JP2023148715A - 塗布装置 - Google Patents

Abstract

【課題】塗布液を塗布する塗布部と基材との間隔を安定して維持することができる塗布装置を提供することを目的としている。【解決手段】ロールツーロールにより搬送される基材の所定面に対して塗布部により塗布液を塗布する塗布装置であって、前記塗布部は、基材の幅方向に長く形成された本体部と、前記本体部から突出して形成され、基材の所定面に塗布液を吐出する吐出口と、基材の搬送経路を規定するサポート部材と、を備えており、前記サポート部材は、外周面が基材と接触するサポートロールを有し、前記サポートロールは、少なくとも基材の所定面において塗膜が形成されていない不塗布領域の一部と接触するように、前記搬送経路において前記吐出口よりも上流側と下流側の少なくとも一方に位置するよう前記本体部と一体的に設けられている構成とする。【選択図】図２

Description

本発明は、連続的に搬送される基材に対して、塗布液を塗布して塗膜を形成する塗布装置に関するものである。

従来より、リチウムイオン電池の電池用極板は、ロールツーロールで搬送される基材に活物質、バインダー、導電助剤および溶媒を含むスラリー（以下、塗布液）が塗布されて製造されている。

また、リチウムイオン電池の高容量化のために、基材の両面に塗膜を形成することが行われている。たとえば塗膜を乾燥させる前に図５に示すように両面同時に塗膜を形成する場合、搬送される基材９１０の表面側に塗布液を塗布する第１の塗布部９２０と、搬送される基材９１０の裏面側に塗布液を塗布する第２の塗布部９３０の２つの塗布部を備える塗布装置９００によって、基材の表面と裏面のそれぞれに対して塗布液の塗布を行っている（たとえば、特許文献１）。

特開２０１７－０７９１７９号公報

しかし、従来の塗布装置９００では、特に第２の塗布部９３０と基材９１０との間隔を安定して維持することができない場合があった。

具体的に説明する。従来の塗布装置９００は、第１の塗布部９２０により基材９１０の表面に塗布液を塗布した後に、第２の塗布部９３０により基材９１０の裏面に塗布液を塗布している。この場合、図５に示すように第１の塗布部９２０による基材９１０の表面への塗布液の塗布については基材９１０を裏面側から塗布ロール９４０で支持して行っているため、第１の塗布部９２０と基材９１０との間隔を安定して維持することができ、基材９１０の表面に塗布液を均一に塗布することができる。

一方、第２の塗布部９３０による基材９１０の裏面への塗布液の塗布については、基材９１０の表面に塗布液が塗布された状態で行うため、第１の塗布部９２０により基材９１０の表面に塗布液を塗布するときのように塗布ロール９４０で基材９１０の表面を直接支持することができない。これに加えて、ロールツーロールを構成する２つのロールにより張力を付与されて搬送される基材９１０に対して行っている。すなわち、第１の塗布部９２０による塗布液の塗布を行う際に基材９１０の裏面側から塗布ロール９４０により基材９１０を支持するのとは異なり、前述した２つのロール間で基材９１０が浮いた状態で第２の塗布部９３０により基材９１０の裏面に塗布液を塗布している。

そのため、第２の塗布部９３０により基材９１０の裏面に塗布液を塗布する際に基材９１０に撓みや振動が生じる場合がある。すなわち、第２の塗布部９３０と基材９１０との間隔を安定して維持することができない場合がある。これにより、基材９１０の裏面に塗布液を均一に塗布することができないため、基材９１０の表面と裏面のそれぞれに形成された塗膜の厚み等にばらつきが生じる可能性があった。

本発明は、上記問題を鑑みてされたものであり、塗布液を塗布する塗布部と基材との間隔を安定して維持することができる塗布装置を提供することを目的としている。

上記課題を解決するための本発明の乾燥装置は、ロールツーロールにより搬送される基材の所定面に対して塗布部により塗布液を塗布する塗布装置であって、前記塗布部は、基材の幅方向に長く形成された本体部と、前記本体部から突出して形成され、基材の所定面に塗布液を吐出する吐出口と、基材の搬送経路を規定するサポート部材と、を備えており、前記サポート部材は、外周面が基材と接触するサポートロールを有し、前記サポートロールは、少なくとも基材の所定面において塗膜が形成されていない不塗布領域の一部と接触するように、前記搬送経路において前記吐出口よりも上流側と下流側の少なくとも一方に位置するよう前記本体部と一体的に設けられていることを特徴とする。

上記塗布装置によれば、基材の搬送経路において吐出口よりも上流側と下流側の少なくとも一方における吐出口の近傍でサポートロールにより基材を支持するため、塗布部と基材との間隔を安定して維持することができる。

また、前記サポート部材は、前記サポートロールを複数有しており、各々の前記サポートロールは、前記搬送経路において前記吐出口よりも上流側と下流側のそれぞれに位置するよう前記本体部と一体的に設けられている構成としてもよい。

この構成によれば、基材の搬送経路において吐出口よりも上流側と下流側における吐出口の近傍で複数のサポートロールにより基材を支持するため、塗布部と基材との間隔をより安定して維持することができる。

また、各々の前記サポートロールは、外周面が基材の幅方向端部と接触するように設けられている構成としてもよい。

この構成によれば、各々のサポートロールが基材の所定面に塗布された塗布液と接触することを防ぐことができる。

また、前記サポート部材は、前記サポートロールと基材を挟んで対向するよう設けられ、前記サポートロールと基材を挟持する複数の挟持用ロールを有している構成としてもよい。

この構成によれば、サポートロールと挟持用ロールにより基材を挟持するため、塗布液と基材との間隔をより安定して維持することができる。

また、前記サポート部材が有する各々のロールを基材の幅方向に移動させる第１のロール移動手段を備えている構成としてもよい。

この構成によれば、塗布液を塗布する基材の幅方向における寸法が変わっても、塗布部と基材との間隔を安定して維持することができる。

また、前記サポート部材が有する各々のロールを基材の所定面に向かう方向と基材の所定面と離れる方向に移動させる第２のロール移動手段を備えている構成としてもよい。

この構成によれば、吐出口と基材の所定面との間隔を調節することができる。

本発明の塗布装置によれば、塗布液を塗布する塗布部と基材との間隔を安定して維持することができる。

本発明の第一実施形態における塗布装置を概略的に示す図である。 本発明の第一実施形態における第２の塗布部を示す図である。 本発明の第一実施形態における第２の塗布部を説明するための図である。 本発明の第二実施形態における第２の塗布部を説明するための図である。 従来の塗布装置を示す図である。

〔第一実施形態〕
本発明の第一実施形態における塗布装置について図面を参照しながら説明する。なお、以下の説明では、直交座標系の３軸をＸ、Ｙ、Ｚとし、水平方向をＸ軸方向、Ｙ軸方向と表現し、ＸＹ平面と垂直な方向（つまり、鉛直方向）をＺ軸方向と表現する。

図１は、本実施形態における塗布装置１００を概略的に示す図である。図２は、本実施形態における第２の塗布部３を説明するための図である。図３は、本実施形態における第２の塗布部３を説明するための図であり、図３（ａ）は基材Ｗの搬送方向から見た第２の塗布部３を示し、図３（ｂ）は基材Ｗの上方から見た第２の塗布部３を示している。

本実施形態における塗布装置１００は、図１に示すように基材Ｗを搬送する搬送機構１と、基材Ｗの表面に塗布液を塗布する第１の塗布部２と、基材Ｗの裏面に塗布液を塗布する第２の塗布部３と、を備えている。

本実施形態における塗布装置１００は、搬送機構１により搬送される基材Ｗの両面に対して第１の塗布部２および第２の塗布部３により塗布液を塗布し、塗膜Ｍを形成する。

本実施形態における基材Ｗは、リチウムイオン電池などの電池の電池用極板となる金属箔であり、正極を構成する場合はアルミニウム箔などが用いられ、負極を構成する場合は銅箔などが用いられる。この基材Ｗは、一方向に長い帯状のシートであり、搬送機構１により搬送される。

本実施形態における塗布液は、たとえば、活物質、バインダー、導電助剤、および溶媒を含むスラリーのことであり、リチウムイオン電池などの電池の電池用極板の材料（所謂、電極材料）として用いられる。この塗布液を基材Ｗに塗布することで、基材Ｗに塗膜Ｍが形成される。

本実施形態における搬送機構１は、基材Ｗを搬送するためのものである。搬送機構１１は、図１に示すように基材Ｗを巻き出す巻出ロール１１と、基材Ｗを巻き取る図示しない巻取ロールと、巻出ロール１１から巻き出された基材Ｗが巻取ロールに巻き取られるまでに経由する搬送ロール１２と、後述する第１の塗布部２により塗布液を塗布する位置に基材Ｗを案内する塗布ロール１３と、を有している。この搬送機構１１が有する各々のロールは、円柱状に形成され、この円柱の中心軸を回転軸として回転する。

巻出ロール１１は、図示しない制御部により回転を駆動制御され、所定の速度で基材Ｗを巻き出す。制御部は、たとえば、汎用のコンピュータ装置によって構成されている。また、巻取ロールは、巻出ロール１１と同様に制御部により回転を駆動制御され、基材Ｗに所定の張力を付与しながら基材Ｗを巻き取る。なお、ここでいう張力は、基材Ｗの搬送方向（図１におけるＸ軸方向）の張力のことである。

搬送ロール１２は、図１に示すように複数設けられ、基材Ｗが塗布装置１００を構成する各部を経由するよう配置されている。この複数の搬送ロール１２のうち一部、またはすべての搬送ロール１２は、巻出ロール１１および巻取ロールと同様に制御部により回転を駆動制御され、基材Ｗに所定の張力を付与しながら基材Ｗを搬送する。

塗布ロール１３は、図１に示すように後述する第１の塗布部２が有する第１の塗布部２１と対向するよう配置されている。そのため、第１の塗布部２１と一定の間隔を維持しながら基材Ｗを搬送することができる。

これら構成により、搬送機構１は、所定の張力を基材Ｗに付与しながら基材Ｗを所定の速度で搬送することができる。

本実施形態における第１の塗布部２は、搬送機構１により搬送される基材Ｗの表面に塗布液を塗布して塗膜Ｍを形成するためのものである。この第１の塗布部２は、基材Ｗの幅方向に沿って長く形成されている。ここで、前述した塗布ロール１１ｄが、第１の塗布部２に対して、塗布ロール１３の回転軸方向と第１の塗布部２の幅方向とが平行になるよう所定の間隔を空けて配置されている。なお、第１の塗布部２の幅方向とは、第１の塗布部２の長手方向のことである。

また、第１の塗布部２は、図１に示すように供給路５に接続され、幅方向に長く塗布液を溜める空間であるマニホールド２１と、このマニホールド２１と繋がった幅方向に広いスリット２２と、幅方向においてスリット２２と同一の長さで開口し、塗布液を吐出する吐出口２３により構成される。これにより、マニホールド２１に溜められた塗布液がスリット２２を経由して、吐出口２３から基材Ｗに吐出される。また、吐出口２３は、塗布ロール１３と基材Ｗを挟んで対向している。すなわち、吐出口２３は基材Ｗの表面側で基材Ｗと対向している。これにより、吐出口２３と基材Ｗとの間隔を安定して維持した状態で、基材Ｗに塗布液を塗布することができる。

供給路５は、マニホールド２１と塗布液が貯留されているタンク６を接続している。そして、図示しないポンプによりタンク６から供給路５を介してマニホールド２１に塗布液を供給する。

これらの構成を有する第１の塗布部２によって、基材Ｗの表面に塗膜Ｍを形成することができる。

本実施形態における第２の塗布部３は、搬送機構１により搬送される基材Ｗの裏面に塗布液を塗布して塗膜Ｍを形成するためのものであり、基材Ｗの搬送経路において第１の塗布部２よりも下流側に配置されている。第２の塗布部３は、図２に示すように本体部３１と、基材Ｗの搬送経路を規定するサポート部材４と、を有している。

本体部３１は、図３（ａ）および図３（ｂ）に示すように基材Ｗの幅方向に沿って長く形成されている。ここで、本体部３１は、基材Ｗの幅方向と本体部３１の幅方向とが平行になるよう所定の間隔を空けて配置されている。なお、本体部３１の幅方向とは、本体部３１の長手方向のことである。

また、本体部３１は、図１に示すように供給路５に接続され、幅方向に長く塗布液を溜める空間であるマニホールド３２と、このマニホールド３２と繋がった幅方向に広いスリット３３と、幅方向においてスリット３３と同一の長さで開口し、塗布液を吐出する吐出口３４により構成される。これにより、マニホールド３２に溜められた塗布液がスリット３３を経由して、吐出口３４から基材Ｗに吐出される。また、吐出口３４は、本体部３１から突出して形成されており、基材Ｗの裏面側で基材Ｗと対向している。これにより、第２の塗布部３は、基材Ｗの裏面に塗布液を塗布する。

供給路５は、マニホールド３２と塗布液が貯留されているタンク６を接続している。そして、図示しないポンプによりタンク６から供給路５を介してマニホールド３２に塗布液を供給する。

これにより、第２の塗布部３は、基材Ｗの裏面に塗膜Ｍを形成することができる。

サポート部材４は、基材Ｗの搬送経路を規定するためのものであり、本実施形態では、図２に示すように基材Ｗを裏面側から支持する複数のサポートロール４１と、各々のサポートロール４１と基材Ｗを挟持する複数の挟持用ロール４２と、各々のサポートロール４１および各々の挟持用ロール４２を本体部３１の幅方向（図２のＹ軸方向）に水平移動させる図示しない第１のロール移動手段と、各々サポートロール４１および各々の挟持用ロール４２を上下（図２のＺ軸方向）に直線移動させる第２のロール移動手段と、を有している。

サポートロール４１は、吐出口３４と基材Ｗとの間隔を所定の間隔に維持するよう基材Ｗを裏面側から支持するためのものである。サポートロール４１は、図２に示すように回転軸４３を有し、これを軸として回転するローラー状の形状に形成されている。このサポートロール４１の外周面と基材Ｗの裏面が接触することで、サポートロール４１は搬送される基材Ｗとの摩擦力により回転する。なお、回転軸４３は、図２に示すように支持部４４により回転可能に支持されている。

また、複数のサポートロール４１のそれぞれは、図２に示すように基材Ｗの搬送経路における吐出口３４の上流側と下流側のそれぞれにおいて、図３（ａ）に示すように基材Ｗの裏面と対向し、各々のサポートロール４１の外周面で基材Ｗの幅方向両端部を支持するよう配置される。

ここで、本体部３１には、図２に示すように基材Ｗの幅方向に長く、サポートロール４１の一部または全部を収容可能な溝部３５が形成されている。溝部３５は、図２に示すように吐出口３４が突出して形成された本体部３１のサポート面３６に形成されている。すなわち、溝部３５は、基材Ｗの裏面と対向する本体部３１のサポート面３６に形成されている。

この溝部３５は、図２に示すようにサポート面３６に複数形成されており、基材Ｗの搬送経路における吐出口３４の上流側と下流側のそれぞれにおいて、本体部３１の幅方向の各々の端部の近傍に形成される。これら各々の溝部３５の底部に前述した各々のサポートロール４１の回転軸４３のそれぞれを回転可能に支持した支持部４４が設けられる。すなわち、各々のサポートロール４１が各々の溝部３５に埋め込まれている。そのため、各々のサポートロール４１は、本体部３１と一体となる。

また、本実施形態では、サポートロール４１の外周面の上端部が、吐出口３４の先端と同程度の高さになるように、サポートロール４１がサポート面３６から突出すよう溝部３５に埋め込まれている。この状態のサポートロール４１を後述する第２のロール移動手段により移動させることによって、適宜サポートロール４の外周面の上端部の位置を適宜調整している。

これら各々のサポートロール４１は、後述する第１のロール移動手段により基材Ｗの幅方向両端部に移動し、各々のサポートロール４１が支持する基材Ｗと吐出口３４との間隔が所定の間隔になるよう後述する第２のロール移動手段により上下に移動する。これにより、各々のサポートロール４１は、吐出口３４と所定の間隔を空けて基材Ｗを支持する。

挟持用ロール４２は、サポートロール４１と基材Ｗを挟持するためのものである。挟持用ロール４２は、図２に示すように回転軸４３を有し、これを軸として回転するローラー状の形状に形成されている。この挟持用ロール４２の外周面と基材Ｗの表面が接触することで、挟持用ロール４２は搬送される基材Ｗとの摩擦力により回転する。なお、回転軸４３は、図２に示すように支持部４４により回転可能に支持されている。

また、複数の挟持用ロール４２のそれぞれは、図２および図３（ａ）に示すように各々のサポートロール４１と基材Ｗを挟んで対向する位置に設けられている。ここで、各々の挟持用ロール４２は、各々の回転軸４３に接続された支持部４４が、少なくとも基材Ｗの搬送と第２の塗布部３による塗布液の塗布を阻害しない外壁のない図示しないフレームに設けられることで、支持されている。

これら各々の挟持用ロール４２は、後述する第１のロール移動手段と後述する第２のロール移動手段により各々のサポートロール４１と基材Ｗを挟んで対向する位置に移動する。これにより、各々のサポートロール４１と各々の挟持用ロール４２は、基材Ｗを挟持する。

第１のロール移動手段は、各々のサポートロール４１および各々の挟持用ロール４２のそれぞれを本体部３１の幅方向（図２のＹ軸方向）に水平移動させる図示しない第１のスライド機構を有している。第１のスライド機構は、前述した各々の支持部４４が固定されている。なお、各々のサポートロール４１を移動させる第１のスライド機構は、各々の溝部３５の底部に設けられ、各々の挟持用ロール４２を移動させる第１のスライド機構は、前述したフレームに設けられる。

この第１のスライド機構は、図示しないモータを有し、前述した制御部によりモータの駆動を制御することで、各々のサポートロール４１および各々の挟持用ロール４２を支持する各々の支持部４４を本体部３１の幅方向、すなわち、基材Ｗの幅方向にスライドさせる。

これにより、第１のスライド機構が各々のサポートロール４１および各々の挟持用ロール４２を基材Ｗの幅方向に移動させる。すなわち、第１のロール移動手段は、サポート部材４が有する各ロールを基材Ｗの幅方向に移動させる。なお、本実施形態における第１のロール搬送手段は、基材Ｗの幅方向両端部で各々のサポートロール４１と各々の挟持用ロール４２とが基材Ｗを挟んで対向するよう、各々のサポートロール４１および各々の挟持用ロール４２を移動させる。

第２のロール移動手段は、各々のサポートロール４１および各々の挟持用ロール４２を上下（図２のＺ軸方向）に直線移動させる図示しない第２のスライド機構を有している。第２のスライド機構は、各々の支持部４４に設けられている。この第２のスライド機構は、図示しないモータを有し、前述した制御部によりモータの駆動を制御することで、各々のサポートロール４１および各々の挟持用ロール４２の回転軸４３を上下にスライドさせる。

これにより、第２のスライド機構が各々のサポートロール４１および各々の挟持用ロール４２を上下に移動させる。すなわち、第２のロール移動手段は、サポート部材４が有する各ロールを上下に移動させる。なお、本実施形態における第２のロール移動手段は、各々のサポートロール４１および各々の挟持用ロール４２により基材Ｗを挟持できる位置かつ、吐出口３４と基材Ｗとの間隔が所定の間隔になるような位置に各々のサポートロール４１および挟持用ロール４２を移動させる。

このように上記実施形態における塗布装置１００によれば、塗布液を塗布する塗布部（本実施形態では、第２の塗布部３）と基材Ｗとの間隔を安定して維持することができる。

具体的に説明する。図５に示す従来の塗布装置９００では、基材９１０の両面に塗膜Ｍを形成する際に、第１の塗布部９２０により基材９１０の表面に塗布液を塗布した後に、第２の塗布部９３０により基材９１０の裏面に塗布液を塗布している。

第２の塗布部９３０による基材９１０の裏面への塗布液の塗布については、基材９１０の表面に塗布液が塗布された状態で行うため、第１の塗布部９２０により基材９１０の表面に塗布液を塗布するときのように塗布ロール９４０で基材９１０の表面を直接支持することができない。これに加えて、ロールツーロールを構成する２つのロールにより張力を付与されて搬送される基材９１０に対して塗布を行っている。すなわち、第１の塗布部９２０による塗布液の塗布を行う際に基材９１０の裏面側から塗布ロール９４０により基材９１０を支持するのとは異なり、前述した２つのロール間で基材９１０が浮いた状態で第２の塗布部９３０により基材９１０の裏面に塗布液を塗布している。

そのため、第２の塗布部９３０は、基材９１０が支持されていない状態で基材９１０の裏面に塗布液の塗布を行うため、基材９１０に撓みや振動が生じやすい。これにより、第２の塗布部９３０により塗布液の塗布を行うときに、第２の塗布部９３０と基材９１０との間隔を安定して維持することができなかった。その結果、基材９１０の裏面に塗布液を均一に塗布することができず、基材９１０の表面と裏面のそれぞれに形成された塗膜の厚み等にばらつきが生じる可能性があった。

これに対して、本実施形態における塗布装置１００は、基材Ｗの裏面に塗布液を塗布する第２の塗布部３が、基材Ｗの搬送経路における吐出口３４の上流側と下流側のそれぞれに位置するよう本体部３１と一体的に設けられた複数のサポートロール４１を有し、これら各々のサポートロール４１により吐出口３４と基材Ｗとの間隔が所定の間隔となるよう基材Ｗを裏面側から支持している。

このように、各々のサポートロール４１により基材Ｗの搬送経路において吐出口３４よりも上流側と下流側における吐出口３４の近傍で基材Ｗを支持しているため、基材Ｗに撓みや振動が生じることを抑制することができる。これにより、第２の塗布部３と基材Ｗとの間隔を安定して維持することができる。したがって、基材Ｗの裏面に塗布液を均一に塗布することができ、基材Ｗの表面と裏面のそれぞれに形成された塗膜Ｍの厚み等にばらつきが生じることを防ぐことができる。

また、本実施形態では、各々のサポートロール４１の外周面が基材Ｗの幅方向両端部と接触するように設けられているため、各々のサポートロール４１が基材Ｗに塗布された塗布液と接触することを防ぐことができる。

また、本実施形態では、各々のサポートロール４１と基材Ｗを挟持する複数の挟持用ロール４２を有し、これら各々のサポートロール４１と各々の挟持用ロール４２とで基材Ｗを挟持するため、第２の塗布部３と基材Ｗとの間隔をより安定して維持することができる。

また、本実施形態では、サポート部材４が有する各々のロールを基材Ｗの幅方向に水平移動させる第１のロール移動手段を備えているため、第２の塗布部３により塗布液を塗布する基材Ｗの幅方向における寸法が変わっても、その基材Ｗの寸法に合わせて各々のロールの位置を移動することができる。そのため、基材Ｗの寸法に関わらず第２の塗布部３と基材Ｗとの間隔を安定して維持することができる。

また、本実施形態では、サポート部材４が有する各々のロールを上下に直線移動させる第２のロール移動手段を備えているため、吐出口３４と基材Ｗとの間隔を塗布条件に応じて調節することができる。

また、本実施形態では、サポートロール４１の外周面の上端部が、吐出口３４の先端と同程度の高さになるように、サポートロール４１がサポート面３６から突出すよう溝部３５に埋め込まれている。この状態のサポートロール４１を第２のロール移動手段により移動させることによって、サポートロール４の外周面の上端部の位置を適宜調整している。そのため、サポートロール４１の外周面の上端部が、吐出口３４の先端よりも高い高さになるように溝部３５に埋め込まれた場合よりも、サポートロール４１は、吐出口３４と基材Ｗとの間隔がより狭くなる位置で基材Ｗを支持しやすくなる。

〔第二実施形態〕
次に本発明の第二実施形態における塗布装置１００について図４を用いて説明する。本実施形態では、第１の塗布部２と第２の塗布部３により基材Ｗの幅方向にストライプ状の塗膜Ｍを形成することと、サポート部材４の配置が異なっている点で第一実施形態と異なっている。なお、以下の説明では、第一実施形態と同様な構成については同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。

図４は、本実施形態における第２の塗布部３を説明するための図であり、図４（ａ）は基材Ｗの搬送方向から見た第２の塗布部３を示し、図４（ｂ）は基材Ｗの上方から見た第２の塗布部３を示している。

本実施形態における第１の塗布部２および第２の塗布部３は、図４（ａ）および図４（ｂ）に示すように塗膜Ｍが形成された複数の塗布領域Ｔと、複数の塗布領域Ｔの間に塗膜Ｍが形成されていない不塗布領域Ｎを基材Ｗが有するよう、基材Ｗの幅方向（図４（ａ）におけるＹ軸方向）に塗膜Ｍを形成する、すなわち基材Ｗの幅方向にストライプ状の塗膜Ｍを形成する。

第１の塗布部２および第２の塗布部３には、基材Ｗに形成する塗膜Ｍをストライプ状にするための図示しないシム板がさらに設けられている。シム板は、たとえば、略櫛型状を有しており、スリット２２およびスリット３３を幅方向に分割するよう配置されている。このシム板によりスリット２２およびスリット３３を幅方向に分割した状態で塗布液を塗布すると、シム板がない部分から塗布液が塗布され、シム板がある部分から塗布液が塗布されないようになる。これにより、塗膜Ｍをストライプ状に形成することができる。なお、このシム板の形状を変更することで、塗膜Ｍの幅を調節することができるようになっている。すなわち、基材Ｗの幅方向における塗布領域Ｔと不塗布領域Ｎの幅を調節することができる。

これにより、第１の塗布部２および第２の塗布部３により、基材Ｗの両面にストライプ状の塗膜Ｍを形成することができる。

本実施形態におけるサポート部材４が有する複数のサポートロール４１のそれぞれは、図４（ａ）および図４（ｂ）に示すように基材Ｗの裏面側から基材Ｗの幅方向両端部と基材Ｗの不塗布領域Ｎのそれぞれと外周面が接触するように配置される。この不塗布領域Ｎのそれぞれに配置された各々のサポートロール４１は、前述した第一実施形態におけるサポートロール４１と同様の構成を有し、第１のロール移動手段および第２のロール移動手段により移動が可能になっている。

本実施形態における不塗布領域Ｎのそれぞれに配置された各々のサポートロール４１は、その外周面が少なくとも塗膜Ｍと接触しない位置に第１のロール移動手段により移動され、基材Ｗの幅方向両端部に配置された各々のサポートロール４１と同じ高さで基材Ｗを支持する位置に第２のロール移動手段により移動させられる。

また、本実施形態では、挟持用ロール４２が、少なくとも基材Ｗの幅方向両端部を支持する各々のサポートロール４１と基材Ｗを挟持する位置に配置されている。なお、挟持用ロール４２が、基材Ｗの不塗布領域Ｎのそれぞれに配置された各々のサポートロール４１と基材Ｗとを挟持する位置にも配置してよい。

また、各々のサポートロール４１を基材Ｗの幅方向両端部から中央に向かうに従って徐々に直径が増大するクラウン形状に形成してもよい。この形状に形成したサポートロール４１は、前述したローラー形状のサポートロール４１と比較して基材Ｗと接触する接触部の面積が小さくなるため、基材Ｗの不塗布領域Ｎの幅が狭い場合であっても、塗膜Ｍと接触せずに基材Ｗを支持することができる。これは、挟持用ロール４２も同様である。

これにより、本実施形態では、各々のサポートロール４１により基材Ｗの幅方向両端部だけでなく、基材Ｗの不塗布領域Ｎでも基材Ｗを支持することができる。そのため、基材Ｗの幅方向両端部だけを支持する場合より、吐出口３４と基材Ｗとの間隔を安定して維持することができる。

以上、本発明の実施形態について図面を参照しながら詳述したが、各実施形態における構成およびそれらの組み合わせ等は一例であり、本発明の趣旨から逸脱しない範囲内で、構成の追加、省略、置換、およびその他の変更が可能である。たとえば、上記実施形態では、サポートロール４１が、基材Ｗの搬送経路において吐出口３４よりも上流側と下流側のそれぞれに位置するよう本体部３１と一体的に設けられている例について説明したが、これに限られない。たとえば、サポートロール４１が、基材Ｗの搬送経路において吐出口３４よりも上流側と下流側の少なくとも一方に位置するよう本体部３１と一体的に設けられているとよい。

また、上記実施形態では、サポートロール４１は、外周面が基材Ｗの幅方向端部に接触するように設けられている例について説明したが、外周面が少なくとも基材Ｗの不塗布領域Ｎに接触するように設けるとよい。

また、基材Ｗの搬送経路において吐出口３４よりも上流側に位置するサポートロール４１は、基材Ｗの幅方向に向かって延び、基材Ｗを幅方向にわたって支持するような形状に形成してもよい。これにより、サポートロール４１が、第２の塗布部３により塗布液が塗布される前の基材Ｗの裏面を幅方向にわたって支持することができる。すなわち、サポートロール４１と基材Ｗとが接触する部分の面積が大きくなるため、より安定して第２の塗布部３と基材Ｗとの間隔を維持することができる。

また、上記実施形態では、基材Ｗの裏面に塗布液を塗布する第２の塗布部３がサポート部材４を有している例について説明したが、これに限らない。たとえば、第１の塗布部２が、基材Ｗの表面に塗布液を塗布する際に、何らかの要因により基材Ｗを塗布ロール１３により支持できない場合に、第１の塗布部２にサポート部材４を設けて、基材Ｗを支持しながら基材Ｗに塗布液を塗布させてもよい。すなわち、第１の塗布部２または第２の塗布部３のいずれか一方の塗布部にサポート部材４を設け、基材Ｗの表面または裏面のいずれか一方の基材Ｗの所定面から基材Ｗを支持した状態で、基材Ｗの塗布液を塗布してもよい。

また、上記実施形態では、第２のロール移動手段が、サポート部材４が有する各々のロールを第２のスライド機構により上下に移動させる例について説明したが、これに限らず、少なくとも基材Ｗの所定面に向かう方向と基材Ｗの所定面と離れる方向に移動させる構成であればよい。

１００ 塗布装置
１ 搬送機構
１１ 巻出ロール
１２ 搬送ロール
１３ 塗布ロール
２ 第１の塗布部
２１ マニホールド
２２ スリット
２３ 吐出口
３ 第２の塗布部
３１ 本体部
３２ マニホールド
３３ スリット
３４ 吐出口
３５ 溝部
３６ サポート面
４ サポート部材
４１ サポートロール
４２ 挟持用ロール
４３ 回転軸
４４ 支持部
５ 供給路
６ タンク
Ｗ 基材
Ｍ 塗膜
Ｔ 塗布領域
Ｎ 不塗布領域

Claims (6)

1. ロールツーロールにより搬送される基材の所定面に対して塗布部により塗布液を塗布する塗布装置であって、
   前記塗布部は、基材の幅方向に長く形成された本体部と、
   前記本体部から突出して形成され、基材の所定面に塗布液を吐出する吐出口と、
   基材の搬送経路を規定するサポート部材と、を備えており、
   前記サポート部材は、外周面が基材と接触するサポートロールを有し、
   前記サポートロールは、少なくとも基材の所定面において塗膜が形成されていない不塗布領域の一部と接触するように、前記搬送経路において前記吐出口よりも上流側と下流側の少なくとも一方に位置するよう前記本体部と一体的に設けられていることを特徴とする塗布装置。
2. 前記サポート部材は、前記サポートロールを複数有しており、
   各々の前記サポートロールは、前記搬送経路において前記吐出口よりも上流側と下流側のそれぞれに位置するよう前記本体部と一体的に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
3. 各々の前記サポートロールは、外周面が基材の幅方向端部と接触するように設けられていることを特徴とする請求項２に記載の塗布装置。
4. 前記サポート部材は、前記サポートロールと基材を挟んで対向するよう設けられ、前記サポートロールと基材を挟持する複数の挟持用ロールを有していることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の塗布装置。
5. また、前記サポート部材が有する各々のロールを基材の幅方向に移動させる第１のロール移動手段を備えていることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載の塗布装置。
6. 前記サポート部材が有する各々のロールを基材の所定面に向かう方向と基材の所定面と離れる方向に移動させる第２のロール移動手段を備えていることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれかに記載の塗布装置。

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