JP2008159644A - Bonding apparatus, and method of suction for circuit board in bonding apparatus - Google Patents

Bonding apparatus, and method of suction for circuit board in bonding apparatus Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a bonding apparatus capable of simultaneously suction-fixing and heating a bent circuit board. <P>SOLUTION: A heat block 10 for sucking/holding a transported circuit board 12 on an upper board suction surface 15 for heating is provided between transport guides 13. Holes 19 are provided on the board suction surface 15 of the heat block 10, in order to attach vacuum suction pads 16 including vacuum suction bellows 18, and the vacuum suction pads 16 are connected to a vacuum apparatus. The heat block 10 is made to lift toward the circuit board 12, while allowing the vacuum apparatus to suck the air in the vacuum suction pads 16, thereby sucking the circuit board 12 by the vacuum suction bellows 18 to heat the circuit board 12, and simultaneously suction-fixing the circuit board 12 on the board suction surface 15. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、ダイボンダ、ワイヤボンダに用いられるヒートブロックの構造及びヒートブロックでの回路基板の吸着方法に関する。   The present invention relates to a structure of a heat block used for a die bonder and a wire bonder, and a method for adsorbing a circuit board with the heat block.

電気回路のプリントされた回路基板に半導体ダイを装着するダイボンダや、回路基板上に装着された半導体ダイと回路基板の間をワイヤにて接続するワイヤボンダは、搬送されてくるリートフレームを吸着ステージの上面に真空吸着固定した状態でボンディング工程、あるいはディスペンシング工程を行う。一方、近年の薄型化の要求、高機能要求及び製造効率化の要求から、回路基板の薄板化、大型化が進むと共に、ダイの多層装着、いわゆるスタッキングが多用されるようになってきている。このように薄い回路基板の場合には回路基板に湾曲あるいは反りが生じてしまい、吸着ステージで回路基板を吸着して真空固定することができず、半導体ダイの装着、ディスペンシングあるいはワイヤボンディングができなくなる場合があった。   A die bonder for mounting a semiconductor die on a circuit board on which an electric circuit is printed, or a wire bonder for connecting a semiconductor die mounted on a circuit board and a circuit board with a wire, attaches the REIT frame being conveyed to the suction stage. A bonding process or a dispensing process is performed in a state where the upper surface is fixed by vacuum suction. On the other hand, due to the recent demand for thinning, demand for high functionality, and demand for higher manufacturing efficiency, circuit boards have become thinner and larger, and die multi-layer mounting, so-called stacking, has been frequently used. In the case of such a thin circuit board, the circuit board is curved or warped, and the circuit board cannot be sucked and fixed in vacuum by the suction stage, and semiconductor die can be mounted, dispensed, or wire bonded. There was a case that disappeared.

半導体ダイが装着されて湾曲した回路基板を吸着ステージに確実に吸着固定する方法として、図6に示すように、吸着ステージ100の貫通孔64に、上下方向シリンダ70によって上下する支持部材68に取り付けられたベロー型の真空グリッパ62を貫通させて、この真空グリッパ62を上下させる装置がある。特許文献1に記載の従来技術と同様に回路基板12が搬送されてくるまでは、真空グリッパ62を吸着ステージ100の下部に格納し、回路基板12が吸着ステージ100に搬送されてきたら真空グリッパ62を湾曲した回路基板12に当たるまで上下方向シリンダ70で上昇させる。弁66を開けて真空グリッパ62の内部を真空にして大気圧との差圧によって真空グリッパ62のベローを圧縮させて回路基板12を基板吸着面15に引き込むと同時に、弁78を開けて真空になっている基板吸着面15にあけられた複数の真空吸引孔76で回路基板12を真空吸引固定するという方法がある(例えば、特許文献1参照)。   As a method for reliably sucking and fixing a curved circuit board mounted with a semiconductor die to the suction stage, it is attached to a support member 68 that moves up and down by a vertical cylinder 70 in a through hole 64 of the suction stage 100 as shown in FIG. There is a device for passing the bellows type vacuum gripper 62 and moving the vacuum gripper 62 up and down. The vacuum gripper 62 is stored in the lower part of the suction stage 100 until the circuit board 12 is transported in the same manner as the prior art described in Patent Document 1, and when the circuit board 12 is transported to the suction stage 100, the vacuum gripper 62 is moved. It is raised by the vertical cylinder 70 until it hits the curved circuit board 12. The valve 66 is opened, the inside of the vacuum gripper 62 is evacuated, the bellows of the vacuum gripper 62 is compressed by the pressure difference from the atmospheric pressure, and the circuit board 12 is drawn into the board suction surface 15. There is a method in which the circuit board 12 is fixed by vacuum suction with a plurality of vacuum suction holes 76 formed in the substrate suction surface 15 (see, for example, Patent Document 1).

また、図7に示すように、回路基板を吸着する吸着ステージ140と吸着ステージ140を上下動させる上下動手段141とを備え、吸着ステージ140に形成された開口部143に弾性材から成る吸着パッド144をその上面を吸着ステージの上面よりも上方へ突出させて配設し、吸着パッド144を真空吸引する真空吸引手段147設けた回路基板101の吸着ステージ140が提案されている(例えば、特許文献2参照)。このような吸着ステージ140において、搬送されてきた回路基板101を吸着する場合には、吸着パッド144の上面を回路基板101の下面に当接させるまで、シリンダ141のロッド142を突出させて吸着ステージ140を上昇させる。そこで真空吸引手段147を駆動して回路基板101を真空吸着すると、吸着パッド144は自身の弾性により偏平に変形しながら回路基板101を吸着ステージ140の上面に当接させ、回路基板101のそりを矯正し回路基板101を吸着する。そして、回路基板101に対するボンド塗布やチップの搭載が行われる。   Further, as shown in FIG. 7, a suction stage 140 for sucking the circuit board and a vertical movement means 141 for moving the suction stage 140 up and down are provided, and a suction pad made of an elastic material is provided in an opening 143 formed in the suction stage 140. The suction stage 140 of the circuit board 101 is proposed in which a vacuum suction means 147 for vacuum suction of the suction pad 144 is provided, with the upper surface of 144 being disposed with the upper surface protruding upward from the upper surface of the suction stage (for example, Patent Literature 1). 2). In the suction stage 140, when the circuit board 101 conveyed is sucked, the rod 142 of the cylinder 141 is protruded until the upper surface of the suction pad 144 is brought into contact with the lower surface of the circuit board 101. Increase 140. Therefore, when the vacuum suction means 147 is driven and the circuit board 101 is vacuum-sucked, the suction pad 144 makes the circuit board 101 abut on the upper surface of the suction stage 140 while being deformed flat by its own elasticity, and the circuit board 101 is warped. It corrects and adsorbs the circuit board 101. Then, bond coating and chip mounting are performed on the circuit board 101.

特開2001−203222号公報JP 2001-203222 A 特開平11-17397号公報JP-A-11-17397

回路基板にダイボンダによって半導体ダイを装着する場合には、接着剤を固着させるために回路基板を加熱することが必要であるが、従来はこの加熱工程はボンディング工程と別工程とされ、上記の特許文献1、2に記載された従来技術は、このようにボンディング工程と加熱工程とを別工程とする半導体製造装置に対応するものである。しかし、近年の半導体装置の製造効率化の要求から、ボンディングと加熱を同時に行うことが要求されてきている。ところが、特許文献1、2に示す従来技術の回路基板の吸着機構は、ボンディングと加熱を同時に行うことができず半導体装置の製造を効率的に行うことに対応できないという問題があった。   When a semiconductor die is mounted on a circuit board by a die bonder, it is necessary to heat the circuit board in order to fix the adhesive. Conventionally, this heating process is a separate process from the bonding process. The conventional techniques described in Documents 1 and 2 correspond to a semiconductor manufacturing apparatus in which the bonding process and the heating process are thus separate processes. However, due to recent demands for increasing the efficiency of manufacturing semiconductor devices, it has been required to perform bonding and heating simultaneously. However, the prior art circuit board suction mechanisms disclosed in Patent Documents 1 and 2 have a problem that bonding and heating cannot be performed at the same time, and the semiconductor device cannot be efficiently manufactured.

そこで、本発明は、湾曲した回路基板の吸着固定と加熱とを同時に行うことを目的とすする。   Accordingly, an object of the present invention is to simultaneously perform adsorption fixing and heating of a curved circuit board.

本発明のボンディング装置は、搬送された回路基板を基板吸着面上に真空吸着する真空吸着孔と、真空吸着した前記回路基板を加熱するヒートブロックを備えるボンディング装置において、前記ヒートブロックの基板吸着面から伸縮部の吸引口が突出するよう前記ヒートブロックに取り付けられ、前記ヒートブロック上に搬送された湾曲した前記回路基板の中央部領域を真空吸着すると共に大気圧との圧力差によって前記伸縮部が圧縮されて前記回路基板を前記基板吸着面上に真空吸引する伸縮自在の真空吸引パッドを含む吸引機構と、前記ヒートブロック上に搬送された湾曲した前記回路基板に向かって前記ヒートブロックを進退させるヒートブロック駆動機構と、を有することを特徴とする。また、本発明のボンディング装置において、前記真空吸引パッドの伸縮部は、耐熱性ゴム材料で構成されていること、としても好適であるし、前記耐熱性ゴム材料は、テフロンゴム又はシリコンゴム又はフッ素ゴムであること、としても好適である。   The bonding apparatus of the present invention is a bonding apparatus comprising a vacuum suction hole for vacuum-sucking a conveyed circuit board on a substrate suction surface, and a heat block for heating the vacuum-sucked circuit board. Is attached to the heat block so that the suction port of the expansion / contraction part protrudes, and vacuum-adsorbs the central region of the curved circuit board conveyed on the heat block, and the expansion / contraction part is caused by a pressure difference from the atmospheric pressure. A suction mechanism including a retractable vacuum suction pad that compresses and vacuum-sucks the circuit board onto the board suction surface, and advances and retracts the heat block toward the curved circuit board conveyed on the heat block. And a heat block driving mechanism. In the bonding apparatus of the present invention, the expansion / contraction part of the vacuum suction pad is preferably made of a heat-resistant rubber material, and the heat-resistant rubber material is made of Teflon rubber, silicon rubber or fluorine. It is also suitable as being rubber.

本発明の湾曲した回路基板を真空吸着固定する方法は、吸引口のある伸縮部を有する真空吸引パッドと真空吸引孔とを備えるボンディング装置のヒートブロック上に搬送された湾曲した回路基板を真空吸着固定する方法であって、前記ヒートブロック上に搬送された湾曲した前記回路基板に向かって前記ヒートブロックを進出させるヒートブロック進出工程と、前記真空吸引パッドの伸縮部内部及び前記真空吸引孔を真空として前記回路基板の中央部領域を真空吸引すると共に前記真空吸引パッドの伸縮部を大気圧との圧力差で圧縮させて前記回路基板を前記ヒートブロックの基板吸着面上に真空吸着する真空吸着工程と、前記真空吸引パッド及び前記真空吸引孔によって前記回路基板を前記ヒートブロックの基板吸着面上に真空固定する真空固定工程と、前記ヒートブロックによって前記ヒートブロックの基板吸着面上に真空固定された前記回路基板を加熱する加熱工程と、を備えることを特徴とする。また、本発明の湾曲した回路基板を真空吸着固定する方法において、前記真空固定工程は、前記真空吸引パッド及び前記真空吸引孔によって前記回路基板を前記ヒートブロックの基板吸着面上に真空固定した後、前記真空吸引パッドの真空を開放し、前記真空吸引孔によって前記回路基板を前記ヒートブロックの基板吸着面上に真空固定保持すること、としても好適である。   The method for vacuum suction fixing of a curved circuit board according to the present invention includes vacuum suction of a curved circuit board conveyed on a heat block of a bonding apparatus having a vacuum suction pad having an expansion / contraction part having a suction port and a vacuum suction hole. A method of fixing, a heat block advancing step of advancing the heat block toward the curved circuit board conveyed on the heat block, and a vacuum inside the expansion / contraction part of the vacuum suction pad and the vacuum suction hole Vacuum suction step of vacuum-sucking the circuit board on the board suction surface of the heat block by vacuum-sucking the central region of the circuit board and compressing the expansion / contraction part of the vacuum suction pad with a pressure difference from the atmospheric pressure And vacuum fixing the circuit board on the substrate suction surface of the heat block by the vacuum suction pad and the vacuum suction hole. A fixing step, characterized in that it comprises a heating step of heating the circuit board which is vacuum fixed on the substrate attracting surface of the heat block by the heat block. Further, in the method of vacuum-fixing a curved circuit board according to the present invention, the vacuum-fixing step is performed after the circuit board is vacuum-fixed on the substrate suction surface of the heat block by the vacuum suction pad and the vacuum suction hole. It is also preferable to release the vacuum of the vacuum suction pad and hold the circuit board on the substrate suction surface of the heat block by the vacuum suction hole.

本発明は、湾曲した回路基板の吸着固定と加熱とを同時に行うことができるという効果を奏する。   The present invention has an effect that adsorption and fixing of a curved circuit board can be performed simultaneously.

以下、本発明を実施するための好適な実施形態について図1〜5を参照しながら説明する。図1は、ダイボンダのヒートブロックの断面図であり、図2はダイボンダのヒートブロックを示す平面図であり、図3は真空吸引パッドの断面図であり、図4は図1、2に示したダイボンダの真空系統図であり、図5は湾曲した回路基板の吸着工程を示す図である。   Hereinafter, a preferred embodiment for carrying out the present invention will be described with reference to FIGS. 1 is a cross-sectional view of a heat block of a die bonder, FIG. 2 is a plan view of the heat block of a die bonder, FIG. 3 is a cross-sectional view of a vacuum suction pad, and FIG. 4 is shown in FIGS. FIG. 5 is a diagram illustrating a vacuum system of a die bonder, and FIG. 5 is a diagram illustrating a suction process of a curved circuit board.

図1に示すように、ダイボンダは回路基板12の両側を搬送方向にガイドする平行な2本の搬送ガイド13を備えている。搬送ガイド13の間には湾曲した回路基板12が搬送されてくる。回路基板12は前工程において、回路基板12の上面に半導体ダイ14が装着されているため上向きに湾曲している。搬送ガイド13の間には搬送された回路基板12を上面の基板吸着面15に吸着保持し、吸着した回路基板12を加熱するヒートブロック10が設けられている。ヒートブロック10の中には加熱装置42が設けられており、これによってヒートブロック10全体を加熱し、吸着した回路基板12を加熱する。   As shown in FIG. 1, the die bonder includes two parallel conveyance guides 13 that guide both sides of the circuit board 12 in the conveyance direction. A curved circuit board 12 is conveyed between the conveyance guides 13. In the previous step, the circuit board 12 is curved upward because the semiconductor die 14 is mounted on the upper surface of the circuit board 12. Between the conveyance guides 13, there is provided a heat block 10 that adsorbs and holds the conveyed circuit board 12 on the upper substrate adsorption surface 15 and heats the adsorbed circuit board 12. A heating device 42 is provided in the heat block 10 to heat the entire heat block 10 and heat the adsorbed circuit board 12.

ヒートブロック10の基板吸着面15には孔19が設けられており、その中に真空吸引パッド16の伸縮部である真空吸引ベローズ18が配設され、真空吸引ベローズ18の下部の固定部17はヒートブロック10に固定されている。真空吸引パッド16の固定部17には真空配管20が接続され、真空配管20はヒートブロック10に固定されたヘッダ21に接続され、ヘッダ21には真空配管22が接続されている。   A hole 19 is provided in the substrate suction surface 15 of the heat block 10, and a vacuum suction bellows 18 that is an expansion / contraction part of the vacuum suction pad 16 is disposed therein. It is fixed to the heat block 10. A vacuum pipe 20 is connected to the fixing portion 17 of the vacuum suction pad 16, the vacuum pipe 20 is connected to a header 21 fixed to the heat block 10, and a vacuum pipe 22 is connected to the header 21.

図3に示すように、真空吸引ベローズ18は上端に回路基板12を真空吸引するための吸引口18aを有するジャバラ管構造で下部の固定部17に接続されている。真空吸引ベローズ18はヒートブロック10の加熱に耐えるようにテフロンゴム、シリコンゴム、フッ素ゴム、アクリルゴムなどの薄い耐熱性ゴムで3〜5段のベローズが形成されているものとなっているが、真空と大気圧との差圧によって圧縮することができるものであれば可撓性の金属材料で構成してもよい。また、回路基板12の湾曲の大きさによって、ベローズの段数を多くしたり少なくしたりすることも好適である。更に、真空吸着ベローズ18は軸方向に圧縮変形することができる形状であればジャバラ管でなく、例えば円錐形状のようなものでも良い。この真空吸引パッド16は調整ネジなどによって高さの微調整を可能として、回路基板12の湾曲の度合いによって真空吸引ベローズ18の基板吸着面15からの突出高さを調整することができるようにしても好適である。このように、真空吸引パッド16は下部の固定部17がヒートブロック10に固定され、上部の伸縮部の真空吸引ベローズ18が伸縮自在となるようになっている。   As shown in FIG. 3, the vacuum suction bellows 18 is connected to the lower fixing portion 17 in a bellows tube structure having a suction port 18a for vacuum suction of the circuit board 12 at the upper end. The vacuum suction bellows 18 is a thin heat-resistant rubber such as Teflon rubber, silicon rubber, fluorine rubber, acrylic rubber, etc. so as to withstand the heating of the heat block 10, and a bellows of 3 to 5 stages is formed. Any material that can be compressed by a differential pressure between vacuum and atmospheric pressure may be used. It is also preferable to increase or decrease the number of bellows depending on the degree of curvature of the circuit board 12. Further, the vacuum suction bellows 18 may be a conical shape instead of a bellows tube as long as it can be compressed and deformed in the axial direction. The vacuum suction pad 16 can be finely adjusted with an adjustment screw or the like, and the protrusion height of the vacuum suction bellows 18 from the substrate suction surface 15 can be adjusted according to the degree of curvature of the circuit board 12. Is also suitable. Thus, the vacuum suction pad 16 has the lower fixing portion 17 fixed to the heat block 10, and the vacuum suction bellows 18 of the upper expansion / contraction portion can be expanded and contracted.

ヒートブロック10の下側には、ヒートブロック10の基板吸着面15を回路基板12に向かって進退させるヒートブロック駆動機構30が設けられている。ヒートブロック駆動機構30はサーボモータによって上下方向の移動とその位置制御を行うように構成してもよいし、通常のモータと位置センサによって上下方向の駆動及び位置制御を行うようにしてもよいし、カムなどによって上下方向に駆動するように構成してもよい。ヒートブロック駆動機構30はシャフト32によってヒートブロック10に接続されてヒートブロック10を駆動できるように構成されている。   Below the heat block 10, a heat block drive mechanism 30 that moves the substrate suction surface 15 of the heat block 10 forward and backward toward the circuit board 12 is provided. The heat block driving mechanism 30 may be configured to perform vertical movement and position control by a servo motor, or may perform vertical driving and position control by a normal motor and position sensor. Alternatively, it may be configured to be driven in the vertical direction by a cam or the like. The heat block driving mechanism 30 is configured to be connected to the heat block 10 by a shaft 32 so as to drive the heat block 10.

図2はヒートブロックの平面図であり、湾曲した回路基板12、半導体ダイ14は二点鎖線で示してある。図2に示すように、ヒートブロック10は、回路基板12をその線上に吸着固定して半導体ダイ14のボンディング動作を行うボンディング中心線34の上に、回路基板12との間でキャビティを形成するX型の溝11aを備え、この溝11aの中心には真空吸引孔11が空けられている。真空吸引孔11によって溝11aが真空となると溝11aと回路基板12の間のキャビティが真空となって回路基板12が基板吸着面15に真空固定される。図2において、真空吸引パッド16は搬送中心線36の両側で、ボンディング中心線34から搬送方向に半導体ダイ14の装着ピッチの1/2だけ上流側に配設されている。この位置は回路基板12を真空吸着固定、保持する溝11a、真空吸引孔11と近く、しかも干渉しない位置で、真空吸引パッド16によって吸引した回路基板12をスムースに溝11aと真空吸引孔11によって形成される真空キャビティで吸引することができるような位置である。また、この位置は、回路基板12に配線用の貫通孔があまり配設されていない位置で、真空吸引パッド16によって回路基板12を効果的に吸引することができる位置である。もちろん、上記のように真空吸引パッド16によって効果的に吸引することができる位置であれば、真空吸引パッド16の位置は上記で説明した実施形態の位置に限られない。   FIG. 2 is a plan view of the heat block, and the curved circuit board 12 and the semiconductor die 14 are indicated by a two-dot chain line. As shown in FIG. 2, the heat block 10 forms a cavity with the circuit board 12 on the bonding center line 34 that performs the bonding operation of the semiconductor die 14 by attracting and fixing the circuit board 12 on the line. An X-shaped groove 11a is provided, and a vacuum suction hole 11 is formed at the center of the groove 11a. When the groove 11 a is evacuated by the vacuum suction hole 11, the cavity between the groove 11 a and the circuit board 12 is evacuated, and the circuit board 12 is vacuum fixed to the substrate suction surface 15. In FIG. 2, the vacuum suction pads 16 are disposed on both sides of the transport center line 36 and upstream of the bonding center line 34 by a half of the mounting pitch of the semiconductor die 14 in the transport direction. This position is close to the groove 11a for holding and holding the circuit board 12 by vacuum suction and the vacuum suction hole 11 and does not interfere with the circuit board 12 sucked by the vacuum suction pad 16 so that the groove 11a and the vacuum suction hole 11 smoothly. The position is such that suction can be performed in the vacuum cavity to be formed. Further, this position is a position where the circuit board 12 can be effectively sucked by the vacuum suction pad 16 at a position where the circuit board 12 is not provided with through holes for wiring. Of course, the position of the vacuum suction pad 16 is not limited to the position of the embodiment described above as long as it can be effectively sucked by the vacuum suction pad 16 as described above.

図4に本実施形態の真空配管系統を示す。図4に示すように真空吸引パッド16の真空吸引ベローズ18、固定部17は真空配管20、22を経由して電磁弁26に接続されている。電磁弁26は真空配管28によって真空装置29に接続されている。一方、ヒートブロック10の真空吸引孔11は真空管路23を介して真空配管25に接続され、別の電磁弁27に接続されている。別の電磁弁27は電磁弁26と同様に真空配管28を介して真空装置29に接続されている。真空装置29は真空ポンプに直接接続されていてもよいし、真空ポンプに接続された真空タンクのようなものでもよい。電磁弁26、27が開となると空気は真空吸引ベローズ18、真空吸引孔11から空気が吸込まれ、これによって回路基板12を吸着する。本実施形態では、真空吸引ベローズ18と真空吸引孔11からの吸引を別々の電磁弁26,27によって開閉することとしたが、同一の電磁弁によって開閉することとしても好適である。   FIG. 4 shows the vacuum piping system of this embodiment. As shown in FIG. 4, the vacuum suction bellows 18 and the fixing portion 17 of the vacuum suction pad 16 are connected to an electromagnetic valve 26 via vacuum pipes 20 and 22. The electromagnetic valve 26 is connected to a vacuum device 29 by a vacuum pipe 28. On the other hand, the vacuum suction hole 11 of the heat block 10 is connected to a vacuum pipe 25 via a vacuum pipe 23 and is connected to another electromagnetic valve 27. Another electromagnetic valve 27 is connected to a vacuum device 29 through a vacuum pipe 28 in the same manner as the electromagnetic valve 26. The vacuum device 29 may be directly connected to the vacuum pump, or may be a vacuum tank connected to the vacuum pump. When the solenoid valves 26 and 27 are opened, the air is sucked from the vacuum suction bellows 18 and the vacuum suction hole 11, thereby adsorbing the circuit board 12. In this embodiment, the suction from the vacuum suction bellows 18 and the vacuum suction hole 11 is opened and closed by the separate solenoid valves 26 and 27, but it is also preferable that the suction is performed by the same solenoid valve.

図5を参照して、本実施形態の動作について説明する。図5(a)に示すように、搬送ガイド13によって前工程で半導体ダイ14が装着されて湾曲した回路基板12がヒートブロック10の上に搬送されて、半導体ダイ14の中心位置がボンディング中心線34の位置に来て停止している。回路基板の幅はWであり、中央領域の湾曲高さはDとなっている。図5(a)に示すように、吸引口18aは基板吸着面15より高さH1だけ突出した状態で、ヒートブロック10は、基板吸着面15の上に突き出した真空吸着ベローズ18上端の吸引口18aの位置が搬送ガイド13のガイド面の高さよりもH2だけ低くなるようになっている。ここで、基板吸着面15と搬送ガイド13のガイド面との距離AはH1よりも大きく、H2=A−H1となっている。このように吸引口18aの位置を搬送ガイド13のガイド面よりも下に位置させるようにすることによって搬送ガイド13によって搬送される回路基板12の湾曲高さにかかわらず、真空吸着ベローズ18と搬送中の回路基板12とが干渉することを防止することができる。 The operation of this embodiment will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 5A, the circuit board 12 having the semiconductor die 14 mounted thereon and curved in the previous process is transported onto the heat block 10 by the transport guide 13, and the center position of the semiconductor die 14 is the bonding center line. It has stopped at position 34. The width of the circuit board is W, and the bending height of the central region is D. As shown in FIG. 5 (a), the suction port 18a is in a state of protruding by a height H 1 from the substrate attracting surface 15, the heat block 10, vacuum suction bellows 18 upper suction protruding on the substrate attracting surface 15 mouth position 18a is adapted to be lower by H 2 than the height of the guide surface of the conveying guide 13. Here, the distance A between the substrate suction surface 15 and the guide surface of the transport guide 13 is larger than H 1 , and H 2 = A−H 1 . In this way, the suction port 18a is positioned below the guide surface of the transport guide 13 so that the vacuum suction bellows 18 and the transport can be transported regardless of the curved height of the circuit board 12 transported by the transport guide 13. Interference with the circuit board 12 inside can be prevented.

次に、図5(b)に示すように、電磁弁26,27を開として真空吸引ベローズ18と真空吸引孔11の空気を真空装置29に吸引を開始する。当初のヒートブロック10の位置では、吸引口18aと回路基板12との間の距離Lは、L=D+A−H1であり、真空吸着ベローズ18と真空吸引孔11の空気を真空装置29で吸引しても、吸引口18aと回路基板12の間の隙間から吸引口18aに空気が吸引されてしまい、真空吸着ベローズ18は回路基板12を吸着できない距離となっている。真空吸着ベローズ18及び真空吸引孔11から空気を吸引しつつ、ヒートブロック駆動機構30を動作させとヒートブロック10を回路基板12の下面に向かって上昇させていく。ヒートブロック10が回路基板12に向かって上昇していくと共に、ヒートブロック10に取り付けられた真空吸着ベローズ18の吸引口18aは回路基板12の下面に接近してくる。 Next, as shown in FIG. 5 (b), the electromagnetic valves 26 and 27 are opened, and the suction of the air in the vacuum suction bellows 18 and the vacuum suction hole 11 to the vacuum device 29 is started. At the initial position of the heat block 10, the distance L between the suction port 18 a and the circuit board 12 is L = D + A−H 1 , and the vacuum suction bellows 18 and the vacuum suction hole 11 are sucked by the vacuum device 29. Even so, air is sucked into the suction port 18 a from the gap between the suction port 18 a and the circuit board 12, and the vacuum suction bellows 18 is a distance at which the circuit board 12 cannot be sucked. When the heat block driving mechanism 30 is operated while sucking air from the vacuum suction bellows 18 and the vacuum suction hole 11, the heat block 10 is raised toward the lower surface of the circuit board 12. As the heat block 10 rises toward the circuit board 12, the suction port 18 a of the vacuum suction bellows 18 attached to the heat block 10 approaches the lower surface of the circuit board 12.

吸引口18aと回路基板12の下面との隙間が少なくなり、吸引口18aに吸い込まれる空気流速が早くなってくると、吸引口18aと回路基板12下面との間の空気圧力が低下してくる。そして、回路基板12の上面にかかっている大気圧力と吸引口18aに対向している回路基板12下面の圧力の差が大きくなると、回路基板12の上面は大気圧によって回路基板12の下面側にあるヒートブロック10の基板吸着面15に向かって押され始める。この圧力差による押し下げ力が湾曲した回路基板12の湾曲の弾性力よりも大きくなると、回路基板12は吸引口18aに向かって下方に移動し始める。回路基板12が吸引口18aに向かって移動を始めると、回路基板12と吸引口18aとの距離は、ヒートブロック10の上昇動作と回路基板12のヒートブロック10に向かう下降による各移動距離の合計分だけ短くなる。これによって、吸引口18aと回路基板12の下面とは急速に接近しだす。そして、この吸引口18aと回路基板12の急接近によって、吸引口18aと回路基板12下面との間の空気流速が急速に上昇、圧力の急低下が発生する。この圧力の急低下によって、回路基板12をヒートブロック10の基板吸着面15に向かって押し下げる押し下げ力が急上昇し、回路基板12は真空吸着ベローズ18の吸引口18aに吸着される。回路基板12が真空吸着ベローズ18に吸着されると、ヒートブロック10の上昇動作は停止される。   When the gap between the suction port 18a and the lower surface of the circuit board 12 is reduced and the air flow rate sucked into the suction port 18a is increased, the air pressure between the suction port 18a and the lower surface of the circuit board 12 is decreased. . When the difference between the atmospheric pressure applied to the upper surface of the circuit board 12 and the pressure on the lower surface of the circuit board 12 facing the suction port 18a is increased, the upper surface of the circuit board 12 is moved to the lower surface side of the circuit board 12 by atmospheric pressure. The heat block 10 starts to be pushed toward the substrate suction surface 15. When the pressing force due to this pressure difference becomes larger than the bending elastic force of the curved circuit board 12, the circuit board 12 starts to move downward toward the suction port 18a. When the circuit board 12 starts moving toward the suction port 18a, the distance between the circuit board 12 and the suction port 18a is the sum of the moving distances due to the upward movement of the heat block 10 and the downward movement of the circuit board 12 toward the heat block 10. Shorten by minutes. As a result, the suction port 18a and the lower surface of the circuit board 12 quickly approach each other. Then, due to the rapid approach between the suction port 18a and the circuit board 12, the air flow velocity between the suction port 18a and the lower surface of the circuit board 12 is rapidly increased, and the pressure is rapidly decreased. Due to this sudden drop in pressure, the pressing force that pushes down the circuit board 12 toward the board suction surface 15 of the heat block 10 rises rapidly, and the circuit board 12 is sucked into the suction port 18 a of the vacuum suction bellows 18. When the circuit board 12 is sucked by the vacuum suction bellows 18, the raising operation of the heat block 10 is stopped.

図5(c)に示すように、ヒートブロック10の上昇と真空吸引ベローズ18の空気の吸い込みによって、回路基板12の下面が真空吸引ベローズ18の吸引口18aに吸着されると、真空吸引ベローズ18内部の圧力は更に低下し、真空装置の吸引真空圧力となる。真空吸引ベローズ18は真空の内部圧力と大気圧との圧力差によって外部から圧縮力を受ける。図3に示したように、真空吸着ベローズ18は直径方向の形状を保ったまま軸方向に圧縮を受けやすい構造となっていることから、この外部の圧縮力によって真空吸引ベローズ18は、軸方向に圧縮されるように変形する。真空吸引ベローズ18の下部は固定部17に接続、固定されていることから、回路基板12を吸着した吸引口18aは圧縮によってヒートブロック10の基板吸着面15に向かって降下してくる。回路基板12が基板吸着面15の近くまで降下して、回路基板12下面と基板吸着面18に設けられた真空吸引孔11及び溝11aとの間の距離が小さくなってくると、真空吸引孔11及び溝11aの回りの圧力が低下してくる。すると、回路基板12は上面に加わる大気圧と真空吸引孔11及び溝11aの周りの圧力差によって基板吸着面15に押し付けられ、真空吸引ベローズ18及び溝11aによって基板吸着面15に吸着固定される。   As shown in FIG. 5C, when the lower surface of the circuit board 12 is adsorbed to the suction port 18a of the vacuum suction bellows 18 by the rising of the heat block 10 and the suction of the air of the vacuum suction bellows 18, the vacuum suction bellows 18 The internal pressure further decreases to the suction vacuum pressure of the vacuum device. The vacuum suction bellows 18 receives a compression force from the outside due to a pressure difference between the vacuum internal pressure and the atmospheric pressure. As shown in FIG. 3, the vacuum suction bellows 18 has a structure that is easily compressed in the axial direction while maintaining the shape in the diametrical direction. To be compressed. Since the lower part of the vacuum suction bellows 18 is connected and fixed to the fixing part 17, the suction port 18 a that sucks the circuit board 12 descends toward the board suction surface 15 of the heat block 10 by compression. When the circuit board 12 descends to the vicinity of the board suction surface 15 and the distance between the vacuum suction hole 11 and the groove 11a provided on the lower surface of the circuit board 12 and the board suction surface 18 becomes smaller, the vacuum suction hole 11 and the pressure around the groove 11a decrease. Then, the circuit board 12 is pressed against the substrate suction surface 15 by the atmospheric pressure applied to the upper surface and the pressure difference around the vacuum suction hole 11 and the groove 11a, and is sucked and fixed to the substrate suction surface 15 by the vacuum suction bellows 18 and the groove 11a. .

このように、ヒートブロック10の上昇動作と真空吸引ベローズ18及び真空吸引孔11からの空気の吸引によって、湾曲した回路基板12がヒートブロック10の基板吸着面15に吸着固定される。回路基板12の湾曲高さDが大きい場合には、ヒートブロック10をより上昇させて、吸引口18aを回路基板12の下面に近づけることが必要となるので、回路基板12が吸着される際のヒートブロック10の基板吸着面15の高さは搬送ガイド13のガイド面よりも上側となっている。   In this way, the curved circuit board 12 is sucked and fixed to the board suction surface 15 of the heat block 10 by the raising operation of the heat block 10 and the suction of air from the vacuum suction bellows 18 and the vacuum suction hole 11. When the curved height D of the circuit board 12 is large, it is necessary to raise the heat block 10 further to bring the suction port 18a closer to the lower surface of the circuit board 12, so that when the circuit board 12 is adsorbed The height of the substrate suction surface 15 of the heat block 10 is above the guide surface of the transport guide 13.

このヒートブロック10の基板吸着面15のガイド面からの上昇量は、吸着によって真空吸着ベローズ18の内面が真空となった状態を検出してヒートブロック10の上昇動作を停止させることによって決まる量としてよいし、予めヒートブロック10の上に搬送された湾曲した回路基板12の湾曲高さDを測定し、その湾曲高さに対応した所定量だけ上昇させるようにしてもよい。例えば、湾曲高さDの1/2だけガイド面から基板吸着面15が上側となるようにヒートブロック10を上昇させるようにしても好適である。ヒートブロック10の基板吸着面15をガイド面から上側に上昇させて回路基板12を吸着させた場合には、回路基板12を吸着固定した状態で、回路基板12は両側面にある搬送ガイド13のガイド面から上側に浮き上がった状態となっている。   The amount by which the substrate suction surface 15 of the heat block 10 rises from the guide surface is determined by detecting the state in which the inner surface of the vacuum suction bellows 18 is evacuated by suction and stopping the lifting operation of the heat block 10. Alternatively, the curved height D of the curved circuit board 12 that has been conveyed on the heat block 10 in advance may be measured, and may be raised by a predetermined amount corresponding to the curved height. For example, it is also preferable to raise the heat block 10 so that the substrate suction surface 15 is on the upper side from the guide surface by ½ of the curved height D. When the circuit board 12 is adsorbed by raising the board adsorbing surface 15 of the heat block 10 upward from the guide surface, the circuit board 12 is in the state of adsorbing and fixing the circuit board 12 and the conveyance guides 13 on both side surfaces. It is in a state of floating upward from the guide surface.

また、回路基板12の湾曲高さDが吸引口18aの基板吸着面15からの突出長さH1よりも小さい場合には、ヒートブロック10の基板吸着面15が搬送ガイド13のガイド面よりも低い位置において吸引口18aが回路基板12を吸着することができるので、ヒートブロック10の基板吸着面15の高さは搬送ガイド13のガイド面よりも下側となっている。 When the curved height D of the circuit board 12 is smaller than the protruding length H 1 of the suction port 18 a from the board suction surface 15, the board suction surface 15 of the heat block 10 is larger than the guide surface of the transport guide 13. Since the suction port 18 a can suck the circuit board 12 at a low position, the height of the board suction surface 15 of the heat block 10 is lower than the guide surface of the transport guide 13.

このようにヒートブロック10の基板吸着面15の高さと搬送ガイド13のガイド面の高さとの間に差異が生じても、ボンディングはヒートブロック10上で行われることから特に問題が生じることは無い。従って、ヒートブロック10の上昇による基板吸着面15の高さは、搬送ガイド13のガイド面から少し上に突出した位置でも良いし、搬送ガイド13のガイド面と略同一面となっていても良いし、ガイド面よりも下がった位置となっていても良い。   Thus, even if there is a difference between the height of the substrate suction surface 15 of the heat block 10 and the height of the guide surface of the conveyance guide 13, there is no particular problem because bonding is performed on the heat block 10. . Accordingly, the height of the substrate suction surface 15 due to the rising of the heat block 10 may be a position protruding slightly upward from the guide surface of the transport guide 13 or may be substantially the same as the guide surface of the transport guide 13. However, the position may be lower than the guide surface.

一旦、基板吸着面15に回路基板12が吸着固定されると、真空吸引ベローズ18の中の圧力を大気圧に開放しても回路基板12は真空吸引孔11及び溝11aによってヒートブロック10に吸着固定されるので、電磁弁26を閉として真空吸着ベローズ18の真空を開放するようにしても良い。   Once the circuit board 12 is sucked and fixed to the board suction surface 15, the circuit board 12 is sucked to the heat block 10 by the vacuum suction holes 11 and the grooves 11a even if the pressure in the vacuum suction bellows 18 is released to atmospheric pressure. Therefore, the vacuum of the vacuum suction bellows 18 may be released by closing the electromagnetic valve 26.

回路基板12がヒートブロック10に吸着固定されると回路基板12はヒートブロック10によって加熱される。ヒートブロック10は、ボンディング装置の動作の開始と共に加熱が開始されているので、基板吸着面15に回路基板12が吸着されると同時に温度の上昇しているヒートブロック10の基板吸着面15によって回路基板12の加熱が開始される。回路基板12は通常数10ミクロンと非常に薄いので、ヒートブロック10の熱容量によって極短時間に所定の温度までの加熱ができ、すぐにボンディング工程が開始される。   When the circuit board 12 is attracted and fixed to the heat block 10, the circuit board 12 is heated by the heat block 10. Since the heating of the heat block 10 is started with the start of the operation of the bonding apparatus, a circuit is formed by the substrate suction surface 15 of the heat block 10 whose temperature rises at the same time that the circuit board 12 is suctioned to the substrate suction surface 15. Heating of the substrate 12 is started. Since the circuit board 12 is usually very thin, such as several tens of microns, it can be heated to a predetermined temperature in a very short time by the heat capacity of the heat block 10, and the bonding process is started immediately.

ボンディング中心線34にある回路基板12の各半導体ダイ14装着位置への半導体ダイ14の装着が終了すると、真空吸着ベローズ18、真空吸引孔11、溝11aの圧力を大気圧に開放し、ヒートブロック10を当初の位置まで降下させる。すると、回路基板12は図5(a)に示す湾曲状態に戻り、真空吸引ベローズ18の吸引口18aも基板吸着面15から上に突出した状態となる。回路基板12は真空吸引ベローズ上端の吸引口18aとクリアランスを持っているので、回路基板12を真空吸引ベローズ18と干渉させずに搬送することができる。そして、次の列の半導体ダイ14の中心がボンディング中心線34に来るまで回路基板12を図示しない搬送機構によって搬送する。これでダイボンダによる湾曲した回路基板12への半導体ダイ14の装着の1サイクルが終了する。   When the mounting of the semiconductor dies 14 to the mounting positions of the semiconductor dies 14 on the circuit board 12 at the bonding center line 34 is completed, the pressure of the vacuum suction bellows 18, the vacuum suction hole 11, and the groove 11 a is released to atmospheric pressure, and the heat block Lower 10 to its original position. Then, the circuit board 12 returns to the curved state shown in FIG. 5A, and the suction port 18a of the vacuum suction bellows 18 also protrudes upward from the board suction surface 15. Since the circuit board 12 has a clearance with the suction port 18 a at the upper end of the vacuum suction bellows, the circuit board 12 can be transported without interfering with the vacuum suction bellows 18. Then, the circuit board 12 is transported by a transport mechanism (not shown) until the center of the semiconductor die 14 in the next row comes to the bonding center line 34. This completes one cycle of mounting the semiconductor die 14 to the curved circuit board 12 by the die bonder.

このように、本実施形態のダイボンダにおいては、真空吸引ベローズ18が取り付けられたヒートブロック10を回路基板18に向かって上昇させるので、様々な湾曲高さを持つ回路基板12を吸引、吸着固定することができる。そして、回路基板12をヒートブロック10に吸着固定することから、回路基板12を吸着固定と同時に加熱することができ、ダイボンダのボンディング工程と加熱工程とを同時に行うことができ、半導体装置の効率化を図ることができるという効果を奏する。   As described above, in the die bonder of the present embodiment, the heat block 10 to which the vacuum suction bellows 18 is attached is raised toward the circuit board 18, so that the circuit board 12 having various curved heights is sucked and sucked and fixed. be able to. Since the circuit board 12 is fixed to the heat block 10 by suction, the circuit board 12 can be heated simultaneously with the suction fixing, and the bonding process and the heating process of the die bonder can be performed at the same time, thereby improving the efficiency of the semiconductor device. There is an effect that can be achieved.

以上、本発明の実施形態は、半導体ダイ14が装着されて湾曲している回路基板12を吸着固定する場合について説明したが、薄く、大型で当初から湾曲のある回路基板12を吸着固定することにも用いることができる。また、上記の実施形態はダイボンダの半導体ダイ14を装着するボンディング工程においての回路基板12の真空吸着について説明したが、本発明は、ダイボンダのディスペンサ工程において回路基板12を吸着固定する場合にも適用できるし、ワイヤボンダのワイヤボンディング工程において回路基板12を真空吸着する場合にも用いることができる。   As mentioned above, although embodiment of this invention demonstrated the case where the semiconductor substrate 14 was mounted | worn and the circuit board 12 which is curving is adsorbed and fixed, thin and large-sized and curving circuit board 12 is adsorbing and fixing from the beginning. Can also be used. In the above embodiment, the vacuum suction of the circuit board 12 in the bonding process for mounting the semiconductor die 14 of the die bonder has been described. However, the present invention is also applicable to the case where the circuit board 12 is fixed by suction in the dispenser process of the die bonder. It can also be used when the circuit board 12 is vacuum-sucked in the wire bonding process of the wire bonder.

本発明の実施形態であるダイボンダのヒートブロックの断面図である。It is sectional drawing of the heat block of the die bonder which is embodiment of this invention. 本発明の実施形態であるダイボンダのヒートブロックを示す平面図である。It is a top view which shows the heat block of the die bonder which is embodiment of this invention. 真空吸引パッドの断面図である。It is sectional drawing of a vacuum suction pad. 本発明の実施形態であるダイボンダの真空系統図である。It is a vacuum system diagram of the die bonder which is an embodiment of the present invention. 湾曲した回路基板の吸着工程を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the adsorption | suction process of the curved circuit board. 従来技術によるベロー型真空グリッパを上下させる吸着固定装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the adsorption fixing apparatus which raises / lowers the bellows type vacuum gripper by a prior art. 従来技術による吸着ステージを上下させる吸着固定装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the suction fixing apparatus which raises and lowers the suction stage by a prior art.

符号の説明Explanation of symbols

10 ヒートブロック、11 真空吸引孔、11a 溝、12,101 回路基板、13 搬送ガイド、14 半導体ダイ、15 基板吸着面、16 真空吸引パッド、17 固定部、18 真空吸引ベローズ、18a 吸引口、19 孔、20,22,24,25,28 真空配管、21 フレーム、23 真空管路、26,27 電磁弁、29 真空装置、30 ヒートブロック駆動機構、32 シャフト、34 ボンディング中心線、36 搬送中心線、42 加熱装置、50 吸着筒、52 真空吸引孔、62 真空グリッパ、64 貫通孔、66 弁、68 支持部材、70 上下方向シリンダ、76 真空吸引孔、78 弁、100,140 吸着ステージ、141 シリンダ、141 上下動手段、142 ロッド、143、開口部、144 吸着パッド、147 真空吸引手段。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Heat block, 11 Vacuum suction hole, 11a Groove, 12, 101 Circuit board, 13 Transport guide, 14 Semiconductor die, 15 Substrate adsorption surface, 16 Vacuum suction pad, 17 Fixing part, 18 Vacuum suction bellows, 18a Suction port, 19 Hole, 20, 22, 24, 25, 28 vacuum piping, 21 frame, 23 vacuum pipe, 26, 27 solenoid valve, 29 vacuum device, 30 heat block drive mechanism, 32 shaft, 34 bonding center line, 36 transport center line, 42 heating device, 50 suction cylinder, 52 vacuum suction hole, 62 vacuum gripper, 64 through hole, 66 valve, 68 support member, 70 vertical cylinder, 76 vacuum suction hole, 78 valve, 100, 140 suction stage, 141 cylinder, 141 Vertical movement means, 142 Rod, 143, Opening, 144 Suction pad , 147 vacuum suction means.

Claims (5)

搬送された回路基板を基板吸着面上に真空吸着する真空吸着孔と、真空吸着した前記回路基板を加熱するヒートブロックを備えるボンディング装置において、
前記ヒートブロックの基板吸着面から伸縮部の吸引口が突出するよう前記ヒートブロックに取り付けられ、前記ヒートブロック上に搬送された湾曲した前記回路基板の中央部領域を真空吸着すると共に大気圧との圧力差によって前記伸縮部が圧縮されて前記回路基板を前記基板吸着面上に真空吸引する伸縮自在の真空吸引パッドを含む吸引機構と、
前記ヒートブロック上に搬送された湾曲した前記回路基板に向かって前記ヒートブロックを進退させるヒートブロック駆動機構と、
を有することを特徴とするボンディング装置。
In a bonding apparatus including a vacuum suction hole for vacuum-sucking the conveyed circuit board on the substrate suction surface, and a heat block for heating the vacuum-sucked circuit board,
Attached to the heat block so that the suction port of the expansion / contraction part protrudes from the board adsorption surface of the heat block, and vacuum-sucks the central area of the curved circuit board conveyed on the heat block and with atmospheric pressure. A suction mechanism including a retractable vacuum suction pad for compressing the expansion and contraction portion by a pressure difference and vacuum-sucking the circuit board onto the substrate suction surface;
A heat block drive mechanism for moving the heat block forward and backward toward the curved circuit board conveyed on the heat block;
A bonding apparatus comprising:
請求項1に記載のボンディング装置において、
前記真空吸引パッドの伸縮部は、耐熱性ゴム材料で構成されていること、
を特徴とするボンディング装置。
The bonding apparatus according to claim 1,
The stretchable part of the vacuum suction pad is made of a heat-resistant rubber material;
A bonding apparatus characterized by the above.
請求項2に記載のボンディング装置において、
前記耐熱性ゴム材料は、テフロンゴム又はシリコンゴム又はフッ素ゴムであること、
を特徴とするボンディング装置。
The bonding apparatus according to claim 2,
The heat-resistant rubber material is Teflon rubber, silicon rubber, or fluorine rubber,
A bonding apparatus characterized by the above.
吸引口のある伸縮部を有する真空吸引パッドと真空吸引孔とを備えるボンディング装置のヒートブロック上に搬送された湾曲した回路基板を真空吸着固定する方法であって、
前記ヒートブロック上に搬送された湾曲した前記回路基板に向かって前記ヒートブロックを進出させるヒートブロック進出工程と、
前記真空吸引パッドの伸縮部内部及び前記真空吸引孔を真空として前記回路基板の中央部領域を真空吸引すると共に前記真空吸引パッドの伸縮部を大気圧との圧力差で圧縮させて前記回路基板を前記ヒートブロックの基板吸着面上に真空吸着する真空吸着工程と、
前記真空吸引パッド及び前記真空吸引孔によって前記回路基板を前記ヒートブロックの基板吸着面上に真空固定する真空固定工程と、
前記ヒートブロックによって前記ヒートブロックの基板吸着面上に真空固定された前記回路基板を加熱する加熱工程と、
を備えることを特徴とする湾曲した回路基板を真空吸着固定する方法。
A method for vacuum suction fixing a curved circuit board conveyed on a heat block of a bonding apparatus having a vacuum suction pad having a stretchable part with a suction port and a vacuum suction hole,
A heat block advancing step of advancing the heat block toward the curved circuit board conveyed on the heat block;
The circuit board is formed by vacuum-sucking the inside of the expansion / contraction part of the vacuum suction pad and the central region of the circuit board by using the vacuum suction hole as a vacuum and compressing the expansion / contraction part of the vacuum suction pad with a pressure difference from the atmospheric pressure. A vacuum suction step for vacuum suction on the substrate suction surface of the heat block;
A vacuum fixing step of vacuum fixing the circuit board on the substrate suction surface of the heat block by the vacuum suction pad and the vacuum suction hole;
A heating step of heating the circuit board vacuum-fixed on the substrate adsorption surface of the heat block by the heat block;
A method of vacuum-fixing and fixing a curved circuit board, comprising:
請求項4に記載の湾曲した回路基板を真空吸着固定する方法であって、
前記真空固定工程は、前記真空吸引パッド及び前記真空吸引孔によって前記回路基板を前記ヒートブロックの基板吸着面上に真空固定した後、前記真空吸引パッドの真空を開放し、前記真空吸引孔によって前記回路基板を前記ヒートブロックの基板吸着面上に真空固定保持すること、
を特徴とする湾曲した回路基板を真空吸着固定する方法。
A method of vacuum-adsorbing and fixing the curved circuit board according to claim 4,
In the vacuum fixing step, after the circuit board is vacuum fixed on the substrate suction surface of the heat block by the vacuum suction pad and the vacuum suction hole, the vacuum of the vacuum suction pad is released, and the vacuum suction hole Holding the circuit board in a vacuum fixed state on the substrate adsorption surface of the heat block;
A method of vacuum-fixing a curved circuit board characterized by
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