JP2023502601A - 温度監視 - Google Patents

温度監視 Download PDF

Info

Publication number
JP2023502601A
JP2023502601A JP2022527674A JP2022527674A JP2023502601A JP 2023502601 A JP2023502601 A JP 2023502601A JP 2022527674 A JP2022527674 A JP 2022527674A JP 2022527674 A JP2022527674 A JP 2022527674A JP 2023502601 A JP2023502601 A JP 2023502601A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
zones
controller
component
temperature
zone
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2022527674A
Other languages
English (en)
Inventor
フレンチ・デヴィッド・マイケル
パーカー・クリストファー-ジェイムス
バトリン・キース・ジョセフ
ルドルフ・ダーク
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Lam Research Corp
Original Assignee
Lam Research Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Lam Research Corp filed Critical Lam Research Corp
Publication of JP2023502601A publication Critical patent/JP2023502601A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/0003Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry for sensing the radiant heat transfer of samples, e.g. emittance meter
    • G01J5/0007Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry for sensing the radiant heat transfer of samples, e.g. emittance meter of wafers or semiconductor substrates, e.g. using Rapid Thermal Processing
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/02Constructional details
    • G01J5/06Arrangements for eliminating effects of disturbing radiation; Arrangements for compensating changes in sensitivity
    • G01J5/061Arrangements for eliminating effects of disturbing radiation; Arrangements for compensating changes in sensitivity by controlling the temperature of the apparatus or parts thereof, e.g. using cooling means or thermostats
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/10Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry using electric radiation detectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67248Temperature monitoring
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J2005/0077Imaging
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/02Constructional details
    • G01J5/06Arrangements for eliminating effects of disturbing radiation; Arrangements for compensating changes in sensitivity
    • G01J5/061Arrangements for eliminating effects of disturbing radiation; Arrangements for compensating changes in sensitivity by controlling the temperature of the apparatus or parts thereof, e.g. using cooling means or thermostats
    • G01J2005/063Heating; Thermostating

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
  • Control Of Temperature (AREA)
  • Radiation Pyrometers (AREA)

Abstract

【解決手段】いくつかの例では、アレイセンサ温度制御システムが提供される。システムは、2次元画像を生成するためのアレイセンサであって、2次元画像は、監視対象構成要素の温度を示す複数のピクセル又はセルを含む、アレイセンサと、加熱又は冷却デバイスを制御して監視対象構成要素の温度を調整するためのコントローラと、電源により起動されアレイセンサ及びコントローラと通信状態にあるアレイセンサコントローラと、を含んでよい。【選択図】図4

Description

[優先権の主張]
本出願は、2019年11月19日に出願された米国特許出願第62/937,739号の優先権の利益を主張し、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
本開示は、一般に、温度監視に関連し、いくつかの例では、半導体製造用途及び基板処理における高電磁干渉(EMI)環境における構成要素の温度監視に関連する。
大部分の基板処理ツールでは、無線周波数(RF)電力が通電されると、いくつかの構成要素の温度が上昇する。この温度上昇はそれらのインピーダンスを変化させ、その結果、プロセスパラメータ及び欠陥性能に影響を与える可能性がある。既存のRFフィルタは、RF構成要素の温度係数を最小化しようとするが、ある程度の熱応答が依然として存在する。一部のシステムは、連続的に稼働する冷却ファンを採用しており、その結果、RF電力がオンになっていない場合は、比較的低温になり、RF電力が印加されている場合は、比較的暖かい、最適ではない温度になる。
他の従来の温度測定方法、例えば、温度コントローラ(TC)、サーミスタ、又は抵抗温度検出器(RTD)は、直接温度測定を行う際に課題に直面する。例えば、収集されたデータはノイズの影響を受けやすく、役立つためには相当のフィルタリング又は処理を必要とする場合がある。これに対して、回路又はシステムの遠隔温度制御のための現在の技術は、遠隔IR検出器を用いる空間平均測定、又は狭幅遠隔IR検出器を使用して得られる単一点測定に依存している。単一点測定の場合、例えば、特定の場所における局所温度が急速に上昇しているか下降しているかを判定することは困難である。その場所における特定の温度は、より低い周囲温度を含む平均温度に隠されている可能性があるので、単一点は実際にはデータの外れ値である可能性がある。狭幅検出器の場合、単一の場所の温度を比較的正確に監視することが可能な場合があるが、多くの場合、近傍領域における温度が望ましくない形で変化したかどうかを認識できない。
他の従来の手法では、光高温計が温度検出器として光ファイバセンサを使用するが、この場合、温度検出システムは、温度が測定される構成要素ごとに熱センサを必要とする。更に、光ファイバケーブルは、そのようなケーブルの曲げ半径には制限があるので、多くの場合、注意深いルーティング又は制御が必要になる。
本明細書で提供される「背景技術」の記載は、本開示の文脈を概略的に提示することを目的としている。本明細書の「背景技術」に記載されている範囲における、本明細書にて名前を挙げた発明者の業績、並びに、出願時点で先行技術と見なされないかも知れない本明細書の態様は、明示的にも暗黙的にも本開示に対する先行技術として認められていない。
いくつかの例は、熱モニタとしてアレイ検出器を用いる。アレイ検出器は、単なる点位置とは対照的に、2次元領域を熱的に観察できるという意味で2次元である。いくつかの例では、観察された2次元領域はゾーンに分割される。各ゾーンから収集されたデータは、別々に処理されて、又は少なくとも処理されて、各ゾーンに固有なデータが生成されてよい。複数のゾーンをモザイク状に集めて、又は他の方法で組み合わせて、例えば、多数の感熱デバイスを含むことができる大きな領域を監視することができる。このようなカバレッジは、従来のポイント検出器では一般的に不可能である。加えて、多くの構成要素を同時に監視する必要がある場合、様々な構成要素のために複数のセンサを必要とするのではなく、1つのアレイセンサが、単一の検出器で全ての情報を提供する。本明細書に開示される構成は、単一点温度又は熱検出器よりも遥かに効率的であり得る。例示的な実施形態をEMI環境との関連で説明してきたが、他の用途が可能であることが理解されるであろう。例えば、一部のツール又は基板処理システムはRF電力を使用しない。他の電源又は処理システムが可能である。本明細書に記載される2次元温度測定のいつくかの特徴は、代替のシステム又はプロセスにより提示される特定の機械的又は化学的課題の観点から有用であり得る。
場合によっては、複数の構成要素の温度を同時に制御することが有益な場合がある。アレイセンサは、広い領域にわたる温度を測定する手段を提供するので、ファン、ヒータ、冷却システムなどの複数の温度制御デバイスを、個々のポイントセンサ、又は構成要素ごとにセンサを含むシステム、を使用するのではなく、単一のアレイセンサを使用して制御できる。
いくつかの例では、アレイ検出器により収集されたデータは、コントローラに提供され、コントローラは、温度制御デバイス(例えば、所定の設定点において所与の温度を保持するように動作されるファン)の動作を開始するように構成されている。コントローラは、一定の温度環境を提供するために、必要に応じて冷却及び/又は加熱を制御できる。場合によっては、ツール構成要素は熱依存性を有するが、いくつかの例では、熱環境を制御することにより、そのような依存性が重要でなくなる可能性がある。なぜなら、システム性能に重要な構成要素が、一定の温度に維持されるからである。熱データは集約できる。熱的2次元「ピクチャ」を使用することにより、システムの熱的フィンガープリントを確立し、経時的に監視することができる。
単一のアレイセンサは、通常、最小限の位置合わせ又は照準要件を課す。(多くのセンサとは対照的に)単一のセンサのための配線は比較的単純なので、パッケージング及び付属コストが削減される。更に、観察対象の構成要素にセンサを直接取り付ける必要性が小さい又は必要性がない状態で、遠隔温度測定が可能である。
いくつかの例では、複数の構成要素、デバイス、又はマシンの温度を1つのゾーンセンサで同時に監視する能力により、システム又は回路の全体又は一部の「フィンガープリンティング」が可能になる。例えば、多くの構成要素を備えるプリント回路基板(PCB)を熱的に監視して、PCBの動作時の健康状態を判断できる。例えば、特定のゾーン内の特定のピクセルが、PCBにおける特定の動作構成要素に関連する場合がある。構成要素は、経時的に測定又は監視される。ピクセルが、ベンチマークフィンガープリントと比較して「ホット」又は「コールド」に変わった場合に、構成要素をチェックするためにエラーステータスを生成できる。このリアルタイムフィンガープリンティングにより、他の方法では診断が困難な課題の正確なトラブルシューティングが可能になり、時間を大幅に節約できる。
システムの動作条件又は構成要素が経時的に変化し得る場合、柔軟なアレイセンサに基づく制御及び監視システム(本明細書では、アレイセンサ温度監視システムとも呼ばれる)が、制御しようとしているものに適合できる。例えば、ピクセルAは、初期的には、(例えば)閉ループ制御を有するファンにより熱的に制御されている重要な構成要素の最高温度を監視するように構成されてよい。一定期間後、その構成要素を含むシステム又は回路が、異なるプロセスのために使用される、又は異なる条件下で動作するように指定されてよい。ピクセルDに対応する別の構成要素が、代わりに、最も重要な構成要素として指定されてよい。柔軟なアレイセンサに基づく制御及び監視システムはハードウェアを変更することなく再構成できるので、優先順位の変更に容易に対応できる。これにより、従来のシステムに対して大幅な機能及び制御が追加され、監視対象システムの連続的な改善が経時的に可能になる。
したがって、いくつかの例では、アレイセンサ温度制御システムは、2次元画像を生成するためのアレイセンサであって、2次元画像は、構成要素の温度を示す複数のピクセルを含む、アレイセンサと、加熱又は冷却デバイスを制御して構成要素の温度を調整するためのコントローラと、電源により起動され、アレイセンサ及びコントローラと通信状態にある、アレイセンサコントローラと、を備える。
いくつかの例では、2次元画像は、構成要素の表現を含む。
いくつかの例では、2次元画像は、1つ以上のゾーンを含む。
いくつかの例では、構成要素は複数の構成要素のうちの1つである。1つ以上のゾーンのうちの各ゾーンは、複数の監視対象構成要素における構成要素に対応する。
いくつかの例では、1つ以上のゾーンのうちの各ゾーンは、各ゾーンにおいて表現される特定の構成要素に関連付けられたピクセルを含む。
いくつかの例では、1つ以上のゾーンのうちの各ゾーンは、ゾーンの特定の熱領域内の特定の構成要素に関連付けられたピクセルを含む。
いくつかの例では、1つ以上のゾーンは、複数の構成要素のうちの構成要素のサイズ、面積、又は位置に関連付けられている。
いくつかの例では、1つ以上のゾーンのうちのゾーンは、コントローラに関連付けられている。
いくつかの例では、構成要素は複数の構成要素のうちの1つである。コントローラは、複数のコントローラのうちの1つであり、複数のコントローラのうちの各コントローラが、それぞれの加熱又は冷却デバイスを制御して、それぞれの構成要素の温度を調整し、1つ以上のゾーンのうちの各ゾーンは、複数のコントローラのうちの1つのコントローラに関連付けられ、システムは、1つ以上のゾーンを含む単一の2次元画像により生成された温度データに基づいて温度を制御する。
いくつかの例では、単一の2次元画像により生成された温度データは、フィードバックとして、複数のコントローラのうちの少なくとも1つのコントローラに含まれるデータプロセッサに送信される。
いくつかの例では、フィードバックデータは、データプロセッサにより、ベンチマーク温度データと比較される。
いくつかの例は、基板処理システムを含む。例えば、基板処理システムは、処理チャンバと、処理チャンバのための電源と、基板処理システムの構成要素の温度を調整するための温度制御システムであって、温度制御システムは、2次元画像を生成するためのアレイセンサであって、2次元画像は、構成要素の温度を示す複数のピクセルを含む、アレイセンサと、加熱又は冷却デバイスを制御して構成要素の温度を調整するためのコントローラと、アレイセンサ及びコントローラと通信状態にあるアレイセンサコントローラと、を備える、温度制御システムと、を備えてよい。
いくつかの例では、2次元画像は、構成要素の表現を含む。
いくつかの例では、2次元画像は、1つ以上のゾーンを含む。
いくつかの例では、構成要素は複数の構成要素のうちの1つである。1つ以上のゾーンのうちの各ゾーンは、複数の監視対象構成要素における構成要素に対応する。
いくつかの例では、1つ以上のゾーンのうちの各ゾーンは、各ゾーンにおいて表現される特定の構成要素に関連付けられたピクセルを含む。
いくつかの例では、1つ以上のゾーンのうちの各ゾーンは、ゾーンの特定の熱領域内の特定の構成要素に関連付けられたピクセルを含む。
いくつかの例では、1つ以上のゾーンは、複数の構成要素のうちの構成要素のサイズ、面積、又は位置に関連付けられている。
いくつかの例では、1つ以上のゾーンのうちのゾーンは、コントローラに関連付けられている。
いくつかの例では、構成要素は複数の構成要素のうちの1つである。コントローラは、複数のコントローラのうちの1つであり、複数のコントローラのうちの各コントローラが、それぞれの加熱又は冷却デバイスを制御して、それぞれの構成要素の温度を調整し、1つ以上のゾーンのうちの各ゾーンは、複数のコントローラのうちの1つのコントローラに関連付けられ、システムは、1つ以上のゾーンを含む単一の2次元画像により生成された温度データに基づいて温度を制御する。
いくつかの例では、単一の2次元画像により生成された温度データは、フィードバックとして、複数のコントローラのうちの少なくとも1つのコントローラに含まれるデータプロセッサに送信される。
いくつかの例では、フィードバックデータは、データプロセッサにより、ベンチマーク温度データと比較される。
いくつかの実施形態は、添付図面の図において例として示されており、限定を示すものではない。
図1は、開示された主題と共に使用されてよい静電チャック(ESC)を備える基板支持アセンブリを含むプラズマベースの処理チャンバの簡略化された例を示す。
図2は、例示的な実施形態による、アレイセンサにより生成された2次元画像を示す。
図3は、例示的な実施形態による、アレイセンサにより生成された2次元画像を示す。
図4は、例示的な実施形態による、アレイセンサ温度監視システムの概略図である。
図5は、例示的な実施形態による、例示的なゾーン化された画像を示す。
図6は、例示的な実施形態による、例示的なセル値関連付けを示す。
図7は、例示的な実施形態による、例示的なfind max結果を示す。
図8は、例示的な実施形態による、例示的な非接触温度制御構成を示す。
図9Aは、例示的な実施形態による、方法における例示的な動作のフローチャートを示す。 図9Bは、例示的な実施形態による、方法における例示的な動作のフローチャートを示す。
図10は、例示的なマシンを示すブロック図であり、1つ以上の例示的な実施形態が、このマシンで実現されてよく、又は1つ以上の例示的な実施形態が、このマシンにより制御されてよい。
以下の説明は、本開示の例示的な実施形態を具体化するシステム、方法、技術、命令シーケンス、及び計算機プログラム製品を含む。以下の記載には、説明の目的で、例示的実施形態の完全な理解を提供するために多数の具体的な詳細が記述されている。しかしながら、これらの具体的な詳細がなくても、本開示を実施し得ることが当業者には明白であろう。
本特許文書の開示の一部には、著作権保護の対象である資料が含まれている場合がある。著作権所有者は、特許商標庁の特許ファイル又は記録に記載されている特許文書又は特許開示の、何人による複製にも異議を唱えないが、それ以外の場合、一切の著作権を留保する。次の告知:Copyright Lam Research Corporation,2020,All Rights Reservedが、本明細書の一部を構成する後述する任意のデータ及び図面に適用される。
ここで図1を参照すると、プラズマベースの処理ツール100の簡略化された例が示される。図1は、シャワーヘッド電極103と基板支持アセンブリ107Aとが配置されているプラズマベースの処理チャンバ101Aを含むことが示される。典型的には、基板支持アセンブリ107Aは、実質的に等温の表面を提供し、基板105に対して加熱要素及びヒートシンクの両方として機能し得る。基板支持アセンブリ107Aは、基板105の処理を支援するために加熱要素106が含まれる静電チャック(ESC)を備えてよい。基板105は、元素半導体(例えば、シリコン又はゲルマニウム)を含むウェハー、化合物元素(例えば、ガリウムヒ素(GaAs)又は窒化ガリウム(GaN))を含むウェハー、又は導電性、半導電性、及び非導電性の基板を含む様々な他の基板タイプであってよい。プラズマベースの処理チャンバは、いくつかの水冷構成要素を有し得る。
動作時、基板105は、ローディングポート109を介して、基板支持アセンブリ107A上にローディングされる。ガスライン113が、1種以上のプロセスガスをシャワーヘッド電極103に供給する。次に、シャワーヘッド電極103は、1種以上のプロセスガスをプラズマベースの処理チャンバ101Aへと送達する。1種以上のプロセスガスを供給するためのガス源111が、ガスライン113に結合されている。RF電源115が、シャワーヘッド電極103又は基板支持アセンブリ107Aに結合されている。
動作時、プラズマベースの処理チャンバ101Aは、真空ポンプ117により排気される。RF電力は、シャワーヘッド電極103と、基板支持アセンブリ107A内又はその上に含まれる下部電極(明示的には図示せず)との間で容量結合されている。基板支持アセンブリ107Aには、典型的には、2つ以上のRF周波数が供給される。例えば、様々な実施形態では、RF周波数は、約1MHz、2MHz、13.56MHz、27MHz、60MHz、及び所望に応じた他の周波数から選択された少なくとも1つの周波数であってよい。特定のRF周波数を遮断又は部分的に遮断するコイルは、必要に応じて設計できる。したがって、本明細書で説明する特定の周波数は、理解を容易にするためにのみ提供されている。
RF電力は、基板105とシャワーヘッド電極103との間の空間において、1つ以上のプロセスガスを励起してプラズマにするために使用される。プラズマは、基板105上に様々な層(図示せず)を堆積させることを手助けし得る。他の用途では、プラズマを使用して、デバイスフィーチャを堆積又はエッチングして、基板105上の様々な層にすることができる。RF電力は、少なくとも基板支持アセンブリ107Aを介して結合されている。動作時、RF電力がオンになると、一部の構成要素の温度が上昇することが理解されるであろう。単一の構成要素における温度変化でさえ、そのインピーダンスを変化させる可能性があり、それにより、他の構成要素における温度及びインピーダンスの変化と組み合わされた場合、無数の形態のうちの1つで、プロセスパラメータ及び欠陥性能に予測できないほどの悪影響を及ぼす可能性がある。本開示は、これらの問題のうちの少なくともいくつかを追求又は対処する。
図2は、本開示の例において利用されるアレイセンサにより生成された例示的な2次元画像200を示す。画像200は、高さ202及び幅204を有する視野を(視点とは対照的に)含み得る。IRピクセル(又はセル)206が、1つ以上の関心領域208に関してデータを監視又は生成する。(以下で更に説明される)例示的なアレイセンサ温度監視システムが、1つ以上のそのようなアレイセンサ及び画像から得られた入力に基づいて、温度監視及び制御動作を実施する。
いくつかの例では、複雑なシステム温度応答及び制御要件が、例えば図3に示す2次元画像300に基づいて決定され得る。プラズマベースの処理ツール100のいくつかの例示的な構成要素が、2次元画像において識別され得る。特定の構成要素の動作温度が、画像内の特定の陰影又は色により示されている(例えば、より暗い又はより冷たい構成要素302及び304)。他の2つの構成要素、この例では306と308は同様に、より明るい陰影又は色により、極端な又は非常に高い温度で動作しているものとして示され得る。この高温は、フィンガープリントベンチマーク温度の範囲内又は範囲外であり得る。
ここで、図4を参照して、例示的なアレイセンサ温度監視システム400のいくつかの態様について論じる。いくつかの例では、システム400は、EtherCATタイプのアーキテクチャ402を含むか又は採用して、センサと他のコントローラとの間の直接のリアルタイム通信を可能にしている。他のシステム構成も可能である。1つの例示的なコントローラは、監視対象システムにおいて加熱及び/又は冷却動作を実施するための遠隔のソリッドステートリレー(SSR)コントローラ404を含み得る。加熱又は冷却動作は、ファン速度制御を含んでよい。他の制御された動作が可能である。例示的な監視対象システム400は、上述したタイプのプラズマベースの処理ツール100を含み得る。他の監視対象システムも可能である。システム400は、例えば、EtherCAT(登録商標。以下同じ)ヒータコントローラの統合化を含んで、システム400ごとに、複数の又は最大数のコントローラを可能にしている。
アレイセンサ温度監視システム400の別の例示的なコントローラは、EtherCATコアPCBをサポートするアレイセンサコントローラ408を含んでよい。いくつかの例では、アレイセンサコントローラ408は、1つ以上のIRアレイセンサ410(例えば、ソケット又はDNS(Do Not Stuff)アレイセンサ)の直接装着をサポートする。いくつかの例では、アレイセンサ温度監視システム400は、ローカル電源406を含む。アレイセンサコントローラ408は、ローカルユーザフィードバックオプション及びディスプレイ(図示せず)を含んでよい。いくつかの例では、アレイセンサ温度監視システム400は遠隔アレイセンサPCB412を含み、複数のボードがコネクタボード414に接続されている。より小さく柔軟な装着オプションは、1つのアレイセンサコントローラ408に関連付けられた複数のセンサヘッドを含み得る。
いくつかの例では、アレイセンサ410により生成された単一の2次元画像、例えば図3の画像300はゾーンに分割される。例示的なゾーン化された画像500を図5に示す。ここで、画像500は、2つのゾーン、すなわちゾーン1(502)及びゾーン2(504)を含む。他のゾーンも可能である。各ゾーンは、例えば、各ゾーンにおいて監視される個別の構成要素に関連付けられた、又は構成要素508の監視対象領域に関連付けられた、ピクセル又はセル506を含み得る。他の構成も可能である。画像500は、監視対象システム(例えば、プラズマベースの処理ツール100、又はPCB)に関する構成可能な数の加熱又は冷却動作を制御するために、構成可能な数の領域(ゾーン)に分割されてよい。各ゾーン502及び504は、サイズ、面積、又は場所に関連付けられてよい。例えば、ゾーン1(502)は、83℃の最大動作温度を有する構成要素を監視するソリッドステートリレー(SSR)コントローラに関連付けられていてよい。ゾーン2(504)は、81℃最大動作温度を有する構成要素を監視するSSR7コントローラに関連付けられていてよい。他の構成も可能である。いくつかの例において重要なのは、この多面的な制御は、ゾーンに分割された又はゾーンを含む単一の画像により生成されたデータに基づいていることである。ゾーン化された画像500を含むアレイセンサ温度監視システム400は、各ゾーンに関連して、SSR出力を、例えば、冷却ファン、冷却水スイッチ、又は他の温度制御デバイスに割り当ててよい。
画像500内のゾーン1(502)及びゾーン2(504)などの複数のゾーンから得られたデータは、フィードバックとして、1つ以上のコントローラ、例えば上述したコントローラ404及び408、により処理されるソフトウェアに送信される。警告又はエラーが、監視対象の構成要素、例えば過熱した構成要素、又は正常な若しくは「フィンガープリント」の熱ベンチマークから逸脱した構成要素の、熱的健康状態に関するデータ又はその他のデータに基づいて生成されてよい。エラーメッセージが生成されてよい。ファンなどの温度制御デバイスの性能は、ファン性能センサにより監視されてよい。
いくつかの例では、ゾーン内の各ピクセル又はセルは、温度制御値などの値に関連付けられている(例えば、測定対象のターゲットに基づく調整可能な放射率)。ゾーン又は画像600におけるそのようなセルと値の関連付けの例を図6に示す。放射率は、ゾーンの全部又は一部の平均放射率であってよく、又はゾーン内の各セル又はピクセル(又はピクセル又はセルのうちの少なくとも一部)の特定のピクセルごとの放射率であってよい。いくつかの例では、アレイセンサコントローラは、ゾーン(すなわち、監視対象構成要素に関連付けられたゾーン、又は構成要素の領域)に問い合わせるか又はそのゾーンを処理して、ゾーン内での最高温度の1ポイント(すなわち、セル又はピクセル)又は複数ポイントを決定して、監視対象の構成要素又は領域の対応する平均温度又は特定の温度を制御する。いくつかの例では、通常のポイントIR検出器を使用する場合に典型的に必要とされる精密照準の代わりに、本実施例では、例えば画像データを処理するコントローラにおける単純な「find max」コマンドを使用して、画像又はゾーンの最高温度部分を見つけることができる。例示的な「find max」結果702が、図7における画像又はゾーン700に示されている。
アレイセンサ温度監視システム400のいくつかの例では、アレイセンサコントローラ408は、実際の画像を「見る」のではなく、(何らかの処理の後の)画像ピクセルに対応する温度値の2Dアレイを見る(又は受け取る)。温度値の2Dアレイは、アレイセンサ410により生成されるか、又はアレイセンサ410から供給される。いくつかの例では、画像ピクセルは、構成要素の物理的場所又は温度に対応する。本明細書に提示される例示的な画像で参照されるいくつかの画像は、例えばそれを人間の目に意味のあるものにするために、追加の画像処理が施されている。いくつかの例では、参照される「人間が読める」画像は、ローカルのスクリーン上で、又はリモートコンピュータ上のネットワークを介して、ユーザフィードバックのために利用できる場合があるが、いくつかの例では、人間が読める画像は、それに基づく温度制御処理を行わない場合がある。
本主題により促進され得る例示的な非接触温度制御装置800を図8に示す。RF結合に起因して、RFエンクロージャ内の温度を直接測定することは困難であるため、この例では非接触手法を可能にしている。(例えば、上記のプラズマベースの処理ツール100における)RFボックス802が、本明細書に記載のタイプのアレイセンサ806を含むアレイセンサ温度監視システム400により制御されるファン804により冷却されてよい。アレイセンサ806は、RFボックス802により生成された赤外線熱808を検出する。
本主題のいくつかの例は、方法を含む。図9Aを参照すると、アレイセンサ温度制御システムを動作させる方法900は動作を含み、動作は少なくとも、902において、2次元画像を生成するためのアレイセンサを提供し構成することであって、2次元画像は、監視対象構成要素の温度を示す複数のピクセル又はセルを含む、ことと、904において、加熱又は冷却デバイスを制御して監視対象構成要素の温度を調整するために、コントローラを提供し構成することと、906において、電源により起動され、アレイセンサ及びコントローラと通信状態にある、アレイセンサコントローラを提供し構成することと、を含む。
いくつかの例では、動作は、2次元画像に監視対象構成要素の表現を含めることを更に含む。
いくつかの例では、動作は、2次元画像に1つ以上のゾーンを含めることを更に含む。
いくつかの例では、監視対象構成要素は、複数の監視対象構成要素のうちの1つであり、1つ以上のゾーンのうちの各ゾーンは、複数の監視対象構成要素における監視対象構成要素に対応する。
いくつかの例では、1つ以上のゾーンのうちの各ゾーンは、各ゾーンで表現される特定の監視対象構成要素に関連付けられた、又は監視対象構成要素の熱領域に関連付けられた、ピクセル又はセルを含む。
いくつかの例では、動作は、1つ以上のゾーンのうちのゾーンを、複数の監視対象構成要素間のうちの1つの監視対象構成要素のサイズ、面積、又は位置に関連付けることを更に含む。
いくつかの例では、動作は、1つ以上のゾーンのうちのゾーンをコントローラに関連付けることを更に含む。
いくつかの例では、監視対象構成要素は、複数の監視対象構成要素のうちの1つであり、コントローラは、複数のコントローラのうちの1つであり、複数のコントローラのうちの各コントローラが、それぞれの加熱又は冷却デバイスを制御して、それぞれの監視対象構成要素の温度を調整し、1つ以上のゾーンのうちの各ゾーンは、複数のコントローラのうちの1つのコントローラに関連付けられ、システムは、1つ以上のゾーンを含む単一の2次元画像により生成された温度データに基づいて温度を制御する。
いくつかの例では、動作は、単一の2次元画像により生成された温度データを、フィードバックとして、複数のコントローラのうちの少なくとも1つのコントローラに含まれるデータプロセッサに送信することを更に含む。
いくつかの例では、フィードバックデータは、データプロセッサにより、ベンチマーク温度データと比較される。
図9Bを参照すると、アレイセンサ温度制御システムを動作させる方法910は動作を含み、動作は少なくとも、912において、アレイセンサにより2次元画像を生成することであって、2次元画像は、2次元画像の1つ以上のゾーン内に複数のピクセルを含み、ピクセルは、構成要素の相対温度を示す、ことと、914において、1つ以上のゾーンのうちのゾーンから得られたデータを処理して、コントローラのための入力データを生成することと、916において、コントローラを動作させて、構成要素の温度を入力データに基づいて調整することと、を含む。
いくつかの例では、構成要素の表現が2次元画像に含まれる。いくつかの例では、構成要素は複数の構成要素のうちの1つである。1つ以上のゾーンのうちの各ゾーンは、複数の構成要素のうちの1つの構成要素に対応する。いくつかの例では、1つ以上のゾーンのうちの各ゾーンは、各ゾーンにおいて表現される特定の構成要素に関連付けられたピクセルを含む。いくつかの例では、1つ以上のゾーンのうちの各ゾーンは、ゾーンの特定の熱領域に関連付けられたピクセルを含む。いくつかの例では、方法910は、1つ以上のゾーンのうちのゾーンを、構成要素のサイズ、面積、又は位置に関連付けることを更に含む。いくつかの例では、1つ以上のゾーンのうちのゾーンは、コントローラに関連付けられている。
いくつかの例では、構成要素は複数の構成要素のうちの1つである。コントローラは、複数のコントローラのうちの1つであり、複数のコントローラのうちの各コントローラは、それぞれの加熱又は冷却デバイスを制御して、それぞれの構成要素の温度を調整し、1つ以上のゾーンのうちの各ゾーンは、複数のコントローラのうちの1つのコントローラに関連付けられ、調整された温度は、1つ以上のゾーンを含む単一の2次元画像により生成された温度データに基づく。
いくつかの例では、方法910は、単一の2次元画像により生成された温度データを、フィードバックデータとして、複数のコントローラのうちの少なくとも1つのコントローラに含まれるデータプロセッサに送信することを更に含む。いくつかの例では、フィードバックデータは、データプロセッサにより、ベンチマーク温度データと比較される。
いくつかの例は、命令を含む非一時的機械可読媒体を含み、命令は、マシンにより読み取られると、マシンに、少なくとも、2次元画像を生成するためのアレイセンサを制御することであって、2次元画像は、監視対象構成要素の温度を示す複数のピクセル又はセルを含む、ことと、加熱又は冷却デバイスを制御して監視対象構成要素の温度を調整するために、コントローラを制御することと、電源により起動され、アレイセンサ及びコントローラと通信状態にある、アレイセンサコントローラを制御することと、を含む動作を実施させる。
いくつかの例では、非一時的機械可読媒体は命令を含んでよく、命令は、マシンにより読み取られると、マシンに、少なくとも、アレイセンサを動作させて2次元画像を生成させることであって、2次元画像は、2次元画像の1つ以上のゾーンに複数のピクセルを含み、ピクセルは、構成要素の相対温度を示す、ことと、1つ以上のゾーンのうちのゾーンから得られたデータを処理して、コントローラのための入力データを生成することと、コントローラを動作させて、構成要素の温度を入力データに基づいて調整することと、を含む動作を実施させる。
図10は、本明細書に記載される1つ以上の例示的なプロセスの実施形態を制御してよいマシン1000の例を示すブロック図である。代替的実施形態では、マシン1000は、独立型デバイスとして動作してもよく、又は他のマシンに接続(例えば、ネットワーク化)されてよい。ネットワーク展開では、マシン1000は、サーバークライアントネットワーク環境において、サーバーマシン、クライアントマシン、又はその両方の能力において動作してよい。一例では、マシン1000は、ピアツーピア(P2P)(又は他の分散型)ネットワーク環境においてピアマシンとして機能してよい。更に、単一のマシン1000のみが示されているが、「マシン」という用語はまた、命令のセット(又は複数のセット)を個別に又は共同で実行して、クラウドコンピューティング、サービス型ソフトウェア(SaaS)、又は他のコンピュータクラスタ構成を介するような本明細書に記載される方法論のうちの任意の1つ以上を実行するマシンの任意の集合を含むと解釈されるものとする。いくつかの例では、図10を参照すると、非一時的機械可読媒体が命令1024を含み、命令1024は、マシン1000により読み取られると、少なくとも、上で概要を述べ本明細書に記載される非限定的な例示的動作を含む方法における動作をマシンに制御させる。
本明細書に記載されるような例は、ロジック、又は複数の構成要素若しくはメカニズムを含んでもよく、又はそれらにより動作してよい。回路機構は、ハードウェア(例えば、単純な回路、ゲート、ロジックなど)を含む有形のエンティティにおいて実装される回路の集合である。回路機構の帰属関係は、時間の経過に対して、及び基礎をなすハードウェアのばらつきに対して柔軟であり得る。回路は、動作時に、特定の動作を単独で又は組み合わせて実施し得る要素を含む。一例では、回路機構のハードウェアは、特定の動作(例えば、ハードワイヤード)を実行するように不変に設計されてよい。一例では、回路機構のハードウェアは、特定の動作の命令を符号化するように物理的に(例えば、磁気的に、電気的に、不変質量粒子(invariant massed particle)の可動配置などによって)変更されたコンピュータ可読媒体を含む、可変的に接続された物理的構成要素(例えば、実行ユニット、トランジスタ、単純な回路など)を含んでよい。物理的構成要素を接続する際に、ハードウェア構成要素の基礎をなす電気的特性は変更される(例えば、絶縁体から導体へ、又はその逆に)。命令は、組み込みハードウェア(例えば、実行ユニット又はローディング機構)が、可変な接続を介して、ハードウェア内に回路機構の要素を構築して、動作時に特定の動作の一部を実行させることを可能にする。それに応じて、コンピュータ可読媒体は、デバイスが動作している時に、回路機構の他の構成要素に通信可能に結合される。一例では、物理的構成要素のいずれも、1つ以上の回路機構の1つ以上の要素において使用されてよい。例えば、動作中、実行ユニットは、ある時点で第1の回路機構の第1の回路で使用され、別の時点で第1の回路機構内の第2の回路によって、又は第2の回路機構内の第3の回路によって再利用されてよい。
マシン(例えば、コンピュータシステム)1000は、ハードウェアプロセッサ1002(例えば、中央処理装置(CPU)、ハードウェアプロセッサコア、又はそれらの任意の組み合わせ)、グラフィックス処理装置(GPU)1032、メインメモリ1004、及びスタティックメモリ1006を含んでもよく、これらの一部又は全ては、インターリンク(例えば、バス)1008を介して互いに通信してよい。マシン1000は、ディスプレイデバイス1010、英数字入力デバイス1012(例えば、キーボード)、及びユーザインターフェース(UI)ナビゲーションデバイス1014(例えば、マウス)を更に含んでよい。一例では、ディスプレイデバイス1010、英数字入力デバイス1012、及びUIナビゲーションデバイス1014は、タッチスクリーンディスプレイであってよい。マシン1000は、加えて、大容量記憶装置(例えば、駆動ユニット)1016、信号生成デバイス1018(例えば、スピーカ)、ネットワークインターフェースデバイス1020、及び全地球測位システム(GPS)、コンパス、加速度計、又は別のセンサなどの1つ以上のセンサ1030、を含んでよい。マシン1000は、シリアル(例えば、ユニバーサルシリアルバス(USB))接続、パラレル接続、又は他の有線若しくは無線(例えば、IR、近距離無線通信(NFC)など)接続などの出力コントローラ1028を含んで、1つ以上の周辺機器(例えば、プリンタ、カードリーダなど)と通信するか、又はこれらを制御してよい。
大容量記憶装置1016は機械可読媒体1022を含んでもよく、これには、本明細書に記載される技術又は機能のいずれか1つ以上によって具現化又は利用されるデータ構造又は命令1024(例えば、ソフトウェア)の1つ以上のセットが格納される。命令1024はまた、図示するように、マシン1000による命令の実行中に、完全に又は少なくとも部分的に、メインメモリ1004内、スタティックメモリ1006内、ハードウェアプロセッサ1002内、又はGPU1032内に存在してよい。一例では、ハードウェアプロセッサ1002、GPU1032、メインメモリ1004、スタティックメモリ1006、又は大容量記憶装置1016のうちの1つ、又はこれらの任意の組み合わせが、機械可読媒体1022を構成してよい。
機械可読媒体1022は単一の媒体として示されているが、用語「機械可読媒体」は、1つ以上の命令1024を格納するように構成された単一の媒体、又は複数の媒体(例えば、集中型又は分散型データベース、及び/又は関連するキャッシュ及びサーバー)を含んでよい。
用語「機械可読媒体」は、マシン1000による実行のために、命令1024を格納、エンコード、又は保持できる、及び本開示の技術のうちの任意の1つ以上をマシン1000に実施させる、又はそのような命令1024により使用されるか若しくはそのような命令に関連付けられたデータ構造を格納、エンコード、又は保持できる、任意の媒体を含んでよい。非限定的な機械可読媒体の例には、固体メモリ、並びに光学及び磁気媒体が含まれてよい。一例では、集合的な(massed)機械可読媒体は、不変(例えば、静止)質量を有する複数の粒子を有する機械可読媒体1022を備える。それに応じて、集合的な機械可読媒体は、一時的な伝搬信号ではない。集合的な機械可読媒体の具体例としては、半導体メモリデバイス(例えば、電気的プログラマブル読出し専用メモリ(EPROM;Electrically Programmable Read-Only Memory)、電気的消去可能プログラマブル読出し専用メモリ(EEPROM;Electrically Erasable Programmable Read-Only Memory))及びフラッシュメモリデバイスなどの不揮発性メモリ、内部ハードディスク及びリムーバブルディスクなどの磁気ディスク、光磁気ディスク、並びにCD-ROM及びDVD-ROMディスクが挙げられる。命令1024は更に、ネットワークインターフェースデバイス1020を介して伝送媒体を使用して、通信ネットワーク1026上を送信又は受信されてよい。
特定の例示的な実施形態又は方法を参照して、実施例について説明してきたが、これらの実施形態に対して、実施形態のより広い範囲から逸脱することなく、様々な変更及び変形を行ってよいことが明らかであろう。それに応じて、本明細書及び図面は、制限的な意味というよりも例証と見なされるべきである。本明細書の一部を形成する添付の図面は、主題が実施され得る特定の実施形態を、限定ではなく例示として示す。示される実施形態は、本明細書で開示される教示を当業者が実施することを可能にするのに十分に詳細に説明されている。構造的及び論理的置換及び変更を、本開示の範囲から逸脱することなく行ってよいように、他の実施形態を利用し、そこから導出してよい。したがって、この「発明を実施するための形態」は限定的な意味で解釈されるべきではなく、様々な実施形態の範囲は、添付の特許請求の範囲と、そのような特許請求の範囲が権利を有する等価物の全範囲とによってのみ規定される。
本発明の主題のそのような実施形態は、本明細書において、単に便宜上、用語「発明」によって、個別に及び/又は集合的に言及される場合があり、1つ以上の発明又は発明概念が開示されている場合は、本出願の範囲を、任意の単一の発明又は発明概念に自発的に限定することは意図しない。したがって、本明細書では特定の実施形態を図示し説明してきたが、同じ目的を達成するために企図された任意の構成を、示された特定の実施形態の代わりに使用してよいことを理解されたい。本開示は、様々な実施形態の任意の及び全ての適合形態又は変形形態を網羅することを意図している。上記の実施形態の組み合わせ、及び本明細書に具体的に記載されていない他の実施形態が、上記の明細書を検討することで当業者には明らかであろう。

Claims (33)

  1. 温度制御システムであって、前記システムは、
    2次元画像を生成するためのアレイセンサであって、前記2次元画像は、構成要素の温度を示す複数のピクセルを含む、アレイセンサと、
    加熱又は冷却デバイスを制御して前記構成要素の前記温度を調整するためのコントローラと、
    電源により起動され、前記アレイセンサ及び前記コントローラと通信状態にある、アレイセンサコントローラと、
    を備える、システム。
  2. 請求項1に記載のシステムであって、前記2次元画像は、前記構成要素の表現を含む、システム。
  3. 請求項2に記載のシステムであって、前記2次元画像は、1つ以上のゾーンを含む、システム。
  4. 請求項3に記載のシステムであって、前記構成要素は、複数の構成要素のうちの1つであり、
    前記1つ以上のゾーンのうちの各ゾーンは、複数の監視対象構成要素における1つの構成要素に対応する、システム。
  5. 請求項3に記載のシステムであって、前記1つ以上のゾーンのうちの各ゾーンは、各ゾーンにおいて表現される特定の構成要素に関連付けられたピクセルを含む、システム。
  6. 請求項3に記載のシステムであって、前記1つ以上のゾーンのうちの各ゾーンは、ゾーンの特定の熱領域内の特定の構成要素に関連付けられたピクセルを含む、システム。
  7. 請求項4に記載のシステムであって、前記1つ以上のゾーンは、前記複数の構成要素のうちの前記構成要素のサイズ、面積、又は位置に関連付けられている、システム。
  8. 請求項3に記載のシステムであって、前記1つ以上のゾーンのうちのゾーンは、前記コントローラに関連付けられている、システム。
  9. 請求項8に記載のシステムであって、前記構成要素は、複数の構成要素のうちの1つであり、
    前記コントローラは、複数のコントローラのうちの1つであり、前記複数のコントローラのうちの各コントローラは、それぞれの加熱又は冷却デバイスを制御して、それぞれの構成要素の前記温度を調整し、前記1つ以上のゾーンのうちの各ゾーンは、前記複数のコントローラのうちの1つのコントローラに関連付けられ、前記システムは、前記1つ以上のゾーンを含む単一の2次元画像により生成された温度データに基づいて温度を制御する、システム。
  10. 請求項9に記載のシステムであって、前記単一の2次元画像により生成された前記温度データは、フィードバックとして、前記複数のコントローラのうちの少なくとも1つのコントローラに含まれるデータプロセッサに送信される、システム。
  11. 請求項10に記載のシステムであって、フィードバックデータは、前記データプロセッサにより、ベンチマーク温度データと比較される、システム。
  12. アレイセンサ温度制御システムを動作させるための方法であって、前記方法は、
    アレイセンサにより2次元画像を生成することであって、前記2次元画像は、前記2次元画像の1つ以上のゾーン内に複数のピクセルを含み、前記ピクセルは、構成要素の相対温度を示す、ことと、
    前記1つ以上のゾーンのうちのゾーンから得られたデータを処理して、コントローラのための入力データを生成することと、
    前記コントローラを動作させて、前記構成要素の温度を前記入力データに基づいて調整することと、を含む、方法。
  13. 請求項12に記載の方法であって、前記構成要素の表現が前記2次元画像に含まれる、方法。
  14. 請求項12に記載の方法であって、前記構成要素は、複数の構成要素のうちの1つであり、
    前記1つ以上のゾーンのうちの各ゾーンは、前記複数の構成要素のうちの1つの構成要素に対応する、方法。
  15. 請求項12に記載の方法であって、前記1つ以上のゾーンのうちの各ゾーンは、各ゾーンにおいて表現される特定の構成要素に関連付けられたピクセルを含む、方法。
  16. 請求項12に記載の方法であって、前記1つ以上のゾーンのうちの各ゾーンは、ゾーンの特定の熱領域に関連付けられたピクセルを含む、方法。
  17. 請求項12に記載の方法であって、前記1つ以上のゾーンのうちのゾーンを、前記構成要素のサイズ、面積、又は位置に関連付けることを更に含む、方法。
  18. 請求項13に記載の方法であって、前記1つ以上のゾーンのうちのゾーンは、前記コントローラに関連付けられている、方法。
  19. 請求項12に記載の方法であって、前記構成要素は、複数の構成要素のうちの1つであり、
    前記コントローラは、複数のコントローラのうちの1つであり、前記複数のコントローラのうちの各コントローラは、それぞれの加熱又は冷却デバイスを制御して、それぞれの構成要素の前記温度を調整し、前記1つ以上のゾーンのうちの各ゾーンは、前記複数のコントローラのうちの1つのコントローラに関連付けられ、前記調整された温度は、前記1つ以上のゾーンを含む単一の2次元画像により生成された温度データに基づく、方法。
  20. 請求項19に記載の方法であって、前記単一の2次元画像により生成された前記温度データを、フィードバックデータとして、前記複数のコントローラのうちの少なくとも1つのコントローラに含まれるデータプロセッサに送信することを更に含む、方法。
  21. 請求項20に記載の方法であって、前記フィードバックデータは、前記データプロセッサにより、ベンチマーク温度データと比較される、方法。
  22. 命令を含む機械可読媒体であって、前記命令は、マシンにより読み取られると、前記マシンに、少なくとも、
    アレイセンサを動作させて2次元画像を生成させることであって、前記2次元画像は、前記2次元画像の1つ以上のゾーンに複数のピクセルを含み、前記ピクセルは、構成要素の相対温度を示す、ことと、
    前記1つ以上のゾーンのうちのゾーンから得られたデータを処理して、コントローラのための入力データを生成することと、
    前記コントローラを動作させて、前記構成要素の温度を前記入力データに基づいて調整することと、
    を含む動作を実施させる、機械可読媒体。
  23. 基板処理システムであって、
    処理チャンバと、
    前記処理チャンバのための電源と、
    前記基板処理システムの構成要素の温度を調整するための温度制御システムであって、前記温度制御システムは、
    2次元画像を生成するためのアレイセンサであって、前記2次元画像は、前記構成要素の温度を示す複数のピクセルを含む、アレイセンサと、
    加熱又は冷却デバイスを制御して前記構成要素の前記温度を調整するためのコントローラと、
    前記アレイセンサ及び前記コントローラと通信状態にあるアレイセンサコントローラと、を備える、
    温度制御システムと、
    を備える、基板処理システム。
  24. 請求項23に記載の基板処理システムであって、前記2次元画像は、前記構成要素の表現を含む、基板処理システム。
  25. 請求項24に記載の基板処理システムであって、前記2次元画像は、1つ以上のゾーンを含む、基板処理システム。
  26. 請求項25に記載の基板処理システムであって、前記構成要素は、複数の構成要素のうちの1つであり、
    前記1つ以上のゾーンのうちの各ゾーンは、複数の監視対象構成要素における1つの構成要素に対応する、基板処理システム。
  27. 請求項25に記載の基板処理システムであって、前記1つ以上のゾーンのうちの各ゾーンは、各ゾーンにおいて表現される特定の構成要素に関連付けられたピクセルを含む、基板処理システム。
  28. 請求項25に記載の基板処理システムであって、前記1つ以上のゾーンのうちの各ゾーンは、ゾーンの特定の熱領域内の特定の構成要素に関連付けられたピクセルを含む、基板処理システム。
  29. 請求項25に記載の基板処理システムであって、前記1つ以上のゾーンは、前記複数の構成要素のうちの前記構成要素のサイズ、面積、又は位置に関連付けられている、基板処理システム。
  30. 請求項25に記載の基板処理システムであって、前記1つ以上のゾーンのうちのゾーンは、前記コントローラに関連付けられている、基板処理システム。
  31. 請求項30に記載の基板処理システムであって、前記構成要素は、複数の構成要素のうちの1つであり、
    前記コントローラは、複数のコントローラのうちの1つであり、前記複数のコントローラのうちの各コントローラは、それぞれの加熱又は冷却デバイスを制御して、それぞれの構成要素の前記温度を調整し、前記1つ以上のゾーンのうちの各ゾーンは、前記複数のコントローラのうちの1つのコントローラに関連付けられ、前記システムは、前記1つ以上のゾーンを含む単一の2次元画像により生成された温度データに基づいて温度を制御する、基板処理システム。
  32. 請求項31に記載の基板処理システムであって、前記単一の2次元画像により生成された前記温度データは、フィードバックとして、前記複数のコントローラのうちの少なくとも1つのコントローラに含まれるデータプロセッサに送信される、基板処理システム。
  33. 請求項32に記載の基板処理システムであって、フィードバックデータは、前記データプロセッサにより、ベンチマーク温度データと比較される、基板処理システム。
JP2022527674A 2019-11-19 2020-11-11 温度監視 Pending JP2023502601A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201962937739P 2019-11-19 2019-11-19
US62/937,739 2019-11-19
PCT/US2020/060023 WO2021101772A1 (en) 2019-11-19 2020-11-11 Temperature monitoring

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2023502601A true JP2023502601A (ja) 2023-01-25

Family

ID=75980768

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022527674A Pending JP2023502601A (ja) 2019-11-19 2020-11-11 温度監視

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20220404208A1 (ja)
JP (1) JP2023502601A (ja)
KR (1) KR20220098023A (ja)
CN (1) CN114729837A (ja)
WO (1) WO2021101772A1 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN117545161B (zh) * 2024-01-09 2024-03-29 江苏神州半导体科技有限公司 远程等离子发生器的散热调节方法及系统

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW523850B (en) * 2000-10-13 2003-03-11 Tokyo Electron Ltd Apparatus for measuring temperatures of plural physically separated locations on a substrate in a plasma processing system
US9435692B2 (en) * 2014-02-05 2016-09-06 Lam Research Corporation Calculating power input to an array of thermal control elements to achieve a two-dimensional temperature output
US9831111B2 (en) * 2014-02-12 2017-11-28 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for measurement of the thermal performance of an electrostatic wafer chuck
KR101999705B1 (ko) * 2014-10-31 2019-07-12 와틀로 일렉트릭 매뉴팩츄어링 컴파니 히터를 위한 열적 동적 응답 감지 시스템
CN106226349B (zh) * 2016-07-08 2020-04-03 上海大学 基于红外热成像的连续成分块材高通量多场筛选装置和方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN114729837A (zh) 2022-07-08
KR20220098023A (ko) 2022-07-08
WO2021101772A1 (en) 2021-05-27
US20220404208A1 (en) 2022-12-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20220013387A1 (en) Substrate processing system and temperature control method
JP6806704B2 (ja) 方位角方向に調整可能なマルチゾーン静電チャック
TWI719694B (zh) 熱傳導率估計方法、熱傳導率估計裝置、半導體晶體製品的製造方法、熱傳導率演算裝置、熱傳導率演算程式以及熱傳導率演算方法
US8712571B2 (en) Method and apparatus for wireless transmission of diagnostic information
JP6570894B2 (ja) 温度制御方法
JP6340089B2 (ja) ファイバブラッググレーティング復調器及びその温度制御方法
TWI636519B (zh) 用於可旋轉晶圓支撐總成之溫度感測系統
US10375763B2 (en) Temperature control apparatus, temperature control method and recording medium
JP2019530208A (ja) 個別に制御可能なヒータ素子のアレイを有する基板キャリア
US20140200702A1 (en) Digital Wireless Data Collection
JP6257018B2 (ja) 熱伝達体温度変更システム
JP2019530209A (ja) ヒータ素子アレイを使用する、基板キャリアの温度測定
JP2023502601A (ja) 温度監視
CN110352479A (zh) 原位半导体处理腔室温度装置
JP6752937B1 (ja) 基地局用の能動的なスマート放熱システム
TWI693491B (zh) 基板支持組件之熱安定性的決定方法、非暫態電腦可讀媒體、及控制系統
JP6692369B2 (ja) Rf環境内の装置のための制御アーキテクチャ
US20170163065A1 (en) Constant power supply for thermo-electric cells
TWI791558B (zh) 用於半導體基板處理室的溫度控制的方法、非暫時性機器可讀儲存媒體以及系統
KR20200039579A (ko) 플라즈마 처리 장치, 감시 방법 및 감시 프로그램
US20220238415A1 (en) Thermoelectric cooling pedestal for substrate processing systems
JP2020520099A (ja) 基板処理システムのための温度調節された基板支持体
WO2024034355A1 (ja) パラメータ推定システム、パラメータ推定方法、コンピュータプログラム及び基板処理装置
TW202414638A (zh) 半導體元件的製造系統及製造方法
KR20120128993A (ko) 전기식 칠러 장치 및 그 온도제어 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20231011