JP2010524256A - レーザ光の帯域幅を安定化及び調節する方法及び装置 - Google Patents

レーザ光の帯域幅を安定化及び調節する方法及び装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2010524256A
JP2010524256A JP2010503050A JP2010503050A JP2010524256A JP 2010524256 A JP2010524256 A JP 2010524256A JP 2010503050 A JP2010503050 A JP 2010503050A JP 2010503050 A JP2010503050 A JP 2010503050A JP 2010524256 A JP2010524256 A JP 2010524256A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bandwidth
laser
control
output
controller
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2010503050A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2010524256A5 (ja
JP5718048B2 (ja
Inventor
ウィリアム エヌ パートロ
ロバート エヌ ジャック
ケヴィン エム オブライエン
俊彦 石原
Original Assignee
サイマー インコーポレイテッド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by サイマー インコーポレイテッド filed Critical サイマー インコーポレイテッド
Publication of JP2010524256A publication Critical patent/JP2010524256A/ja
Publication of JP2010524256A5 publication Critical patent/JP2010524256A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5718048B2 publication Critical patent/JP5718048B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/105Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the mutual position or the reflecting properties of the reflectors of the cavity, e.g. by controlling the cavity length
    • H01S3/1055Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the mutual position or the reflecting properties of the reflectors of the cavity, e.g. by controlling the cavity length one of the reflectors being constituted by a diffraction grating
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/102Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/64Imaging systems using optical elements for stabilisation of the lateral and angular position of the image
    • G02B27/646Imaging systems using optical elements for stabilisation of the lateral and angular position of the image compensating for small deviations, e.g. due to vibration or shake
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S2301/00Functional characteristics
    • H01S2301/02ASE (amplified spontaneous emission), noise; Reduction thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/13Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
    • H01S3/136Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling devices placed within the cavity
    • H01S3/137Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling devices placed within the cavity for stabilising of frequency
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/13Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
    • H01S3/139Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the mutual position or the reflecting properties of the reflectors of the cavity, e.g. by controlling the cavity length
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/22Gases
    • H01S3/223Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
    • H01S3/225Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms comprising an excimer or exciplex

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)

Abstract

フォトリソグラフィにおける集積回路製造のためのレーザ光源としてのような線狭化用途におけるような使用されるエキシマ又は分子フッ素レーザシステムのようなDUVガス放電レーザシステムにおけるような帯域幅の能動制御の技術を提供する。開示の主題の実施形態の態様により、誤差信号に基づいて帯域幅制御に向けて又はいかなるビーム倍率制御を利用することなく帯域幅以外の別のレーザ作動パラメータの制御に向けて、シードレーザ及び増幅器レーザにおけるガス放電間の差動タイミングを調節する段階、又は誤差信号に基づいて帯域幅制御に向けて又は帯域幅制御以外に対してビーム倍率制御を利用しながら帯域幅以外の別のレーザ作動パラメータの制御に向けて、シードレーザ及び増幅器レーザにおけるガス放電間の差動タイミングを調節する段階、及び誤差信号に基づいて帯域幅制御に向けて又は誤差信号に基づく帯域幅制御に向けたビーム倍率制御を利用しながら帯域幅以外の別のレーザ作動パラメータの制御に向けて、シードレーザ及び増幅器レーザにおけるガス放電間の差動タイミングを調節する段階を含むことができる方法及び装置を開示する。
【選択図】図7

Description

開示する主題は、フォトリソグラフィにおける集積回路製造のためのレーザ光源としてのような線狭化用途におけるような使用されるエキシマ又は分子フッ素レーザシステムのようなDUVガス放電レーザシステムにおけるような帯域幅の能動制御に関する。
DUV半導体集積回路フォトリソグラフィレーザ光源設計のためのE95のような帯域幅の安定化は、受動及び能動帯域幅制御を生じている。能動制御は、このような光源に関する光学性能補正(OPC)及びツール間整合のようなものに恩典を与えることができる。2006年4月13日出願の「帯域幅制御のためのシステムを有する2段エキシマレーザ」という名称の米国特許仮出願出願番号第60/923、486号は、2006年2月17日出願の「OPE最小化のためのDUV光源の能動スペクトル制御」という名称の米国特許仮出願出願番号第60/774、770号に対する優先権を請求する、2006年8月25日出願で2007年8月23日公開の米国特許公開番号US−2007−0195836−A1である「DUV光源の能動スペクトル制御」という名称の米国特許出願出願番号第11/510、037号の開示を含み、これらの各々の開示内容は、本明細書において引用により組み込まれている。特許出願出願番号第11/510、037号は、粗動及び精密制御アクチュエータを使用する多段帯域幅制御システムを開示している。
その出願は、他のアクチュエータと共にアクチュエータ(制御権限)として回折格子曲げ(回折格子を曲げる帯域幅コントローラ「BCD」の位置)の利用を開示している。帯域幅安定化を可能にする様々な技術が説明されている。能動帯域幅制御システムは、E95のような非常に正確な搭載型スペクトル測定及び帯域幅誤差フィードバックを使用することができる。ターゲットエネルギ及び負荷サイクルのような他のレーザパラメータ/出力信号に基づく補正は、低周波大振幅アクチュエータ及び高周波小振幅アクチュエータを含む様々な帯域幅選択アクチュエータの制御を可能にすることができる。
フォトリソグラフィ光源レーザ、すなわち、多重入力多重出力(MIMO)時間変動非線形システムは、望ましいか否かに関わらず、それ自体で帯域幅を変えること以外にレーザ性能に他の影響を引き起こす可能性があると考えられるアクチュエータを使用する可能性があるであろう。別々の作動パラメータ入力(アクチュエータ)でレーザ挙動に影響を与えることを含む多段、例えば、2段アクチュエータ設計は、協働して、特定の部類の外乱に応答するように最適化することができると考えられる。外乱は、影響の時間スケール及び/又はマグニチュードにより分類することができる。パルスエネルギ設定値は、低マグニチュード高速時間スケール外乱(典型的には微細作動範囲でmsecからsec)を含むことができる。負荷サイクル設定値の高(時間スケール、秒)及び低(時間)周波数態様及びフッ素ガス消費量(時間)変化は、マグニチュード効果の増大を誘導する可能性がある。他のより長期のパラメータ変化、構成要素経年変化、及び不整合(日単位から週単位又は更に長期)は、最大マグニチュード(粗い作動範囲における)変化をもたらす可能性がある。
従って、各々が1つ又はそれよりも多くのパラメータ変化アクチュエータを利用する粗い作動及び微細作動に分けた制御アクションが開示された。一方は、大マグニチュード低周波数外乱(例えば、緩やかな熱負荷変動及びレーザ構成要素の老朽化などから生じる大きいE95設定値変化、ガス経年変化効果、及び負荷サイクル変化の長時間スケール成分)をターゲットにすることができると考えられる。他方は、小マグニチュード高周波数外乱(出力パルスエネルギ及び例えば高速熱負荷遷移などから生じる負荷サイクル変化の高速成分)をターゲットにすることができるであろう。粗動アクチュエータはまた、その制御範囲内で精密アクチュエータを脱飽和又は再集中させる役目をすることができる。
(F2ガス注入)のような粗動アクチュエータ及び精密アクチュエータ(ΔtMOPA)、回折格子曲げ又は他の波面適合調節、又はビームの調節可能な絞り制御などは、帯域幅を調節するように示されており、他のレーザパラメータに様々な影響を与え、フィードバック及び作動に対する測定の時間フレームを有して帯域幅制御に向けて結合解除及び共用を可能にするものである。本明細書で使用する時、dtMOPA、又はΔtMOPA、又は差動発射タイミング、又は差動放電タイミング、又は差動整流制御という用語は、全て、増幅器利得媒体内のシードレーザパルスの一部分を選択的に増幅してレーザ光源の出力の帯域幅を選択するためにシードレーザ電極と増幅器レーザ電極間の放電のタイミングを計るという概念に関する省略表記である。十分な作動範囲は、長期負荷サイクル変動、ガス経年変化、及び構成要素経年変化からの一般的に抑制する必要がある影響からの帯域幅の偏差に対処することができることが注目された。他のレーザ作動パラメータによる誤差信号変動に対してコントローラを補正/減感処理することができると考えられる(フィルタリング及び他の正規化)。
分散回折格子のような中心波長選択光学要素上に入射するビームの可変倍率も、光源の帯域幅に影響を与える可能性がある。このようなシステムは、2002年5月21日にBastingに付与された米国特許第6、393、037号に説明されており、この特許の内容は、本明細書において引用により組み込まれている。Bastingの要約は、角分散光学要素(回折格子)と帯域幅を調節する線狭化モジュールにおける1つ又は2つの回転可能プリズムを含むビーム拡張器とを含む同調可能レーザを説明している。プリズムビーム拡張器は、2台使用中は、拡大倍率が変わる時に分散要素上のビームの入射角が変わらないように互いに機械的に結び付けられるように開示されている。この構成は、回転可能プリズムを利用して中心波長、並びに帯域幅を制御することを、不可能でないとしても、非常に困難にする。更に、相前後して作動する2つのプリズムを使用する帯域幅制御システムは、かなり面倒なものである。
GigaPhotonは、何らかの種類の光学作動を使用してE95制御を行う製品を宣伝していると考えられる。2004年7月9日公開の日本特許公開出願第2006−24855号は、2つの回転可能プリズムを有し、帯域幅制御のためのシードレーザと増幅器レーザ間の差動放電発射タイミングを使用する可変倍率LNMも開示している。このような構成は、プリズムを使用して中心波長及び帯域幅を制御することを、不可能でないとしても、困難にし、このようなシステムのdtMOPAによる帯域幅の制御は、ある一定の欠点を有する場合がある。
米国特許第6、393、037号から取った図12は、ΔtMOPAを使用するE95帯域幅制御権限を示している。E95帯域幅を制御するための精密アクチュエータとしての差動発射時間の使用には、(1)E95の測定及びΔtMOPAの変更が、いずれも、数十パルスの時間的スケール又はパルス間のようなより短いスケールで発生する可能性があり、非常に高い周波数の外乱の排除を考慮しており、かつ(2)利用可能作動範囲が、ターゲットにされている帯域幅偏差の原因、すなわち、レーザエネルギ及び負荷サイクル変動のより高い周波数の影響を減衰/抑制するのに十分に大きいということを含むいくつかの利点がある。
既存の形式の能動帯域幅制御には、フッ素注入の後の過渡期のような大きな外乱、又はターゲット帯域幅の変化から回復するのに時間が掛かりすぎるというようないくつかの欠点がある可能性がある。これらは、帯域幅を一例として55ショット移動平均を考慮すると≧5fmほど大きく、又は一例として直角に追加される55ショット移動標準偏差を考慮すると≧6fmだけターゲットから外す可能性があると考えられる。ターゲットへの復帰に、10秒を超える時間を消費する可能性があるであろう。
更に、特に低負荷サイクルでは、300fmから400のようなターゲット変化は、遅すぎる可能性があり、すなわち、要件が約10秒ほども低い場合がある時に、約20秒ほども長く掛かるか、又は400fmから290fmまで約30秒も長く掛かる。
とりわけ、誤差は、帯域幅のサンプリングがより低頻度である低負荷サイクルでステップ指令がバースト中に発生しないことになる可能性が遥かに高くなるように、コントローラステップ信号を帯域幅アクチュエータステッパに発することができる前の過剰なパルスの延期のような制御信号のフィルタリングからもたらされる可能性がある。ステッパ指令又はステッパ自体がバースト間間隔中に使用不能にされる場合があるので、帯域幅のバースト間誤差は、従って、互いの上に蓄積され、補正信号が帯域幅制御アクチュエータに出されない可能性がある。
米国特許仮出願出願番号第60/923、486号 米国特許仮出願出願番号第60/774、770号 米国特許公開番号US−2007−0195836−A1 米国特許出願出願番号第11/510、037号 米国特許第6、393、037号 日本特許公開出願第2006−24855号 米国特許第6690704号 米国特許出願出願番号第11/173、988号
従来技術の帯域幅安定性制御は、設定された自動方式で帯域幅制御設定値の設定を可能にするものであった。要件が厳しくなると、レーザ光源のエンドユーザにより制御可能な同調可能帯域幅設定が必要になる。また、帯域幅制御システムが、出力パルスエネルギ及び線量安定性などのような他のレーザ作動又は出力パラメータの制御に悪影響を与えないことも必要である。
レーザ共振空洞の外部にあり、かつ他の帯域幅制御アクチュエータと組み合わせる可変開口を使用する本明細書で提案する能動帯域幅制御には、従来技術に優る様々な利点がある。空洞内の光学器械は、特に単一チャンバにおいて又は光学負荷が最も厳しい多重チェンジャレーザシステムの増幅器において簡素化され、その数を低減することができる。可変開口は、他のアクチュエータと組み合わせて、帯域幅制御のための粗動又は精密のいずれかの調節器とすることができる。
帯域幅制御装置E95感度曲線を示す図である。 開示の主題の実施形態の態様による外乱形式及び時間スケール及びマグニチュードを示す図である。 開示の主題の実施形態の態様による可変倍率線狭化モジュール及び差動発射時間(dtMOPA)帯域幅制御を有する多段ガス放電レーザシステムを概略かつブロック図形式で示す図である。 開示する主題の実施形態の態様による少なくとも1つのプリズムが回転してビーム幅を増加/減少することによって帯域幅を変えることができる4つのプリズム及び回折格子を有する実施形態を概略かつブロック図形式で示す図である。 開示の主題の実施形態の態様で有用なレーザ制御システム全体的アーキテクチャを示す図である。 開示の主題の実施形態の態様により制御すべき代表的なレーザシステム「プラント」を概略かつブロック図形式で示す図である 開示する主題の実施形態の態様による帯域幅コントローラを概略かつブロック図形式で示す図である。 開示の主題の実施形態の態様によるショット平滑器を概略かつブロック図形式で示す図である。 開示の主題の実施形態の態様による不感帯ヒステリシスブロックを概略かつブロック図形式で示す図である。 開示の主題の実施形態の態様による制御モードセレクタを概略かつブロック図形式で示す図である。 開示の主題の実施形態の態様によるプリズム及び中心波長選択ミラーを有する実施形態を概略かつブロック図形式で示す図である。 ΔtMOPAを使用するE95帯域幅制御権限を示す図である。 開示の主題の実施形態の態様による可変倍率LNMを示す概略図である。 開示の主題の実施形態の態様による調節可能な開口帯域幅制御アクチュエータ(制御権限)を概略かつブロック図形式で示す図である。 開示の主題の実施形態の態様による帯域幅制御システムを概略かつブロック図形式で示す図である。
開示の主題の実施形態の態様による能動帯域幅制御は、その目的として、以前に使用した能動帯域幅制御システムと同じか又は類似の入力信号を利用するが、異なる信号処理及び作動機構でレーザ光のE95帯域幅を制御することを有する。従って、レーザエンドユーザにより又はレーザ光利用ツール制御システムにより選択することができる何らかのターゲット設定値に帯域幅を制御する同調可能な最新帯域幅安定化「ABS」(T−ABS)を提案する。
±50fm又はそれ未満まで(一定のパルス繰返し数又は他の選択された一定作動パラメータに対して)の帯域幅の制御を提案し、50fmを超える帯域幅の誤差があると、システムは、0.0003fm/レーザショットに等しいか又はそれよりも大きく設定値に戻ることができる。中心波長は、帯域幅制御がターゲット変化モード(一例として55ショット移動平均波長値を考慮して<5fmまで、及び直角に追加することができる55ショット移動標準偏差を考慮して<6fmまで)以外である間は影響がないか又は最小の影響である。制御アルゴリズムは、本明細書で説明するように、可変倍率線狭化モジュール(VMLNM)、帯域幅制御モジュール(BWCM)、ビーム分析モジュール(BAM)を含む帯域幅選択(粗い選択及び精密選択)に向けて様々な帯域幅アクチュエータ制御ステッパを利用することができる。
測定E95信号は、帯域幅制御装置(BCD)などに対する調節を判断するのに使用する。中心波長選択回折格子を変形させ、従って、レーザ光源の出力の帯域幅に影響を与える機構を含むBCDは、当業技術で公知である。帯域幅制御は、図1に示すように、BCD曲線の右側又は左側などのBCD作動曲線の特定の側に留まることを目的として達成することができる。
本出願人は、引用により本明細書で組み込まれる2006年8月25日出願で2007年8月23日に公開の米国特許公開番号US−2007−0195836−A1である「DUV光源の能動スペクトル制御」という名称の米国特許出願出願番号第11/510、037号においてより詳細に説明されているように、図2の図表に示すようなE95帯域幅のようなレーザ作動パラメータに影響を与える時間スケール及び/又はマグニチュードにより外乱を分類することができることに注目した。同公報に説明されているように、エネルギ変化又はより高い周波数の負荷サイクル効果のような微細作動範囲82、又はより低い周波数の負荷サイクル効果、ガス経年変化、又は構成要素経年変化/不整合のような粗い作動範囲84におけるそのような外乱80は、粗動又は精密又はその両方をあわせた帯域幅制御アクチュエータより対処することができる。
図3は、可変倍率線狭化モジュール及び差動発射時間(dtMOPA)帯域幅制御を有する多段ガス放電レーザシステムを示している。第1段は、主発振器(MO)とすることができ、その後の段は、振動が増幅段として働く共鳴空洞内で発生する一回通過電力増幅器、多重通過電力増幅器、電力発振器、又は進行波増幅器のような電力リング増幅器とすることができる。
このようなレーザシステムの例は、その構成に基づいて、図3に示す構成要素の一部又は全部を含むことができる。図3に示す構成要素は、可変倍率線狭化モジュール502、第1段チャンバ504、第1段出力カプラ506、回転光学器械508a、b、入力カプラ510、第2段チャンバ512、ビームスプリッタ514、帯域幅測定モジュール516、及び放電タイミング制御モジュール518を含む。シードレーザ504は、XCl、XF、KrF、ArF、又はF2などのレーザのようなガス放電エキシマ又は分子フッ素レーザ又は同様のレーザとすることができる。これらの形式のレーザは、半導体回路を製造するウェーハのフォトリソグラフィ処理に使用されることは公知である。シードレーザ504は、線狭化モジュール502と出力カプラ506との間におけるような光空洞を形成し、かつ出力を生成することができる。増幅器レーザ512は、中継光学器械(ミラー508a及びb)を通じてシードレーザ出力を受け取り、シードレーザ出力を増幅してレーザシステム出力を生成することができる。帯域幅測定モジュール516は、当業技術で公知のように、レーザ出力の帯域幅を測定して帯域幅測定値を供給することができ、帯域幅測定値は、帯域幅コントローラ516を使用することができ、帯域幅コントローラ516は、以下で説明するように、ターゲット/設定値と比較した帯域幅誤差を生成する別々のユニットとすることができる。差動タイミングは、レーザシステム出力帯域幅を調節するように、誤差信号に応答して調節することができる。
図4は、4つのプリズム520、522、524、526及び回折格子528を有する帯域幅(及び中心波長)アクチュエータ機構(制御権限)の可能な実施形態を示している。プリズム520は、ビーム幅増加/減少することによって帯域幅を変えるためにプリズム520がステッパモータ(図示せず)及び/又はPZT(図示せず)を通じて回転可能であるように、回転運動取付け、例えば、撓み取付けを含む方法でアクチュエータ(図示せず)上に取り付けることができる。プリズム522は、固定のままとすることができ、又は回転位置アクチュエータ(図示せず)を有することができる。プリズム524は、プリズム520に対して説明するように、例えば、中心波長(例えばフェムトメートル台の変化で)を微調節するために、回転移動が得られるように取り付けることができる。プリズム524は、中心波長(例えば何十フェムトメートル台で)を粗調節するように取り付けることができる。
図11は、帯域幅(及び中心波長)アクチュエータ機構(制御権限)の可能な実施形態を概略的に示しており、このようなRMAXミラー540及びそのアクチュエータ540aは、レーザシステム中心波長選択に対して当業技術で公知のように、回折格子上へビーム拡大プリズム526から現れる拡張ビームを折り返すために利用することができる。回折格子528は、45X拡張ビームのような拡張ビームを利用するために、細長回折格子とすることができる。ミラー540は、回折格子528上でのビームの入射角を判断することによって、中心波長制御にある程度使用することができる。当業技術で公知であるRMAX折り返しミラー自体は、単一の光学要素を中心帯域幅粗動制御及び精密制御し、すなわち、上述のように、粗動制御にステッパモータ(図示せず)を、中心帯域幅精密及び高速制御にPZTスタック(図示せず)を利用することができる。プリズム520のような中心波長制御プリズムと組み合わせて、RMAXミラー540は、回折格子528に対する角度のこのような制御を保持し、すなわち、PZTスタックの精密制御のみを利用してあらゆるステッパモータ制御は使用しない場合がある。中心波長制御プリズム(例えばプリズム520)は、粗動制御に使用することができ、RMAX折り返しミラー540は、より精密な中心波長制御又はその逆にその後に使用することができる。
後者の実施形態では、PZTスタックを排除することができ、中心波長粗動制御に向けてRMAX折り返しミラーを位置決めするためにステッパモータのみを使用することができ、一方、中心波長制御プリズムは、より精密な中心波長選択に使用することができる。代替的に、ビーム拡大機構の一連のプリズムのプリズムマウントの各々は、粗調節に向けてステッパモータ、微調節に向けてPZTスタックを有するRMAX同様の粗動制御及び精密制御を有することができ、又は粗調節プリズムは、ステッパモータ又は同様の機械的調節で制御することができ、微調節プリズムは、PZTスタックのようなより高速かつより精密な制御アクチュエータにより制御することができる。
信号をレーザハードウエアから受け取って最近のレーザ光からE95帯域幅の測定値を示すことができる。次に、図7に示すもののようなコントローラ、又は要素502及び/又は518の各部は、様々なフィルタリング、不感帯、ヒステリシス、及び平滑化を通じてこれらの信号を処理することができ、かつ一例として、機械及び/又は光学構成要素の移動又は歪曲のような機能を実行することができるアクチュエータに対する指令の形態で出力を生成することができる。このような構成要素の移動又は歪曲は、帯域幅誤差を低減するためにE95帯域幅の変化を引き起こすことができる。
倍率制御が実施されなく、すなわち、可変倍率LNM変動システムが使用されない場合には、可変倍率による帯域幅制御に影響がないように、例えば、いくつかの制御モードがある場合がある。このモードにおいては、2つのサブモード、すなわち、直接に帯域幅を制御するためにdtMOPAレーザタイミングが使用されないものと、直接に帯域幅を制御するためにdtMOPAレーザタイミングが使用されるものとがある場合がある。
第2の倍率ドライバモードにおいては、可変倍率は同じく使用されないが、システムは、可変倍率を45Xのような何らかの選択値に駆動する。第1のdtMOPAタイミングモードに代わるこの第2の可変倍率モードにおいては、エネルギ及びタイミング制御アルゴリズムは、dtMOPAを設定するので、MOPAも可変倍率も帯域幅制御に向けて変更されない(完全な45X倍率のような選択値に駆動されることは別として)。第2のdtMOPAタイミング制御モードに対しては、倍率は、dtMOPAを使用して設定し、一方、倍率は、例えば45X倍率に保持される。
倍率により何らかの帯域幅フィードバックに基づいて帯域幅が制御される場合は、別の倍率制御モードを使用することができる。倍率は、次に、上述のように、帯域幅のターゲットに基づいて選択することができる。第1のdtMOPA制御モードに代わるこの倍率制御モードにおいては、エネルギ及びタイミング制御アルゴリズムは、レーザ効率及び線量安定性などのような帯域幅制御以外の理由でdtMOPAタイミングを設定する。倍率は、dtMOPAとは独立に選択された帯域幅をもたらすように選択される。第2のdtMOPA制御モードにおいては、VMLNM及びdtMOPAの倍率は、共に、ターゲット帯域幅をもたらすように選択することができ、一方は、帯域幅粗選択機構と使用され、他方は、精密選択機構として使用される。
ヒステリシス構成による不感帯が利用されるようにシステムを設定することができ、それによって一例として制御は、誤差(絶対値)がより大きい/外側不感帯を出た時にのみオンになり、誤差が小さい方の/内側不感帯内に戻った時にオフになる。また、帯域幅モータディザリングは、方向を変える前に一方向でのマイクロステップ数の下限を用いるなどのように使用することができる。帯域幅ターゲット変化に加えて、システムは、一例として、100パルスバースト長に対して5%DCで10秒のような特定の負荷サイクルに対して何らかの時間制限内で新しいターゲットをもたらすように構成することができ、一方、フォトリソグラフィのための光源の使用は無効にされる。それによってジッタを制限すると共に、及び/又は特定の顧客要件に帯域幅制御をカスタマイズすることができる。
フィルタリングした帯域幅が不感帯の外側にある時、コントローラは、一方向だけにステッパを指令することができ、不感帯境界線の近くの作動と関連のジッタが防止される。この制御により、帯域幅(誤差信号)が高/外側不感帯値を上回った場合は、帯域幅制御アクチュエータフィードバック位置/開始指令投入が有効になり、帯域幅(誤差信号)が低/内側不感帯値を下回った場合は、指令投入が無効になる。そうでなければ、システムは、帯域幅(誤差信号)が高/外側と低/内側不感帯値の中間にある間は電流指令投入状態(有効状態又は無効状態)を変えたりしない。換言すれば、帯域幅(誤差)信号が、高値からこの領域に入って、入った時点で指令投入が有効状態であったように不感帯限界値間にある時、指令投入は、帯域幅(誤差信号)が低/内側不感帯値を横切って指令が無効になるまで有効状態のままである。同様に、指令投入が無効状態である場合に低/内側不感帯値よりも小さい値から来ると、この機能は、(誤差信号)が高/外側不感帯値を横切るまで無効状態のままである。
不感帯のサイズは、ジッタ、外乱に対するコントローラ応答時間の全体速度、及び許容帯域幅誤差のマグニチュードの低減のようないくつかの性能値とトレードオフするように選択することができる。
システムは、関数発生器を利用することができ、関数発生器は、一例としてのみ、ステッパモータのような帯域幅制御アクチュエータにショットカウントの任意関数であるように指令するために豊かな特徴の集合を使用することができる。
ソフトウエア内で(ハードウエア更新性を容易にするために)別々のハードウエア及びソフトウエア「利得」を用いることができる。
一例として、バースト開始後の30ショット以内のような特定の数のパルスの範囲の帯域幅ステップが許容されないようにコントローラ延期を利用することができる。
可変倍率LNMのような帯域幅アクチュエータを使用して帯域幅制御システムの3つの基本的作動を実行することができる。ショット処理は、ショット毎に行うことができる(ショットは、LAM更新により表示される)。帯域幅ターゲット変化処理は、帯域幅ターゲットが変わった時に行うことができる。
ショット単位でのような線中心(波長)分析モジュール(LAM)が波長データを戻した時はいつでも、ショット処理論理を実行することができる。入力信号は、ショットデータ記録を使用する際に渡すことができる。アルゴリズムは、計算を行って結果を同じショットデータレコード内にポピュレートすることができる。帯域幅分析モジュール(BAM)ステータス信号を利用して、E95帯域幅データのような新しい帯域幅データが利用可能であるかを判断することができる。システムは、次に、粗悪であるか又はそれ以外に無効な帯域幅データの除去を試行することができる。
可変倍率線狭化モジュール(VMLNM)のような帯域幅制御アクチュエータを使用するもののような帯域幅制御システムは、(1)約±50fmのような何らかの選択した帯域幅内まで帯域幅安定性をもたらし、(2)約0.0003のfm/ショットのような選択した速度でターゲット又は設定値から帯域幅の誤差を補正し、(3)約5fmの更に別の55ショット移動平均波長誤差のような選択した値のみ、及び約6fmの更に別の55ショット移動平均波長偏差のような選択した値のみを許容する帯域幅アクチュエータによる帯域幅制御を用いた時のように確実に波長安定性が維持されるようにし、(4)性能を変えるために使用することができるヒステリシスを有する不感帯を含み、(5)別の方向でのステップが取られる前に1つの方向での約16ステップのようなステッパが少なくとも選択した数を取らなければならないようにステッパモータディザリングを防止し、かつ(6)一例として、200パルス/秒(4kHzパルス繰返し数レーザシステムの場合)の最小ショット率を考慮して、約10秒のような選択時間内に達成することができる帯域幅ターゲット変更を提供するために要求される場合がある。
従って、フィルタは、帯域幅最新情報にのみ利用することができる。帯域幅最新情報においては、他の機能(例えばステップ平滑化)が行われる場合があるが、大部分の他の機能は、フィルタリング後の誤差に依存する。従って、帯域幅最新情報が変更中ではない時及びその場合、他のコントローラ状態も一定のままである。システムは、MOPAモード及びBWステッパモードのタイミングを用いて判断した帯域幅制御アルゴリズムを使用することができ、かつBWステッパモータ関数発生器/再生器を利用して基線倍率へのBWステッパの「リセット」も行うことができる。
帯域幅ターゲットは、約10秒のような何らかの選択時間を変更するのに必要である場合がある。波長安定性は、帯域幅ターゲット変更中は仕様内であることを要求されない場合がある。ターゲット変更は、ステッパが最速速度で移動する必要がある場合があることを示唆している。アルゴリズムは、可能な限り速い速度で正しい方向で移動するようにステッパに指令し、次に、帯域幅がターゲットに近い時にステッパを停止することができる。代替的に、アルゴリズムは、帯域幅対ステップ曲線及び絶対ステップの位置感知の知識を用いて、ターゲット帯域幅をもたらすために取るべき正しいステップ数を推測することができる。
現在のバースト内で発射するショット数がバースト開始時帯域幅ステッピングを防止するショット数を示す格納値に等しいか又はそれ未満である場合、かつターゲット変更モードの状態が有効状態(1)である場合、システムは、フィードバック制御に基づいて、このショットに対して取るべきステップ数を=0に設定することができる。このショットで取るべき帯域幅ステップの総数は、フィードバックに基づいて指令したステップ数に等しくなるように、可変倍率プリズム回転ステッパのような帯域幅制御機構作動ステッパに指令するマイクロステップの数であるように計算することができる。
アルゴリズム出力は、可変倍率ステッパのような制御アクチュエータに指令するマイクロステップ数の絶対値がゼロを超える場合か、又は現在のターゲット変更状態が以前のターゲット変更状態と同じではない場合のように更新することができ、次に、アルゴリズム出力は、0に設定することができ、他の場合は1に設定することができる。アルゴリズム出力は、以下でより詳細に説明するBWCMが帯域幅制御機構作動ステッパを更新する信号を生成することを可能にするか又は可能にしないためなどのように帯域幅変化を作動させて誤差信号を低減する新しいステッパ指令をコントローラに送る必要があるか否かを示す信号とすることができる。ステッパは、可変倍率LNM回転プリズムのためものとすることができる。
ターゲット変更が検出された時、アルゴリズムは、現在のフィルタリング後の誤差、前の帯域幅ターゲット及び新しい帯域幅ターゲット、すなわち、フィルタリング後の誤差に前のターゲットを加え、新しいターゲットを引いた値に基づいて新しい追跡誤差を判断することができる。それによってステッパが入るべき正しい方向をもたらすことができる。アルゴリズムは、次に、フィルタリング後の誤差が新しい追跡誤差に等しいようにフィルタをリセットすることができる。システムは、フィルタリング後の帯域幅誤差が過剰ショットなしにスルーイングの停止を可能にする何らかの選択範囲になるまで所要の方向に最大速度で移動する(「スルーイング」という)ようにステッパに指令することができる。アルゴリズムは、フィルタリング後の誤差によりスルーイング中に符号が変わるか否かを検査することができる。これらの条件のいずれかが満たされた場合、コントローラは、通常の制御に戻ることができる。
帯域幅「スパイク」は、大きな波長変化により発生する場合がある。帯域幅ターゲット変更スルーイング中に、波長への帯域幅ステッピングの結合のために波長に影響を与えることができる。波長コントローラがこれらの変化を補正することができるが、ステッパがスルーイングし続けた場合は波長が変化することがあるなど、バースト間間隔中には補正することはできない。バースト間間隔の後、波長コントローラは、新しくて比較的大きな波長誤差に反応すべきであることがある。それによって結果として、本質的に2pm分変化することができるとしても、急速で大きな波長の変更が発生することがあり、RMAX上のPZTスタックのような超高速(かつ精密な)波長制御機構又はプリズム位置決め要素は、1次波長制御源として働いて、回折格子上でのビーム入射角を変える。
BAM積分期間中の波長の変化は、帯域幅の増加としてBAMが知覚することができる。一般的に、波長が速く変わるほど、BAM寸法の正バイアスが大きい。波長変化が十分に速い場合、一部の場合には、激しく大きな「スパイク」をBAMが報告することがある。ターゲット変更中に、このようなスパイクのために、コントローラは、帯域幅スルーイングが完了していることを意味するとスパイクを誤解してターゲットに到達する遙かに前に通常の制御へ戻ることがある。このために、ターゲット変更は、10秒を超えるなどの選択時間よりも遥かに多くの時間を消費する可能性がある。
コントローラは、これらの帯域幅スパイクをフィルタリングするいくつかの方法を実行することができる。スパイクは、短い時間にわたる大きな波長変化により引き起こされる場合がある。波長がBAM中にある一定の量を上回って変化した時に帯域幅測定値を無視すると、積分窓は、波長の「全包含範囲(TIR)」が何らかの所定値を上回った時に帯域幅測定値を無視するフィルタとして働く。実際の帯域幅(+ノイズ)に対する物理制限により、何らかの所定値(例えば、2x最大帯域幅)より大きなあらゆる帯域幅読取値を無視するフィルタリングが可能である。帯域幅読取値がフィルタリング/無視された時、最終有効(すなわち、無視されなかった)測定値を代わりに用いることができる。典型値は、最大許容波長TIR=300fm及び最大許容報告帯域幅=1000fmとすることができるであろう。
バーストの最初の数ショットは、波長及びエネルギの両方において、大きくて時々には反復可能な過渡期で特徴付けることができることが多い。波長制御アルゴリズムは、これらのバースト過渡期に対する過剰反応を防止することができる論理を含むことができる。しかし、波長は、この初期期間中には外乱に向けて感応する。帯域幅ステップ(波長が変化する原因になる場合がある)は、本明細書ではバースト延期というバーストの最初に選択した数のショットに対して防止することができる。停止するショット数は、コントローラ作動パラメータであり、約3ショットとすることができる。
図13に概略的に示す別の可能な実施形態により、帯域幅及び波長を制御する4つのプリズム520、522、524、及び526を有するLNMが示されている。プリズム524及び526の2つは、図4及び図5に示すプリズム524、526のアクチュエータと同様にアクチュエータ(図示せず)により回転させることができる。一方のプリズム526は、ステッパモータアクチュエータ(図示せず)により回転させることができ、他方のプリズム524は、PZTスタック(図示せず)により回転させることができる。これらの2つのプリズム526及び524は、それぞれ波長の粗調節及び微調節に使用することができる。プリズムの位置決めは、ターゲット変更又は中心波長ドリフトのために的確ではない中心波長に応答する中心波長制御システムからの信号に応答するものとすることができる。他のプリズムの少なくとも1つは、プリズム520のような帯域幅制御に回転可能にすることができる。回転は、ステッパモータ(図示せず)を使用して達成することができる。
図5は、帯域幅制御モジュール(BWCM)220及び可変倍率線狭化モジュール(VMLNM)222が追加された本明細書において引用により組み込まれている米国特許第6690704号に説明されているコントローラと全体的に同じである帯域幅及び波長制御を含むレーザシステムコントローラ200の全体的なアーキテクチャをブロック図の形態に示している。発射制御プラットフォーム(FCP)プロセッサ202は、Cymerの7000シリーズレーザシステムと同様に単一チャンバレーザシステムにおいて、又はCymerのXLAシリーズのMOPAレーザシステム又はXLRシリーズのリング電力増幅器MOPOレーザシステムのようなシードレーザ増幅器構成の複数のレーザの各々の電極の間において電極間の放電の発射を制御することができる。FCP202は、制御アルゴリズムソフトウエアを利用して、発射制御通報器(FCC)204に制御信号を供給することができる。
FCP202は、レーザ制御プロセッサ(LCP)206からの指令信号に応答してLCP206と通信することができる。FCC204は、帯域幅に対しては、米国特許第6690704号に説明されている分光分析モジュール(SAM)、及び中心波長に対しては線中心分析モジュール(LAM)212多少類似したビーム分析モジュール(BAM)210からの波長及び帯域幅情報を受信することができ、FCP202を中断して波長又は帯域幅制御アルゴリズム又はその両方を実行することができる。FCC204は、FCP202指令を帯域幅制御モジュール(BWCM)220に渡すことができ、可変倍率線狭化モジュール(VMLNM)に存在することができるような帯域幅制御モジュール(BWCM)220を利用して帯域幅又は波長を制御するのに使用する全てのアクチュエータを指令することができる。VMLNM222及びそのアクチュエータの状態は、FCC204を通じてFCP202に伝達することができる。
図6は、代表的なレーザシステム「プラントモデル」をブロック図の形態に示すものであり、帯域幅(又は恐らく波長)ステッパモータステップ指令232を加算器234に入力して1サンプル遅延236の出力と合計してステップ対BWルックアップに入力を提供し、ルックアップは、予想帯域幅値を生成し、予想帯域幅値は、加算器242に入力されて、外乱ブロック240から外乱の表現と合計される。次に、1サンプル遅延ブロック244があり、加算器242の出力は、測定帯域幅が出力249であるべき姿の表現を生成するために、ブロック248からの定数及びノイズブロック247からのノイズと加算器246内で合計される。
図7は、帯域幅コントローラ250の例示的な例を表している。コントローラ250は、帯域幅(又は恐らく波長)ターゲット252、測定帯域幅(波長)254及び波長TIR256の入力を有することができ、そのうちの後者の2つは、「不良」帯域幅測定プロセッサ257への入力であり、「良好」帯域幅の出力は、ノイズフィルタ260への入力を提供するようにターゲット帯域幅入力252と加算器258内で合計されることになる。帯域幅測定値をフィルタリング/無視すべきである場合(例えば、測定値つまりTIRが大きすぎるために)、ブロック257の出力は、先に測定した「良好な」帯域幅になり、他の場合には、測定帯域幅は、ブロック257を通過させることができる。
ノイズフィルタ260の出力は、ステップ指令経路、モード選択経路、及びスルーイングステップ経路への入力を提供する。ステップ指令経路は、ヒステリシス「オンオフ」ボックス262を有する不感帯を含むことができ、その例を図9でより詳細に示している。ヒステリシスを有する不感帯の出力がフィードバック作動有効状態/オンモード(例えば1)である場合、乗算器270の出力は、ノイズフィルタ260の出力であり、乗算器270の出力がフィードバック作動無効状態/オフモード0である場合、乗算器270の出力は0である。乗算器270の出力は、制御利得増幅器274内の利得係数Kにより増幅され、指令飽和ブロック274を通過して、ステップ平滑器276に至るが、その例を図8でより詳細に示している。指令飽和ブロックを利用して中心波長制御に対する帯域幅ステップ率の影響を制限することができる。ショット当たりの最大ステップ数(例えば、0.1xBAMあたりショット/帯域幅測定更新(通常30))に等しい限界値を確立することができ、これは、このような一般的な場合は3ステップになる。
モード選択経路は、制御方式セレクタ264を含むことができ、その例を図10でより詳細に示している。モードセレクタ264は、BW誤差入力に対するノイズフィルタ260の出力、及び入力252から帯域幅ターゲットへの入力として有するターゲット変更検出器268の出力を入力として受け取る。ターゲット変更検出器268の出力は、モードセレクタ264のターゲット変更入力部への入力を形成する。スルーイングステップ経路は、ノイズフィルタ260の出力を受け取る符号ボックス266を含むことができ、ノイズフィルタ260の出力は、ターゲット変更スルーイングステップ増幅器278内で係数Nにより増幅される。
これらの経路の各々の出力は、3極スイッチ280のそれぞれの端末の入力になり、3極スイッチ280の出力は、ステップ指令284である。
図9は、図7に示すように入力290としてノイズフィルタ260の出力を有することができる不感帯ヒステリシス制御ブロック262をブロック図の形式で示している。入力290は、絶対値関数ブロック292に供給することができ、絶対値関数ブロック292の出力は、中継ブロック294に供給することができ、中継ブロック294は、一例として、「オン/オフ」出力296を供給するヒステリシスを有する対称スイッチを含むことができる。対称スイッチ294は、帯域幅誤差又は一部の場合には帯域幅誤差に対して帯域幅自体内にある状態で不感帯と共に測定した帯域幅が外側/高不感帯値を超える時に「オン」出力(1)を、内側/低帯域幅値よりも小さい時に「オフ」(0)を生成するように機能することができる。帯域幅誤差を用いる方が、高い又は低い不感帯値と比較した誤差信号の絶対値を用いるよりも簡単で論理的に実行しやすい。スイッチ294は、以前の出力が「1」/「オン」であった場合に帯域幅誤差が高/外側不感帯値と低/内側不感帯値の間にある時に「オン」出力を、出力以前の出力が「0」/「オフ」であった時には「オフ」を生成することができる。これは、この状況においてはヒステリシスの意味である。
図8に示すように、ステップ平滑器276は、図7に示す指令飽和ブロック274からのもののようなステップ数指令を入力として有することができる。ステップ平滑器276は、取るべきステップの入力ステップ指令cを、cステップ数を取るショット数(つまり時間)Tで割る割算器を含むことができる。割算器340の出力は、加算器342及び切捨てブロック360に対する入力を提供する。
加算器342の出力は、乗算器ブロック346に供給され、乗算器ブロック346の出力は、丸めブロック350内で最も近い整数に丸められる。ブロック350の出力は、図7に示すスイッチング280に供給されるsステップの出力指令を成す。乗算器ブロック346の出力はまた、サンプル遅延344の入力を提供するように、丸めブロック350の出力から加算器348で減算され、サンプル遅延344の出力は、加算器342に対する入力を提供する。波長固定に及ぼすなどの波長制御に及ぼす悪影響を制限する限界値が、帯域幅制御アクチュエータステップ数にある必要があり、WL固定を維持するために10ショット毎に≦1BMステップとすることができ、WL固定は、平均値とすべきではない。BW制御ループは、制御ループが30ショット中に最大3ステップを望む時に又はその場合に、30ショット毎に1回実行され、これは、平均で1ステップ/10ショットに過ぎないものになる。しかし、BWCMが同時に3つ全てを指令した場合、他のシステム条件に違反することがある。30ショット中にこれらのステップ数を均一に広げる必要性があり、これは、ステップ平滑器276が行うものである。
入力、すなわち、指令されたcステップ数は、加算器364にも供給され、この入力は、加算器370内での合計の結果、丸めブロック350の出力及びブロック368内で遅延したその出力の単一のサンプル遅延と合計され、加算器364の出力は、1つのサンプル遅延ブロック366への入力を提供する。ブロック364の出力は、ブロック360内の1サンプル遅延後の絶対値ブロック354への入力を提供する。ブロック354の出力は、切捨てブロック360から始まる値「r」を超えるか否かを調べるためにブロック352と比較され、ブロック340内での乗算の結果は、その結果のあらゆる十進の部分が除去されることによって切り捨てられ、加算器358内で1.0のような定数と共に加算され、乗算ブロック356内で0.5のような値により乗算されて、比較ブロック352への入力rを提供する。破線の外にあるステップ平滑器256の要素により、指令された所要ステップ数、すなわち、cの後にステッピング停止が保証される。そうでなければ、すなわち、BAM最新情報に関する次の時間でBAM最新情報が仮になかった場合、たとえ不感帯下限/上限値と交差したとしても、ステッパは、単に帯域幅制御機構を進み続けることができる。
コントローラ250は、ノイズフィルタ係数C(0.9735)、コントローラ利得、K(1)、不感帯内側及び外側限界値、それぞれ、dj(1.0fm)及びdo(9.5fm)、指令飽和限界、L(BAM最新情報期間当たりの2ステップ)、ターゲット変更完全誤差限界値、M(15fm)、最大許容波長TIR(300から400fm)、及び最大許容報告帯域幅600から1000fmのような値を選択することができると共に代表値が丸括弧内で記されるいくつかのパラメータを有することができる。
センサノイズ、性能要件、及び堅牢性のような要素を考慮すると、これらのパラメータは、閉ループでの全体的な性能を判断する際に非常に非線形に組み合わさる可能性がある。従って、本出願人は、最初に結合がより緩いパラメータを選択した。最大許容TIRは、最悪の場合の持続作動であると考えられるターゲット変更スルーイング中に実験に基づいて選択したものである。例示的なArFレーザシステムに対しては、通常の作動状態では、最大可能帯域幅は、約300から500fmであり、掛ける2で選択限界値が得られる。
ArFレーザシステムの例においては、Mは選択されるが、その理由は、多量のフィルタリングが行われた試験信号は、実際の信号と試験信号の間で有意な遅延を有する可能性があり、過大なオーバーシュートを防止するためにターゲット変更スルーイングの初期停止をもたらすからである。Lに対しては、帯域幅及び波長ステッパが帯域幅に影響を与えることがあるので、従って、波長ステッパは、例えば、波長コントローラ内でのPZT不飽和化を通じて帯域幅ステッパの移動(制御権限の帯域幅制御作動)を補正するように移動させることができる。帯域幅ステップ数による波長の変化は、波長ステップ数により取り消すことができる。Kに対しては、制限帯域幅ステッパ率制限と共に、コントローラは、本質的に無限の利得余裕を有する。制御利得は、指令が実質的に常に飽和するように選択され、最速の応答時間が得られる。帯域幅ステッパがステップ当たり〜0.005fmを供給する状態で、30ショット毎に2ステップで、1ショット当たり0.00033fmは、他のシステム要件を満たす。do=9.5に対しては、客先側の帯域幅制御必要性に合わせるなどの内側不感帯制限diの調節と共に、フィルタリング後の値が実際の瞬時帯域幅(ステップ数のような帯域幅の急激な変化状態におけるものを除き)を意味する多量のフィルタリングにより、実際の帯域幅の全体的な公称不感帯を得ることができる。ほぼ白色ガウスノイズ(標準偏差〜20fm、(2*9.5=19fm)未満の全体帯域幅範囲)である帯域幅測定ノイズは、ステッパの作動を制限するのに適切である。内側不感帯制限di=1.0は、不感帯ヒステリシスを最大にすることができ、帯域幅制御作動ステッパ又は他の制御権限のためのアクチュエータに対する指令のジッタが最小にされる。また、約1fm解像度での帯域幅測定で、1fm未満に設定された場合、内側不感帯は、影響を受けない可能性がある。Cに対しては、安定性増加及びノイズフィルタからのジッタ防止により、遅延が追加される可能性があり、過度の追加量は望ましくない。波長及び帯域幅コントローラ作動ステップから波長変化の比率、及び1つの波長ステップ及び整数ステップが得られるような切り上げにより帯域幅作動ステップを補正したいという希望から指令飽和を選択することができ、その理由は、切り上げられた場合、波長ステッパは、帯域幅ステッピングを遅らせることができるからである。30ショットのBAM積分期間に対しては、波長コントローラは、30ショット毎に1波長ステップを可能にすることができる。従って、L=2であり、これは、約0.00033fmであり、システム要件を満たすものである。ステップのサイズが仮に増加した場合(帯域幅に及ぼす影響)、それによって利得余裕が小さくなる可能性がある。
ノイズフィルタのステップ応答は、以下とすることができる。
Figure 2010524256
ここで、uは、ステップ入力のサイズであり、y0は、初期出力であり、Cは、係数であり、vは、フィルタリング後のノイズであり、k=30*(ショット数)である。ステップ外乱が発生した時にコントローラ250が不感帯内側にある状態では、制御作用は、フィルタリング後の誤差がd0を超えるまで開始しない恐れがあり、必要とされる時間は、フィルタによる初期遅延である。yが不感帯を横切る時のkに対して解くと、以下のようになる。
Figure 2010524256
ここで、C<1であることは公知である。d0>y0で、実際のフィルタリング後の帯域幅が不感帯に到達する前に不感帯が平均で1シグマである(ノイズのために、及びノイズ「スパイク」を無視して)と仮定し、u+y0<d0を回避し、u+y0−d0>0を示唆すると、uが大きくてu+y0−d0が小さい時にkを最大にすることができる。たとえそうであっても、Cに関係なく、外乱と、フィルタリング後の誤差がより上を通過するのにほぼ無限の時間を消費する初期条件との組合せがある可能性がある。1fmの解像度で測られた帯域幅(u+y0−d0=1の最小値が適切)を用いて、かつd0=9.5(u+y0−d0を最小にすることになるuの最大値は、u=2*0+1=20である)を用いて、初期条件は、次に、不感帯の「底部」とすることができ、ステップによる外乱は、不感帯の「上部」を出るのに十分とすることができる。1次フィルタ応答(オーバーシュートでない)は、不感帯を出るのに掛かる時間が最長である可能性がある。30ショット/サンプル及び200のショット/秒の最小限のショット累積率で、不感帯を出る最大の時間は、以下により求めることができる。
Figure 2010524256
ここで、σsは、一例として、20fmに等しいセンサノイズ標準偏差である。それによって絶対的最悪の場合を定めることができ、モンテカルロの研究により、一般的な遅延は0.5秒未満であり、C=0.9735のフィルタ係数が適切であるように10秒の遅延が適切な選択を提供することが見出されている。
ステッパモータとBWCMの組合せは、非常にノイズフリーとすることができる速度限界値(4000マイクロステップ/秒)アキュームレータ(積算器)として働くことができる。BWは、絶対ステッパ位置の非線形関数であり、WLからBWまで無視することができる結合がある場合があり、これは、別々にかつ他のループとは独立にBW制御ループを閉じることを可能にすることができるものである。しかし、BWからWLまでの結合には、<5fmWL誤差を誘発する要件と共に、誤差は特別な考慮が必要である可能性がある。制御中のプラントは良好なノイズ除去特性を有する自然な積算器として働くことができるが、ステッパ装着においてジッタを防止しやすくするためには付加的なフィルタリングが必要であろう。
システムは、基線倍率又は基線絞り開口部のような基線位置に帯域幅制御機構ステッパを移動させようと求める場合がある。これは、最大倍率までのような非常に多くのステップを指令し、かつリミットスイッチからの信号のためにステッパ作動を指令するのをBWCMに停止させるそれぞれのリミットスイッチからの割込み信号を待機するLNMにおけるようなリミットスイッチを使用して行うことができる。同じことは、調節可能な開口のような他の帯域幅制御アクチュエータに関して適用することができる。リミットスイッチの位置は、公知の倍率又は公知の開口サイズ及び位置のような公知の帯域幅設定に設定することができる。この機能性が行使されている時、測定してBW対ステップ曲線を更新することができる。
本出願人は、このような帯域幅制御システムを模擬し、このようなシミュレーションからシステム応答を例えば〜0.0005fm/ショットアルゴリズムBWステッパ速度限界値により支配することができるように判断した。フィルタリングにより、不感帯を締め付けるためにノイズ応答を実質的に改善することができる。コントローラ利得は、ステッパ指令が常に飽和状態つまり「オフ」であるように十分に高く設定することができる。システムは、誤差=(内側不感帯)+(〜3σフィルタリング後ノイズ)をもたらすことができ、この誤差は、次に、ノイズスパイクにより偶発的ステップがトリガされる時に低く「クリープ」する場合がある。このクリープは、ヒステリシスのサイズを増大させることによって最小にすることができる。不感帯、更にノイズフィルタは、ジッタを実質的に排除することができる。システムは、利得余裕が本質的に無限である非常に堅牢とすることができる。不感帯と共にBWステッパ速度限界値で、ノイズにより不安定作動がシステム内に注入されるのを防止することができる。
中心波長選択機構は、分散光学要素を含むことができ、中心波長選択プリズム及び/又は他の中心波長選択光学要素は、分散光学要素上でのビームの入射角を制御可能に調節することができる。差動タイミングシステムは、粗動帯域幅制御調節又はその逆を含むことができる。帯域幅及び/又は中心波長粗動制御及び精密制作動の様々な組合せを使用することができる。
図13に概略的に示す別の可能な実施形態により、帯域幅及び波長を制御する4つのプリズム520、522、524、及び526を有するLNMが示されている。プリズム524及び526の2つは、図4及び図11に示すプリズム524、526のアクチュエータと同様にアクチュエータ(図示せず)により回転させることができる。一方のプリズム526は、ステッパモータアクチュエータ(図示せず)により回転させることができ、他方のプリズム524は、PZTスタック(図示せず)により回転させることができる。これらの2つのプリズム526及び524は、それぞれ波長の粗調節及び微調節に使用することができる。プリズムの位置決めは、ターゲット変更又は中心波長ドリフトのために的確ではない中心波長に応答する中心波長制御システムからの信号に応答するものとすることができる。他のプリズムの少なくとも1つは、プリズム520のような帯域幅制御に対して回転可能にすることができる。回転は、ステッパモータ(図示せず)を使用して達成することができる。
MOPA又はMOPOレーザシステムのようなシードレーザ増幅器レーザ構成のスペクトルプロフィール(帯域幅)を制御する方法を用いることができ、この構成は、MOPOレーザにより適すると考えられるが、その理由は、第2の(増幅器)段512へのMOエネルギ入力を低減することができるからである。本方法は、dtMOPAタイミング制御に頼らないとすることができ、dtMOPAタイミング制御の利用は、エネルギ安定性のような1つ又はそれよりも多くの他のレーザシステム作動パラメータに望ましくない副作用を与える場合があるが、dtMOPAタイミング制御は、本明細書で説明する装置及び方法を増強させるために利用することができる。この装置及び方法は、レーザ出力スペクトルの対称及び非対称制御の両方を提供するのに使用することができる。
プリズム及び/又は折り返しミラー及び回折格子ベースのスペクトル狭化方法を用いるレーザの出力スペクトルは、一例として回折格子の鋸歯構造に垂直な方向に波長の空間的不統一性があることがある。図16は、ビームが通過する開口のサイズに依存する帯域幅変動の例を示している。一例として、図14の158又は図15の610、又は図14を取った本明細書において引用により組み込まれている2005年6月30日出願の「調節済みレーザの能動帯域幅制御」という名称の現在特許出願中の米国特許出願出願番号第11/173、988号に示すもののような調節可能な開口によって主発振器からレーザビームの一部を選択し、図3に概略的に示す増幅器512のような電力増幅器又は電力発振器にその部分的なビームを注入することにより、システム出力スペクトル帯域幅を制御することができる。第2段(増幅器)として使用される図3の中の512のような電力増幅器又は電力発振器には、特定の入力ビームサイズが必要であることがあり、特定の入力ビームサイズは、2つのレンズ又はビーム拡張器(例えばプリズムを使用)のような同様の手段、又は帯域幅を調節又は選択するために望ましい部分を選択するように開孔処理した後にビームを拡張及び平行化するなどのビームをサイズ決定及び成形する別の調節可能な開口の組合せにより達成することができる。一例として、図15に概略的に示す調節可能なビーム拡大コリメータ600を使用することができる。
図3の帯域幅分析モジュール(BAM)516のような帯域幅モニタは、一例として調節可能なビーム伸張器/コリメータ600内で行うことができるスペクトル形状(帯域幅)の対称制御及び非対称制御の両方を行うようにレーザシステムの増幅段への帯域幅及びビームサイズを選択するためにビーム選択開口サイズ及びビーム成形の両方を制御する場合のような帯域幅信号を利用して調節可能な開口610を通過させるビームの部分を調節することができる図15の620のような帯域幅コントローラにフィードバック信号を供給することができる。調節可能な開口の前のMOビームのようなシードレーザビームの帯域幅は、調節可能な開口の後のスペクトル帯域幅の望ましい範囲をもたらすほど十分に大きくなければならないことが理解されるであろう。
必要に応じて、開示する本主題により、dtMOPAタイミングを単独使用して、パルスエネルギ、線量安定性のような帯域幅を別とした他のレーザ作動パラメータの恩典が得られるように最適dtMOPAでMOPAが作動することを可能にすることができ、一方、調節可能な開口610又は他の形式の能動帯域幅制御は、粗調節器又は微調節器として、1つ又はそれよりも多くの他の帯域幅制御アクチュエータと、又は帯域幅を選択する帯域幅選択アクチュエータ(制御権限)として比較的等しい調節速度と組み合わせて利用することができる。代替的に、dtMOPA帯域幅選択アクチュエータは、微調節専用に使用し、従って、パルスエネルギ安定性、線量安定性のような他の操作上の観点から、最適dtMOPAからかなり逸脱する必要がないとすることができる。
MOPA又はMOPOのようなシードレーザ増幅器レーザのエネルギ安定性は、PA/POへのMOエネルギ入力の影響を強く受けることがあるので、MO及びPA/POのような増幅部とは独立にMOエネルギ出力を調節及び制御する別々のMO及びPA/POのための電圧制御部を有することが望ましいであろう。
調節可能な開口は、ビーム短軸において調節するように矩形とすることができ、これは、Cymerの7XXXシリーズ又はXLA又はLXLRシリーズレーザシステムのような本出願人の譲渡人のレーザシステムにおいては、例えば図14に示すように、線狭化レーザの場合、通常は水平方向のサイズの調節である。図15に示すように、ビームは、ビーム拡張器612、プリズム又は複数のプリズム、又はレンズ組合せのうちのレンズなどを用いるなどで、調節可能な開口の前で拡張して可制御性を改善することができる。ビームの一部が調節可能な開口により選択された後、上述のように、一例として望遠鏡又は別々のコリメータレンズ付き調節可能な望遠鏡とすることができる調節可能なビーム拡張器コリメータにおけるようなPA又はPOのビームサイズ要件を満たすように拡張/収縮及び平行化することができる。ビーム拡大は、電極間放電中の増幅器電極の領域におけるビームサイズが、固定通過増幅器におけるほど重要ではないと考えられるMOPO構成には不要である場合がある。ビーム成形光学器械は、一例として、2つのレンズ間の距離を調節することができる円柱レンズの組合せとすることができると考えられる。対称形のスペクトル制御に対しては、調節可能な開口の中心は、ビームの中心に整列することができる。非対称スペクトル制御に対しては、調節可能な開口の中心は、例えば、帯域幅を増加又は減少させるためにビームの一方の縁部又は他方の縁部に向う水平方向のような1つの軸線において移動させることができる。
帯域幅のようなビーム品質に関連するなどのレーザ作動パラメータに対する一部の外乱に対しては、変動は、ビームの垂直方向での方が明確である場合がある。これは、一例として、繰返し数依存の外乱に対して当て嵌まることがある。従って、図14に示す可変開口は、図示のページの平面において90°回転させて、帯域幅選択と同様に、ビーム品質パラメータ選択に向けてビームの垂直配向部分を選択することができる。これは、図14の選択開口及び上述の別の開口に合わせて行うことができる。
一部の用途に対しては、可変倍率線狭化モジュール502は、帯域幅測定モジュール516によって生成された信号に応答することができる。可変倍率線狭化モジュール502は、帯域幅制御回転可能プリズム520、522、524、及び/又は526の一方又は両方、及び図7の630で概略的に示す帯域幅コントローラ(BCD)回折格子変形器によるなどの差動発射時間(dtMOPA)又は回折格子曲げのような別の帯域幅制御アクチュエータによる帯域幅粗動制御に用いることができ、又は可変開口は、空洞内又は外で帯域幅精密制御に使用することができる。これらの帯域幅選択アクチュエータの各々は、粗動制御アクチュエータ及び精密制御アクチュエータの一方又は他方として他のアクチュエータの1つ又はそれよりも多くと組み合わせて使用することができる。
以上開示した主題の実施形態の態様は、各請求項の主題の少なくとも1つの権能付与的な実施形態を開示する要件を満たし、かつ1つ又はそれよりも多くのこのような例示的な実施形態だけであることを意図とするものであり、いかなる点においても特定の開示した実施形態だけに特許請求の範囲のいずれかの範囲を限定するものではないように意図していることは当業者によって理解されるであろう。均等物の原則の目的のために特に請求項の解釈に関して当業者によって理解及び認められると思われる開示した主題の実施形態の開示した態様に多くの変更及び修正を行うことができる。特許請求の範囲は、範囲及び意味において、主張する主題の実施形態の開示した態様だけでなく、当業者に明らかであると思われるこのような均等物及び他の修正及び変更を包含するように意図している。上述の本発明の開示した主題の開示かつ主張する態様に対する変更及び修正に加えて、他の変更及び修正を実施することができると考えられる。
250 帯域幅コントローラ
257 帯域幅測定プロセッサ
258 加算器
260 ノイズフィルタ

Claims (52)

  1. 空洞を有し、かつシードレーザ出力を生成するガス放電シードレーザと、
    前記シードレーザ出力を増幅し、かつレーザシステム出力を生成するガス放電増幅器レーザと、
    前記レーザシステム出力の帯域幅を測定し、かつ帯域幅測定値を供給する帯域幅測定ユニットと、
    前記帯域幅測定値及び帯域幅設定値を受け取って帯域幅誤差信号を供給する帯域幅誤差信号発生器と、
    回折格子と可変ビーム倍率光学システムとを含む前記シードレーザの前記空洞内の可変倍率線狭化ユニットと、
    前記シードレーザにおける電極のそれぞれの対と前記増幅器レーザにおける電極のそれぞれの対と間の放電の発射のタイミングを選択する差動タイミングコントローラと、
    を含むレーザシステムにおいて帯域幅を制御する方法であって、
    第1のモードが、線狭化ユニットにおけるビームの倍率を制御せず、第2のモードが、該線狭化ユニットにおける該ビームの該倍率を帯域幅誤差信号とは独立の選択値まで駆動し、第3のモードが、該帯域幅誤差信号に応答して該線狭化ユニットにおける該ビームの該倍率を駆動する3つの倍率制御モードを有する帯域幅コントローラで帯域幅を制御する段階を含み、
    各モードにおいて、差動タイミングコントローラが、前記帯域幅誤差信号に応答して又は該帯域幅誤差信号とは関係なくタイミングを選択する、
    ことを特徴とする方法。
  2. 内側帯域幅不感帯値及び外側帯域幅不感帯値を利用して、前記帯域幅誤差信号に応答して前記線狭化ユニットにおける前記ビームの前記倍率を制御する段階、
    を更に含み、
    前記帯域幅コントローラは、前記帯域幅が、該帯域幅が前記内側帯域幅不感帯値に接近するように該コントローラが帯域幅変化を達成している前記内側及び外側不感帯値間のみにあることに応答して、前記線狭化ユニットにおける前記ビームの前記倍率を駆動する、
    ことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  3. 前記帯域幅コントローラが帯域幅以外の別のレーザシステム作動パラメータに大きく影響を与えないように帯域幅誤差低減指令を実行する第1の通常の帯域幅誤差低減モードと、
    前記帯域幅コントローラが、他方のレーザ作動パラメータに及ぼす影響に関わらず新しい帯域幅ターゲットに変わるように帯域幅誤差低減指令を実行する第2の帯域幅ターゲット変化誤差低減モードと、
    である2つの帯域幅誤差低減モードを利用する段階、
    を更に含み、
    前記コントローラは、帯域幅ターゲットの変化時に前記第2の誤差低減モードに、及び前記新しい帯域幅ターゲットへの到達時に前記第1のものに切り換える、
    ことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  4. 前記帯域幅コントローラが帯域幅以外の別のレーザシステム作動パラメータに大きく影響を与えないように帯域幅誤差低減指令を実行する第1の通常の帯域幅誤差低減モードと、
    前記帯域幅コントローラが、他方のレーザ作動パラメータに及ぼす影響に関わらず新しい帯域幅ターゲットに変わるように帯域幅誤差低減指令を実行する第2の帯域幅ターゲット変化誤差低減モードと、
    である2つの帯域幅誤差低減モードを利用する段階、
    を更に含み、
    前記コントローラは、帯域幅ターゲットの変化時に前記第2の誤差低減モードに、及び前記新しい帯域幅ターゲットへの到達時に前記第1のものに切り換える、
    ことを特徴とする請求項2に記載の方法。
  5. 第1の方向の帯域幅アクチュエータディザリングを第2の反対方向のディザリングの前に最小数のステップに制限する段階、
    を更に含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  6. 第1の方向の帯域幅アクチュエータディザリングを第2の反対方向のディザリングの前に最小数のステップに制限する段階、
    を更に含むことを特徴とする請求項4に記載の方法。
  7. 帯域幅ターゲットが変わった時に、選択された時間量内で前記測定帯域幅と前記新しいターゲット帯域幅の間の誤差に基づいて該新しい帯域幅ターゲットまで前記帯域幅コントローラを駆動し、前記レーザシステムが該選択された量の時間中に仕様内にあることを信頼することはできないことを信号送信する段階、
    を更に含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  8. 帯域幅ターゲットが変わった時に、選択された時間量内で前記測定帯域幅と前記新しいターゲット帯域幅の間の誤差に基づいて該新しい帯域幅ターゲットまで前記帯域幅コントローラを駆動し、前記レーザシステムが該選択された量の時間中に仕様内にあることを信頼することはできないことを信号送信する段階、
    を更に含むことを特徴とする請求項4に記載の方法。
  9. 帯域幅選択アクチュエータステッパを指令するために関数発生器を利用する段階、
    を更に含むことを特徴とする請求項1に記載の装置。
  10. 帯域幅選択アクチュエータステッパを指令するために関数発生器を利用する段階、
    を更に含むことを特徴とする請求項4に記載の装置。
  11. 前記関数発生器は、ショットカウントの任意の関数に基づいて前記帯域幅選択アクチュエータに指令する、
    ことを特徴とする請求項9に記載の方法。
  12. 前記関数発生器は、ショットカウントの任意の関数に基づいて前記帯域幅選択アクチュエータに指令する、
    ことを特徴とする請求項10に記載の方法。
  13. 前記帯域幅コントローラは、帯域幅選択アクチュエータステップ指令平滑器を含む、
    ことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  14. 前記帯域幅コントローラは、帯域幅選択アクチュエータステップ指令平滑器を含む、
    ことを特徴とする請求項12に記載の方法。
  15. 空洞を有し、かつシードレーザ出力を生成するガス放電シードレーザと、
    前記シードレーザ出力を増幅し、かつレーザシステム出力を生成するガス放電増幅器レーザと、
    前記レーザシステム出力の帯域幅を測定し、かつ帯域幅測定値を供給する帯域幅測定ユニットと
    前記帯域幅測定値及び帯域幅設定値を受け取って帯域幅誤差信号を供給する帯域幅誤差信号発生器と、
    回折格子と可変ビーム倍率光学システムとを含む前記シードレーザの前記空洞内の可変倍率線狭化ユニットと、
    前記シードレーザにおける電極のそれぞれの対と前記増幅器レーザにおける電極のそれぞれの対と間の放電の発射のタイミングを選択する差動タイミングコントローラと、
    帯域幅コントローラが前記可変倍率線狭化ユニットを制御しない第1のモードと、帯域幅コントローラが前記帯域幅誤差信号とは独立に前記倍率を選択値まで駆動するように該可変倍率線狭化ユニットを制御する第2のモードと、帯域幅コントローラが該帯域幅誤差信号に応答して前記レーザシステム出力の前記帯域幅を選択するように該可変倍率線狭化ユニットを制御する第3のモードとである3つの倍率制御モードを有する帯域幅コントローラと、
    を含み、
    前記差動タイミングコントローラは、前記帯域幅誤差信号に応答して又は該帯域幅誤差信号に関わらずタイミングを選択する、
    ことを特徴とするレーザシステム。
  16. 出力を生成する光学空洞を形成するシードレーザと、
    前記シードレーザ出力を受けて該シードレーザ出力を増幅する増幅器レーザと、
    光源によって生成されたレーザ出力光パルスビームパルスの帯域幅を測定して帯域幅測定値を供給する帯域幅測定モジュールと、
    前記帯域幅測定値と帯域幅設定値とを受け取って帯域幅誤差信号を供給する帯域幅誤差信号発生器と、
    前記ビームの空間的部分を選択する前記シードレーザの前記空洞の外部にあり、前記シードレーザ出力の前記帯域幅を選択的に変更する帯域幅選択要素と、
    を含むレーザ光源、
    を含むことを特徴とするレーザシステム。
  17. 前記帯域幅選択要素は、調節可能な開口を含む、
    ことを特徴とする請求項16に記載のレーザシステム。
  18. レーザシステムの帯域幅を選択するように前記帯域幅選択要素と協働して作用する第2の帯域幅選択アクチュエータ、
    を更に含むことを特徴とする請求項16に記載のレーザシステム。
  19. 前記第2の帯域幅選択システムは、前記シードレーザ及び増幅器レーザ間の差動発射時間を調節する差動発射タイミングシステムを含む、
    ことを特徴とする請求項18に記載のレーザシステム。
  20. 前記調節可能な開口は、粗動帯域幅制御アクチュエータを含み、前記差動発射タイミングシステムは、精密帯域幅制御アクチュエータを含む、
    ことを特徴とする請求項19に記載の装置。
  21. 帯域幅選択光学要素上に入射するビームのサイズを拡張するビーム拡張システム、
    を更に含むことを特徴とする請求項16に記載のレーザシステム。
  22. 帯域幅選択光学要素上に入射するビームのサイズを拡張するビーム拡張システム、
    を更に含むことを特徴とする請求項20に記載のレーザシステム。
  23. 前記調節可能な開口は、粗動帯域幅制御アクチュエータを含み、前記ビーム拡張システムは、精密帯域幅制御アクチュエータを含む、
    ことを特徴とする請求項19に記載のレーザシステム。
  24. 前記調節可能な開口は、精密帯域幅制御アクチュエータを含み、前記ビーム拡張システムは、粗動帯域幅制御アクチュエータを含む、
    ことを特徴とする請求項19に記載のレーザシステム。
  25. 帯域幅制御装置が、帯域幅選択光学要素のビーム入射部分の形状を修正する、
    ことを更に含むことを特徴とする請求項16に記載のレーザシステム。
  26. 帯域幅制御装置が、帯域幅選択光学要素のビーム入射部分の形状を修正する、
    ことを更に含むことを特徴とする請求項24に記載のレーザシステム。
  27. 前記調節可能な開口は、粗動帯域幅制御アクチュエータを含み、帯域幅制御装置が、精密帯域幅制御アクチュエータを含む、
    ことを特徴とする請求項19に記載のレーザシステム。
  28. 前記調節可能な開口は、精密帯域幅制御アクチュエータを含み、帯域幅制御装置が、粗動帯域幅制御アクチュエータを含む、
    ことを特徴とする請求項20に記載のレーザシステム。
  29. 前記帯域幅制御要素と前記増幅器の中間にあって該増幅器に入る前記ビームのサイズを調節するビーム拡張器、
    を更に含むことを特徴とする請求項16に記載の装置。
  30. 前記帯域幅制御要素と前記増幅器の中間にあって該増幅器に入る前記ビームのサイズを調節するビーム拡張器、
    を更に含むことを特徴とする請求項17に記載の装置。
  31. 前記帯域幅制御要素と前記増幅器の中間にあって該増幅器に入る前記ビームを平行化するビームコリメータ、
    を更に含むことを特徴とする請求項29に記載の装置。
  32. 前記帯域幅制御要素と前記増幅器の中間にあって該増幅器に入る前記ビームを平行化するビームコリメータ、
    を更に含むことを特徴とする請求項30に記載の装置。
  33. 前記シードレーザと前記帯域幅制御要素の中間にあるビーム拡張器、
    を更に含むことを特徴とする請求項31に記載の装置。
  34. 前記シードレーザと前記帯域幅制御要素の中間にあるビーム拡張器、
    を更に含むことを特徴とする請求項32に記載の装置。
  35. 前記ビーム拡張器及びビームコリメータは、ビームサイズ調節コリメータを含む、
    ことを特徴とする請求項33に記載のレーザシステム。
  36. 前記ビーム拡張器及びビームコリメータは、ビームサイズ調節コリメータを含む、
    ことを特徴とする請求項34に記載の装置。
  37. 出力を生成する光学空洞を形成するシードレーザと、
    前記シードレーザの前記出力を受けて増幅し、レーザシステム出力を供給する増幅器レーザと、
    光源によって生成されたレーザ出力光パルスビームパルスの帯域幅を測定して帯域幅測定値を供給する帯域幅測定モジュールと、
    前記帯域幅測定値と帯域幅設定値とを受け取って帯域幅誤差信号を供給する帯域幅誤差信号発生器と、
    前記帯域幅誤差信号に応答して前記シードレーザ及び増幅器間の差動発射時間を選択的に調節する差動タイミングシステムと、
    前記シードレーザ出力の帯域幅を選択的に変更するために前記シードレーザの前記空洞内のビームのビーム寸法を制御可能に調節し、かつシードパルスの中心波長を制御可能に調節するビーム寸法調節システムと、
    を含み、
    前記ビーム寸法調節システムは、
    複数のビーム寸法調節プリズムと、
    中心波長選択プリズムを含む少なくとも1つの他のプリズムと、
    を含む、
    ことを特徴とするレーザシステム。
  38. 前記複数のビーム寸法調節プリズムは、粗動帯域幅調節プリズム及び精密帯域幅調節プリズムを含む、
    ことを特徴とする請求項37に記載の装置。
  39. 前記差動タイミングシステムは、帯域幅を帯域幅の選択された範囲内に維持するように前記差動発射時間を調節する、
    ことを特徴とする請求項38に記載の装置。
  40. 前記少なくとも1つの中心波長選択プリズムは、粗動中心波長選択プリズム及び精密中心波長選択プリズムを含む、
    ことを特徴とする請求項39に記載の装置。
  41. 中心波長を選択するために前記中心波長選択プリズムと共に作動する付加的な中心波長選択光学要素、
    を更に含むことを特徴とする請求項38に記載の装置。
  42. 分散光学要素を含む中心波長選択機構、
    を更に含み、
    前記中心波長選択プリズムは、前記分散光学要素上への前記ビームの入射角を調節する、
    ことを特徴とする請求項37に記載の装置。
  43. 分散光学要素を含む中心波長選択機構、
    を更に含み、
    前記中心波長選択プリズムは、前記分散光学要素上への前記ビームの入射角を調節する、
    ことを特徴とする請求項41に記載の装置。
  44. 前記システムは、精密帯域幅制御調節を含んで前記差動発射時間を選択的に調節し、かつ
    前記システムは、粗動帯域幅制御調節を含んで前記ビーム寸法を制御可能に調節する、
    ことを更に含むことを特徴とする請求項37に記載の装置。
  45. 前記システムは、精密帯域幅制御調節を含んで前記差動発射時間を選択的に調節し、かつ
    前記システムは、粗動帯域幅制御調節を含んで前記ビーム寸法を制御可能に調節する、
    ことを更に含むことを特徴とする請求項43に記載の装置。
  46. 出力を生成する光学空洞を形成するシードレーザと、
    前記シードレーザの前記出力を受けて増幅し、レーザシステム出力を供給する増幅器レーザと、
    光源によって生成されたレーザ出力光パルスビームパルスの帯域幅を測定して帯域幅測定値を供給する帯域幅測定モジュールと、
    前記帯域幅測定値と帯域幅設定値とを受け取って帯域幅誤差信号を供給する帯域幅誤差信号発生器と、
    前記帯域幅誤差信号に応答して前記シードレーザ及び増幅器間の差動発射時間を選択的に調節する差動タイミングシステムと、
    前記シードレーザ出力の帯域幅を選択的に変更するために前記シードレーザの前記空洞内のビームのビーム寸法を制御可能に調節し、かつシードパルスの中心波長を制御可能に調節するビーム寸法調節システムと、
    を含み、
    前記ビーム寸法調節システムは、
    複数のビーム寸法調節プリズムと、
    分散光学要素と、
    前記分散光学要素上への前記ビームの入射角を少なくとも部分的に定める中心波長選択プリズムと、
    少なくとも1つの他のプリズムと協働して前記分散光学要素上への前記ビームの前記入射角を定める中心波長選択ミラーと、
    を含む、
    ことを特徴とする装置。
  47. 前記複数のビーム寸法調節プリズムは、粗動帯域幅調節プリズム及び精密帯域幅調節プリズムを含む、
    ことを特徴とする請求項46に記載の装置。
  48. 前記差動タイミングシステムは、帯域幅を帯域幅の選択された範囲内に維持するように前記差動発射時間を調節する、
    ことを特徴とする請求項46に記載の装置。
  49. 前記少なくとも1つの中心波長選択プリズムは、粗動中心波長選択プリズム及び精密中心波長選択プリズムを含む、
    ことを特徴とする請求項47に記載の装置。
  50. 中心波長を選択するために前記中心波長選択プリズムと共に作動する付加的な中心波長選択光学要素、
    を更に含むことを特徴とする請求項47に記載の装置。
  51. 分散光学要素を含む中心波長選択機構、
    を更に含み、
    前記中心波長選択プリズムは、前記分散光学要素上への前記ビームの入射角を調節する、
    ことを特徴とする請求項47に記載の装置。
  52. 前記システムは、精密帯域幅制御調節を含んで前記差動発射時間を選択的に調節し、かつ
    前記システムは、粗動帯域幅制御調節を含んで前記ビーム寸法を制御可能に調節する、
    ことを更に含むことを特徴とする請求項47に記載の装置。
JP2010503050A 2007-04-13 2008-04-09 レーザ光の帯域幅を安定化及び調節する方法及び装置 Active JP5718048B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US92348607P 2007-04-13 2007-04-13
US60/923,486 2007-04-13
PCT/US2008/004598 WO2008127599A2 (en) 2007-04-13 2008-04-09 Method and apparatus for stabilizing and tuning the bandwidth of laser light

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2010524256A true JP2010524256A (ja) 2010-07-15
JP2010524256A5 JP2010524256A5 (ja) 2011-06-16
JP5718048B2 JP5718048B2 (ja) 2015-05-13

Family

ID=39852874

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010503050A Active JP5718048B2 (ja) 2007-04-13 2008-04-09 レーザ光の帯域幅を安定化及び調節する方法及び装置

Country Status (6)

Country Link
US (3) US7659529B2 (ja)
EP (1) EP2137798A4 (ja)
JP (1) JP5718048B2 (ja)
KR (1) KR101456859B1 (ja)
IL (1) IL201220A (ja)
WO (1) WO2008127599A2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013524533A (ja) * 2010-04-07 2013-06-17 サイマー インコーポレイテッド 光の帯域幅を制御する方法及び装置
JP2021528844A (ja) * 2018-06-14 2021-10-21 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー レーザの出力ビームのスペクトル帯域幅を減少させるための光学アセンブリ
JP2023529807A (ja) * 2020-06-09 2023-07-12 サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー 中心波長を制御するためのシステム及び方法

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7830934B2 (en) * 2001-08-29 2010-11-09 Cymer, Inc. Multi-chamber gas discharge laser bandwidth control through discharge timing
US7822084B2 (en) * 2006-02-17 2010-10-26 Cymer, Inc. Method and apparatus for stabilizing and tuning the bandwidth of laser light
US7659529B2 (en) * 2007-04-13 2010-02-09 Cymer, Inc. Method and apparatus for vibration reduction in laser system line narrowing unit wavelength selection optical element
US8144739B2 (en) * 2008-10-24 2012-03-27 Cymer, Inc. System method and apparatus for selecting and controlling light source bandwidth
US8520186B2 (en) * 2009-08-25 2013-08-27 Cymer, Llc Active spectral control of optical source
US8605355B2 (en) 2009-11-24 2013-12-10 Applied Energetics Off axis walk off multi-pass amplifiers
JP5410396B2 (ja) 2010-03-23 2014-02-05 ギガフォトン株式会社 レーザ装置
US8681832B2 (en) * 2011-09-30 2014-03-25 Cymer, Inc. System and method for high accuracy gas inject in a two chamber gas discharge laser system
US9207119B2 (en) 2012-04-27 2015-12-08 Cymer, Llc Active spectral control during spectrum synthesis
ITTO20120398A1 (it) * 2012-05-03 2013-11-04 Corfac2 S A Dispositivo per l'armonizzazione di oscillazioni meccaniche ed elettromagnetiche
KR20130128242A (ko) * 2012-05-16 2013-11-26 삼성디스플레이 주식회사 레이저빔 주사를 위한 광학 모듈
JP2014074828A (ja) * 2012-10-05 2014-04-24 Canon Inc 像振れ補正装置、それを用いた光学機器
US9439613B2 (en) * 2013-02-12 2016-09-13 The Johns Hopkins University System and method for phase-contrast X-ray imaging
US9715180B2 (en) 2013-06-11 2017-07-25 Cymer, Llc Wafer-based light source parameter control
US9599510B2 (en) 2014-06-04 2017-03-21 Cymer, Llc Estimation of spectral feature of pulsed light beam
US9778108B2 (en) 2015-05-22 2017-10-03 Cymer, Llc Metrology system and method having a plurality of sensors for estimating a spectral feature of a pulsed light beam
US9785050B2 (en) * 2015-06-26 2017-10-10 Cymer, Llc Pulsed light beam spectral feature control
US9997888B2 (en) 2016-10-17 2018-06-12 Cymer, Llc Control of a spectral feature of a pulsed light beam
US9989866B2 (en) 2016-10-17 2018-06-05 Cymer, Llc Wafer-based light source parameter control
US9835959B1 (en) 2016-10-17 2017-12-05 Cymer, Llc Controlling for wafer stage vibration
US10416471B2 (en) 2016-10-17 2019-09-17 Cymer, Llc Spectral feature control apparatus
US9966725B1 (en) 2017-03-24 2018-05-08 Cymer, Llc Pulsed light beam spectral feature control
DE102017126293A1 (de) * 2017-11-09 2019-05-09 Compact Laser Solutions Gmbh Vorrichtung zur Verstellung eines optischen Bauelements
US10833471B2 (en) * 2017-11-17 2020-11-10 Cymer, Llc Lithography system bandwidth control
US11312619B1 (en) * 2018-10-04 2022-04-26 EngeniusMicro, LLC Methods of manufacture of microisolators and devices for mechanical isolation or mechanical damping of microfabricated inertial sensors
WO2020177979A1 (en) 2019-03-03 2020-09-10 Asml Netherlands B.V. Method and apparatus for imaging using narrowed bandwidth
CN117871044B (zh) * 2023-12-14 2024-06-25 中国计量科学研究院 一种测定Littrow衍射角的装置及方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02307285A (ja) * 1989-05-23 1990-12-20 Komatsu Ltd レーザの波長制御装置
JP2002026435A (ja) * 2000-06-19 2002-01-25 Cymer Inc 圧電ドライバを用いるレーザ波長制御装置
US6393037B1 (en) * 1999-02-03 2002-05-21 Lambda Physik Ag Wavelength selector for laser with adjustable angular dispersion
JP2005123528A (ja) * 2003-10-20 2005-05-12 Komatsu Ltd 露光用2ステージArFエキシマレーザ装置
JP2006024855A (ja) * 2004-07-09 2006-01-26 Komatsu Ltd 狭帯域化レーザ装置
WO2006060360A2 (en) * 2004-11-30 2006-06-08 Cymer, Inc. Line narrowing module
US20060209917A1 (en) * 2001-04-09 2006-09-21 Cymer, Inc. Control system for a two chamber gas discharge laser

Family Cites Families (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4634081A (en) 1983-12-30 1987-01-06 The Boeing Company Aft engine mount with vibration isolators
US5310025A (en) 1992-07-23 1994-05-10 Allied-Signal Inc. Aircraft brake vibration damper
DE19603637C1 (de) * 1996-02-01 1997-07-31 Lambda Physik Gmbh Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung
US7112449B1 (en) * 2000-04-05 2006-09-26 Nanogram Corporation Combinatorial chemical synthesis
US6311559B1 (en) * 1998-03-31 2001-11-06 Suzuki Motor Corporation Vibration measurement method and apparatus
US6323943B1 (en) * 1998-09-24 2001-11-27 Suzuki Motor Corporation Vibration measurement method and apparatus
US6539046B2 (en) * 1998-10-02 2003-03-25 Cymer, Inc. Wavemeter for gas discharge laser
US6463086B1 (en) * 1999-02-10 2002-10-08 Lambda Physik Ag Molecular fluorine laser with spectral linewidth of less than 1 pm
US6298963B1 (en) 1999-02-25 2001-10-09 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Tuned broadband vibrational dissipator
US6549551B2 (en) 1999-09-27 2003-04-15 Cymer, Inc. Injection seeded laser with precise timing control
JP2000357837A (ja) * 1999-06-16 2000-12-26 Komatsu Ltd 超狭帯域化フッ素レーザ装置及びフッ素露光装置
US7075963B2 (en) * 2000-01-27 2006-07-11 Lambda Physik Ag Tunable laser with stabilized grating
US6904073B2 (en) * 2001-01-29 2005-06-07 Cymer, Inc. High power deep ultraviolet laser with long life optics
US6763048B2 (en) * 2000-06-19 2004-07-13 Lambda Physik Ag Line narrowing of molecular fluorine laser emission
US6856638B2 (en) * 2000-10-23 2005-02-15 Lambda Physik Ag Resonator arrangement for bandwidth control
US20020105995A1 (en) * 2000-11-16 2002-08-08 Lambda Physik Ag Molecular fluorine laser with single spectral line and polarized output
US6598545B2 (en) 2001-04-10 2003-07-29 Newport Corporation Vibration damper for optical tables and other structures
US7830934B2 (en) * 2001-08-29 2010-11-09 Cymer, Inc. Multi-chamber gas discharge laser bandwidth control through discharge timing
JP3830036B2 (ja) * 2002-02-22 2006-10-04 株式会社小松製作所 狭帯域化ガスレーザ装置
JP2004047517A (ja) * 2002-07-08 2004-02-12 Canon Inc 放射線生成装置、放射線生成方法、露光装置並びに露光方法
WO2004049054A1 (ja) * 2002-11-21 2004-06-10 The Furukawa Electric Co., Ltd. 光伝送システムにおける光源、波形整形器、光パルス列発生装置、及び 光再生システム
US6921112B2 (en) 2002-11-26 2005-07-26 Josif Atansoski Exhaust vibration decoupling connector
US7741639B2 (en) * 2003-01-31 2010-06-22 Cymer, Inc. Multi-chambered excimer or molecular fluorine gas discharge laser fluorine injection control
JP4334261B2 (ja) 2003-04-08 2009-09-30 ウシオ電機株式会社 露光用2ステージレーザ装置
US7256893B2 (en) * 2003-06-26 2007-08-14 Cymer, Inc. Method and apparatus for measuring bandwidth of an optical spectrum output of a very small wavelength very narrow bandwidth high power laser
US6952267B2 (en) * 2003-07-07 2005-10-04 Cymer, Inc. Method and apparatus for measuring bandwidth of a laser output
US6894785B2 (en) * 2003-09-30 2005-05-17 Cymer, Inc. Gas discharge MOPA laser spectral analysis module
US7277464B2 (en) 2003-12-18 2007-10-02 Cymer, Inc. Method and apparatus for controlling the output of a gas discharge laser system
US20060146906A1 (en) * 2004-02-18 2006-07-06 Cymer, Inc. LLP EUV drive laser
US7643522B2 (en) * 2004-11-30 2010-01-05 Cymer, Inc. Method and apparatus for gas discharge laser bandwidth and center wavelength control
US20060114956A1 (en) * 2004-11-30 2006-06-01 Sandstrom Richard L High power high pulse repetition rate gas discharge laser system bandwidth management
US7317536B2 (en) * 2005-06-27 2008-01-08 Cymer, Inc. Spectral bandwidth metrology for high repetition rate gas discharge lasers
US7653095B2 (en) 2005-06-30 2010-01-26 Cymer, Inc. Active bandwidth control for a laser
US7822084B2 (en) * 2006-02-17 2010-10-26 Cymer, Inc. Method and apparatus for stabilizing and tuning the bandwidth of laser light
US7852889B2 (en) * 2006-02-17 2010-12-14 Cymer, Inc. Active spectral control of DUV light source
US7659529B2 (en) * 2007-04-13 2010-02-09 Cymer, Inc. Method and apparatus for vibration reduction in laser system line narrowing unit wavelength selection optical element

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02307285A (ja) * 1989-05-23 1990-12-20 Komatsu Ltd レーザの波長制御装置
US6393037B1 (en) * 1999-02-03 2002-05-21 Lambda Physik Ag Wavelength selector for laser with adjustable angular dispersion
JP2002026435A (ja) * 2000-06-19 2002-01-25 Cymer Inc 圧電ドライバを用いるレーザ波長制御装置
US20060209917A1 (en) * 2001-04-09 2006-09-21 Cymer, Inc. Control system for a two chamber gas discharge laser
JP2005123528A (ja) * 2003-10-20 2005-05-12 Komatsu Ltd 露光用2ステージArFエキシマレーザ装置
JP2006024855A (ja) * 2004-07-09 2006-01-26 Komatsu Ltd 狭帯域化レーザ装置
WO2006060360A2 (en) * 2004-11-30 2006-06-08 Cymer, Inc. Line narrowing module

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013524533A (ja) * 2010-04-07 2013-06-17 サイマー インコーポレイテッド 光の帯域幅を制御する方法及び装置
JP2021528844A (ja) * 2018-06-14 2021-10-21 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー レーザの出力ビームのスペクトル帯域幅を減少させるための光学アセンブリ
JP7136934B2 (ja) 2018-06-14 2022-09-13 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー レーザの出力ビームのスペクトル帯域幅を減少させるための光学アセンブリ
JP2023529807A (ja) * 2020-06-09 2023-07-12 サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー 中心波長を制御するためのシステム及び方法

Also Published As

Publication number Publication date
IL201220A (en) 2014-08-31
EP2137798A4 (en) 2014-04-02
KR101456859B1 (ko) 2014-11-03
US20080253408A1 (en) 2008-10-16
KR20100016222A (ko) 2010-02-12
WO2008127599A2 (en) 2008-10-23
US7899095B2 (en) 2011-03-01
WO2008127599A3 (en) 2008-12-11
EP2137798A2 (en) 2009-12-30
US7894494B2 (en) 2011-02-22
US7659529B2 (en) 2010-02-09
IL201220A0 (en) 2010-05-31
US20080251738A1 (en) 2008-10-16
JP5718048B2 (ja) 2015-05-13
US20080253413A1 (en) 2008-10-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5718048B2 (ja) レーザ光の帯域幅を安定化及び調節する方法及び装置
US7822084B2 (en) Method and apparatus for stabilizing and tuning the bandwidth of laser light
EP1994549B1 (en) Active spectral control of duv light source
KR101346609B1 (ko) 방전 타이밍을 통한 멀티 챔버 가스 방전 레이저 대역폭제어 시스템 및 그 방법
US6865210B2 (en) Timing control for two-chamber gas discharge laser system
US6078599A (en) Wavelength shift correction technique for a laser
US8837536B2 (en) Method and apparatus for controlling light bandwidth
JP2019179935A (ja) 光源のための波長安定化
KR102161194B1 (ko) 펄스형 광 빔 스펙트럼 특성 제어
WO2006060361A2 (en) Method and apparatus for gas discharge laser bandwidth and center wavelength control
JP5264173B2 (ja) レーザ出力光パルスビームパラメータ遷移補正システム
US8368041B2 (en) System and method for compensating for thermal effects in an EUV light source
KR20110086020A (ko) 2 챔버 가스 방전 레이저의 레이저 제어 방법 및 장치
TWI424645B (zh) 用以穩定及調諧雷射光帶寬之方法與裝置
KR20230010237A (ko) 중심 파장 제어를 위한 시스템 및 방법
US11947268B2 (en) Energy correction module for an optical source apparatus
US20240072510A1 (en) Laser device, laser control method, and electronic device manufacturing method
US20220158408A1 (en) Laser device and electronic device manufacturing method

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110408

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110408

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130123

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130225

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20130527

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20130603

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20130812

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20131212

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20150105

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150129

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20150318

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5718048

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D02

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D04

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250