JP2023167124A - Chip peeling device and chip peeling method - Google Patents

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Abstract

To provide a chip peeling device which enables downsizing of the device and reduction of chips, and to provide a chip peeling method.SOLUTION: A chip peeling device 100 includes a housing 101 having a placing surface 111 capable of placing a wafer 10 thereon, having a recessed portion 113 and first vacuum suction holes 112 on the placing surface 111, and having second vacuum suction holes 115, blow holes 116, and protrusions 114 in the recessed portion 113. The chip peeling device further includes: a vacuum suction source 102 that evacuates the first vacuum suction holes 112 and the second vacuum suction holes 115; a pressure detector 105 that detects a degree of vacuum of the second vacuum suction holes 115; a pressurization source 107 that sends a fluid to the blow holes 116; a controller 106 that determines a flow rate of the fluid to be sent to the blow holes 116 based on the degree of vacuum; and a flow rate control valve 108 which controls a flow rate of the fluid to the flow rate determined by the controller 106. The controller 106 provides control to evacuate the second vacuum suction holes 115 and send the fluid to the blow holes 116.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明はチップ剥離装置及びチップ剥離方法に関し、例えば半導体製造装置に用いられるチップ剥離装置及びチップ剥離方法に関する。 The present invention relates to a chip peeling apparatus and a chip peeling method, and more particularly, to a chip peeling apparatus and a chip peeling method used in semiconductor manufacturing equipment.

半導体実装工程ではダイシングしたチップをチップ剥離装置で剥離し、ピックアップして別のウェハへ搭載するダイボンディング工程がある。 In the semiconductor packaging process, there is a die bonding process in which diced chips are peeled off using a chip peeling device, picked up, and mounted on another wafer.

チップ剥離方法には、鋭利なピンでダイシングテープごとチップを突き上げる方法がある。例えばチップの大きさが10mm角で30μm以下の薄いチップを突き上げる際、チップが薄くピンの先端が鋭利なため、突き上げる部分が起点となり割れや欠けが発生していた。 Chip peeling methods include a method of pushing up the chip along with the dicing tape using a sharp pin. For example, when pushing up a thin chip with a size of 10 mm square and 30 μm or less, the chip is thin and the tip of the pin is sharp, so cracks and chips occur from the pushed up part.

この問題を解決する方法として特許文献1~3が検討されている。特許文献1には、ダイシングテープ下部のエジェクター形状はスライド式のチップ剥離装置が記載されている。また、特許文献2には、分割式のチップ剥離装置が記載されている。そして、特許文献3には、押上げ形状を工夫したチップ剥離装置が記載されている。 Patent Documents 1 to 3 are being considered as methods to solve this problem. Patent Document 1 describes a chip peeling device in which the ejector at the bottom of the dicing tape has a sliding type. Further, Patent Document 2 describes a split-type chip peeling device. Patent Document 3 describes a chip peeling device with a devised push-up shape.

特許5184303号Patent No. 5184303 特開2013-214739号公報Japanese Patent Application Publication No. 2013-214739 特許4816598号Patent No. 4816598

しかしながら特許文献1~3のチップ剥離装置は、機構が複雑で装置スペースを占有してしまい、装置が大型化してしまう問題がある。 However, the chip peeling apparatuses disclosed in Patent Documents 1 to 3 have a problem that the mechanism is complicated and occupies the space of the apparatus, resulting in an increase in the size of the apparatus.

一実施形態のチップ剥離装置は、ウェハを載置可能な載置面を有し、前記載置面に凹部と第1真空吸着穴とを有し、前記凹部に第2真空吸着穴と、ブロウ穴と、突起とを有するハウジングと、前記第1真空吸着穴及び前記第2真空吸着穴を真空引きする真空吸引源と、前記第2真空吸着穴の真空引きの真空度を検出する圧力検出器と、前記ブロウ穴に流体を送出する加圧源と、前記真空度に基づいて前記ブロウ穴に送出する流体の流量を決定するコントローラと、前記流体を、前記コントローラの決定した流量に制御する流量制御弁と、を備え、前記コントローラは、前記第2真空吸着穴の真空引きを行うと共に、前記ブロウ穴に流体を送出する制御を行うようにした。 A chip peeling apparatus according to an embodiment has a mounting surface on which a wafer can be mounted, a recess and a first vacuum suction hole in the recess, a second vacuum suction hole in the recess, and a blower. A housing having a hole and a protrusion, a vacuum suction source that evacuates the first vacuum suction hole and the second vacuum suction hole, and a pressure detector that detects the degree of vacuum of the second vacuum suction hole. a pressure source that sends fluid to the blow hole; a controller that determines the flow rate of the fluid to be sent to the blow hole based on the degree of vacuum; and a flow rate that controls the fluid to the flow rate determined by the controller. A control valve is provided, and the controller evacuates the second vacuum suction hole and controls sending fluid to the blow hole.

一実施形態のチップ剥離装置によれば、真空吸着の圧力を加圧流量で制御するため、真空吸着時の急激なチップ変形を抑えることで割れ、欠けを低減できる。 According to the chip peeling device of one embodiment, since the vacuum suction pressure is controlled by the pressurized flow rate, cracking and chipping can be reduced by suppressing rapid chip deformation during vacuum suction.

一実施形態のチップ剥離装置は、前記ブロウ穴の開口面積は、前記第2真空吸着穴の開口面積より小さくした。 In the chip peeling apparatus of one embodiment, the opening area of the blow hole is smaller than the opening area of the second vacuum suction hole.

一実施形態のチップ剥離装置によれば、急激な加圧の発生を抑えることができる。 According to the chip peeling device of one embodiment, the occurrence of sudden pressure can be suppressed.

一実施形態のチップ剥離装置は、前記コントローラは、前記ブロウ穴に送出する流体の流量を時間の経過と共に減少させる制御を行うようにした。 In one embodiment of the chip peeling apparatus, the controller controls the flow rate of the fluid sent to the blowhole to decrease over time.

一実施形態のチップ剥離装置によれば、真空圧の急激な上昇を防ぐことができる。 According to the chip peeling apparatus of one embodiment, a sudden increase in vacuum pressure can be prevented.

一実施形態のチップ剥離装置は、前記ハウジングは、前記凹部を突出可能なブロック部を有するようにした。 In one embodiment of the chip peeling device, the housing has a block portion that can protrude from the recess.

一実施形態のチップ剥離装置によれば、剥離するチップを流体で加圧すると共に上昇させることで、チップ周辺四隅の剥離を促進できる。 According to the chip peeling apparatus of one embodiment, by pressurizing the chip to be peeled with fluid and raising the chip, peeling at the four corners around the chip can be promoted.

一実施形態のチップ剥離装置は、前記流量制御弁は、周期的に流量を変化可能なサーボ弁にした。 In one embodiment of the chip peeling apparatus, the flow rate control valve is a servo valve that can periodically change the flow rate.

一実施形態のチップ剥離装置によれば、加圧の周期を変えながら、振動の力により、チップの剥離を促進できる。 According to the chip peeling device of one embodiment, chip peeling can be promoted by vibration force while changing the cycle of pressurization.

一実施形態のチップ剥離方法は、ウェハを載置可能な載置面を有し、前記載置面に凹部と第1真空吸着穴とを有し、前記凹部に第2真空吸着穴と、ブロウ穴と、突起とを有するハウジングと、前記第1真空吸着穴及び前記第2真空吸着穴を真空引きする真空吸引源と、前記第2真空吸着穴の真空引きの真空度を検出する圧力検出器と、前記ブロウ穴に流体を送出する加圧源と、前記流体の流量に制御する流量制御弁と、を備えるチップ剥離装置において、前記第2真空吸着穴の真空引きを行うと共に、前記ブロウ穴に流体を送出する制御を行うようにした。 A chip peeling method according to an embodiment includes a mounting surface on which a wafer can be mounted, a recess and a first vacuum suction hole in the recess, a second vacuum suction hole in the recess, and a blower. A housing having a hole and a protrusion, a vacuum suction source that evacuates the first vacuum suction hole and the second vacuum suction hole, and a pressure detector that detects the degree of vacuum of the second vacuum suction hole. In the chip peeling apparatus, the chip peeling apparatus includes: a pressure source that sends a fluid to the blow hole; and a flow rate control valve that controls the flow rate of the fluid; The fluid is now controlled to be delivered to the

一実施形態のチップ剥離方法によれば、真空吸着の圧力を加圧流量で制御するため、真空吸着時の急激なチップ変形を抑えることで割れ、欠けを低減できる。 According to the chip peeling method of one embodiment, since the vacuum suction pressure is controlled by the pressurized flow rate, cracking and chipping can be reduced by suppressing rapid chip deformation during vacuum suction.

本発明のチップ剥離装置及びチップ剥離方法によれば、装置を小型化でき、且つ真空吸着の圧力を加圧流量で制御するため、真空吸着時の急激なチップ変形を抑えることで割れ、欠けを低減できる。 According to the chip peeling device and the chip peeling method of the present invention, the device can be miniaturized, and the vacuum suction pressure is controlled by the pressurized flow rate, so that cracking and chipping can be prevented by suppressing rapid chip deformation during vacuum suction. Can be reduced.

実施の形態1にかかるチップ剥離装置の一例を示す断面図である。1 is a cross-sectional view showing an example of a chip peeling device according to a first embodiment. 実施の形態1にかかるチップ剥離装置の一例を示す上面透視図である。1 is a top perspective view showing an example of a chip peeling device according to a first embodiment; FIG. 実施の形態1にかかるチップ剥離装置の凹部113の一例を示す上面図である。FIG. 3 is a top view showing an example of a recess 113 of the chip peeling device according to the first embodiment. 実施の形態1にかかるチップ剥離装置の一例を示す断面図である。1 is a cross-sectional view showing an example of a chip peeling device according to a first embodiment. 実施の形態1にかかるチップ剥離装置の一例を示す断面図である。1 is a cross-sectional view showing an example of a chip peeling device according to a first embodiment. 流量制御の有無を比較するグラフである。It is a graph comparing presence and absence of flow rate control. 実施の形態2にかかるチップ剥離装置の一例を示す断面図であるFIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of a chip peeling device according to a second embodiment. 剥離の説明のための上面図である。FIG. 3 is a top view for explaining peeling. 実施の形態3にかかるチップ剥離装置の一例を示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing an example of a chip peeling device according to a third embodiment. 実施の形態3にかかるチップ剥離装置の一例を示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing an example of a chip peeling device according to a third embodiment.

(実施の形態1)
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図1は、実施の形態1にかかるチップ剥離装置の一例を示す断面図である。図1において、チップ剥離装置100は、ハウジング101と、真空吸引源102と、第1バルブ103と、第2バルブ104と、圧力検出器105と、コントローラ106と、加圧源107と、流量制御弁108と、を備える。ピッカー20は、ダイシングテープ11が剥離された半導体ウェハ10のうち、チップ12をピックアップする構成である。図1では、図面下方向が重力方向となる例として説明する。
(Embodiment 1)
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of a chip peeling apparatus according to a first embodiment. In FIG. 1, the chip peeling apparatus 100 includes a housing 101, a vacuum suction source 102, a first valve 103, a second valve 104, a pressure detector 105, a controller 106, a pressurization source 107, and a flow rate control A valve 108 is provided. The picker 20 is configured to pick up the chips 12 from the semiconductor wafer 10 from which the dicing tape 11 has been peeled off. In FIG. 1, an example will be described in which the downward direction of the drawing is the direction of gravity.

ハウジング101は、載置面111にダイシングされた半導体ウェハ10が載置される。この載置面111には、真空吸着穴112が全体に分布している。また、この載置面111には、1チップのサイズの領域に凹部113が設けられている。図2は、実施の形態1にかかるチップ剥離装置の一例を示す上面透視図である。また、図3は、実施の形態1にかかるチップ剥離装置の凹部113の一例を示す上面図である。図1~図3に示すように、この凹部113には、突起114と、真空吸着穴115と、ブロウ穴116が設けられている。図1に示すように、突起114の上端は、載置面111の高さと同じである。 A diced semiconductor wafer 10 is placed on a placement surface 111 of the housing 101 . Vacuum suction holes 112 are distributed throughout the mounting surface 111. Furthermore, a recess 113 is provided on the mounting surface 111 in an area the size of one chip. FIG. 2 is a top perspective view showing an example of the chip peeling apparatus according to the first embodiment. Further, FIG. 3 is a top view showing an example of the recess 113 of the chip peeling device according to the first embodiment. As shown in FIGS. 1 to 3, this recess 113 is provided with a protrusion 114, a vacuum suction hole 115, and a blow hole 116. As shown in FIG. 1, the upper end of the protrusion 114 is at the same height as the mounting surface 111.

またブロウ穴116の開口面積は、真空吸着穴115の開口面積より小さい。穴の面積の大小関係により、急激な加圧の発生を抑えることができる。 Further, the opening area of the blow hole 116 is smaller than the opening area of the vacuum suction hole 115. Depending on the size of the hole area, sudden pressurization can be suppressed.

また、ハウジング101の凹部113の部分に上下に移動可能なブロック部117を備える。ハウジング101とブロック部117でエジェクターが構成される。すなわち、突起114と、真空吸着穴115と、ブロウ穴116はハウジング101のブロック部117の部分に設けられている。 Furthermore, a block portion 117 that is movable up and down is provided in the recessed portion 113 of the housing 101 . The housing 101 and the block portion 117 constitute an ejector. That is, the protrusion 114, the vacuum suction hole 115, and the blow hole 116 are provided in the block portion 117 of the housing 101.

図1に戻って、真空吸引源102は、第1バルブ103を介して真空吸着穴112を真空引きする。また、真空吸引源102は、第2バルブ104を介して真空吸着穴115を真空引きする。 Returning to FIG. 1, the vacuum suction source 102 evacuates the vacuum suction hole 112 via the first valve 103. Further, the vacuum suction source 102 evacuates the vacuum suction hole 115 via the second valve 104 .

第1バルブ103は、真空吸着穴112と真空吸引源102を結ぶ配管の途中に設けられたストップバルブである。 The first valve 103 is a stop valve provided in the middle of a pipe connecting the vacuum suction hole 112 and the vacuum suction source 102.

第2バルブ104は、真空吸着穴115と真空吸引源102を結ぶ配管の途中に設けられたストップバルブである。 The second valve 104 is a stop valve provided in the middle of a pipe connecting the vacuum suction hole 115 and the vacuum suction source 102.

圧力検出器105は、真空吸着穴115から吸引する圧力(すなわち半導体ウェハ10とハウジング101の凹部113が形成する空間の圧力)を検出する。そして圧力検出器105は、検出した圧力値をコントローラ106に出力する。 The pressure detector 105 detects the pressure sucked from the vacuum suction hole 115 (that is, the pressure in the space formed by the semiconductor wafer 10 and the recess 113 of the housing 101). The pressure detector 105 then outputs the detected pressure value to the controller 106.

コントローラ106は、圧力検出器105が検出した圧力値に基づいて流量制御弁108での流量を調節する。またコントローラ106は、第1バルブ103及び第2バルブ104の開閉を制御する。コントローラ106の制御の詳細は後述する。 Controller 106 adjusts the flow rate at flow control valve 108 based on the pressure value detected by pressure detector 105. Further, the controller 106 controls opening and closing of the first valve 103 and the second valve 104. Details of control by the controller 106 will be described later.

加圧源107は、流量制御弁108を介してブロウ穴116に流体を供給することにより、半導体ウェハ10を加圧する。流体は気体が望ましい。好ましくは、流体は不活性の気体が望ましい。例えば加圧源107は、加圧ポンプまたは気体を充填したボンベが好適である。 Pressure source 107 pressurizes semiconductor wafer 10 by supplying fluid to blow hole 116 via flow control valve 108 . The fluid is preferably a gas. Preferably, the fluid is an inert gas. For example, the pressurization source 107 is preferably a pressurization pump or a cylinder filled with gas.

流量制御弁108は、コントローラ106の指示に従い、加圧源107からブロウ穴116に送出される流体の量を調整する。 Flow control valve 108 adjusts the amount of fluid delivered from pressurization source 107 to blowhole 116 according to instructions from controller 106 .

以上の構成により、チップ剥離装置100はチップ12からダイシングテープ11を剥がす。次にチップ剥離装置100の動作について説明する。図4及び図5は、実施の形態1にかかるチップ剥離装置の一例を示す断面図である。また図6は、流量制御の有無を比較するグラフである。以下の説明の動作は、コントローラ106により制御される。 With the above configuration, the chip peeling apparatus 100 peels the dicing tape 11 from the chips 12. Next, the operation of the chip peeling apparatus 100 will be explained. 4 and 5 are cross-sectional views showing an example of the chip peeling apparatus according to the first embodiment. Further, FIG. 6 is a graph comparing the presence and absence of flow rate control. The operations described below are controlled by the controller 106.

まず、図4のAに示すように、チップ剥離装置100において、ダイシングされたリング付き半導体ウェハ10がエジェクター(のハウジング101)上に載置される。このエジェクター上でチップからテープの剥離が行われる。 First, as shown in FIG. 4A, in the chip peeling apparatus 100, the diced semiconductor wafer 10 with rings is placed on (the housing 101 of) the ejector. The tape is peeled off from the chip on this ejector.

次に、エジェクターの凹部113の水平方向の位置を剥離するチップ12と合わせた状態で、エジェクターの高さをダイシングテープ11と同じ高さへ移動させる。 Next, the height of the ejector is moved to the same height as the dicing tape 11 while the horizontal position of the recess 113 of the ejector is aligned with the chip 12 to be peeled.

そして、図4のBに示すように、エジェクターの真空吸引源102によりダイシングテープ11が真空吸着される。 Then, as shown in FIG. 4B, the dicing tape 11 is vacuum suctioned by the vacuum suction source 102 of the ejector.

そして、圧力検出器105により真空圧を検知し、加圧側に設けた流量制御弁108を介して、加圧したエアーをブロウ穴116に入れ、真空圧の急激な上昇を防ぐように制御する。流量制御の有無による真空圧の変化を図6に示す。図6において、縦軸は真空度を示す。また横軸は時間を示す。図6に示すように、加圧するエアーの流量を時間と共に減少させる制御を行うことにより、真空圧の急激な上昇を防いでいる。ダイシングテープ11が真空吸着された結果、図5のAに示すようになる。 Then, the vacuum pressure is detected by the pressure detector 105, and pressurized air is introduced into the blow hole 116 via the flow rate control valve 108 provided on the pressurizing side to control so as to prevent a sudden increase in the vacuum pressure. Figure 6 shows the changes in vacuum pressure with and without flow rate control. In FIG. 6, the vertical axis indicates the degree of vacuum. Moreover, the horizontal axis shows time. As shown in FIG. 6, a rapid increase in vacuum pressure is prevented by controlling the flow rate of pressurized air to decrease over time. As a result of vacuum suction of the dicing tape 11, the result is as shown in A of FIG.

そして、図5のBに示すように、隣接するチップと接触しないよう、図示しないアクチュエータ等によりブロック部117を上昇させる。 Then, as shown in FIG. 5B, the block portion 117 is raised by an actuator (not shown) or the like so as not to come into contact with adjacent chips.

ピッカー20のピックアップヘッドをチップ12上に配置し下降させチップ12に接近し吸着可能位置で真空吸着によりチップ12を吸着する。この動作により、図5のCに示すように、チップがピックアップされる。
以上の動作により、チップが半導体ウェハよりピックアップされる。
The pick-up head of the picker 20 is placed above the chip 12 and lowered to approach the chip 12 and adsorb the chip 12 by vacuum suction at a position where it can be adsorbed. By this operation, the chip is picked up as shown in FIG. 5C.
Through the above operations, chips are picked up from the semiconductor wafer.

ハウジング101の凹部113は、真空吸着する土台形状に突起114(または溝)をあらかじめ設けておく。この形状により、真空吸着した際に、チップ12とテープ11が接触する部分を突起114に限定することができるので、チップ12とテープ11の接触面積を減らし剥離を促進できる。 The concave portion 113 of the housing 101 is previously provided with a protrusion 114 (or groove) in the shape of a base for vacuum suction. With this shape, the contact area between the chip 12 and the tape 11 can be limited to the protrusion 114 when vacuum suction is performed, so that the contact area between the chip 12 and the tape 11 can be reduced and separation can be promoted.

例えば、中央の溝を形成する場合、中央の溝は剥離するチップサイズより小さく、チップに対して面積比90%から99%であることが望ましい。 For example, when forming a central groove, it is preferable that the central groove is smaller than the size of the chip to be peeled and has an area ratio of 90% to 99% with respect to the chip.

また、溝の深さはダイシングテープ厚さに加えて100μmから500μmであることが望ましい。 Further, the depth of the groove is preferably 100 μm to 500 μm in addition to the thickness of the dicing tape.

突起114の頂点位置はエジェクターのハウジング101より100μmから500μm突出できるように可動できることが望ましい。 It is desirable that the apex position of the protrusion 114 is movable so that it can protrude from the housing 101 of the ejector by 100 μm to 500 μm.

真空吸着穴112及び真空吸着穴115の直径は0.5mm程度が望ましい。また、加圧用のブロウ穴116の直径は真空吸着穴112及び真空吸着穴115の直径よりかなり小さくすること望ましい。具体的には、ブロウ穴116の直径は0.1mm以下が好ましい。
真空吸引源102により真空吸着を行うことで、ダイシングテープ11を吸着し、それに伴い、チップ12とテープ11とのダイシング接触面積が減りチップ12が半導体ウェハ10から剥離する。
The diameter of the vacuum suction hole 112 and the vacuum suction hole 115 is preferably about 0.5 mm. Further, it is desirable that the diameter of the pressurizing blow hole 116 be considerably smaller than the diameters of the vacuum suction holes 112 and 115. Specifically, the diameter of the blow hole 116 is preferably 0.1 mm or less.
By performing vacuum suction using the vacuum suction source 102, the dicing tape 11 is suctioned, and accordingly, the dicing contact area between the chip 12 and the tape 11 is reduced, and the chip 12 is peeled off from the semiconductor wafer 10.

このように実施の形態1のチップ剥離装置によれば、真空吸着の圧力を加圧流量で制御するため、真空吸着時の急激なチップ変形を抑えることで割れ、欠けを低減できる。また、実施の形態1のチップ剥離装置によれば、駆動系がブロック部の微小駆動のため小型化できる。また、実施の形態1のチップ剥離装置によれば、加圧のエアーで真空圧の制御を行うので、真空弁だけで制御を行うより応答が速く、剥離までの時間を短縮できる。 As described above, according to the chip peeling apparatus of the first embodiment, since the vacuum suction pressure is controlled by the pressurized flow rate, cracking and chipping can be reduced by suppressing rapid chip deformation during vacuum suction. Further, according to the chip peeling apparatus of the first embodiment, the drive system can be miniaturized because the block portion is minutely driven. Further, according to the chip peeling apparatus of the first embodiment, since the vacuum pressure is controlled using pressurized air, the response is faster than controlling only with a vacuum valve, and the time until peeling can be shortened.

(実施の形態2)
実施の形態2では、凹部の部分を加圧のみの状態で上昇させる例について説明する。実施の形態2のチップ剥離装置の構成は実施の形態1のチップ剥離装置と同じであり、動作が異なる。
(Embodiment 2)
In Embodiment 2, an example will be described in which the recessed portion is raised only by applying pressure. The configuration of the chip peeling apparatus of the second embodiment is the same as that of the chip peeling apparatus of the first embodiment, but the operation is different.

図7を用いて動作について説明する。図7は、実施の形態2にかかるチップ剥離装置の一例を示す断面図である。また、図8は剥離の説明のための上面図である。 The operation will be explained using FIG. 7. FIG. 7 is a cross-sectional view showing an example of a chip peeling apparatus according to the second embodiment. Moreover, FIG. 8 is a top view for explaining peeling.

まず、図7のAに示すように、チップ剥離装置100において、ダイシングされたリング付き半導体ウェハ10がエジェクター(のハウジング101)上に載置される。このエジェクター上でチップからテープの剥離が行われる。 First, as shown in FIG. 7A, in the chip peeling apparatus 100, the diced semiconductor wafer 10 with rings is placed on (the housing 101 of) the ejector. The tape is peeled off from the chip on this ejector.

次に、エジェクターの凹部113の水平方向の位置を剥離するチップ12と合わせた状態で、エジェクターの高さをダイシングテープ11と同じ高さへ移動させる。 Next, the height of the ejector is moved to the same height as the dicing tape 11 while the horizontal position of the recess 113 of the ejector is aligned with the chip 12 to be peeled.

そして、図7のBに示すように、加圧側に設けた流量制御弁108を介して、加圧したエアーをブロウ穴116に入れると共に、隣接するチップと接触しないよう、図示しないアクチュエータ等によりブロック部117を上昇させる。この動作により、テープとチップが持ち上がる形となりテープが弓なりに曲がるため、チップ周辺四隅の剥離が促進される。すなわち図8の丸801で囲んだ部分の剥離が促進される。 Then, as shown in FIG. 7B, pressurized air is introduced into the blow hole 116 via the flow rate control valve 108 provided on the pressurizing side, and is blocked by an actuator (not shown) to prevent it from coming into contact with the adjacent chip. part 117 is raised. This operation lifts the tape and chip and bends the tape into an arched shape, thereby promoting peeling at the four corners around the chip. In other words, peeling of the portion surrounded by a circle 801 in FIG. 8 is promoted.

そして、図7のCに示すように図示しないアクチュエータ等によりブロック部117を下降させると共に、エジェクターの真空吸引源102によりダイシングテープ11が真空吸着される。また、圧力検出器105により真空圧を検知し、加圧側に設けた流量制御弁108を介して、加圧したエアーをブロウ穴116に入れる。 Then, as shown in FIG. 7C, the block portion 117 is lowered by an actuator or the like (not shown), and the dicing tape 11 is vacuum suctioned by the vacuum suction source 102 of the ejector. Further, the vacuum pressure is detected by the pressure detector 105, and pressurized air is introduced into the blow hole 116 via the flow control valve 108 provided on the pressurizing side.

ピッカー20のピックアップヘッドをチップ12上に配置し下降させチップ12に接近し吸着可能位置で真空吸着によりチップ12を吸着する。この動作により、図7のDに示すように、チップがピックアップされる。 The pick-up head of the picker 20 is placed above the chip 12 and lowered to approach the chip 12 and adsorb the chip 12 by vacuum suction at a position where it can be adsorbed. By this operation, the chip is picked up as shown in D of FIG.

このように、実施の形態2のチップ剥離装置によれば、剥離するチップを流体で加圧すると共に上昇させることで、チップ周辺四隅の剥離を促進できる。 In this manner, according to the chip peeling apparatus of the second embodiment, by pressurizing the chip to be peeled with fluid and raising it, peeling of the four corners around the chip can be promoted.

(実施の形態3)
実施の形態3では、加圧側の流路にサーボ弁を備える例について説明する。図9は、実施の形態3にかかるチップ剥離装置の一例を示す断面図である。図9において、チップ剥離装置900は、ハウジング101と、真空吸引源102と、第1バルブ103と、第2バルブ104と、圧力検出器105と、コントローラ906と、加圧源107と、サーボ弁908とを備える。図9において、図1と同一の構成については、同じ番号を付し、説明を省略する。
(Embodiment 3)
In Embodiment 3, an example will be described in which a servo valve is provided in the flow path on the pressurizing side. FIG. 9 is a cross-sectional view showing an example of a chip peeling apparatus according to the third embodiment. In FIG. 9, a chip peeling apparatus 900 includes a housing 101, a vacuum suction source 102, a first valve 103, a second valve 104, a pressure detector 105, a controller 906, a pressure source 107, and a servo valve. 908. In FIG. 9, the same components as those in FIG. 1 are given the same numbers, and the description thereof will be omitted.

コントローラ906は、圧力検出器105が検出した圧力値に基づいてサーボ弁908での流量を調節する。またコントローラ106は、第1バルブ103及び第2バルブ104の開閉を制御する。コントローラ906の制御の詳細は実施の形態1のコントローラ106にサーボ弁908の制御を加えたものである。 Controller 906 adjusts the flow rate at servo valve 908 based on the pressure value detected by pressure detector 105. Further, the controller 106 controls opening and closing of the first valve 103 and the second valve 104. The details of the control of the controller 906 are the same as the controller 106 of the first embodiment plus the control of the servo valve 908.

サーボ弁908は、コントローラ906の指示に従い、加圧源107からブロウ穴116に送出される流体の量を調整する。具体的には、サーボ弁908は、周期的に流体の量を調整する。 Servo valve 908 adjusts the amount of fluid delivered from pressurization source 107 to blowhole 116 according to instructions from controller 906 . Specifically, servo valve 908 periodically adjusts the amount of fluid.

次にチップ剥離装置900の動作について説明する。図10は、実施の形態3にかかるチップ剥離装置の一例を示す断面図である。以下の説明の動作は、コントローラ906により制御される。 Next, the operation of the chip peeling apparatus 900 will be explained. FIG. 10 is a cross-sectional view showing an example of a chip peeling apparatus according to the third embodiment. The operations described below are controlled by controller 906.

まず、図10のAに示すように、チップ剥離装置100において、ダイシングされたリング付き半導体ウェハ10がエジェクター(のハウジング101)上に載置される。このエジェクター上でチップからテープの剥離が行われる。 First, as shown in FIG. 10A, in the chip peeling apparatus 100, the diced semiconductor wafer 10 with rings is placed on (the housing 101 of) the ejector. The tape is peeled off from the chip on this ejector.

次に、エジェクターの凹部113の水平方向の位置を剥離するチップ12と合わせた状態で、エジェクターの高さをダイシングテープ11と同じ高さへ移動させる。 Next, the height of the ejector is moved to the same height as the dicing tape 11 while the horizontal position of the recess 113 of the ejector is aligned with the chip 12 to be peeled.

そして、図10のBに示すように、加圧側に設けたサーボ弁908を介して、加圧したエアーをブロウ穴116に入れ、 Then, as shown in FIG. 10B, pressurized air is introduced into the blow hole 116 via a servo valve 908 provided on the pressurizing side.

そして、図10のCに示すように、エジェクターの真空吸引源102によりダイシングテープ11が真空吸着される。 Then, as shown in FIG. 10C, the dicing tape 11 is vacuum suctioned by the vacuum suction source 102 of the ejector.

この図10のBの加圧と、図10のCの真空吸着を交互に繰り返す。 The pressurization shown in B in FIG. 10 and the vacuum suction shown in C in FIG. 10 are repeated alternately.

そして、ピッカー20のピックアップヘッドをチップ12上に配置し下降させチップ12に接近し吸着可能位置で真空吸着によりチップ12を吸着する。この動作により、図10のDに示すように、チップがピックアップされる。
以上の動作により、チップが半導体ウェハよりピックアップされる。
Then, the pick-up head of the picker 20 is placed above the chip 12 and lowered to approach the chip 12 and pick up the chip 12 by vacuum suction at a position where it can be picked up. By this operation, the chip is picked up as shown in FIG. 10D.
Through the above operations, chips are picked up from the semiconductor wafer.

このように、実施の形態3のチップ剥離装置によれば、加圧の周期を変えながら、振動の力により、チップの剥離を促進できる。 In this way, according to the chip peeling device of the third embodiment, chip peeling can be promoted by the force of vibration while changing the cycle of pressurization.

なお、本発明は上記実施の形態に限られたものではなく、趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更することが可能である。例えば、上記実施の形態では、図面下方向が重力方向となる例として説明しているが、他の方向で実施されてもよい。 Note that the present invention is not limited to the above embodiments, and can be modified as appropriate without departing from the spirit. For example, in the above embodiment, the gravity direction is described as being downward in the drawing, but the gravity direction may be implemented in other directions.

10 半導体ウェハ
11 ダイシングテープ
12 チップ
20 ピッカー
100、900 チップ剥離装置
101 ハウジング
102 真空吸引源
103 第1バルブ
104 第2バルブ
105 圧力検出器
106、906 コントローラ
107 加圧源
108 流量制御弁
111 載置面
112、115 真空吸着穴
113 凹部
114 突起
116 ブロウ穴
117 ブロック部
908 サーボ弁
10 Semiconductor wafer 11 Dicing tape 12 Chip 20 Picker 100, 900 Chip peeling device 101 Housing 102 Vacuum suction source 103 First valve 104 Second valve 105 Pressure detector 106, 906 Controller 107 Pressure source 108 Flow rate control valve 111 Placement surface 112, 115 Vacuum suction hole 113 Recess 114 Protrusion 116 Blow hole 117 Block portion 908 Servo valve

Claims (10)

ウェハを載置可能な載置面を有し、前記載置面に凹部と第1真空吸着穴とを有し、前記凹部に第2真空吸着穴と、ブロウ穴と、突起とを有するハウジングと、
前記第1真空吸着穴及び前記第2真空吸着穴を真空引きする真空吸引源と、
前記第2真空吸着穴の真空引きの真空度を検出する圧力検出器と、
前記ブロウ穴に流体を送出する加圧源と、
前記真空度に基づいて前記ブロウ穴に送出する流体の流量を決定するコントローラと、
前記流体を、前記コントローラの決定した流量に制御する流量制御弁と、
を備え、
前記コントローラは、前記第2真空吸着穴の真空引きを行うと共に、前記ブロウ穴に流体を送出する制御を行うチップ剥離装置。
A housing having a placement surface on which a wafer can be placed, a recess and a first vacuum suction hole in the placement surface, and a second vacuum suction hole, a blow hole, and a protrusion in the recess; ,
a vacuum suction source that evacuates the first vacuum suction hole and the second vacuum suction hole;
a pressure detector that detects the degree of vacuum of the second vacuum suction hole;
a pressurizing source that delivers fluid to the blowhole;
a controller that determines the flow rate of fluid sent to the blowhole based on the degree of vacuum;
a flow rate control valve that controls the fluid to a flow rate determined by the controller;
Equipped with
In the chip peeling device, the controller evacuates the second vacuum suction hole and controls sending fluid to the blow hole.
前記ブロウ穴の開口面積は、前記第2真空吸着穴の開口面積より小さい、請求項1に記載のチップ剥離装置。 The chip peeling apparatus according to claim 1, wherein the opening area of the blow hole is smaller than the opening area of the second vacuum suction hole. 前記コントローラは、前記ブロウ穴に送出する流体の流量を時間の経過と共に減少させる制御を行う請求項1に記載のチップ剥離装置。 The chip peeling apparatus according to claim 1, wherein the controller controls the flow rate of the fluid sent to the blowhole to decrease over time. 前記コントローラは、前記ブロウ穴に送出する流体の流量を時間の経過と共に減少させる制御を行う請求項2に記載のチップ剥離装置。 The chip peeling apparatus according to claim 2, wherein the controller controls the flow rate of the fluid sent to the blowhole to decrease over time. 前記ハウジングは、前記凹部を突出可能なブロック部を有する請求項1に記載のチップ剥離装置。 The chip peeling device according to claim 1, wherein the housing has a block portion that can protrude from the recess. 前記ハウジングは、前記凹部を突出可能なブロック部を有する請求項2に記載のチップ剥離装置。 The chip peeling device according to claim 2, wherein the housing has a block portion that can protrude from the recess. 前記ハウジングは、前記凹部を突出可能なブロック部を有する請求項3かに記載のチップ剥離装置。 4. The chip peeling device according to claim 3, wherein the housing includes a block portion that can protrude from the recess. 前記ハウジングは、前記凹部を突出可能なブロック部を有する請求項4に記載のチップ剥離装置。 The chip peeling device according to claim 4, wherein the housing includes a block portion that can protrude from the recess. 前記流量制御弁は、周期的に流量を変化可能なサーボ弁である請求項1から8のいずれかに記載のチップ剥離装置。 The chip peeling apparatus according to any one of claims 1 to 8, wherein the flow rate control valve is a servo valve that can periodically change the flow rate. ウェハを載置可能な載置面を有し、前記載置面に凹部と第1真空吸着穴とを有し、前記凹部に第2真空吸着穴と、ブロウ穴と、突起とを有するハウジングと、
前記第1真空吸着穴及び前記第2真空吸着穴を真空引きする真空吸引源と、
前記第2真空吸着穴の真空引きの真空度を検出する圧力検出器と、
前記ブロウ穴に流体を送出する加圧源と、
前記流体の流量に制御する流量制御弁と、
を備えるチップ剥離装置において、
前記第2真空吸着穴の真空引きを行うと共に、前記ブロウ穴に流体を送出する制御を行うチップ剥離方法。
A housing having a placement surface on which a wafer can be placed, a recess and a first vacuum suction hole in the placement surface, and a second vacuum suction hole, a blow hole, and a protrusion in the recess; ,
a vacuum suction source that evacuates the first vacuum suction hole and the second vacuum suction hole;
a pressure detector that detects the degree of vacuum of the second vacuum suction hole;
a pressurizing source that delivers fluid to the blowhole;
a flow rate control valve that controls the flow rate of the fluid;
In a chip peeling device comprising:
A chip peeling method in which the second vacuum suction hole is evacuated and a fluid is controlled to be sent to the blow hole.
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