JP2023153387A5 - - Google Patents

Claims (16)

1. 電解質、溶媒及びアニオン成分を含む組成物であって、
   前記電解質は、スルホニルイミド塩を含み、
   前記アニオン成分は、酸解離定数ｐＫａ（複数電離する酸については第１段階の酸解離定数ｐＫａ１）が０以上６．５以下の酸成分を前記電解質に対して５０ｐｐｍ以上１００００ｐｐｍ以下の濃度で含み、
   ｐＨが５以上であることを特徴とする組成物。
2. 前記溶媒は、カーボネート溶媒を含むことを特徴とする請求項１に記載の組成物。
3. 前記カーボネート溶媒は、鎖状カーボネート溶媒であることを特徴とする請求項２に記載の組成物。
4. 前記溶媒は、鎖状カーボネート溶媒のみからなることを特徴とする請求項１に記載の組成物。
5. 電解質、溶媒及びアニオン成分を含む組成物であって、
   前記電解質は、スルホニルイミド塩を含み、
   前記アニオン成分は、酸解離定数ｐＫａ（複数電離する酸については第１段階の酸解離定数ｐＫａ１）が０以上６．５以下の酸成分を前記電解質に対して５０ｐｐｍ以上１００００ｐｐｍ以下の濃度で含み、
   前記溶媒は、カーボネート溶媒を含み、該カーボネート溶媒が鎖状カーボネート溶媒であり、
   ｐＨが５以上であることを特徴とする組成物。
6. 前記溶媒は、鎖状カーボネート溶媒のみからなることを特徴とする請求項５に記載の組成物。
7. 前記電解質は、リチウムビス（フルオロスルホニル）イミドを含むことを特徴とする請求項１～６のいずれか一項に記載の組成物。
8. 水を前記電解質に対して０．１ｐｐｍ以上１０００ｐｐｍ以下の濃度で含むことを特徴とする請求項１～７のいずれか一項に記載の組成物。
9. 前記スルホニルイミド塩の含有量が組成物全体に対して１０質量％以上であることを特徴とする請求項１～８のいずれか一項に記載の組成物。
10. 前記アニオン成分は、アミド硫酸成分、酢酸成分、炭酸成分及びリン酸成分からなる群より選択される少なくとも１種であることを特徴とする請求項１～９のいずれか一項に記載の組成物。
11. 前記アミド硫酸成分は、アミド硫酸及びその塩、並びにアミド硫酸誘導体及びその塩からなる群より選択される少なくとも１種であり、
    前記アミド硫酸誘導体及びその塩は、下記一般式（２）で表される化合物であることを特徴とする請求項１０に記載の組成物。
    （式（２）中、Ｒ^１、Ｒ^２は、Ｈ（水素原子）、ヒドロキシル基又は置換基を有していてもよい、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数３～１０のシクロアルキル基、炭素数６～１６のアリール基、炭素数７～１６のアラルキル基、炭素数２～１６のアルカノイル基を表し、ヘテロ原子を含んでいてもよく、Ｒ^１とＲ^２で環構造を形成していてもよい。Ｒ^１、Ｒ^２は、Ｈ以外の上記基のとき、同一でもよく、異なっていてもよい（Ｒ^１、Ｒ^２は、Ｈのとき、同一ではない（Ｒ^１及びＲ^２は同時にＨではない））。Ｍは、Ｈ（水素原子）又は金属原子を表す。）
12. 前記アミド硫酸成分は、アミド硫酸及びアミド硫酸アルカリ金属塩からなる群より選択される少なくとも１種であることを特徴とする請求項１０に記載の組成物。
13. 前記アミド硫酸成分は、アミド硫酸アルカリ金属塩であることを特徴とする請求項１０に記載の組成物。
14. 硫酸イオンの濃度が前記電解質に対して１００ｐｐｍ以下であることを特徴とする請求項１～１３のいずれか一項に記載の組成物。
15. 請求項１～１４のいずれか一項に記載の組成物を含むことを特徴とする電解液材料。
16. 請求項１５に記載の電解液材料を用いて作製された電解液。