JP2023125840A5

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Publication number: JP2023125840A5
Application number: JP2022030176A
Authority: JP
Filing date: 2022-02-28
Publication date: 2023-10-19

Description

上記目的を達成するために、本発明の一側面としての計測装置は、ターゲットの位置を計測する計測装置であって、前記ターゲットを、第１波長の光、及び、前記第１波長とは異なる第２波長の光を含む光で照明する照明系と、前記ターゲットからの光における波面収差を変更する波面変更部と、前記波面変更部を制御する制御部と、を有し、前記波面変更部は、前記第１波長の光が入射する第１領域と、前記第２波長の光が入射する第２領域と、を含み、前記制御部は、前記第１波長の光における第１波面収差を補正するための第１補正波面が前記第１領域に生成され、前記第２波長の光における第２波面収差を補正するための第２補正波面が前記第２領域に生成されるように、前記波面変更部を制御することを特徴とする。

図２（ｄ）は、制御部１１００において、図２（ｃ）に示す第１補正波面ＣＷ１及び第２補正波面ＣＷから生成される補正波面ＣＷの一例を示す図である。補正波面ＣＷは、第１補正波面ＣＷ１及び第２補正波面ＣＷ２に加えて、波面変更部７５において第１波長の光及び第２波長の光が透過する位置に基づいて生成される。図２（ｄ）において、Ｐ２１及びＰ１２は、波面変更部７５において第１波長の光及び第２波長の光が透過する位置の境界部を表す。具体的には、ターゲット７２の位置を計測する際に、波面変更部７５において、第１波長の光は、第１領域（Ｐ２１＜Ｐ＜Ｐ１２）を透過し、第２波長の光は、第２領域（Ｐ＜Ｐ２１、Ｐ１２＜Ｐ）を透過する。なお、各波長の光が波面変更部７５を透過する位置は、ターゲット７２の周期構造の情報に基づいて算出される回折角度から求めてもよい。

補正波面ＣＷの生成において、制御部１１００は、第１領域（Ｐ２１＜Ｐ＜Ｐ１２）における第１補正波面ＣＷ１と、第２領域（Ｐ＜Ｐ２１、Ｐ１２＜Ｐ）における第２補正波面ＣＷ２とを滑らかに繋ぎ合わせてもよい。換言すれば、第１領域と第２領域とに対応させて第１補正波面ＣＷ１と第２補正波面ＣＷ２とを繋ぎ合あわせて、第１波面収差Ｗ１及び第２波面収差Ｗ２を補正するための補正波面ＣＷを求めてもよい。この際、第１領域における補正波面ＣＷ１と第２領域における第２補正波面ＣＷ２とを瞳面の径方向において繋ぎ合わせて補正波面ＣＷを生成してもよい。また、第１波面収差Ｗ１と第２波面収差Ｗ２とを滑らかに繋ぎ合わせて、第１波面収差Ｗ１及び第２波面収差Ｗ２を補正するための補正波面ＣＷを求めてもよい。換言すれば、第１領域と第２領域とに対応させて第１波面収差Ｗ１と第２波面収差Ｗ１とを繋ぎ合わせた第３波面収差から、第１波面収差Ｗ１及び第２波面収差Ｗ２を補正するための補正波面ＣＷを求めてもよい。この際、第１波面収差Ｗ１と第２波面収差Ｗ１とを瞳面の径方向において繋ぎ合わせて補正波面ＣＷを生成してもよい。なお、補正波面ＣＷは、第１波面収差Ｗ１及び第２波面収差Ｗ２を補正するための補正波面に限定されるものではなく、第１波面収差Ｗ１及び第２波面収差Ｗ２のうちの少なくとも一方を補正する補正波面であってもよい。例えば、第１波面収差Ｗ１及び第２波面収差Ｗ２のうちの一方の波面収差が許容範囲に収まっているような場合には、許容範囲外となる波面収差のみを補正する補正波面を生成するようにすればよい。

図２（ｅ）は、図２（ｄ）に示す補正波面ＣＷを波面変更部７５に設定した場合に、波面検出部８６で検出される波面収差の一例を示す図である。なお、補正波面ＣＷを波面変更部７５に設定することは、第１補正波面ＣＷ１が波面変更部７５の第１領域に生成され、第２補正波面ＣＷ２が波面変更部７５の第２領域に生成されるように、波面変更部７５を制御することを意味する。図２（ｅ）において、Ｗ１Ａは、第１波長の光における波面収差を表し、Ｗ２Ａは、第２波長の光における波面収差を表す。

Claims

ターゲットの位置を計測する計測装置であって、
前記ターゲットを、第１波長の光、及び、前記第１波長とは異なる第２波長の光を含む光で照明する照明系と、
前記ターゲットからの光における波面収差を変更する波面変更部と、
前記波面変更部を制御する制御部と、を有し、
前記波面変更部は、前記第１波長の光が入射する第１領域と、前記第２波長の光が入射する第２領域と、を含み、
前記制御部は、前記第１波長の光における第１波面収差を補正するための第１補正波面が前記第１領域に生成され、前記第２波長の光における第２波面収差を補正するための第２補正波面が前記第２領域に生成されるように、前記波面変更部を制御することを特徴とする計測装置。
前記第１波長の光における第１波面収差及び前記第２波長の光における第２波面収差を検出する波面検出部を更に有し、
前記制御部は、前記波面検出部で検出された前記第１波面収差に基づいて、前記第１補正波面が前記第１領域に生成され、前記波面検出部で検出された前記第２波面収差に基づいて、前記第２補正波面が前記第２領域に生成されるように、前記波面変更部を制御することを特徴とする請求項１に記載の計測装置。
前記波面検出部は、前記波面変更部を介して入射される前記第１波長の光及び前記第２波長の光を含む光に基づいて、前記第１波面収差及び前記第２波面収差を検出することを特徴とする請求項２に記載の計測装置。
前記制御部は、
前記第１領域と前記第２領域とに対応させて前記第１波面収差と前記第２波面収差とを繋ぎ合わせた第３波面収差から、前記第１波面収差及び前記第２波面収差を補正するための補正波面を求め、
前記補正波面に基づいて、前記第１補正波面が前記第１領域に生成され、前記第２補正波面が前記第２領域に生成されるように、前記波面変更部を制御することを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の計測装置。
前記制御部は、前記第１波面収差と前記第２波面収差とを瞳面において径方向に繋ぎ合わせることで前記第３波面収差を求めることを特徴とする請求項４に記載の計測装置。
前記制御部は、
前記第１領域と前記第２領域とに対応させて前記第１補正波面と前記第２補正波面とを繋ぎ合あわせて、前記第１波面収差及び前記第２波面収差を補正するための補正波面を求め、
前記補正波面に基づいて、前記第１補正波面が前記第１領域に生成され、前記第２補正波面が前記第２領域に生成されるように、前記波面変更部を制御することを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の計測装置。
前記制御部は、前記第１補正波面と前記第２補正波面とを瞳面において径方向に繋ぎ合わせることで前記補正波面を求めることを特徴とする請求項６に記載の計測装置。
前記波面変更部は、前記ターゲットからの光を反射する反射面を形成する反射膜と、前記反射膜の形状を変形させるアクチュエータと、を含む形状可変ミラーを含むことを特徴とする請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載の計測装置。
前記制御部は、
前記第１波面収差及び前記第２波面収差に基づいて、光軸に対して非対称な波面収差を補正するための補正波面を求め、
前記補正波面に基づいて、前記波面変更部を制御することを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の計測装置。
前記制御部は、
前記第１波面収差及び前記第２波面収差に基づいて、前記第１補正波面及び前記第２補正波面が予め定められた焦点位置となる補正波面を求め、
前記補正波面に基づいて、前記波面変更部を制御することを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の計測装置。
前記制御部は、
前記第１波面収差、前記第２波面収差、及び、前記ターゲットからの光における波面収差と前記ターゲットの位置の計測誤差との関係を示す情報に基づいて、前記第１波面収差及び前記第２波面収差を補正するための補正波面を求め、
前記補正波面に基づいて、前記波面変更部を制御することを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の計測装置。
前記制御部は、
前記ターゲットからの光における波面収差と前記ターゲットの位置の計測値との関係を示す情報、及び、前記第１波面収差に基づいて、前記ターゲットの位置の計測値が目標値となる補正波面を求め、
前記補正波面に基づいて、前記第１補正波面が前記第１領域に生成され、前記第２補正波面が前記第２領域に生成されるように、前記波面変更部を制御することを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の計測装置。
前記波面変更部を介して前記ターゲットからの光を検出する検出部を更に有し、
前記制御部は、前記検出部で検出された前記ターゲットからの光に基づいて、前記ターゲットの位置を求めることを特徴とする請求項１乃至１２のうちいずれか１項に記載の計測装置。
前記検出部と前記ターゲットとの間に配置された対物光学系を更に有し、
前記波面変更部は、前記対物光学系の瞳面に配置されていることを特徴とする請求項１３に記載の計測装置。
前記第１波面収差及び前記第２波面収差は、前記検出部における波面収差を含むことを特徴とする請求項１３又は１４に記載の計測装置。
前記ターゲットは、第１パターンと、第２パターンと、を含み、
前記制御部は、前記第１パターンと前記第２パターンとの相対位置を求めることを特徴とする請求項１３乃至１５のうちいずれか１項に記載の計測装置。
ターゲットを、第１波長の光、及び、前記第１波長とは異なる第２波長の光を含む光で照明する照明系と、前記ターゲットからの光における波面収差を変更する波面変更部とを有する計測装置を用いて、前記ターゲットの位置を計測する計測方法であって、
前記波面変更部は、前記第１波長の光が入射する第１領域と、前記第２波長の光が入射する第２領域と、を含み、
前記計測方法は、
前記第１波長の光における第１波面収差、及び、前記第２波長の光における第２波面収差を取得する工程と、
前記第１波面収差を補正するための第１補正波面が前記第１領域に生成され、前記第２波面収差を補正するための第２補正波面が前記第２領域に生成されるように、前記波面変更部を制御する工程と、
を有することを特徴とする計測方法。
パターンを基板に形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板に設けられたマークをターゲットとし、前記ターゲットの位置を計測する請求項１乃至１６のうちいずれか１項に記載の計測装置と、
前記計測装置で計測された前記ターゲットの位置に基づいて、前記基板を位置決めするステージと、
を有することを特徴とするリソグラフィ装置。
レチクルのパターンを前記基板に投影する投影光学系を更に有することを特徴とする請求項１８に記載のリソグラフィ装置。
請求項１７に記載の計測方法を用いて、基板に設けられたマークをターゲットとし、前記ターゲットの位置を計測する計測工程と、
前記計測工程で計測された前記ターゲットの位置に基づいて、前記基板を位置決めする位置決め工程と、
前記位置決め工程で位置決めされた前記基板にパターンを形成する形成工程と、
前記形成工程で前記パターンが形成された前記基板から物品を製造する製造工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。