JP2023168218A - 化学強化後ガラス基板の製造方法、化学強化後ガラス基板のリワーク方法及び化学強化後ガラス基板 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 594
- 239000005345 chemically strengthened glass Substances 0.000 title claims abstract description 345
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 144
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 70
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 369
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 218
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 claims abstract description 199
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims abstract description 105
- VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N sodium nitrate Chemical compound [Na+].[O-][N+]([O-])=O VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 35
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 22
- 235000010344 sodium nitrate Nutrition 0.000 claims abstract description 18
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 claims abstract description 11
- 238000004064 recycling Methods 0.000 claims abstract description 6
- 238000003426 chemical strengthening reaction Methods 0.000 claims description 182
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 109
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 claims description 45
- 230000002950 deficient Effects 0.000 claims description 35
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 28
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 claims description 25
- 229910013553 LiNO Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 claims description 21
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 16
- IIPYXGDZVMZOAP-UHFFFAOYSA-N lithium nitrate Chemical compound [Li+].[O-][N+]([O-])=O IIPYXGDZVMZOAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 claims description 12
- 239000002699 waste material Substances 0.000 claims description 11
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 claims description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 9
- 239000006058 strengthened glass Substances 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 46
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 38
- 230000008569 process Effects 0.000 description 36
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 20
- 230000008859 change Effects 0.000 description 15
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 14
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 11
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 9
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 9
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 7
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 7
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 6
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 6
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 4
- 239000004317 sodium nitrate Substances 0.000 description 4
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 description 4
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 3
- 239000002440 industrial waste Substances 0.000 description 3
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004323 potassium nitrate Substances 0.000 description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 2
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 2
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N Lithium ion Chemical compound [Li+] HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003251 Na K Inorganic materials 0.000 description 1
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 239000005407 aluminoborosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000004069 differentiation Effects 0.000 description 1
- 238000003280 down draw process Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000008235 industrial water Substances 0.000 description 1
- 239000005355 lead glass Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007726 management method Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 1
- 238000007500 overflow downdraw method Methods 0.000 description 1
- 229910001414 potassium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-OUBTZVSYSA-N potassium-40 Chemical compound [40K] ZLMJMSJWJFRBEC-OUBTZVSYSA-N 0.000 description 1
- 238000007372 rollout process Methods 0.000 description 1
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
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Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
【課題】本発明は、外観および強度特性に優れた高品質な化学強化後ガラスとして再生する、化学強化後ガラス基板の製造方法及びリワーク方法の提供を目的とする。【解決手段】本発明は、主表面と端面とを有する化学強化後ガラス基板の製造方法であって、（Ａ）主表面と端面とを有する化学強化後ガラス基板Ａを準備すること、（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得ること、（Ｃ）前記ガラス基板を、９０質量％以上のＫＮＯ３及び１．０質量％以上６．０質量％以下のＮａＮＯ３を含有する無機塩組成物に接触させてイオン交換を行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得ること、を含む化学強化後ガラス基板の製造方法に関する。【選択図】なし
Description
本発明は化学強化後ガラス基板の製造方法、化学強化後ガラス基板のリワーク方法及び化学強化後ガラス基板に関する。
従来、様々な情報端末装置等のディスプレイ用のカバーガラスとして、薄型ながら割れ等に強いことから、イオン交換等の化学強化によりガラス表面に圧縮応力層を形成した化学強化後ガラスが用いられている。
化学強化後ガラスは表面に圧縮応力層を有することから、外観の傷や表面異物は爆発的な破砕や強度の大幅な低下につながるおそれがある。したがって、化学強化後に所望の外観基準を満足しないもの、例えば、基準を下回るレベルの外観の傷や表面異物が生じると廃棄せざるを得ない場合があった。
外観の傷や表面異物といった欠陥は研磨工程によって除去できる。特に傷や表面異物が深さを持つ場合には、その深さに相当する量の研磨を実施することで欠陥を除去できる。かかる研磨工程とは研磨材を用いた物理研磨と、化学薬品を用いた化学反応による化学研磨（エッチング）との両方を含む。
化学強化後の表面に圧縮応力を有するガラスでも、研磨工程によって傷や表面異物といった欠陥を除去できる。しかし、研磨によって表層部の圧縮応力層も除去されてしまう。そのため、化学強化後のガラスを研磨するプロセスでは、圧縮応力層を再度形成するプロセスが必要になる。
化学強化後ガラスの圧縮応力層を除去し再度、圧縮応力層を形成する方法として、例えば、特許文献１には、化学強化したガラスの主表面に形成された圧縮応力層の一部または全部を除去した後、化学強化工程により圧縮応力層を再度形成する（以下、再強化とも略す。）方法が開示されている。
特許文献１は化学強化後ガラスの再生（以下、リワークとも略す。）を開示するものではないが、圧縮応力層の除去後に、再度圧縮応力層を形成する、という点で、圧縮応力層の再調整は可能である。
しかしながら、化学強化後ガラス表面の圧縮応力層の一部又は全部を除去した後に化学強化処理をすると、ガラス表面及び内部に当該除去前の化学強化により導入されたイオンが残存することとなる。
そのため、同じプロセスで化学強化を実施するとガラスに再度イオンが供給されてガラスが膨張し、所望の基板形状が得られないという問題がある。一方で、膨張を抑制するために再強化時の強化時間を短縮すると、イオン交換量が不足し、深層の応力が上げられず、所望の強度特性を得られない。
したがって、本発明は、傷や表面異物を有する化学強化後ガラス基板を外観および強度特性に優れた高品質な化学強化後ガラスとして再生する、化学強化後ガラス基板の製造方法及びリワーク方法の提供を目的とする。
上記課題を検討した結果、本発明者らは、化学強化後ガラス基板の表面を研磨した後に、特定範囲の組成を有する無機塩組成物と接触させてイオン交換することにより、ガラス表層部だけでなくガラス深層部における圧縮応力を十分に導入できることを見出し、本発明を完成させた。
１．（Ａ）主表面と端面とを有する化学強化後ガラス基板Ａを準備すること、
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得ること、並びに
（Ｃ）前記ガラス基板を、９０質量％以上のＫＮＯ３及び１．０質量％以上６．０質量％以下のＮａＮＯ３を含有する無機塩組成物に接触させてイオン交換を行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得ること、を含む化学強化後ガラス基板の製造方法。
２．（Ａ）主表面と端面とを有する化学強化後ガラス基板Ａを準備すること、
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得ること、並びに
（Ｃ）前記ガラス基板を、９０質量％以上のＫＮＯ３、０質量％以上５．０質量％未満のＮａＮＯ３及び０質量％以上１．０質量％未満のＬｉＮＯ３を含有する無機塩組成物に接触させるイオン交換を少なくとも１回行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得ること、を含む化学強化後ガラス基板の製造方法。
３．（Ａ）主表面と端面とを有する化学強化用ガラス基板に１次無機塩組成物を接触させて、主表面と端面とを有する化学強化後ガラス基板Ａを準備すること、
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得ること、並びに
（Ｃ）前記ガラス基板を、２次無機塩組成物に接触させるイオン交換を少なくとも１回行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得ること、を含む化学強化後ガラス基板の製造方法であって、
前記（Ａ）における前記１次無機塩組成物の累積処理面積が０．２ｍ２／ｋｇ未満である場合には、前記（Ｃ）における前記２次無機塩組成物を９０質量％以上のＫＮＯ３及び０質量％以上１．０質量％未満のＬｉＮＯ３を含有する無機塩組成物とし、
前記（Ａ）における前記１次無機塩組成物の累積処理面積が０．２ｍ２／ｋｇ以上である場合には、前記（Ｃ）における前記２次無機塩組成物を９０質量％以上のＫＮＯ３及び０質量％以上５．０質量％未満のＮａＮＯ３及び０質量％以上１．０質量％未満のＬｉＮＯ３を含有する無機塩組成物とする、化学強化後ガラス基板の製造方法。
４．（Ａ）主表面と端面とを有する化学強化後ガラス基板Ａを準備すること、
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得ること、並びに
（Ｃ）前記ガラス基板を、２次無機塩組成物に接触させるイオン交換を少なくとも１回行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得ること、を含む化学強化後ガラス基板の製造方法であって、引張応力ＣＴ（ＭＰａ）について、
前記化学強化後ガラス基板ＣのＣＴを化学強化後ガラス基板ＡのＣＴで除した値が０．９０以上１．２０以下である、化学強化後ガラス基板の製造方法。
５．（Ａ）主表面と端面とを有する化学強化後ガラス基板Ａを準備すること、
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得ること、並びに
（Ｃ）前記ガラス基板を、２次無機塩組成物に接触させるイオン交換を少なくとも１回行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得ること、を含む化学強化後ガラス基板の製造方法であって、引張応力ＣＴ（ＭＰａ）について、
前記（Ａ）における前記１次無機塩組成物の累積処理面積が０．２ｍ２／ｋｇ未満である場合に、前記化学強化後ガラス基板ＣのＣＴを化学強化後ガラス基板ＡのＣＴで除した値が０．９０以上１．１０以下であり、
前記（Ａ）における前記１次無機塩組成物の累積処理面積が０．２ｍ２／ｋｇ以上である場合に、前記化学強化後ガラス基板ＣのＣＴを化学強化後ガラス基板ＡのＣＴで除した値が０．９０以上１．２０以下である、化学強化後ガラス基板の製造方法。
６．下記で定義される前記化学強化後ガラス基板Ｃの強化膨張率を前記化学強化後ガラス基板Ａの強化膨張率で除した値が０．９０以上１．１０以下である、前記１～５のいずれか１に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。
強化膨張率（％）＝｛［（化学強化後ガラス基板Ｃの寸法）－（化学強化前ガラス基板の寸法）］／（化学強化前ガラス基板の寸法）］｝×１００
７．前記（Ａ）と前記（Ｂ）との間に、
（Ａ’）前記化学強化後ガラス基板Ａ表面の外観検査を行うこと、を含み、
前記外観検査の結果が所定の基準を満たさないと判定された場合、前記（Ｂ）を行う、前記１～６のいずれか１に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。
８．前記（Ｂ）及び（Ｃ）を繰り返し行う、前記１～７のいずれか１に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。
９．前記（Ｃ）の後に、（Ｃ’）前記化学強化後ガラス基板Ｃの応力値を測定し、前記応力値が所定の基準を満たすか否かを判定すること、を含み、
前記応力値が所定の基準を満たすまで、前記（Ｂ）から前記（Ｃ’）までを繰り返し行う、前記１～８のいずれか１に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。
１０．前記（Ｃ’）において、前記応力値が所定の基準を満たす場合、さらに、
（Ｄ）前記化学強化後ガラス基板Ｃの外観検査を行い、前記外観検査の結果が所定の基準を満たすか否かを判定すること、を含み、
前記外観検査の結果が所定の基準を満たすまで、前記（Ｂ）から前記（Ｄ）までを繰り返し行う、前記９に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。
１１．前記（Ｂ）において、前記化学強化後ガラス基板Ａの主表面あたりの研磨量が０．５μｍ以上である、前記１～１０のいずれか１に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。
１２．前記化学強化後ガラス基板Ａが前記主表面と前記端面とを有し、前記主表面に平面部及び曲面部を含み、且つ前記主表面の前記平面部に垂直な方向に前記端面を形成し、
前記端面での前記平面部との水平方向における最突出部である点Ａと、
前記点Ａを起点とした前記曲面部の不連続点である点Ｂと、
前記平面部に対する前記点Ａを起点とする平行線と前記平面部に対する前記点Ｂを起点とする法線の交点を点Ｃとし、
前記（Ａ）において、前記化学強化後ガラス基板Ａにおける前記点Ａと前記点Ｃの距離をＸ０、前記点Ｂと前記点Ｃの距離をＹ０、前記平面部中央の最大板厚をｔ０とし、
前記（Ｂ）から前記（Ｄ）をｎ回繰り返した前記化学強化後ガラス基板Ｃにおける前記点Ａと前記点Ｃの距離をＸｎ、前記点Ｂと前記点Ｃの距離をＹｎ、前記平面部中央の板厚をｔｎと定義した場合に、
（Ｘｎ／ｔｎ）／（Ｘ０／ｔ０）＞１及び
（Ｙｎ／ｔｎ）／（Ｙ０／ｔ０）＞１
の関係式を満たす、前記１～１０のいずれか１に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。但し、ｎは１以上の整数である。
１３．前記化学強化後ガラス基板Ａが前記主表面と前記端面とを有し、且つ前記主表面に平面部及び曲げ部を含み、
前記（Ｂ）から前記（Ｄ）を１回以上繰り返した前記化学強化後ガラス基板Ｃにおける、前記曲げ部の変曲点から前記端面までの前記曲げ部の最大厚みをｔｃ、前記平面部中央の厚みをｔｆと定義した場合に、
ｔｆ／ｔｃ＜０．９６
の関係式を満たす、前記１～１１のいずれか１に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。
１４．主表面と端面とを有し、且つ前記主表面に平面部及び曲げ部を含む化学強化後ガラス基板であって、前記曲げ部の変曲点から前記端面までの前記曲げ部の最大厚みをｔｃ’、前記平面部中央の厚みをｔｆ’と定義した場合に、
ｔｆ’／ｔｃ’＜０．９６
の関係式を満たす、化学強化後ガラス基板。
１５．前記（Ｂ）および前記（Ｃ）をＺ［回］行い、前記（Ｃ）で得られる前記化学強化後ガラス基板Ｃにおける一方の主面あたりの総研磨量をａ［μｍ］、板厚公差を±ｂ［μｍ］と定義した場合に、
Ｚ［回］＝ａ／ｂ
の関係式を満たす、前記１～１３のいずれか１に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。Ｚは１以上の整数である。
１６．前記（Ｂ）および前記（Ｃ）をｋ回行い、前記（Ｃ）で得られる前記化学強化後ガラス基板Ｃ中の良品率をＰｋ、前記（Ｂ）と前記（Ｃ）の良品歩留をａと定義した場合に、
Ｐｋ≧Ｐｋ－１＋（１－Ｐｋ－１）×ａ
の関係式を満たす、前記１～１３及び１５のいずれか１に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。ｋは１以上の整数である。
１７．前記（Ａ）における前記化学強化後ガラス基板Ａ中の不良品率から、前記（Ｃ）で得られる前記化学強化後ガラス基板Ｃ中の不良品率を減じた値が、１０％以上である、前記１～１３、１５及び１６のいずれか１に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。
１８．ガラス表層における圧縮応力の値をＣＳ０［ＭＰａ］、ガラス表面から深さ５０μｍにおける圧縮応力の値をＣＳ５０［ＭＰａ］、
前記（Ａ）における前記化学強化後ガラス基板ＡのＣＳ５０［ＭＰａ］をＣ５０（ａ）、前記（Ｃ）における前記化学強化後ガラス基板ＣのＣＳ５０［ＭＰａ］をＣＳ５０（ｃ）とした場合に、
（式）ＣＳ５０（ｃ）／ＣＳ５０（ａ）×１００
で表されるＣＳ５０（ａ）に対するＣ５０（ｃ）の割合が７０％以上であり、且つ
前記（Ｃ）で得られる前記化学強化後ガラス基板ＣのＣＳ０が７５０ＭＰａ以上である、前記１～１３及び１５～１７のいずれか１に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。
１９．前記（Ｃ）における前記無機塩組成物は、前記ガラス基板に対する累積処理面積が０．２ｍ２／ｋｇ以上である、前記１～１３及び１５～１８のいずれか１に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。
２０．前記（Ｃ）における前記イオン交換の条件が、３６０℃以上４５０℃以下にて５分間以上８時間以下である、前記１～１３及び１５～２０のいずれか１に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。
２１．化学強化後ガラス基板のリワーク方法であって、
（Ａ）主表面と端面とを有する前記化学強化後ガラス基板Ａを準備すること、
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得ること、および
（Ｃ）前記研磨したガラス基板を、９０質量％以上のＫＮＯ３及び１．０質量％以上６．０質量％以下のＮａＮＯ３を含有する無機塩組成物に接触させてイオン交換を行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得ること、を含み、
ガラス表層における圧縮応力の値をＣＳ０［ＭＰａ］、表面からの深さ５０μｍにおける圧縮応力の値をＣＳ５０［ＭＰａ］、
前記（Ａ）における前記化学強化後ガラス基板ＡのＣＳ５０［ＭＰａ］をＣＳ５０（ａ）、前記（Ｃ）における前記化学強化後ガラス基板ＣのＣＳ５０［ＭＰａ］をＣＳ５０（ｃ）とした場合に、（式）ＣＳ５０（ｃ）／ＣＳ５０（ａ）×１００で表されるＣＳ５０（ａ）に対するＣＳ５０（ｃ）の割合が７０％以上であり、且つ
前記（Ｃ）で得られる前記化学強化後ガラス基板のＣＳ０が７５０ＭＰａ以上である、化学強化後ガラス基板のリワーク方法。
２２．化学強化後ガラス基板のリワーク方法であって、
（Ａ）主表面と端面とを有する前記化学強化後ガラス基板Ａを準備すること、
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得ること、
（Ｃ）前記研磨したガラス基板を、９０質量％以上のＫＮＯ３及び１．０質量％以上６．０質量％以下のＮａＮＯ３を含有する無機塩組成物に接触させてイオン交換を行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得ることおよび
（Ｃ’）前記化学強化後ガラス基板Ｃの応力値を測定し、前記応力値が所定の基準を満たすか否かを判定すること、を含み、
前記（Ｃ’）において前記応力値が所定の基準を満たすまで、前記（Ｂ）および前記（Ｃ’）までを繰り返し、且つ
前記応力値が所定の基準を満たす場合、（Ｄ）前記化学強化後ガラス基板Ｃの外観検査を行い、前記外観検査の結果が所定の基準を満たすか否かを判定することを含み、
前記外観検査の結果が所定の基準を満たすまで、前記（Ｂ）から前記（Ｄ）までを繰り返し行い、
前記（Ａ）における前記化学強化後ガラス基板Ａ中の不良品率から、前記（Ｃ）で得られる前記化学強化後ガラス基板Ｃ中の不良品率を減じた値が、１０％以上である、化学強化後ガラス基板のリワーク方法。
２３．化学強化後ガラス基板のリワーク方法であって、
（Ａ）主表面と端面とを有する前記化学強化後ガラス基板Ａを準備すること、
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得ること、
（Ｃ）前記研磨したガラス基板を、９０質量％以上のＫＮＯ３、０質量％以上５．０質量％未満のＮａＮＯ３及び０質量％以上１．０質量％未満のＬｉＮＯ３を含有する無機塩組成物に接触させてイオン交換を少なくとも１回行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得ることおよび
（Ｃ’）前記化学強化後ガラス基板Ｃの応力値を測定し、前記応力値が所定の基準を満たすか否かを判定すること、を含み、
前記（Ｃ’）において前記応力値が所定の基準を満たすまで、前記（Ｂ）および前記（Ｃ’）までを繰り返し、且つ
前記応力値が所定の基準を満たす場合、（Ｄ）前記化学強化後ガラス基板Ｃの外観検査を行い、前記外観検査の結果が所定の基準を満たすか否かを判定することを含み、
前記外観検査の結果が所定の基準を満たすまで、前記（Ｂ）から前記（Ｄ）までを繰り返し行い、
前記（Ａ）における前記化学強化後ガラス基板Ａ中の不良品率から、前記（Ｃ）で得られる前記化学強化後ガラス基板Ｃ中の不良品率を減じた値が、１０％以上である、化学強化後ガラス基板のリワーク方法。
２４．化学強化後ガラス基板の製造方法であって、研磨すること及び化学強化することを含む再生処理により、廃棄物の総排出量を削減する、化学強化後ガラス基板の製造方法。
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得ること、並びに
（Ｃ）前記ガラス基板を、９０質量％以上のＫＮＯ３及び１．０質量％以上６．０質量％以下のＮａＮＯ３を含有する無機塩組成物に接触させてイオン交換を行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得ること、を含む化学強化後ガラス基板の製造方法。
２．（Ａ）主表面と端面とを有する化学強化後ガラス基板Ａを準備すること、
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得ること、並びに
（Ｃ）前記ガラス基板を、９０質量％以上のＫＮＯ３、０質量％以上５．０質量％未満のＮａＮＯ３及び０質量％以上１．０質量％未満のＬｉＮＯ３を含有する無機塩組成物に接触させるイオン交換を少なくとも１回行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得ること、を含む化学強化後ガラス基板の製造方法。
３．（Ａ）主表面と端面とを有する化学強化用ガラス基板に１次無機塩組成物を接触させて、主表面と端面とを有する化学強化後ガラス基板Ａを準備すること、
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得ること、並びに
（Ｃ）前記ガラス基板を、２次無機塩組成物に接触させるイオン交換を少なくとも１回行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得ること、を含む化学強化後ガラス基板の製造方法であって、
前記（Ａ）における前記１次無機塩組成物の累積処理面積が０．２ｍ２／ｋｇ未満である場合には、前記（Ｃ）における前記２次無機塩組成物を９０質量％以上のＫＮＯ３及び０質量％以上１．０質量％未満のＬｉＮＯ３を含有する無機塩組成物とし、
前記（Ａ）における前記１次無機塩組成物の累積処理面積が０．２ｍ２／ｋｇ以上である場合には、前記（Ｃ）における前記２次無機塩組成物を９０質量％以上のＫＮＯ３及び０質量％以上５．０質量％未満のＮａＮＯ３及び０質量％以上１．０質量％未満のＬｉＮＯ３を含有する無機塩組成物とする、化学強化後ガラス基板の製造方法。
４．（Ａ）主表面と端面とを有する化学強化後ガラス基板Ａを準備すること、
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得ること、並びに
（Ｃ）前記ガラス基板を、２次無機塩組成物に接触させるイオン交換を少なくとも１回行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得ること、を含む化学強化後ガラス基板の製造方法であって、引張応力ＣＴ（ＭＰａ）について、
前記化学強化後ガラス基板ＣのＣＴを化学強化後ガラス基板ＡのＣＴで除した値が０．９０以上１．２０以下である、化学強化後ガラス基板の製造方法。
５．（Ａ）主表面と端面とを有する化学強化後ガラス基板Ａを準備すること、
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得ること、並びに
（Ｃ）前記ガラス基板を、２次無機塩組成物に接触させるイオン交換を少なくとも１回行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得ること、を含む化学強化後ガラス基板の製造方法であって、引張応力ＣＴ（ＭＰａ）について、
前記（Ａ）における前記１次無機塩組成物の累積処理面積が０．２ｍ２／ｋｇ未満である場合に、前記化学強化後ガラス基板ＣのＣＴを化学強化後ガラス基板ＡのＣＴで除した値が０．９０以上１．１０以下であり、
前記（Ａ）における前記１次無機塩組成物の累積処理面積が０．２ｍ２／ｋｇ以上である場合に、前記化学強化後ガラス基板ＣのＣＴを化学強化後ガラス基板ＡのＣＴで除した値が０．９０以上１．２０以下である、化学強化後ガラス基板の製造方法。
６．下記で定義される前記化学強化後ガラス基板Ｃの強化膨張率を前記化学強化後ガラス基板Ａの強化膨張率で除した値が０．９０以上１．１０以下である、前記１～５のいずれか１に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。
強化膨張率（％）＝｛［（化学強化後ガラス基板Ｃの寸法）－（化学強化前ガラス基板の寸法）］／（化学強化前ガラス基板の寸法）］｝×１００
７．前記（Ａ）と前記（Ｂ）との間に、
（Ａ’）前記化学強化後ガラス基板Ａ表面の外観検査を行うこと、を含み、
前記外観検査の結果が所定の基準を満たさないと判定された場合、前記（Ｂ）を行う、前記１～６のいずれか１に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。
８．前記（Ｂ）及び（Ｃ）を繰り返し行う、前記１～７のいずれか１に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。
９．前記（Ｃ）の後に、（Ｃ’）前記化学強化後ガラス基板Ｃの応力値を測定し、前記応力値が所定の基準を満たすか否かを判定すること、を含み、
前記応力値が所定の基準を満たすまで、前記（Ｂ）から前記（Ｃ’）までを繰り返し行う、前記１～８のいずれか１に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。
１０．前記（Ｃ’）において、前記応力値が所定の基準を満たす場合、さらに、
（Ｄ）前記化学強化後ガラス基板Ｃの外観検査を行い、前記外観検査の結果が所定の基準を満たすか否かを判定すること、を含み、
前記外観検査の結果が所定の基準を満たすまで、前記（Ｂ）から前記（Ｄ）までを繰り返し行う、前記９に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。
１１．前記（Ｂ）において、前記化学強化後ガラス基板Ａの主表面あたりの研磨量が０．５μｍ以上である、前記１～１０のいずれか１に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。
１２．前記化学強化後ガラス基板Ａが前記主表面と前記端面とを有し、前記主表面に平面部及び曲面部を含み、且つ前記主表面の前記平面部に垂直な方向に前記端面を形成し、
前記端面での前記平面部との水平方向における最突出部である点Ａと、
前記点Ａを起点とした前記曲面部の不連続点である点Ｂと、
前記平面部に対する前記点Ａを起点とする平行線と前記平面部に対する前記点Ｂを起点とする法線の交点を点Ｃとし、
前記（Ａ）において、前記化学強化後ガラス基板Ａにおける前記点Ａと前記点Ｃの距離をＸ０、前記点Ｂと前記点Ｃの距離をＹ０、前記平面部中央の最大板厚をｔ０とし、
前記（Ｂ）から前記（Ｄ）をｎ回繰り返した前記化学強化後ガラス基板Ｃにおける前記点Ａと前記点Ｃの距離をＸｎ、前記点Ｂと前記点Ｃの距離をＹｎ、前記平面部中央の板厚をｔｎと定義した場合に、
（Ｘｎ／ｔｎ）／（Ｘ０／ｔ０）＞１及び
（Ｙｎ／ｔｎ）／（Ｙ０／ｔ０）＞１
の関係式を満たす、前記１～１０のいずれか１に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。但し、ｎは１以上の整数である。
１３．前記化学強化後ガラス基板Ａが前記主表面と前記端面とを有し、且つ前記主表面に平面部及び曲げ部を含み、
前記（Ｂ）から前記（Ｄ）を１回以上繰り返した前記化学強化後ガラス基板Ｃにおける、前記曲げ部の変曲点から前記端面までの前記曲げ部の最大厚みをｔｃ、前記平面部中央の厚みをｔｆと定義した場合に、
ｔｆ／ｔｃ＜０．９６
の関係式を満たす、前記１～１１のいずれか１に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。
１４．主表面と端面とを有し、且つ前記主表面に平面部及び曲げ部を含む化学強化後ガラス基板であって、前記曲げ部の変曲点から前記端面までの前記曲げ部の最大厚みをｔｃ’、前記平面部中央の厚みをｔｆ’と定義した場合に、
ｔｆ’／ｔｃ’＜０．９６
の関係式を満たす、化学強化後ガラス基板。
１５．前記（Ｂ）および前記（Ｃ）をＺ［回］行い、前記（Ｃ）で得られる前記化学強化後ガラス基板Ｃにおける一方の主面あたりの総研磨量をａ［μｍ］、板厚公差を±ｂ［μｍ］と定義した場合に、
Ｚ［回］＝ａ／ｂ
の関係式を満たす、前記１～１３のいずれか１に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。Ｚは１以上の整数である。
１６．前記（Ｂ）および前記（Ｃ）をｋ回行い、前記（Ｃ）で得られる前記化学強化後ガラス基板Ｃ中の良品率をＰｋ、前記（Ｂ）と前記（Ｃ）の良品歩留をａと定義した場合に、
Ｐｋ≧Ｐｋ－１＋（１－Ｐｋ－１）×ａ
の関係式を満たす、前記１～１３及び１５のいずれか１に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。ｋは１以上の整数である。
１７．前記（Ａ）における前記化学強化後ガラス基板Ａ中の不良品率から、前記（Ｃ）で得られる前記化学強化後ガラス基板Ｃ中の不良品率を減じた値が、１０％以上である、前記１～１３、１５及び１６のいずれか１に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。
１８．ガラス表層における圧縮応力の値をＣＳ０［ＭＰａ］、ガラス表面から深さ５０μｍにおける圧縮応力の値をＣＳ５０［ＭＰａ］、
前記（Ａ）における前記化学強化後ガラス基板ＡのＣＳ５０［ＭＰａ］をＣ５０（ａ）、前記（Ｃ）における前記化学強化後ガラス基板ＣのＣＳ５０［ＭＰａ］をＣＳ５０（ｃ）とした場合に、
（式）ＣＳ５０（ｃ）／ＣＳ５０（ａ）×１００
で表されるＣＳ５０（ａ）に対するＣ５０（ｃ）の割合が７０％以上であり、且つ
前記（Ｃ）で得られる前記化学強化後ガラス基板ＣのＣＳ０が７５０ＭＰａ以上である、前記１～１３及び１５～１７のいずれか１に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。
１９．前記（Ｃ）における前記無機塩組成物は、前記ガラス基板に対する累積処理面積が０．２ｍ２／ｋｇ以上である、前記１～１３及び１５～１８のいずれか１に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。
２０．前記（Ｃ）における前記イオン交換の条件が、３６０℃以上４５０℃以下にて５分間以上８時間以下である、前記１～１３及び１５～２０のいずれか１に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。
２１．化学強化後ガラス基板のリワーク方法であって、
（Ａ）主表面と端面とを有する前記化学強化後ガラス基板Ａを準備すること、
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得ること、および
（Ｃ）前記研磨したガラス基板を、９０質量％以上のＫＮＯ３及び１．０質量％以上６．０質量％以下のＮａＮＯ３を含有する無機塩組成物に接触させてイオン交換を行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得ること、を含み、
ガラス表層における圧縮応力の値をＣＳ０［ＭＰａ］、表面からの深さ５０μｍにおける圧縮応力の値をＣＳ５０［ＭＰａ］、
前記（Ａ）における前記化学強化後ガラス基板ＡのＣＳ５０［ＭＰａ］をＣＳ５０（ａ）、前記（Ｃ）における前記化学強化後ガラス基板ＣのＣＳ５０［ＭＰａ］をＣＳ５０（ｃ）とした場合に、（式）ＣＳ５０（ｃ）／ＣＳ５０（ａ）×１００で表されるＣＳ５０（ａ）に対するＣＳ５０（ｃ）の割合が７０％以上であり、且つ
前記（Ｃ）で得られる前記化学強化後ガラス基板のＣＳ０が７５０ＭＰａ以上である、化学強化後ガラス基板のリワーク方法。
２２．化学強化後ガラス基板のリワーク方法であって、
（Ａ）主表面と端面とを有する前記化学強化後ガラス基板Ａを準備すること、
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得ること、
（Ｃ）前記研磨したガラス基板を、９０質量％以上のＫＮＯ３及び１．０質量％以上６．０質量％以下のＮａＮＯ３を含有する無機塩組成物に接触させてイオン交換を行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得ることおよび
（Ｃ’）前記化学強化後ガラス基板Ｃの応力値を測定し、前記応力値が所定の基準を満たすか否かを判定すること、を含み、
前記（Ｃ’）において前記応力値が所定の基準を満たすまで、前記（Ｂ）および前記（Ｃ’）までを繰り返し、且つ
前記応力値が所定の基準を満たす場合、（Ｄ）前記化学強化後ガラス基板Ｃの外観検査を行い、前記外観検査の結果が所定の基準を満たすか否かを判定することを含み、
前記外観検査の結果が所定の基準を満たすまで、前記（Ｂ）から前記（Ｄ）までを繰り返し行い、
前記（Ａ）における前記化学強化後ガラス基板Ａ中の不良品率から、前記（Ｃ）で得られる前記化学強化後ガラス基板Ｃ中の不良品率を減じた値が、１０％以上である、化学強化後ガラス基板のリワーク方法。
２３．化学強化後ガラス基板のリワーク方法であって、
（Ａ）主表面と端面とを有する前記化学強化後ガラス基板Ａを準備すること、
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得ること、
（Ｃ）前記研磨したガラス基板を、９０質量％以上のＫＮＯ３、０質量％以上５．０質量％未満のＮａＮＯ３及び０質量％以上１．０質量％未満のＬｉＮＯ３を含有する無機塩組成物に接触させてイオン交換を少なくとも１回行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得ることおよび
（Ｃ’）前記化学強化後ガラス基板Ｃの応力値を測定し、前記応力値が所定の基準を満たすか否かを判定すること、を含み、
前記（Ｃ’）において前記応力値が所定の基準を満たすまで、前記（Ｂ）および前記（Ｃ’）までを繰り返し、且つ
前記応力値が所定の基準を満たす場合、（Ｄ）前記化学強化後ガラス基板Ｃの外観検査を行い、前記外観検査の結果が所定の基準を満たすか否かを判定することを含み、
前記外観検査の結果が所定の基準を満たすまで、前記（Ｂ）から前記（Ｄ）までを繰り返し行い、
前記（Ａ）における前記化学強化後ガラス基板Ａ中の不良品率から、前記（Ｃ）で得られる前記化学強化後ガラス基板Ｃ中の不良品率を減じた値が、１０％以上である、化学強化後ガラス基板のリワーク方法。
２４．化学強化後ガラス基板の製造方法であって、研磨すること及び化学強化することを含む再生処理により、廃棄物の総排出量を削減する、化学強化後ガラス基板の製造方法。
本発明の化学強化後ガラス基板の製造方法及びリワーク方法によれば、化学強化後ガラス基板の表面における圧縮応力層を一部又は全部を除去した後に、特定範囲の組成を有する無機塩組成物を用いてイオン交換することにより、ガラス表層部だけでなくガラス深層部における圧縮応力値を効果的に増加できる。これにより、化学強化後に所望の外観基準を満足しない化学強化後ガラス基板を、外観とともに強度特性に優れた、高品質な化学強化後ガラス基板として再生できる。また、従来であれば産業廃棄物として廃棄されていた化学強化後ガラス基板を高品質な状態で再生できることから、歩留まりを向上するとともに、産業廃棄物の減少に寄与できる。
以下、本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、任意に変形して実施できる。
本明細書において数値範囲を示す「～」とは、その前後に記載された数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。また、本明細書において、ガラスの組成（各成分の含有量）について、特に断らない限り、酸化物基準のモル百分率表示で説明する。
本明細書において、化学強化後ガラス基板のリワークする方法を「研磨リワーク」と呼称する。
＜応力測定方法＞
近年、スマートフォンなどのカバーガラス向けに、ガラス内部のリチウムイオンをナトリウムイオンと交換し（Ｌｉ－Ｎａ交換）、その後更にガラスの表層部において、ガラス内部のナトリウムイオンをカリウムイオンに交換する（Ｎａ－Ｋ交換）、２段階の化学強化を実施したガラスが主流になっている。
近年、スマートフォンなどのカバーガラス向けに、ガラス内部のリチウムイオンをナトリウムイオンと交換し（Ｌｉ－Ｎａ交換）、その後更にガラスの表層部において、ガラス内部のナトリウムイオンをカリウムイオンに交換する（Ｎａ－Ｋ交換）、２段階の化学強化を実施したガラスが主流になっている。
このような２段化学強化ガラスの応力プロファイルを非破壊で取得するには、例えば散乱光光弾性応力計（Ｓｃａｔｔｅｒｅｄ Ｌｉｇｈｔ Ｐｈｏｔｏｅｌａｓｔｉｃ Ｓｔｒｅｓｓ Ｍｅｔｅｒ、以下、ＳＬＰとも略す）やガラス表面応力計（Ｆｉｌｍ Ｓｔｒｅｓｓ Ｍｅａｓｕｒｍｅｎｔ，以下、ＦＳＭとも略す）などが併用され得る。
散乱光光弾性応力計（ＳＬＰ）を用いる方法では、ガラス表層から数十μｍ以上のガラス内部において、Ｌｉ－Ｎａ交換に由来した圧縮応力を測定できる。一方、ガラス表面応力計（ＦＳＭ）を用いる方法では、ガラス表面から数十μｍ以下の、ガラス表層部において、Ｎａ－Ｋ交換に由来した圧縮応力を測定できる（例えば、国際公開第２０１８／０５６１２１号、国際公開第２０１７／１１５８１１号）。従って、２段化学強化ガラスにおける、ガラス表層と内部における応力プロファイルとしては、ＳＬＰとＦＳＭの情報を合成したものが用いられることがある。
本発明においては、主に散乱光光弾性応力計（ＳＬＰ）により測定された応力プロファイルを用いている。なお、本明細書において圧縮応力ＣＳ、引張応力ＣＴ、圧縮応力層深さＤＯＬなどと称した場合、ＳＬＰ応力プロファイルにおける値を意味する。
散乱光光弾性応力計とは、レーザ光の偏光位相差を該レーザ光の波長に対して１波長以上可変する偏光位相差可変部材と、該偏光位相差を可変されたレーザ光が強化ガラスに入射されたことにより発する散乱光を所定の時間間隔で複数回撮像し複数の画像を取得する撮像素子と、該複数の画像を用いて前記散乱光の周期的な輝度変化を測定し該輝度変化の位相変化を算出し、該位相変化に基づき前記強化ガラスの表面からの深さ方向の応力分布を算出する演算部と、を有する応力測定装置である。
散乱光光弾性応力計を用いる応力プロファイルの測定方法としては、国際公開第２０１８／０５６１２１号に記載の方法が挙げられる。散乱光光弾性応力計としては、例えば、折原製作所製のＳＬＰ－１０００、ＳＬＰ－２０００が挙げられる。これらの散乱光光弾性応力計に付属ソフトウェアＳｌｐＩＶ＿ｕｐ３（Ｖｅｒ．２０１９．０１．１０．００１）を組み合わせると高精度の応力測定が可能である。
＜強化膨張率の測定＞
強化膨張率とは、化学強化プロセスを実施した後のガラス基板寸法を、化学強化プロセス実施前のガラス基板の寸法で除すことで算出したものであり、化学強化プロセスでイオン交換を実施した結果、ガラスがどの程度膨張したかを表す指標である。
強化膨張率は下記式により求めた。
強化膨張率（％）＝｛［（化学強化後ガラス基板Ｃの寸法）－（化学強化前ガラス基板の寸法）］／（化学強化前ガラス基板の寸法）］｝×１００
寸法は画像測定装置［例えば、ニコン社製ＮＥＸＩＶ（ＶＭＺ―Ｓ３０２０）］を用いて測定できる。
強化膨張率とは、化学強化プロセスを実施した後のガラス基板寸法を、化学強化プロセス実施前のガラス基板の寸法で除すことで算出したものであり、化学強化プロセスでイオン交換を実施した結果、ガラスがどの程度膨張したかを表す指標である。
強化膨張率は下記式により求めた。
強化膨張率（％）＝｛［（化学強化後ガラス基板Ｃの寸法）－（化学強化前ガラス基板の寸法）］／（化学強化前ガラス基板の寸法）］｝×１００
寸法は画像測定装置［例えば、ニコン社製ＮＥＸＩＶ（ＶＭＺ―Ｓ３０２０）］を用いて測定できる。
＜化学強化後ガラスを製造する方法：第１～５実施形態＞
本発明に係る第１～５実施形態は、化学強化後ガラスを製造する方法である。以下第１～５実施形態について、フロー図を参照して詳細に説明する。
本発明に係る第１～５実施形態は、化学強化後ガラスを製造する方法である。以下第１～５実施形態について、フロー図を参照して詳細に説明する。
第１実施形態は、下記工程（Ａ）～（Ｃ）を含むことを特徴とする。
（Ａ）主表面と端面とを有する化学強化後ガラス基板Ａを準備する工程
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得る工程
（Ｃ）前記ガラス基板を、９０質量％以上のＫＮＯ３及び１．０質量％以上６．０質量％以下のＮａＮＯ３を含有する無機塩組成物に接触させてイオン交換を行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得る工程
（Ａ）主表面と端面とを有する化学強化後ガラス基板Ａを準備する工程
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得る工程
（Ｃ）前記ガラス基板を、９０質量％以上のＫＮＯ３及び１．０質量％以上６．０質量％以下のＮａＮＯ３を含有する無機塩組成物に接触させてイオン交換を行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得る工程
第２実施形態は、下記工程（Ａ）～（Ｃ）を含むことを特徴とする。
（Ａ）主表面と端面とを有する化学強化後ガラス基板Ａを準備する工程
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得る工程
（Ｃ）前記ガラス基板を、９０質量％以上のＫＮＯ３、０質量％以上５．０質量％未満のＮａＮＯ３及び０質量％以上１．０質量％未満のＬｉＮＯ３を含有する無機塩組成物に接触させるイオン交換を少なくとも１回行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得る工程
（Ａ）主表面と端面とを有する化学強化後ガラス基板Ａを準備する工程
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得る工程
（Ｃ）前記ガラス基板を、９０質量％以上のＫＮＯ３、０質量％以上５．０質量％未満のＮａＮＯ３及び０質量％以上１．０質量％未満のＬｉＮＯ３を含有する無機塩組成物に接触させるイオン交換を少なくとも１回行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得る工程
第３実施形態は、下記工程（Ａ）～（Ｃ）を含むことを特徴とする。
（Ａ）主表面と端面とを有する化学強化用ガラス基板に１次無機塩組成物を接触させて、主表面と端面とを有する化学強化後ガラス基板Ａを準備する工程
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得る工程
（Ｃ）前記ガラス基板を、２次無機塩組成物に接触させるイオン交換を少なくとも１回行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得る工程
第３実施形態において、工程（Ａ）における１次無機塩組成物の累積処理面積が０．２ｍ２／ｋｇ未満である場合には、工程（Ｃ）における２次無機塩組成物を９０質量％以上のＫＮＯ３及び０質量％以上１．０質量％未満のＬｉＮＯ３を含有する無機塩組成物とし、工程（Ａ）における１次無機塩組成物の累積処理面積が０．２ｍ２／ｋｇ以上である場合には、工程（Ｃ）における前記２次無機塩組成物を９０質量％以上のＫＮＯ３及び０質量％以上５．０質量％未満のＮａＮＯ３及び０質量％以上１．０質量％未満のＬｉＮＯ３を含有する無機塩組成物とする。
（Ａ）主表面と端面とを有する化学強化用ガラス基板に１次無機塩組成物を接触させて、主表面と端面とを有する化学強化後ガラス基板Ａを準備する工程
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得る工程
（Ｃ）前記ガラス基板を、２次無機塩組成物に接触させるイオン交換を少なくとも１回行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得る工程
第３実施形態において、工程（Ａ）における１次無機塩組成物の累積処理面積が０．２ｍ２／ｋｇ未満である場合には、工程（Ｃ）における２次無機塩組成物を９０質量％以上のＫＮＯ３及び０質量％以上１．０質量％未満のＬｉＮＯ３を含有する無機塩組成物とし、工程（Ａ）における１次無機塩組成物の累積処理面積が０．２ｍ２／ｋｇ以上である場合には、工程（Ｃ）における前記２次無機塩組成物を９０質量％以上のＫＮＯ３及び０質量％以上５．０質量％未満のＮａＮＯ３及び０質量％以上１．０質量％未満のＬｉＮＯ３を含有する無機塩組成物とする。
第４実施形態は、下記工程（Ａ）～（Ｃ）を含むことを特徴とする。
（Ａ）主表面と端面とを有する化学強化後ガラス基板Ａを準備する工程
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得る工程
（Ｃ）前記ガラス基板を、２次無機塩組成物に接触させるイオン交換を少なくとも１回行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得る工程
第４実施形態において、引張応力ＣＴ（ＭＰａ）について、前記化学強化後ガラス基板ＣのＣＴを化学強化後ガラス基板ＡのＣＴで除した値が０．９０以上１．２０以下である。
（Ａ）主表面と端面とを有する化学強化後ガラス基板Ａを準備する工程
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得る工程
（Ｃ）前記ガラス基板を、２次無機塩組成物に接触させるイオン交換を少なくとも１回行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得る工程
第４実施形態において、引張応力ＣＴ（ＭＰａ）について、前記化学強化後ガラス基板ＣのＣＴを化学強化後ガラス基板ＡのＣＴで除した値が０．９０以上１．２０以下である。
第５実施形態は、下記工程（Ａ）～（Ｃ）を含むことを特徴とする。
（Ａ）主表面と端面とを有する化学強化後ガラス基板Ａを準備する工程
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得る工程
（Ｃ）前記ガラス基板を、２次無機塩組成物に接触させるイオン交換を少なくとも１回行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得る工程
第５実施形態において、引張応力ＣＴ（ＭＰａ）について、工程（Ａ）における１次無機塩組成物の累積処理面積が０．２ｍ２／ｋｇ未満である場合には、化学強化後ガラス基板ＣのＣＴを化学強化後ガラス基板ＡのＣＴで除した値が０．９０以上１．１０以下であり、工程（Ａ）における１次無機塩組成物の累積処理面積が０．２ｍ２／ｋｇ以上である場合には、化学強化後ガラス基板ＣのＣＴを化学強化後ガラス基板ＡのＣＴで除した値が０．９０以上１．２０以下である。
（Ａ）主表面と端面とを有する化学強化後ガラス基板Ａを準備する工程
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得る工程
（Ｃ）前記ガラス基板を、２次無機塩組成物に接触させるイオン交換を少なくとも１回行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得る工程
第５実施形態において、引張応力ＣＴ（ＭＰａ）について、工程（Ａ）における１次無機塩組成物の累積処理面積が０．２ｍ２／ｋｇ未満である場合には、化学強化後ガラス基板ＣのＣＴを化学強化後ガラス基板ＡのＣＴで除した値が０．９０以上１．１０以下であり、工程（Ａ）における１次無機塩組成物の累積処理面積が０．２ｍ２／ｋｇ以上である場合には、化学強化後ガラス基板ＣのＣＴを化学強化後ガラス基板ＡのＣＴで除した値が０．９０以上１．２０以下である。
第１～第５実施形態においては、工程（Ａ）と工程（Ｂ）との間に前記化学強化後ガラス基板Ａ表面の外観検査を行う工程（Ａ’）を含み、前記外観検査の結果が所定の基準を満たさないと判定された場合、工程（Ｂ）を行うことが好ましい。
第１～第５実施形態においては、工程（Ｂ）及び工程（Ｃ）を繰り返し行うことが好ましい。工程（Ｂ）及び工程（Ｃ）を繰り返し行うことにより、より外観に優れた化学強化後ガラス基板が得られる。
第１～第５実施形態においては、工程（Ｃ）の後に、前記化学強化後ガラス基板Ｃの応力値を測定し、前記応力値が所定の基準を満たすか否かを判定する工程（Ｃ’）を含み、前記応力値が所定の基準を満たすまで、工程（Ｂ）から工程（Ｃ’）までを繰り返し行うことが好ましい。これにより、外観および強化特性においてより優れた化学強化後ガラス基板が得られる。
第１～第５実施形態においては、工程（Ｃ’）において、前記応力値が所定の基準を満たす場合、さらに、前記化学強化後ガラス基板Ｃの外観検査を行い、前記外観検査の結果が所定の基準を満たすか否かを判定する工程（Ｄ）を含み、前記外観検査の結果が所定の基準を満たすまで、工程（Ｂ）から工程（Ｄ）までを繰り返し行うことが好ましい。これにより、外観および強化特性においてより優れた化学強化後ガラス基板が得られる。
図１は、第１～第５実施形態の一態様を示すフロー図である。本実施形態の一態様においては、ステップＳ１１で主表面と端面とを有する化学強化後ガラス基板Ａを準備する［工程（Ａ）］。ステップＳ１２で化学強化後ガラス基板Ａ表面の外観検査を行い、外観検査の結果が所定の基準を満たすか否かを判定する［工程（Ａ’）］。
外観検査の結果が所定の基準を満たすと判定された場合、化学強化後ガラス基板Ａを加工等するステップＳ２１（次工程）に進む。一方、外観検査の結果が所定の基準を満たさないと判定された場合、ステップＳ１３に進み、化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得る［工程（Ｂ）］。
ステップＳ１３で得られたガラス基板を、ステップＳ１４において無機塩組成物に接触させてイオン交換を行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得る［工程（Ｃ）］。ステップＳ１５にて、得られた化学強化後ガラス基板Ｃの応力値を測定し、応力値が所定の基準を満たすか否かを判定する［工程（Ｃ’）］。該応力値が所定の基準を満たさない場合、該応力値が所定の基準を満たすまでステップＳ１３からステップＳ１５までを繰り返すことが好ましい。
ステップＳ１５にて前記応力値が所定の基準を満たす場合、ステップＳ１６に進み、化学強化後ガラス基板Ｃの外観検査を行い、該外観検査の結果が所定の基準を満たすか否かを判定する［工程（Ｄ）］。ステップＳ１６において応力値が所定の基準を満たすまで、ステップＳ１３からステップＳ１６までを繰り返すことが好ましい。
第１～第５実施形態の各工程について以下に説明する。
＜＜工程（Ａ）＞＞
工程（Ａ）は、主表面と端面とを有する、化学強化後ガラス基板Ａを準備する工程である。化学強化後ガラス基板Ａの組成は、成形、化学強化処理による強化が可能な組成であればよい。例えば、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ホウ珪酸ガラス、鉛ガラス、アルカリバリウムガラス、アルミノホウ珪酸ガラス等が挙げられる。これらのガラスは結晶ガラスであってもよいし、非晶質ガラスであってもよい。
＜＜工程（Ａ）＞＞
工程（Ａ）は、主表面と端面とを有する、化学強化後ガラス基板Ａを準備する工程である。化学強化後ガラス基板Ａの組成は、成形、化学強化処理による強化が可能な組成であればよい。例えば、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ホウ珪酸ガラス、鉛ガラス、アルカリバリウムガラス、アルミノホウ珪酸ガラス等が挙げられる。これらのガラスは結晶ガラスであってもよいし、非晶質ガラスであってもよい。
化学強化後ガラス基板Ａの組成としては、例えば、下記に示す組成が挙げられる。
（１）酸化物基準のモル百分率表示で、ＳｉＯ２を５０～８０％、Ａｌ２Ｏ３を２～２５％、Ｌｉ２Ｏを０．１～２０％、Ｎａ２Ｏを０．１～１８％、Ｋ２Ｏを０～１０％、ＭｇＯを０～１５％、ＣａＯを０～５％、Ｐ２Ｏ５を０～５％、Ｂ２Ｏ３を０～５％、Ｙ２Ｏ３を０～５％およびＺｒＯ２を０～５％を含むガラス。
（１）酸化物基準のモル百分率表示で、ＳｉＯ２を５０～８０％、Ａｌ２Ｏ３を２～２５％、Ｌｉ２Ｏを０．１～２０％、Ｎａ２Ｏを０．１～１８％、Ｋ２Ｏを０～１０％、ＭｇＯを０～１５％、ＣａＯを０～５％、Ｐ２Ｏ５を０～５％、Ｂ２Ｏ３を０～５％、Ｙ２Ｏ３を０～５％およびＺｒＯ２を０～５％を含むガラス。
化学強化後ガラス基板Ａの製造方法としては、特に限定されない。具体的には例えば、所定のガラス原料を連続溶融炉に投入し、ガラス原料を１５００～１６００℃で加熱溶融し、清澄した後、成形装置に供給した上で溶融ガラスを板状に成形し、徐冷して製造したガラス基板を得る。得られたガラス基板を無機塩組成物に接触させてイオン交換処理し、ガラス基板の表層に圧縮応力層を形成することにより化学強化後ガラス基板Ａが得られる。第３実施形態及び第５実施形態においては、該無機塩組成物を１次無機塩組成物とする。
ガラス基板の成形方法は、ダウンドロー法（例えば、オーバーフローダウンドロー法、スロットダウン法およびリドロー法等）、フロート法、ロールアウト法およびプレス法等が挙げられる。
無機塩組成物にガラス基板を接触させる方法としては、ペースト状の無機塩組成物をガラス基板に塗布する方法、無機塩組成物の水溶液をガラス基板に噴射する方法、融点以上に加熱した無機塩組成物の溶融塩の塩浴にガラス基板を浸漬させる方法などが挙げられる。これらの中では、生産性を向上させる観点から、無機塩組成物の溶融塩にガラス基板を浸漬させる方法が好ましい。
無機塩組成物の溶融塩にガラス基板を浸漬させる方法による化学強化処理は、例えば、次の手順で実施できる。まずガラス基板を１００℃以上に予熱し、該溶融塩を、化学強化を行う温度に調整する。次いで予熱したガラス基板を溶融塩中に所定の時間浸漬した後、ガラス基板を溶融塩中から引き上げ、放冷する。
化学強化後ガラス基板Ａの厚さは、特に制限されないが、化学強化特性をより発揮する観点から、５ｍｍ以下が好ましく、３ｍｍ以下がより好ましく、１ｍｍ以下がさらに好ましく、０．８５ｍｍ以下が特に好ましい。また、化学強化後ガラス基板の厚さの下限は特に制限されないが、０．１ｍｍ以上が好ましく、０．２ｍｍ以上がより好ましく、０．３ｍｍ以上がさらに好ましい。
化学強化後ガラス基板Ａは、例えば、均一な板厚を有する平板形状、スマートフォンに代表される２．５Ｄカバーガラスや３Ｄカバーガラス等、少なくとも一部に曲面部または屈曲部等を有する三次元形状のものが挙げられる。三次元形状の化学強化後ガラスである場合、特に、曲面部又は屈曲部以外の部分であるフラットな部分において外面の傷や表面異物が存在すると不良原因となりやすい。
本実施形態は、このような三次元形状の化学強化後ガラス基板の場合、ガラスの膨張等を抑制し、高品質に化学強化後ガラス基板を再生できる効果を特に発揮しやすい。
三次元形状の化学強化後ガラス基板としては、例えば、少なくとも一部に曲率半径１００ｍｍ以下の曲面部を有するガラス基板が挙げられる。具体的には、平面視で矩形状のガラス基板の対向する２辺が曲面形状となる三次元形状のガラス基板、該矩形状のガラス基板のうち４隅を含む周辺が曲面形状となる三次元形状のガラス基板、等が挙げられる。
ガラス基板の表層に圧縮応力層を形成する化学強化処理は、ガラス基板を無機塩組成物に接触させて、該ガラス中の金属イオンと、該無機塩組成物中にある、該金属イオンよりイオン半径の大きい金属イオンと、を置換する処理である。
化学強化後ガラス基板Ａの最表層における圧縮応力層の圧縮応力値（ＣＳ０）は、特に限定されないが、通常５００ＭＰａ以上が好ましく、６００ＭＰａ以上がより好ましく、７００ＭＰａ以上がさらに好ましい。
なお、化学強化後ガラス基板Ａの圧縮応力層の圧縮応力値および圧縮応力層深さは表面応力計（例えば、折原製作所製ＦＳＭ－６０００）および散乱光光弾性応力計（例えば、折原製作所製ＳＬＰ－２０００）により測定できる。
＜＜工程（Ａ’）＞＞
工程（Ａ’）は、化学強化後ガラス基板Ａ表面の外観検査を行い、該外観検査の結果が所定の基準を満たすか否かを判定する工程である。
工程（Ａ’）は、化学強化後ガラス基板Ａ表面の外観検査を行い、該外観検査の結果が所定の基準を満たすか否かを判定する工程である。
外観検査の結果が所定の基準を満たす化学強化後ガラス基板としては、例えば、下記条件にて外観観察をした際に、見識可能な傷や表面異物などの外観不良が、好ましくは３個以下、より好ましくは２個以下、さらに好ましくは１個以下、特に好ましくは０個存在する化学強化後ガラス基板が挙げられる。
条件：暗室環境で照度２０００ルクスの照明下、ガラスと判定者の目との距離を３０ｃｍとしてスマートフォン用カバーガラスのサイズの基板の外観観察をする。
条件：暗室環境で照度２０００ルクスの照明下、ガラスと判定者の目との距離を３０ｃｍとしてスマートフォン用カバーガラスのサイズの基板の外観観察をする。
見識可能な不良となる傷としては、前記環境下で０．１ｍｍの幅を持つスクラッチ、０．０５ｍｍ～０．１ｍｍの幅かつ１ｍｍ以上の長さを持つスクラッチなどが挙げられる。
＜＜工程（Ｂ）＞＞
工程（Ｂ）は、化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨し、圧縮応力層の一部又は全部が除去されたガラス基板を得る工程である。本実施形態においては、工程（Ａ’）において外観検査の結果が所定の基準を満たさないと判定された場合に、工程（Ｂ）を行うことが好ましい。
工程（Ｂ）は、化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨し、圧縮応力層の一部又は全部が除去されたガラス基板を得る工程である。本実施形態においては、工程（Ａ’）において外観検査の結果が所定の基準を満たさないと判定された場合に、工程（Ｂ）を行うことが好ましい。
化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨することで、ガラス基板表面のミクロな傷が除去され、化学強化後のガラス基板の面強度を向上できる。工程（Ｂ）における化学強化後ガラス基板Ａ表面の研磨量は特に限定されないが、主表面あたりの研磨量が０．５μｍ以上であることが好ましく、３μｍ以上がより好ましく、５μｍ以上がさらに好ましい。また、該工程（Ｂ）における研磨量は、通常１０μｍ以下である。
なお、工程（Ｂ）においては、ガラスの反り防止の点から、板厚方向に対向する２つのガラス基板主面について、同じ研磨量を研磨することが好ましい。研磨条件は特に制限されず、所望の表面粗さとなる条件で行うとよい。
研磨方法としては、例えば、物理的な研磨方法及び化学的な研磨方法が挙げられる。物理的な研磨方法としては、研磨砥粒を用いてガラス基板の表面を研磨する方法が挙げられる。
物理的な研磨方法に用いる砥粒としては、例えば、酸化セリウム、コロイダルシリカ等の砥粒が挙げられる。砥粒の平均粒径は、０．０２～２．０μｍが好ましく、より好ましくは０．０４～１．５μｍである。砥粒の平均粒径はレーザ回折散乱を用いた粒径測定装置により測定できる。砥粒の濃度として、スラリーとした際の比重は１．０３～１．１３が好ましく、より好ましくは１．０５～１．１０である。研磨圧は６～２０ｋＰａが好ましく、より好ましくは８～１８ｋＰａである。研磨装置の定盤の回転速度は最外周の周速が毎分２０～１００ｍであることが好ましく、より好ましくは毎分３０～７０ｍである。
具体的には例えば、平均粒径約１．２μｍの酸化セリウムを水に分散させて比重１．０７のスラリーを作製し、表面が不織布またはスウェードの研磨パッドを用いて、研磨圧９．８ｋＰａの条件で、片面あたり０．５μｍ以上のガラス基板の表面を研磨する等の方法が挙げられる。
研磨には、ショアＡ硬度が２５～６５°かつ１００ｇ／ｃｍ２での沈み込み量が０．０５ｍｍ以上となる、表面が不織布又はスウェードの研磨パッドが適用できる。この中でも、コスト面から不織布の研磨パッドの使用が好ましい。
化学的な方法としては、フッ酸等を含有する溶液にガラス基板を浸漬させてエッチングすることにより、ガラス表面を研磨する方法が挙げられる。
本製造方法では、工程（Ｂ）及び（Ｃ）間にガラス基板を洗浄する洗浄工程をさらに含むことが好ましい。該洗浄工程では、工水、イオン交換水等を使用でき、この中でもイオン交換水の使用が好ましい。
洗浄の条件は洗浄液によっても異なるが、イオン交換水を用いる場合には０～１００℃の温度で洗浄すると、付着した塩を完全に除去できる点から好ましい。洗浄工程では、イオン交換水等が入っている水槽にガラスを浸漬する方法や、ガラス表面を流水にさらす方法、シャワーにより洗浄液をガラス表面に向けて噴射する方法等、様々な方法を使用できる。
＜＜工程（Ｃ）＞＞
工程（Ｃ）は、工程（Ｂ）で表面を研磨したガラス基板を、無機塩組成物に接触させて該イオン交換をしてガラス基板の表層に圧縮応力を導入し、化学強化後ガラス基板Ｃを得る工程である。第３実施及び第５実施形態において、該無機塩組成物を２次無機塩組成物とする。
工程（Ｃ）は、工程（Ｂ）で表面を研磨したガラス基板を、無機塩組成物に接触させて該イオン交換をしてガラス基板の表層に圧縮応力を導入し、化学強化後ガラス基板Ｃを得る工程である。第３実施及び第５実施形態において、該無機塩組成物を２次無機塩組成物とする。
（第１実施形態）
第１実施形態において、工程（Ｃ）は、工程（Ｂ）で得られたガラス基板を、９０質量％以上のＫＮＯ３及び１．０質量％以上６．０質量％以下のＮａＮＯ３を含有する無機塩組成物に接触させてイオン交換を行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得る工程である。
第１実施形態において、工程（Ｃ）は、工程（Ｂ）で得られたガラス基板を、９０質量％以上のＫＮＯ３及び１．０質量％以上６．０質量％以下のＮａＮＯ３を含有する無機塩組成物に接触させてイオン交換を行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得る工程である。
第１実施形態において、工程（Ｃ）に用いる無機塩組成物は、ＫＮＯ３の含有量が９０質量％以上であり、好ましくは９１質量％以上、さらに好ましくは９２質量％以上、特に好ましくは９３質量％以上、最も好ましくは９５質量％以上である。無機塩組成物におけるＫＮＯ３の含有量が９０質量％以上であることにより、工程（Ｂ）における研磨により減少するガラス表面に存在するＫイオンの量を効率的に増加させて、化学強化後ガラスの強度を向上できる。
第１実施形態において、工程（Ｃ）に用いる無機塩組成物におけるＮａＮＯ３の含有量は、１．０質量％以上であり、好ましくは１．３質量％以上、より好ましくは１．５質量％以上、さらに好ましくは２．０質量％以上である。第１実施形態において、無機塩組成物のＮａＮＯ３の含有量を１．０質量％以上とすることにより、ガラス深層部の応力を高めて化学強化後ガラス基板の強度を向上できる。
一方で、工程（Ｃ）に用いる無機塩組成物におけるＮａＮＯ３の含有量が過剰であると、ガラス表面の応力が低下することから、第１実施形態において、無機塩組成物におけるＮａＮＯ３の含有量は６．０質量％以下であり、好ましくは５．８質量％以下、より好ましくは５．５質量％以下、さらに好ましくは５．０質量％以下、特に好ましくは４．０質量％以下である。
（第２実施形態）
第２実施形態において、工程（Ｃ）は、工程（Ｂ）で得られたガラス基板を、９０質量％以上のＫＮＯ３、０質量％以上５．０質量％未満のＮａＮＯ３及び０質量％以上１．０質量％未満のＬｉＮＯ３を含有する無機塩組成物に接触させるイオン交換を少なくとも１回行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得る工程である。
第２実施形態において、工程（Ｃ）は、工程（Ｂ）で得られたガラス基板を、９０質量％以上のＫＮＯ３、０質量％以上５．０質量％未満のＮａＮＯ３及び０質量％以上１．０質量％未満のＬｉＮＯ３を含有する無機塩組成物に接触させるイオン交換を少なくとも１回行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得る工程である。
第２実施形態において、工程（Ｃ）に用いる無機塩組成物は、ＫＮＯ３の含有量が９０質量％以上であり、好ましくは９１質量％以上、さらに好ましくは９２質量％以上、特に好ましくは９３質量％以上、最も好ましくは９５質量％以上である。無機塩組成物におけるＫＮＯ３の含有量が９０質量％以上であることにより、工程（Ｂ）における研磨により減少するガラス表面に存在するＫイオンの量を効率的に増加させて、化学強化後ガラスの強度を向上できる。
第２実施形態において、工程（Ｃ）に用いる無機塩組成物におけるＮａＮＯ３の含有量は、０質量％以上であり、好ましくは０．１質量％以上、より好ましくは０．２質量％以上、さらに好ましくは０．３質量％以上である。第１実施形態において、無機塩組成物のＮａＮＯ３の含有量を０質量％以上とすることにより、ガラス深層部の応力を高めて化学強化後ガラス基板の強度を向上できる。
一方で、工程（Ｃ）に用いる無機塩組成物におけるＮａＮＯ３の含有量が過剰であると、ガラス表面の応力が低下することから、第２実施形態において、無機塩組成物におけるＮａＮＯ３の含有量は５．０質量％未満であり、好ましくは４．０質量％以下、より好ましくは３．０質量％以下、さらに好ましくは２．５質量％以下、特に好ましくは２．０質量％以下である。
第２実施形態において、表面からの深さ５０μｍにおける圧縮応力ＣＳ５０（ＭＰａ）について、化学強化後ガラス基板ＣのＣＳ５０を化学強化後ガラス基板ＡのＣＳ５０で除した値は０．８０以上１．１０以下であることが好ましい。該値は、好ましくは０．８２以上、より好ましくは０．８４以上、さらに好ましくは０．８６以上である。また、該値は、好ましくは１．１０以下、より好ましくは１．０８以下、さらに好ましくは１．０６以下である。該値を前記範囲とすることで、ガラス表層部だけでなくガラス深層部における圧縮応力値を効果的に増加できる。
第２実施形態において、引張応力ＣＴ（ＭＰａ）について、化学強化後ガラス基板ＣのＣＴを化学強化後ガラス基板ＡのＣＴで除した値は０．９０以上１．１０以下であることが好ましい。該値は、好ましくは０．９２以上、より好ましくは０．９４以上、さらに好ましくは０．９６以上である。また、該値は、好ましくは１．０８以下、より好ましくは１．０６以下、さらに好ましくは１．０４以下である。該値を前記範囲とすることで、ＣＴが増大するのを抑制できる。
（第３実施形態）
第３実施形態において、工程（Ｃ）は、工程（Ｂ）で得られたガラス基板を、２次無機塩組成物に接触させるイオン交換を少なくとも１回行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得る工程である。
第３実施形態において、工程（Ｃ）は、工程（Ｂ）で得られたガラス基板を、２次無機塩組成物に接触させるイオン交換を少なくとも１回行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得る工程である。
第３実施形態において、工程（Ｃ）に用いる２次無機塩組成物は、ＫＮＯ３の含有量が９０質量％以上であり、好ましくは９１質量％以上、さらに好ましくは９２質量％以上、特に好ましくは９３質量％以上、最も好ましくは９５質量％以上である。２次無機塩組成物におけるＫＮＯ３の含有量が９０質量％以上であることにより、工程（Ｂ）における研磨により減少するガラス表面に存在するＫイオンの量を効率的に増加させて、化学強化後ガラスの強度を向上できる。
第３実施形態において、工程（Ａ）における１次無機塩組成物の累積処理面積が０．２ｍ２／ｋｇ未満である場合には、工程（Ｃ）における２次無機塩組成物を９０質量％以上のＫＮＯ３及び０質量％以上１．０質量％未満のＬｉＮＯ３を含有する無機塩組成物とする。かかる場合において、２次無機塩組成物におけるＬｉＮＯ３の含有量は、好ましくは０．０１質量％以上、より好ましくは０．０２質量％以上、さらに好ましくは０．０４質量％以上である。また、２次無機塩組成物におけるＬｉＮＯ３の含有量は、好ましくは０．８０質量％以下、より好ましくは０．６０質量％以下、さらに好ましくは０．４０質量％以下である。
第３実施形態において、工程（Ａ）における１次無機塩組成物の累積処理面積が０．２ｍ２／ｋｇ以上である場合には、工程（Ｃ）における２次無機塩組成物を９０質量％以上のＫＮＯ３及び０質量％以上５．０質量％未満のＮａＮＯ３及び０質量％以上１．０質量％未満のＬｉＮＯ３を含有する無機塩組成物とする。かかる場合において、２次無機塩組成物におけるＮａＮＯ３の含有量は、好ましくは０．１０質量％以上、より好ましくは０．３０質量％以上、さらに好ましくは０．６０質量％以上である。また、２次無機塩組成物におけるＮａＮＯ３の含有量は、好ましくは５．０質量％未満、より好ましくは４．５質量％以下である。かかる場合において、２次無機塩組成物におけるＬｉＮＯ３の含有量は、好ましくは０．０１質量％以上、より好ましくは０．０３質量％以上、さらに好ましくは０．０５質量％以上である。また、２次無機塩組成物におけるＬｉＮＯ３の含有量は、好ましくは０．４０質量％以下、より好ましくは０．２０質量％以下、さらに好ましくは０．１０質量％以下である。
第３実施形態においては、前記したように、工程（Ａ）で用いる１次無機塩組成物の累積処理面積により、工程（Ｃ）におけるイオン交換の条件を使い分ける。本発明者らは、工程（Ａ）で用いる１次無機塩組成物の累積処理面積は工程（Ｃ）に供するガラス基板の応力に影響を与えており、該累積処理面積が０．２ｍ２／ｋｇ未満である場合と、０．２ｍ２／ｋｇ以上である場合とで、工程（Ｃ）で得られる化学強化後ガラス基板の応力特性の傾向が変わることを見出した。したがって、第３実施形態によれば、該累積処理面積の範囲に応じて、工程（Ｃ）において用いる２次無機塩組成物の組成を前記範囲とすることで、該２次無機塩組成物中のイオン濃度を適切に調整でき、ガラス表層部だけでなくガラス深層部における圧縮応力値を効果的に増加するとともに、ＣＴが増大するのを抑制できる。
第３実施形態において、表面からの深さ５０μｍにおける圧縮応力ＣＳ５０（ＭＰａ）について、化学強化後ガラス基板ＣのＣＳ５０を化学強化後ガラス基板ＡのＣＳ５０で除した値は０．８０以上１．１０以下であることが好ましい。該値は、より好ましくは０．８２以上、さらに好ましくは０．８４以上、特に好ましくは０．８６以上である。また、該値は、より好ましくは１．０８以下、さらに好ましくは１．０６以下、特に好ましくは１．０４以下である。該値を前記範囲とすることで、ガラス表層部だけでなくガラス深層部における圧縮応力値を効果的に増加できる。
第３実施形態において、引張応力ＣＴ（ＭＰａ）について、化学強化後ガラス基板ＣのＣＴを化学強化後ガラス基板ＡのＣＴで除した値は０．９０以上１．２０以下であることが好ましい。該値は、好ましくは０．９２以上、より好ましくは０．９４以上、さらに好ましくは０．９６以上である。また、該値は、好ましくは１．０８以下、より好ましくは１．０６以下、さらに好ましくは１．０４以下である。該値を前記範囲とすることで、ＣＴが増大するのを抑制できる。
第３実施形態において、１次無機塩組成物の累積処理面積が０．２ｍ２／ｋｇは１次無機塩組成物中のＬｉＮＯ３濃度が０．８質量％であることを示す。すなわち、第３実施形態の一態様として、下記態様が挙げられる。
（Ａ）主表面と端面とを有する化学強化用ガラス基板に１次無機塩組成物を接触させて、主表面と端面とを有する化学強化後ガラス基板Ａを準備すること、
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得ること、並びに
（Ｃ）前記ガラス基板を、２次無機塩組成物に接触させるイオン交換を少なくとも１回行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得ること、を含む化学強化後ガラス基板の製造方法であって、
前記（Ａ）における前記１次無機塩組成物中のＬｉＮＯ３濃度が０．８質量％未満である場合には、前記（Ｃ）における前記２次無機塩組成物を９０質量％以上のＫＮＯ３及び０質量％以上１．０質量％未満のＬｉＮＯ３を含有する無機塩組成物とし、
前記（Ａ）における前記１次無機塩組成物中のＬｉＮＯ３濃度が０．８質量％以上である場合には、前記（Ｃ）における前記２次無機塩組成物を９０質量％以上のＫＮＯ３及び０質量％以上５．０質量％未満のＮａＮＯ３及び０質量％以上１．０質量％未満のＬｉＮＯ３を含有する無機塩組成物とする、化学強化後ガラス基板の製造方法。
（Ａ）主表面と端面とを有する化学強化用ガラス基板に１次無機塩組成物を接触させて、主表面と端面とを有する化学強化後ガラス基板Ａを準備すること、
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得ること、並びに
（Ｃ）前記ガラス基板を、２次無機塩組成物に接触させるイオン交換を少なくとも１回行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得ること、を含む化学強化後ガラス基板の製造方法であって、
前記（Ａ）における前記１次無機塩組成物中のＬｉＮＯ３濃度が０．８質量％未満である場合には、前記（Ｃ）における前記２次無機塩組成物を９０質量％以上のＫＮＯ３及び０質量％以上１．０質量％未満のＬｉＮＯ３を含有する無機塩組成物とし、
前記（Ａ）における前記１次無機塩組成物中のＬｉＮＯ３濃度が０．８質量％以上である場合には、前記（Ｃ）における前記２次無機塩組成物を９０質量％以上のＫＮＯ３及び０質量％以上５．０質量％未満のＮａＮＯ３及び０質量％以上１．０質量％未満のＬｉＮＯ３を含有する無機塩組成物とする、化学強化後ガラス基板の製造方法。
（第４実施形態）
第４実施形態において、表面からの深さ５０μｍにおける圧縮応力ＣＳ５０（ＭＰａ）について、化学強化後ガラス基板ＣのＣＳ５０を化学強化後ガラス基板ＡのＣＳ５０で除した値は０．９０以上１．２０以下であることが好ましい。該値は、より好ましくは０．９２以上、さらに好ましくは０．９４以上、特に好ましくは０．９６以上である。また、該値は、より好ましくは１．１８以下、さらに好ましくは１．１６以下、特に好ましくは１．１４以下である。該値を前記範囲とすることで、ガラス表層部だけでなくガラス深層部における圧縮応力値を効果的に増加できる。
第４実施形態において、表面からの深さ５０μｍにおける圧縮応力ＣＳ５０（ＭＰａ）について、化学強化後ガラス基板ＣのＣＳ５０を化学強化後ガラス基板ＡのＣＳ５０で除した値は０．９０以上１．２０以下であることが好ましい。該値は、より好ましくは０．９２以上、さらに好ましくは０．９４以上、特に好ましくは０．９６以上である。また、該値は、より好ましくは１．１８以下、さらに好ましくは１．１６以下、特に好ましくは１．１４以下である。該値を前記範囲とすることで、ガラス表層部だけでなくガラス深層部における圧縮応力値を効果的に増加できる。
（第５実施形態）
第５実施形態において、工程（Ｃ）は、工程（Ｂ）で得られたガラス基板を、２次無機塩組成物に接触させるイオン交換を少なくとも１回行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得る工程である。
第５実施形態において、工程（Ｃ）は、工程（Ｂ）で得られたガラス基板を、２次無機塩組成物に接触させるイオン交換を少なくとも１回行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得る工程である。
第５実施形態において、工程（Ａ）における１次無機塩組成物の累積処理面積が０．２ｍ２／ｋｇ未満である場合に、且つ化学強化後ガラス基板ＣのＣＴを化学強化後ガラス基板ＡのＣＴで除した値が０．９０以上１．１０以下である。引張応力ＣＴ（ＭＰａ）について、化学強化後ガラス基板ＣのＣＴを化学強化後ガラス基板ＡのＣＴで除した値は０．９０以上１．１０以下であることが好ましい。該値は、好ましくは０．９２以上、より好ましくは０．９４以上、さらに好ましくは０．９６以上である。また、該値は、好ましくは１．０８以下、より好ましくは１．０６以下、さらに好ましくは１．０４以下である。該値を前記範囲とすることで、ＣＴが増大するのを抑制できる。
第５実施形態において、工程（Ａ）における１次無機塩組成物の累積処理面積が０．２ｍ２／ｋｇ未満である場合に、化学強化後ガラス基板ＣのＣＳ５０を化学強化後ガラス基板ＡのＣＳ５０で除した値は０．８０以上１．１０以下であることが好ましい。該値はより好ましくは０．８０以上、さらに好ましくは０．８２以上、特に好ましくは０．８４以上、最も好ましくは０．８６以上であり、また、より好ましくは１．０８以下、さらに好ましくは１．０６以下、特に好ましくは１．０４以下、最も好ましくは１．０２以下である。
第５実施形態において、工程（Ａ）における１次無機塩組成物の累積処理面積が０．２ｍ２／ｋｇ以上である場合に、化学強化後ガラス基板ＣのＣＴを化学強化後ガラス基板ＡのＣＴで除した値が０．９０以上１．２０以下である。引張応力ＣＴ（ＭＰａ）について、化学強化後ガラス基板ＣのＣＴを化学強化後ガラス基板ＡのＣＴで除した値は０．９０以上１．２０以下であることが好ましい。該値は、好ましくは０．９２以上、より好ましくは０．９４以上、さらに好ましくは０．９６以上である。また、該値は、好ましくは１．１８以下、より好ましくは１．１６以下、さらに好ましくは１．１４以下である。該値を前記範囲とすることで、ＣＴが増大するのを抑制できる。
第５実施形態において、工程（Ａ）における１次無機塩組成物の累積処理面積が０．２ｍ２／ｋｇ以上である場合に、化学強化後ガラス基板ＣのＣＳ５０を化学強化後ガラス基板ＡのＣＳ５０で除した値は０．８０以上１．２０以下であることが好ましい。該値はより好ましくは０．８０以上、さらに好ましくは０．８２以上、特に好ましくは０．８４以上、最も好ましくは０．８６以上であり、また、より好ましくは１．１８以下、さらに好ましくは１．１６以下、特に好ましくは１．１４以下、最も好ましくは１．１２以下である。
第５実施形態においては、前記したように、工程（Ａ）で用いる１次無機塩組成物の累積処理面積に応じて、化学強化後ガラス基板ＣのＣＴを化学強化後ガラス基板ＡのＣＴで除した値の範囲を設定し、好ましくは化学強化後ガラス基板ＣのＣＳ５０を化学強化後ガラス基板ＡのＣＳ５０で除した値を設定するものである。本発明者らは、工程（Ａ）で用いる１次無機塩組成物の累積処理面積は工程（Ｃ）に供するガラス基板の応力に影響を与えており、該累積処理面積が０．２ｍ２／ｋｇ未満である場合と、０．２ｍ２／ｋｇ以上である場合とで、工程（Ｃ）で得られる化学強化後ガラス基板の応力特性の傾向が変わることを見出した。したがって、第５実施形態によれば、該累積処理面積の範囲に応じて、工程（Ｃ）で得られる化学強化後ガラス基板ＣのＣＴ及びＣＳ５０を適切に調整でき、ガラス表層部だけでなくガラス深層部における圧縮応力値を効果的に増加するとともに、ＣＴが増大するのを抑制できる。
第５実施形態において、化学強化後ガラス基板の応力特性（ＣＳ５０及びＣＴ）は、イオン交換に用いる無機塩組成物の組成、イオン交換の温度及び時間等により適宜調整し得る。第５実施形態において、工程（Ｃ）に用いる無機塩組成物は、ＫＮＯ３の含有量が９０質量％以上であることが好ましく、より好ましくは９１質量％以上、さらに好ましくは９２質量％以上、特に好ましくは９３質量％以上、最も好ましくは９５質量％以上である。無機塩組成物におけるＫＮＯ３の含有量が９０質量％以上であることにより、工程（Ｂ）における研磨により減少するガラス表面に存在するＫイオンの量を効率的に増加させて、化学強化後ガラスの強度を向上できる。
第５実施形態において、工程（Ｃ）に用いる無機塩組成物におけるＮａＮＯ３の含有量は、１．０質量％以上であることが好ましく、より好ましくは１．３質量％以上、さらに好ましくは１．５質量％以上、特に好ましくは２．０質量％以上である。第５実施形態において、無機塩組成物のＮａＮＯ３の含有量を１．０質量％以上とすることにより、ガラス深層部の応力を高めて化学強化後ガラス基板の強度を向上できる。
第５実施形態において、工程（Ｃ）に用いる無機塩組成物におけるＮａＮＯ３の含有量が過剰であると、ガラス表面の応力が低下することから、第５実施形態において、無機塩組成物におけるＮａＮＯ３の含有量は６．０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは５．８質量％以下、さらに好ましくは５．５質量％以下、特に好ましくは５．０質量％以下、最も好ましくは４．０質量％以下である。
第５実施形態において、無機塩組成物におけるＬｉＮＯ３の含有量は、０質量％以上であることが好ましく、より好ましくは０．０２質量％以上、さらに好ましくは０．０４質量％以上、特に好ましくは０．０６質量％以上である。また、２次無機塩組成物におけるＬｉＮＯ３の含有量は、好ましくは１．０質量％未満、より好ましくは０．８０質量％以下、さらに好ましくは０．６０質量％以下である。無機塩組成物の組成範囲を前記範囲とすることで、１次無機塩組成物中のイオン濃度を適切に調整でき、ガラス表層部だけでなくガラス深層部における圧縮応力値を効果的に増加できる。
第５実施形態において、１次無機塩組成物の累積処理面積が０．２ｍ２／ｋｇは１次無機塩組成物中のＬｉＮＯ３濃度が０．８質量％であることを示す。すなわち、第５実施形態の一態様として、下記態様が挙げられる。
（Ａ）主表面と端面とを有する化学強化後ガラス基板Ａを準備すること、
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得ること、並びに
（Ｃ）前記ガラス基板を、２次無機塩組成物に接触させるイオン交換を少なくとも１回行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得ること、を含む化学強化後ガラス基板の製造方法であって、引張応力ＣＴ（ＭＰａ）について、
前記（Ａ）における前記１次無機塩組成物のＬｉＮＯ３濃度が０．８質量％未満である場合に、前記化学強化後ガラス基板ＣのＣＴを化学強化後ガラス基板ＡのＣＴで除した値が０．９０以上１．１０以下であり、
前記（Ａ）における前記１次無機塩組成物のＬｉＮＯ３濃度が０．８質量％以上である場合に、前記化学強化後ガラス基板ＣのＣＴを化学強化後ガラス基板ＡのＣＴで除した値が０．９０以上１．２０以下である、化学強化後ガラス基板の製造方法。
（Ａ）主表面と端面とを有する化学強化後ガラス基板Ａを準備すること、
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得ること、並びに
（Ｃ）前記ガラス基板を、２次無機塩組成物に接触させるイオン交換を少なくとも１回行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得ること、を含む化学強化後ガラス基板の製造方法であって、引張応力ＣＴ（ＭＰａ）について、
前記（Ａ）における前記１次無機塩組成物のＬｉＮＯ３濃度が０．８質量％未満である場合に、前記化学強化後ガラス基板ＣのＣＴを化学強化後ガラス基板ＡのＣＴで除した値が０．９０以上１．１０以下であり、
前記（Ａ）における前記１次無機塩組成物のＬｉＮＯ３濃度が０．８質量％以上である場合に、前記化学強化後ガラス基板ＣのＣＴを化学強化後ガラス基板ＡのＣＴで除した値が０．９０以上１．２０以下である、化学強化後ガラス基板の製造方法。
（第１～５実施形態）
図２Ａに化学強化後ガラス基板の応力プロファイルの一例を示す図であり、縦軸は圧縮応力ＣＳ［ＭＰａ］、横軸は表面からの深さ［μｍ］である。図２Ａにおいて、「ＣＳ０」で表されている値がガラス最表面の圧縮応力値であり、「ＣＳ５０」で表されている値が深さ５０μｍにおける圧縮応力値をさす。
図２Ａに化学強化後ガラス基板の応力プロファイルの一例を示す図であり、縦軸は圧縮応力ＣＳ［ＭＰａ］、横軸は表面からの深さ［μｍ］である。図２Ａにおいて、「ＣＳ０」で表されている値がガラス最表面の圧縮応力値であり、「ＣＳ５０」で表されている値が深さ５０μｍにおける圧縮応力値をさす。
化学強化後ガラス基板表面の圧縮応力層の一部又は全部を研磨により除去した後に化学強化処理をすると、ガラス表面及び内部にイオンが残存することとなる。そのため、同じプロセスで化学強化を実施するとガラスに再度イオンが供給されてガラスが膨張し、所望の形状が得られないという問題がある。
本発明者らは、化学強化後ガラス基板表面の圧縮応力層の一部を研磨により除去した後のイオン交換において、無機塩組成物に含有させるＮａＮＯ３の濃度により、得られる化学強化後ガラス基板の圧縮応力が変化することを見出した。図２Ｂは、化学強化後ガラス基板表面を一部研磨後に無機塩組成物と接触させてイオン交換した化学強化後ガラス基板のＣＳ０を縦軸とし、該無機塩組成物中のＮａＮＯ３濃度を横軸とする図である。図２Ｃは、化学強化後ガラス基板表面を一部研磨後に無機塩組成物と接触させてイオン交換した化学強化後ガラス基板のＣＳ５０を縦軸とし、該無機塩組成物中のＮａＮＯ３濃度を横軸とする図である。
図２Ｃに示すように、研磨後のイオン交換に用いる無機塩組成物中のＮａＮＯ３濃度が増加すると、ＣＳ５０が増加し、深層応力を高めることができる。一方で、図２Ｂに示すように、研磨後のイオン交換に用いる無機塩組成物中のＮａＮＯ３濃度が増加するに伴い、ＣＳ０が減少する。したがって、無機塩組成物中のＮａＮＯ３濃度を最適範囲とすることにより、ＣＳ０とＣＳ５０とを両立させて、ガラス表面およびガラス深層部の両方に十分な圧縮応力を導入でき、化学強化後ガラス基板の強度を向上できる。
図３Ａおよび図４Ａは、ＮａＮＯ３非含有塩を用いて研磨後のイオン交換を行って得られた化学強化後ガラス基板の応力プロファイルを示す図である。図３Ｂおよび図４Ｂは、化学強化処理に複数回使用し、ガラス基板に対する累積処理面積が０．５ｍ２／ｋｇである無機塩組成物（ＮａＮＯ３含有塩）を用いて研磨後の化学強化処理を行って得られた化学強化後ガラス基板の応力プロファイルを示す図である。化学強化処理に複数回使用して劣化した無機塩組成物は、処理量に応じてＮａＮＯ３濃度が増加する傾向にある。
本明細書において、累積処理面積（ｍ２／ｋｇ）とは１ｋｇの無機塩組成溶融物に対し、１ｍ２の面積のガラス基板を化学強化処理することを表している。尚、該ガラス基板の面積はガラス基板の長辺長さと短辺長さを積算した値であり、ガラス基板の表面積ではない。
図４Ａ及び図４Ｂに示すように、研磨後の化学強化後ガラス基板のイオン交換に用いる無機塩組成物として、化学強化処理に複数回使用した無機塩組成物を用いることにより、未処理（累積処理量が０ｍ２／ｋｇ）である無機塩組成物を使用した場合と比較して、化学強化後ガラス基板の深層応力を効果的に回復できることがわかる。また、図３Ａ及び図３Ｂに示すように、研磨後の化学強化後ガラス基板のイオン交換に用いる無機塩組成物として、化学強化処理に複数回使用した無機塩組成物を用いることにより、未処理（累積処理量が０ｍ２／ｋｇ）である無機塩組成物を使用した場合と同程度までガラス表層の応力を回復できることがわかる。
ガラス基板と無機塩組成物との接触温度は特に制限されないが、イオン交換速度を速めて生産性を向上させる観点から、３６０℃以上が好ましく、３７０℃以上がより好ましく、３８０℃以上がさらに好ましい。また、塩の揮散を低減する観点から、上記接触温度は５００℃以下が好ましく、４９０℃以下がより好ましく、４８０℃以下がさらに好ましい。
ガラス基板と無機塩組成物との接触時間は特に制限されないが、時間変動によるイオン交換レベルのバラつきを低減させる観点から、５分間以上が好ましく、１０分間以上がより好ましく、２０分間以上がさらに好ましく、３０分間以上がさらに好ましい。また、生産性を向上させる観点から８時間以下が好ましい。
ガラス基板と無機塩組成物とを接触させる条件としては、例えば、３６０℃以上５００℃以下にて５分間以上８時間以下が好ましく、より好ましくは３８０℃以上４５０℃以下にて３０分間以上２時間以下が好ましい。
前記工程（Ｃ）で用いる無機塩組成物は、ガラス基板に対する累積処理面積が０．２ｍ２／ｋｇ以上であることが好ましく、より好ましくは０．３ｍ２／ｋｇ以上、さらに好ましくは０．４ｍ２／ｋｇ以上、特に好ましくは０．５ｍ２／ｋｇ以上である。無機塩組成物のガラス基板に対する累積処理面積が０．２ｍ２／ｋｇ以上であることにより、無機塩組成物中のＮａＮＯ３濃度を増加させて、ガラス表層部だけでなくガラス深層部における圧縮応力を十分に導入できるとともに、無機塩組成物の寿命を延長できる。無機塩組成物によるガラス基板に対する累積処理面積の上限は特に制限されないが、通常累積処理面積が３．０ｍ２／ｋｇ以下であることが好ましく、より好ましくは累積処理面積が２．０ｍ２／ｋｇ以下である。
第１～５実施形態において、化学強化後ガラス基板Ｃの強化膨張率を前記化学強化後ガラス基板Ａの強化膨張率で除した値は０．９０以上１．１０％以下であることが好ましい。該値を前記範囲とすることで、高品質な化学強化後ガラス基板を再生できる。該強化膨張率は、より好ましくは１．０８以下、さらに好ましくは１．０６％以下であり、また、より好ましくは０．９２％以上、さらに好ましくは０．９４％以上である。化学強化後ガラス基板Ｃの強化膨張率は＜強化膨張率の測定＞の項にて上述した式により求められる。
第１～５実施形態において、前記した工程（Ｃ）のイオン交換の前または後に該イオン交換とは別組成の無機塩組成物によりイオン交換をしてもよい。かかる態様としては、例えば、第１～５実施形態において、工程（Ｃ）のイオン交換の前に９０質量％以上１００質量％以下のＫＮＯ３及び０質量％以上５質量％未満のＮａＮＯ３を含有する無機塩組成物でイオン交換する態様が挙げられる。該別組成の無機塩組成物によるイオン交換時間は、前記した工程（Ａ）におけるイオン交換時間の１／４以下であることが好ましく、より好ましくは１／５以下、さらに好ましくは１／６以下である。
＜＜工程（Ｃ’）＞＞
工程（Ｃ’）は、前記工程（Ｃ）の後に、前記化学強化後ガラス基板Ｃの応力値を測定し、前記応力値が所定の基準を満たすか否かを判定する工程である。本実施形態においては、該応力値が所定の基準を満たさない場合、該応力値が所定の基準を満たすまで工程（Ｂ）から工程（Ｃ’）を繰り返すことが好ましい。該応力値が所定の基準を満たす場合、工程（Ｄ）を行うことが好ましい。
工程（Ｃ’）は、前記工程（Ｃ）の後に、前記化学強化後ガラス基板Ｃの応力値を測定し、前記応力値が所定の基準を満たすか否かを判定する工程である。本実施形態においては、該応力値が所定の基準を満たさない場合、該応力値が所定の基準を満たすまで工程（Ｂ）から工程（Ｃ’）を繰り返すことが好ましい。該応力値が所定の基準を満たす場合、工程（Ｄ）を行うことが好ましい。
応力プロファイルは、散乱光光弾性応力計を用いる方法で測定できる。散乱光光弾性応力計とは、レーザ光の偏光位相差を該レーザ光の波長に対して１波長以上可変する偏光位相差可変部材と、該偏光位相差を可変されたレーザ光が強化ガラスに入射されたことにより発する散乱光を所定の時間間隔で複数回撮像し複数の画像を取得する撮像素子と、該複数の画像を用いて前記散乱光の周期的な輝度変化を測定し該輝度変化の位相変化を算出し、該位相変化に基づき前記強化ガラスの表面からの深さ方向の応力分布を算出する演算部と、を有する応力測定装置である（国際公開第２０１８／０５６１２１号参照）。
散乱光光弾性応力計を用いる応力プロファイルの測定方法としては、国際公開第２０１８／０５６１２１号に記載の方法が挙げられる。散乱光光弾性応力計としては、例えば、折原製作所製のＳＬＰ－１０００、ＳＬＰ－２０００が挙げられる。これらの散乱光光弾性応力計に付属ソフトウェアＳｌｐＩＶ（Ｖｅｒ．２０１９．０１．１０．００１）を組み合わせると高精度の応力測定が可能である。
工程（Ｃ）で得られる板厚がｔ［μｍ］である化学強化後ガラス基板Ｃの表面からの深さ５０μｍにおける圧縮応力値であるＣＳ５０は（１４０ｔ－２０）ＭＰａ以上であることが好ましく、より好ましくは（１４０ｔ－１５）ＭＰａ以上、さらに好ましくは（１４０ｔ－１０）ＭＰａ以上である。また、化学強化後ガラス基板Ｃは、ガラス表面の圧縮応力値であるＣＳ０が、７５０ＭＰａ以上であることが好ましく、より好ましくは８００ＭＰａ以上、さらに好ましくは９００ＭＰａ以上である。
工程（Ｂ）及び工程（Ｃ）は外観検査の結果及び応力値が所定の基準を満たさない化学強化後ガラス基板をリワークするための工程であり、以下、これらの工程を「研磨リワーク工程」とも総称する。
＜＜工程（Ｄ）＞＞
工程（Ｄ）は、前記工程（Ｃ’）において、化学強化後ガラス基板Ｃの応力値が所定の基準を満たす場合、さらに、化学強化後ガラス基板Ｃの外観検査を行い、該外観検査の結果が所定の基準を満たすか否かを判定する工程である。本実施形態においては、該外観検査の結果が所定の基準を満たすまで、工程（Ｂ）から工程（Ｄ）までを繰り返し行うことが好ましい。工程（Ｄ）における外観検査は、工程（Ａ’）における外観検査と同様である。
工程（Ｄ）は、前記工程（Ｃ’）において、化学強化後ガラス基板Ｃの応力値が所定の基準を満たす場合、さらに、化学強化後ガラス基板Ｃの外観検査を行い、該外観検査の結果が所定の基準を満たすか否かを判定する工程である。本実施形態においては、該外観検査の結果が所定の基準を満たすまで、工程（Ｂ）から工程（Ｄ）までを繰り返し行うことが好ましい。工程（Ｄ）における外観検査は、工程（Ａ’）における外観検査と同様である。
（形状変化）
（１）化学強化後ガラス基板Ａが主表面に平面部及び曲面部を含み、且つ該主表面に垂直な方向に端面を含む化学強化後ガラス基板である実施形態
本発明の一実施形態として、化学強化後ガラス基板Ａが主表面と端面とを有し、該主表面に平面部及び曲面部を含み、且つ該主表面の該平面部に垂直な方向に該端面を形成する場合、
前記端面での前記平面部との水平方向における最突出部を点Ａ、
点Ａを起点とした曲面部の不連続点を点Ｂ、
前記平面部に対する前記点Ａを起点とする平行線と前記平面部に対する前記点Ｂを起点とする法線の交点を点Ｃ、とし、
前記工程（Ａ）において、前記化学強化後ガラス基板Ａにおける点Ａと点Ｃの距離をＸ０、点Ｂと点Ｃの距離をＹ０、平面部中央の最大板厚をｔ０とし、
前記工程（Ｂ）から前記工程（Ｄ）をｎ回繰り返した前記化学強化後ガラス基板Ｃにおける点Ａと点Ｃの距離をＸｎ、点Ｂと点Ｃの距離をＹｎ、平面部中央の板厚をｔｎと定義した場合に、（Ｘｎ／ｔｎ）／（Ｘ０／ｔ０）＞１（Ｙｎ／ｔｎ）／（Ｙ０／ｔ０）＞１の関係式を満たすことが好ましい。但し、ｎは１以上の整数である。化学強化後ガラス基板Ａが主表面に平面部及び曲面部を含む場合、特に、曲面部以外の部分であるフラットな部分において外面の傷や表面異物が存在すると不良原因となりやすい。前記関係式を満たすことにより、特に平面部における外面の傷や表面異物が効果的に除去された高品質な化学強化後ガラス基板となる。
（１）化学強化後ガラス基板Ａが主表面に平面部及び曲面部を含み、且つ該主表面に垂直な方向に端面を含む化学強化後ガラス基板である実施形態
本発明の一実施形態として、化学強化後ガラス基板Ａが主表面と端面とを有し、該主表面に平面部及び曲面部を含み、且つ該主表面の該平面部に垂直な方向に該端面を形成する場合、
前記端面での前記平面部との水平方向における最突出部を点Ａ、
点Ａを起点とした曲面部の不連続点を点Ｂ、
前記平面部に対する前記点Ａを起点とする平行線と前記平面部に対する前記点Ｂを起点とする法線の交点を点Ｃ、とし、
前記工程（Ａ）において、前記化学強化後ガラス基板Ａにおける点Ａと点Ｃの距離をＸ０、点Ｂと点Ｃの距離をＹ０、平面部中央の最大板厚をｔ０とし、
前記工程（Ｂ）から前記工程（Ｄ）をｎ回繰り返した前記化学強化後ガラス基板Ｃにおける点Ａと点Ｃの距離をＸｎ、点Ｂと点Ｃの距離をＹｎ、平面部中央の板厚をｔｎと定義した場合に、（Ｘｎ／ｔｎ）／（Ｘ０／ｔ０）＞１（Ｙｎ／ｔｎ）／（Ｙ０／ｔ０）＞１の関係式を満たすことが好ましい。但し、ｎは１以上の整数である。化学強化後ガラス基板Ａが主表面に平面部及び曲面部を含む場合、特に、曲面部以外の部分であるフラットな部分において外面の傷や表面異物が存在すると不良原因となりやすい。前記関係式を満たすことにより、特に平面部における外面の傷や表面異物が効果的に除去された高品質な化学強化後ガラス基板となる。
図５に本発明の一実施形態として、化学強化後ガラス基板が、主表面に平面部及び曲面部を含み、且つ主表面の平面部に垂直な方向に端面を形成する化学強化後ガラス基板５１である場合における、点Ａ～点Ｃ、Ｘ及びＹを示す模式断面図を示す。
点Ｂについて、「点Ａを起点とした曲面部の不連続点」とは、点Ａを起点とした曲面部における曲線形状の傾きを微分にて求め、該傾きの変化がその点を挟み最大となる点をいう。
図５におけるＸ及びＹは、前記工程（Ａ）における化学強化後ガラス基板ＡにおいてはＸ０及びＹ０、前記工程（Ｂ）から前記工程（Ｄ）をｎ回繰り返した前記化学強化後ガラス基板ＣにおいてはＸｎ及びＹｎとなる。
点Ｂについて、「点Ａを起点とした曲面部の不連続点」とは、点Ａを起点とした曲面部における曲線形状の傾きを微分にて求め、該傾きの変化がその点を挟み最大となる点をいう。
図５におけるＸ及びＹは、前記工程（Ａ）における化学強化後ガラス基板ＡにおいてはＸ０及びＹ０、前記工程（Ｂ）から前記工程（Ｄ）をｎ回繰り返した前記化学強化後ガラス基板ＣにおいてはＸｎ及びＹｎとなる。
（２）化学強化後ガラス基板Ａが主表面と端面とを有し、該主表面に平面部及び曲げ部を含む化学強化後ガラス基板である実施形態
本発明の一実施形態として、化学強化後ガラス基板Ａが主表面と端面とを有し、該主表面に平面部及び曲げ部を含む場合、
前記工程（Ｂ）から前記工程（Ｄ）を１回以上繰り返した化学強化後ガラス基板Ｃにおいて、曲げ部の変曲点から端面までの曲げ部の最大厚みをｔｃ、平面部中央の厚みをｔｆと定義した場合に、ｔｆ／ｔｃが０．９６未満であることが好ましく、より好ましくは０．９４未満である。
本発明の一実施形態として、化学強化後ガラス基板Ａが主表面と端面とを有し、該主表面に平面部及び曲げ部を含む場合、
前記工程（Ｂ）から前記工程（Ｄ）を１回以上繰り返した化学強化後ガラス基板Ｃにおいて、曲げ部の変曲点から端面までの曲げ部の最大厚みをｔｃ、平面部中央の厚みをｔｆと定義した場合に、ｔｆ／ｔｃが０．９６未満であることが好ましく、より好ましくは０．９４未満である。
曲げ部の変曲点とは、基板を断面に垂直な方向から観察した際、水平部分からコーナー部分に向かっていく曲線形状の接線傾きが最初に０では無くなる点であり、曲げ部の開始点を表す。図１１は、本発明の一実施形態として、化学強化後ガラス基板Ａ１１０が表面に平面部及び曲げ部を有する化学強化後ガラス基板である場合において、平面部中央１１１、曲げ部の変曲点１１２、端面１１３を表す模式断面図である。ｔｃは主表面上の曲げ部の任意の点を起点とし、その法線と主表面に板厚方向に対向する面との交点までの距離である。
従来の曲げ部を有する化学強化後ガラス基板の製造方法においては、研磨後に曲げ部を形成するため、板厚不均一となる。これに対し、本実施形態の製造方法により製造された化学強化後ガラス基板は、平面部中央の厚みが曲げ部の変曲点から端面までの曲げ部の最大厚みに比して薄いという特徴を有する。化学強化後ガラス基板が主表面に平面部及び曲げ部を含む場合、特に、曲げ部以外の部分であるフラットな部分において外面の傷や表面異物が存在すると不良原因となりやすい。前記関係式を満たすことにより、特に平面部における外面の傷や表面異物が効果的に除去された高品質な化学強化後ガラス基板となる。
本発明の一実施形態としては、主表面と端面とを有し、且つ前記主表面に平面部及び曲げ部を含む化学強化後ガラス基板であって、前記曲げ部の変曲点から前記端面までの前記曲げ部の最大厚みをｔｃ’、前記平面部中央の厚みをｔｆ’と定義した場合に、ｔｆ’／ｔｃ’＜０．９６の関係式を満たす、化学強化後ガラス基板が挙げられる。かかる実施形態におけるｔ１’及びｔ２’は前記したｔ１及びｔ２と同様である。
（工程数の設計関数）
本実施形態においては、工程（Ｂ）および工程（Ｃ）をＺ［回］行い、工程（Ｃ）で得られる化学強化後ガラス基板Ｃの一方の主面あたりの総研磨量をａ［μｍ］、板厚公差を±ｂ［μｍ］と定義した場合に、
Ｚ［回］＝（ａ×２）／（ｂ×２）＝ａ／ｂ
の関係式を満たすことが好ましい。但し、Ｚは１以上の整数である。
本実施形態においては、工程（Ｂ）および工程（Ｃ）をＺ［回］行い、工程（Ｃ）で得られる化学強化後ガラス基板Ｃの一方の主面あたりの総研磨量をａ［μｍ］、板厚公差を±ｂ［μｍ］と定義した場合に、
Ｚ［回］＝（ａ×２）／（ｂ×２）＝ａ／ｂ
の関係式を満たすことが好ましい。但し、Ｚは１以上の整数である。
板厚公差と研磨リワーク回数とが前記関係式を満たすことにより、外観とともに強度特性に優れる化学強化後ガラス基板を効率よく製造できる。Ｚの上限は特に制限されないが、典型的には１０回以下であることが好ましく、より好ましくは７回以下、さらに好ましくは５回以下である。
（良品率の変化）
本実施形態においては、工程（Ｂ）および工程（Ｃ）をｋ回行い、ｋ回目の工程（Ｃ）の後に得られる工程（Ｃ）で得られる前記化学強化後ガラス基板Ｃ中の良品率をＰｋ、前記工程（Ｂ）と前記工程（Ｃ）の良品歩留をａと定義した場合に、
Ｐｋ≧Ｐｋ－１＋（１－Ｐｋ－１）×ａ
の関係式を満たすことが好ましい。ｋは１以上の整数である。
本実施形態においては、工程（Ｂ）および工程（Ｃ）をｋ回行い、ｋ回目の工程（Ｃ）の後に得られる工程（Ｃ）で得られる前記化学強化後ガラス基板Ｃ中の良品率をＰｋ、前記工程（Ｂ）と前記工程（Ｃ）の良品歩留をａと定義した場合に、
Ｐｋ≧Ｐｋ－１＋（１－Ｐｋ－１）×ａ
の関係式を満たすことが好ましい。ｋは１以上の整数である。
良品率とは、外観基準を満たす化学強化後ガラス基板の割合（％）をいう。具体的には、良品率Ｐｋとは、工程（Ｂ）および工程（Ｃ）をｋ回行った際の、工程（Ａ）において準備する化学強化後ガラス基板Ａの全体数のうち、ｋ回目の工程（Ｃ）の後に得られる外観基準を満たす化学強化後ガラス基板Ｃ数（枚）の割合（％）をいう。
図１２に工程（Ｂ）および工程（Ｃ）を繰り返す回数（研磨リワーク回数）と良品率（実線）及び廃棄物量（点線）とを試算したグラフを示す。良品率が前記関係式を満たすことにより、外観とともに強度特性に優れる化学強化後ガラス基板が効率よく得られる。ｋの上限は特に制限されないが、典型的には１０回以下であることが好ましく、より好ましくは７回以下、さらに好ましくは５回以下である。
（不良品率）
本実施形態においては、工程（Ａ）における化学強化後ガラス基板Ａ中の不良品率から、工程（Ｃ）で得られる化学強化後ガラス基板Ｃ中の不良品率を減じた値が、１０％以上であることが好ましい。該値は、より好ましくは１５％以上、さらに好ましくは２０％以上、特に好ましくは３０％以上である。該値が１０％以上であることにより、外観とともに強度特性に優れる化学強化後ガラス基板を効率よく製造できる。
本実施形態においては、工程（Ａ）における化学強化後ガラス基板Ａ中の不良品率から、工程（Ｃ）で得られる化学強化後ガラス基板Ｃ中の不良品率を減じた値が、１０％以上であることが好ましい。該値は、より好ましくは１５％以上、さらに好ましくは２０％以上、特に好ましくは３０％以上である。該値が１０％以上であることにより、外観とともに強度特性に優れる化学強化後ガラス基板を効率よく製造できる。
本明細書において、不良品率とは、外観基準を満たさない化学強化後ガラス基板の割合（％）をいう。工程（Ａ）における化学強化後ガラス基板Ａ中の不良品率とは、工程（Ａ）において準備する化学強化後ガラス基板Ａの全体数（枚）のうち、外観基準を満たさない化学強化後ガラス基板Ａ数（枚）の割合（％）をいう。工程（Ｃ）で得られる化学強化後ガラス基板Ｃ中の不良品率とは、工程（Ｃ）で得られる化学強化後ガラス基板Ｃの全体数（枚）のうち、外観基準を満たさないガラス基板Ｃ数（枚）の割合（％）をいう。
（応力変化）
本実施形態においては、以下の式で表されるＣＳ５０（ａ）に対するＣＳ５０（ｃ）の割合が７０％以上であり、且つ前記工程（Ｃ）で得られる化学強化後ガラス基板ＣのＣＳ０が７５０ＭＰａ以上であることが好ましい。
（式）ＣＳ５０（ｃ）／ＣＳ５０（ａ）×１００
ＣＳ０：ガラス表層における圧縮応力の値［ＭＰａ］
ＣＳ５０：表面からの深さ５０μｍにおける圧縮応力の値［ＭＰａ］
ＣＳ５０（ａ）：工程（Ａ）における前記化学強化後ガラス基板ＡのＣＳ５０［ＭＰａ］
ＣＳ５０（ｃ）：工程（Ｃ）における前記化学強化後ガラス基板ＣのＣＳ５０［ＭＰａ］
本実施形態においては、以下の式で表されるＣＳ５０（ａ）に対するＣＳ５０（ｃ）の割合が７０％以上であり、且つ前記工程（Ｃ）で得られる化学強化後ガラス基板ＣのＣＳ０が７５０ＭＰａ以上であることが好ましい。
（式）ＣＳ５０（ｃ）／ＣＳ５０（ａ）×１００
ＣＳ０：ガラス表層における圧縮応力の値［ＭＰａ］
ＣＳ５０：表面からの深さ５０μｍにおける圧縮応力の値［ＭＰａ］
ＣＳ５０（ａ）：工程（Ａ）における前記化学強化後ガラス基板ＡのＣＳ５０［ＭＰａ］
ＣＳ５０（ｃ）：工程（Ｃ）における前記化学強化後ガラス基板ＣのＣＳ５０［ＭＰａ］
前記ＣＳ５０（ａ）に対するＣＳ５０（ｃ）の割合及び工程（Ｃ）で得られる化学強化後ガラス基板ＣのＣＳ０が前記範囲を満たすことにより、ガラス表面およびガラス深層部の両方に十分な圧縮応力を導入でき、強度に優れた化学強化後ガラス基板を製造できる。
前記ＣＳ５０（ａ）に対するＣＳ５０（ｃ）の割合は、７０％以上であることが好ましく、より好ましくは７５％以上、さらに好ましくは８０％以上、特に好ましくは８５％以上である。前記ＣＳ５０（ａ）に対するＣＳ５０（ｃ）の割合の上限は特に制限されず、１００％以上であれば好ましいが、典型的には１００％以下である。
工程（Ｃ）で得られる化学強化後ガラス基板ＣのＣＳ０は７５０ＭＰａ以上であることが好ましく、より好ましくは８００ＭＰａ以上であり、さらに好ましくは８５０ＭＰａ以上であり、特に好ましくは９００ＭＰａ以上である。工程（Ｃ）で得られる化学強化後ガラス基板ＣのＣＳ０の上限は特に制限されないが、典型的には１２００ＭＰａ以下である。
（用途）
本実施形態で製造される化学強化後ガラス基板は、既存の成形法で成形可能な寸法を有しており、最終的には使用目的に適した大きさに切断してもよく、化学強化をする前に所定の寸法に切断されたガラス基板を化学強化したものでもよい。すなわち、タブレットＰＣまたはスマートフォン等のディスプレイから、自動車用ガラス、ビル若しくは住宅の窓ガラスなどの大きさまで対応できる。化学強化後ガラス基板の外縁は、矩形に限らず、円形または多角形などの形状でもよく、穴あけ加工が施されたガラスでもよい。
本実施形態で製造される化学強化後ガラス基板は、既存の成形法で成形可能な寸法を有しており、最終的には使用目的に適した大きさに切断してもよく、化学強化をする前に所定の寸法に切断されたガラス基板を化学強化したものでもよい。すなわち、タブレットＰＣまたはスマートフォン等のディスプレイから、自動車用ガラス、ビル若しくは住宅の窓ガラスなどの大きさまで対応できる。化学強化後ガラス基板の外縁は、矩形に限らず、円形または多角形などの形状でもよく、穴あけ加工が施されたガラスでもよい。
＜リワーク方法：第６実施形態＞
本発明における第６実施形態は、第１～５実施形態のいずれか１の化学強化後ガラス基板の製造方法における工程（Ａ）及び研磨リワーク工程［工程（Ｂ）及び工程（Ｃ）］を含む、化学強化後ガラス基板のリワーク方法である。
本発明における第６実施形態は、第１～５実施形態のいずれか１の化学強化後ガラス基板の製造方法における工程（Ａ）及び研磨リワーク工程［工程（Ｂ）及び工程（Ｃ）］を含む、化学強化後ガラス基板のリワーク方法である。
本実施形態では、以下の式で表されるＣＳ５０（ａ）に対するＣＳ５０（ｃ）の割合が７０％以上であり、且つ前記工程（Ｃ）で得られる化学強化後ガラス基板のＣＳ０が７５０ＭＰａ以上である。
（式）ＣＳ５０（ｃ）／ＣＳ５０（ａ）×１００
ＣＳ０：ガラス表層における圧縮応力の値［ＭＰａ］
ＣＳ５０：表面からの深さ５０μｍにおける圧縮応力の値を［ＭＰａ］
ＣＳ５０（ａ）：工程（Ａ）における前記化学強化後ガラス基板ＡのＣＳ５０［ＭＰａ］
ＣＳ５０（ｃ）：工程（Ｃ）における前記化学強化後ガラス基板ＣのＣＳ５０［ＭＰａ］
（式）ＣＳ５０（ｃ）／ＣＳ５０（ａ）×１００
ＣＳ０：ガラス表層における圧縮応力の値［ＭＰａ］
ＣＳ５０：表面からの深さ５０μｍにおける圧縮応力の値を［ＭＰａ］
ＣＳ５０（ａ）：工程（Ａ）における前記化学強化後ガラス基板ＡのＣＳ５０［ＭＰａ］
ＣＳ５０（ｃ）：工程（Ｃ）における前記化学強化後ガラス基板ＣのＣＳ５０［ＭＰａ］
前記ＣＳ５０（ａ）に対するＣＳ５０（ｃ）の割合及び工程（Ｃ）で得られる化学強化後ガラス基板ＣのＣＳ０が前記範囲を満たすことにより、ガラス表面およびガラス深層部の両方に十分な圧縮応力を導入でき、化学強化後ガラス基板の強度を向上できる。
前記ＣＳ５０（ａ）に対するＣＳ５０（ｃ）の割合は、好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上、特に好ましくは８５％以上である。前記ＣＳ５０（ａ）に対するＣＳ５０（ｃ）の割合の上限は特に制限されず、１００％を超えることが好ましいが、典型的には１００％以下である。
工程（Ｃ）で得られる化学強化後ガラス基板ＣのＣＳ０は好ましくは８００ＭＰａ以上であり、より好ましくは８５０ＭＰａ以上であり、特に好ましくは９００ＭＰａ以上である。工程（Ｃ）で得られる化学強化後ガラス基板ＣのＣＳ０の上限は特に制限されないが、典型的には１２００ＭＰａ以下である。
＜リワーク方法：第７実施形態＞
本発明に係る第７実施形態は、第１～５実施形態による化学強化後ガラス基板の製造方法のいずれか１における工程（Ａ）、工程（Ｂ）、工程（Ｃ）、工程（Ｃ’）及び工程（Ｄ）を順に含む、化学強化後ガラス基板のリワーク方法である。本実施形態においては、工程（Ｃ’）において測定する応力値が所定の基準を満たすまで工程（Ｂ）から工程（Ｃ’）までを繰り返し、工程（Ｄ）における外観検査の結果が所定の基準を満たすまで工程（Ｂ）から工程（Ｄ）までを繰り返す。
本発明に係る第７実施形態は、第１～５実施形態による化学強化後ガラス基板の製造方法のいずれか１における工程（Ａ）、工程（Ｂ）、工程（Ｃ）、工程（Ｃ’）及び工程（Ｄ）を順に含む、化学強化後ガラス基板のリワーク方法である。本実施形態においては、工程（Ｃ’）において測定する応力値が所定の基準を満たすまで工程（Ｂ）から工程（Ｃ’）までを繰り返し、工程（Ｄ）における外観検査の結果が所定の基準を満たすまで工程（Ｂ）から工程（Ｄ）までを繰り返す。
本実施形態では、工程（Ａ）における前記化学強化後ガラス基板Ａ中の不良品率から、前記工程（Ｃ）で得られる前記化学強化後ガラス基板Ｃ中の不良品率を減じた値が、１０％以上であり、より好ましくは１５％以上、さらに好ましくは２０％以上、特に好ましくは３０％以上である。該値が１０％以上であることにより、化学強化後ガラス基板の強度特性とともに外観を向上できる。
＜化学強化後ガラス基板：第８実施形態＞
本発明の第８実施形態は、主表面と端面とを有する、リワークされた化学強化後ガラス基板である。第８実施形態において、リワークとは、以下のいずれか１の処理であることが好ましい。
（１）化学強化後ガラス基板の表面を研磨した後に、９０質量％以上のＫＮＯ３及び１．０質量％以上６．０質量％以下のＮａＮＯ３を含有する無機塩組成物に接触させてイオン交換することを含む処理。
（２）化学強化後ガラス基板の表面を研磨した後に、９０質量％以上のＫＮＯ３、０質量％以上６．０質量％以下のＮａＮＯ３及び０質量％以上１．０質量％以下のＬｉＮＯ３を含有する無機塩組成物に接触させてイオン交換することを少なくとも１回含む処理。
本発明の第８実施形態は、主表面と端面とを有する、リワークされた化学強化後ガラス基板である。第８実施形態において、リワークとは、以下のいずれか１の処理であることが好ましい。
（１）化学強化後ガラス基板の表面を研磨した後に、９０質量％以上のＫＮＯ３及び１．０質量％以上６．０質量％以下のＮａＮＯ３を含有する無機塩組成物に接触させてイオン交換することを含む処理。
（２）化学強化後ガラス基板の表面を研磨した後に、９０質量％以上のＫＮＯ３、０質量％以上６．０質量％以下のＮａＮＯ３及び０質量％以上１．０質量％以下のＬｉＮＯ３を含有する無機塩組成物に接触させてイオン交換することを少なくとも１回含む処理。
＜化学強化後ガラス基板の製造方法：第９実施形態＞
本発明の第９実施形態は、化学強化後ガラス基板の製造方法であって、研磨工程と化学強化工程を含む再生処理を実施することで廃棄物の総排出量を削減する、化学強化後ガラス基板の製造方法である。第９実施形態における研磨工程としては、第１～５実施形態における工程（Ｂ）と同様とする。第９実施形態における化学強化工程としては、第１～５実施形態のいずれか１における工程（Ｃ）と同様とする。「廃棄物の総排出量を削減する」とは、第９実施形態における再生処理を実施しない場合と比較して、廃棄物の総排出量が低減されることをさす。
本発明の第９実施形態は、化学強化後ガラス基板の製造方法であって、研磨工程と化学強化工程を含む再生処理を実施することで廃棄物の総排出量を削減する、化学強化後ガラス基板の製造方法である。第９実施形態における研磨工程としては、第１～５実施形態における工程（Ｂ）と同様とする。第９実施形態における化学強化工程としては、第１～５実施形態のいずれか１における工程（Ｃ）と同様とする。「廃棄物の総排出量を削減する」とは、第９実施形態における再生処理を実施しない場合と比較して、廃棄物の総排出量が低減されることをさす。
＜管理方法＞
装置を用いてイオン交換を行うことにより化学強化後ガラス基板を量産する場合、（１）化学強化の温度、（２）化学強化の時間、（３）無機塩組成物の組成を該装置において設定して強化するが、強化を繰り返すと、無機塩組成物中にイオン交換によりガラスから出てきたアルカリ金属イオンが溶けだすため、（３）無機塩組成物の組成（無機塩組成物中に含有される各成分の濃度）が変化し、該装置において管理しにくいという問題がある。この無機塩組成物の組成が変化する状態を「塩劣化」と呼び、塩劣化が進むと得られる化学強化後ガラス基板が期待する応力を満たさない場合がある。
装置を用いてイオン交換を行うことにより化学強化後ガラス基板を量産する場合、（１）化学強化の温度、（２）化学強化の時間、（３）無機塩組成物の組成を該装置において設定して強化するが、強化を繰り返すと、無機塩組成物中にイオン交換によりガラスから出てきたアルカリ金属イオンが溶けだすため、（３）無機塩組成物の組成（無機塩組成物中に含有される各成分の濃度）が変化し、該装置において管理しにくいという問題がある。この無機塩組成物の組成が変化する状態を「塩劣化」と呼び、塩劣化が進むと得られる化学強化後ガラス基板が期待する応力を満たさない場合がある。
以下、装置を用いて化学強化後ガラス基板を連続的に製造する一態様として、化学強化後ガラスを無機塩組成物に浸漬させて第一のイオン交換を行い、該無機塩組成物に別の化学強化後ガラス基板を浸漬させて第二のイオン交換をする場合について具体的に説明する。第一のイオン交換で使われる無機塩組成物と、第二のイオン交換で使われる無機塩組成物は、それぞれ塩劣化が確認されたタイミングで交換されることが好ましい。塩劣化は、第一のイオン交換後の化学強化後ガラス基板の応力値と第二のイオン交換後の化学強化後ガラス基板の応力値のどちらかまたは両方で判断され、無機塩組成物の交換、化学強化条件の変更が実施される。
化学強化後ガラス基板の応力値は、例えば折原製作所製ＳＬＰ－１０００などの使用により評価できるが、国際公開第２０２０／０４５０９３号に記載の方法（以下、方法Ａと略す）により評価してもよい。該応力値を方法Ａにより評価する場合、塩劣化や化学強化条件の情報、言い換えると第一のイオン交換及び第二のイオン交換に関する情報に基づいてパラメータを複数作成してもよい。該情報としては、例えば、第一のイオン交換及び／又は第二のイオン交換の塩劣化、第一のイオン交換及び／又は第二のイオン交換の化学強化時間、並びに第一のイオン交換及び／又は第二のイオン交換における無機塩組成物の温度に関する情報が挙げられる。該情報に基づき、パラメータを複数に分けて作成してもよい。
また、通常は、第一のイオン交換後に化学強化後ガラス基板を水洗して乾燥してから第二のイオン交換をすることが多い。一方で、第一のイオン交換後に第二のイオン交換における無機塩組成物に近い組成且つ比較的低温の無機塩組成物に浸漬（以下、共洗いと略す）した後に、水洗をせずに第二のイオン交換を実施することがある。その場合、共洗いに用いられる無機塩組成物には、第一のイオン交換の無機塩組成物に含まれるアルカリ金属イオンが溶け出すため、繰り返し使うと無機塩組成物の組成が変わるという問題がある。この状態も同様に塩劣化と呼び、無機塩組成物の交換が必要なため、共洗い後、または第二のイオン交換後の化学強化後ガラス基板の応力値で塩交換のタイミングを判断することが好ましい。その応力値は、例えば折原製作所製ＳＬＰ－１０００などの使用により評価できるが、方法Ａにより評価してもよい。該応力値を方法Ａにより評価する場合、前述した第一のイオン交換及び第二のイオン交換に関する情報（例えば、塩劣化条件、化学強化条件の情報）、すなわち共洗いの情報に基づいてパラメータを複数作成して最適なパラメータを使用してもよい。該共洗いの情報としては、例えば、共洗いにおける塩劣化の情報、共洗いにおける浸漬時間の情報、共洗いにおける無機塩組成物の温度の情報が挙げられる。該共洗いの情報に基づき、パラメータを複数に分けて最適なパラメータを作成してもよい。
研磨リワーク後における化学強化後ガラス基板の応力値は、例えば折原製作所製ＳＬＰ－１０００などの使用により評価できるが、方法Ａにより評価してもよい。該応力値を方法Ａにより評価する場合、前述した第一のイオン交換の情報、共洗いの情報、第二のイオン交換の情報、リワークの情報を元に複数のパラメータを作成してもよい。該リワークの情報としては、例えば、リワークする前の化学強化後ガラス基板の情報（例えば、応力値等）、リワークするときの加工条件及びリワーク回数などが挙げられる。
１．評価方法
本実施例における各種評価は以下に示す分析方法により行った。
（表面応力）
ガラスの表面圧縮応力値（単位：ＭＰａ）と各深さにおける圧縮応力値（ＣＳ、ＣＳｋ、単位：ＭＰａ）および圧縮応力層の深さ（ＤＯＬ、単位：μｍ）は、折原製作所社製表面応力計（ＦＳＭ－６０００）および折原製作所社製散乱光光弾性応力計（ＳＬＰ－２０００）を用いて測定した。
本実施例における各種評価は以下に示す分析方法により行った。
（表面応力）
ガラスの表面圧縮応力値（単位：ＭＰａ）と各深さにおける圧縮応力値（ＣＳ、ＣＳｋ、単位：ＭＰａ）および圧縮応力層の深さ（ＤＯＬ、単位：μｍ）は、折原製作所社製表面応力計（ＦＳＭ－６０００）および折原製作所社製散乱光光弾性応力計（ＳＬＰ－２０００）を用いて測定した。
（引張応力）
引張応力値は（ＣＴ、単位：ＭＰａ）は、特開２０１６－１４２６００号公報に開示される応力プロファイル算出方法を用いて、応力分布を測定し、その応力分布を厚みで積分し、算出した。
引張応力値は（ＣＴ、単位：ＭＰａ）は、特開２０１６－１４２６００号公報に開示される応力プロファイル算出方法を用いて、応力分布を測定し、その応力分布を厚みで積分し、算出した。
（表面傷）
暗室環境で照度５０００ルクスの照明下、ガラスと判定者の目との距離を５０ｃｍとし、ガラス外観観察をした際に、傷などの規格判定上異常と判定されるかによって、判別した。ここでは、上記環境下で、０．１ｍｍの幅を持つスクラッチ、もしくは０．０５ｍｍ～０．１ｍｍの幅かつ１ｍｍ以上の長さを持つスクラッチと判定できる傷を異常と判定した。
暗室環境で照度５０００ルクスの照明下、ガラスと判定者の目との距離を５０ｃｍとし、ガラス外観観察をした際に、傷などの規格判定上異常と判定されるかによって、判別した。ここでは、上記環境下で、０．１ｍｍの幅を持つスクラッチ、もしくは０．０５ｍｍ～０．１ｍｍの幅かつ１ｍｍ以上の長さを持つスクラッチと判定できる傷を異常と判定した。
２．化学強化後ガラスの製造
＜実験例１：研磨リワークにおける化学強化条件と応力の関係＞
［工程（Ａ）］
フロート法により製造された下記に示す組成（酸化物基準のモル百分率表示）のガラスａであり、５０ｍｍ×５０ｍｍ×０．６５ｍｍのガラス板を、下記イオン交換条件により、表層に圧縮応力層を形成させた化学強化後ガラス基板Ａを用意した。
ガラスａ：ＳｉＯ２ ６６％、Ａｌ２Ｏ３ １１％、Ｌｉ２Ｏ １１％、Ｎａ２Ｏ ６％、Ｋ２Ｏ １．５％、ＭｇＯ ３％、ＣａＯ ０．２％およびＺｒＯ２ １．３％
＜実験例１：研磨リワークにおける化学強化条件と応力の関係＞
［工程（Ａ）］
フロート法により製造された下記に示す組成（酸化物基準のモル百分率表示）のガラスａであり、５０ｍｍ×５０ｍｍ×０．６５ｍｍのガラス板を、下記イオン交換条件により、表層に圧縮応力層を形成させた化学強化後ガラス基板Ａを用意した。
ガラスａ：ＳｉＯ２ ６６％、Ａｌ２Ｏ３ １１％、Ｌｉ２Ｏ １１％、Ｎａ２Ｏ ６％、Ｋ２Ｏ １．５％、ＭｇＯ ３％、ＣａＯ ０．２％およびＺｒＯ２ １．３％
（イオン交換条件）
第１段階のイオン交換として、４１０℃に保持された１００質量％の硝酸ナトリウムからなる無機塩組成物の溶融塩浴中に、上記のガラス板を２．５時間浸漬した。その後、ガラス板を浴槽から取り出し、ガラス板の表面を洗浄し、乾燥させた。
第２段階のイオン交換として、乾燥後のガラス板を、４４０℃に保持された、９９質量％の硝酸カリウム及び１質量％の硝酸ナトリウムからなる無機塩組成物の溶融塩浴中に１時間浸漬した。その後、得られた化学強化後ガラス基板Ａを浴槽から取り出し、化学強化後ガラス基板Ａの表面を洗浄し、乾燥させた。
第１段階のイオン交換として、４１０℃に保持された１００質量％の硝酸ナトリウムからなる無機塩組成物の溶融塩浴中に、上記のガラス板を２．５時間浸漬した。その後、ガラス板を浴槽から取り出し、ガラス板の表面を洗浄し、乾燥させた。
第２段階のイオン交換として、乾燥後のガラス板を、４４０℃に保持された、９９質量％の硝酸カリウム及び１質量％の硝酸ナトリウムからなる無機塩組成物の溶融塩浴中に１時間浸漬した。その後、得られた化学強化後ガラス基板Ａを浴槽から取り出し、化学強化後ガラス基板Ａの表面を洗浄し、乾燥させた。
［工程（Ｂ）］
研磨スラリーとして、平均粒子直径（ｄ５０）が１．２μｍの酸化セリウムを水に分散させて比重１．０７のスラリーを作製した。次に、得られたスラリーを用いて、ショアＡ硬度が５８°、１００ｇ／ｃｍ２での沈み込み量が０．１１ｍｍの不織布研磨パッドを用いて、研磨圧９．８ｋＰａの条件で、工程（Ａ）で準備した化学強化後ガラス基板Ａの表面を各々３μｍ研磨したガラス基板を得た。
研磨スラリーとして、平均粒子直径（ｄ５０）が１．２μｍの酸化セリウムを水に分散させて比重１．０７のスラリーを作製した。次に、得られたスラリーを用いて、ショアＡ硬度が５８°、１００ｇ／ｃｍ２での沈み込み量が０．１１ｍｍの不織布研磨パッドを用いて、研磨圧９．８ｋＰａの条件で、工程（Ａ）で準備した化学強化後ガラス基板Ａの表面を各々３μｍ研磨したガラス基板を得た。
［工程（Ｃ）］
工程（Ｂ）で表面を研磨したガラス基板を下記条件によりイオン交換して、化学強化後ガラス基板Ｃを得た。
（イオン交換条件）
イオン交換として、乾燥後のガラス板を、４４０℃に保持された、下記に示す組成の無機塩組成物の溶融塩浴中に１時間浸漬した。その後、ガラス板を浴槽から取り出し、ガラス板の表面を洗浄し、乾燥させた。
例１：ＮａＮＯ３ １質量％およびＫＮＯ３ ９９質量％
例２：ＮａＮＯ３ ２質量％およびＫＮＯ３ ９８質量％
例３：ＮａＮＯ３ ３質量％およびＫＮＯ３ ９７質量％
工程（Ｂ）で表面を研磨したガラス基板を下記条件によりイオン交換して、化学強化後ガラス基板Ｃを得た。
（イオン交換条件）
イオン交換として、乾燥後のガラス板を、４４０℃に保持された、下記に示す組成の無機塩組成物の溶融塩浴中に１時間浸漬した。その後、ガラス板を浴槽から取り出し、ガラス板の表面を洗浄し、乾燥させた。
例１：ＮａＮＯ３ １質量％およびＫＮＯ３ ９９質量％
例２：ＮａＮＯ３ ２質量％およびＫＮＯ３ ９８質量％
例３：ＮａＮＯ３ ３質量％およびＫＮＯ３ ９７質量％
上記で得られた化学強化後ガラス基板Ｃについて圧縮応力を測定した結果を図２Ｂおよび図２Ｃに示す。図２Ｂは、ＣＳ０を縦軸とし、該無機塩組成物中のＮａＮＯ３濃度を横軸とする図である。図２Ｃは、ＣＳ５０を縦軸とし、該無機塩組成物中のＮａＮＯ３濃度を横軸とする図である。
図２Ｃに示すように、研磨後のイオン交換に用いる無機塩組成物中のＮａＮＯ３濃度が増加すると、ＣＳ５０が増加した。一方で、図２Ｂに示すように、研磨後のイオン交換に用いる無機塩組成物中のＮａＮＯ３濃度が増加するに伴い、ＣＳ０が減少した。これらの結果から、無機塩組成物中のＮａＮＯ３濃度を最適範囲（１．０質量％以上６．０質量％以下）とすることにより、ＣＳ０とＣＳ５０とを両立させて、ガラス表面およびガラス深層部の両方に十分な圧縮応力を導入でき、化学強化後ガラス基板の強度を向上できることがわかった。
＜実験例２：研磨リワーク前後の応力プロファイル変化＞
［工程（Ａ）］
実験例１の工程（Ａ）と同様にして、表層に圧縮応力層を形成させた化学強化後ガラス基板Ａを用意した。
［工程（Ａ）］
実験例１の工程（Ａ）と同様にして、表層に圧縮応力層を形成させた化学強化後ガラス基板Ａを用意した。
［工程（Ｂ）］
実験例１の工程（Ｂ）と同様の条件にて、工程（Ａ）で得られた化学強化後ガラス基板Ａの一方の主面の表面を３μｍ、５μｍまたは８μｍそれぞれ研磨したガラス基板を得た。
実験例１の工程（Ｂ）と同様の条件にて、工程（Ａ）で得られた化学強化後ガラス基板Ａの一方の主面の表面を３μｍ、５μｍまたは８μｍそれぞれ研磨したガラス基板を得た。
［工程（Ｃ）］
工程（Ｂ）で得られたガラス基板について、イオン交換を行い、４４０℃に保持された、下記に示す無機塩組成物の溶融塩浴中に１時間浸漬し、化学強化後ガラス基板Ｃを得た。その後、ガラス板を浴槽から取り出し、ガラス板の表面を洗浄し、乾燥させた。
ＮａＮＯ３非含有塩：ガラス基板の累積処理量が０ｍ２／ｋｇであり、ＫＮＯ３ 質量９８％及びＮａＮＯ３ 質量２％である無機塩組成物
ＮａＮＯ３含有塩：１段目のイオン交換（ＮａＮＯ３ １００質量％、４１０℃にて２．５時間）および２段目のイオン交換（ＫＮＯ３ ９９質量％及びＮａＮＯ３ 質量１％、４４０℃にて１時間）を経て、ガラス基板の累積処理量が０．５ｍ２／ｋｇである無機塩組成物。
工程（Ｂ）で得られたガラス基板について、イオン交換を行い、４４０℃に保持された、下記に示す無機塩組成物の溶融塩浴中に１時間浸漬し、化学強化後ガラス基板Ｃを得た。その後、ガラス板を浴槽から取り出し、ガラス板の表面を洗浄し、乾燥させた。
ＮａＮＯ３非含有塩：ガラス基板の累積処理量が０ｍ２／ｋｇであり、ＫＮＯ３ 質量９８％及びＮａＮＯ３ 質量２％である無機塩組成物
ＮａＮＯ３含有塩：１段目のイオン交換（ＮａＮＯ３ １００質量％、４１０℃にて２．５時間）および２段目のイオン交換（ＫＮＯ３ ９９質量％及びＮａＮＯ３ 質量１％、４４０℃にて１時間）を経て、ガラス基板の累積処理量が０．５ｍ２／ｋｇである無機塩組成物。
得られた化学強化後ガラス基板Ｃの圧縮応力を測定した結果を図３ＡおよびＢ、図４ＡおよびＢに示す。図３Ａおよび図４Ａは、ＮａＮＯ３非含有塩を用いて研磨後のイオン交換を行って得られた化学強化後ガラス基板Ｃの応力プロファイルを示す図である。図３Ｂおよび図４Ｂは、ＮａＮＯ３含有塩を用いて研磨後の化学強化処理を行って得られた化学強化後ガラス基板Ｃの応力プロファイルを示す図である。
図４Ｂに示すように、研磨後のガラス基板のイオン交換に用いる無機塩組成物としてＮａＮＯ３含有塩を用いることにより、ＮａＮＯ３非含有塩を使用した場合（図４Ａ）と比較して、化学強化後ガラス基板の深層応力を効果的に回復できることがわかった。
＜実験例３：良品率の変化の試算＞
工程（Ｂ）および工程（Ｃ）をｋ回行い、工程（Ｃ）において得られる化学強化後ガラス基板Ｃ中の良品率をＰｋ、前記工程（Ｂ）と前記工程（Ｃ）の良品歩留をａと定義した場合に、下記の関係式を満たすことがわかった。
Ｐｋ≧Ｐｋ－１＋（１－Ｐｋ－１）×ａ
工程（Ｂ）および工程（Ｃ）をｋ回行い、工程（Ｃ）において得られる化学強化後ガラス基板Ｃ中の良品率をＰｋ、前記工程（Ｂ）と前記工程（Ｃ）の良品歩留をａと定義した場合に、下記の関係式を満たすことがわかった。
Ｐｋ≧Ｐｋ－１＋（１－Ｐｋ－１）×ａ
良品率とは、下記の通り、外観基準を満たす化学強化後ガラス基板の割合（％）をいう。
良品率Ｐｋ：工程（Ｂ）および工程（Ｃ）をｋ回行い、工程（Ａ）とｋ回の工程（Ｂ）と工程（Ｃ）のいずれかの工程を実施した化学強化後ガラス基板の全体数のうち、外観基準を満たすガラス基板Ｃ数（枚）の割合（％）
良品率Ｐｋ：工程（Ｂ）および工程（Ｃ）をｋ回行い、工程（Ａ）とｋ回の工程（Ｂ）と工程（Ｃ）のいずれかの工程を実施した化学強化後ガラス基板の全体数のうち、外観基準を満たすガラス基板Ｃ数（枚）の割合（％）
図１２に工程（Ｂ）および工程（Ｃ）を行なう回数（研磨リワーク回数）と、良品率（実線）及び廃棄物量（点線）と、を試算したグラフを示す。図１２の良品率はａ＝０．６、Ｐｏ＝０．６の場合の推移を示している。図１２では良品率は百分率で表記している。また、図１２に示す廃棄物量は、板厚０．６５ｍｍの５インチサイズのスマートフォン用カバーガラスを５０万セル生産する場合の廃棄物量を試算したものである。図１２において、化学強化工程以外の不良品発生率は含まないものとする。図１２に示すように、研磨リワーク回数が増える程、良品率が増加するとともに廃棄物量が減少することがわかる。
＜実験例４：無機塩組成物の寿命延長の試算＞
図１３に、無機塩組成物の寿命延長を試算した結果を示す。図１３の左図に示すように、従来のプロセスでは、無機塩組成物をイオン交換に繰り返し使用して処理面積が増加することにより、得られる化学強化後ガラス基板の強化膨張率及び深層応力は低下して規格下限を下回るようになり、廃棄されていた（塩ライフエンド）。一方、図１３の右図に示すように、工程（Ｂ）および工程（Ｃ）を含む化学強化（研磨リワーク）により、繰り返し使用した無機塩組成物を用いてイオン交換した場合にも、得られる化学強化後ガラス基板の深層応力を回復させることができる。したがって、本発明の製造方法及びリワーク方法によれば、従来と比して、無機塩組成物をより長い寿命で使用できることがわかる。
図１３に、無機塩組成物の寿命延長を試算した結果を示す。図１３の左図に示すように、従来のプロセスでは、無機塩組成物をイオン交換に繰り返し使用して処理面積が増加することにより、得られる化学強化後ガラス基板の強化膨張率及び深層応力は低下して規格下限を下回るようになり、廃棄されていた（塩ライフエンド）。一方、図１３の右図に示すように、工程（Ｂ）および工程（Ｃ）を含む化学強化（研磨リワーク）により、繰り返し使用した無機塩組成物を用いてイオン交換した場合にも、得られる化学強化後ガラス基板の深層応力を回復させることができる。したがって、本発明の製造方法及びリワーク方法によれば、従来と比して、無機塩組成物をより長い寿命で使用できることがわかる。
＜実験例５：主表面に平面部及び曲げ部を含み、且つ主表面の平面部に垂直な方向に端面を形成する化学強化後ガラス基板における研磨リワーク前後の形状変化＞
図６に、本発明の製造方法において、工程（Ｂ）および工程（Ｃ）を行う回数（研磨リワーク回数）の増加に伴う、得られる化学強化後ガラス基板Ｃの端面形状の変化を示す。
図７に、Ｘｎ、Ｙｎ、Ｘｎ／ｔｎ、Ｙｎ／ｔｎ、（Ｘｎ／ｔｎ）／（Ｘ０／ｔ０）、（Ｙｎ／ｔｎ）／（Ｙ０／ｔ０）の値を示す。
図８に、Ｘｎ／ｔｎ、Ｙｎ／ｔｎを縦軸とし、研磨リワーク回数（回）を横軸としたグラフを示す。
図６に、本発明の製造方法において、工程（Ｂ）および工程（Ｃ）を行う回数（研磨リワーク回数）の増加に伴う、得られる化学強化後ガラス基板Ｃの端面形状の変化を示す。
図７に、Ｘｎ、Ｙｎ、Ｘｎ／ｔｎ、Ｙｎ／ｔｎ、（Ｘｎ／ｔｎ）／（Ｘ０／ｔ０）、（Ｙｎ／ｔｎ）／（Ｙ０／ｔ０）の値を示す。
図８に、Ｘｎ／ｔｎ、Ｙｎ／ｔｎを縦軸とし、研磨リワーク回数（回）を横軸としたグラフを示す。
図５は、点Ａ～点Ｃ、Ｘ及びＹを示す模式図である。点Ａ～点Ｃ、Ｘ０、Ｙ０及びｔ０、並びにＸｎ、Ｙｎ及びｔｎは以下の通り定義される。
点Ａ：前記端面での前記平面部との水平方向における最突出部
点Ｂ：点Ａを起点とした曲面部の不連続点
点Ｃ：点Ａを起点とした前記平面部に対する平行線と点Ｂを起点とした前記平面部に対する法線の交点
工程（Ａ）において、前記化学強化後ガラス基板Ａにおける点Ａと点Ｃの距離をＸ０、点Ｂと点Ｃの距離をＹ０、平面部中央の最大板厚をｔ０とする。
工程（Ｂ）から前記工程（Ｄ）をｎ回繰り返した前記化学強化後ガラス基板Ｃにおける点Ａと点Ｃの距離をＸｎ、点Ｂと点Ｃの距離をＹｎ、平面部中央の板厚をｔｎとする。
点Ａ：前記端面での前記平面部との水平方向における最突出部
点Ｂ：点Ａを起点とした曲面部の不連続点
点Ｃ：点Ａを起点とした前記平面部に対する平行線と点Ｂを起点とした前記平面部に対する法線の交点
工程（Ａ）において、前記化学強化後ガラス基板Ａにおける点Ａと点Ｃの距離をＸ０、点Ｂと点Ｃの距離をＹ０、平面部中央の最大板厚をｔ０とする。
工程（Ｂ）から前記工程（Ｄ）をｎ回繰り返した前記化学強化後ガラス基板Ｃにおける点Ａと点Ｃの距離をＸｎ、点Ｂと点Ｃの距離をＹｎ、平面部中央の板厚をｔｎとする。
図６、図７及び図８に示すように、工程（Ｂ）および工程（Ｃ）を行なう回数の増加に伴い平面部中央における研磨量が増えるが、端面における研磨量は少ないため、化学強化後ガラス基板の端面において（Ｘｎ／ｔｎ）／（Ｘ０／ｔ０）＞１及び（Ｙｎ／ｔｎ）／（Ｙ０／ｔ０）＞１の関係式が成り立つことがわかる。
＜実験例６：主表面に平面部及び曲げ部を含む化学強化後ガラス基板における研磨リワーク前後の形状変化＞
図９に、主表面に平面部及び曲げ部を含む化学強化後ガラス基板における、研磨リワーク実施前と研磨リワーク後の平面部中央と曲げ部のコーナー部分を示す図を示す。
図１０は、主表面に平面部及び曲げ部を含む化学強化後ガラス基板において、曲げ部の変曲点から端面までの曲げ部の最大厚みをｔｃ、平面部中央の厚みをｔｆと定義した場合に、研磨リワーク前及び研磨リワーク５回後におけるｔｆ、ｔｃ、ｔｆ／ｔｃを示す図である。
図９に、主表面に平面部及び曲げ部を含む化学強化後ガラス基板における、研磨リワーク実施前と研磨リワーク後の平面部中央と曲げ部のコーナー部分を示す図を示す。
図１０は、主表面に平面部及び曲げ部を含む化学強化後ガラス基板において、曲げ部の変曲点から端面までの曲げ部の最大厚みをｔｃ、平面部中央の厚みをｔｆと定義した場合に、研磨リワーク前及び研磨リワーク５回後におけるｔｆ、ｔｃ、ｔｆ／ｔｃを示す図である。
図９及び図１０に示すように、工程（Ｂ）および工程（Ｃ）を行なう回数の増加に伴い平面部中央の研磨量が増えるが、曲げ部の研磨量は少ないため、化学強化後ガラス基板において、ｔｆ／ｔｃ＜０．９６の関係式が成り立つことがわかる。
＜実験例７：化学強化後ガラス基板の作製及び評価＞
［工程（Ａ）］
イオン交換する条件を下記イオン交換条件とした以外は、実験例１と同様にして、表層に圧縮応力層を形成させた化学強化後ガラス基板Ａを用意した。
（イオン交換条件）
第１段階のイオン交換として、４１０℃に保持された６０質量％の硝酸カリウム及び４０質量％の硝酸ナトリウムを含有する無機塩組成物の溶融塩浴中に、上記のガラス板を１６０分間浸漬した。その後、ガラス板を浴槽から取り出し、ガラス板の表面を洗浄し、乾燥させた。
第２段階のイオン交換として、乾燥後のガラス板を、３９０℃に保持された、９９質量％の硝酸カリウム、０．６質量％の硝酸ナトリウム及び０．１質量％の硝酸リチウムからなる無機塩組成物の溶融塩浴中に１時間浸漬した。その後、得られた化学強化後ガラス基板Ａを浴槽から取り出し、化学強化後ガラス基板Ａの表面を洗浄し、乾燥させた。
［工程（Ａ）］
イオン交換する条件を下記イオン交換条件とした以外は、実験例１と同様にして、表層に圧縮応力層を形成させた化学強化後ガラス基板Ａを用意した。
（イオン交換条件）
第１段階のイオン交換として、４１０℃に保持された６０質量％の硝酸カリウム及び４０質量％の硝酸ナトリウムを含有する無機塩組成物の溶融塩浴中に、上記のガラス板を１６０分間浸漬した。その後、ガラス板を浴槽から取り出し、ガラス板の表面を洗浄し、乾燥させた。
第２段階のイオン交換として、乾燥後のガラス板を、３９０℃に保持された、９９質量％の硝酸カリウム、０．６質量％の硝酸ナトリウム及び０．１質量％の硝酸リチウムからなる無機塩組成物の溶融塩浴中に１時間浸漬した。その後、得られた化学強化後ガラス基板Ａを浴槽から取り出し、化学強化後ガラス基板Ａの表面を洗浄し、乾燥させた。
［工程（Ｂ）］
工程（Ｂ）について実験例１と同様に行い、工程（Ａ）で準備した化学強化後ガラス基板Ａの表面を各々３μｍ研磨したガラス基板を得た。
工程（Ｂ）について実験例１と同様に行い、工程（Ａ）で準備した化学強化後ガラス基板Ａの表面を各々３μｍ研磨したガラス基板を得た。
［工程（Ｃ）］
工程（Ｂ）で表面を研磨したガラス基板を表１及び２に示す条件によりイオン交換して、化学強化後ガラス基板Ｃを得た。
工程（Ｂ）で表面を研磨したガラス基板を表１及び２に示す条件によりイオン交換して、化学強化後ガラス基板Ｃを得た。
得られた化学強化後ガラス基板を以下の方法により評価した。結果を表１及び２に示す。表１及び２において、例８～１０は比較例、例１～７及び例１３～１７は実施例、例１１、１２、１８及び１９は参考例である。
［散乱光光弾性応力計による応力測定］
散乱光光弾性応力計（折原製作所製ＳＬＰ－２０００）を用いて、国際公開第２０１８／０５６１２１号に記載の方法により化学強化後ガラス基板の応力を測定した。また、散乱光光弾性応力計（折原製作所製ＳＬＰ－２０００）の付属ソフト［ＳｌｐＶ（Ｖｅｒ．２０１９．１１．０７．００１）］を用いて、応力プロファイルを算出した。
散乱光光弾性応力計（折原製作所製ＳＬＰ－２０００）を用いて、国際公開第２０１８／０５６１２１号に記載の方法により化学強化後ガラス基板の応力を測定した。また、散乱光光弾性応力計（折原製作所製ＳＬＰ－２０００）の付属ソフト［ＳｌｐＶ（Ｖｅｒ．２０１９．１１．０７．００１）］を用いて、応力プロファイルを算出した。
応力プロファイルを得るために使用した関数はσ（ｘ）＝［ａ１×ｅｒｆｃ（ａ２×ｘ）＋ａ３×ｅｒｆｃ（ａ４×ｘ）＋ａ５］である。ａｉ（ｉ＝１～５）はフィッティングパラメータであり、ｅｒｆｃは相補誤差関数である。相補誤差関数は下記式によって定義される。
本明細書における評価では、得られた生データと上記の関数の残差二乗和を最小化することで、フィッティングパラメータを最適化した。測定処理条件は単発とし、測定領域処理調整項目は表面でエッジ法を、内部表面端は６．０μｍを、内部左右端は自動を、内部深部端は自動（サンプル膜厚中央）を、そして位相曲線のサンプル厚さ中央迄延長はフィッティング曲線を、それぞれ指定選択した。
得られた応力プロファイルから、上述した方法によりＣＴ、ＣＳ５０、ＣＳ９０、ＤＯＣ、ＣＳ、ＤＯＬ－ｔａｉｌ、表層傾きの値を算出した。
表１及び２において、各表記は以下を表す。
ＣＴ：ＳＬＰ－２０００により測定した引張応力の最大値（ＭＰａ）
ＣＳ５０：表面からの深さ５０μｍにおける圧縮応力値（ＭＰａ）
ＣＳ９０：表面からの深さ９０μｍにおける圧縮応力値（ＭＰａ）
ＤＯＣ：ＳＬＰ－２０００により測定した圧縮応力深さ（μｍ）
ＣＳ０：ＦＳＭにより測定したガラス表面における圧縮応力（ＭＰａ）
ＤＯＬ－ｔａｉｌ：ＦＳＭにより測定した圧縮応力層深さ（μｍ）（曲線近似）
表層傾き：表面からＤＯＬ－ｔａｉｌまでにおける応力プロファイルの平均傾きの絶対値（ＭＰａ／μｍ）
ＣＳ５０リワーク前後比率：工程（Ａ）が共通しており、工程（Ｂ）、工程（Ｃ）を行っていない参考例に対するＣＳ５０と実施例のＣＳ５０の比
ＣＳ９０リワーク前後比率：工程（Ａ）が共通しており、工程（Ｂ）、工程（Ｃ）を行っていない参考例に対するＣＳ９０と実施例のＣＳ５０の比
ＣＴリワーク前後比率：工程（Ａ）が共通しており、工程（Ｂ）、工程（Ｃ）を行っていない参考例に対するＣＴの比
ＣＴ：ＳＬＰ－２０００により測定した引張応力の最大値（ＭＰａ）
ＣＳ５０：表面からの深さ５０μｍにおける圧縮応力値（ＭＰａ）
ＣＳ９０：表面からの深さ９０μｍにおける圧縮応力値（ＭＰａ）
ＤＯＣ：ＳＬＰ－２０００により測定した圧縮応力深さ（μｍ）
ＣＳ０：ＦＳＭにより測定したガラス表面における圧縮応力（ＭＰａ）
ＤＯＬ－ｔａｉｌ：ＦＳＭにより測定した圧縮応力層深さ（μｍ）（曲線近似）
表層傾き：表面からＤＯＬ－ｔａｉｌまでにおける応力プロファイルの平均傾きの絶対値（ＭＰａ／μｍ）
ＣＳ５０リワーク前後比率：工程（Ａ）が共通しており、工程（Ｂ）、工程（Ｃ）を行っていない参考例に対するＣＳ５０と実施例のＣＳ５０の比
ＣＳ９０リワーク前後比率：工程（Ａ）が共通しており、工程（Ｂ）、工程（Ｃ）を行っていない参考例に対するＣＳ９０と実施例のＣＳ５０の比
ＣＴリワーク前後比率：工程（Ａ）が共通しており、工程（Ｂ）、工程（Ｃ）を行っていない参考例に対するＣＴの比
［強化膨張率］
強化膨張率は下記式により求めた。
強化膨張率（％）＝｛［（化学強化後ガラス基板Ｃの寸法）－（化学強化前ガラス基板の寸法）］／（化学強化前ガラス基板の寸法）］｝×１００
寸法測定には、ニコン社製画像測定装置であるＮＥＸＩＶ（ＶＭＺ―Ｓ３０２０）を用いた。
強化膨張率は下記式により求めた。
強化膨張率（％）＝｛［（化学強化後ガラス基板Ｃの寸法）－（化学強化前ガラス基板の寸法）］／（化学強化前ガラス基板の寸法）］｝×１００
寸法測定には、ニコン社製画像測定装置であるＮＥＸＩＶ（ＶＭＺ―Ｓ３０２０）を用いた。
表１及び２に示すように、本発明に係る製造方法である例１～７及び例１３～１７によれば、参考例である例１１、１２、１８及び１９、並びに比較例である例８～１０に比して、ガラス表層部だけでなくガラス深層部における圧縮応力値を効果的に増加できることが分かった。
本発明の化学強化後ガラス基板の製造方法およびリワーク方法によれば、化学強化後に所望の外観基準を満足しない化学強化後ガラス基板を、外観とともに強度特性に優れた、高品質な化学強化後ガラス基板として再生できる。これにより、歩留まりを向上するとともに、産業廃棄物の減少に寄与できる。本発明の化学強化後ガラス基板の製造方法およびリワーク方法により得られる化学強化後ガラス基板は、携帯電話、デジタルカメラまたはタッチパネルディスプレイ等のディスプレイ用カバーガラスに使用できる。
５１，１１０ 化学強化後ガラス基板
１１１ 平面部中央
１１２ 曲げ部の変曲点
１１３ 端面
１１１ 平面部中央
１１２ 曲げ部の変曲点
１１３ 端面
Claims (24)
- （Ａ）主表面と端面とを有する化学強化後ガラス基板Ａを準備すること、
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得ること、並びに
（Ｃ）前記ガラス基板を、９０質量％以上のＫＮＯ３及び１．０質量％以上６．０質量％以下のＮａＮＯ３を含有する無機塩組成物に接触させてイオン交換を行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得ること、を含む化学強化後ガラス基板の製造方法。 - （Ａ）主表面と端面とを有する化学強化後ガラス基板Ａを準備すること、
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得ること、並びに
（Ｃ）前記ガラス基板を、９０質量％以上のＫＮＯ３、０質量％以上５．０質量％未満のＮａＮＯ３及び０質量％以上１．０質量％未満のＬｉＮＯ３を含有する無機塩組成物に接触させるイオン交換を少なくとも１回行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得ること、を含む化学強化後ガラス基板の製造方法。 - （Ａ）主表面と端面とを有する化学強化用ガラス基板に１次無機塩組成物を接触させて、主表面と端面とを有する化学強化後ガラス基板Ａを準備すること、
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得ること、並びに
（Ｃ）前記ガラス基板を、２次無機塩組成物に接触させるイオン交換を少なくとも１回行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得ること、を含む化学強化後ガラス基板の製造方法であって、
前記（Ａ）における前記１次無機塩組成物の累積処理面積が０．２ｍ２／ｋｇ未満である場合には、前記（Ｃ）における前記２次無機塩組成物を９０質量％以上のＫＮＯ３及び０質量％以上１．０質量％未満のＬｉＮＯ３を含有する無機塩組成物とし、
前記（Ａ）における前記１次無機塩組成物の累積処理面積が０．２ｍ２／ｋｇ以上である場合には、前記（Ｃ）における前記２次無機塩組成物を９０質量％以上のＫＮＯ３及び０質量％以上５．０質量％未満のＮａＮＯ３及び０質量％以上１．０質量％未満のＬｉＮＯ３を含有する無機塩組成物とする、化学強化後ガラス基板の製造方法。 - （Ａ）主表面と端面とを有する化学強化後ガラス基板Ａを準備すること、
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得ること、並びに
（Ｃ）前記ガラス基板を、２次無機塩組成物に接触させるイオン交換を少なくとも１回行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得ること、を含む化学強化後ガラス基板の製造方法であって、引張応力ＣＴ（ＭＰａ）について、
前記化学強化後ガラス基板ＣのＣＴを化学強化後ガラス基板ＡのＣＴで除した値が０．９０以上１．２０以下である、化学強化後ガラス基板の製造方法。 - （Ａ）主表面と端面とを有する化学強化後ガラス基板Ａを準備すること、
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得ること、並びに
（Ｃ）前記ガラス基板を、２次無機塩組成物に接触させるイオン交換を少なくとも１回行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得ること、を含む化学強化後ガラス基板の製造方法であって、引張応力ＣＴ（ＭＰａ）について、
前記（Ａ）における前記１次無機塩組成物の累積処理面積が０．２ｍ２／ｋｇ未満である場合に、前記化学強化後ガラス基板ＣのＣＴを化学強化後ガラス基板ＡのＣＴで除した値が０．９０以上１．１０以下であり、
前記（Ａ）における前記１次無機塩組成物の累積処理面積が０．２ｍ２／ｋｇ以上である場合に、前記化学強化後ガラス基板ＣのＣＴを化学強化後ガラス基板ＡのＣＴで除した値が０．９０以上１．２０以下である、化学強化後ガラス基板の製造方法。 - 下記で定義される前記化学強化後ガラス基板Ｃの強化膨張率を化学強化後ガラス基板Ａで除した値が０．９０以上１．１０以下である、請求項１～５のいずれか１項に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。
強化膨張率（％）＝｛［（化学強化後ガラス基板Ｃの寸法）－（化学強化前ガラス基板の寸法）］／（化学強化前ガラス基板の寸法）］｝×１００ - 前記（Ａ）と前記（Ｂ）との間に、
（Ａ’）前記化学強化後ガラス基板Ａ表面の外観検査を行うこと、を含み、
前記外観検査の結果が所定の基準を満たさないと判定された場合、前記（Ｂ）を行う、請求項１～５のいずれか１項に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。 - 前記（Ｂ）及び（Ｃ）を繰り返し行う、請求項１～５のいずれか１項に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。
- 前記（Ｃ）の後に、（Ｃ’）前記化学強化後ガラス基板Ｃの応力値を測定し、前記応力値が所定の基準を満たすか否かを判定すること、を含み、
前記応力値が所定の基準を満たすまで、前記（Ｂ）から前記（Ｃ’）までを繰り返し行う、請求項１～５のいずれか１項に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。 - 前記（Ｃ’）において、前記応力値が所定の基準を満たす場合、さらに、
（Ｄ）前記化学強化後ガラス基板Ｃの外観検査を行い、前記外観検査の結果が所定の基準を満たすか否かを判定すること、を含み、
前記外観検査の結果が所定の基準を満たすまで、前記（Ｂ）から前記（Ｄ）までを繰り返し行う、請求項９に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。 - 前記（Ｂ）において、前記化学強化後ガラス基板Ａの主表面あたりの研磨量が０．５μｍ以上である、請求項１～５のいずれか１項に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。
- 前記化学強化後ガラス基板Ａが前記主表面と前記端面とを有し、前記主表面に平面部及び曲面部を含み、且つ前記主表面の前記平面部に垂直な方向に前記端面を形成し、
前記端面での前記平面部との水平方向における最突出部である点Ａと、
前記点Ａを起点とした前記曲面部の不連続点である点Ｂと、
前記平面部に対する前記点Ａを起点とする平行線と前記平面部に対する前記点Ｂを起点とする法線の交点を点Ｃとし、
前記（Ａ）において、前記化学強化後ガラス基板Ａにおける前記点Ａと前記点Ｃの距離をＸ０、前記点Ｂと前記点Ｃの距離をＹ０、前記平面部中央の最大板厚をｔ０とし、
前記（Ｂ）から前記（Ｄ）をｎ回繰り返した前記化学強化後ガラス基板Ｃにおける前記点Ａと前記点Ｃの距離をＸｎ、前記点Ｂと前記点Ｃの距離をＹｎ、前記平面部中央の板厚をｔｎと定義した場合に、
（Ｘｎ／ｔｎ）／（Ｘ０／ｔ０）＞１及び
（Ｙｎ／ｔｎ）／（Ｙ０／ｔ０）＞１
の関係式を満たす、請求項９に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。但し、ｎは１以上の整数である。 - 前記化学強化後ガラス基板Ａが前記主表面と前記端面とを有し、且つ前記主表面に平面部及び曲げ部を含み、
前記（Ｂ）から前記（Ｄ）を１回以上繰り返した前記化学強化後ガラス基板Ｃにおける、前記曲げ部の変曲点から前記端面までの前記曲げ部の最大厚みをｔｃ、前記平面部中央の厚みをｔｆと定義した場合に、
ｔｆ／ｔｃ＜０．９６
の関係式を満たす、請求項９に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。 - 主表面と端面とを有し、且つ前記主表面に平面部及び曲げ部を含む化学強化後ガラス基板であって、前記曲げ部の変曲点から前記端面までの前記曲げ部の最大厚みをｔｃ’、前記平面部中央の厚みをｔｆ’と定義した場合に、
ｔｆ’／ｔｃ’＜０．９６
の関係式を満たす、化学強化後ガラス基板。 - 前記（Ｂ）および前記（Ｃ）をＺ［回］行い、前記（Ｃ）で得られる前記化学強化後ガラス基板Ｃにおける一方の主面あたりの総研磨量をａ［μｍ］、板厚公差を±ｂ［μｍ］と定義した場合に、
Ｚ［回］＝ａ／ｂ
の関係式を満たす、請求項１～４のいずれか１項に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。Ｚは１以上の整数である。 - 前記（Ｂ）および前記（Ｃ）をｋ回行い、前記（Ｃ）で得られる前記化学強化後ガラス基板Ｃ中の良品率をＰｋ、前記（Ｂ）と前記（Ｃ）の良品歩留をａと定義した場合に、
Ｐｋ≧Ｐｋ－１＋（１－Ｐｋ－１）×ａ
の関係式を満たす、請求項１～４のいずれか１項に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。ｋは１以上の整数である。 - 前記（Ａ）における前記化学強化後ガラス基板Ａ中の不良品率から、前記（Ｃ）で得られる前記化学強化後ガラス基板Ｃ中の不良品率を減じた値が、１０％以上である、請求項１～４のいずれか１項に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。
- ガラス表層における圧縮応力の値をＣＳ０［ＭＰａ］、ガラス表面から深さ５０μｍにおける圧縮応力の値をＣＳ５０［ＭＰａ］、
前記（Ａ）における前記化学強化後ガラス基板ＡのＣＳ５０［ＭＰａ］をＣ５０（ａ）、前記（Ｃ）における前記化学強化後ガラス基板ＣのＣＳ５０［ＭＰａ］をＣＳ５０（ｃ）とした場合に、
（式）ＣＳ５０（ｃ）／ＣＳ５０（ａ）×１００
で表されるＣＳ５０（ａ）に対するＣ５０（ｃ）の割合が７０％以上であり、且つ
前記（Ｃ）で得られる前記化学強化後ガラス基板ＣのＣＳ０が７５０ＭＰａ以上である、請求項１～４のいずれか１項に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。 - 前記（Ｃ）における前記無機塩組成物は、前記ガラス基板に対する累積処理面積が０．２ｍ２／ｋｇ以上である、請求項１～４のいずれか１項に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。
- 前記（Ｃ）における前記イオン交換の条件が、３６０℃以上４５０℃以下にて５分間以上８時間以下である、請求項１～４のいずれか１項に記載の化学強化後ガラス基板の製造方法。
- 化学強化後ガラス基板のリワーク方法であって、
（Ａ）主表面と端面とを有する前記化学強化後ガラス基板Ａを準備すること、
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得ること、および
（Ｃ）前記研磨したガラス基板を、９０質量％以上のＫＮＯ３及び１．０質量％以上６．０質量％以下のＮａＮＯ３を含有する無機塩組成物に接触させてイオン交換を行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得ること、を含み、
ガラス表層における圧縮応力の値をＣＳ０［ＭＰａ］、表面からの深さ５０μｍにおける圧縮応力の値をＣＳ５０［ＭＰａ］、
前記（Ａ）における前記化学強化後ガラス基板ＡのＣＳ５０［ＭＰａ］をＣＳ５０（ａ）、前記（Ｃ）における前記化学強化後ガラス基板ＣのＣＳ５０［ＭＰａ］をＣＳ５０（ｃ）とした場合に、（式）ＣＳ５０（ｃ）／ＣＳ５０（ａ）×１００で表されるＣＳ５０（ａ）に対するＣＳ５０（ｃ）の割合が７０％以上であり、且つ
前記（Ｃ）で得られる前記化学強化後ガラス基板のＣＳ０が７５０ＭＰａ以上である、化学強化後ガラス基板のリワーク方法。 - 化学強化後ガラス基板のリワーク方法であって、
（Ａ）主表面と端面とを有する前記化学強化後ガラス基板Ａを準備すること、
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得ること、
（Ｃ）前記研磨したガラス基板を、９０質量％以上のＫＮＯ３及び１．０質量％以上６．０質量％以下のＮａＮＯ３を含有する無機塩組成物に接触させてイオン交換を行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得ることおよび
（Ｃ’）前記化学強化後ガラス基板Ｃの応力値を測定し、前記応力値が所定の基準を満たすか否かを判定すること、を含み、
前記（Ｃ’）において前記応力値が所定の基準を満たすまで、前記（Ｂ）および前記（Ｃ’）までを繰り返し、且つ
前記応力値が所定の基準を満たす場合、（Ｄ）前記化学強化後ガラス基板Ｃの外観検査を行い、前記外観検査の結果が所定の基準を満たすか否かを判定することを含み、
前記外観検査の結果が所定の基準を満たすまで、前記（Ｂ）から前記（Ｄ）までを繰り返し行い、
前記（Ａ）における前記化学強化後ガラス基板Ａ中の不良品率から、前記（Ｃ）で得られる前記化学強化後ガラス基板Ｃ中の不良品率を減じた値が、１０％以上である、化学強化後ガラス基板のリワーク方法。 - 化学強化後ガラス基板のリワーク方法であって、
（Ａ）主表面と端面とを有する前記化学強化後ガラス基板Ａを準備すること、
（Ｂ）前記化学強化後ガラス基板Ａの表面を研磨したガラス基板を得ること、
（Ｃ）前記研磨したガラス基板を、９０質量％以上のＫＮＯ３、０質量％以上５．０質量％未満のＮａＮＯ３及び０質量％以上１．０質量％未満のＬｉＮＯ３を含有する無機塩組成物に接触させてイオン交換を少なくとも１回行い、化学強化後ガラス基板Ｃを得ることおよび
（Ｃ’）前記化学強化後ガラス基板Ｃの応力値を測定し、前記応力値が所定の基準を満たすか否かを判定すること、を含み、
前記（Ｃ’）において前記応力値が所定の基準を満たすまで、前記（Ｂ）および前記（Ｃ’）までを繰り返し、且つ
前記応力値が所定の基準を満たす場合、（Ｄ）前記化学強化後ガラス基板Ｃの外観検査を行い、前記外観検査の結果が所定の基準を満たすか否かを判定することを含み、
前記外観検査の結果が所定の基準を満たすまで、前記（Ｂ）から前記（Ｄ）までを繰り返し行い、
前記（Ａ）における前記化学強化後ガラス基板Ａ中の不良品率から、前記（Ｃ）で得られる前記化学強化後ガラス基板Ｃ中の不良品率を減じた値が、１０％以上である、化学強化後ガラス基板のリワーク方法。 - 化学強化後ガラス基板の製造方法であって、研磨すること及び化学強化することを含む再生処理により、廃棄物の総排出量を削減する、化学強化後ガラス基板の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US18/315,592 US20230365463A1 (en) | 2022-05-13 | 2023-05-11 | Method for producing chemically strengthened glass substrate, method for reworking chemically strengthened glass substrate, and chemically strengthened glass substrate |
| CN202310537762.4A CN117049793A (zh) | 2022-05-13 | 2023-05-12 | 化学强化后玻璃基板的制造方法、化学强化后玻璃基板的再加工方法和化学强化后玻璃基板 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022079823 | 2022-05-13 | ||
| JP2022079823 | 2022-05-13 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2023168218A true JP2023168218A (ja) | 2023-11-24 |
Family
ID=88838167
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2023011178A Pending JP2023168218A (ja) | 2022-05-13 | 2023-01-27 | 化学強化後ガラス基板の製造方法、化学強化後ガラス基板のリワーク方法及び化学強化後ガラス基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2023168218A (ja) |
-
2023
- 2023-01-27 JP JP2023011178A patent/JP2023168218A/ja active Pending
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