンを、基板上に設けられた放射感応性材料（レジスト）の層に投影することができる。
[0004] 基板にパターンを投影するために、リソグラフィ装置は電磁放射を使用することがある。この放射の波長は、基板上に形成され得るフィーチャの最小サイズを決定する。リソグラフィ装置は、４～２０ｎｍの範囲内、例えば６．７ｎｍ又は１３．５ｎｍの波長を有する極端紫外線（ＥＵＶ）放射、又は約１２０～約４００ｎｍの範囲内、例えば１９３又は２４８ｎｍの波長を有する深紫外線（ＤＵＶ）放射を使用することがある。
[0005] 主発振器パワー増幅器（ＭＯＰＡ）とは、高コヒーレントな増幅光ビームを生成する２ステージ光共振器装置である。ＭＯＰＡの性能は、主発振器（ＭＯ）の位置合わせに大きく依存する可能性がある。ＭＯの位置合わせは、ガス放電チャンバの位置合わせ、入出力光学素子の位置合わせ、及びスペクトル特徴調整器の位置合わせを含む可能性がある。
[0006] しかしながら、ＭＯの位置合わせは時間がかかり、数時間の人手によるメンテナンスを必要とする可能性がある。更に、ＭＯ位置合わせのモニタリング及び調整は、例えばＤＵＶリソグラフィ装置への出力光ビームを抑制又は遮断する可能性がある。
[0007] また、装置が熱過渡及びその他の過渡を経験すると、波長安定性が影響を受ける。単色モードでは、２つのアクチュエータ、すなわちステッパモータ及び圧電変換器（ＰＺＴ）が互いに連動して動作して中心波長を安定させる。動作時、ステッパモータは解像度が限られているため、ＰＺＴが一次アクチュエータとして使用される。一方、２色モードでは、波長安定性は中心波長、すなわち２つの交流スペクトルの平均に基づいており、このモードでは、ＰＺＴは交流波長を発生させる波形の生成を担当する。
[0008] したがって、中心波長を制御する必要がある。
[0009] 一部の実施形態では、本開示は、結像動作のために中心波長を制御するためのシステム及び方法を対象とする。システムは、第１のプリズムの動きを制御するように構成された第１のアクチュエータと、第２のプリズムの動きを制御するように構成された第２のアクチュエータと、中心波長誤差を推定し、推定した中心波長誤差に基づいて第１のアクチュエータの第１の作動量を決定し、第１のアクチュエータを第１の作動量に基づいて作動させ、第１のプリズムが中心からずれているかどうかを判定し、第１のプリズムが中心からずれていると判定したことに応答して、第１のアクチュエータの第２の作動量を決定し、第２のアクチュエータの第３の作動量を決定し、第１及び第２のアクチュエータをそれぞれ第２及び第３の作動量に基づいて作動させるように構成されたコントローラと、を備えることがある。
[0010] 方法は中心波長誤差を推定することを含むことがある。方法はまた、推定した中心波長誤差に基づいて第１のプリズムの動きを制御する第１のアクチュエータの第１の作動量を決定することを含むことがある。方法はまた、第１の作動量に基づいて第１のアクチュエータを作動させることを含むことがある。方法はまた、第１のプリズムが中心からずれているかどうかを判定することを含むことがある。方法はまた、第１のプリズムが中心からずれていると判定したことに応答して、第１のアクチュエータの第２の作動量を決定し、第２のプリズムの動きを制御するための第２のアクチュエータの第３の作動量を決定することを含むことがある。方法はまた、第１のアクチュエータ及び第２のアクチュエータをそれぞれ第２及び第３の作動量に基づいて作動させることを含むことがある。一部の実施形態では、方法は上記システムを使用して実行されることがある。
[0011] 一部の実施形態では、中心波長誤差を推定することは、奇数バーストにおける中心波長の第１の平均値及び偶数バーストにおける中心波長の第２の平均値を計算し、第１及び第２の平均値の平均値を決定することを含むことがあり、中心波長誤差は第１及び第２の平均値の平均値に基づいている。
[0012] 一部の実施形態では、第１の作動量を決定することは、ターゲット中心波長と推定した中心波長との差を決定し、ターゲット中心波長と推定した中心波長との差に基づいて第１の作動量を決定することを含むことがある。
[0013] 一部の実施形態では、ターゲット中心波長と推定した中心波長との差を決定することは、デジタルフィルタを使用して差を決定することを含むことがある。
[0014] 一部の実施形態では、第２のアクチュエータの第３の作動量を決定することは、第２の作動量に基づいて第１のアクチュエータを作動させた後の第１のプリズムの位置に基づいている場合がある。
[0015] 一部の実施形態では、第３の作動量を決定することは、ターゲット中心波長と推定した波長との差を小さくするように第３の作動量を決定することを更に含むことがある。
[0016] 一部の実施形態では、結像動作は多焦点結像動作を含み、方法は、光源を２色モードで動作させることを更に含むことがある。一部の実施形態では、光源を２色モードで動作させることは、第１の波長の第１のレーザ放射ビームを、第１のレーザチャンバモジュールを使用して発生させること、第２の波長の第２のレーザ放射ビームを、第２のレーザチャンバモジュールを使用して発生させること、及び第１及び第２のレーザ放射を共通の出力ビームパスに沿ってビームコンバイナを使用して結合することを含むことがある。一部の実施形態では、中心波長誤差を推定することは、第１のレーザ放射ビームの中心波長誤差を推定することを含むことがある。一部の実施形態では、２色モードにおいて、波長ターゲットが（例えばパルスごとに）バースト内の２つの既知のセットポイント間を行き来することがあり、中心波長を制御する余地をほとんど残さない急速に変化するターゲットを追跡するためにＰＺＴが使用されることがある。
[0017] 一部の実施形態では、本開示は、中心波長を制御するためのシステム及び方法を対象とする。システムは、光ビームを発生させるように構成された光源と、第１のプリズムの動きを制御するように構成された第１のアクチュエータと、第２のプリズムの動きを制御するように構成された第２のアクチュエータと、コントローラとを備えることがある。コントローラは、光源が発生させた光ビームの波長誤差を決定し、波長誤差が第１の閾値より大きいかどうかを判定し、波長誤差が第１の閾値より大きいと判定したことに応答して、第１のアクチュエータを第１のステップサイズで移動させ、波長誤差が第１の閾値より小さいと判定したことに応答して、平均波長誤差を決定し、平均波長誤差が第１の閾値と異なる第２の閾値より大きいかどうかを判定し、平均波長誤差が第２の閾値より大きいと判定したことに応答して、第１のアクチュエータを第２のステップサイズで移動させ、ローパスフィルタを有効にし、平均波長誤差が第２の閾値より小さいと判定したことに応答して、ローパスフィルタを有効にし、第２のアクチュエータに印加される電圧を更新し、第１のアクチュエータを第３のステップサイズで移動させるように構成されることがある。
[0018] 方法は、光源が発生させた光ビームの波長誤差を決定することを含むことがある。方法はまた、波長誤差が第１の閾値より大きいかどうかを判定することを含むことがある。方法はまた、波長誤差が第１の閾値より大きいと判定したことに応答して、第１のプリズムの動きを制御するように構成された第１のアクチュエータを第１のステップサイズで移動させることを含むことがある。波長誤差が第１の閾値より小さいと判定したことに応答して、方法はまた、平均波長誤差を決定すること、平均波長誤差が第１の閾値と異なる第２の閾値より大きいかどうかを判定すること、平均波長誤差が第２の閾値より大きいと判定したことに応答して、第１のアクチュエータを第２のステップサイズで移動させ、ローパスフィルタを有効にすること、及び平均波長誤差が第２の閾値より小さいと判定したことに応答して、ローパスフィルタを有効にし、第２のプリズムの動きを制御するように構成された第２のアクチュエータに印加される電圧を更新し、第１のアクチュエータを第３のステップサイズで移動させることを含むことがある。一部の実施形態では、方法は上記システムを使用して実行されることがある。
[0019] 一部の実施形態では、波長誤差を決定することは、光源が発生させた光ビームの中心波長を測定し、中心波長とターゲット中心波長との差を決定することを含むことがある。
[0020] 一部の実施形態では、方法は、光源のパルスのショット数が更新間隔の倍数であるかどうかを判定し、ショット数が更新間隔に等しいと判定したことに応答して、第２のアクチュエータに印加された電圧を更新することを更に含むことがある。
[0021] 一部の実施形態では、方法は、波長誤差が第１の閾値より大きいと判定したことに応答して、ローパスフィルタ及び第２のアクチュエータの移動を不能にすることを更に含むことがある。
[0022] 一部の実施形態では、第１のステップサイズはアクチュエータの固定ステップサイズである。
[0023] 一部の実施形態では、第２のステップサイズは波長誤差の関数である。
[0024] 一部の実施形態では、第３のステップサイズは第２のアクチュエータに印加された電圧の関数である。
[0025] 一部の実施形態では、第１のアクチュエータを第２のステップサイズで移動させることは、ｎパルス（ｎは１より大きい）ごとに第１のアクチュエータを移動させることを含む。
[0026] 一部の実施形態では、平均波長誤差は、波長誤差とパルス数にわたる複数の波長誤差の平均値とに基づいている。
[0027] 一部の実施形態では、方法は、多焦点結像動作において中心波長を制御することを含み、方法は、光源を２色モードで動作させることを更に含むことがある。一部の実施形態では、光源を２色モードで動作させることは、第１の波長の第１のレーザ放射ビームを、第１のレーザチャンバモジュールを使用して発生させること、第２の波長の第２のレーザ放射ビームを、第２のレーザチャンバモジュールを使用して発生させること、及び第１及び第２のレーザ放射を共通の出力ビームパスに沿ってビームコンバイナを使用して結合することを含むことがある。一部の実施形態では、光源が発生させた光ビームの波長誤差を決定することは、第１のレーザ放射ビームの中心波長誤差を決定することを含む。一部の実施形態では、２色モードにおいて、波長ターゲットが（例えばパルスごとに）バースト内の２つの既知のセットポイント間を行き来することがあり、中心波長を制御する余地をほとんど残さない急速に変化するターゲットを追跡するためにＰＺＴが使用されることがある。
[0028] 一部の実施形態では、本開示は、多焦点結像動作のために中心波長を制御するためのシステム及び方法を対象とする。システムは、プリズムの動きを制御するように構成されたアクチュエータと、ディザ波形をアクチュエータを移動させるためのオフセット値と組み合わせ、ディザ波形及びオフセット値に基づいてパルス間（pulse-to-pulse）波長を発生させ、複数のパルスのパルス間波長に基づいて中心波長のローリング平均値を生成し、将来のパルスの中心波長を予測するためのドリフト速度を推定し、推定したドリフト速度に基づいてオフセット値を更新するように構成されたコントローラとを備えることがある。
[0029] 方法は、ディザ波形をプリズムの動きを制御するアクチュエータを移動させるためのオフセット値と組み合わせることを含むことがある。方法はまた、ディザ波形及びオフセット値に基づいてパルス間波長を発生させることを含むことがある。方法はまた、複数のパルスのパルス間波長に基づいて中心波長のローリング平均値を生成することを含むことがある。方法はまた、将来のパルスの中心波長を予測するためのドリフト速度を推定することを含むことがある。方法はまた、推定したドリフト速度に基づいてオフセット値を更新することを含むことがある。一部の実施形態では、方法は上記システムを使用して実行されることがある。
[0030] 一部の実施形態では、オフセット値は直流（ＤＣ）電圧に基づいている。
[0031] 一部の実施形態では、ＤＣ電圧の初期値はゼロボルトである。
[0032] 一部の実施形態では、オフセット値は第１のオフセット値を含み、ドリフト速度を推定することは、中心波長のローリング平均値、第１のオフセット値、及び第２のプリズムの動きを制御する第２のアクチュエータを移動させる第２のオフセット値に基づいてドリフト速度を推定することを含むことがある。
[0033] 一部の実施形態では、ドリフト速度を推定することは、カルマンフィルタフレームワークを使用して蓄積中心波長ドリフト速度を推定することを含むことがある。
[0034] 一部の実施形態では、ドリフト速度を推定することは、現在のパルスよりＮパルス先の中心波長を予測することを含むことがある。
[0035] 一部の実施形態では、ドリフト速度を推定することは、カルマンフィルタフレームワークを、現在のパルスよりＮパルス先の中心波長を予測するためにカルマン予測器に変換することを含むことがある。
[0036] 一部の実施形態では、複数のパルスのパルス間波長は現在のパルスの波長を含む。
[0037] 一部の実施形態では、オフセット値を更新することは、バーストの終わりにおける中心波長のローリング平均値に基づいてオフセット値を更新することを含むことがある。
[0038] 一部の実施形態では、多焦点結像動作は２色モードを含み、方法は、光源を２色モードで動作させることを更に含むことがある。一部の実施形態では、光源を２色モードで動作させることは、第１の波長の第１のレーザ放射ビームを、第１のレーザチャンバモジュールを使用して発生させること、第２の波長の第２のレーザ放射ビームを、第２のレーザチャンバモジュールを使用して発生させること、及び第１及び第２のレーザ放射を共通の出力ビームパスに沿ってビームコンバイナを使用して結合することを含むことがある。
[0039] 実施形態の更なる特徴及び例示的な態様、並びに様々な実施形態の構造及び動作が、添付図面を参照して以下に詳細に説明される。実施形態が本明細書に記載の特定の実施形態に限定されないことに留意されたい。かかる実施形態は、例示のみを目的として本明細書に示されている。追加の実施形態が本明細書に含まれる教示に基づいて当業者に明らかになる。
[0040] 本明細書に組み込まれ、その一部を形成する添付図面は実施形態を図示し、説明とともに、更に実施形態の原理を説明し、当業者が実施形態を実施及び使用できるようにする働きをする。
[0041] 例示的な実施形態に係るリソグラフィ装置の概略図である。 [0042] 例示的な実施形態に係る光源装置の概略上面図である。 [0043] 例示的な実施形態に係る、図２に示す光源装置のガス放電ステージの概略部分断面図である。 [0044] 例示的な実施形態に係る、図２に示す光源装置のガス放電ステージの概略部分断面図である。 [0045] ある実施形態に係る、多焦点結像のために中心波長を調整する方法を示す。 [0046] 一部の実施形態に係る、多焦点結像のために中心波長を調整する方法を示す。 [0046] 一部の実施形態に係る、多焦点結像のために中心波長を調整する方法を示す。 [0046] 一部の実施形態に係る、多焦点結像のために中心波長を調整する方法を示す。 [0046] 一部の実施形態に係る、多焦点結像のために中心波長を調整する方法を示す。 [0047] 例示的な実施形態に係る、ガス放電ステージを位置合わせするためのフローチャートを示す。 [0048] この開示の様々な実施形態を実現するのに有用な例示的なコンピュータシステムである。
[0049] 実施形態の特徴及び例示的な態様は、同様の参照符号が全体を通して対応する要素を識別する図面を参照しながら以下の詳細な説明を読むことで更に明白になるであろう。図面では、一般に、同様の参照番号が同一の、機能が類似した、及び／又は構造が類似する要素を示す。更に、一般に、参照番号の左端の桁は、参照番号が最初に表示される図面を識別する。他に示されない限り、本開示を通じて提供される図面は縮尺通りの図面として解釈されるべきではない。
[0050] 本明細書は、本発明の特徴を組み込んだ１つ以上の実施形態を開示する。開示される１つ又は複数の実施形態は本発明を例示するにすぎない。本発明の範囲は開示される１つ又は複数の実施形態に限定されない。本発明は、本明細書に添付される特許請求の範囲によって定義される。
[0051] 記載された実施形態、及び本明細書で「一実施形態」、「ある実施形態」、「例示的実施形態」などに言及した場合、それは記載された実施形態が特定の特徴、構造、又は特性を含むことができるが、それぞれの実施形態が必ずしも特定の特徴、構造、又は特性を含まないことがあることを示す。更に、このようなフレーズは、必ずしも同じ実施形態に言及するものではない。更に、ある実施形態に関連して特定の特徴、構造、又は特性について記載している場合、明示的に記載されているか、記載されていないかにかかわらず、このような特徴、構造、又は特性を他の実施形態との関連で実行することが当業者の知識の範囲内にあることが理解される。
[0052] 「下（beneath）」、「下（below）」、「下（lower）」、「上（above）」、「上（on）」、「上（upper）」などのような空間的に相対的な用語は、図に示すように、ある要素又は機能と別の１つ又は複数の要素又は１つ又は複数の機能との関係を説明するのを容易にするために、本明細書で使用され得る。空間的に相対的な用語は、図に示されている方向に加えて、使用中又は動作中のデバイスの様々な方向を包含することを意図している。装置は、他の方法で方向付けられてもよく（９０度又は他の方向に回転されてもよい）、本明細書で使用される空間的に相対的な記述語は、同様にそれに応じて解釈され得る。
[0053] 本明細書で使用される「約」又は「実質的に（substantially）」又は「おおよそ（approximately）」という語は、特定の技術に基づいて変化し得る所与の量の値を示す。特定の技術に基づいて、「約」又は「実質的に」又は「おおよそ」という語は、例えばその値の１～１５％（例えば、その値の±１％、±２％、±５％、±１０％又は±１５％）の範囲内で変化する所与の量の値を示す可能性がある。
[0054] 本開示の実施形態は、ハードウェア、ファームウェア、ソフトウェア、又はそれらのいずれかの組み合わせにおいて実施可能である。また、本開示の実施形態は、１つ以上のプロセッサによって読み取り及び実行され得るタンジブルな機械読み取り可能媒体上に記憶された命令としても実施することができる。機械読み取り可能媒体は、機械（例えばコンピューティングデバイス）によって読み取り可能な形態の情報を記憶又は送信するためのいずれかの機構を含み得る。例えば、機械読み取り可能媒体は、読み取り専用メモリ（ＲＯＭ）、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）、磁気ディスク記憶媒体、光記憶媒体、フラッシュメモリデバイス、電気、光、音、又は他の形態の伝搬信号（例えば搬送波、赤外線信号、デジタル信号等）、及び他のものを含むことができる。更に、ファームウェア、ソフトウェア、ルーチン、及び／又は命令は、本明細書では、特定の動作を実行するものとして説明され得る。しかしながら、そのような説明は単に便宜上のものであり、そのような動作ンは、実際には、コンピューティングデバイス、プロセッサ、コントローラ、又はファームウェア、ソフトウェア、ルーチン、及び／又は命令を実行する他のデバイスから生じることを理解されたい。
[0055] このような実施形態を詳述する前に、本発明の実施形態を実施することができる例示の環境を提示することが有用であろう。
[0056] 例示的なリソグラフィシステム
[0057] 図１は、放射源ＳＯ及びリソグラフィ装置ＬＡを備えたリソグラフィシステムを示している。放射源ＳＯは、ＥＵＶ及び／又はＤＵＶ放射ビームＢを生成し、このＥＵＶ及び／又はＤＵＶ放射ビームＢをリソグラフィ装置ＬＡに供給するように構成されている。リソグラフィ装置ＬＡは、照明システムＩＬと、パターニングデバイスＭＡ（例えばマスク）を支持するように構成された支持構造ＭＴと、投影システムＰＳと、基板Ｗを支持するように構成された基板テーブルＷＴとを備える。
[0058] 照明システムＩＬは、ＥＵＶ及び／又はＤＵＶ放射ビームＢがパターニングデバイスＭＡに入射する前にＥＵＶ及び／又はＤＵＶ放射ビームＢを調節するように構成されている。そのため、照明システムＩＬは、ファセットフィールドミラーデバイス１０及びファセット瞳ミラーデバイス１１を備えることがある。ファセットフィールドミラーデバイス１０及びファセット瞳ミラーデバイス１１は共に、ＥＵＶ及び／又はＤＵＶ放射ビームＢに所望の断面形状と所望の強度分布とを与える。照明システムＩＬは、ファセットフィールドミラーデバイス１０及びファセット瞳ミラーデバイス１１に加えて又はこれらの代わりに、他のミラー又はデバイスを備えることがある。
[0059] このように調節された後、ＥＵＶ及び／又はＤＵＶ放射ビームＢはパターニングデバイスＭＡと相互作用する（例えば、ＤＵＶ用の透過型マスク、又はＥＵＶ用の反射型マスク）。この相互作用の結果、パターン付きＥＵＶ及び／又はＤＵＶ放射ビームＢ’が生成される。投影システムＰＳは、パターン付きＥＵＶ及び／又はＤＵＶ放射ビームＢ’を基板Ｗに投影するように構成されている。この目的のため、投影システムＰＳは、基板テーブルＷＴにより保持された基板Ｗにパターン付きＥＵＶ及び／又はＤＵＶ放射ビームＢ’を投影するように構成されている複数のミラー１３、１４を備えることがある。投影システムＰＳは、パターン付きＥＵＶ及び／又はＤＵＶ放射ビームＢ’に縮小係数を適用し、これによってパターニングデバイスＭＡにおける対応するフィーチャよりも小さいフィーチャの像を形成することがある。例えば、４又は８の縮小係数が適用されることがある。投影システムＰＳは、図１では２つのミラー１３、１４のみを有するものとして示されているが、投影システムＰＳは様々な数のミラー（例えば６個又は８個のミラー）を備えることがある。
[0060] 基板Ｗは、前もって形成されたパターンを含むことがある。このような場合、リソグラフィ装置ＬＡは、パターン付きＥＵＶ及び／又はＤＵＶ放射ビームＢ’により形成された像を、基板Ｗ上に前もって形成されたパターンと位置合わせする。
[0061] 相対真空、すなわち大気圧を大きく下回る圧力の少量のガス（例えば水素）が、放射源ＳＯ、照明システムＩＬ、及び／又は投影システムＰＳ内に供給されることがある。
[0062] 例示的な光源装置
[0063] 以上で考察したように、主発振器パワー増幅器（ＭＯＰＡ）は２ステージ光共振器装置である。主発振器（ＭＯ）（例えば第１の光共振器ステージ）は、（例えばシードレーザから）高コヒーレントな光ビームを生成する。パワー増幅器（ＰＡ）（例えば第２の光共振器ステージ）は、ビーム特性を維持しながら光ビームの光パワーを増大させる。ＭＯは、ガス放電チャンバ、入出力光学素子（例えば光カプラ（ＯＣ））、及びスペクトル特徴調整器（例えば線幅狭化モジュール（ＬＮＭ））を備える可能性がある。入出力光学素子及びスペクトル特徴調整器は、ガス放電チャンバを取り囲んで光共振器を形成することができる。
[0064] ＭＯＰＡの性能は、ＭＯの位置合わせに大きく依存する。ＭＯの位置合わせは、ガス放電チャンバの位置合わせ、ＯＣの位置合わせ、及びＬＮＭの位置合わせを含む可能性がある。位置合わせ（例えば、チャンバ、ＯＣ、ＬＮＭなど）のそれぞれは、ＭＯにおける経時的なアライメント誤差及び変動に寄与する可能性がある。しかしながら、ＭＯの位置合わせは時間がかかり、数時間の人手によるメンテナンス（例えば同期のとれた性能メンテナンス（ＳＰＭ））を必要とする可能性がある。また、チャンバ、ＯＣ、及びＬＮＭの位置が大幅にずれている（例えば、初期基準点がない）場合、最初の位置合わせが困難である（例えば試行錯誤による）可能性がある。更に、ＭＯ位置合わせのモニタリング及び調整は、例えばＤＵＶリソグラフィ装置への出力光ビーム（例えばＤＵＶ光ビーム）を抑制する（例えば遮断する）可能性がある。
[0065] 結像光（例えば可視レーザビーム）が、チャンバ、ＯＣ、及びＬＮＭに（例えば、順次又は同時に）投影されて照明し、チャンバの光軸（例えば第１及び第２の光ポート）に沿ったＯＣ及び／又はＬＮＭの位置合わせを指示することがある。ガス放電チャンバからの自然放射増幅光（ＡＳＥ）は、ＭＯキャビティの光軸に沿った（例えば、チャンバ、ＯＣ、及びＬＮＭの光軸に沿った）結像光の照準調整（例えばレーザ照準調整）を促進するためのビーコン（例えば基準点）の役割を果たすことができる。また、ＡＳＥは、チャンバをＭＯキャビティの光軸と最初に位置合わせ（例えば粗位置合わせ）するのに使用される可能性がある。更に、センシング装置（例えばカメラ）が、ＭＯ（例えば、チャンバポート、ＯＣ開口、ＬＮＭ開口など）内の様々な対物面を視覚的に調べ、アライメント誤差（例えば画像比較）を定量化するのに使用される可能性がある。例えば、センシング装置は、様々な対物面上の結像光の近接場（ＮＦ）及び遠方場（ＦＦ）領域を調べ、例えばビームプロファイリング（例えば、水平対称性、垂直対称性など）によって調整（例えば微細位置合わせ）を適用することができる。
[0066] 以下で考察される光源装置及びシステムは、主発振器のアライメント時間（例えばＳＰＭ）を短縮し、経時的な主発振器のアライメント変動を抑え、主発振器の定量化可能なアライメント誤差をモニタし動的に制御して、例えばＤＵＶリソグラフィ装置に高コヒーレントな光ビームを提供することができる。
[0067] 図２から図４は、様々な例示的な実施形態に係る光源装置２００を示している。図２は、例示的な実施形態に係る光源装置２００の概略上面図である。図３及び４は、例示的な実施形態に係る、図２に示す光源装置２００のガス放電ステージ２２０の概略部分断面図である。
[0068] 図２は様々な例示的な実施形態に係る光源装置２００を示している。光源装置２００は、ガス放電ステージ２２０（例えばＭＯ）の定量化可能なアライメント誤差をモニタし動的に制御し、例えばＤＵＶリソグラフィ装置（例えばＬＡ）に高コヒーレントで位置合わせされた光ビーム（例えば、光ビーム２０２、増幅光ビーム２０４）を提供するように構成されている可能性がある。光源装置２００は、ガス放電ステージ２２０（例えばＭＯ）のアライメント時間を短縮し、経時的なガス放電ステージ２２０（例えばＭＯ）のアライメント変動を抑えるように更に構成されている可能性がある。光源装置２００はスタンドアロンの装置及び／又はシステムとして図２に示されているが、この開示の実施形態は、例えば放射源ＳＯ、リソグラフィ装置ＬＡ、及び／又は他の光学システムであるがこれに限らない他の光学システムと共に使用される可能性がある。一部の実施形態では、光源装置２００はリソグラフィ装置ＬＡの放射源ＳＯである可能性がある。例えばＤＵＶ放射ビームＢは、光ビーム２０２及び／又は増幅光ビーム２０４である可能性がある。
[0069] 光源装置２００は、ガス放電ステージ２２０（例えばＭＯ）及びパワーリング増幅器（ＰＲＡ）ステージ２８０（例えばＰＡ）によって形成されたＭＯＰＡである可能性がある。光源装置２００は、ガス放電ステージ２２０、ライン解析モジュール（ＬＡＭ）２３０、主発振器波面エンジニアリングボックス（ＭｏＷＥＢ）２４０、パワーリング増幅器（ＰＲＡ）ステージ２８０、コントローラ２９０を備える可能性がある。一部の実施形態では、上記コンポーネントの全ては３次元（３Ｄ）フレーム２１０内に収容される可能性がある。一部の実施形態では、３Ｄフレーム２１０は、金属（例えば、アルミニウム、鋼など）、セラミック、及び／又は任意の他の適切な剛体材料を含む可能性がある。
[0070] ガス放電ステージ２２０は、高コヒーレントな光ビーム（例えば光ビーム２０２）を出力するように構成されている可能性がある。ガス放電ステージ２２０は、第１の光共振器素子２５４、第２の光共振器素子２２４、入出力光学素子２５０（例えばＯＣ）、光増幅器２６０、及びスペクトル特徴調整器２７０（例えばＬＮＭ）を備える可能性がある。一部の実施形態では、入出力光学素子２５０は第１の光共振器素子２５４を備える可能性があり、スペクトル特徴調整器２７０は第２の光共振器素子２２４を備える可能性がある。入出力光学素子２５０（例えば第１の光共振器素子２５４を介して）及びスペクトル特徴調整器２７０（例えば第２の光共振器素子２２４を介して）によって第１の光共振器２２８が定義される可能性がある。第１の光共振器２２８を形成するために、第１の光共振器素子２５４は部分的に反射性である（例えば部分ミラー）可能性があり、第２の光共振器素子２２４は反射性である（例えば、ミラー又は格子）可能性がある。第１の光共振器２２８は、光増幅器２６０が発生させた光（例えば自然放射増幅光（ＡＳＥ）２０１）を一定数のパスのために光増幅器２６０内に向けて光ビーム２０２を形成することができる。一部の実施形態では、図２に示すように、ガス放電ステージ２２０は、光ビーム２０２をＭＯＰＡ装置の一部であるＰＲＡステージ２８０に出力することができる。
[0071] ＰＲＡステージ２８０は、ガス放電ステージ２２０からの光ビーム２０２をマルチパス構成で増幅し、増幅光ビーム２０４を出力するように構成されている可能性がある。ＰＲＡステージ２８０は、第３の光共振器素子２８２、パワーリング増幅器（ＰＲＡ）２８６、及び第４の光共振器素子２８４を備える可能性がある。第３の光共振器素子２８２及び第４の光共振器素子２８４によって第２の光共振器２８８が定義される可能性がある。第２の光共振器２８８を形成するために、第３の光共振器素子２８２は部分的に反射性である（例えば部分ビームスプリッタ）可能性があり、第４の光共振器素子２８４は反射性である（例えば、ミラー又はプリズム又はビーム反転器）可能性がある。第２の光共振器２８８は、ガス放電ステージ２２０からの光ビーム２０２を一定数のパスのためにＰＲＡ２８６内に向けて増幅光ビーム２０４を形成することができる。一部の実施形態では、ＰＲＡステージ２８０は、増幅光ビーム２０４をリソグラフィ装置、例えばリソグラフィ装置（ＬＡ）に出力することができる。例えば増幅光ビーム２０４は、リソグラフィ装置ＬＡの放射源ＳＯからのＥＵＶ及び／又はＤＵＶ放射ビームＢである可能性がある。
[0072] 図２から図４に示すように、光増幅器２６０は、入出力光学素子２５０及びスペクトル特徴調整器２７０に光学的に結合されている可能性がある。光増幅器２６０は、ＡＳＥ２０１及び／又は光ビーム２０２を出力するように構成されている可能性がある。一部の実施形態では、光増幅器２６０は、チャンバ２６１の光軸及び／又はガス放電ステージ２２０（例えばＭＯキャビティ）の光軸の照準調整を導くためのビーコンとしてＡＳＥ２０１を利用することができる。光増幅器２６０は、チャンバ２６１、ガス放電媒体２６３、及びチャンバ調整器２６５を備える可能性がある。ガス放電媒体２６３はチャンバ２６１内に配置される可能性があり、チャンバ２６１はチャンバ調整器２６５上に配置される可能性がある。
[0073] チャンバ２６１は、ガス放電媒体２６３を第１及び第２のチャンバ光ポート２６２ａ、２６２ｂ内に保持するように構成されている可能性がある。チャンバ２６１は、第１のチャンバ光ポート２６２ａと、第１のチャンバ光ポート２６２ａと反対側の第２のチャンバ光ポート２６２ｂとを備える可能性がある。一部の実施形態では、第１及び第２のチャンバ光ポート２６２ａ、２６２ｂはチャンバ２６１の光軸を形成することができる。
[0074] 図３に示すように、第１のチャンバ光ポート２６２ａは、入出力光学素子２５０と光学的に連通している可能性がある。第１のチャンバ光ポート２６２ａは、第１のチャンバ壁２６１ａ、第１のチャンバ窓２６６ａ、及び第１のチャンバ開口２６４ａを備える可能性がある。一部の実施形態では、図３に示すように、第１のチャンバ開口２６４ａは矩形開口である可能性がある。
[0075] 図４に示すように、第２のチャンバ光ポート２６２ｂは、スペクトル特徴調整器２７０と光学的に連通している可能性がある。第２のチャンバ光ポート２６２ｂは、第２のチャンバ壁２６１ｂ、第２のチャンバ窓２６６ｂ、及び第２のチャンバ開口２６４ｂを備える可能性がある。一部の実施形態では、図４に示すように、第２のチャンバ開口２６４ｂは矩形開口である可能性がある。一部の実施形態では、チャンバ２６１の光軸は、第１及び第２のチャンバ開口２６４ａ、２６４ｂを通過する。
[0076] ガス放電媒体２６３は、ＡＳＥ２０１（例えば１９３ｎｍ）及び／又は光ビーム２０２（例えば１９３ｎｍ）を出力するように構成されている可能性がある。一部の実施形態では、ガス放電媒体２６３は、エキシマレーザ発振用のガス（例えば、Ａｒ２、Ｋｒ２、Ｆ２、Ｘｅ２、ＡｒＦ、ＫｒＣｌ、ＫｒＦ、ＸｅＢｒ、ＸｅＣｌ、ＸｅＦなど）を含む可能性がある。例えば、ガス放電媒体２６３はＡｒＦ又はＫｒＦを含む可能性があり、チャンバ２６１内の周囲電極（図示せず）からの励起（例えば印加電圧）によって、ＡＳＥ２０１（例えば１９３ｎｍ）及び／又は光ビーム２０２（例えば１９３ｎｍ）を第１及び第２のチャンバ光ポート２６２ａ、２６２ｂから出力することができる。一部の実施形態では、ガス放電ステージ２２０は、高電圧電気パルスをチャンバ２６１内の電極（図示せず）間に印加するように構成された電圧電源（図示せず）を備える可能性がある。
[0077] チャンバ調整器２６５は、チャンバ２６１の光軸を（例えば第１及び第２のチャンバ光ポート２６２ａ、２６２ｂに沿って）空間的に（例えば、横方向に、角度的に）調整するように構成されている可能性がある。図２に示すように、チャンバ調整器２６５は、チャンバ２６１並びに第１及び第２のチャンバ光ポート２６２ａ、２６２ｂに結合されている可能性がある。一部の実施形態では、チャンバ調整器２６５は６つの自由度（例えば６軸）を有する可能性がある。例えばチャンバ調整器２６５は、チャンバ２６１の光軸の６つの自由度（例えば、前／後、上／下、左／右、ヨー、ピッチ、ロール）の調整を行う１つ以上のリニアモータ及び／又はアクチュエータを備える可能性がある。一部の実施形態では、チャンバ調整器２６５は、チャンバ２６１を横方向に及び角度的に調整して、（例えば第１及び第２のチャンバ光ポート２６２ａ、２６２ｂに沿った）チャンバ２６１の光軸をガス放電ステージ２２０（例えばＭＯキャビティ）の光軸と位置合わせすることができる。例えば図２に示すように、ガス放電ステージ２２０（例えばＭＯキャビティ）の光軸は、（例えば第１及び第２のチャンバ光ポート２６２ａ、２６２ｂに沿った）チャンバ２６１、入出力光学素子２５０（例えばＯＣ開口２５２）、及びスペクトル特徴調整器２７０（例えばＬＮＭ開口２７２）の光軸によって規定される可能性がある。
[0078] 入出力光学素子２５０は、第１のチャンバ光ポート２６２ａと光学的に連通するように構成されている可能性がある。一部の実施形態では、入出力光学素子２５０は、光ビームを部分的に反射し、第１の光共振器２２８を形成するように構成された光カプラ（ＯＣ）である可能性がある。例えばＯＣは、その全体が参照により本明細書に組み込まれる、２０１１年２月８日発行の米国特許第７，８８５，３０９号に以前に説明されている。図２に示すように、入出力光学素子２５０は、光を光増幅器２６０内に向け（例えば反射し）、光増幅器２６０からの光（例えば、光ビーム２０２、ＡＳＥ２０１）をガス放電ステージ２２０（例えばＭＯキャビティ）から外に透過させるための第１の光共振器素子２５４を備える可能性がある。
[0079] 図３に示すように、入出力光学素子２５０は、ＯＣ開口２５２及び第１の光共振器素子２５４を備える可能性がある。第１の光共振器素子２５４は、ＯＣ開口２５２を通過する光をチャンバ２６１（例えば第１のチャンバ光ポート２６２ａ）に対して垂直及び／又は水平方向に角度的に調整する（例えば、倒す及び／又は傾ける）ように構成されている可能性がある。一部の実施形態では、ＯＣ開口２５２は矩形開口である可能性がある。一部の実施形態では、ガス放電ステージ２２０の位置合わせは、第１のチャンバ開口２６４ａ及びＯＣ開口２５２の位置合わせに基づいている可能性がある。一部の実施形態では、第１の光共振器素子２５４は、入出力光学素子２５０からの反射がガス放電ステージ２２０（例えばＭＯキャビティ）の光軸に平行になるように、入出力光学素子２５０を角度的に調整する（例えば、倒す及び／又は傾ける）ことができる。一部の実施形態では、第１の光共振器素子２５４は、角度調整する（例えば、倒す及び／又は傾ける）ことができる調整可能ミラー（例えば、部分反射鏡、ビームスプリッタなど）である可能性がある。一部の実施形態では、ＯＣ開口２５２は固定されている可能性があり、第１の光共振器素子２５４は調整される可能性がある。一部の実施形態では、ＯＣ開口２５２は調整される可能性がある。例えばＯＣ開口２５２は、チャンバ２６１に対して垂直方向及び／又は水平方向に空間的に調整される可能性がある。
[0080] スペクトル特徴調整器２７０（例えばＬＮＭ）は、第２のチャンバ光ポート２６２ｂと光学的に連通するように構成されている可能性がある。一部の実施形態では、スペクトル特徴調整器２７０は、光ビームに対してスペクトルライン狭隘化を行うように構成されたライン狭隘化モジュール（ＬＮＭ）である可能性がある。例えばＬＮＭは、その全体が参照により本明細書に組み込まれる、２０１２年２月２８日発行の米国特許第８，１２６，０２７号に以前に説明されている。
[0081] 図２に示すように、スペクトル特徴調整器２７０は、光増幅器２６０からの光（例えば、光ビーム２０２、ＡＳＥ２０１）を入出力光学素子２５０方向に再び光増幅器２６０内に向ける（例えば反射する）ための第２の光共振器素子２２４を備える可能性がある。
[0082] 図４に示すように、スペクトル特徴調整器２７０は、ＬＮＭ開口２７２及び傾斜角度変調器（ＴＡＭ）２７４を備える可能性がある。ＴＡＭ２７４は、ＬＮＭ開口２７２を通過する光をチャンバ２６１（例えば第２のチャンバ光ポート２６２ｂ）に対して垂直及び／又は水平方向に角度的に調整するように構成されている可能性がある。一部の実施形態では、ＬＮＭ開口２７２は矩形開口である可能性がある。一部の実施形態では、ガス放電ステージ２２０の位置合わせは、第２のチャンバ開口２６４ｂ及びＬＮＭ開口２７２の位置合わせに基づく可能性がある。一部の実施形態では、ＴＡＭ２７４は、スペクトル特徴調整器２７０からの反射がガス放電ステージ２２０（例えばＭＯキャビティ）の光軸に平行になるように、スペクトル特徴調整器２７０を角度的に調整する（例えば、倒す及び／又は傾ける）ことができる。一部の実施形態では、ＴＡＭ２７４は、角度調整する（例えば、倒す及び／又は傾ける）ことができる調整可能ミラー（例えば、部分反射鏡、ビームスプリッタなど）及び／又は調整可能プリズムを備える可能性がある。一部の実施形態では、ＬＮＭ開口２７２は固定されている可能性があり、ＴＡＭ２７４は調整される可能性がある。一部の実施形態では、ＬＮＭ開口２７２は調整される可能性がある。例えばＬＮＭ開口２７２は、チャンバ２６１に対して垂直方向及び／又は水平方向に空間的に調整される可能性がある。
[0083] 一部の実施形態では、ＴＡＭ２７４の調整可能ミラー（例えば、部分反射鏡、ビームスプリッタなど）及び／又は調整可能プリズムは、複数のプリズム２７６ａ～ｄを含む可能性がある。プリズム２７６ａ～ｄは、第２の光共振器素子２２４への入光の入射角を操作するように作動される可能性があり、光路に沿って反射して戻る狭帯域波長を選択するのに役立つ可能性がある。一部の実施形態では、プリズム２７６ａは、ステップ解像度が限られたステッパモータが取り付けられる可能性があり、粗い波長制御に使用される可能性がある。プリズム２７６ａと比較して改善された解像度及び帯域幅を提供するプリズム２７６ｂは、圧電変換器（ＰＺＴ）アクチュエータを使用して作動されることがある。動作時、コントローラ２９０はデュアルステージ構成のプリズム２７６ａ、２７６ｂを使用する可能性がある。
[0084] ＬＡＭ２３０は、光ビーム（例えば、光ビーム２０２、結像光２０６）のライン中心（例えば中心波長）をモニタするように構成されている可能性がある。ＬＡＭ２３０は、メトロロジ波長測定のために光ビーム（例えば、ＡＳＥ２０１、光ビーム２０２、結像光２０６）のエネルギーをモニタするように更に構成されている可能性がある。例えばＬＡＭは、その全体が参照により本明細書に組み込まれる、２０１１年２月８日発行の米国特許第７，８８５，３０９号に以前に説明されている。
[0085] 図２に示すように、ＬＡＭ２３０は、ガス放電ステージ２２０及び／又はＭｏＷＥＢ２４０に光学的に結合されている可能性がある。一部の実施形態では、ＬＡＭ２３０はガス放電ステージ２２０とＭｏＷＥＢ２４０との間に配置されている可能性がある。例えば図２に示すように、ＬＡＭ２３０は、ＭｏＷＥＢ２４０に直接光学的に結合され、ガス放電ステージ２２０に光学的に結合されている可能性がある。一部の実施形態では、図２に示すように、ビームスプリッタ２１２はＡＳＥ２０１及び／又は光ビーム２０２をＰＲＡステージ２８０に向け、ＡＳＥ２０１及び／又は光ビーム２０２を結像装置に向けるように構成される可能性がある。一部の実施形態では、図２に示すように、ビームスプリッタ２１２はＭｏＷＥＢ２４０内に配置される可能性がある。
[0086] ＭｏＷＥＢ２４０は、光ビーム（例えば、光ビーム２０２、結像光２０６）にビーム整形を行うように構成される可能性がある。ＭｏＷＥＢ２４０は、光ビーム（例えば、ＡＳＥ２０１、光ビーム２０２、結像光２０６）の前方及び／又は後方伝搬をモニタするように更に構成される可能性がある。例えばＭｏＷＥＢは、その全体が参照により本明細書に組み込まれる、２０１１年２月８日発行の米国特許第７，８８５，３０９号に既に説明されている。図２に示すように、ＭｏＷＥＢ２４０はＬＡＭ２３０に光学的に結合されている可能性がある。一部の実施形態では、ＬＡＭ２３０、ＭｏＷＥＢ２４０、及び／又は結像装置は、単一の光学構成を介してガス放電ステージ２２０に光学的に結合されている可能性がある。
[0087] コントローラ２９０は、入出力光学素子２５０、チャンバ調整器２６５、及び／又はスペクトル特徴調整器２７０と通信するように構成される可能性がある。一部の実施形態では、コントローラ２９０は、第１の信号２９２を入出力光学素子２５０に、第２の信号２９４をスペクトル特徴調整器２７０に、そして第３の信号２９６をチャンバ調整器２６５に提供するように構成される可能性がある。一部の実施形態では、コントローラ２９０は、信号（例えば、第１の信号２９２及び／又は第２の信号２９４）を入出力光学素子２５０及び／又はスペクトル特徴調整器２７０に提供し、結像装置４００からの出力（例えば２次元（２Ｄ）画像比較）に基づいて入出力光学素子２５０を調整する（例えば、第１の光共振器素子２５４を調整する）及び／又はスペクトル特徴調整器２７０を調整する（例えばＴＡＭ２７４を調整する）ように構成される可能性がある。
[0088] 一部の実施形態では、第１の光共振器素子２５４、チャンバ調整器２６５、及び／又はＴＡＭ２７４は、コントローラ２９０（例えば、第１の信号２９２、第２の信号２９４、及び／又は第３の信号２９６）と物理的及び／又は電子的に連通している可能性がある。例えば、第１の光共振器素子２５４、チャンバ調整器２６５、及び／又はＴＡＭ２７４は、コントローラ２９０によって（例えば、横方向に及び／又は角度的に）調整されて、（例えば第１及び第２のチャンバ光ポート２６２ａ、２６２ｂに沿った）チャンバ２６１の光軸を入出力光学素子２５０（例えばＯＣ開口２５２）及びスペクトル特徴調整器２７０（例えばＬＮＭ開口２７２）によって定められたガス放電ステージ２２０（例えばＭＯキャビティ）の光軸と位置合わせすることができる。
[0089] 通常の動作中に、光学部品が熱過渡を経験するとき、及びレーザデューティサイクルが変化するとき、レーザ波長が外乱やドリフトにさらされることがある。一次波長アクチュエータはＬＮＭである。以上で考察したように、ＬＮＭは複数のプリズム２７６ａ～ｄ及び第２の光共振器素子２２４（例えば格子）を備えることがある。複数のプリズム２７６ａ～ｄは、第２の光共振器素子２２４への入光の入射角を操作するように作動されることがあり、光路に沿って反射して戻る狭帯域波長を選択するのに役立つ。一部の実施形態では、入射角の大きさが選択された波長を制御することがある。
[0090] 一部の実施形態では、入射角の大きさ、ひいては選択された波長を制御するために、複数のプリズム２７６ａ～ｄは最終入射角を調整するのに使用されることがある。例えばプリズム２７６ａは、２７６ｂ以上に最終入射角を制御することがある。つまり、一部の実施形態では、コントローラ２９０はプリズム２７６ａ、２７６ｂをデュアルステージ構成で使用し、プリズム２７６ａは大きいジャンプに、かつ最終入射角のより微細な変更に使用されるプリズム２７６ｂを非飽和にするのに使用される。プリズム２７６ａ、２７６ｂを制御することは、セットポイント周囲の調整だけではなく、ナイキスト周波数での正弦波の精密追跡及び正弦波の中心点（すなわち中心波長）の精密制御を必要とするＭＦＩ動作にとって特に重要である。図５、図６Ａ、図６Ｂ、及び図７から図９に関して説明されるプロセスは、ＭＦＩ動作などの結像動作のために中心波長を制御する方法を提供する。
[0091] 多焦点結像動作は２色モードを含むことがある。光源を２色モードで動作させることは、第１の波長の第１のレーザ放射ビームを、第１のレーザチャンバモジュールを使用して発生させること、第２の波長の第２のレーザ放射ビームを、第２のレーザチャンバモジュールを使用して発生させること、及び第１及び第２のレーザ放射を共通の出力ビームパスに沿ってビームコンバイナを使用して結合することを含むことがある。２色モードでは、波長ターゲットが（例えばパルスごとに）バースト内の２つの既知のセットポイント間を行き来することがあり、中心波長を制御する余地をほとんど残さない急速に変化するターゲットを追跡するためにＰＺＴが使用されることがある。
[0092] 図５は、ある実施形態に係る、多焦点結像又はその他の結像のために中心波長を調整する方法５００を示している。本明細書に示されている開示を実行するために、図５の全てのステップが必要とされるわけではないことが理解されるべきである。更に、ステップの一部は同時に、連続して、及び／又は図５に示すのと異なる順序で実行される可能性がある。方法５００は図１から図４を参照して説明されるものとする。ただし、方法５００はこれらの例示的な実施形態に限定されない。
[0093] 一部の実施形態では、方法５００は、ＬＡＭ２３０から評価された平均中心波長誤差に基づいてプリズム２７６ａ及び２７６ｂの動きをそれぞれ制御するためのアクチュエータを移動させることによって、レーザ放射ビームの中心波長を調整するためのフィードバックループを策定することを対象とする。これを達成するために、直近のパルスの中心波長がＬＡＭデータを使用して推定される可能性がある。一部の実施形態では、ターゲット中心波長と推定された中心波長との差が、プリズム２７６ｂが中心波長への外乱を補償するのに望まれる作動を決定するためにコントローラ２９０に提供される可能性がある。プリズム２７６ｂの移動範囲が限られているため、コントローラ２９０はまた、必要に応じてプリズム２７６ｂを作動させることによってプリズム２７６ｂが中心に置かれることを保証する可能性がある。
[0094] ５１０において、方法５００は、中心波長誤差を推定することを含む可能性がある。例えば中心波長誤差は、奇数バーストにおける中心波長の第１の平均値及び偶数バーストにおける中心波長の第２の平均値に基づいて推定される可能性があり、第１及び第２の平均値に基づいて第３の平均値が決定される。一部の実施形態では、中心波長誤差は中心波長と第３の平均値との差に基づいている場合がある。
[0095] ５２０において、方法５００は、推定した中心波長に基づいてプリズム２７６ｂの動きを制御する第１のアクチュエータの作動量を決定することを含む可能性がある。例えば図２のコントローラ２９０は、ターゲット中心波長と推定した波長との差を決定し、差を補償するためにプリズム２７６ｂの動きを制御するアクチュエータをどれくらい作動させるべきかを決定することができる。５３０において、方法５００は、プリズム２７６ｂの動きを制御するアクチュエータを作動量に基づいて作動させることを含む可能性がある。
[0096] ５４０において、方法５００は、プリズム２７６ｂが中心からずれているかどうかを判定することを含む可能性がある。プリズム２７６ｂが中心に置かれていると判定したことに応答して、方法５００は５５０において終了する。プリズム２７６ｂが中心からずれていると判定したことに応答して、５６０において方法５００は、プリズム２７６ｂの動きを制御するアクチュエータの第２の作動量を決定し、第１のアクチュエータの第２の作動に基づいてプリズム２７６ａの動きを制御する第２のアクチュエータの第３の作動量を決定することを含む可能性がある。つまり、コントローラ２９０は、プリズム２７６ａ、２７６ｂの両方が中心波長誤差を修正するのにどれくらいの作動が必要であるかを決定することができる。
[0097] 図６Ａから図６Ｂ、図７、及び図８は、一部の実施形態に係る、多焦点結像などの結像動作のために中心波長を調整する方法を示している。本明細書に示されている開示を実行するために、図６から図８の全てのステップが必要とされるわけではないことが理解されるべきである。更に、ステップの一部は同時に、連続して、及び／又は図６Ａから図６Ｂ、図７、及び図８に示すのと異なる順序で実行される可能性がある。これらの方法は図１から図４を参照して説明されるものとする。ただし、これらの方法は、これらの例示的な実施形態に限定されない。
[0098] 図６Ａから図６Ｂ、図７、及び図８は、例えば２色ＭＦＩモードにおいてレーザ放射ビームの中心波長を調整する方法を対象とする。２色ＭＦＩモードは課題に直面することがあり、例えば、２色モードにおいて中心波長制御の余地をほとんど有しないプリズム２７６ｂ、モード遷移からのステップ外乱、及び／又はピーク分離変化が純粋なフィードバックを使用して処理された場合に過渡事象を発生させる可能性があり、中心波長コントローラが他のコントローラ、例えばピーク分離コントローラと相互作用する可能性があり、性能の劣化あるいは不安定性につながる可能性がある。これらの課題に対処するために、一部の実施形態では、プリズム２７６ａは、小さいローパスフィルタリングされた誤差を補償するためにプリズム２７６ｂの動きを制限しながら、大きい中心波長誤差を補償するためにバースト内で移動される可能性がある。更に一部の実施形態では、プリズム２７６ａはプリズム２７６ｂを非飽和にするために移動される可能性がある。一部の実施形態では、プリズム２７６ａは、２色モード遷移又はピーク分離ターゲット変化を検出するとバーストの外側に移動される可能性がある。一部の実施形態では、中心波長コントローラと、他のコントローラ、例えばピーク分離コントローラとの間の制御帯域幅は互いに分離される可能性がある。
[0099] 図６Ａから図６Ｂに示すように、６１０において方法６００は、ＭＦＩシステムにおけるレーザチャンバなどの光源を励起することを含む可能性がある。６２０において、方法６００は、第１のレーザチャンバモジュールからの第１の波長の第１のレーザ放射ビームであるか又は第２のレーザチャンバモジュールを使用して発生させた第２の波長の第２のレーザ放射ビームであり得る光源の波長誤差を決定することを含む可能性がある。一部の実施形態では、波長誤差を決定することは、光源が発生させた光ビームの中心波長を測定し、中心波長とターゲット中心波長との差を決定することを含む可能性がある。
[0100] ６３０において、方法６００は、波長誤差が第１の閾値より大きいかどうかを判定することを含む可能性がある。例えば閾値は２００フェムトメートルである可能性がある。これが例示的な閾値に過ぎず、本開示の態様に従って他の閾値が更に想定されることが当業者によって理解されるべきである。
[0101] 一部の実施形態では、６４０において、波長誤差が閾値より大きいと判定したことに応答して、方法６００は、プリズム２７６ａの動きを制御するために第１のアクチュエータを移動させることを含む可能性がある。例えば、第１のアクチュエータは、ローパスフィルタなどのフィルタ、及びプリズム２７６ｂの動きを制御するための第２のアクチュエータの移動が不能にされている間に、パルスごとに第１のステップサイズで移動される可能性がある。例えば、第１のアクチュエータは波長誤差を小さくする方向に移動される可能性がある。第１のステップサイズは、第１のアクチュエータの１つのフルステップなどの固定ステップサイズである可能性がある。フィルタ及び第２のアクチュエータが不能にされている間に第１のアクチュエータを移動させることによって、方法６００は、波長誤差に肉眼的変化を与え、プリズム２７６ｂを非飽和にする。一部の実施形態では、第１のアクチュエータが第１のステップで移動された後に、６９８において方法６００は、光源の次のパルスを待つことで終わる。
[0102] 一部の実施形態では、６５０において、波長誤差が第１の閾値より小さいと判定したことに応答して、方法６００は平均波長誤差を決定することを含む可能性がある。一部の実施形態では、平均波長誤差は、当業者により理解されるべきであるようにローパスフィルタリング技術に基づいた移動平均値である場合がある。６６０において方法６００は、平均波長誤差が第２の閾値より大きいかどうかを判定することを含む可能性がある。一部の実施形態では、第２の閾値は第１の閾値と異なる場合がある。例えば、第２の閾値は１００フェムトメートルである可能性がある。これが例示的な閾値に過ぎず、本開示の態様に従って他の閾値が更に想定されることが当業者によって理解されるべきである。一部の実施形態では、平均波長誤差は、波長誤差とパルス数ｎにわたる複数の波長誤差の平均値とに基づいている可能性がある（ｎは１より大きいパルス数である）。つまり、平均波長誤差は波長誤差の移動平均値である可能性がある。
[0103] 一部の実施形態では、６７０において、平均波長誤差が第２の閾値より大きいと判定したことに応答して、方法６００は、第１のアクチュエータを第２のステップサイズで移動させ、ローパスフィルタを有効にし、第２のアクチュエータの移動を不能にすることを含む可能性がある。例えば、第１のアクチュエータは波長誤差を小さくする方向に移動される可能性がある。一部の実施形態では、第２のステップサイズは波長誤差に比例している可能性があり、例えば平均波長誤差が小さければ小さいほど第１のアクチュエータのステップサイズが小さくなり、逆もまた同様である。一部の実施形態では、第２のステップサイズはフルステップサイズより小さい場合がある。一部の実施形態では、第２のステップサイズはフルステップサイズより大きい場合がある。第１のアクチュエータを平均波長誤差に比例したステップサイズで移動させることによって、方法６００はプリズム２７６ａの所望の位置を行き過ぎることを防ぐ。一部の実施形態では、第１のアクチュエータが第２のステップで移動した後、６９８において、方法６００は光源の次のパルスを待つことで終わる。
[0104] 一部の実施形態では、６８０において、平均波長誤差が第２の閾値より小さいと判定したことに応答して、方法６００は第１のアクチュエータを第３のステップサイズで移動させることを含む可能性がある。一部の実施形態では、第３のステップサイズは第２のアクチュエータに印加される電圧に比例しており、第２のアクチュエータに印加された電圧をリセットしている可能性がある。したがって、一部の実施形態では、第３のステップサイズは、平均波長誤差ではなく、第２のアクチュエータに印加された電圧に基づいている可能性がある。
[0105] 一部の実施形態では、６９０において、方法６００はパルスのショット数が更新間隔の倍数であるかどうかを判定することを含む可能性がある。ショット数は、例えば光ビームのパルスの数である可能性がある。一部の実施形態では、更新間隔は、例えば５又は１０パルスごとである可能性がある。これらが例示的な更新間隔に過ぎず、本開示の態様に従って他の更新間隔が更に想定されることが当業者によって理解されるべきである。つまり、一部の実施形態では、方法６００はパルスが例えば５番目又は１０番目のパルスであるかどうかを判定することを含む可能性がある。一部の実施形態では、ショット数が更新間隔に等しくない場合、６９８において、方法６００は光源の次のパルスを待つことで終わる。
[0106] 一部の実施形態では、ショット数が更新間隔に等しい場合、６９５において、方法６００は第２のアクチュエータに印加された電圧を更新することを含む可能性がある。例えば第２のアクチュエータに印加された電圧は平均波長誤差に基づいている可能性があり、その結果、プリズム２７６ｂの動きが後続のパルスにおける平均波長誤差を調整する。一部の実施形態では、第２のアクチュエータに印加された電圧を更新した後、６９８において、方法６００は光源の次のパルスを待つことで終わる。
[0107] 一部の実施形態では、図７の方法７００は、光源のパルス間で実行される可能性がある。この期間中、光源は動作モード間、例えば単色モードと２色モードの間を遷移する可能性があり、結果として、中心波長は動作状態の変化によって変化する可能性がある。これに対処するために、図７に示すように方法７００は、７１０において光源の動作状態の変化を検出することを含む可能性もある。７２０において、光源の動作状態の変化を検出したことに応答して、方法７００は、中心波長変化を決定することを含む可能性がある。例えば、中心波長変化を決定することはターゲットピーク分離の中点を決定することを含む可能性がある。７３０において、方法７００は、第１のアクチュエータを中心波長変化に基づいたステップサイズで移動させることを含む可能性がある。一部の実施形態では、図７に関して説明されるプロセスは光源のバースト間で実行される可能性がある。そうすることによって、方法７００は、次に光源が作動されるときに波長誤差を小さくすることを提供する。
[0108] 一部の実施形態では、図８の方法８００は、光源のパルス間で実行される可能性がある。この期間中、ターゲットピーク分離が変化する可能性がある。これに対処するために、図８に示すように方法８００は、８１０においてピーク分離の変化を検出することを含む可能性がある。８２０において、ピーク分離の変化を検出したことに応答して、方法８００は、中心波長変化を決定することを含む可能性もある。例えば、中心波長変化を決定することは、以前のピーク分離ターゲットと新しいピーク分離ターゲットとの間の平均値を決定することを含む可能性がある。８３０において、方法８００は、第１のアクチュエータを中心波長変化に基づいたステップサイズで移動させることを含む可能性がある。一部の実施形態では、図７及び８に関して説明されるプロセスは光源のバースト間で実行される可能性がある。そうすることによって、方法７００及び８００は、次に光源が作動されるときに波長誤差を小さくすることを提供する。また、図７及び８に記載のプロセスを用いて、本開示は異なる動作モード間の遷移を完了するのに必要なバースト数を減らす。
[0109] 図９は、ある実施形態に係る、例えば多焦点結像に使用され得る中心波長を調整する方法９００を示している。本明細書に示されている開示を実行するために、図９の全てのステップが必要とされるわけではないことが理解されるべきである。更に、ステップの一部は同時に、連続して、及び／又は図９に示すのと異なる順序で実行される可能性がある。方法９００は図１から図４を参照して説明されるものとする。ただし、方法９００は、これらの例示的な実施形態に限定されない。
[0110] 一部の実施形態では、図９について考察されるプロセスは、バースト中にプリズム２７６ｂの動きを制御するアクチュエータを移動させることを提供する。つまり、図９について考察されるプロセスは、例えばＭＦＩモードにおける第１のレーザチャンバモジュールからの第１の波長の第１のレーザ放射ビーム、又は第２のレーザチャンバモジュールを使用して発生させた第２の波長の第２のレーザ放射ビームからのものであり得る中心波長の変化に対処するためのインスターバースト（instar-burst）解決策を提供する。これを達成するために、一部の実施形態では、図９について説明されるプロセスは、中心波長の測定遅延を補償するために中心波長のドリフト速度を推定する。
[0111] 一部の実施形態では、ディザ波形（又はシーケンス）が、プリズム２７６ｂのアクチュエータを移動させるためのオフセットと組み合わせられる可能性がある。例えば、ディザ波形は、量子化をランダムに行うのに使用されるノイズの応用形態である場合がある。オフセットは、バーストの終わり（ＥＯＢ）に及び／又は設定されたパルス間隔で更新される可能性がある。一部の実施形態では、ＥＯＢ更新はプリズム２７６ｂのアクチュエータを移動させて、バースト全体の波長測定値を平均化することにより得られた推定中心波長ドリフトをゼロにすることができる。一部の実施形態では、間隔更新は本明細書に記載の推定プロセスに基づいている可能性がある。一部の実施形態では、本明細書に記載の推定プロセスは、現在のパルスまでの中心波長のローリング平均推定値に基づいている可能性があり、プリズム２７６ｂのアクチュエータのためのオフセットとプリズム２７６ａのアクチュエータのための第２のオフセットの両方へのアクセスが提供される可能性がある。換言すれば、一部の実施形態では、ドリフト速度を推定するためのプロセスは、プリズム２７６ａ、２７６ｂの現在の位置、更に各アクチュエータのそれぞれのオフセット、中心波長のローリング平均値、カルマンフィルタフレームワークを使用して総蓄積中心波長ドリフトを推定することに基づいている可能性がある。一部の実施形態では、ＬＡＭ２３０の遅延を補償するために、２ショット先のドリフトがカルマンフィルタをカルマン予測器に変換することによって予測される可能性がある。つまり、既知の入力及び外乱を使用することによって、ドリフト速度は、現在のバーストより２ステップ先のドリフト速度を予測するための開ループ伝搬を用いて推定される可能性がある。
[0112] 一部の実施形態では、カルマンフィルタは式１及び２を用いてモデル化される可能性がある。一部の実施形態では、任意の所与の点において、中心波長ターゲットに対する中心波長は、適切な利得によりスケーリングされたプリズム２７６ａ、２７６ｂの位置の和と、時間ｋにおける蓄積波長ドリフトＤ（ｋ）とに基づいている可能性がある。一部の実施形態では、蓄積波長ドリフトは時間ｋにおける速度が未知のＤＳＲ（ｋ）と定義される線形ドリフトとしてモデル化される可能性がある。結果として、ドリフト速度は、問題なく経時的に変化する可能性があり、状態ベクトルに組み込まれることによってドリフト速度の推定を可能にする可能性がある。
Figure 2023529807000002
[0113] モデルがこのように構築され、定常状態カルマンフィルタは式３のように実装される可能性がある。ここでＡ、Ｂ、Ｃ、及びＤは式１及び式２に定義されており、Ｑ及びＲはチューニングパラメータであり、Ｓは式４で与えられる代数リカッチ方程式の解である。
Figure 2023529807000003
[0114] 一部の実施形態では、コントローラ、例えばコントローラ２９０に総蓄積ドリフト及び推定ドリフト速度が提供される可能性があり、その結果、中心波長の変化が補償される可能性がある。
[0115] 一部の実施形態では、オフセットＰ３ｏｆｆｓｅｔは式５のように定義される可能性がある。モデルに組み込まれている既知の入力及び外乱を使用することによって、ドリフト速度は、２ステップ先のモデルの開ループ伝搬を用いて推定される可能性がある。
Figure 2023529807000004
[0116] 上記に基づいて、ドリフト速度はリアルタイムの波長測定値に基づいて推定される可能性がある。ドリフト速度は、波長ドリフトの大きさを予測し、ショットごとに補償するのに使用される可能性がある。一部の実施形態では、ドリフト速度は可変蓄積速度を有するアキュムレータとしてモデル化される可能性があり、カルマンフィルタは、中心波長の推定値（例えば現在のバーストにおける全ての波長測定値の算術平均）に基づいて蓄積速度を推定するのに使用される可能性がある。一部の実施形態では、ＬＡＭ２３０の測定遅延を補償するために、Ｎパルス、例えば２パルス先の中心波長が予測され、プリズム２７６ｂのアクチュエータに印加されたオフセットを決定するのに使用される可能性がある。例えば一部の実施形態では、Ｎパルスは２パルスである場合があるが、これが例示的なパルス数に過ぎず、本開示の態様に従ってより多い又は少ないパルスが想定されることが当業者によって理解されるべきである。一部の実施形態では、このオフセットは、フェムトメートル未満の解像度でショットごとに更新される可能性がある。
[0117] ９１０において、方法９００はディザ波形をプリズムを作動させるためのオフセット値と組み合わせることを含む可能性がある。一部の実施形態では、オフセット値は、プリズム２７６ｂの動きを制御するためのアクチュエータを移動させるのに使用される可能性がある。一部の実施形態では、オフセット値は、プリズム２７６ｂの動きを制御するためのアクチュエータに印加される直流（ＤＣ）電圧に基づいている。一部の実施形態では、ＤＣ電圧の初期値はゼロボルトである。
[0118] ９２０において、方法９００は、パルス間波長をディザ波形及びオフセット値に基づいて発生させることを含む可能性がある。例えば、パルス間波長はＬＡＭ２３０を使用して発生される可能性がある。一部の実施形態では、パルス間波長はまた、リソグラフィ装置ＬＡ内からの他の外乱に基づいている可能性がある。
[0119] ９３０において、方法９００は、中心波長のローリング平均値を複数のパルスのパルス間波長に基づいて生成することを含む可能性がある。一部の実施形態では、複数のパルスのパルス間波長は現在のパルスの波長を含む。
[0120] ９４０において、方法９００は、将来のパルスの中心波長を予測するためのドリフト速度を推定することを含む可能性がある。一部の実施形態では、プリズム２７６ｂに関連付けられたアクチュエータを移動させるためのオフセット値は第１のオフセット値である可能性があり、ドリフト速度を推定することは、ドリフト速度を中心波長のローリング平均値、第１のオフセット値、及び第２のプリズム２７６ａの動きを制御する第２のアクチュエータを移動させる第２のオフセット値に基づいて推定することを含む可能性がある。一部の実施形態では、ドリフト速度を推定することは、カルマンフィルタフレームワークを使用して蓄積中心波長ドリフト速度を推定することを含む。例えばカルマンフィルタフレームワークは、蓄積中心波長ドリフト速度を中心波長のローリング平均値、第１のオフセット値、及び第２のオフセット値に基づいて推定することができる。また、ドリフト速度を推定することは、現在のパルスよりＮパルス、例えば２パルス先の中心波長を予測することを含む可能性がある。これを達成するために、カルマンフィルタフレームワークは、現在のパルスよりＮパルス、例えば２パルス先の中心波長を予測するためのカルマン予測器に変換される可能性がある。
[0121] ９５０において、方法９００は、オフセット値を推定したドリフト速度に基づいて更新することを含む可能性がある。一部の実施形態では、オフセット値を更新することはまた、推定したドリフト速度に加えて、バーストの終わりにおける中心波長のローリング平均値に基づいている可能性がある。
[0122] 例示的なコンピュータシステム
[0123] 様々な実施形態及びその構成要素が、例えば図に示されるか、それ以外において考察される例示的な実施形態、システム、及び／又はデバイスなどの１つ以上の周知のコンピュータシステムを使用して実施される可能性がある。コンピュータシステム１０００は、本明細書に記載された機能を果たすことが可能な任意の周知のコンピュータである可能性がある。
[0124] コンピュータシステム１０００は、プロセッサ１００４などの１つ以上のプロセッサ（中央処理装置、すなわちＣＰＵとも呼ばれる）を備える。プロセッサ１００４は、通信インフラストラクチャ、すなわちバス１００６に接続されている。
[0125] １つ以上のプロセッサ１００４は、それぞれグラフィック処理装置（ＧＰＵ）である場合がある。ある実施形態において、ＧＰＵは、数学的に集約されたアプリケーションを処理するように設計された専用の電子回路であるプロセッサである。ＧＰＵは、コンピュータグラフィックスアプリケーション、画像、映像などに共通した数学的に集約されたデータなどの、大きなデータブロックを並列処理するのに効率的な並列構造を有することがある。
[0126] コンピュータシステム１０００は、ユーザ入出力インターフェイス１００２を介して通信インフラストラクチャ１００６と通信するモニタ、キーボード、ポインティングデバイスなどのユーザ入出力デバイス１００３も備える。
[0127] コンピュータシステム１０００は、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）などのメイン又は一次メモリ１００８も備える。メインメモリ１００８は、１つ以上のキャッシュレベルを含むことがある。メインメモリ１００８は、制御ロジック（すなわち、コンピュータソフトウェア）及び／又はデータを格納している。
[0128] コンピュータシステム１０００はまた、１つ以上の二次ストレージデバイスすなわちメモリ１０１０を備えることがある。二次メモリ１０１０は、例えば、ハードディスクドライブ１０１２及び／又はリムーバブルストレージデバイス又はドライブ１０１４を含むことがある。リムーバブルストレージドライブ１０１４は、フロッピーディスクドライブ、磁気テープドライブ、コンパクトディスクドライブ、光学ストレージデバイス、テープバックアップデバイス、及び／又は任意の他のストレージデバイス／ドライブである場合がある。
[0129] リムーバブルストレージドライブ１０１４は、リムーバブルストレージユニット１０１８と情報をやり取りすることがある。リムーバブルストレージユニット１０１８は、コンピュータソフトウェア（制御ロジック）及び／又はデータを格納した、コンピュータが使用可能又は読み取り可能なストレージデバイスを含む。リムーバブルストレージユニット１０１８は、フロッピーディスク、磁気テープ、コンパクトディスク、ＤＶＤ、光学ストレージディスク、及び任意の他のコンピュータデータストレージデバイスである場合がある。リムーバブルストレージドライブ１０１４は、周知の手法でリムーバブルストレージユニット１０１８に対する読出し及び／又は書込みを行う。
[0130] 例示的な実施形態によれば、二次メモリ１０１０は、コンピュータプログラム及び／又は他の命令及び／又はデータをコンピュータシステム１０００からアクセス可能にするための他の方法、手段又は他のアプローチを含むことがある。このような方法、手段又は他のアプローチには、例えば、リムーバブルストレージユニット１０２２及びインターフェイス１０２０が含まれることがある。リムーバブルストレージユニット１０２２及びインターフェイス１０２０の例として、（ビデオゲームデバイスで見られるような）プログラムカートリッジ及びカートリッジインターフェイス、（ＥＰＲＯＭ又はＰＲＯＭのような）リムーバブルメモリチップ及び関連したソケット、メモリスティック及びＵＳＢポート、メモリカード及び関連したメモリカードスロット、並びに／又は任意の他のリムーバブルストレージユニット及び関連したインターフェイスが含まれることがある。
[0131] コンピュータシステム１０００は、通信又はネットワークインターフェイス１０２４を更に備えることがある。通信インターフェイス１０２４は、コンピュータシステム１０００が、（参照番号１０２８によって個別に及び包括的に参照される）遠隔デバイス、遠隔ネットワーク、遠隔エンティティなどの任意の組み合わせと通信し、かつ情報のやり取りを行うことを可能にする。例えば、通信インターフェイス１０２４は、コンピュータシステム１０００が、有線及び／又は無線であり得る、かつＬＡＮ、ＷＡＮ、インターネットなどの任意の組み合わせを含み得る通信経路１０２６を介して、遠隔デバイス１０２８と通信することを可能にすることがある。制御ロジック及び／又はデータは、通信経路１０２６を介してコンピュータシステム１０００との間で伝送されることがある。
[0132] ある実施形態において、制御ロジック（ソフトウェア）を格納した、非一時的かつ有形のコンピュータが使用可能又は読み取り可能な媒体を備えた非一時的かつ有形の装置又は製造品は、本明細書において、コンピュータプログラム製品又はプログラムストレージデバイスとも呼ばれる。これには、コンピュータシステム１０００、メインメモリ１００８、二次メモリ１０１０、リムーバブルストレージユニット１０１８及び１０２２、並びにこれらの任意の組み合わせを具現化した有形の製造品が含まれるが、これらに限定されない。かかる制御ロジックは、（コンピュータシステム１０００などの）１つ以上のデータ処理デバイスによって実行されるとき、かかるデータ処理デバイスに本明細書に記載したような動作を実行させる。
[0133] この開示に含まれる教示に基づいて、当業者には、図１０に示したもの以外のデータ処理デバイス、コンピュータシステム及び／又はコンピュータアーキテクチャを使用して、この開示の実施形態をなし、かつ使用する方法が明らかになるであろう。特に、実施形態は、本明細書に記載したもの以外のソフトウェア、ハードウェア、及び／又はオペレーティングシステムの実装で動作することがある。
[0134] 光リソグラフィの分野での実施形態の使用に特に言及してきたが、実施形態は文脈によってはその他の分野、例えばインプリントリソグラフィでも使用することができ、光リソグラフィに限定されないことを理解されたい。インプリントリソグラフィでは、パターニングデバイス内のトポグラフィが基板上に作成されたパターンを画定する。パターニングデバイスのトポグラフィは基板に供給されたレジスト層内に刻印され、電磁放射、熱、圧力又はそれらの組み合わせを適用することでレジストは硬化する。パターニングデバイスはレジストから取り除かれ、レジストが硬化すると、内部にパターンが残される。
[0135] 本明細書中の言い回し又は専門用語は説明を目的とするものであって限定を目的とするものではないことが理解されるべきであり、従って、本明細書の専門用語又は言い回しは、本明細書中の教示に照らして当業者によって解釈されるべきである。
[0136] 本明細書で使用される「基板」という用語は、その上に材料層が追加される材料を記述する。一部の実施形態では、基板自体にパターンが付与されると共に、その上に追加された材料にもパターンが付与されるか、又はパターン付与されないままである場合がある。
[0137] 以下の例はこの開示の実施形態を説明するものであるが限定的ではない。本技術分野で通常見られ、当業者に自明と思われる各種の条件及びパラメータのその他の適切な変更形態及び適応形態も本開示の趣旨及び範囲内にある。
[0138] 本文では、ＩＣの製造における装置及び／又はシステムの使用について特に言及しているが、そのような装置及び／又はシステムは他の多くの可能な用途を有することを明確に理解されるべきである。例えば、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用ガイダンス及び検出パターン、ＬＣＤパネル、薄膜磁気ヘッドなどに使用できる。こうした代替的な用途に照らして、本明細書で「レチクル」、「ウェーハ」又は「ダイ」という用語を使用している場合、それぞれ「マスク」、「基板」、及び「ターゲット部分」という、より一般的な用語と同義（置き換えられる）と見なしてよいことが当業者には認識される。
[0139] 特定の実施形態が上述されているが、実施形態は、記載されている以外の方法で実施され得ることが理解されるであろう。この説明は、特許請求の範囲を限定することを意図するものではない。
[0140] 特許請求の範囲を解釈するには、「発明の概要」及び「要約書」の項ではなく、「発明を実施するための形態」の項を使用するよう意図されていることを理解されたい。「発明の概要」及び「要約書」の項は、本発明者が想定するような１つ以上の例示的実施形態について述べることができるが、全部の例示的実施形態を述べることはできず、従って実施形態及び添付の特許請求の範囲をいかなる意味でも限定しないものとする。
[0141] 以上では、特定の機能の実施態様を例示する機能的構成要素及びその関係を用いて実施形態について説明してきた。これらの機能的構成要素の境界は、本明細書では説明の便宜を図って任意に画定されている。特定の機能及びその関係が適切に実行される限り、代替的境界を画定することができる。
[0142] 特定の実施形態の前述の説明は、実施形態の全体的性質を十分に明らかにしているので、当技術分野の知識を適用することにより、過度の実験をせず、実施形態の全体的な概念から逸脱することなく、このような特定の実施形態を容易に変更及び／又はこれを様々な用途に適応させることができる。従って、このような適応及び変更は、本明細書に提示された教示及び案内に基づき、開示された実施形態の均等物の意味及び範囲に入るものとする。
[0143] 本発明の他の態様は、以下の番号が付けられた条項に記載されている。
１．結像動作のために中心波長を制御する方法であって、
中心波長誤差を推定すること、
第１のプリズムの動きを制御する第１のアクチュエータの第１の作動量を、推定した中心波長誤差に基づいて決定すること、
第１のアクチュエータを第１の作動量に基づいて作動させること、
第１のプリズムが中心からずれているかどうかを判定すること、
第１のプリズムが中心からずれていると判定したことに応答して、第１のアクチュエータの第２の作動量を決定し、第２のプリズムの動きを制御するための第２のアクチュエータの第３の作動量を決定すること、及び
第１のアクチュエータ及び第２のアクチュエータをそれぞれ第２及び第３の作動量に基づいて作動させることを含む方法。
２．中心波長誤差を推定することが、
奇数バーストにおける中心波長の第１の平均値及び偶数バーストにおける中心波長の第２の平均値を計算すること、及び
第１及び第２の平均値の平均値を決定することを含み、中心波長誤差が第１及び第２の平均値の平均値に基づいている、条項１の方法。
３．第１の作動量を決定することが、
ターゲット中心波長と推定した中心波長との差を決定すること、及び
第１の作動量をターゲット中心波長と推定した中心波長との差に基づいて決定することを含む、条項１の方法。
４．ターゲット中心波長と推定した中心波長との差を決定することが、差をデジタルフィルタを使用して決定することを含む、条項３の方法。
５．第２のアクチュエータの第３の作動量を決定することが、第１のアクチュエータを第２の作動量に基づいて作動させた後の第１のプリズムの位置に基づいている、条項１の方法。
６．第３の作動量を決定することが、ターゲット中心波長と推定した波長との差を小さくするように第３の作動量を決定することを更に含む、条項５の方法。
７．結像動作が多焦点結像動作を含み、方法が、光源を２色モードで動作させることを更に含み、光源を２色モードで動作させることが、
第１の波長の第１のレーザ放射ビームを、第１のレーザチャンバモジュールを使用して発生させること、
第２の波長の第２のレーザ放射ビームを、第２のレーザチャンバモジュールを使用して発生させること、及び
第１及び第２のレーザ放射を共通の出力ビームパスに沿ってビームコンバイナを使用して結合することを含み、
中心波長誤差を推定することが、第１のレーザ放射ビームの中心波長誤差を推定することを含む、条項１の方法。
８．中心波長を制御する方法であって、
光源が発生させた光ビームの波長誤差を決定すること、
波長誤差が第１の閾値より大きいかどうかを判定すること、
波長誤差が第１の閾値より大きいと判定したことに応答して、第１のプリズムの動きを制御する第１のアクチュエータを第１のステップサイズで移動させること、
波長誤差が第１の閾値より小さいと判定したことに応答して、
平均波長誤差を決定すること、
平均波長誤差が第１の閾値と異なる第２の閾値より大きいかどうかを判定すること、
平均波長誤差が第２の閾値より大きいと判定したことに応答して、第１のアクチュエータを第２のステップサイズで移動させ、ローパスフィルタを有効にすること、及び
平均波長誤差が第２の閾値より小さいと判定したことに応答して、ローパスフィルタを有効にし、第２のプリズムの動きを制御する第２のアクチュエータに印加される電圧を更新し、第１のアクチュエータを第３のステップサイズで移動させることを含む方法。
９．波長誤差を決定することが、
光源が発生させた光ビームの中心波長を測定すること、及び
中心波長とターゲット中心波長との差を決定することを含む、条項８の方法。
１０．光源のパルスのショット数が更新間隔の倍数であるかどうかを判定すること、及び
ショット数が更新間隔に等しいと判定したことに応答して、第２のアクチュエータに印加された電圧を更新することを更に含む、条項８の方法。
１１．波長誤差が第１の閾値より大きいと判定したことに応答して、ローパスフィルタ及び第２のアクチュエータの移動を不能にすることを更に含む、条項８の方法。
１２．第１のステップサイズがアクチュエータの固定ステップサイズである、条項８の方法。
１３．第２のステップサイズが波長誤差の関数である、条項８の方法。
１４．第３のステップサイズが第２のアクチュエータに印加された電圧の関数である、条項８の方法。
１５．第１のアクチュエータを第２のステップサイズで移動させることが、ｎパルス（ｎは１より大きい）ごとに第１のアクチュエータを移動させることを含む、条項８の方法。
１６．平均波長誤差が、波長誤差とパルス数にわたる複数の波長誤差の平均値とに基づいている、条項８の方法。
１７．方法が、多焦点結像動作において中心波長を制御することを含み、方法が、光源を２色モードで動作させることを更に含み、光源を２色モードで動作させることが、
第１の波長の第１のレーザ放射ビームを、第１のレーザチャンバモジュールを使用して発生させること、
第２の波長の第２のレーザ放射ビームを、第２のレーザチャンバモジュールを使用して発生させること、及び
第１及び第２のレーザ放射を共通の出力ビームパスに沿ってビームコンバイナを使用して結合することを含み、
光源が発生させた光ビームの波長誤差を決定することが、第１のレーザ放射ビームの中心波長誤差を決定することを含む、条項８の方法。
１８．多焦点結像動作のために中心波長を制御する方法であって、
ディザ波形をプリズムの動きを制御するアクチュエータを移動させるためのオフセット値と組み合わせること、
ディザ波形及びオフセット値に基づいてパルス間波長を発生させること、
複数のパルスのパルス間波長に基づいて中心波長のローリング平均値を生成すること、
将来のパルスの中心波長を予測するためのドリフト速度を推定すること、及び
推定したドリフト速度に基づいてオフセット値を更新することを含む方法。
１９．オフセット値が直流（ＤＣ）電圧に基づいている、条項１８の方法。
２０．ＤＣ電圧の初期値がゼロボルトである、条項１９の方法。
２１．オフセット値が第１のオフセット値を含み、
ドリフト速度を推定することが、ドリフト速度を中心波長のローリング平均値、第１のオフセット値、及び第２のプリズムの動きを制御する第２のアクチュエータを移動させる第２のオフセット値に基づいて推定することを含む、条項１８の方法。
２２．ドリフト速度を推定することが、カルマンフィルタフレームワークを使用して蓄積中心波長ドリフト速度を推定することを含む、条項２１の方法。
２３．ドリフト速度を推定することが、現在のパルスよりＮパルス先の中心波長を予測することを含む、条項２２の方法。
２４．ドリフト速度を推定することが、カルマンフィルタフレームワークを、現在のパルスよりＮパルス先の中心波長を予測するためにカルマン予測器に変換することを含む、条項２３の方法。
２５．複数のパルスのパルス間波長が現在のパルスの波長を含む、条項１８の方法。
２６．オフセット値を更新することが、バーストの終わりにおける中心波長のローリング平均値に基づいてオフセット値を更新することを更に含む、条項１８の方法。
２７．第１のプリズムの動きを制御する第１のアクチュエータと、
第２のプリズムの動きを制御する第２のアクチュエータと、
中心波長誤差を推定し、
推定した中心波長誤差に基づいて第１のアクチュエータの第１の作動量を決定し、
第１のアクチュエータを第１の作動量に基づいて作動させ、
第１のプリズムが中心からずれているかどうかを判定し、
第１のプリズムが中心からずれていると判定したことに応答して、第１のアクチュエータの第２の作動量を決定し、第２のアクチュエータの第３の作動量を決定し、
第１及び第２のアクチュエータをそれぞれ第２及び第３の作動量に基づいて作動させるコントローラと、を備えたシステム。
２８．中心波長誤差を推定するために、コントローラが更に、
奇数バーストにおける中心波長の第１の平均値及び偶数バーストにおける中心波長の第２の平均値を計算し、
第１及び第２の平均値の平均値を決定し、中心波長誤差が第１及び第２の平均値の平均値に基づいている、条項２７のシステム。
２９．第１の作動量を決定するために、コントローラが更に、
ターゲット中心波長と推定した中心波長との差を決定し、
第１の作動量をターゲット中心波長と推定した中心波長との差に基づいて決定する、条項２７のシステム。
３０．ターゲット中心波長と推定した中心波長との差を決定するために、コントローラが更に、差をデジタルフィルタを使用して決定する、条項２９のシステム。
３１．第２のアクチュエータの第３の作動量が、第１のアクチュエータを第２の作動量に基づいて作動させた後の第１のプリズムの位置に基づいている、条項２７のシステム。
３２．第３の作動量を決定するために、コントローラが更に、ターゲット中心波長と推定した波長との差を小さくするように第３の作動量を決定する、条項３１のシステム。
３３．結像動作が多焦点結像動作を含み、
システムが２色モードで動作する光源を更に備え、
コントローラが更に、
第１の波長の第１のレーザ放射ビームを、第１のレーザチャンバモジュールを使用して発生させ、
第２の波長の第２のレーザ放射ビームを、第２のレーザチャンバモジュールを使用して発生させ、
第１及び第２のレーザ放射を共通の出力ビームパスに沿ってビームコンバイナを使用して結合することによって、光源を２色モードで動作させ、
中心波長誤差を推定することが、第１のレーザ放射ビームの中心波長誤差を推定することを含む、条項２７のシステム。
３４．光ビームを発生させる光源と、
第１のプリズムの動きを制御する第１のアクチュエータと、
第２のプリズムの動きを制御する第２のアクチュエータと、
光源が発生させた光ビームの波長誤差を決定し、
波長誤差が第１の閾値より大きいかどうかを判定し、
波長誤差が第１の閾値より大きいと判定したことに応答して、第１のアクチュエータを第１のステップサイズで移動させ、
波長誤差が第１の閾値より小さいと判定したことに応答して、
平均波長誤差を決定し、
平均波長誤差が第１の閾値と異なる第２の閾値より大きいかどうかを判定し、
平均波長誤差が第２の閾値より大きいと判定したことに応答して、第１のアクチュエータを第２のステップサイズで移動させ、ローパスフィルタを有効にし、平均波長誤差が第２の閾値より小さいと判定したことに応答して、ローパスフィルタを有効にし、第２のアクチュエータに印加される電圧を更新し、第１のアクチュエータを第３のステップサイズで移動させるコントローラと、を備えたシステム。
３５．波長誤差を決定するために、コントローラが更に、
光源が発生させた光ビームの中心波長を測定し、
中心波長とターゲット中心波長との差を決定する、条項３４のシステム。
３６．コントローラが更に、
光源のパルスのショット数が更新間隔の倍数であるかどうかを判定し、
ショット数が更新間隔に等しいと判定したことに応答して、第２のアクチュエータに印加された電圧を更新する、条項３４のシステム。
３７．コントローラが更に、波長誤差が第１の閾値より大きいと判定したことに応答して、ローパスフィルタ及び第２のアクチュエータの移動を不能にする、条項３４のシステム。
３８．第１のステップサイズがアクチュエータの固定ステップサイズである、条項３４のシステム。
３９．第２のステップサイズが波長誤差の関数である、条項３４のシステム。
４０．第３のステップサイズが第２のアクチュエータに印加された電圧の関数である、条項３４のシステム。
４１．第１のアクチュエータを第２のステップサイズで移動させるために、コントローラが更に、第１のアクチュエータをｎパルス（ｎは１より大きい）ごとに移動させる、条項３４のシステム。
４２．平均波長誤差が、波長誤差とパルス数にわたる複数の波長誤差の平均値とに基づいている、条項３４のシステム。
４３．システムが多焦点結像動作を実行し、
コントローラが更に、
第１の波長の第１のレーザ放射ビームを、第１のレーザチャンバモジュールを使用して発生させ、
第２の波長の第２のレーザ放射ビームを、第２のレーザチャンバモジュールを使用して発生させ、
第１及び第２のレーザ放射を共通の出力ビームパスに沿ってビームコンバイナを使用して結合することによって、光源を２色モードで動作させ、
光源が発生させた光ビームの波長誤差を決定することが、第１のレーザ放射ビームの中心波長誤差を決定することを含む、条項３４のシステム。
４４．多焦点結像動作のために中心波長を制御するためのシステムであって、
プリズムの動きを制御するアクチュエータと、
ディザ波形をアクチュエータを移動させるためのオフセット値と組み合わせ、
ディザ波形及びオフセット値に基づいてパルス間波長を発生させ、
中心波長のローリング平均値を複数のパルスのパルス間波長に基づいて生成し、
将来のパルスの中心波長を予測するためのドリフト速度を推定し、
推定したドリフト速度に基づいてオフセット値を更新するコントローラと、を備えたシステム。
４５．オフセット値が直流（ＤＣ）電圧に基づいている、条項４４のシステム。
４６．ＤＣ電圧の初期値がゼロボルトである、条項４５のシステム。
４７．オフセット値が第１のオフセット値を含み、
ドリフト速度を推定することが、ドリフト速度を中心波長のローリング平均値、第１のオフセット値、及び第２のプリズムの動きを制御する第２のアクチュエータを移動させる第２のオフセット値に基づいて推定することを含む、条項４４のシステム。
４８．ドリフト速度を推定するために、コントローラが更に、カルマンフィルタフレームワークを使用して蓄積中心波長ドリフト速度を推定する、条項４７のシステム。
４９．ドリフト速度を推定するために、コントローラが更に、現在のパルスよりＮパルス先の中心波長を予測する、条項４８のシステム。
５０．ドリフト速度を推定するために、コントローラが更に、カルマンフィルタフレームワークを、現在のパルスよりＮパルス先の中心波長を予測するためにカルマン予測器に変換する、条項４９のシステム。
５１．複数のパルスのパルス間波長が現在のパルスの波長を含む、条項４４のシステム。
５２．オフセット値を更新するために、コントローラが更に、オフセット値をバーストの終わりにおける中心波長のローリング平均値に基づいて更新する、条項４４のシステム。
[0144] 実施形態の幅及び範囲は、上述した例示的実施形態のいずれによっても限定されず、特許請求の範囲及びその均等物によってのみ規定されるものである。

Claims (52)

  1. 結像動作のために中心波長を制御する方法であって、
    中心波長誤差を推定すること、
    第１のプリズムの動きを制御する第１のアクチュエータの第１の作動量を、前記推定した中心波長誤差に基づいて決定すること、
    前記第１のアクチュエータを前記第１の作動量に基づいて作動させること、
    前記第１のプリズムが中心からずれているかどうかを判定すること、
    前記第１のプリズムが中心からずれていると判定したことに応答して、前記第１のアクチュエータの第２の作動量を決定し、第２のプリズムの動きを制御するための第２のアクチュエータの第３の作動量を決定すること、及び
    前記第１のアクチュエータ及び前記第２のアクチュエータをそれぞれ前記第２及び第３の作動量に基づいて作動させることを含む方法。
  2. 前記中心波長誤差を推定することが、
    奇数バーストにおける中心波長の第１の平均値及び偶数バーストにおける前記中心波長の第２の平均値を計算すること、及び
    前記第１及び第２の平均値の平均値を決定することを含み、前記中心波長誤差が前記第１及び第２の平均値の前記平均値に基づいている、請求項１の方法。
  3. 前記第１の作動量を決定することが、
    ターゲット中心波長と前記推定した中心波長との差を決定すること、及び
    前記第１の作動量を前記ターゲット中心波長と前記推定した中心波長との前記差に基づいて決定することを含む、請求項１の方法。
  4. 前記ターゲット中心波長と前記推定した中心波長との前記差を決定することが、前記差をデジタルフィルタを使用して決定することを含む、請求項３の方法。
  5. 前記第２のアクチュエータの前記第３の作動量を決定することが、前記第１のアクチュエータを前記第２の作動量に基づいて作動させた後の前記第１のプリズムの位置に基づいている、請求項１の方法。
  6. 前記第３の作動量を決定することが、前記ターゲット中心波長と前記推定した波長との前記差を小さくするように前記第３の作動量を決定することを更に含む、請求項５の方法。
  7. 前記結像動作が多焦点結像動作を含み、前記方法が、光源を２色モードで動作させることを更に含み、前記光源を前記２色モードで動作させることが、
    第１の波長の第１のレーザ放射ビームを、第１のレーザチャンバモジュールを使用して発生させること、
    第２の波長の第２のレーザ放射ビームを、第２のレーザチャンバモジュールを使用して発生させること、及び
    前記第１及び第２のレーザ放射を共通の出力ビームパスに沿ってビームコンバイナを使用して結合することを含み、
    前記中心波長誤差を推定することが、前記第１のレーザ放射ビームの中心波長誤差を推定することを含む、請求項１の方法。
  8. 中心波長を制御する方法であって、
    光源が発生させた光ビームの波長誤差を決定すること、
    前記波長誤差が第１の閾値より大きいかどうかを判定すること、
    前記波長誤差が前記第１の閾値より大きいと判定したことに応答して、第１のプリズムの動きを制御する第１のアクチュエータを第１のステップサイズで移動させること、
    前記波長誤差が前記第１の閾値より小さいと判定したことに応答して、
    平均波長誤差を決定すること、
    前記平均波長誤差が前記第１の閾値と異なる第２の閾値より大きいかどうかを判定すること、
    前記平均波長誤差が前記第２の閾値より大きいと判定したことに応答して、前記第１のアクチュエータを第２のステップサイズで移動させ、ローパスフィルタを有効にすること、及び
    前記平均波長誤差が前記第２の閾値より小さいと判定したことに応答して、前記ローパスフィルタを有効にし、第２のプリズムの動きを制御する第２のアクチュエータに印加される電圧を更新し、前記第１のアクチュエータを第３のステップサイズで移動させることを含む方法。
  9. 前記波長誤差を決定することが、
    前記光源が発生させた前記光ビームの中心波長を測定すること、及び
    前記中心波長とターゲット中心波長との差を決定することを含む、請求項８の方法。
  10. 前記光源のパルスのショット数が更新間隔の倍数であるかどうかを判定すること、及び
    前記ショット数が前記更新間隔に等しいと判定したことに応答して、前記第２のアクチュエータに印加された前記電圧を更新することを更に含む、請求項８の方法。
  11. 前記波長誤差が前記第１の閾値より大きいと判定したことに応答して、前記ローパスフィルタ及び第２のアクチュエータの移動を不能にすることを更に含む、請求項８の方法。
  12. 前記第１のステップサイズが前記アクチュエータの固定ステップサイズである、請求項８の方法。
  13. 前記第２のステップサイズが前記波長誤差の関数である、請求項８の方法。
  14. 前記第３のステップサイズが前記第２のアクチュエータに印加された前記電圧の関数である、請求項８の方法。
  15. 前記第１のアクチュエータを前記第２のステップサイズで移動させることが、ｎパルス（ｎは１より大きい）ごとに前記第１のアクチュエータを移動させることを含む、請求項８の方法。
  16. 前記平均波長誤差が、前記波長誤差とパルス数にわたる複数の波長誤差の平均値とに基づいている、請求項８の方法。
  17. 前記方法が、多焦点結像動作において前記中心波長を制御することを含み、前記方法が、光源を２色モードで動作させることを更に含み、前記光源を前記２色モードで動作させることが、
    第１の波長の第１のレーザ放射ビームを、第１のレーザチャンバモジュールを使用して発生させること、
    第２の波長の第２のレーザ放射ビームを、第２のレーザチャンバモジュールを使用して発生させること、及び
    前記第１及び第２のレーザ放射を共通の出力ビームパスに沿ってビームコンバイナを使用して結合することを含み、
    前記光源が発生させた前記光ビームの前記波長誤差を決定することが、前記第１のレーザ放射ビームの中心波長誤差を決定することを含む、請求項８の方法。
  18. 多焦点結像動作のために中心波長を制御する方法であって、
    ディザ波形をプリズムの動きを制御するアクチュエータを移動させるためのオフセット値と組み合わせること、
    前記ディザ波形及び前記オフセット値に基づいてパルス間波長を発生させること、
    複数のパルスの前記パルス間波長に基づいて前記中心波長のローリング平均値を生成すること、
    将来のパルスの中心波長を予測するためのドリフト速度を推定すること、及び
    前記推定したドリフト速度に基づいて前記オフセット値を更新することを含む方法。
  19. 前記オフセット値が直流（ＤＣ）電圧に基づいている、請求項１８の方法。
  20. 前記ＤＣ電圧の初期値がゼロボルトである、請求項１９の方法。
  21. 前記オフセット値が第１のオフセット値を含み、
    前記ドリフト速度を推定することが、前記ドリフト速度を前記中心波長の前記ローリング平均値、前記第１のオフセット値、及び第２のプリズムの動きを制御する第２のアクチュエータを移動させる第２のオフセット値に基づいて推定することを含む、請求項１８の方法。
  22. 前記ドリフト速度を推定することが、カルマンフィルタフレームワークを使用して蓄積中心波長ドリフト速度を推定することを含む、請求項２１の方法。
  23. 前記ドリフト速度を推定することが、現在のパルスよりＮパルス先の前記中心波長を予測することを含む、請求項２２の方法。
  24. 前記ドリフト速度を推定することが、前記カルマンフィルタフレームワークを、前記現在のパルスよりＮパルス先の前記中心波長を予測するためにカルマン予測器に変換することを含む、請求項２３の方法。
  25. 複数のパルスの前記パルス間波長が現在のパルスの波長を含む、請求項１８の方法。
  26. 前記オフセット値を更新することが、バーストの終わりにおける前記中心波長の前記ローリング平均値に基づいて前記オフセット値を更新することを更に含む、請求項１８の方法。
  27. 第１のプリズムの動きを制御する第１のアクチュエータと、
    第２のプリズムの動きを制御する第２のアクチュエータと、
    中心波長誤差を推定し、
    前記推定した中心波長誤差に基づいて前記第１のアクチュエータの第１の作動量を決定し、
    前記第１のアクチュエータを前記第１の作動量に基づいて作動させ、
    前記第１のプリズムが中心からずれているかどうかを判定し、
    前記第１のプリズムが中心からずれていると判定したことに応答して、前記第１のアクチュエータの第２の作動量を決定し、前記第２のアクチュエータの第３の作動量を決定し、
    前記第１及び第２のアクチュエータをそれぞれ前記第２及び第３の作動量に基づいて作動させるコントローラと、を備えたシステム。
  28. 前記中心波長誤差を推定するために、前記コントローラが更に、
    奇数バーストにおける中心波長の第１の平均値及び偶数バーストにおける前記中心波長の第２の平均値を計算し、
    前記第１及び第２の平均値の平均値を決定し、前記中心波長誤差が前記第１及び第２の平均値の前記平均値に基づいている、請求項２７のシステム。
  29. 前記第１の作動量を決定するために、前記コントローラが更に、
    ターゲット中心波長と前記推定した中心波長との差を決定し、
    前記第１の作動量を前記ターゲット中心波長と前記推定した中心波長との前記差に基づいて決定する、請求項２７のシステム。
  30. 前記ターゲット中心波長と前記推定した中心波長との前記差を決定するために、前記コントローラが更に、前記差をデジタルフィルタを使用して決定する、請求項２９のシステム。
  31. 前記第２のアクチュエータの前記第３の作動量が、前記第１のアクチュエータを前記第２の作動量に基づいて作動させた後の前記第１のプリズムの位置に基づいている、請求項２７のシステム。
  32. 前記第３の作動量を決定するために、前記コントローラが更に、前記ターゲット中心波長と前記推定した波長との前記差を小さくするように前記第３の作動量を決定する、請求項３１のシステム。
  33. 前記結像動作が多焦点結像動作を含み、
    前記システムが２色モードで動作する光源を更に備え、
    前記コントローラが更に、
    第１の波長の第１のレーザ放射ビームを、第１のレーザチャンバモジュールを使用して発生させ、
    第２の波長の第２のレーザ放射ビームを、第２のレーザチャンバモジュールを使用して発生させ、
    前記第１及び第２のレーザ放射を共通の出力ビームパスに沿ってビームコンバイナを使用して結合することによって、前記光源を前記２色モードで動作させ、
    前記中心波長誤差を推定することが、前記第１のレーザ放射ビームの中心波長誤差を推定することを含む、請求項２７のシステム。
  34. 光ビームを発生させる光源と、
    第１のプリズムの動きを制御する第１のアクチュエータと、
    第２のプリズムの動きを制御する第２のアクチュエータと、
    前記光源が発生させた前記光ビームの波長誤差を決定し、
    前記波長誤差が第１の閾値より大きいかどうかを判定し、
    前記波長誤差が前記第１の閾値より大きいと判定したことに応答して、前記第１のアクチュエータを第１のステップサイズで移動させ、
    前記波長誤差が前記第１の閾値より小さいと判定したことに応答して、
    平均波長誤差を決定し、
    前記平均波長誤差が前記第１の閾値と異なる第２の閾値より大きいかどうかを判定し、
    前記平均波長誤差が前記第２の閾値より大きいと判定したことに応答して、前記第１のアクチュエータを第２のステップサイズで移動させ、ローパスフィルタを有効にし、前記平均波長誤差が前記第２の閾値より小さいと判定したことに応答して、前記ローパスフィルタを有効にし、第２のアクチュエータに印加される電圧を更新し、前記第１のアクチュエータを第３のステップサイズで移動させるコントローラと、を備えたシステム。
  35. 前記波長誤差を決定するために、前記コントローラが更に、
    前記光源が発生させた前記光ビームの中心波長を測定し、
    前記中心波長とターゲット中心波長との差を決定する、請求項３４のシステム。
  36. 前記コントローラが更に、
    前記光源のパルスのショット数が更新間隔の倍数であるかどうかを判定し、
    前記ショット数が前記更新間隔に等しいと判定したことに応答して、前記第２のアクチュエータに印加された前記電圧を更新する、請求項３４のシステム。
  37. 前記コントローラが更に、前記波長誤差が前記第１の閾値より大きいと判定したことに応答して、前記ローパスフィルタ及び第２のアクチュエータの移動を不能にする、請求項３４のシステム。
  38. 前記第１のステップサイズが前記アクチュエータの固定ステップサイズである、請求項３４のシステム。
  39. 前記第２のステップサイズが前記波長誤差の関数である、請求項３４のシステム。
  40. 前記第３のステップサイズが前記第２のアクチュエータに印加された前記電圧の関数である、請求項３４のシステム。
  41. 前記第１のアクチュエータを前記第２のステップサイズで移動させるために、前記コントローラが更に、前記第１のアクチュエータをｎパルス（ｎは１より大きい）ごとに移動させる、請求項３４のシステム。
  42. 前記平均波長誤差が、前記波長誤差とパルス数にわたる複数の波長誤差の平均値とに基づいている、請求項３４のシステム。
  43. 前記システムが多焦点結像動作を実行し、
    前記コントローラが更に、
    第１の波長の第１のレーザ放射ビームを、第１のレーザチャンバモジュールを使用して発生させ、
    第２の波長の第２のレーザ放射ビームを、第２のレーザチャンバモジュールを使用して発生させ、
    前記第１及び第２のレーザ放射を共通の出力ビームパスに沿ってビームコンバイナを使用して結合することによって、前記光源を２色モードで動作させ、
    前記光源が発生させた前記光ビームの前記波長誤差を決定することが、前記第１のレーザ放射ビームの中心波長誤差を決定することを含む、請求項３４のシステム。
  44. 多焦点結像動作のために中心波長を制御するためのシステムであって、
    プリズムの動きを制御するアクチュエータと、
    ディザ波形を前記アクチュエータを移動させるためのオフセット値と組み合わせ、
    前記ディザ波形及び前記オフセット値に基づいてパルス間波長を発生させ、
    前記中心波長のローリング平均値を複数のパルスの前記パルス間波長に基づいて生成し、
    将来のパルスの中心波長を予測するためのドリフト速度を推定し、
    前記推定したドリフト速度に基づいて前記オフセット値を更新するコントローラと、を備えたシステム。
  45. 前記オフセット値が直流（ＤＣ）電圧に基づいている、請求項４４のシステム。
  46. 前記ＤＣ電圧の初期値がゼロボルトである、請求項４５のシステム。
  47. 前記オフセット値が第１のオフセット値を含み、
    前記ドリフト速度を推定することが、前記ドリフト速度を前記中心波長の前記ローリング平均値、前記第１のオフセット値、及び第２のプリズムの動きを制御する第２のアクチュエータを移動させる第２のオフセット値に基づいて推定することを含む、請求項４４のシステム。
  48. 前記ドリフト速度を推定するために、前記コントローラが更に、カルマンフィルタフレームワークを使用して蓄積中心波長ドリフト速度を推定する、請求項４７のシステム。
  49. 前記ドリフト速度を推定するために、前記コントローラが更に、現在のパルスよりＮパルス先の前記中心波長を予測する、請求項４８のシステム。
  50. 前記ドリフト速度を推定するために、前記コントローラが更に、前記カルマンフィルタフレームワークを、前記現在のパルスよりＮパルス先の前記中心波長を予測するためにカルマン予測器に変換する、請求項４９のシステム。
  51. 複数のパルスの前記パルス間波長が現在のパルスの波長を含む、請求項４４のシステム。
  52. 前記オフセット値を更新するために、前記コントローラが更に、前記オフセット値をバーストの終わりにおける前記中心波長の前記ローリング平均値に基づいて更新する、請求項４４のシステム。
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