JP2023183851A - 部材加工方法 - Google Patents

部材加工方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2023183851A
JP2023183851A JP2022097624A JP2022097624A JP2023183851A JP 2023183851 A JP2023183851 A JP 2023183851A JP 2022097624 A JP2022097624 A JP 2022097624A JP 2022097624 A JP2022097624 A JP 2022097624A JP 2023183851 A JP2023183851 A JP 2023183851A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
adhesive
adhesive sheet
adhesive layer
weight
acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2022097624A
Other languages
English (en)
Inventor
元気 越智
Genki OCHI
大輔 水野
Daisuke Mizuno
真由 尾▲崎▼
Mayu Ozaki
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Denko Corp filed Critical Nitto Denko Corp
Priority to JP2022097624A priority Critical patent/JP2023183851A/ja
Priority to PCT/JP2023/021944 priority patent/WO2023243636A1/ja
Publication of JP2023183851A publication Critical patent/JP2023183851A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J201/00Adhesives based on unspecified macromolecular compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/30Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
    • C09J7/38Pressure-sensitive adhesives [PSA]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Dicing (AREA)

Abstract

【課題】任意の工程で、任意の位置にアライメントマークを作成することができ、汎用性が支持板上に仮固定された部材の加工方法を提供すること。【解決手段】本発明は、支持板21上に仮固定された部材を加工する方法を提供する。本発明の加工方法は、以下の工程を含む。外部刺激により変色可能な変色成分を含有する粘着シート1Bを準備する工程と、粘着シート1Bを支持板21上に固定する工程と、支持板21上に固定された粘着シート21の所定の位置に、外部刺激を与えて変色させて、アライメントマーク23を粘着シート1Bに形成する工程と、支持板21上に固定された粘着シート1B上に部材を仮固定する工程。【選択図】図5

Description

本発明は、部材の加工方法に関する。より詳細には、支持板上に仮固定された部材の加工方法に関する。
電子部品、光学部品等の部材の加工においては、加工精度やハンドリング性の向上、工程間の搬送、出荷などの工程管理を容易にすることなどを目的して、部材を支持板上に仮固定する場合がある。例えば、半導体ウェハに、研磨、ダイシング、転写、実装などの各種加工を行う際に、半導体ウェハや半導体チップを、粘着シートを介して支持板上に仮固定した状態で加工を行う方法が知られている(例えば、特許文献1)。
部材を支持板上に仮固定して加工する場合、支持板上の部材の位置、複数部材を仮固定する場合の部材間のピッチ、加工を施す位置、部材を次工程で移載する際の位置などの指標とするため、支持板上にアライメントマークを設けることがある(例えば、特許文献2)。
特開2014-082344号公報 WO2003/085714号公報
このようなアライメントマークは、加工対象の部材の種類やサイズ、加工の位置、態様などに従って、異なる位置に設ける必要があり、オーダーメイドで作製される必要があるため汎用性が低く、さらに、支持板はガラスなどの高価な部材で作製されることが多いため、コストが高くなるという問題がある。
本発明は上記の問題に鑑みてなされたものであり、その目的は、任意の工程で、任意の位置にアライメントマークを形成することができる汎用性が高い、支持板上に仮固定された部材の加工方法を提供することにある。
本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討した結果、外部刺激により変色可能な変色成分を含ませた粘着シートを介して、部材を支持板に仮固定することにより、粘着シートの任意の位置に、任意の工程で、アライメントマークを形成することができ、汎用性が極めて高く、コストを大幅に低減できることを見出した。本発明は、これらの知見に基づいて完成されたものである。
すなわち、本発明の第1の側面は、支持板上に仮固定された部材を加工する方法を提供する。本明細書において、本発明の第1の側面の方法を「本発明の部材加工方法」と称する場合がある。
本発明の部材加工方法は、加工対象の部材を、支持板上に仮固定して、当該部材を加工する方法である。前記部材を支持板上に仮固定することにより、加工精度やハンドリング性が向上し、工程間の搬送、出荷などの工程管理を容易にすることができる。部材を支持板上に仮固定して加工する場合、支持板上の部材の位置、複数部材を仮固定する場合の部材間のピッチ、加工を施す位置、部材を次工程で移載する際の位置などの指標とするため、支持板上にアライメントマークを設けることがある。このようなアライメントマークは、加工対象の部材の種類やサイズ、加工の位置、態様などに従って、異なる位置に設ける必要があり、オーダーメイドで作製される必要があるため汎用性が低く、さらに、支持板はガラスなどの高価な部材で作製されることが多いため、コストが高くなるという問題がある。
本発明の部材加工方法は、以下の工程を含む。
・外部刺激により変色可能な変色成分を含有する粘着シートを準備する工程(本明細書において、「粘着シート準備工程」と称する場合がある)
・前記粘着シートを前記支持板上に固定する工程(本明細書において、「粘着シート固定工程」と称する場合がある)
・前記支持板上に固定された前記粘着シートの所定の位置に、前記外部刺激を与えて変色させて、アライメントマークを前記粘着シートに形成する工程(本明細書において、「アライメントマーク形成工程」と称する場合がある)
・前記支持板上に固定された前記粘着シート上に前記部材を仮固定する工程(本明細書において、「部材仮固定工程」と称する場合がある)
本発明の部材加工方法において、前記粘着シート準備工程、粘着シート固定工程、及び部材仮固定工程により、前記部材は、粘着シートを介して、前記支持板に仮固定される。本明細書において、本発明の部材加工方法で使用される前記粘着シートを「本発明の粘着シート」と称する場合がある。
本発明の粘着シートは、外部刺激により変色可能な変色成分を含有する。本明細書において、前記外部刺激により変色可能な変色成分を「本発明の変色成分」と称する場合がある。
本発明の粘着シートが、本発明の変色成分を含有するという構成は、前記アライメントマーク形成工程により、粘着シートの所定の位置に、前記外部刺激を与えて、外部刺激を受けた箇所の変色成分を変色させることにより、当該変色箇所を、アライメントマークとして使用することができる。このアライメントマークは、本発明の粘着シート上の任意の位置に、任意の工程で、形成することができるため、非常に汎用性が高く、生産効率を格段に向上させると共に、支持板にアライメントマークを設ける必要がないので、コストを大幅に低減することができる。さらには、アライメントマークを使用する工程の直前、または工程中に、アライメントマークを形成することができるため、異なるアライメントマークを有する支持板への貼り替えを省略することができ、製造効率を格段に向上させることもできる点でも、好適である。
本発明の部材加工方法の一実施形態は、前記部材仮固定工程において、粘着シートに形成された前記アライメントマークを指標にして前記部材を仮固定することが好ましい。前記部材仮固定工程において、アライメントマークを指標にして前記部材を仮固定することにより、支持板上の部材の位置、複数部材を仮固定する場合の部材間のピッチなどを正確に位置決めすることができ、好ましい。
本発明の部材加工方法の他の一実施形態は、さらに、以下の工程を含むことが好ましい。
・前記粘着シート上に仮固定された前記部材に対して、前記仮固定以外の加工を実施する工程(本明細書において、「部材加工工程」と称する場合がある)
前記部材加工工程において、粘着シートに形成された前記アライメントマークを指標にして前記加工を実施することが好ましい。前記アライメントマークを指標にして、支持板上に仮固定された部材を加工するすることにより、加工精度や効率が格段に向上することができ、好ましい。
本発明の部材加工方法の他の一実施形態は、さらに、以下の工程を含むことが好ましい。
・前記部材を、前記粘着シートから剥離する工程(本明細書において、「部材剥離工程」と称する場合がある)
本発明の部材加工方法が、前記部材剥離工程を、さらに含むという構成は、加工後の部材を、次工程の加工への搬送、又は出荷などの工程管理を効率化するという観点で、好ましい。
本発明の部材加工方法の他の一実施形態において、加工対象の前記部材は、半導体ウェハ又は半導体チップであることが好ましい。半導体ウェハ又は半導体チップの製造においては、研磨、ダイシング、転写、実装などの各種工程は、極めて高い加工精度が要求されるものであり、前記アライメントマーク形成工程で形成されるアライメントマークを指標として、前記部材仮固定工程や部材加工工程を行うことにより、このような高い加工精度を実現できる点で、好ましい。
本発明の部材加工方法の他の一実施形態において、前記外部刺激は、活性エネルギー線照射であることが好ましい。前記外部刺激が、活性エネルギー線照射であるという構成は、本発明の粘着シートの任意の位置に、任意の工程で活性エネルギー線を照射して、アライメントマークを形成することが容易である点で、好適である。
本発明の部材加工方法は、粘着シートに外部刺激を与えることにより、本発明の変色成分が変色して、任意の位置に、任意の工程で、アライメントマークを作成することができる。このため、支持板上に部材を仮固定する全ての加工技術に適用可能であり、汎用性が非常に高く、生産効率を格段に向上させると共に、支持板にアライメントマークを設ける必要がないので、コストを大幅に低減することができる。
本発明の粘着シートの一実施形態を示す断面模式図である。 本発明の粘着シートの他の一実施形態を示す断面模式図である。 図2に示す粘着シートを用いた本発明の部材加工方法における粘着シート固定工程の一実施形態を表す断面模式図である。 図2に示す粘着シートを用いた本発明の部材加工方法におけるアライメントマーク形成工程の一実施形態を表す断面模式図である。 図2に示す粘着シートを用いた本発明の部材加工方法におけるアライメントマーク形成工程の他の一実施形態を表す断面模式図である。 図2に示す粘着シートを用いた本発明の部材加工方法における部材仮固定工程の一実施形態を表す断面模式図である。 図2に示す粘着シートを用いた本発明の部材加工方法における部材加工工程の一実施形態を表す断面模式図である。 図2に示す粘着シートを用いた本発明の部材加工方法における部材剥離工程の一実施形態を表す断面模式図である。
1.本発明の部材加工方法
本発明の部材加工方法は、支持板上に仮固定された部材を加工する方法であって、以下の工程を含むものである。
・外部刺激により変色可能な変色成分を含有する粘着シートを準備する工程(粘着シート準備工程)
・前記粘着シートを前記支持板上に固定する工程(粘着シート固定工程)
・前記支持板上に固定された前記粘着シートの所定の位置に、前記外部刺激を与えて変色させて、アライメントマークを前記粘着シートに形成する工程(アライメントマーク形成工程)
・前記支持板上に固定された前記粘着シート上に前記部材を仮固定する工程(部材仮固定工程)
本発明の部材加工方法において、加工の対象となる「部材」としては、加工可能な部材(被加工部材)である限り特に限定されず、電子部品、光学部品、などが含まれる。電子部品としては、半導体、光半導体(LED)などの半導体ウェハ又は半導体チップ、多層基板、積層セラミック、一括封止モジュールなどが挙げられる。光学部品としては、レンズ、回折光学素子、プリズム、偏光板などが挙げられる。本発明の部材加工方法は、高精度の加工が要求される半導体ウェハ又は半導体チップの加工に好適である。
本発明の部材加工方法において、「加工」としては、特に限定されないが、研磨、ダイシング、固定、転写、実装、切削、研削、レーザー加工、印刷、外観検査などが挙げられる。なお、部材を仮固定する工程(部材仮固定工程)自体も、部材の「加工」の一実施形態に含まれるものとする。本発明の部材加工方法は、高精度の加工が要求される半導体ウェハ又は半導体チップの研磨、ダイシング、固定、転写、実装などの加工に好適である。
本発明の部材加工方法において、部材を仮固定する支持板の素材としては、安定して部材を固定して加工が可能である限り、特に限定されないが、ガラス基板、金属基板、シリコン基板、サファイア基板、プラスチック基板等が挙げられる。アライアントマークの形成のし易さ、アライアントマークの視認性等の観点から、透明性が高いガラス基板が好ましい。
本発明の部材加工方法において、部材の「仮固定」とは、部材の加工や工程間の搬送などにおいて、一時的に部材を支持板に固定し、その後に剥離することを意味する。なお、部材の剥離は、転写、実装などの加工中、又は工程間などに行われてもよい。
本発明の部材加工方法において、上記各工程は、明示されていない限り、その順序は、特に限定されない。例えば、前記アライメントマーク形成工程、及び部材仮固定工程は、上記記載の順序に限定されるものではなく、アライメントマーク形成工程の後に部材仮固定工程を行ってもよく、或いは部材仮固定工程の後にアライメントマーク形成工程を行ってもよい。また、アライメントマーク形成工程は、部材仮固定工程と同時に行うこともできる。部材の仮固定を、前記アライメントマークを指標に行うことが好ましいため、アライメントマーク形成工程の後に、部材仮固定工程を行うことが好ましい。
本発明の部材加工方法において、前記粘着シート準備工程、粘着シート固定工程、及び部材仮固定工程により、前記部材は、本発明の粘着シートを介して、支持板に仮固定される。
本発明の部材加工方法の他の一実施形態は、さらに、以下の工程を含むことが好ましい。
・前記粘着シート上に仮固定された前記部材に対して、前記仮固定以外の加工を実施する工程(部材加工工程)
本発明の部材加工方法の他の一実施形態は、さらに、以下の工程を含むことが好ましい。
・前記部材を、前記粘着シートから剥離する工程(部材剥離工程)
以下、各工程について、説明する。
2.粘着シート準備工程
前記粘着シート準備工程で準備される粘着シート(本発明の粘着シート)は、外部刺激により変色可能な変色成分(本発明の変色成分)を含有する限り、その形態は特に限定されない。例えば、片面のみが粘着面である片面粘着シートであってもよいし、両面が粘着面である両面粘着シートであってもよい。一方の面を支持板に貼り合わせ、他方の面に部材を仮固定する観点からは、両面粘着シートが好ましい。
本発明の粘着シートは、基材(基材層)を有しない、いわゆる「基材レスタイプ」の粘着シートであってもよいし、基材を有するタイプの粘着シートであってもよい。なお、本明細書において、「基材レスタイプ」の粘着シートを「基材レス粘着シート」と称する場合があり、基材を有するタイプの粘着シートを「基材付き粘着シート」と称する場合がある。上記基材レス粘着シートとしては、例えば、単一の粘着剤層のみからなる両面粘着シートや、2つ異なる粘着剤層からなる両面粘着シート等が挙げられる。また、上記基材付き粘着シートとしては、例えば、基材の片面側に粘着剤層を有する片面粘着シートや、基材の両面側に粘着剤層を有する両面粘着シートなどが挙げられる。なお、上記の「基材(基材層)」とは、本発明の粘着シートを被着体に使用(貼付)する際には、粘着剤層とともに被着体(支持板又は部材)に貼付される部分である。粘着シートの使用(貼付)時に剥離されるはく離ライナーは、上記基材に含まれない。
本発明の部材加工方法又は粘着シートの一実施形態について、図面を参照して、以下に説明することがあるが、本発明の部材加工方法又は粘着シートは当該実施形態に限定されるものではない。
図1は、本発明の粘着シートの一実施形態を示す断面模式図であり、1Aは粘着シート、10は粘着剤層、110、120は、はく離ライナーを示す。
図1に示すように、粘着シート1Aは、はく離ライナー110と、粘着剤層10と、はく離ライナー120とがこの順に積層された積層構造を有する基材レス両面粘着シートである。はく離ライナー110、120は、粘着剤層10が、支持板に固定されるか、又は、部材を仮固定する際に、剥離することにより、粘着面が露出する。粘着剤層10の一方の粘着面が支持板に貼り付けられて固定され、他方の粘着面に部材が仮固定される。
図2は、本発明の粘着シートの他の一実施形態を示す断面模式図であり、1Bは粘着シート、11、12は粘着剤層、Sは基材、110、120は、はく離ライナーを示す。
図2に示すように、粘着シート1Bは、はく離ライナー110と、粘着剤層11と、基材Sと、粘着剤層12と、はく離ライナー120とがこの順に積層された積層構造を有する基材付き両面粘着シートである。はく離ライナー110、120は、粘着剤層11、12が、支持板に固定されるか、又は、部材を仮固定する際に、剥離することにより、粘着面が露出する。粘着剤層11及び12の一方が支持板に貼り付けられて固定され、他方に部材が仮固定される。粘着剤層11と、粘着剤層12は、同一の粘着剤で構成されていてもよく、異なる粘着剤で構成されていてもよい。
[外部刺激により変色可能な変色成分]
本発明の粘着シートは、外部刺激により変色可能な変色成分(本発明の変色成分)を含有する。本発明の粘着シートが、本発明の変色成分を含有するという構成は、アライメントマーク形成工程により、粘着シートの所定の位置に、前記外部刺激を与えて、外部刺激を受けた箇所の変色成分を変色させることにより、当該変色箇所を、アライメントマークとして使用することができる。
本発明の変色成分は、本発明の粘着シートを構成するいずれかの層に含まれていればよく、粘着剤層、基材、粘着シートを構成するその他の層のいずれか1つ以上の層に含まれていればよい。例えば、前記粘着シート1Aの場合は、粘着剤層10に含まれていればよい。また、前記粘着シート1Bの場合は、粘着剤層11及び12、基材Sのいずれか1つ以上の層に含まれていればよい。本発明の変色成分を含有する粘着シートを調製しやすい点、本発明の変色成分の含有量などの調整が容易な点などから、本発明の変色成分は、粘着剤層に含まれていることが好ましい。
前記外部刺激としては、例えば、電子線照射、紫外線照射、レーザー光照射などの活性エネルギー線照射、加熱などが挙げられ、本発明の粘着シートの任意の位置にアライメントマークを設けやすい観点から、活性エネルギー線照射が好ましく、紫外線照射がより好ましく、特定の位置にアライメントマークを形成しやすい点から、紫外線レーザー光照射がさらに好ましい。
前記外部刺激による「変色可能」とは、外部刺激により色が変化し得ることを言い、アライメントマークとして使用する観点から、無色(透明)から有色に変化する「着色」が好ましい。
本発明の変色成分は、前記外部刺激により変色可能である限り、特に限定されないが、「酸との反応により変色する化合物」と「酸発生剤」との組み合わせ、「塩基との反応により消色する化合物」と「塩基発生材」との組み合わせ、フォトクロミック化合物などが挙げられる。
[酸との反応により変色する化合物]
本発明の変色成分を構成する酸との反応により変色する化合物は、酸により無色(透明)から有色に変化する化合物が好ましく、例えば、ロイコ系色素が挙げられる。ロイコ色素は、酸化還元に伴って可逆的に色調が変化する有機色素である。pHにより吸収波長が変化するものであってよい。より具体的には、電子を付加することによって、または、電子を除去することによって色素を形成して発色する、1個または2個以上の水素原子を有している還元型の色素をいう。ロイコ色素は、中性またはアルカリ媒体では無色あるいは弱い色を有するが、酸性物質または電子求引性物質と反応させると、下記式に示すようにラクトン環が開環状態となり着色する色素である。ロイコ色素のうち、電子を除去される前は、実質的に無色であるか、または弱い色を有するものを選択することで、着色の変化を顕著にして、アライメントマークの視認性を向上することが可能となる。
Figure 2023183851000002
上記式中、R1、及びR2は、同一又は異なっていてもよく、水素原子、又は炭化水素基を示す。または、R1、及びR2は、結合する窒素原子と共に、5又は6員含窒素複素環を形成してもよい。R3、R4、R5、R6、R7、R8、及びR9は、同一又は異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、又は-NR1011を示す。R10、及びR11は、同一又は異なっていてもよく、水素原子、炭化水素基を示す。又は、R10、及びR11は、結合する窒素原子と共に、5又は6員含窒素複素環を形成してもよい。又は、R6とR7、R7とR8、R8とR9は、結合して、これらが結合するベンゼン環とともに、ベンゼン環などの芳香族炭化水素環を形成してもよい。
前記炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、s-ペンチル基、t-ペンチル基、ネオペンチル基等のC1-6アルキル基;シクロヘキシル基等のC3-6シクロアルキル基;フェニル基等のC6-10アリール基;ベンジル基等のC7-11アラルキル基等が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などが挙げられる。炭化水素基は、C1-6アルキル基、ハロC1-6アルキル基、ハロゲン原子、C1-6アルコキシ基、C1-6アルコキシカルボニル基、テトラヒドロフリル基などの置換基を有していてもよい。5又は6員含窒素複素環としては、ピロリジン、ピペリジン、モルホリンなどが挙げられる。
ロイコ色素は、前記酸発生剤に、活性エネルギー線を照射するか、加熱することにより発生する酸によって着色する。
また、ロイコ色素は、ラクトン環が開環状態となり着色した後、塩基と反応させることにより、ラクトン環が閉環し消色させることも可能である。上記塩基は後述する塩基発生剤に活性エネルギー線を照射するか、加熱することにより発生させることもできる。
ロイコ色素としては、例えば、フタライド染料(インドリノフタリド系、トリフェニルメタンフタリド系等)、フルオラン染料、トリアリールメタン染料、ジフェニルメタン染料、フエノチアジン染料、オーラミン染料、スピロピラン染料、及びローダミン染料などのロイコ化合物が挙げられる。
ロイコ色素は、発色性に優れるという観点から、特に、フタライド染料、およびフルオラン染料からなる群から選択される少なくとも1つのロイコ色素であることが好ましい。
ロイコ色素は、1種類を単独で用いてもよいし、2種類以上を混合して用いてもよい。
ロイコ色素の具体例としては、下記の化合物が挙げられる。
2’-アニリノ-6’-(N,N-ジペンタン-1-イルアミノ)-3’-メチル-3H-スピロ[イソベンゾフラン-1,9’-キサンテン]-3-オン、2-アニリノ-3-メチル-6-ジブチルアミノフルオラン、2-アニリノ-3-メチル-6-ジペンチルアミノフルオラン、2-アニリノ-3-メチル-6-[エチル(4-メチルフェニル)アミノ]フルオラン、3,3-ビス(p-ジメチルアミノフェニル)-フタリド、3,3-ビス(p-ジメチルアミノフェニル)-6-ジメチルアミノフタリド(別名:クリスタルバイオレットラクトン)、3,3-ビス(p-ジメチルアミノフェニル)-6-ジエチルアミノフタリド、3,3-ビス(p-ジメチルアミノフェニル)-6-クロルフタリド、3,3-ビス(p-ジブチルアミノフェニル)フタリド、3-シクロヘキシルアミノ-6-クロルフルオラン、3-ジメチルアミノ-5,7-ジメチルフルオラン、3-(N-メチル-N-イソブチル)-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-(N-エチル-N-イソアミル)-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-ジエチルアミノ-7-クロロフルオラン、3-ジエチルアミノ-7-メチルフルオラン、3-ジエチルアミノ-7,8-ベンズフルオラン、3-ジエチルアミノ-6-メチル-7-クロルフルオラン、3-(N-p-トリル-N-エチルアミノ)-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-ピロリジノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、2-{N-(3’-トリフルオルメチルフェニル)アミノ}-6-ジエチルアミノフルオラン、2-{3,6-ビス(ジエチルアミノ)-9-(o-クロルアニリノ)キサンチル安息香酸ラクタム}3-ジエチルアミノ-6-メチル-7-(m-トリクロロメチルアニリノ)フルオラン、3-ジエチルアミノ-7-(o-クロルアニリノ)フルオラン、3-ジブチルアミノ-7-(o-クロルアニリノ)フルオラン、3-(N-メチル-N-アミルアミノ)-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-(N-メチル-N-シクロヘキシルアミノ)-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-ジエチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-ジエチルアミノ-6-メチル-7-(2’,4’-ジメチルアニリノ)フルオラン、3-(N,N-ジエチルアミノ)-5-メチル-7-(N,N-ジベンジルアミノ)フルオラン、ベンゾイルロイコメチレンブルー、6’-クロロ-8’-メトキシ-ベンゾインドリノ-スピロピラン、6’-ブロモ-3’-メトキシ-ベンゾインドリノ-スピロピラン、3-(2’-ヒドロキシ-4’-ジメチルアミノフェニル)-3-(2’-メトキシ-5’-クロルフェニル)フタリド、3-(2’-ヒドロキシ-4’-ジメチルアミノフェニル)-3-(2’-メトキシ-5’-ニトロフェニル)フタリド、3-(2’-ヒドロキシ-4’-ジエチルアミノフェニル)-3-(2’-メトキシ-5’-メチルフェニル)フタリド、3-(2’-メトキシ-4’-ジメチルアミノフェニル)-3-(2’-ヒドロキシ-4’-クロル-5’-メチルフェニル)フタリド、3-モルホリノ-7-(N-プロピル-トリフルオロメチルアニリノ)フルオラン、3-ピロリジノ-7-トリフルオロメチルアニリノフルオラン、3-ジエチルアミノ-5-クロロ-7-(N-ベンジル-トリフルオロメチルアニリノ)フルオラン、3-ピロリジノ-7-(ジ-p-クロルフェニル)メチルアミノフルオラン、3-ジエチルアミノ-5-クロル-7-(α-フェニルエチルアミノ)フルオラン、3-(N-エチル-p-トルイジノ)-7-(α-フェニルエチルアミノ)フルオラン、3-ジエチルアミノ-7-(o-メトキシカルボニルフェニルアミノ)フルオラン、3-ジエチルアミノ-5-メチル-7-(α-フェニルエチルアミノ)フルオラン、3-ジエチルアミノ-7-ピペリジノフルオラン、2-クロロ-3-(N-メチルトルイジノ)-7-(p-n-ブチルアニリノ)フルオラン、3-(N-メチル-N-イソプロピルアミノ)-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-ジブチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3,6-ビス(ジメチルアミノ)フルオレンスピロ(9,3’)-6’-ジメチルアミノフタリド、3-(N-ベンジル-N-シクロヘキシルアミノ)-5,6-ベンゾ-7-α-ナフチルアミノ-4’-ブロモフルオラン、3-ジエチルアミノ-6-クロル-7-アニリノフルオラン、3-{N-エチル-N-(2-エトキシプロピル)アミノ}-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-{N-エチル-N-テトラヒドロフルフリルアミノ}-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-ジエチルアミノ-6-メチル-7-メシチジノ-4’,5’-ベンゾフルオラン、3-(p-ジメチルアミノフェニル)-3-{1,1-ビス(p-ジメチルアミノフェニル)エチレン-2-イル}フタリド、3-(p-ジメチルアミノフェニル)-3-{1,1-ビス(p-ジメチルアミノフェニル)エチレン-2-イル}-6-ジメチルアミノフタリド、3-(p-ジメチルアミノフェニル)-3-(1-p-ジメチルアミノフェニル-1-フェニルエチレン-2-イル)フタリド、3-(p-ジメチルアミノフェニル)-3-(1-p-ジメチルアミノフェニル-1-p-クロロフェニルエチレン-2-イル)-6-ジメチルアミノフタリド、3-(4’-ジメチルアミノ-2’-メトキシ)-3-(1”-p-ジメチルアミノフェニル-1”-p-クロロフェニル-1”,3”-ブタジエン-4”-イル)ベンゾフタリド、3-(4’-ジメチルアミノ-2’-ベンジルオキシ)-3-(1”-p-ジメチルアミノフェニル-1”-フェニル-1”,3”-ブタジエン-4”-イル)ベンゾフタリド、3-ジメチルアミノ-6-ジメチルアミノ-フルオレン-9-スピロ-3’(6’-ジメチルアミノ)フタリド、6-(ジエチルアミノ)-2-[(3-トリフルオロメチル)アニリノ]キサンテン-9-スピロ-3’-フタリド、3,3-ビス{2-(p-ジメチルアミノフェニル)-2-(p-メトキシフェニル)エテニル}-4,5,6,7-テトラクロロフタリド、3-ビス{1,1-ビス(4-ピロリジノフェニル)エチレン-2-イル}-5,6-ジクロロ-4,7-ジブロモフタリド、ビス(p-ジメチルアミノスチリル)-1-ナフタレンスルホニルメタン、ビス(p-ジメチルアミノスチリル)-1-p-トリルスルホニルメタン。
酸との反応により変色する化合物は、1種類を単独で用いてもよいし、2種類以上を混合して用いてもよい。
酸との反応により変色する化合物は、粘着シート100重量部あたり、0.01~30重量部であることが好ましく、0.1~30重量部であることがより好ましく、0.1~20重量部であることがさらに好ましく、1~10重量部であることがさらに好ましい。上記範囲であることによって、酸との反応により変色する化合物による変色により、アライメントマークを効率的に形成することができる。
[酸発生剤]
本発明の変色成分を構成する酸発生剤は、前記外部刺激が与えられることにより酸(カチオン)を発生する化合物である。発生する酸によって、酸との反応により変色する化合物が変色する。外部刺激が活性エネルギー線照射の場合は、光酸発生剤、外部刺激が加熱の場合は、熱酸発生剤が用いられる。活性エネルギー線照射により、本発明の粘着シートの任意の位置にアライメントマークを設けやすい観点から、光酸発生剤が好ましい。
光酸発生剤は、紫外線、可視光線、赤外線のような光に限られず、α線、β線、γ線、電子線、中性子線、X線のような放射線等の活性エネルギー線を照射することにより酸(カチオン)を発生することができる化合物である。光酸発生剤を、前記酸との反応により変色する化合物とともに用いることにより、本発明の粘着シートに活性エネルギー線を照射して、任意の箇所に、任意のタイミングで変色させて、アライメントマークを形成することができる。
前記光酸発生剤としては、活性エネルギー線を照射することにより酸(カチオン)を発生することができる化合物であれば特に制限されず、例えば、スルホニウム塩系化合物、ヨードニウム塩系化合物、芳香族N-オキシイミドスルフォネート、スルホン酸エステル化合物、及びハロメチル置換-S-トリアジン誘導体等が挙げられる。
光酸発生剤は、本発明の粘着シートを構成する後述の粘着剤との相溶性が良好であるという観点から、特に、スルホニウム塩系化合物、ヨードニウム塩系化合物、及び芳香族N-オキシイミドスルフォネートからなる群より選択される少なくとも1つの化合物であることが好ましく、特に、スルホニウム塩系化合物が好ましい。
スルホニウム塩系化合物の具体例を例示すれば、ジメチルフェナシルスルホニウム、ジメチルベンジルスルホニウム、ジメチル-4-ヒドロキシフェニルスルホニウム、ジメチル-4-ヒドロキシナフチルスルホニウム、ジメチル-4,7-ジヒドロキシナフチルスルホニウム、ジメチル-4,8-ジヒドロキシナフチルスルホニウム、トリフェニルスルホニウム、p-トリルジフェニルスルホニウム、p-tert-ブチルフェニルジフェニルスルホニウム、ジフェニル-4-フェニルチオフェニルスルホニウム、ジフェニル-4-フェニルチオフェニルスルホニウム等のカチオンと、クロリド、ブロミド、p-トルエンスルホナート、トリフルオロメタンスルホナート、テトラフルオロボレート、テトラキスペンタフルオロフェニルボレート、テトラキスペンタフルオロフェニルガレート、ヘキサフルオロフォスフェート、ヘキサフルオロアルセナート、ヘキサフルオロアンチモネート、ノナフルオロブタンスルホナート等のアニオンとからなる塩が挙げられる。
ヨードニウム塩化合物としては、例えば、ジフェニルヨードニウム、ビス(p-クロロフェニル)ヨードニウム、ジトリルヨードニウム、ビス(p-tert-ブチルフェニル)ヨードニウム、p-イソプロピルフェニル-p-メチルフェニルヨードニウム、ビス(m-ニトロフェニル)ヨードニウム、p-tert-ブチルフェニルフェニルヨードニウム、p-メトキシフェニルフェニルヨードニウム、ビス(p-メトキシフェニル)ヨードニウム、p-オクチルオキシフェニルフェニルヨードニウム、p-フェノキシフェニルフェニルヨードニウム等のカチオンと、クロリド、ブロミド、p-トルエンスルホナート、トリフルオロメタンスルホナート、テトラフルオロボレート、テトラキスペンタフルオロフェニルボレート、テトラキスペンタフルオロフェニルガレート、ヘキサフルオロフォスフェート、ヘキサフルオロアルセナート、ヘキサフルオロアンチモネート、ノナフルオロブタンスルホナート等のアニオンとからなる塩が挙げられる。
芳香族N-オキシイミドスルフォネートとしては、例えば、N-(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)スクシンイミド、N-(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)フタルイミド、N-(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)ジフェニルマレイミド、N-(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)ビシクロヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド、及びN-(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)ナフチルイミド等が挙げられる。
スルホン酸エステル化合物としては、例えば、ベンゾイントシレート、α-メチロールベンゾイントシレート、o-ニトロベンジルp-トルエンスルホナート、p-ニトロベンジル-9,10-ジエトキシアントラセン-2-スルホナートなどが挙げられる。ハロメチル置換-S-トリアジン誘導体の具体例としては、2,4,6-トリス(トリクロロメチル)-S-トリアジン、2-メチル-4,6-ビス(トリクロロメチル)-S-トリアジン、2-フェニル-4,6-ビス(トリクロロメチル)-S-トリアジン、2-メチル-4,6-ビス(トリブロモメチル)-S-トリアジン等が挙げられる。
熱酸発生剤は、加熱により酸(カチオン)を発生することができる化合物である。熱酸発生剤を、前記酸との反応により変色する化合物とともに用いることにより、本発明の粘着シートを加熱して、任意の箇所に、任意のタイミングで変色または着色させて、アライメントマークを形成することができる。
熱酸発生剤としては、例えば、アリールスルホニウム塩、アリールヨードニウム塩、アレン-イオン錯体、第4級アンモニウム塩、アルミニウムキレート、三フッ化ホウ素アミン錯体などが挙げられる。アニオンとしては、光酸発生剤と同様のアニオンなどが挙げられ、SbF6 -などのアンチモンのフッ化物イオンであってもよい。
これらの酸発生剤は、単独で又は2種以上組み合わせて使用できる。
酸発生剤は、本発明の粘着シート100重量部あたり0.001~30重量部であることが好ましく、0.01~25重量部であることがより好ましく、0.1~30重量部であることがさらに好ましく、0.1~20重量部であることがさらに好ましい。上記範囲であることによって、活性エネルギー線照射または加熱により効率良く酸を発生させることができ、酸との反応により変色する化合物による変色により、アライメントマークを効率的に形成することができる。
[塩基発生剤]
本発明の粘着シートは、塩基発生剤を含んでいてもよい。塩基発生剤は、前記外部刺激が与えられることにより塩基を発生する化合物である。外部刺激が活性エネルギー線照射の場合は、光塩基発生剤、外部刺激が加熱の場合は、熱塩基発生剤が用いられる。本発明の粘着シートに形成されたアライメントマークを効率的に消失できる観点から、光塩基発生剤が好ましい。
本発明の粘着シートが光酸発生剤を含む場合は、活性エネルギー線照射によって光酸発生剤が酸を発生させるのと同じタイミングで塩基発生剤が塩基を発生させないように、光酸発生剤と熱塩基発生剤との組み合わせを設定することが好ましい。
また、本発明の粘着シートが熱酸発生剤を含む場合は、加熱によって熱酸発生剤が酸を発生させるのと同じタイミングで塩基発生剤が塩基を発生させないように、熱酸発生剤と光塩基発生剤との組み合わせを設定することが好ましい。
光塩基発生剤は、紫外線、可視光線、赤外線のような光に限られず、α線、β線、γ線、電子線、中性子線、X線のような放射線等の活性エネルギー線を照射することにより塩基(アニオン)を発生することができる化合物である。光塩基発生剤を、前記酸との反応により変色する化合物とともに用いることにより、本発明の粘着シートに活性エネルギー線を照射して、任意のタイミングで、アライメントマークを消失させることができる。
前記光塩基発生剤としては、活性エネルギー線を照射することにより塩基(アニオン)を発生することができる化合物であれば特に制限されず、例えば、遷移金属錯体、ベンジルカルバメート構造を有する化合物、オルト置換ニトロベンゼン構造を有する化合物、オキシム類、イミダゾール誘導体、ベンゾイン系化合物、N-ホルミル化芳香族アミノ基を有する化合物、N-アシル化芳香族アミノ基を有する化合物、アルコオキシベンジルカーバメート基を有する化合物、1,4-ジヒドロピリジン骨格を有する化合物、オキシムエステル、第四級アンモニウム塩等が挙げられる。
熱塩基発生剤は、加熱により塩基(アニオン)を発生することができる化合物である。熱塩基発生剤を、前記酸との反応により変色する化合物とともに用いることにより、本発明の粘着シートを加熱して、任意のタイミングで、アライメントマークを消失させることができる。
熱塩基発生剤としては、加熱により塩基(アニオン)を発生することができる化合物であれば特に制限されず、例えば、2-(4-ビフェニル)-2-プロピル カルバメート、及び1,1-ジメチル-2-シアノエチル カルバメート等のカルバメート誘導体、尿素やN,N,N’-トリメチル尿素等の尿素誘導体、1,4-ジヒドロニコチンアミド等のジヒドロピリジン誘導体、ジシアンジアミド、有機塩や無機塩等の酸と塩基からなる塩等が挙げられる。
これらの塩基発生剤は、単独で又は2種以上組み合わせて使用できる。
塩基発生剤は、本発明の粘着シート100重量部あたり、0.001~30重量部であることが好ましく、0.01~25重量部であることがより好ましく、0.1~20重量部であることがさらに好ましい。上記範囲であることによって、活性エネルギー線照射又は加熱により効率良く塩基を発生させることができ、アライメントマークの消色が可能となる。
[塩基との反応により消色する化合物と塩基発生剤との組み合わせ]
本発明の変色成分を構成する塩基との反応により消色する化合物は、塩基により有色から無色(透明)に変化する化合物が好ましく、例えば、上記のロイコ系色素が酸との反応により、変色(着色)した化合物が挙げられる。
塩基との反応により消色する化合物は、例えば、ロイコ系色素と上記熱酸発生剤の加熱などで発生した酸との反応により、生成させることもできる。
塩基との反応により消色する化合物は、1種類を単独で用いてもよいし、2種類以上を混合して用いてもよい。塩基との反応により消色する化合物の含有量は、上記の酸との反応により変色する化合物と同様である。
塩基との反応により消色する化合物と組み合わせて使用される塩基発生剤は、上記と同様のものが挙げられ、同様の含有量で使用することができる。
塩基との反応により消色する化合物と塩基発生剤との組み合わせにおける好ましい実施形態としては、例えば、ロイコ系色素と上記熱酸発生剤の加熱などで発生した酸との反応により生成した塩基との反応により消色する化合物により粘着シートの全面を着色し、所定の位置に光などの外部刺激を与えて塩基発生剤から生成した塩基により当該位置を消色させ、当該消色した箇所をアライメントマークとして使用することが挙げられる。
[フォトクロミック化合物]
本発明の変色成分を構成するフォトクロミック化合物は、特定波長の光照射により、分子構造が可逆的に変化し、それに伴って変色する化合物である。外部刺激として、特定波長の光照射により変色した箇所をアライメントマークとして使用することができる。
フォトクロミック化合物としては、特に制限はなく、従来公知の化合物の中から、任意のものを適宜選択して用いることができる。例えば、スピロピラン系化合物、スピロオキサジン系化合物、フルギド系化合物、ナフトピラン系化合物、ビスイミダゾール化合物等から所望の着色に応じて、1種または2種以上を用いることができる。
フォトクロミック化合物は、粘着シート100重量部あたり、0.01~30重量部であることが好ましく、0.1~30重量部であることがより好ましく、0.1~20重量部であることがさらに好ましく、1~10重量部であることがさらに好ましい。上記範囲であることによって、フォトクロミック化合物による変色により、アライメントマークを効率的に形成することができる。
[粘着剤層]
本発明の粘着シートを構成する粘着剤層は、粘着シートを支持板に固定するために、支持板に貼り付けられるものである。また、本発明の粘着シートを構成する粘着剤層は、部材を仮固定するものでもある。
本発明の粘着シートにおいて、部材に仮固定するための粘着剤層を「第1粘着剤層」、支持板に固定するための粘着剤層を「第2粘着剤層」と称するものとする。
第1粘着剤層と、第2粘着剤層は、同一の粘着剤で構成されていてもよく、異なる粘着剤で構成されていてもよい。
本実施形態の粘着シートが、基材レス粘着シートである場合、第1粘着剤層と、第2粘着剤層は、単一の粘着剤層であり得、また、第1粘着剤層と、第2粘着剤層とが積層されたものであってもよい。
また、本実施形態の粘着シートが、基材付き粘着シートである場合、第1粘着剤層と、第2粘着剤層は、同一の粘着剤層で構成されていてもよく、異なる粘着剤で構成されていてもよい。
また、本実施形態の粘着シートにおいて、本発明の変色成分は、第1粘着剤層と第2粘着剤層の一方にのみに含まれていてもよく、第1粘着剤層と第2粘着剤層との両方に含まれていてもよい。
第1粘着剤層に部材が仮固定された後に、レーザー光照射などの活性エネルギー線照射を用いた加工を行う場合、活性エネルギー線照射により粘着シートが変色することは、好ましくない。従って、第1粘着剤層は変色成分を含まず、第2粘着剤層が変色成分を含む形態が好ましい。
酸との反応により変色する化合物は、粘着剤層(第1粘着剤層又は第2粘着剤層)100重量部あたり、0.01~30重量部であることが好ましく、0.1~30重量部であることがより好ましく、0.1~20重量部であることがさらに好ましく、1~10重量部であることがさらに好ましい。上記範囲であることによって、酸との反応により変色する化合物による変色により、アライメントマークを効率的に形成することができる。
酸発生剤は、粘着剤層(第1粘着剤層又は第2粘着剤層)100重量部あたり0.001~30重量部であることが好ましく、0.01~25重量部であることがより好ましく、0.1~30重量部であることがさらに好ましく、0.1~20重量部であることがさらに好ましい。上記範囲であることによって、活性エネルギー線照射または加熱により効率良く酸を発生させることができ、酸との反応により変色する化合物による変色により、アライメントマークを効率的に形成することができる。
塩基発生剤は、粘着剤層(第1粘着剤層又は第2粘着剤層)100重量部あたり、0.001~30重量部であることが好ましく、0.01~25重量部であることがより好ましく、0.1~20重量部であることがさらに好ましい。上記範囲であることによって、活性エネルギー線照射又は加熱により効率良く塩基を発生させることができ、アライメントマークの消色が可能となる。
第1及び第2実施形態において、塩基との反応により消色する化合物、フォトクロミック化合物の粘着剤層中の含有量は、上記の酸との反応により変色する化合物と同様である。
本発明の粘着シートの第1粘着剤層と、第2粘着剤層の一実施形態について、説明するが、第1粘着剤層と第2粘着剤層は、明確に区別されるものではなく、本実施形態の第1粘着剤層を第2粘着剤層して使用することができ、本実施形態の第2粘着剤層を第1粘着剤層して使用することができる。また、本発明の粘着シートが、単一の粘着剤層を有する基材レス粘着シートである場合は、第1粘着剤層又は第2粘着剤層を、当該単一の粘着剤層として使用することも可能である。
[第1粘着剤層]
第1粘着剤層は、部材を仮固定するための粘着剤層である。
第1粘着剤層の厚みは、特に限定されないが、1μm以上が好ましく、より好ましくは3μm以上である。厚みが一定以上であると、第1粘着剤層が部材を精度よく仮固定されやすくなり、好ましい。また、第1粘着剤層の厚みの上限値は、特に限定されないが、100μm以下が好ましく、より好ましくは75μm以下である。厚みが一定以下であると、加工後に部材を剥離しやすくなり、好ましい。
本実施形態の粘着シートにおいて、第1粘着剤層のヘイズ(JIS K7136に準じる)は、特に限定されないが、10%以下が好ましく、より好ましくは5.0%以下である。ヘイズが10%以下であると、優れた透明性が得られ、本実施形態の粘着シートに外部刺激を与えることにより形成されるアライメントマークの視認性が向上し、好ましい。なお、上記ヘイズは、例えば、第1粘着剤層をはく離ライナー上に形成して常態(23℃、50%RH)に少なくとも24時間静置した後、はく離ライナーを剥離し、スライドガラス(例えば、全光線透過率91.8%、ヘイズ0.4%のもの)に貼り合わせたものを試料とし、ヘイズメーター(株式会社村上色彩技術研究所製、商品名「HM-150」)を用いて測定することができる。
本実施形態の粘着シートにおいて、第1粘着剤層の可視光波長領域における全光線透過率(JIS K7361-1に準じる)は、特に限定されないが、85%以上が好ましく、より好ましくは88%以上である。全光線透過率が85%以上であると、優れた透明性が得られ、本実施形態の粘着シートに外部刺激を与えることにより形成されるアライメントマークの視認性が向上し、好ましい。なお、上記全光線透過率は、例えば、第1粘着剤層をはく離ライナー上に形成して常態(23℃、50%RH)に少なくとも24時間静置した後、はく離ライナーを剥離し、スライドガラス(例えば、全光線透過率91.8%、ヘイズ0.4%のもの)に貼り合わせたものを試料とし、ヘイズメーター(株式会社村上色彩技術研究所製、商品名「HM-150」)を用いて測定することができる。
上記第1粘着剤層を構成する粘着剤としては、特に限定されないが、例えば、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ポリアミド系粘着剤、エポキシ系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、フッ素系粘着剤などが挙げられる。これらの中でも、部材を精度よく仮固定することができる観点から、また、透明性が高く、アライメントマークの視認性が良好である観点から、低タック性、透明性に制御しやすいシリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、アクリル系粘着剤が好ましく、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤がより好ましく、シリコーン系粘着剤がさらに好ましい。
[シリコーン系粘着剤]
シリコーン系粘着剤としては、特に制限されず、公知乃至慣用のシリコーン系粘着剤を用いることができ、例えば、付加型シリコーン系粘着剤、過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤、縮合型シリコーン系粘着剤などを用いることができる。シリコーン系粘着剤は1液型、2液型のいずれであってもよい。シリコーン系粘着剤は1種単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
前記付加型シリコーン系粘着剤は、一般に、ケイ素原子にビニル基等のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサンとヒドロシリル基を有するオルガノポリシロキサンとを、塩化白金酸等の白金化合物触媒を用いて付加反応(ヒドロシリル化反応)させることによりシリコーン系ポリマーを生成させる粘着剤である。過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤は、一般に、オルガノポリシロキサンを過酸化物により硬化(架橋)させてシリコーン系ポリマーを生成させる粘着剤である。また、縮合型シリコーン系粘着剤は、一般に、末端にシラノール基又はアルコキシシリル基等の加水分解性シリル基を有するポリオルガノシロキサン間の脱水又は脱アルコール反応によりシリコーン系ポリマーを生成させる粘着剤である。
シリコーン系粘着剤としては、低タック性にコントロールしやすい点より、例えば、シリコーンゴムとシリコーンレジンとを含有するシリコーン系粘着剤組成物が挙げられる。
前記シリコーンゴムとしては、シリコーン系のゴム成分であれば特に制限されないが、例えば、ジメチルシロキサン、メチルフェニルシロキサンなどを主な構成単位とするオルガノポリシロキサンを使用できる。また、反応の型に応じて、ケイ素原子に結合したアルケニル基を有するシリコーン系ゴム(アルケニル基含有オルガノポリシロキサン;付加反応型の場合)、メチル基を少なくとも有するシリコーン系ゴム(過酸化物硬化型の場合)、末端にシラノール基又は加水分解性のアルコキシシリル基を有するシリコーン系ゴム(縮合型の場合)などを用いることができる。なお、シリコーンゴムにおけるオルガノポリシロキサンの重量平均分子量は、通常、15万以上であるが、好ましくは28万~100万であり、特に50万~90万が好適である。
また、前記シリコーンレジンとしては、シリコーン系粘着剤に使用されているシリコーン系のレジンであれば特に制限されないが、例えば、構成単位「R3Si1/2」からなるM単位、構成単位「SiO2」からなるQ単位、構成単位「RSiO3/2」からなるT単位、および構成単位「R2SiO」からなるD単位から選択される少なくとも1種の単位を有する(共)重合体からなるオルガノポリシロキサンからなるシリコーンレジンなどが挙げられる。なお、前記構成単位におけるRは炭化水素基又はヒドロキシル基を示す。前記炭化水素基としては、例えば、脂肪族炭化水素基(メチル基、エチル基等のアルキル基など)、脂環式炭化水素基(シクロヘキシル基等のシクロアルキル基など)、芳香族炭化水素基(フェニル基、ナフチル基等のアリール基など)などが挙げられる。前記M単位と、Q単位、T単位およびD単位から選択された少なくとも1種の単位との割合(比)としては、例えば、前者/後者(モル比)=0.3/1~1.5/1(好ましくは0.5/1~1.3/1)程度であることが望ましい。このようなシリコーンレジンにおけるオルガノポリシロキサンには、必要に応じて、ビニル基等の各種官能基が導入されていてもよい。なお、導入される官能基は、架橋反応を生じることが可能な官能基であってもよい。シリコーンレジンとしては、M単位とQ単位からなるMQレジンが好ましい。シリコーンレジンにおけるオルガノポリシロキサンの重量平均分子量は、通常、1000以上であるが、好ましくは1000~20000であり、特に1500~10000が好適である。
シリコーンゴムとシリコーンレジンとの配合割合としては、特に制限されないが、低タック性にコントロールしやすい点より、例えば、シリコーンゴム100重量部に対して、シリコーンレジンが100~220重量部(特に、120~180重量部)であることが好ましい。
なお、シリコーンゴムとシリコーンレジンとを含有するシリコーン系粘着剤組成物において、シリコーンゴムとシリコーンレジンとは、単に混合されている混合状態であってもよく、互いに反応して、縮合物(特に部分縮合物)、架橋反応物、付加反応生成物等となっていてもよい。
また、シリコーンゴムとシリコーンレジンとを含有するシリコーン系粘着剤組成物では、低タック性にコントロールしやすい点より、架橋構造体とするために、通常、架橋剤を含んでいる。このような架橋剤としては、特に制限されないが、シロキサン系架橋剤(シリコーン系架橋剤)、過酸化物系架橋剤を好適に用いることができる。架橋剤は1種単独で又は2種以上組み合わせて使用することができる。
前記シロキサン系架橋剤としては、例えば、分子中にケイ素原子に結合している水素原子を2個以上有するポリオルガノハイドロジェンシロキサンを好適に用いることができる。このようなポリオルガノハイドロジェンシロキサンにおいて、水素原子が結合しているケイ素原子には、水素原子以外に各種有機基が結合していてもよい。該有機基としては、メチル基、エチル基等のアルキル基;フェニル基等のアリール基の他、ハロゲン化アルキル基などが挙げられるが、合成や取り扱いの観点から、メチル基が好ましい。また、ポリオルガノハイドロジェンシロキサンの骨格構造は、直鎖状、分岐状、環状のいずれの骨格構造を有していてもよいが、直鎖状が好適である。
前記過酸化物系架橋剤としては、例えば、ジアシルパーオキサイド、アルキルパーオキシエステル、パーオキシジカーボネート、モノパーオキシカーボネート、パーオキシケタール、ジアルキルパーオキサイド、ハイドロパーオキサイド、ケトンパーオキサイドなどを使用できる。より具体的には、例えば、過酸化ベンゾイル、t-ブチルパーオキシベンゾエート、ジクミルパーオキサイド、t-ブチルクミルパーオキサイド、ジ-t-ブチルパーオキサイド、2,5-ジメチル-2,5-ジ-t-ブチルパーオキシヘキサン、2,4-ジクロロ-ベンゾイルパーオキサイド、ジ-t-ブチルパーオキシ-ジイソプロピルベンゼン、1,1-ビス(t-ブチルパーオキシ)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、2,5-ジメチル-2,5-ジ-t-ブチルパーオキシヘキシン-3などが挙げられる。
付加型シリコーン系粘着剤として、例えば、商品名「KR-3700」、商品名「KR-3701」、商品名「X-40-3237-1」、商品名「X-40-3240」、商品名「X-40-3291-1」、商品名「X-40-3306」(以上、信越化学社製)が市販されている。また、過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤として、例えば、商品名「KR-100」、商品名「KR-101-10」、商品名「KR-130」(以上、信越化学社製)などが市販されている。
前記付加型シリコーン系粘着剤組成物には、白金触媒などの硬化触媒を含むことが好ましい。白金触媒として、例えば、商品名「CAT-PL-50T」(信越化学社製)、「DOWSIL NC-25 Catalyst」または「DOWSIL SRX212 Catalyst」(以上、ダウ東レ社製)などが市販されている。第1粘着剤層の部材の粘着性、位置精度やタック力等のバランスの観点から、硬化触媒の含有量は、ベースポリマーとしてのシリコーン系ポリマー(シリコーンゴム、シリコーンレジン等を含む)100重量部に対して、0.1~10重量部程度が好ましい。
[ウレタン系粘着剤]
ウレタン系粘着剤としては、特に制限されず、公知乃至慣用のウレタン系粘着剤を用いることができ、低タック性にコントロールしやすい点より、ポリオール、多官能イソシアネート系化合物、及び触媒を含有するウレタン系粘着剤組成物が好ましい。
前記ポリオールとしては、ヒドロキシル基を2個以上有するポリオールであれば、任意の適切なポリオールを採用し得る。このようなポリオールとしては、例えば、ヒドロキシル基を2個有するポリオール(ジオール)、ヒドロキシル基を3個有するポリオール(トリオール)、ヒドロキシル基を4個有するポリオール(テトラオール)、ヒドロキシル基を5個有するポリオール(ペンタオール)、ヒドロキシル基を6個有するポリオール(ヘキサオール)等が挙げられる。ポリオールとしては、1種のみであっても良いし、2種以上であっても良い。
前記ポリオールとしては、好ましくは、数平均分子量(Mn)が400~20000のポリオールを含むことが好ましい。また、ポリオール全量中の、数平均分子量(Mn)が400~20000のポリオールの含有割合は、好ましくは50~100重量%であり、より好ましくは70~100重量%であり、さらに好ましくは90~100重量%であり、特に好ましくは95~100重量%であり、最も好ましくは実質的に100重量%である。ポリオール中の、数平均分子量(Mn)が400~20000のポリオールの含有割合を、前記範囲内に調整することにより、例えば、低タック性にコントロールされたウレタン系粘着剤を提供することができる。
前記ポリオールとしては、例えば、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリカプロラクトンポリオール、ポリカーボネートポリオール、ひまし油系ポリオール等が挙げられる。
前記ポリエステルポリオールとしては、例えば、ポリオール成分と酸成分とのエステル化反応によって得ることができる。
前記ポリオール成分としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、2-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオール、2,4-ジエチル-1,5-ペンタンジオール、1,2-ヘキサンジオール、1,6-ヘキサンジオール、1,8-オクタンジオール、1,9-ノナンジオール、2-メチル-1,8-オクタンジオール、1,8-デカンジオール、オクタデカンジオール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ヘキサントリオール、ポリプロピレングリコール等が挙げられる。
前記酸成分としては、例えば、コハク酸、メチルコハク酸、アジピン酸、ピメリック酸、アゼライン酸、セバシン酸、1,12-ドデカン二酸、1,14-テトラデカン二酸、ダイマー酸、2-メチル-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、2-エチル-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、1,4-ナフタレンジカルボン酸、4,4'-ビフェニルジカルボン酸、これらの酸無水物等が挙げられる。
前記ポリエーテルポリオールとしては、例えば、水、低分子ポリオール(プロピレングリコール、エチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等)、ビスフェノール類(ビスフェノールA等)、ジヒドロキシベンゼン(カテコール、レゾルシン、ハイドロキノン等)等を開始剤として、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド等のアルキレンオキサイドを付加重合させることによって得られるポリエーテルポリオールが挙げられる。具体的には、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等が挙げられる。
前記ポリカプロラクトンポリオールとしては、例えば、ε-カプロラクトン、σ-バレロラクトン等の環状エステルモノマーの開環重合により得られるカプロラクトン系ポリエステルジオール等が挙げられる。
前記ポリカーボネートポリオールとしては、例えば、前記ポリオール成分とホスゲンとを重縮合反応させて得られるポリカーボネートポリオール;前記ポリオール成分と、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸ジプロビル、炭酸ジイソプロピル、炭酸ジブチル、エチルブチル炭酸、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、炭酸ジフェニル、炭酸ジベンジル等の炭酸ジエステル類とをエステル交換縮合させて得られるポリカーボネートポリオール;前記ポリオール成分を2種以上併用して得られる共重合ポリカーボネートポリオール;前記各種ポリカーボネートポリオールとカルボキシル基含有化合物とをエステル化反応させて得られるポリカーボネートポリオール;前記各種ポリカーボネートポリオールとヒドロキシル基含有化合物とをエーテル化反応させて得られるポリカーボネートポリオール;前記各種ポリカーボネートポリオールとエステル化合物とをエステル交換反応させて得られるポリカーボネートポリオール;前記各種ポリカーボネートポリオールとヒドロキシル基含有化合物とをエステル交換反応させて得られるポリカーボネートポリオール;前記各種ポリカーボネートポリオールとジカルボン酸化合物とを重縮合反応させて得られるポリエステル系ポリカーボネートポリオール;前記各種ポリカーボネートポリオールとアルキレンオキサイドとを共重合させて得られる共重合ポリエーテル系ポリカーボネートポリオール;等が挙げられる。
前記ひまし油系ポリオールとしては、例えば、ひまし油脂肪酸と前記ポリオール成分とを反応させて得られるひまし油系ポリオールが挙げられる。具体的には、例えば、ひまし油脂肪酸とポリプロピレングリコールとを反応させて得られるひまし油系ポリオールが挙げられる。
前記ポリオールとしては、第1粘着剤層体の部材への低タック性、濡れ性等の観点から、ヒドロキシル基を3個有するポリオール(トリオール)を必須成分として用いることが好ましい。ヒドロキシル基を3個有するポリオール(トリオール)は、前記ポリオールを構成する成分全量に対して、50~100重量%含量することが好ましく、70~100重量%含量することがより好ましい。
前記多官能イソシアネート系化合物としては、例えば、脂肪族系ポリイソシアネート、脂環族系ポリイソシアネート、芳香族系ポリイソシアネート化合物等が挙げられる。
前記脂肪族ポリイソシアネートとしては、例えば、トリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、1,2-プロピレンジイソシアネート、1,3-ブチレンジイソシアネート、ドデカメチレンジイソシアネート、2,4,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等が挙げられる。
前記脂環族ポリイソシアネートとしては、例えば、1,3-シクロペンテンジイソシアネート、1,3-シクロヘキサンジイソシアネート、1,4-シクロヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水素添加ジフェニルメタンジイソシアネート、水素添加キシリレンジイソシアネート、水素添加トリレンジイソシアネート水素添加テトラメチルキシリレンジイソシアネート等が挙げられる。
前記芳香族ポリイソシアネートとしては、例えば、フェニレンジイソシアネート、2,4-トリレンジイソソアネート、2,6-トリレンジイソソアネート、2,2'-ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4'-ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4'-トルイジンジイソシアネート、4,4'-ジフェニルエーテルジイソシアネート、4,4'-ジフェニルジイソシアネート、1,5-ナフタレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等が挙げられる。
中でも、脂肪族ポリイソシアネート及びその変性体が好ましい。脂肪族ポリイソシアネート及びその変性体は、他のイソシアネート系架橋剤に比べて、架橋構造が柔軟性に富み、低タック性にコントロールしやすい。脂肪族ポリイソシアネート及びその変性体としては、特に、ヘキサメチレンジイソシアネート及びその変性体が好ましい。
前記多官能イソシアネート系化合物、及び前記ポリオールは、第1粘着剤層の部材への粘着性、低タック性、濡れ性の観点から、前記多官能イソシアネート系化合物のイソシアネート基、及び前記ポリオールのヒドロキシル基の当量比(NCO/OH)が1~5であることが好ましく、1.1~3であることがより好ましく、1.2~2であることがさらに好ましい。
前記ウレタン系粘着剤組成物には、鉄系化合物、及び/又は錫系化合物等の触媒を含むことが好ましい。具体的には、ジラウリン酸ジブチルスズ、ジラウリン酸ジオクチルスズ等の錫系触媒、トリス(アセチルアセトナート)鉄、トリス(ヘキサン-2,4-ジオナト)鉄、トリス(ヘプタン-2,4-ジオナト)鉄、トリス(ヘプタン-3,5-ジオナト)鉄、トリス(5-メチルヘキサン-2,4-ジオナト)鉄、トリス(オクタン-2,4-ジオナト)鉄、トリス(6-メチルヘプタン-2,4-ジオナト)鉄、トリス(2,6-ジメチルヘプタン-3,5-ジオナト)鉄、トリス(ノナン-2,4-ジオナト)鉄、トリス(ノナン-4,6-ジオナト)鉄、トリス(2,2,6,6-テトラメチルヘプタン-3,5-ジオナト)鉄、トリス(トリデカン-6,8-ジオナト)鉄、トリス(1-フェニルブタン-1,3-ジオナト)鉄、トリス(ヘキサフルオロアセチルアセトナト)鉄、トリス(アセト酢酸エチル)鉄、トリス(アセト酢酸-n-プロピル)鉄、トリス(アセト酢酸イソプロピル)鉄、トリス(アセト酢酸-n-ブチル)鉄、トリス(アセト酢酸-sec-ブチル)鉄、トリス(アセト酢酸-tert-ブチル)鉄、トリス(プロピオニル酢酸メチル)鉄、トリス(プロピオニル酢酸エチル)鉄、トリス(プロピオニル酢酸-n-プロピル)鉄、トリス(プロピオニル酢酸イソプロピル)鉄、トリス(プロピオニル酢酸-n-ブチル)鉄、トリス(プロピオニル酢酸-sec-ブチル)鉄、トリス(プロピオニル酢酸-tert-ブチル)鉄、トリス(アセト酢酸ベンジル)鉄、トリス(マロン酸ジメチル)鉄、トリス(マロン酸ジエチル)鉄、トリメトキシ鉄、トリエトキシ鉄、トリイソプロポキシ鉄、塩化第二鉄等の鉄系触媒が挙げられる。
前記ウレタン系粘着剤組成物に含有する触媒の含有量(使用量)は、ポリオール100重量部に対して、0.002~0.5重量部が好ましく、0.005~0.3重量部がより好ましく、0.01~0.1重量部がさらに好ましい。この範囲内にあると、粘着剤層を形成した際に架橋反応の速度が速く、粘着剤組成物のポットライフも長くなり、好ましい態様となる。
また、ウレタン系粘着剤としては、低タック性にコントロールしやすい点より、ウレタンプレポリマーを含有するウレタン系粘着剤組成物も好ましい。
ウレタンプレポリマーを含有するウレタン系粘着剤組成物は、例えば、ウレタンプレポリマーとしてのポリウレタンポリオールと多官能イソシアネート系化合物を含有する粘着剤組成物が挙げられる。ウレタンプレポリマーは、1種のみであっても良いし、2種以上であっても良い。多官能イソシアネート系化合物は、1種のみであっても良いし、2種以上であっても良い。
ウレタンプレポリマーとしてのポリウレタンポリオールは、好ましくは、ポリエステルポリオールと、ポリエーテルポリオールとを、触媒存在下または無触媒下で、有機ポリイソシアネ-ト化合物と反応させてなるものである。
ポリエステルポリオールとしては、任意の適切なポリエステルポリオールを用い得る。このようなポリエステルポリオールとして、例えば、酸成分とグリコール成分とを反応させて得られるポリエステルポリオールが挙げられる。酸成分としては、例えば、テレフタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバチン酸、無水フタル酸、イソフタル酸、トリメリット酸などが挙げられる。グリコール成分としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ブチレングリコール、1,6-ヘキサングリコール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、3,3'-ジメチロールヘプタン、ポリオキシエチレングリコール、ポリオキシプロピレングリコール、1,4-ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、ブチルエチルペンタンジオール、ポリオール成分としてグリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールなどが挙げられる。ポリエステルポリオールとしては、その他に、ポリカプロラクトン、ポリ(β-メチル-γ-バレロラクトン)、ポリバレロラクトン等のラクトン類を開環重合して得られるポリエステルポリオールなども挙げられる。
ポリエステルポリオールの分子量としては、低分子量から高分子量まで使用可能である。ポリエステルポリオールの分子量としては、数平均分子量が、好ましくは500~5000である。数平均分子量が500未満では、反応性が高くなり、ゲル化しやすくなるおそれがある。数平均分子量が5000を超えると、反応性が低くなり、さらにはポリウレタンポリオール自体の凝集力が小さくなるおそれがある。ポリエステルポリオールの使用量は、ポリウレタンポリオールを構成するポリオール中、好ましくは10~90モル%である。
ポリエーテルポリオールとしては、任意の適切なポリエーテルポリオールを用い得る。このようなポリエーテルポリオールとしては、例えば、水、プロピレングリコール、エチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン等の低分子量ポリオールを開始剤として用いて、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド、テトラヒドロフラン等のオキシラン化合物を重合させることにより得られるポリエーテルポリオールが挙げられる。このようなポリエーテルポリオールとしては、具体的には、例えば、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等の官能基数が2以上のポリエーテルポリオールが挙げられる。
ポリエーテルポリオールの分子量としては、低分子量から高分子量まで使用可能である。ポリエーテルポリオールの分子量としては、数平均分子量が、好ましくは1000~5000である。数平均分子量が1000未満では、反応性が高くなり、ゲル化しやすくなるおそれがある。数平均分子量が5000を超えると、反応性が低くなり、さらにはポリウレタンポリオール自体の凝集力が小さくなるおそれがある。ポリエーテルポリオールの使用量は、ポリウレタンポリオールを構成するポリオール中、好ましくは20~80モル%である。
ポリエーテルポリオールは、必要に応じてその一部を、エチレングリコール、1,4-ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、ブチルエチルペンタンジオール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等のグリコール類や、エチレンジアミン、N-アミノエチルエタノールアミン、イソホロンジアミン、キシリレンジアミン等の多価アミン類などに置き換えて併用することができる。
ポリエーテルポリオールとしては、2官能性のポリエーテルポリオールのみを用いても良いし、数平均分子量が1000~5000であり、且つ、1分子中に少なくとも3個以上の水酸基を有するポリエーテルポリオールを一部もしくは全部用いても良い。ポリエーテルポリオールとして、平均分子量が1000~5000であり、且つ、1分子中に少なくとも3個以上の水酸基を有するポリエーテルポリオールを一部もしくは全部用いると、粘着力と再剥離性のバランスが良好となり得る。このようなポリエーテルポリオールにおいては、数平均分子量が1000未満では、反応性が高くなり、ゲル化しやすくなるおそれがある。また、このようなポリエーテルポリオールにおいては、数平均分子量が5000を超えると、反応性が低くなり、さらにはポリウレタンポリオール自体の凝集力が小さくなるおそれがある。このようなポリエーテルポリオールの数平均分子量は、より好ましくは2500~3500である。
有機ポリイソシアネート化合物としては、任意の適切な有機ポリイソシアネート化合物を用い得る。このような有機ポリイソシアネート化合物としては、例えば、芳香族ポリイソシアネート、脂肪族ポリイソシアネート、芳香脂肪族ポリイソシアネート、脂環族ポリイソシアネートなどが挙げられる。
芳香族ポリイソシアネートとしては、例えば、1,3-フェニレンジイソシアネート、4,4'-ジフェニルジイソシアネート、1,4-フェニレンジイソシアネート、4,4'-ジフェニルメタンジイソシアネート、2,4-トリレンジイソシアネート、2,6-トリレンジイソシアネート、4,4'-トルイジンジイソシアネート、2,4,6-トリイソシアネートトルエン、1,3,5-トリイソシアネートベンゼン、ジアニシジンジイソシアネート、4,4'-ジフェニルエーテルジイソシアネート、4,4',4”-トリフェニルメタントリイソシアネートなどが挙げられる。
脂肪族ポリイソシアネートとしては、例えば、トリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、1,2-プロピレンジイソシアネート、2,3-ブチレンジイソシアネート、1,3-ブチレンジイソシアネート、ドデカメチレンジイソシアネート、2,4,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートなどが挙げられる。
芳香脂肪族ポリイソシアネートとしては、例えば、ω,ω’-ジイソシアネート-1,3-ジメチルベンゼン、ω,ω’-ジイソシアネート-1,4-ジメチルベンゼン、ω,ω’-ジイソシアネート-1,4-ジエチルベンゼン、1,4-テトラメチルキシリレンジイソシアネート、1,3-テトラメチルキシリレンジイソシアネートなどが挙げられる。
脂環族ポリイソシアネートとしては、例えば、3-イソシアネートメチル-3,5,5-トリメチルシクロヘキシルイソシアネート、1,3-シクロペンタンジイソシアネート、1,3-シクロヘキサンジイソシアネート、1,4-シクロヘキサンジイソシアネート、メチル-2,4-シクロヘキサンジイソシアネート、メチル-2,6-シクロヘキサンジイソシアネート、4,4'-メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、1,4-ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン、1,4-ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサンなどが挙げられる。
有機ポリイソシアネート化合物としては、トリメチロールプロパンアダクト体、水と反応したビュウレット体、イソシアヌレート環を有する3量体なども併用することができる。
ポリウレタンポリオールを得る際に用い得る触媒としては、任意の適切な触媒を用い得る。このような触媒としては、例えば、3級アミン系化合物、有機金属系化合物などが挙げられる。
3級アミン系化合物としては、例えば、トリエチルアミン、トリエチレンジアミン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-ウンデセン-7(DBU)などが挙げられる。
有機金属系化合物としては、例えば、錫系化合物、非錫系化合物などが挙げられる。
錫系化合物としては、例えば、ジブチル錫ジクロライド、ジブチル錫オキサイド、ジブチル錫ジブロマイド、ジブチル錫ジマレエート、ジブチル錫ジラウレート(DBTDL)、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫スルファイド、トリブチル錫スルファイド、トリブチル錫オキサイド、トリブチル錫アセテート、トリエチル錫エトキサイド、トリブチル錫エトキサイド、ジオクチル錫オキサイド、トリブチル錫クロライド、トリブチル錫トリクロロアセテート、2-エチルヘキサン酸錫などが挙げられる。
非錫系化合物としては、例えば、ジブチルチタニウムジクロライド、テトラブチルチタネート、ブトキシチタニウムトリクロライドなどのチタン系化合物;オレイン酸鉛、2-エチルヘキサン酸鉛、安息香酸鉛、ナフテン酸鉛などの鉛系化合物;2-エチルヘキサン酸鉄、鉄アセチルアセトネートなどの鉄系化合物;安息香酸コバルト、2-エチルヘキサン酸コバルトなどのコバルト系化合物;ナフテン酸亜鉛、2-エチルヘキサン酸亜鉛などの亜鉛系化合物;ナフテン酸ジルコニウムなどのジルコニウム系化合物;などが挙げられる。
ポリウレタンポリオールを得る際に触媒を使用する場合、ポリエステルポリオールとポリエーテルポリオールの2種類のポリオールが存在する系では、その反応性の相違のため、単独の触媒の系では、ゲル化したり反応溶液が濁ったりするという問題が生じやすい。そこで、ポリウレタンポリオールを得る際に2種類の触媒を用いることにより、反応速度、触媒の選択性等が制御しやすくなり、これらの問題を解決し得る。このような2種類の触媒の組み合わせとしては、例えば、3級アミン/有機金属系、錫系/非錫系、錫系/錫系が挙げられ、好ましくは錫系/錫系であり、より好ましくはジブチル錫ジラウレートと2-エチルヘキサン酸錫の組み合わせである。その配合比は、重量比で、2-エチルヘキサン酸錫/ジブチル錫ジラウレートが、好ましくは1未満であり、より好ましくは0.2~0.6である。配合比が1以上では、触媒活性のバランスによりゲル化しやすくなるおそれがある。
ポリウレタンポリオールを得る際に触媒を使用する場合、触媒の使用量は、ポリエステルポリオールとポリエーテルポリオールと有機ポリイソシアネ-ト化合物の総量に対して、好ましくは0.01~1.0重量%である。
ポリウレタンポリオールを得る際に触媒を使用する場合、反応温度は、好ましくは100℃未満であり、より好ましくは85℃~95℃である。100℃以上になると反応速度、架橋構造の制御が困難となるおそれがあり、所定の分子量を有するポリウレタンポリオールが得難くなるおそれがある。
ポリウレタンポリオールを得る際には、触媒を用いなくても良い。その場合は、反応温度が、好ましくは100℃以上であり、より好ましくは110℃以上である。また、無触媒下でポリウレタンポリオールを得る際は、3時間以上反応させることが好ましい。
ポリウレタンポリオールを得る方法としては、例えば、1)ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、触媒、有機ポリイソシアネートを全量フラスコに仕込む方法、2)ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、触媒をフラスコに仕込んで有機ポリイソシアネ-トを滴下する添加する方法が挙げられる。ポリウレタンポリオールを得る方法として、反応を制御する上では、2)の方法が好ましい。
ポリウレタンポリオールを得る際には、任意の適切な溶剤を用い得る。このような溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、酢酸エチル、トルエン、キシレン、アセトンなどが挙げられる。これらの溶剤の中でも、好ましくはトルエンである。
多官能イソシアネート系化合物としては、前述したものを援用し得る。
ウレタンプレポリマーを含有する組成物から得られるポリウレタン系組成物を製造する方法としては、いわゆる「ウレタンプレポリマー」を原料として用いてポリウレタン系樹脂組成物を製造する方法であれば、任意の適切な製造方法を採用し得る。
[アクリル系粘着剤]
アクリル系粘着剤としては、特に制限されず、公知乃至慣用のアクリル系粘着剤を用いることができ、例えば、低タック性にコントロールしやすい点より、アクリル系ポリマーをベースポリマーとして含有するアクリル系粘着剤組成物が挙げられる。
上記アクリル系ポリマーは、ポリマーの構成単位として、アクリル系モノマー(分子中に(メタ)アクリロイル基を有するモノマー成分)に由来する構成単位を含むポリマーである。上記アクリル系ポリマーは、(メタ)アクリル酸エステルに由来する構成単位を質量割合で最も多く含むポリマーであることが好ましい。なお、アクリル系ポリマーは、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。また、本明細書において、「(メタ)アクリル」とは、「アクリル」及び/又は「メタクリル」(「アクリル」及び「メタクリル」のうち、いずれか一方又は両方)を表し、他も同様である。
上記(メタ)アクリル酸エステルとしては、例えば、炭化水素基含有(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。炭化水素基含有(メタ)アクリル酸エステルとしては、(メタ)アクリル酸アルキルエステル、(メタ)アクリル酸シクロアルキルエステル、(メタ)アクリル酸アリールエステル等が挙げられる。上記(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、(メタ)アクリル酸のメチルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、イソプロピルエステル、ブチルエステル、イソブチルエステル、s-ブチルエステル、t-ブチルエステル、ペンチルエステル、イソペンチルエステル、ヘキシルエステル、ヘプチルエステル、オクチルエステル、2-エチルヘキシルエステル、イソオクチルエステル、ノニルエステル、デシルエステル、イソデシルエステル、ウンデシルエステル、ドデシルエステル(ラウリルエステル)、トリデシルエステル、テトラデシルエステル、ヘキサデシルエステル、オクタデシルエステル、エイコシルエステル等が挙げられる。上記(メタ)アクリル酸シクロアルキルエステルとしては、例えば、(メタ)アクリル酸のシクロペンチルエステル、シクロヘキシルエステル等が挙げられる。上記(メタ)アクリル酸アリールエステルとしては、例えば、(メタ)アクリル酸のフェニルエステル、ベンジルエステルが挙げられる。
上記炭化水素基含有(メタ)アクリル酸エステルは、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。炭化水素基含有(メタ)アクリル酸エステルによる粘着性等の基本特性を第1粘着剤層において適切に発現させ、低タック性にコントロールしやすい点より、アクリル系ポリマーを形成するための全モノマー成分における、炭化水素基含有(メタ)アクリル酸エステルの割合は、40質量%以上が好ましく、より好ましくは60質量%以上である。
上記アクリル系ポリマーは、凝集力、耐熱性、粘着性、タック性等の改質を目的として、上記炭化水素基含有(メタ)アクリル酸エステルと共重合可能な他のモノマー成分に由来する構成単位を含んでいてもよい。上記他のモノマー成分としては、例えば、カルボキシ基含有モノマー、酸無水物モノマー、ヒドロキシ基含有モノマー、グリシジル基含有モノマー、スルホン酸基含有モノマー、リン酸基含有モノマー、アクリルアミド、アクリロニトリル等の官能基含有モノマー、ビニルエステル系モノマー等が挙げられる。上記カルボキシ基含有モノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、カルボキシエチル(メタ)アクリレート、カルボキシペンチル(メタ)アクリレート、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸等が挙げられる。上記酸無水物モノマーとしては、例えば、無水マレイン酸、無水イタコン酸等が挙げられる。上記ヒドロキシ基含有モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸4-ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸6-ヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸8-ヒドロキシオクチル、(メタ)アクリル酸10-ヒドロキシデシル、(メタ)アクリル酸12-ヒドロキシラウリル、(4-ヒドロキシメチルシクロヘキシル)メチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。上記グリシジル基含有モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸メチルグリシジル等が挙げられる。上記スルホン酸基含有モノマーとしては、例えば、スチレンスルホン酸、アリルスルホン酸、2-(メタ)アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸、(メタ)アクリルアミドプロパンスルホン酸、スルホプロピル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルオキシナフタレンスルホン酸等が挙げられる。上記リン酸基含有モノマーとしては、例えば、2-ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェート等が挙げられる。上記ビニルエステル系モノマーとしては、例えば、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、ピバリン酸ビニル、シクロヘキサンカルボン酸ビニル、安息香酸ビニルが挙げられる。上記他のモノマー成分は、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。炭化水素基含有(メタ)アクリル酸エステルによる粘着性等の基本特性を第1粘着剤層において適切に発現させ、低タック性にコントロールしやすい点より、アクリル系ポリマーを形成するための全モノマー成分における、上記他のモノマー成分の合計割合は、60質量%以下が好ましく、より好ましくは40質量%以下である。
上記アクリル系ポリマーは、そのポリマー骨格中に架橋構造を形成するために、アクリル系ポリマーを形成するモノマー成分と共重合可能な多官能性モノマーに由来する構成単位を含んでいてもよい。上記多官能性モノマーとしては、例えば、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート(例えば、ポリグリシジル(メタ)アクリレート)、ポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート等の分子内に(メタ)アクリロイル基と他の反応性官能基を有する単量体等が挙げられる。上記多官能性モノマーは、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。炭化水素基含有(メタ)アクリル酸エステルによる粘着性等の基本特性を第1粘着剤層において適切に発現させ、低タック性にコントロールしやすい点より、アクリル系ポリマーを形成するための全モノマー成分における上記多官能性モノマーの割合は、40質量%以下が好ましく、より好ましくは30質量%以下である。
アクリル系ポリマーは、アクリル系モノマーを含む一種以上のモノマー成分を重合に付すことにより得られる。重合方法としては、溶液重合、乳化重合、塊状重合、懸濁重合等が挙げられる。
アクリル系ポリマーの質量平均分子量は、10万以上が好ましく、より好ましくは20万~300万である。質量平均分子量が10万以上であると、粘着剤層中の低分子量物質が少ない傾向にあり、部材等への汚染をより抑制することができる。
第1粘着剤層を形成するアクリル系粘着剤組成物は、架橋剤を含有していてもよい。例えば、アクリル系ポリマーを架橋させ、第1粘着剤層中の低分子量物質をより低減させることができる。また、アクリル系ポリマーの質量平均分子量を高め、低タック性にコントロールすることができる。上記架橋剤としては、例えば、ポリイソシアネート化合物、エポキシ化合物、ポリオール化合物(ポリフェノール系化合物等)、アジリジン化合物、メラミン化合物等が挙げられ、イソシアネート系架橋剤および/またはエポキシ系架橋剤が好ましい。架橋剤を使用する場合、その使用量は、アクリル系ポリマー100重量部に対して、20重量部程度以下が好ましく、より好ましくは0.1~15重量部である。
イソシアネート系架橋剤としては、例えば、脂肪族イソシアネート類、脂環式イソシアネート類、および芳香族イソシアネート類が挙げられる。脂肪族イソシアネート類としては、例えば、トリメチレンジイソシアネート、ブチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、およびダイマー酸ジイソシアネートが挙げられる。脂環式イソシアネート類としては、例えば、シクロペンチレンジイソシアネート、シクロヘキシレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、および1,3-ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサンが挙げられる。芳香族イソシアネート類としては、例えば、2,4-トリレンジイソシアネート、4,4'-ジフェニルメタンジイソシアネート、およびキシリレンジイソシアネートが挙げられる。また、イソシアネート系架橋剤としては、トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパン付加物(商品名「コロネートL」,東ソー株式会社製)やヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌル体(商品名「コロネートHX」,東ソー株式会社製)も挙げられる。
エポキシ系架橋剤(多官能エポキシ化合物)としては、例えば、N,N,N',N'-テトラグリシジル-m-キシレンジアミン、ジグリシジルアニリン、1,3-ビス(N,N-ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル、ソルビタンポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、o-フタル酸ジグリシジルエステル、トリグリシジル-トリス(2-ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、レゾルシンジグリシジルエーテル、およびビスフェノール-S-ジグリシジルエーテルが挙げられ、また、分子内にエポキシ基を二つ以上有するエポキシ系樹脂も挙げられる。市販のエポキシ系架橋剤としては、例えば、三菱ガス化学株式会社製の「テトラッドC」が挙げられる。
第1粘着剤層を構成する粘着剤組成物が脂肪酸エステルを含むことにより、第1粘着剤層体の部材への低タック性、濡れ性が期待できる。
前記脂肪酸エステルとしては、例えば、ポリオキシエチレンビスフェノールAラウリン酸エステル、ステアリン酸ブチル、パルミチン酸2-エチルヘキシル、ステアリン酸2-エチルヘキシル、ベヘニン酸モノグリセライド、2-エチルヘキサン酸セチル、ミリスチン酸イソプロピル、パルミチン酸イソプロピル、イソステアリン酸コレステリル、メタクリル酸ラウリル、ヤシ脂肪酸メチル、ラウリン酸メチル、オレイン酸メチル、ステアリン酸メチル、ミリスチン酸ミリスチル、ミリスチン酸オクチルドデシル、ペンタエリスリトールモノオレエート、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエリスリトールテトラパルミテート、ステアリン酸ステアリル、ステアリン酸イソトリデシル、2-エチルヘキサン酸トリグリセライド、ラウリン酸ブチル、オレイン酸オクチル、イソノナン酸トリデシル等が挙げられる。脂肪酸エステルは1種のみであっても良いし、2種以上であっても良い。
前記ウレタン系粘着剤組成物に含有する脂肪酸エステルの含有量は、第1粘着剤層体の部材への低タック性、濡れ性や部材への汚染性の観点から、例えば、ポリオール100重量部に対して、1~50重量部が好ましく、2~40重量部がより好ましく、3~30重量部がさらに好ましい。
第1粘着剤層は、紫外線吸収剤を含んでもよい。第1粘着剤層が紫外線吸収剤を含む場合、活性エネルギー線照射による変色を抑制することができる。従って、第1粘着剤層に仮固定された部材に、レーザー光照射などの活性エネルギー線照射を用いた加工を行う際に、粘着シートの変色を防止することができる。
前記紫外線吸収剤としては、特に限定されないが、例えば、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、オキシベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸エステル系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤等を挙げることができ、これらを1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が好ましく、1分子中にヒドロキシル基を2個以下有するトリアジン系紫外線吸収剤、及び、1分子中にベンゾトリアゾール骨格を1個有するベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤からなる群から選択される少なくとも1種の紫外線吸収剤であることが、アクリル系粘着剤組成物の形成に用いられるモノマーへの溶解性が良好であり、かつ、波長380nm付近での紫外線吸収能力が高いため好ましい。
1分子中にヒドロキシル基を2個以下有するトリアジン系紫外線吸収剤としては、具体的には、2,4-ビス-[{4-(4-エチルヘキシルオキシ)-4-ヒドロキシ}-フェニル]-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン(Tinosorb S、BASF製)、2,4-ビス[2-ヒドロキシ-4-ブトキシフェニル]-6-(2,4-ジブトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン(TINUVIN 460、BASF製)、2-(4,6-ビス(2,4-ジメチルフェニル)-1,3,5-トリアジン-2-イル)-5-ヒドロキシフェニルと[(C10-C16(主としてC12-C13)アルキルオキシ)メチル]オキシランとの反応生成物(TINUVIN400、BASF製)、2-[4,6-ビス(2,4-ジメチルフェニル)-1,3,5-トリアジン-2-イル]-5-[3-(ドデシルオキシ)-2-ヒドロキシプロポキシ]フェノール)、2-(2,4-ジヒドロキシフェニル)-4,6-ビス-(2,4-ジメチルフェニル)-1,3,5-トリアジンと(2-エチルヘキシル)-グリシド酸エステルの反応生成物(TINUVIN405、BASF製)、2-(4,6-ジフェニル-1,3,5-トリアジン-2-イル)-5-[(ヘキシル)オキシ]-フェノール(TINUVIN1577、BASF製)、2-(4,6-ジフェニル-1,3,5-トリアジン-2-イル)-5-[2-(2-エチルヘキサノイルオキシ)エトキシ]-フェノール(ADK STAB LA46、ADEKA製)、2-(2-ヒドロキシ-4-[1-オクチルオキシカルボニルエトキシ]フェニル)-4,6-ビス(4-フェニルフェニル)-1,3,5-トリアジン(TINUVIN479、BASF社製)等を挙げることができる。
また、1分子中にベンゾトリアゾール骨格を1個有するベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-6-(1-メチル-1-フェニルエチル)-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール(TINUVIN 928、BASF製)、2-(2-ヒドロキシ-5-tert-ブチルフェニル)-2H-ベンゾトリアゾール(TINUVIN PS、BASF製)、ベンゼンプロパン酸及び3-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-5-(1,1-ジメチルエチル)-4-ヒドロキシ(C7-9側鎖及び直鎖アルキル)のエステル化合物(TINUVIN384-2、BASF製)、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4,6-ビス(1-メチル-1-フェニルエチル)フェノール(TINUVIN900、BASF製)、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-6-(1-メチル-1-フェニルエチル)-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール(TINUVIN928、BASF製)、メチル-3-(3-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-5-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート/ポリエチレングリコール300の反応生成物(TINUVIN1130、BASF製)、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-p-クレゾール(TINUVIN P、BASF製)、2(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-6-ビス(1-メチル-1-フェニルエチル)フェノール(TINUVIN234、BASF製)、2-〔5-クロロ(2H)-ベンゾトリアゾール-2-イル〕-4-メチル-6-(tert-ブチル)フェノール(TINUVIN326、BASF製)、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4,6-ジ-tert-ペンチルフェノール(TINUVIN328、BASF製)、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール(TINUVIN329、BASF製)、メチル3-(3-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-5-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネートとポリエチレングリコール300との反応生成物(TINUVIN213、BASF製)、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-6-ドデシル-4-メチルフェノール(TINUVIN571、BASF製)、2-[2-ヒドロキシ-3-(3、4、5,6-テトラヒドロフタルイミドーメチル)-5-メチルフェニル]ベンゾトリアゾール(Sumisorb250、住友化学工業(株)製)等を挙げることができる。
また、前記ベンゾフェノン系紫外線吸収剤(ベンゾフェノン系化合物)、オキシベンゾフェノン系紫外線吸収剤(オキシベンゾフェノン系化合物)としては、例えば、2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン-5-スルホン酸(無水及び三水塩)、2-ヒドロキシ-4-オクチルオキシベンゾフェノン、4-ドデシルオキシ-2-ヒドロキシベンゾフェノン、4-ベンジルオキシ-2-ヒドロキシベンゾフェノン、2,2',4,4'-テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,2'-ジヒドロキシ-4,4-ジメトキシベンゾフェノン等を挙げることができる。
また前記サリチル酸エステル系紫外線吸収剤(サリチル酸エステル系化合物)としては、例えば、フェニル-2-アクリロイルオキシベンゾエ-ト、フェニル-2-アクロリイルオキシ-3-メチルベンゾエ-ト、フェニル-2-アクリロイルオキシ-4-メチルベンゾエ-ト、フェニル-2-アクリロイルオキシ-5-メチルベンゾエ-ト、フェニル-2-アクリロイルオキシ-3-メトキシベンゾエ-ト、フェニル-2-ヒドロキシベンゾエ-ト、フェニル-2-ヒドロキシ-3-メチルベンゾエ-ト、フェニル-2-ヒドロキシ-4メチルベンゾエ-ト、フェニル-2-ヒドロキシ-5-メチルベンゾエ-ト、フェニル2-ヒドロキシ-3-メトキシベンゾエ-ト、2,4-ジ-tert-ブチルフェニル-3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシベンゾエート(TINUVIN120、BASF製)等を挙げることができる。
前記シアノアクリレート系紫外線吸収剤(シアノアクリレート系化合物)としては、例えば、アルキル-2-シアノアクリレート、シクロアルキル-2-シアノアクリレート、アルコキシアルキル-2-シアノアクリレート、アルケニル-2-シアノアクリレート、アルキニル-2-シアノアクリレート等を挙げることができる。
前記紫外線吸収剤の吸収スペクトルの最大吸収波長は、300~400nmの波長領域に存在することが好ましく、320~380nmの波長領域に存在することがより好ましい。
前記紫外線吸収剤は、単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよい。粘着剤組成物に含有する紫外線吸収剤の含有量は、活性エネルギー線照射による変色を防止することができる観点から、例えば、粘着剤組成物100重量部に対して、0.01~10重量部が好ましく、0.03~5重量部がより好ましく、0.1~3重量部がさらに好ましい。
第1粘着剤層は、酸化防止剤を含んでもよい。第1粘着剤層が酸化防止剤を含む場合、本実施形態の粘着シートの保管時の変色等の劣化を抑制することができる。
前記酸化防止剤としては、例えば、フェノール系、リン系、イオウ系およびアミン系の酸化防止剤があげられ、これらから選ばれるいずれか少なくとも1種を用いる。これらの中でも、フェノール系酸化防止剤が好ましく、特にヒンダードフェノール系酸化防止剤が好ましい。
フェノール系酸化防止剤の具体例としては、単環フェノール化合物として、2,6-ジ-t-ブチル-p-クレゾール、2,6-ジ-t-ブチル-4-エチルフェノール、2,6-ジシクロヘキシル-4-メチルフェノール、2,6-ジイソプロピル-4-エチルフェノール、2,6-ジ-t-アミル-4-メチルフェノール、2,6-ジ-t-オクチル-4-n-プロピルフェノール、2,6-ジシクロヘキシル-4-n-オクチルフェノール、2-イソプロピル-4-メチル-6-t-ブチルフェノール、2-t-ブチル-4-エチル-6-t-オクチルフェノール、2-イソブチル-4-エチル-6-t-ヘキシルフェノール、2-シクロヘキシル-4-n-ブチル-6-イソプロピルフェノール、スチレン化混合クレゾール、DL-α-トコフェロール、ステアリルβ-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネートなどを、2環フェノール化合物として、2,2'-メチレンビス(4-メチル-6-t-ブチルフェノール)、4,4'-ブチリデンビス(3-メチル-6-t-ブチルフェノール)、4,4'-チオビス(3-メチル-6-t-ブチルフェノール)、2,2'-チオビス(4-メチル-6-t-ブチルフェノール)、4,4'-メチレンビス(2,6-ジ-t-ブチルフェノール)、2,2'-メチレンビス[6-(1-メチルシクロヘキシル)-p-クレゾール]、2,2'-エチリデンビス(4,6-ジ-t-ブチルフェノール)、2,2'-ブチリデンビス(2-t-ブチル-4-メチルフェノール)、3,6-ジオキサオクタメチレンビス[3-(3-t-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロピオネート]、トリエチレングリコールビス[3-(3-t-ブチル-5-メチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、1,6-ヘキサンジオール ビス[3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2,2'-チオジエチレンビス[3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート]などを、3環フェノール化合物として、1,1,3-トリス(2-メチル-4-ヒドロキシ-5-t-ブチルフェニル)ブタン、1,3,5-トリス(2,6-ジメチル-3-ヒドロキシ-4-t-ブチルベンジル)イソシアヌレート、1,3,5-トリス[(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシエチル]イソシアヌレート、トリス(4-t-ブチル-2,6-ジメチル-3-ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、1,3,5-トリメチル-2,4,6-トリス(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル)ベンゼンなどを、4環フェノール化合物として、テトラキス[メチレン-3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタンなどを、リン含有フェノール化合物として、ビス(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジルホスホン酸エチル)カルシウム、ビス(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジルホスホン酸エチル)ニッケルなどを挙げることができる。
前記酸化防止剤は、単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよい。粘着剤組成物に含有する酸化防止剤の含有量は、保管時の変色等の劣化抑制、粘着シートの加工性の観点から、例えば、粘着剤組成物100重量部に対して、0.01~10重量部が好ましく、0.03~5重量部がより好ましく、0.1~3重量部がさらに好ましい。
第1粘着剤層を構成する粘着剤組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切なその他の成分を含むことができる。このようなその他の成分としては、例えば、粘着付与剤、無機充填剤、有機充填剤、金属粉、顔料、箔状物、軟化剤、可塑剤、導電剤、表面潤滑剤、レベリング剤、耐熱安定剤、重合禁止剤、滑剤、溶剤等が挙げられる。
[第2粘着剤層]
第2粘着剤層は、支持板に固定するための粘着剤層であり、剥離性粘着剤層からなるものであることが好ましい。前記第2粘着剤層が剥離性粘着剤層からなるという構成は、当該第2粘着剤層を支持板から糊残りなどの汚染がなく剥離することができ、リワーク性が向上できる点で好ましい。
前記第2粘着剤層は、粘着剤の種類や組成、架橋度などによる粘着性の調整や、熱、紫外線などの電磁波などの物理的刺激により粘着力を低下させることにより、剥離性粘着剤層とすることができる。
第2粘着剤層のガラス板に対する25℃での180°引き剥がし粘着力は、特に限定されないが、支持板から糊残りなどの汚染がなく剥離することができ、リワーク性向上の観点から、5000mN/25mm以下であることが好ましく、より好ましくは3000mN/25mm以下であり、さらに好ましくは1000mN/25mm以下である。また、第2粘着剤層に対する支持板の接着性の観点から、第2粘着剤層のガラス板に対する25℃での180°引き剥がし粘着力は、1mN/25mm以上であることが好ましく、より好ましくは5mN/25mm以上である。
前記第2粘着剤層の上記粘着力は、構成する粘着剤の種類や組成、架橋度などを調整することや、可塑剤の配合によるWBL(Weak Boundary Layer)の形成により、調整することができる。
第2粘着剤層の厚みは、特に限定されないが、1μm以上が好ましく、より好ましくは3μm以上である。厚みが一定以上であると、第2粘着剤層が支持板に安定して固定しやすくなり、好ましい。また、第2粘着剤層の厚みの上限値は、特に限定されないが、30μm以下が好ましく、より好ましくは20μm以下である。厚みが一定以下であると、第2粘着剤層を支持板から剥離しやすくなり、リワーク性が向上し、好ましい。
第2粘着剤層のヘイズ(JIS K7136に準じる)は、特に限定されないが、10%以下が好ましく、より好ましくは5%以下である。ヘイズが10%以下であると、優れた透明性が得られ、例えば、本実施形態の粘着シートに外部刺激を与えることにより形成されるアライメントマークの視認性が向上し、好ましい。なお、上記ヘイズは、例えば、第2粘着剤層をはく離ライナー上に形成して常態(23℃、50%RH)に少なくとも24時間静置した後、はく離ライナーを剥離し、スライドガラス(例えば、全光線透過率91.8%、ヘイズ0.4%のもの)に貼り合わせたものを試料とし、ヘイズメーター(株式会社村上色彩技術研究所製、商品名「HM-150」)を用いて測定することができる。
本実施形態の粘着シートにおいて、第2粘着剤層の可視光波長領域における全光線透過率(JIS K7361-1に準じる)は、特に限定されないが、85%以上が好ましく、より好ましくは88%以上である。全光線透過率が85%以上であると、優れた透明性が得られ、例えば、本実施形態の粘着シートに外部刺激を与えることにより形成されるアライメントマークの視認性が向上し、好ましい。なお、上記全光線透過率は、例えば、第2粘着剤層をはく離ライナー上に形成して常態(23℃、50%RH)に少なくとも24時間静置した後、はく離ライナーを剥離し、スライドガラス(例えば、全光線透過率91.8%、ヘイズ0.4%のもの)に貼り合わせたものを試料とし、ヘイズメーター(株式会社村上色彩技術研究所製、商品名「HM-150」)を用いて測定することができる。
上記第2粘着剤層を構成する粘着剤としては、特に限定されないが、例えば、上記で第1粘着剤層で使用されるシリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ポリアミド系粘着剤、エポキシ系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、フッ素系粘着剤などが挙げられる。これらの中でも、支持板から糊残りなどの汚染がなく剥離することができ、リワーク性向上の観点、また、透明性が高く、アライメントマークの視認性が良好である観点から、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、アクリル系粘着剤が好ましく、ウレタン系粘着剤、アクリル系粘着剤がより好ましく、アクリル系粘着剤がさらに好ましい。
第2粘着剤層は、本実施形態の粘着シートの使用過程において外部からの作用によって意図的に粘着力を低減させることが可能な粘着剤層(粘着力低減可能型粘着剤層)であってもよいし、粘着シートの使用過程において外部からの作用によっては粘着力がほとんど又は全く低減しない粘着剤層(粘着力非低減型粘着剤層)であってもよく、本実施形態の粘着シートを使用して部材を加工する手法や条件等に応じて適宜に選択することができる。
第2粘着剤層が粘着力低減可能型粘着剤層である場合、本実施形態の粘着シートの製造過程や使用過程において、第2粘着剤層が相対的に高い粘着力を示す状態と相対的に低い粘着力を示す状態とを使い分けることが可能となる。例えば、本実施形態の粘着シートの使用過程で第1粘着剤層が部材を受け取る工程では、第2粘着剤層が相対的に高い粘着力を示す状態を利用して、支持板からの粘着シートの浮きを抑制・防止することが可能となる。一方で、その後、本実施形態の粘着シートを支持板から剥離過程では、第2粘着剤層の粘着力を低減させることで、リワーク性を向上させることができる。
このような粘着力低減可能型粘着剤層を形成する粘着剤としては、例えば、放射線硬化性粘着剤、加熱発泡型粘着剤等が挙げられる。粘着力低減可能型粘着剤層を形成する粘着剤としては、一種の粘着剤を使用してもよいし、二種以上の粘着剤を使用してもよい。
上記放射線硬化性粘着剤としては、例えば、電子線、紫外線、α線、β線、γ線、又はX線の照射により硬化するタイプの粘着剤を用いることができ、紫外線照射によって硬化するタイプの粘着剤(紫外線硬化性粘着剤)を特に好ましく用いることができる。
上記放射線硬化性粘着剤としては、例えば、アクリル系ポリマー等のベースポリマーと、放射線重合性の炭素-炭素二重結合等の官能基を有する放射線重合性のモノマー成分やオリゴマー成分とを含有する添加型の放射線硬化性粘着剤が挙げられる。
ベースポリマーとしては、第1粘着剤層と同様のアクリル系ポリマーを使用することができる。炭化水素基含有(メタ)アクリル酸エステルによる粘着性等の基本特性を第2粘着剤層において適切に発現させ、粘着性、剥離性をコントロールしやすい点より、アクリル系ポリマーを形成するための全モノマー成分における、炭化水素基含有(メタ)アクリル酸エステルの割合は、40質量%以上が好ましく、より好ましくは60質量%以上である。
上記アクリル系ポリマーは、ヒドロキシ基含有モノマーを含んでもよい。第2粘着剤層内のアクリル系ポリマーがヒドロキシ基含有モノマーを含む場合、第2粘着剤層において適度な凝集力が得られやすい。第2粘着剤層において適度な接着性や凝集力を実現するという観点からは、上記アクリル系ポリマーにおける、ヒドロキシ基含有モノマーの割合は、例えば0.1~30質量%であり、好ましくは0.5~20質量%である。
上記アクリル系ポリマーは、カルボキシ基含有モノマーを含んでもよい。第2粘着剤層内のアクリル系ポリマーがカルボキシ基含有モノマーを含む場合、第2粘着剤層において適度な接着信頼性が得られやすい。第2粘着剤層において適度な接着信頼性を実現するという観点からは、上記アクリル系ポリマーにおける、カルボキシ基含有モノマーの割合は、例えば0.1~30質量%であり、好ましくは0.5~20質量%である。
上記アクリル系ポリマーは、ビニルエステル系モノマーを含んでもよい。第2粘着剤層内のアクリル系ポリマーがビニルエステル系モノマーを含む場合、第2粘着剤層において適度な凝集力が得られやすい。第2粘着剤層において適度な凝集力を実現するという観点からは、上記アクリル系ポリマーにおける、ビニルエステル系モノマーの割合は、例えば0.1~60質量%であり、好ましくは0.5~50質量%である。
第2粘着剤層を形成するアクリル系粘着剤組成物は、架橋剤を含有していてもよい。例えば、アクリル系ポリマーを架橋させ、第2粘着剤層中の低分子量物質をより低減させることができる。また、アクリル系ポリマーの質量平均分子量を高め、剥離性にコントロールすることができる。上記架橋剤としては、例えば、ポリイソシアネート化合物、エポキシ化合物、ポリオール化合物(ポリフェノール系化合物等)、アジリジン化合物、メラミン化合物等が挙げられ、イソシアネート系架橋剤および/またはエポキシ系架橋剤が好ましい架橋剤を使用する場合、その使用量は、アクリル系ポリマー100重量部に対して、10重量部程度以下が好ましく、より好ましくは0.1~10重量部である。
第2粘着剤層を形成するアクリル系粘着剤組成物は、架橋促進剤が用いられていてもよい。架橋促進剤の種類は、使用する架橋剤の種類に応じて適宜選択することができる。なお、本明細書において、架橋促進剤とは、架橋剤による架橋反応の速度を高める触媒を指す。かかる架橋促進剤としては、ジオクチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジアセチルアセトナート、テトラ-n-ブチル錫、トリメチル錫ヒドロキシド等の錫(Sn)含有化合物;N,N,N',N'-テトラメチルヘキサンジアミンやトリエチルアミン等のアミン類、イミダゾール類等のN含有化合物;等が例示される。なかでも、Sn含有化合物が好ましい。これら架橋促進剤の使用は、上記副モノマーとしてヒドロキシル基含有モノマーを用い、かつ架橋剤としてイソシアネート系架橋剤を用いた場合に特に効果的である。上記粘着剤組成物に含まれる架橋促進剤の量は、上記アクリル系ポリマー100重量部に対し、例えば、0.001~0.5重量部程度(好ましくは0.001~0.1重量部程度)とすることができる。
上記放射線重合性のモノマー成分としては、例えば、ウレタン(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート等挙げられる。上記放射線重合性のオリゴマー成分としては、例えば、ウレタン系、ポリエーテル系、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリブタジエン系等の種々のオリゴマーが挙げられ、分子量が100~30000程度のものが好ましい。第2粘着剤層を形成する放射線硬化性粘着剤中の上記放射線硬化性のモノマー成分及びオリゴマー成分の含有量は、上記ベースポリマー100重量部に対して、例えば5~500重量部、好ましくは40~150重量部程度である。また、添加型の放射線硬化性粘着剤としては、例えば特開昭60-196956号公報に開示のものを用いてもよい。
上記放射線硬化性粘着剤としては、放射線重合性の炭素-炭素二重結合等の官能基をポリマー側鎖や、ポリマー主鎖中、ポリマー主鎖末端に有するベースポリマーを含有する内在型の放射線硬化性粘着剤も挙げられる。このような内在型の放射線硬化性粘着剤を用いると、形成された第2粘着剤層内での低分子量成分の移動に起因する粘着特性の意図しない経時的変化を抑制することができる傾向がある。
上記内在型の放射線硬化性粘着剤に含有されるベースポリマーとしては、アクリル系ポリマーが好ましい。アクリル系ポリマーへの放射線重合性の炭素-炭素二重結合の導入方法としては、例えば、第1の官能基を有するモノマー成分を含む原料モノマーを重合(共重合)させてアクリル系ポリマーを得た後、上記第1の官能基と反応し得る第2の官能基及び放射線重合性の炭素-炭素二重結合を有する化合物を、炭素-炭素二重結合の放射線重合性を維持したままアクリル系ポリマーに対して縮合反応又は付加反応させる方法が挙げられる。
上記第1の官能基と上記第2の官能基の組み合わせとしては、例えば、カルボキシ基とエポキシ基、エポキシ基とカルボキシ基、カルボキシ基とアジリジル基、アジリジル基とカルボキシ基、ヒドロキシ基とイソシアネート基、イソシアネート基とヒドロキシ基等が挙げられる。これらの中でも、反応追跡の容易さの観点から、ヒドロキシ基とイソシアネート基の組み合わせ、イソシアネート基とヒドロキシ基の組み合わせが好ましい。中でも、反応性の高いイソシアネート基を有するポリマーを作製することは技術的難易度が高く、一方でヒドロキシ基を有するアクリル系ポリマーの作製及び入手の容易性の観点から、上記第1の官能基がヒドロキシ基であり、上記第2の官能基がイソシアネート基である組み合わせが好ましい。イソシアネート基及び放射性重合性の炭素-炭素二重結合を有する化合物、すなわち、放射線重合性の不飽和官能基含有イソシアネート化合物としては、例えば、メタクリロイルイソシアネート、2-メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、m-イソプロペニル-α,α-ジメチルベンジルイソシアネート等が挙げられる。また、ヒドロキシ基を有するアクリル系ポリマーとしては、上述のヒドロキシ基含有モノマーや、2-ヒドロキシエチルビニルエーテル、4-ヒドロキシブチルビニルエーテル、ジエチレングルコールモノビニルエーテル等のエーテル系化合物に由来する構成単位を含むものが挙げられる。
上記放射線硬化性粘着剤は、光重合開始剤を含有することが好ましい。上記光重合開始剤としては、例えば、α-ケトール系化合物、アセトフェノン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ケタール系化合物、芳香族スルホニルクロリド系化合物、光活性オキシム系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物、カンファーキノン、ハロゲン化ケトン、アシルホスフィノキシド、アシルホスフォナート等が挙げられる。上記α-ケトール系化合物としては、例えば、4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル(2-ヒドロキシ-2-プロピル)ケトン、α-ヒドロキシ-α,α’-ジメチルアセトフェノン、2-メチル-2-ヒドロキシプロピオフェノン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等が挙げられる。上記アセトフェノン系化合物としては、例えば、メトキシアセトフェノン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフエノン、2,2-ジエトキシアセトフェノン、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)-フェニル]-2-モルホリノプロパン-1等が挙げられる。上記ベンゾインエーテル系化合物としては、例えば、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、アニソインメチルエーテル等が挙げられる。上記ケタール系化合物としては、例えば、ベンジルジメチルケタール等が挙げられる。上記芳香族スルホニルクロリド系化合物としては、例えば、2-ナフタレンスルホニルクロリド等が挙げられる。上記光活性オキシム系化合物としては、例えば、1-フェニル-1,2-プロパンジオン-2-(O-エトキシカルボニル)オキシム等が挙げられる。上記ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、3,3'-ジメチル-4-メトキシベンゾフェノン等が挙げられる。上記チオキサントン系化合物としては、例えば、チオキサントン、2-クロロチオキサントン、2-メチルチオキサントン、2,4-ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4-ジクロロチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、2,4-ジイソプロピルチオキサントン等が挙げられる。放射線硬化性粘着剤中の光重合開始剤の含有量は、ベースポリマー100重量部に対して、例えば0.05~20重量部である。
上記加熱発泡型粘着剤は、加熱によって発泡や膨張をする成分(発泡剤、熱膨張性微小球等)を含有する粘着剤である。上記発泡剤としては、種々の無機系発泡剤や有機系発泡剤が挙げられる。上記無機系発泡剤としては、例えば、炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、亜硝酸アンモニウム、水素化ホウ素ナトリウム、アジド類等が挙げられる。上記有機系発泡剤としては、例えば、トリクロロモノフルオロメタン、ジクロロモノフルオロメタン等の塩フッ化アルカン;アゾビスイソブチロニトリル、アゾジカルボンアミド、バリウムアゾジカルボキシレート等のアゾ系化合物;パラトルエンスルホニルヒドラジド、ジフェニルスルホン-3,3'-ジスルホニルヒドラジド、4,4'-オキシビス(ベンゼンスルホニルヒドラジド)、アリルビス(スルホニルヒドラジド)等のヒドラジン系化合物;p-トルイレンスルホニルセミカルバジド、4,4'-オキシビス(ベンゼンスルホニルセミカルバジド)等のセミカルバジド系化合物;5-モルホリル-1,2,3,4-チアトリアゾール等のトリアゾール系化合物;N,N'-ジニトロソペンタメチレンテトラミン、N,N'-ジメチル-N,N'-ジニトロソテレフタルアミド等のN-ニトロソ系化合物等が挙げられる。上記熱膨張性微小球としては、例えば、加熱によって容易にガス化して膨張する物質が殻内に封入された構成の微小球が挙げられる。上記加熱によって容易にガス化して膨張する物質としては、例えば、イソブタン、プロパン、ペンタン等が挙げられる。加熱によって容易にガス化して膨張する物質をコアセルべーション法や界面重合法等によって殻形成物質内に封入することによって、熱膨張性微小球を作製することができる。上記殻形成物質としては、熱溶融性を示す物質や、封入物質の熱膨張の作用によって破裂し得る物質を用いることができる。そのような物質としては、例えば、塩化ビニリデン・アクリロニトリル共重合体、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスルホン等が挙げられる。
上記粘着力非低減型粘着剤層としては、例えば、感圧型粘着剤層が挙げられる。なお、感圧型粘着剤層には、粘着力低減可能型粘着剤層に関して上述した放射線硬化性粘着剤から形成された粘着剤層を予め放射線照射によって硬化させつつも一定の粘着力を有する形態の粘着剤層が含まれる。粘着力非低減型粘着剤層を形成する粘着剤としては、一種の粘着剤を使用してもよいし、二種以上の粘着剤を使用してもよい。また、第2粘着剤層の全体が粘着力非低減型粘着剤層であってもよいし、一部が粘着力非低減型粘着剤層であってもよい。例えば、第2粘着剤層が単層構造を有する場合、第2粘着剤層の全体が粘着力非低減型粘着剤層であってもよいし、第2粘着剤層における特定の部位が粘着力非低減型粘着剤層であり、他の部位が粘着力低減可能型粘着剤層であってもよい。また、第2粘着剤層が積層構造を有する場合、積層構造における全ての粘着剤層が粘着力非低減型粘着剤層であってもよいし、積層構造中の一部の粘着剤層が粘着力非低減型粘着剤層であってもよい。
放射線硬化性粘着剤から形成された粘着剤層(放射線未照射放射線硬化型粘着剤層)を予め放射線照射によって硬化させた形態の粘着剤層(放射線照射済放射線硬化型粘着剤層)は、放射線照射によって粘着力が低減されているとしても、含有するポリマー成分に起因する粘着性を示し、本実施形態の粘着シートに最低限必要な粘着力を発揮することが可能である。放射線照射済放射線硬化型粘着剤層を用いる場合、第2粘着剤層の面広がり方向において、第2粘着剤層の全体が放射線照射済放射線硬化型粘着剤層であってもよく、第2粘着剤層の一部が放射線照射済放射線硬化型粘着剤層であり且つ他の部分が放射線未照射の放射線硬化型粘着剤層であってもよい。なお、本明細書において、「放射線硬化型粘着剤層」とは、放射線硬化性粘着剤から形成された粘着剤層をいい、放射線硬化性を有する放射線未照射放射線硬化型粘着剤層及び当該粘着剤層が放射線照射により硬化した後の放射線硬化済放射線硬化型粘着剤層の両方を含む。
上記感圧型粘着剤層を形成する粘着剤としては、公知乃至慣用の感圧型の粘着剤を用いることができ、アクリル系ポリマーをベースポリマーとするアクリル系粘着剤を好ましく用いることができる。第2粘着剤層が感圧型の粘着剤としてアクリル系ポリマーを含有する場合、当該アクリル系ポリマーは、(メタ)アクリル酸エステルに由来する構成単位を質量割合で最も多い構成単位として含むポリマーであることが好ましい。上記アクリル系ポリマーとしては、例えば、上述の添加型の放射線硬化性粘着剤に含まれ得るアクリル系ポリマーとして説明されたアクリル系ポリマーを採用することができる。
[基材]
本実施形態の粘着シートが基材付き粘着シートである場合の基材は、支持体として機能する要素である。基材としては、例えば、プラスチック基材(特にプラスチックフィルム)が挙げられる。上記基材は、単層であってもよいし、同種又は異種の基材の積層体であってもよい。
上記プラスチック基材を構成する樹脂としては、例えば、低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、超低密度ポリエチレン、ランダム共重合ポリプロピレン、ブロック共重合ポリプロピレン、ホモポリプロレン、ポリブテン、ポリメチルペンテン、エチレン-酢酸ビニル共重合体(EVA)、アイオノマー、エチレン-(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン-(メタ)アクリル酸エステル(ランダム、交互)共重合体、エチレン-ブテン共重合体、エチレン-ヘキセン共重合体等のポリオレフィン樹脂;ポリウレタン;ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート(PBT)等のポリエステル;ポリカーボネート;ポリイミド;ポリエーテルエーテルケトン;ポリエーテルイミド;アラミド、全芳香族ポリアミド等のポリアミド;ポリフェニルスルフィド;フッ素樹脂;ポリ塩化ビニル;ポリ塩化ビニリデン;セルロース樹脂;シリコーン樹脂;セルローストリアセテート(TAC)等が挙げられる。本実施形態の粘着シートが受け取った部材を、例えば、実装基板上に熱圧着(例えば、150℃)して転写して実装するなどの加熱を伴う加工を行う際に、熱による膨張や収縮を起こしにくい良好な耐熱性を示し、精度よく加工できるという観点から、基材は、ポリイミド(PI)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリアミド(PA)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、等の耐熱性樹脂を主成分として含むことが好ましく、ポリイミドを主成分として含むことがより好ましい。
また、本実施形態の粘着シート上に仮固定された部材を、レーザー光照射などの活性エネルギー線照射を用いた加工を行う際に、粘着シートの変色を防止するという観点から、紫外線吸収性を示すポリイミド(PI)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、セルローストリアセテート(TAC)等も好ましい。
また、基材の主成分とは、構成成分中で最も大きな質量割合を占める成分とする。上記樹脂は、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。
基材がプラスチックフィルムである場合、上記プラスチックフィルムは、無配向であってもよく、少なくとも一方向(一軸方向、二軸方向等)に配向していてもよいが、無配向が熱収縮性を示しにくいことから好ましい。
基材の第1粘着剤層及び/又は第2粘着剤層側表面は、粘着剤層との密着性、保持性等を高める目的で、例えば、コロナ放電処理、プラズマ処理、サンドマット加工処理、オゾン暴露処理、火炎暴露処理、高圧電撃暴露処理、イオン化放射線処理等の物理的処理;クロム酸処理等の化学的処理;コーティング剤(下塗り剤);シリコーンプライマー処理による易接着処理等の表面処理が施されていてもよい。また、帯電防止能を付与するため、金属、合金、これらの酸化物等を含む導電性の蒸着層を基材表面に設けるほか、PEDOT-PSSなどの導電性高分子をコーティングしてもよい。密着性を高めるための表面処理は、基材における粘着剤層側の表面全体に施されていることが好ましい。
基材の厚さは、本実施形態の粘着シートにおける支持体として基材が機能するための強度を確保するという観点からは、5μm以上が好ましく、より好ましくは10μm以上、さらに好ましくは15μm以上、特に好ましくは20μm以上である。また、本実施形態の粘着シートにおいて適度な可撓性を実現するという観点からは、基材の厚さは、200μm以下が好ましく、より好ましくは180μm以下、さらに好ましくは150μm以下である。
本実施形態の粘着シートにおいて、基材のヘイズ(JIS K7136に準じる)は、特に限定されないが、10%以下が好ましく、より好ましくは5.0%以下である。ヘイズが10%以下であると、優れた透明性が得られ、例えば、本実施形態の粘着シートに外部刺激を与えることにより形成されるアライメントマークの視認性が向上し、好ましい。なお、上記ヘイズは、ヘイズメーター(株式会社村上色彩技術研究所製、商品名「HM-150」)を用いて測定することができる。
本実施形態の粘着シートにおいて、基材の可視光波長領域における全光線透過率(JIS K7361-1に準じる)は、特に限定されないが、85%以上が好ましく、より好ましくは88%以上である。全光線透過率が85%以上であると、優れた透明性が得られ、例えば、本実施形態の粘着シートに外部刺激を与えることにより形成されるアライメントマークの視認性が向上し、好ましい。なお、上記全光線透過率は、ヘイズメーター(株式会社村上色彩技術研究所製、商品名「HM-150」)を用いて測定することができる。
本実施形態の粘着シートにおいて、基材に、本発明の変色成分が含まれていてもよい。すなわち、前記基材は、酸との反応により変色する化合物、酸発生剤、及び、必要に応じて、塩基発生剤を含み、外部刺激により変色して、アライメントマークを形成してもよい。或いは、前記基材は、塩基との反応により消色する化合物、及び塩基発生剤、又は、フォトクロミック化合物を含み、外部刺激により変色して、アライメントマークを形成してもよい。
酸との反応により変色する化合物は、基材100重量部あたり、0.01~30重量部であることが好ましく、0.1~30重量部であることがより好ましく、0.1~20重量部であることがさらに好ましく、1~10重量部であることがさらに好ましい。上記範囲であることによって、酸との反応により変色する化合物による変色により、アライメントマークを効率的に形成することができる。
酸発生剤は、基材100重量部あたり0.001~30重量部であることが好ましく、0.01~25重量部であることがより好ましく、0.1~30重量部であることがさらに好ましく、0.1~20重量部であることがさらに好ましい。上記範囲であることによって、活性エネルギー線照射または加熱により効率良く酸を発生させることができ、酸との反応により変色する化合物による変色により、アライメントマークを効率的に形成することができる。
塩基発生剤は、基材100重量部あたり、0.001~30重量部であることが好ましく、0.01~25重量部であることがより好ましく、0.1~20重量部であることがさらに好ましい。上記範囲であることによって、活性エネルギー線照射又は加熱により効率良く塩基を発生させることができ、アライメントマークの消色が可能となる。
塩基との反応により消色する化合物、フォトクロミック化合物の基材中の含有量は、上記の酸との反応により変色する化合物と同様である。
[はく離ライナー]
本発明の粘着シートの粘着剤層表面(第1粘着剤層及び/又は第2粘着剤層の粘着面)は、使用時までははく離ライナーにより保護されていてもよい。はく離ライナーは粘着剤層の保護材として用いられており、粘着シートを被着体に貼付する際に剥がされる。なお、はく離ライナーは、必ずしも設けられていなくてもよい。
上記はく離ライナーとしては、慣用の剥離紙などを利用でき、具体的には、例えば、剥離処理剤による剥離処理層を少なくとも一方の表面に有する基材の他、フッ素系ポリマー(例えば、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、テトラフルオロエチレン-ヘキサフルオロプロピレン共重合体、クロロフルオロエチレン-フッ化ビニリデン共重合体など)からなる低接着性基材や、無極性ポリマー(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのオレフィン系樹脂など)からなる低接着性基材などを用いることができる。
上記はく離ライナーとしては、例えば、はく離ライナー用基材の少なくとも一方の面に剥離処理層が形成されているはく離ライナーを好適に用いることができる。このようなはく離ライナー用基材としては、ポリエステルフィルム(ポリエチレンテレフタレートフィルムなど)、オレフィン系樹脂フィルム(ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルムなど)、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリイミドフィルム、ポリアミドフィルム(ナイロンフィルム)、レーヨンフィルムなどのプラスチック系基材フィルム(合成樹脂フィルム)や紙類(上質紙、和紙、クラフト紙、グラシン紙、合成紙、トップコート紙など)の他、これらを、ラミネートや共押し出しなどにより、複層化したもの(2~3層の複合体)などが挙げられる。
上記剥離処理層を構成する剥離処理剤としては、特に限定されないが、例えば、シリコーン系剥離処理剤、フッ素系剥離処理剤、長鎖アルキル系剥離処理剤などを用いることができる。剥離処理剤は単独でまたは2種以上組み合わせて使用することができる。
上記はく離ライナーは、部材への悪影響を防止するため、はく離ライナー用基材の少なくとも一方の面に帯電防止層が形成されていてもよい。帯電防止層ははく離ライナーの一方の面(剥離処理面または未処理面)に形成されていてもよく、はく離ライナーの両面(剥離処理面及び未処理面)に形成されていてもよい。
前記帯電防止層を形成する帯電防止性樹脂に含有される帯電防止剤としては、第4級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第1、第2、第3アミノ基などのカチオン性官能基を有するカチオン型帯電防止剤、スルホン酸塩や硫酸エステル塩、ホスホン酸塩、リン酸エステル塩などのアニオン性官能基を有するアニオン型帯電防止剤、アルキルベタインおよびその誘導体、イミダゾリンおよびその誘導体、アラニンおよびその誘導体などの両性型帯電防止剤、アミノアルコールおよびその誘導体、グリセリンおよびその誘導体、ポリエチレングリコールおよびその誘導体などのノニオン型帯電防止剤、更には、上記カチオン型、アニオン型、両性イオン型のイオン導電性基を有する単量体を重合もしくは共重合して得られたイオン導電性重合体が挙げられる。これらの化合物は単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよい。
はく離ライナーの厚さは、特に限定されず、5~100μmの範囲から適宜選択すればよい。
本実施形態の粘着シートを準備(製造)する方法は、上記粘着剤組成物の組成などによって異なり、特に限定されず、公知の形成方法を利用することができるが、例えば、以下の(1)~(4)などの方法が挙げられる。
(1)上記粘着剤組成物を基材上に塗布(塗工)して組成物層を形成し、該組成物層を硬化(例えば、熱硬化や紫外線などの活性エネルギー線照射による硬化)させて粘着剤層を形成して粘着シートを製造する方法
(2)上記粘着剤組成物を、はく離ライナー上に塗布(塗工)して組成物層を形成し、該組成物層を硬化(例えば、熱硬化や紫外線などの活性エネルギー線照射による硬化)させて粘着剤層を形成した後、該粘着剤層を基材上に転写して粘着シートを製造する方法
(3)上記粘着剤組成物を、基材上に塗布(塗工)し、乾燥させて粘着剤層を形成して粘着シートを製造する方法
(4)上記粘着剤組成物を、はく離ライナー上に塗布(塗工)し、乾燥させて粘着剤層を形成した後、該粘着剤層を基材上に転写して粘着シートを製造する方法
上記(1)~(4)における硬化方法としては、生産性に優れるという点で、均質で表面平滑な粘着剤層を形成できる点で、熱硬化させる方法が好ましい。
上記粘着剤組成物を所定の面上に塗布(塗工)する方法としては、公知のコーティング方法を採用することがき、特に限定されないが、例えば、ロールコート、キスロールコート、グラビアコート、リバースコート、ロールブラッシュ、スプレーコート、ディップロールコート、バーコート、ナイフコート、エアーナイフコート、カーテンコート、リップコート、ダイコーターなどによる押出しコート法などが挙げられる。
本実施形態の粘着シートの厚み(総厚み)は、特に限定されないが、10μm以上が好ましく、より好ましくは15μm以上である。厚みが一定以上であると、第1粘着剤層に部材を安定して仮固定しやすくなり、好ましい。また、本実施形態の粘着シートの厚み(総厚み)の上限値は、特に限定されないが、500μm以下が好ましく、より好ましくは300μm以下である。厚みが一定以下であると、部材を精度よく第1粘着剤層に仮固定しやすくなり、好ましい。なお、本実施形態の粘着シートの厚みには、はく離ライナーの厚みは含めないものとする。
本実施形態の粘着シートのヘイズ(JIS K7136に準じる)は、特に限定されないが、10%以下が好ましく、より好ましくは5.0%以下である。ヘイズが10%以下であると、優れた透明性が得られ、例えば、本実施形態の粘着シートに外部刺激を与えることにより形成されるアライメントマークの視認性が向上し、好ましい。なお、上記ヘイズは、例えば、粘着シートを常態(23℃、50%RH)に少なくとも24時間静置した後、はく離ライナーを有する場合にはこれを剥離し、スライドガラス(例えば、全光線透過率91.8%、ヘイズ0.4%のもの)に貼り合わせたものを試料とし、ヘイズメーター(株式会社村上色彩技術研究所製、商品名「HM-150」)を用いて測定することができる。
本実施形態の粘着シートの可視光波長領域における全光線透過率(JIS K7361-1に準じる)は、特に限定されないが、85%以上が好ましく、より好ましくは88%以上である。全光線透過率が85%以上であると、優れた透明性が得られ、例えば、本実施形態の粘着シートに外部刺激を与えることにより形成されるアライメントマークの視認性が向上し、好ましい。なお、上記全光線透過率は、例えば、粘着シートを常態(23℃、50%RH)に少なくとも24時間静置した後、はく離ライナーを有する場合にはこれを剥離し、スライドガラス(例えば、全光線透過率91.8%、ヘイズ0.4%のもの)に貼り合わせたものを試料とし、ヘイズメーター(株式会社村上色彩技術研究所製、商品名「HM-150」)を用いて測定することができる。
3.粘着シート固定工程
本実施形態の粘着シート固定工程においては、本発明の粘着シートを支持板上に固定する。本発明の粘着シートの支持板上への「固定」とは、部材の仮固定、加工、剥離などにおいて、粘着シートが支持板から剥離しない程度に固定されている状態を意味する。従って、部材を加工、剥離した後、粘着シートは、支持板から剥離してもよい。粘着シートを剥離後の支持板上に、再度、別の本発明の粘着シートを固定することにより、再利用することができる。
本実施形態の粘着シート固定工程において、本発明の粘着シートは、支持板上に部材を仮固定できる限り、支持板の全面に固定してもよく、支持板の一部に固定してもよい。
図3は、図2に示す粘着シート1Bを用いた本発明の部材加工方法における粘着シート固定工程の一実施形態を表す断面模式図である。本実施形態の粘着シート1Bにおいて、粘着剤層11が部材を仮固定する第1粘着剤層であり、粘着剤層12が支持板に固定する第2粘着剤層である。本実施形態において、粘着シート1Bから粘着剤層12を保護しているはく離ライナー120を剥離し(図3(a)参照)、粘着面が露出した粘着剤12を支持板21に貼り合わせることにより(図3(b)参照)、粘着シート1Bを支持板21に固定することができる(図3(c)参照)。
図1に示す粘着シート1Aを用いる場合も、同様に、剥離ライナー120を剥離し、粘着面が露出した粘着剤10を支持板21に貼り合わせることにより、粘着シート1Aを支持板21に固定することができる(図示略)。
4.アライメントマーク形成工程
本実施形態のアライメントマーク形成工程においては、支持板上に固定された粘着シートの所定の位置に、前記外部刺激を与えて変色させて、アライメントマークを前記粘着シートに形成する。
本発明において、「アライメントマーク」とは、部材を加工する際の位置決めのために指標となる印(マーク)を意味する。本発明において、アライメントマークは、本発明の粘着シート上の任意の位置に、任意の工程で、形成することができるため、非常に汎用性が高く、生産効率を格段に向上させると共に、支持板にアライメントマークを設ける必要がないので、コストを大幅に低減することができる。さらには、アライメントマークを使用する工程の直前、または工程中に、アライメントマークを形成することができるため、異なるアライメントマークを有する支持板への貼り替えを省略することができ、製造効率を格段に向上させることもできる点でも、好適である。
本実施形態のアライメントマーク形成工程において、「所定の位置」とは、支持板上に固定された粘着シートにアライメントマークが形成される位置である。例えば、アライメントマークは、部材の支持板上の仮固定の位置、複数の部材を仮固定する場合の部材間のピッチ、部材中の加工の位置などの指標になるものである。なお、アライメントマークは上記の指標になればよく、必ずしも、仮固定や加工の位置に設けられなくてもよい。
本実施形態のアライメントマーク形成工程において、「外部刺激」とは、本発明の粘着シートに与えることにより、粘着シートに含まれる変色成分を変色させて、アライメントマークを形成するものであり、例えば、電子線照射、紫外線照射、レーザー光照射などの活性エネルギー線照射、加熱などが挙げられる。本発明の粘着シートの任意の位置にアライメントマークを設けやすい観点から、活性エネルギー線照射が好ましく、紫外線照射がより好ましく、特定の位置にアライメントマークを形成しやすい点から、紫外線レーザー光照射がさらに好ましい。
外部刺激が、活性エネルギー線照射である場合、上記所定の位置への活性エネルギー線照射は、例えば、当該所定の位置に相当する位置に開口部を有するフォトマスクを介して活性エネルギー線を照射する方法、レーザー光を当該所定の位置に局所的に照射する方法などが含まれる。
前記外部刺激による「変色」とは、外部刺激により色が変化することを言い、アライメントマークとして視認性の観点から、無色(透明)から有色に変化する「着色」が好ましい。
図4は、図2に示す粘着シート1Bを用いた本発明の部材加工方法におけるアライメントマーク形成工程の一実施形態を表す断面模式図である。本実施形態の粘着シート1Bは、粘着剤層12の粘着面で支持板21に貼着している。また、本実施形態の粘着シート1Bにおいて、粘着剤層12は、本発明の変色成分を含有しており、粘着剤層11は、本発明の変色成分を含有していない。また、本実施形態の粘着シート1Bにおいて、粘着剤層12が含有する変色成分は、酸との反応により変色する化合物、及び光酸発生剤を含むものである。本実施形態において、支持板21は、透明性が高いガラス基板である。
図4(a)において、支持板21の粘着剤層12と貼着していない面には、フォトマスク22が配置されている。本実施形態において、フォトマスク22の開口部は、後述の部材31が、粘着剤層11に配置される位置に対応している。
図4(b)において、活性エネルギー線Uがフォトマスク22側に照射される。活性エネルギー線Uは、フォトマスク22の開口部、及び透明性が高い支持板21を通過して、粘着剤層12に到達し、光酸発生剤が分解して酸を発生し、酸との反応により変色する化合物が変色(着色)して、フォトマスク22の開口部に相当する位置にアライメントマーク23が形成される。本実施形態において、粘着剤層11は、本発明の変色成分を含まないため、アライメントマークは形成されない。
活性エネルギー線としては、紫外線、可視光線、赤外線などの光、α線、β線、γ線、電子線、中性子線、X線のような放射線等を含み、電子線、紫外線が好ましく、紫外線がより好ましい。
アライメントマーク23の形成後、フォトマスク22は、支持板21から剥離・除去されてもよい(図4(c)参照)。
図5は、図2に示す粘着シート1Bを用いた本発明の部材加工方法におけるアライメントマーク形成工程の他の一実施形態を表す断面模式図である。本実施形態の粘着シート1Bは、粘着剤層12の粘着面で支持板21に貼着している。また、本実施形態の粘着シート1Bにおいて、粘着剤層12は、本発明の変色成分を含有しており、粘着剤層11は、本発明の変色成分を含有していない。また、本実施形態の粘着シート1Bにおいて、粘着剤層12が含有する変色成分は、酸との反応により変色する化合物、及び光酸発生剤を含むものである。本実施形態において、支持板21は、透明性が高いガラス基板である。
図5(a)において、支持板21側からレーザー光Lが照射され、透明性が高い支持板21を通過して、粘着剤層12に到達し、光酸発生剤が分解して酸を発生し、酸との反応により変色する化合物が変色(着色)して、アライメントマーク23が形成される。本実施形態において、レーザー光Lは、粘着剤層12上に局所的に照射され、照射された箇所にのみアライメントマーク23が形成される。本実施形態において、レーザー光Lが照射され、アライメントマーク23が形成される粘着剤層12上の位置は、後述の部材31が、粘着剤層11に配置される位置に対応している。本実施形態において、粘着剤層11は、本発明の変色成分を含まないため、アライメントマークは形成されない。
レーザー光としては、紫外線、可視光線、赤外線などのレーザー光、α線、β線、γ線、電子線、中性子線、X線のような放射線レーザー等を含み、紫外線レーザー光がより好ましい。
図5(b)において、図5(a)とは別の位置にレーザー光Lが照射され、粘着剤層12の別の位置にアライメントマーク23が形成される。図5(c)において、レーザー光を支持板21側から照射し、別の位置に順次照射し、図4(c)と同じ位置にアライメントマーク23が形成されている。また、レーザー光は、一度に照射して、全てのアライメントマーク23を一括して形成してもよい。
5.部材仮固定工程
本実施形態の部材仮固定工程においては、前記支持板上に固定された粘着シート上に前記部材を仮固定する。本実施形態の部材仮固定工程においては、粘着シートに形成された前記アライメントマークを指標にして部材を仮固定する。本実施形態の部材仮固定工程において、アライメントマークを指標にして部材を仮固定することにより、支持板上の部材の位置、複数部材を仮固定する場合の部材間のピッチなどを正確に位置決めすることができる。
図6は、図2に示す粘着シート1Bを用いた本発明の部材加工方法における部材仮固定工程の一実施形態を表す断面模式図である。
本実施形態の部材仮固定工程において、図6(a)において、粘着シート1Bからはく離ライナー110を剥離し、次いで、図6(b)において、露出した粘着剤層11の粘着面の上部には、複数の部材31が仮固定材30に貼着された状態で、粘着剤層11の粘着面に対向して、離間して配置されている。
本実施形態において、部材31のサイズとしては、特に限定されないが、薄型、微細なものを使用可能であり、例えば、長径500μm以下、又は100μm以下;短径400μm以下、又は50μm以下であってもよい。長径、短径の下限値は、特に限定されないが、5μm以上であればよい。
また、部材31の厚みも、特に限定されないが、100μm以下、又は50μm以下であってもよい。部材31の厚みの下限値も、特に限定されないが、5μm以上であればよい。
図6(b)において、仮固定材30から部材31の1つが剥離され、図6(c)において、粘着剤層11上に配置され、仮固定される。部材31が粘着剤層11上に仮固定される位置は、アライメントマーク23を指標として、対応する位置に、位置合わせされている。
本実施形態において、仮固定材30から部材31の剥離方法は、特に限定されず、例えば、仮固定材30の部材31が貼着していない面からピン部材などで部材31を突き押して、部材31を粘着剤層11の粘着面に近接させて、粘着剤層11の粘着面が受け取る。その際、部材31を粘着剤層11の粘着面に接触させてもよく、又は、非接触で、部材31を仮固定材30からはく離させ、粘着剤層11上に落下させてもよい。または、コレットなどの吸着部材を使用して部材31を個別に仮固定材30から剥離し、粘着剤層11上に置いて仮固定させてもよい(図示略)。
他の好ましい実施形態として、仮固定材30の部材31が貼着していない面からレーザー光を照射して、部材31を仮固定材30から剥離させ、粘着剤層11上に落下させてもよい。レーザー光を照射することにより、部材31を仮固定材30から剥離させる場合、粘着剤層11は紫外線吸収剤を含有することが好ましい。粘着剤層11が紫外線吸収剤を含有することにより、レーザー光は粘着剤層11に吸収されるため、粘着剤層12の変色を抑制することができる。
図6(d)は、全ての部材31が粘着剤層11上に仮固定された実施形態であり、部材31は、アライメントマーク23を指標として、それぞれ対応する位置に、位置合わせされている。部材31の粘着剤層11への仮固定は個別に行ってもよく、複数個を一括して行ってもよい。
6.部材加工工程
本実施形態の部材加工工程においては、粘着シート上に仮固定された部材に対して、前記仮固定以外の加工を実施する。本実施形態の部材仮固定工程においては、粘着シートに形成された前記アライメントマークを指標にして前記加工を実施することが好ましい。アライメントマークを指標にして、支持板上に仮固定された部材を加工するすることにより、加工精度や効率が格段に向上することができ、好ましい。
図7は、図2に示す粘着シート1Bを用いた本発明の部材加工方法における部材加工工程の一実施形態を表す断面模式図である。本実施形態において、図7(a)において、粘着剤11上に仮固定された部材31の1つに加工Pが施されている。加工Pは、アライメントマーク23を指標として実施されている。例えば、部材31を位置決めしているアライメントマーク23を指標にして、部材31の特定の位置に、加工Pを施すことができる。
本実施形態における「加工」は、部材31の粘着剤11上への仮固定以外の加工であり、例えば、研磨、ダイシング、切削、研削、レーザー加工、印刷、外観検査などが含まれる。本実施形態において、加工Pがレーザー加工である場合、粘着剤層11は紫外線吸収剤を含有することが好ましい。粘着剤層11が紫外線吸収剤を含有することにより、レーザー加工のレーザー光は粘着剤層11に吸収されるため、粘着剤層12の変色を抑制することができる。
本実施形態において、図7(b)において、32は、加工後の部材である。本実施形態において、粘着剤11上に仮固定された別の部材31の1つに加工Pが施されている。加工Pは、部材31に順次実施されてもよく、全ての部材31に一括して実施されてもよい。図7(c)は、全ての部材31が加工された実施形態を表す断面模式図である。
7.部材剥離工程
本実施形態の部材剥離工程においては、部材を、粘着シートから剥離する。本発明の部材加工方法が、前記部材剥離工程を、さらに含むという構成は、加工後の部材を、次工程の加工への搬送、又は出荷などの工程管理を効率化するという観点で、好ましい。
本実施形態の部材剥離工程において、部材の剥離は、加工後の部材の剥離であってもよく、加工の工程間の剥離であってもよく、また、加工自体が部材の剥離を伴うものであってもよい。例えば、加工が、他の基板への転写、実装などの場合は、当該転写、実装は、本発明の粘着シートから部材の剥離を伴うものである。
図8は、図2に示す粘着シート1Bを用いた本発明の部材加工方法における部材剥離工程の一実施形態を表す断面模式図である。本実施形態において、図8(a)は、加工された部材32が粘着層11に仮固定された実施形態を表す断面模式図である。図8(b)は、部材32の1つが粘着層11から剥離された実施形態を表す断面模式図であり、図8(c)は、全ての部材32が粘着層11から剥離された実施形態を表す断面模式図である。
部材32の粘着層11からの剥離は、例えば、コレットなどの吸着部材を使用して個別に剥離してもよく、又は、全ての部材32上に、他の基板を圧着して、一括して剥離、転写してもよい。
全ての部材32を剥離した粘着シートは、支持板21から剥離してもよい(図8(d)参照)。粘着シートが剥離された支持板21は、別の本発明の粘着シートを固定することにより、再利用することができる。
本発明の粘着シートが基材レス粘着シートである場合は、粘着シート1Bに替えて、図1の粘着シート1Aを用いて、同様にして、本発明の部材加工方法を実施することができる。
以下に実施例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定されるものではない。
〔製造例1〕:アクリル系共重合体(1)の製造
攪拌羽根、温度計、窒素ガス導入管、冷却器を備えた四つ口フラスコに、ブチルアクリレート(日本触媒社製):95重量部、アクリル酸(東亜合成社製):5重量部、重合開始剤として2,2'-アゾビスイソブチロニトリル(和光純薬工業社製):0.2重量部、酢酸エチル:156重量部を仕込み、緩やかに攪拌しながら窒素ガスを導入し、フラスコ内の液温を63℃付近に保って10時間重合反応を行い、重量平均分子量70万のアクリル系共重合体(1)の溶液(固形分:40重量%)を調製した。
〔製造例2〕:アクリル系共重合体(2)の製造
攪拌羽根、温度計、窒素ガス導入管、冷却器を備えた四つ口フラスコに、2-エチルヘキシルアクリレート(2EHA)(日本触媒社製):100重量部、2-ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)(東亞合成社製):4重量部、重合開始剤として2,2'-アゾビスイソブチロニトリル(和光純薬工業社製):0.02重量部、酢酸エチル:180重量部を仕込み、緩やかに攪拌しながら窒素ガスを導入し、フラスコ内の液温を65℃付近に保って6時間重合反応を行い、重量平均分子量56万のアクリル系共重合体(2)の溶液(固形分:35重量%)を調製した。
〔実施例1〕
(粘着シートの作製)
シリコーン系粘着剤1(付加反応型シリコーン系粘着剤、商品名「X-40-3306」、信越化学工業株式会社製):100重量部、白金系触媒1(商品名「CAT-PL-50T」、信越化学工業株式会社製):1.4重量部、シリコーン系剥離剤1(ジメチルポリシロキサンを主成分とした付加反応型のシリコーン系剥離剤、商品名「KS-776A」、信越化学工業株式会社製):5重量部を加え、全体の固形分が25重量%となるようにトルエンで稀釈し、ディスパーで混合してシリコーン系粘着剤組成物(シリコーン系粘着剤組成物1)を調製した。
基材フィルム(1)(一方の面がシリコーンプライマー処理されたポリエステルフィルム、厚み25μm、商品名「ダイアホイル MRF#25」、三菱樹脂株式会社製)のシリコーンプライマー処理された面に、シリコーン系粘着剤組成物1を乾燥後の糊厚みが10μmとなるように塗布し、乾燥温度120℃、乾燥時間5分の条件でキュアーして乾燥した。このようにして基材フィルム(1)のシリコーンプライマー処理層上にシリコーン系粘着剤層(1)を有するフィルムを得た。
なお、シリコーン系粘着フィルムの粘着面上には、はく離ライナー(1)(剥離処理されていないポリエチレンテレフタレートフィルム、厚み25μm、商品名「ルミラーS10#25」、東レ社製)を貼り合わせ、シリコーン系粘着剤層を保護し、〔はく離ライナー(1)層〕/〔シリコーン系粘着剤(1)層〕/〔基材フィルム(1)層〕〕の積層構造を有する積層体(1)を得た。
次いで、製造例1で得られたアクリル系共重合体(1)の溶液に、その固形分100重量部に対して、架橋剤としてTETRAD-C(三菱瓦斯化学社製)を固形分換算で6.0重量部、ロイコ色素(商品名「S-205」、山田化学工業株式会社製)2重量部、光酸発生剤(商品名「CPI-100P」、サンアプロ株式会社製)7重量部を加え、全体の固形分が25重量%となるようにトルエンで希釈し、ディスパーで攪拌したアクリル系粘着剤組成物をはく離ライナー(2)(剥離処理されたポリエチレンテレフタレートフィルム、厚み38μm、商品名「MRF#38」、三菱ケミカル社製)の剥離処理層側にファウンテンロールで乾燥後の厚みが25μmとなるように塗布し、乾燥温度130℃、乾燥時間30秒の条件でキュアーして乾燥した。このようにして、はく離ライナー(2)上にアクリル系粘着剤層(1)を形成した。
次いで、アクリル系粘着剤層(1)の表面に、上記で得られた積層体(1)の基材フィルム(1)側(シリコーンプライマー非処理面)を貼り合わせ、〔はく離ライナー(1)層〕/〔シリコーン系粘着剤(1)層(第1粘着剤層)〕/〔基材フィルム(1)層〕/〔アクリル系粘着剤(1)層(第2粘着剤層)〕/〔はく離ライナー(2)層〕の積層構造を有する粘着シートを得た。
〔実施例2〕
光酸発生剤(商品名「CPI-100P」、サンアプロ株式会社製)に替えて、光酸発生剤(商品名「CPI-110P」、サンアプロ株式会社製)を7重量部配合したこと以外は、実施例1と同様にして、〔はく離ライナー(1)層〕/〔シリコーン系粘着剤(1)層(第1粘着剤層)〕/〔基材フィルム(1)層〕/〔アクリル系粘着剤(2)層(第2粘着剤層)〕/〔はく離ライナー(2)層〕の積層構造を有する粘着シートを得た。
〔実施例3〕
光酸発生剤(商品名「CPI-100P」、サンアプロ株式会社製)に替えて、光酸発生剤(商品名「CPI-310B」、サンアプロ株式会社製)を7重量部配合したこと以外は、実施例1と同様にして、〔はく離ライナー(1)層〕/〔シリコーン系粘着剤(1)層(第1粘着剤層)〕/〔基材フィルム(1)層〕/〔アクリル系粘着剤(3)層(第2粘着剤層)〕/〔はく離ライナー(2)層〕の積層構造を有する粘着シートを得た。
〔実施例4〕
光酸発生剤(商品名「CPI-100P」、サンアプロ株式会社製)に替えて、光酸発生剤(商品名「SP-056」、ADEKA社製)を7重量部配合し、基材フィルム(1)に替えて、基材フィルム(2)(ポリイミドフィルム、厚み25μm、商品名「カプトン100H」、東レデュポン社製)を使用したこと以外は、実施例1と同様にして、〔はく離ライナー(1)層〕/〔シリコーン系粘着剤(1)層(第1粘着剤層)〕/〔基材フィルム(2)層〕/〔アクリル系粘着剤(4)層(第2粘着剤層)〕/〔はく離ライナー(2)層〕の積層構造を有する粘着シートを得た。
〔実施例5〕
基材フィルム(2)に替えて、基材フィルム(3)(TACフィルム、厚み80μm、商品名「フジタックTD80UL」、富士フイルム社製)を使用したこと以外は、実施例4と同様にして、〔はく離ライナー(1)層〕/〔シリコーン系粘着剤(1)層(第1粘着剤層)〕/〔基材フィルム(3)層〕/〔アクリル系粘着剤(4)層(第2粘着剤層)〕/〔はく離ライナー(2)層〕の積層構造を有する粘着シートを得た。
〔実施例6〕
製造例2にて得られたアクリル系共重合体(2)の固形分100重量部に対して、架橋剤としてコロネートHX(東ソー社製)を固形分換算で4.0重量部、架橋触媒としてエンビライザーOL-1(東京ファインケミカル社製)を固形分換算で0.02重量部、ロイコ色素(商品名「S-205」、山田化学工業株式会社製)2重量部、光酸発生剤(商品名「SP-056」、ADEKA社製)7重量部を加え、全体の固形分が25重量%となるように酢酸エチルで希釈し、ディスパーで攪拌し、得られたアクリル系粘着剤組成物をはく離ライナー(2)に塗工した以外は、実施例1と同様にして、〔はく離ライナー(1)層〕/〔シリコーン系粘着剤(1)層(第1粘着剤層)〕/〔基材フィルム(1)層〕/〔アクリル系粘着剤(5)層(第2粘着剤層)〕/〔はく離ライナー(2)層〕の積層構造を有する粘着シートを得た。
〔実施例7〕
プレポリマータイプのウレタン系粘着剤組成物(1)として、サイアバインSH-109(トーヨーケム株式会 社製)の溶液に、その固形分100重量部に対して、架橋剤としてコロネートHX(東ソー社製)を固形分換算で3.0重量部、ロイコ色素(商品名「S-205」、山田化学工業株式会社製)2重量部、光酸発生剤(商品名「SP-056」、ADEKA社製)7重量部を加え、全体の固形分が25重量%となるように酢酸エチルで希釈し、ディスパーで攪拌し、得られたウレタン系粘着剤組成物をはく離ライナー(2)に塗工した以外は、実施例1と同様にして、〔はく離ライナー(1)層〕/〔シリコーン系粘着剤(1)層(第1粘着剤層)〕/〔基材フィルム(1)層〕/〔ウレタン系粘着剤(1)層(第2粘着剤層)〕/〔はく離ライナー(2)層〕の積層構造を有する粘着シートを得た。
〔実施例8〕
シリコーン系粘着剤1(付加反応型シリコーン系粘着剤、商品名「X-40-3306」、信越化学工業株式会社製):100重量部、白金系触媒1(商品名「CAT-PL-50T」、信越化学工業株式会社製):1.4重量部、シリコーン系剥離剤1(ジメチルポリシロキサンを主成分とした付加反応型のシリコーン系剥離剤、商品名「KS-776A」、信越化学工業株式会社製):5重量部、紫外線吸収剤(商品名「TINUVIN 384-2」、BASF社製):5重量部を加え、全体の固形分が25重量%となるようにトルエンで稀釈し、ディスパーで混合してシリコーン系粘着剤組成物(シリコーン系粘着剤組成物2)を調製した。
基材フィルム(4)(COPフィルム、厚み55μm、商品名「ZeonorFilm」、日本ゼオン社製)に、シリコーン系粘着剤組成物2を乾燥後の糊厚みが10μmとなるように塗布し、乾燥温度120℃、乾燥時間5分の条件でキュアーして乾燥した。このようにして基材フィルム(4)上にシリコーン系粘着剤層(2)を有するフィルムを得た。
なお、シリコーン系粘着フィルムの粘着面上には、はく離ライナー(1)(剥離処理されていないポリエチレンテレフタレートフィルム、厚み25μm、商品名「ルミラーS10#25」、東レ社製)を貼り合わせ、シリコーン系粘着剤層を保護し、〔はく離ライナー(1)層〕/〔シリコーン系粘着剤(2)層〕/〔基材フィルム(4)層〕〕の積層構造を有する積層体(2)を得た。
次いで、製造例2で得られたアクリル系共重合体(2)の溶液に、その固形分100重量部に対して、架橋剤としてコロネートHX(東ソー社製)を固形分換算で4.0重量部、ロイコ色素(商品名「S-205」、山田化学工業株式会社製)2重量部、光酸発生剤(商品名「SP-056」、ADEKA社製)7重量部を加え、全体の固形分が25重量%となるようにトルエンで希釈し、ディスパーで攪拌したアクリル系粘着剤組成物をはく離ライナー(2)(剥離処理されたポリエチレンテレフタレートフィルム、厚み38μm、商品名「MRF#38」、三菱ケミカル社製)の剥離処理層側にファウンテンロールで乾燥後の厚みが25μmとなるように塗布し、乾燥温度130℃、乾燥時間30秒の条件でキュアーして乾燥した。このようにして、はく離ライナー(2)上にアクリル系粘着剤層(6)を形成した。
次いで、アクリル系粘着剤層(6)の表面に、上記で得られた積層体(2)の基材フィルム(4)側を貼り合わせ、〔はく離ライナー(1)層〕/〔シリコーン系粘着剤(2)層(第1粘着剤層)〕/〔基材フィルム(4)層〕/〔アクリル系粘着剤(6)層(第2粘着剤層)〕/〔はく離ライナー(2)層〕の積層構造を有する粘着シートを得た。
〔比較例1〕
製造例2にて得られたアクリル系共重合体(2)の固形分100重量部に対して、架橋剤としてTETRAD-C(三菱瓦斯化学社製)を固形分換算で6.0重量部、コロネートHX(東ソー社製)を固形分換算で4.0重量部、ロイコ色素(商品名「S-205」、山田化学工業株式会社製)2重量部を加え、全体の固形分が25重量%となるように酢酸エチルで希釈し、ディスパーで攪拌し、得られたアクリル系粘着剤組成物をはく離ライナー(2)に塗工した以外は、実施例1と同様にして、〔はく離ライナー(1)層〕/〔シリコーン系粘着剤(1)層(第1粘着剤層)〕/〔基材フィルム(1)層〕/〔アクリル系粘着剤(7)層(第2粘着剤層)〕/〔はく離ライナー(2)層〕の積層構造を有する粘着シートを得た。
〔比較例2〕
製造例2にて得られたアクリル系共重合体(2)の固形分100重量部に対して、架橋剤としてTETRAD-C(三菱瓦斯化学社製)を固形分換算で6.0重量部、コロネートHX(東ソー社製)を固形分換算で4.0重量部、光酸発生剤(商品名「SP-056」、ADEKA社製)7重量部を加え、全体の固形分が25重量%となるように酢酸エチルで希釈し、ディスパーで攪拌し、得られたアクリル系粘着剤組成物をはく離ライナー(2)に塗工した以外は、実施例1と同様にして、〔はく離ライナー(1)層〕/〔シリコーン系粘着剤(1)層(第1粘着剤層)〕/〔基材フィルム(1)層〕/〔アクリル系粘着剤(8)層(第2粘着剤層)〕/〔はく離ライナー(2)層〕の積層構造を有する粘着シートを得た。
<評価>
実施例及び比較例で得られた粘着シートについて、以下の評価を行った。結果を表1に示す。
(全光線透過率変化量)
各例にかかる積層構造を有する粘着シートの両面のはく離ライナーを剥離後、光源側に第1粘着層側が配置されるようにヘイズメーター(村上色彩技術研究所製「HM-150」)を用いて、初期の全光線透過率を測定した。
次いで、剥離ライナー(2)越しにUV照射装置(UV LIGHT SOURCE UL750、HOYA社製)を用いて、照度100mW/cm2、積算光量1000mJ/cm2の光を照射し、第2粘着剤層を変色させ、両面のハクリライナーを剥離後、初期と同様にヘイズメーターを用いて変色後の全光線透過率を測定し、初期と変色後の全光線透過率の差の絶対値を全光線透過率の変化量とした。
(アライメント性)
線幅300μmのアライメントマークを具備したフォトマスクを、各例にかかる粘着シートのはく離ライナー(2)上に配置し、フォトマスク越しにUV照射装置(UV LIGHT SOURCE UL750、HOYA社製)を用いて、照度100mW/cm2、積算光量1000mJ/cm2の光を照射し、アライメントマークを作製した。その後、はく離ライナー(2)を剥離し、無アルカリガラスへ第2粘着剤層を貼り合わせ、ガラス越しに、以下方法にてアライメントマークを読み取り評価した。
CCDカメラ:CA-H500C(キーエンス社製)
解析:ShapeTrax3(キーエンス社製)
判定:相関値が90以上であるものを〇、90未満であるものを×として判定。
(シート側からの外光照射による変色)
各例にかかる粘着シートのはく離ライナー(2)を剥離後、第2粘着層を無アルカリガラスへ貼り合わせし、評価用サンプルを作製した。その後、はく離ライナー(1)をはく離し、第1粘着層側から蛍光灯の光が照射 されるように、各実施例および各比較例の粘着シートを、240時間放置し、変色の有無を目視にて確認した。変色が認められなかったものを〇、変色が認められたものを×と判定した。なお、比較例1、2は、アライメント性(変色性)はないため、当然に変色は認められない。
Figure 2023183851000003
本発明のバリエーションを以下に付記する。
〔付記1〕
支持板上に仮固定された部材を加工する方法であって、
外部刺激により変色可能な変色成分を含有する粘着シートを準備する工程と、
前記粘着シートを前記支持板上に固定する工程と、
前記支持板上に固定された前記粘着シートの所定の位置に、前記外部刺激を与えて変色させて、アライメントマークを前記粘着シートに形成する工程と、
前記支持板上に固定された前記粘着シート上に前記部材を仮固定する工程と、
を含む、前記部材の加工方法。
〔付記2〕
前記粘着シート上に前記部材を仮固定する工程において、前記粘着シートに形成された前記アライメントマークを指標にして前記部材を仮固定する、付記1に記載の加工方法。
〔付記3〕
さらに、以下の工程を含む、付記1又は2に記載の加工方法。
前記粘着シート上に仮固定された前記部材に対して、前記仮固定以外の加工を実施する工程
〔付記4〕
前記粘着シートに形成された前記アライメントマークを指標にして前記加工を実施する、付記3に記載の加工方法。
〔付記5〕
さらに、以下の工程を含む、付記1~4のいずれか1つに記載の加工方法。
前記部材を、前記粘着シートから剥離する工程
〔付記6〕
前記部材が、半導体ウェハ又は半導体チップである、付記1~5のいずれか1つに記載の加工方法。
〔付記7〕
前記外部刺激が、活性エネルギー線照射である、付記1~6のいずれか1つに記載の加工方法。
1A 粘着シート
1B 粘着シート
10 粘着剤層
S 基材
11 粘着剤層
12 粘着剤層
110,120 はく離ライナー
21 支持板
22 フォトマスク
23 アライメントマーク(変色部)
U 活性エネルギー線
L レーザー光
P 加工
30 仮固定材
31 部材
32 加工後の部材

Claims (9)

  1. 支持板上に仮固定された部材を加工する方法であって、
    外部刺激により変色可能な変色成分を含有する粘着シートを準備する工程と、
    前記粘着シートを前記支持板上に固定する工程と、
    前記支持板上に固定された前記粘着シートの所定の位置に、前記外部刺激を与えて変色させて、アライメントマークを前記粘着シートに形成する工程と、
    前記支持板上に固定された前記粘着シート上に前記部材を仮固定する工程と、
    を含む、前記部材の加工方法。
  2. 前記粘着シート上に前記部材を仮固定する工程において、前記粘着シートに形成された前記アライメントマークを指標にして前記部材を仮固定する、請求項1に記載の加工方法。
  3. さらに、以下の工程を含む、請求項1に記載の加工方法。
    前記粘着シート上に仮固定された前記部材に対して、前記仮固定以外の加工を実施する工程
  4. さらに、以下の工程を含む、請求項2に記載の加工方法。
    前記粘着シート上に仮固定された前記部材に対して、前記仮固定以外の加工を実施する工程
  5. 前記粘着シートに形成された前記アライメントマークを指標にして前記加工を実施する、請求項3に記載の加工方法。
  6. 前記粘着シートに形成された前記アライメントマークを指標にして前記加工を実施する、請求項4に記載の加工方法。
  7. さらに、以下の工程を含む、請求項1~6のいずれか1項に記載の加工方法。
    前記部材を、前記粘着シートから剥離する工程
  8. 前記部材が、半導体ウェハ又は半導体チップである、請求項1~6のいずれか1項に記載の加工方法。
  9. 前記外部刺激が、活性エネルギー線照射である、請求項1~6のいずれか1項に記載の加工方法。
JP2022097624A 2022-06-16 2022-06-16 部材加工方法 Pending JP2023183851A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022097624A JP2023183851A (ja) 2022-06-16 2022-06-16 部材加工方法
PCT/JP2023/021944 WO2023243636A1 (ja) 2022-06-16 2023-06-13 部材加工方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022097624A JP2023183851A (ja) 2022-06-16 2022-06-16 部材加工方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2023183851A true JP2023183851A (ja) 2023-12-28

Family

ID=89191282

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022097624A Pending JP2023183851A (ja) 2022-06-16 2022-06-16 部材加工方法

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP2023183851A (ja)
WO (1) WO2023243636A1 (ja)

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000223446A (ja) * 1998-11-27 2000-08-11 Denso Corp 半導体装置およびその製造方法
JP2004002840A (ja) * 2002-04-24 2004-01-08 Kamite:Kk 粘着シートおよびその製造方法、並びに該粘着シートを利用する接着方法と該接着方法に使用する冶具
JP2004193399A (ja) * 2002-12-12 2004-07-08 Denso Corp 半導体装置およびその製造方法
JP6043959B2 (ja) * 2013-03-26 2016-12-14 パナソニックIpマネジメント株式会社 半導体パッケージの製造方法、半導体チップ支持キャリア及びチップ搭載装置

Also Published As

Publication number Publication date
WO2023243636A1 (ja) 2023-12-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7252697B2 (ja) 表面保護フィルム
KR102152605B1 (ko) 보호막 형성용 필름
JP6546806B2 (ja) セパレータ付き光学用表面保護フィルム
JP7416626B2 (ja) 粘着シート及び半導体装置の製造方法
WO2017078052A1 (ja) 第1保護膜形成用シート
JPWO2018181765A1 (ja) 粘着シート
WO2020188984A1 (ja) 粘着剤、中間積層体の製造方法および中間積層体
JPWO2014199992A1 (ja) 粘着シート及び粘着シートを用いた電子部品の製造方法
TWI638845B (zh) 熱固化性樹脂膜與第二保護膜形成膜的組件、熱固化性樹脂膜、第一保護膜形成用片以及半導體晶圓用第一保護膜的形成方法
WO2023243636A1 (ja) 部材加工方法
WO2022131306A1 (ja) 転写用両面粘着シート
WO2023243634A1 (ja) 転写シート
US20040067329A1 (en) Transparent adhesive sheet
TW202408792A (zh) 轉印片材
KR102499644B1 (ko) 적층체
TW202411372A (zh) 構件加工方法
KR102509251B1 (ko) 점착 시트
JP6692968B2 (ja) セパレータ付き光学用表面保護フィルム
WO2022255165A1 (ja) 積層フィルム
WO2022131305A1 (ja) 転写用両面粘着シート
TWI832965B (zh) 黏著劑、中間積層體之製造方法及中間積層體
JP2022183681A (ja) 転写用両面粘着シート
KR20190003457A (ko) 보호막 형성용 필름 및 보호막 형성용 복합 시트
JP7465099B2 (ja) 保護膜形成用複合シート、及び保護膜付きチップの製造方法
JP2022097357A (ja) 転写用両面粘着シート