JP2023120153A - 組成物、光吸収層、積層体及び表示装置 - Google Patents

組成物、光吸収層、積層体及び表示装置 Download PDF

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Takao Tsuchiya
真芳 ▲徳▼田
Masayoshi Tokuda
裕佳子 西川（良永）
Nishikawa, (Yoshinaga) Yukako
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Abstract

【課題】特定色の光を発する波長変換層上に配置される光吸収層を形成するために用いられる組成物であって、視認側への一次光の漏れを抑制できるとともに、光吸収層を配置しない場合と比較したときの発光強度の低下を抑制できる光吸収層を形成可能な組成物を提供する。【解決手段】緑色又は赤色を発光する発光性無機半導体粒子を含有する波長変換層上に配置される光吸収層を形成するために用いられる組成物であって、式（ｉ）：４２５≦λｍａｘ≦４７０、及び、式（ｉｉ）：Ａ４８０／Ａｍａｘ＜０．５を満たす第１着色剤を含有する組成物が提供される。式中、λｍａｘ（ｎｍ）は、吸光スペクトルの可視光波長域において最大吸光度を示す波長を表す。Ａｍａｘは、前記最大吸光度を表す。Ａ４８０は、波長４８０ｎｍにおける吸光度を表す。【選択図】図１

Description

本発明は、組成物及びそれから形成される光吸収層に関する。また、本発明は、該光吸収層を含む積層体及び該積層体を含む表示装置に関する。
特許文献１には、量子ドットを含む硬化性樹脂組成物、及び該硬化性樹脂組成物を用いて形成される波長変換膜が記載されている。
特開２０１６－０６５１７８号公報
近年、表示装置には、さらなる広色域化が求められている。例えば、スーパーハイビジョン（ＳＨＶ）の映像フォーマットを規定した勧告Ｒｅｃ．ＩＴＵ－Ｒ ＢＴ．２０２０が発行されているところ、色再現域をより一層広げて、これによりＲｅｃ．ＩＴＵ－Ｒ ＢＴ．２０２０の色域の包含率（Ｒｅｃ．ＩＴＵ－Ｒ ＢＴ．２０２０の色再現域に対する、当該色再現域の中で表現することが可能な色域の比）をより高めることが求められている。
一次光源からの一次光を吸収して波長変換（色変換）された光を放出する波長変換層を備える表示装置においては、通常、波長変換層に照射される一次光のすべてが波長変換層によって吸収される訳ではなく、一部の光は波長変換層を透過して視認側に漏れる。これが、表示装置の広色域化を妨げる一因になり得る。この問題の１つの解決策は、波長変換層を透過した一次光を吸収する光吸収層を波長変換層上に配置することである。しかし、この方法を適用すると、光吸収層を配置しない場合に比べて発光強度が低下しやすいという新たな問題を招来する。
本発明の１つの目的は、特定色の光を発する波長変換層上に配置される光吸収層を形成するために用いられる組成物であって、視認側への一次光の漏れを抑制できるとともに、光吸収層を配置しない場合と比較したときの発光強度の低下を抑制できる光吸収層を形成可能な組成物を提供することにある。本発明の他の目的は、該組成物から形成される光吸収層、該光吸収層を含む積層体、及び、該積層体を含む表示装置を提供することにある。
本発明は、以下を提供する。
［１］ 緑色又は赤色を発光する発光性無機半導体粒子を含有する波長変換層上に配置される光吸収層を形成するために用いられる組成物であって、
下記式（ｉ）及び（ｉｉ）を満たす第１着色剤を含有する、組成物。
４２５≦λｍａｘ≦４７０ （ｉ）
Ａ４８０／Ａｍａｘ＜０．５ （ｉｉ）
［式中、λｍａｘ（ｎｍ）は、吸光スペクトルの可視光波長域において最大吸光度を示す波長を表す。Ａｍａｘは、前記最大吸光度を表す。Ａ４８０は、波長４８０ｎｍにおける吸光度を表す。］
［２］ 前記第１着色剤は、キノフタロン系黄色顔料である、［１］に記載の組成物。
［３］ 前記組成物に含有される着色剤が前記第１着色剤のみである、［１］又は［２］に記載の組成物。
［４］ 緑色着色剤及び赤色着色剤から選択される第２着色剤をさらに含有する、［１］又は［２］に記載の組成物。
［５］ ５２０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の波長域における平均光線透過率が９８％以上である、［１］～［４］のいずれかに記載の組成物。
［６］ ［１］～［５］のいずれかに記載の組成物から形成される光吸収層。
［７］ 緑色又は赤色を発光する発光性無機半導体粒子を含有する波長変換層と、
前記波長変換層上に配置される［６］に記載の光吸収層と、
を含む、積層体。
［８］ 前記波長変換層は、波長４５０ｎｍにおける光線透過率が１０％以上である、［７］に記載の積層体。
［９］ ［７］又は［８］に記載の積層体を含む表示装置。
［１０］ 緑色又は赤色を発光する発光性無機半導体粒子を含有する波長変換層上に配置される光吸収層の形成方法であって、
前記光吸収層は、組成物から形成され、
前記組成物は、下記式（ｉ）及び（ｉｉ）を満たす第１着色剤を含有する、光吸収層の形成方法。
４２５≦λｍａｘ≦４７０ （ｉ）
Ａ４８０／Ａｍａｘ＜０．５ （ｉｉ）
［式中、λｍａｘ（ｎｍ）は、吸光スペクトルの可視光波長域において最大吸光度を示す波長を表す。Ａｍａｘは、前記最大吸光度を表す。Ａ４８０は、波長４８０ｎｍにおける吸光度を表す。］
［１１］ 緑色又は赤色を発光する発光性無機半導体粒子を含有する波長変換層上に配置される光吸収層を形成するための組成物の使用であって、
前記組成物は、下記式（ｉ）及び（ｉｉ）を満たす第１着色剤を含有する、組成物の使用。
４２５≦λｍａｘ≦４７０ （ｉ）
Ａ４８０／Ａｍａｘ＜０．５ （ｉｉ）
［式中、λｍａｘ（ｎｍ）は、吸光スペクトルの可視光波長域において最大吸光度を示す波長を表す。Ａｍａｘは、前記最大吸光度を表す。Ａ４８０は、波長４８０ｎｍにおける吸光度を表す。］
特定色の光を発する波長変換層上に配置される光吸収層を形成するために用いられる組成物であって、視認側への一次光の漏れを抑制できるとともに、光吸収層を配置しない場合と比較したときの発光強度の低下を抑制できる光吸収層を形成可能な組成物を提供することができる。また、該組成物から形成される光吸収層、該光吸収層を含む積層体、及び、該積層体を含む表示装置を提供することができる。
本発明に係る積層体の一例を示す概略断面図である。 本発明に係る積層体の他の一例を示す概略断面図である。 本発明に係る積層体のさらに他の一例を示す概略断面図である。 本発明に係る積層体のさらに他の一例を示す概略断面図である。 本発明に係る表示装置の一例を示す概略断面図である。
本発明は、波長変換層上に配置される光吸収層を形成するために用いられる組成物、該組成物から形成される光吸収層、該光吸収層を含む積層体、及び、該積層体を含む表示装置に関する。また、本発明は、該組成物を用いた光吸収層の形成方法、及び、光吸収層を形成するための組成物の使用にも関する。
＜波長変換層を形成するために用いられる組成物及び波長変換層＞
（１）波長変換層を形成するために用いられる組成物Ｉ
波長変換層は、一次光源からの一次光を吸収して緑色又は赤色を発光する層であり、好ましくは、該一次光である青色の光の波長を緑色の光の波長又は赤色の光の波長に変換する層である。
波長変換層は、上記一次光を吸収して緑色又は赤色を発光する発光性無機半導体粒子（Ａ）（以下、単に「半導体粒子（Ａ）」ともいう。）を含有する波長変換層形成用組成物（以下、「組成物Ｉ」ともいう。）から形成することができる。組成物Ｉは、半導体粒子（Ａ）以外の成分を含むことができる。組成物Ｉは、光照射又は熱により硬化する硬化性組成物であってもよい。以下、組成物Ｉについてより詳細に説明する。
（１－１）発光性無機半導体粒子（Ａ）
組成物Ｉに含まれる半導体粒子（Ａ）は、一次光を吸収して緑色又は赤色を発光し、好ましくは、一次光である青色の光の波長を赤色の光の波長又は緑色の光の波長に変換する。
本明細書において「青色」とは、青色として視認される光全般（青色の波長域、例えば３８０ｎｍ～４９５ｎｍに強度を有する光全般）を指し、単一波長の光に限定されない。「緑色」とは、緑色として視認される光全般（緑色の波長域、例えば４９５ｎｍ～５８５ｎｍに強度を有する光全般）を指し、単一波長の光に限定されない。「赤色」とは、赤色として視認される光全般（赤色の波長域、例えば５８５ｎｍ～７８０ｎｍに強度を有する光全般）を指し、単一波長の光に限定されない。「黄色」とは、黄色として視認される光全般（黄色の波長域、例えば５６０ｎｍ～６１０ｎｍに強度を有する光全般）を指し、単一波長の光に限定されない。
緑色を発光する半導体粒子（Ａ）の発光スペクトルは、好ましくは、５００ｎｍ以上５６０ｎｍ以下の波長域に極大値を有するピークを含み、より好ましくは、５２０ｎｍ以上５４５ｎｍ以下の波長域に極大値を有するピークを含み、さらに好ましくは、５２５ｎｍ以上５３５ｎｍ以下の波長域に極大値を有するピークを含む。これにより、表示装置の緑色光の発光強度をより向上させることができる。該ピークは、好ましくは、半値全幅が１５ｎｍ以上８０ｎｍ以下、より好ましくは１５ｎｍ以上６０ｎｍ以下、さらに好ましくは１５ｎｍ以上５０ｎｍ以下、特に好ましくは１５ｎｍ以上４５ｎｍ以下である。これにより、表示装置の緑色光の発光強度をより向上させることができる。
赤色を発光する半導体粒子（Ａ）の発光スペクトルは、好ましくは、６１０ｎｍ以上７５０ｎｍ以下の波長域に極大値を有するピークを含み、より好ましくは、６２０ｎｍ以上６５０ｎｍ以下の波長域に極大値を有するピークを含み、さらに好ましくは、６２５ｎｍ以上６４５ｎｍ以下の波長域に極大値を有するピークを含む。これにより、表示装置の赤色光の発光強度をより向上させることができる。該ピークは、好ましくは、半値全幅が１５ｎｍ以上８０ｎｍ以下、より好ましくは１５ｎｍ以上６０ｎｍ以下、さらに好ましくは１５ｎｍ以上５０ｎｍ以下、特に好ましくは１５ｎｍ以上４５ｎｍ以下である。これにより、表示装置の赤色光の発光強度をより向上させることができる。
半導体粒子（Ａ）の発光スペクトルは、後述する実施例の欄において説明する方法に従って測定される。
半導体粒子（Ａ）としては、量子ドット、及びペロブスカイト型結晶構造を有する化合物（以下、「ペロブスカイト化合物」ともいう。）から構成される粒子が挙げられ、好ましくは量子ドットである。量子ドットは、粒子径１ｎｍ以上１００ｎｍ以下の発光性半導体微粒子であり、半導体のバンドギャップを利用し、紫外光又は可視光（例えば青色光）を吸収して発光する微粒子である。
量子ドットとしては、例えば、ＣｄＳ、ＣｄＳｅ、ＣｄＴｅ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｎＴｅ、ＨｇＳ、ＨｇＳｅ、ＨｇＴｅ、ＣｄＨｇＴｅ、ＣｄＳｅＳ、ＣｄＳｅＴｅ、ＣｄＳＴｅ、ＺｎＳｅＳ、ＺｎＳｅＴｅ、ＺｎＳＴｅ、ＨｇＳｅＳ、ＨｇＳｅＴｅ、ＨｇＳＴｅ、ＣｄＺｎＳ、ＣｄＺｎＳｅ、ＣｄＺｎＴｅ、ＣｄＨｇＳ、ＣｄＨｇＳｅ、ＣｄＨｇＴｅ、ＨｇＺｎＳ、ＨｇＺｎＳｅ、ＨｇＺｎＴｅ、ＣｄＺｎＳｅＳ、ＣｄＺｎＳｅＴｅ、ＣｄＺｎＳＴｅ、ＣｄＨｇＳｅＳ、ＣｄＨｇＳｅＴｅ、ＣｄＨｇＳＴｅ、ＨｇＺｎＳｅＳ、ＨｇＺｎＳｅＴｅ、ＨｇＺｎＳＴｅ等の１２族元素と１６族元素との化合物；ＧａＮ、ＧａＰ、ＧａＡｓ、ＡｌＮ、ＡｌＰ、ＡｌＡｓ、ＩｎＮ、ＩｎＰ、ＩｎＡｓ、ＧａＮＰ、ＧａＮＡｓ、ＧａＰＡｓ、ＡｌＮＰ、ＡｌＮＡｓ、ＡｌＰＡｓ、ＩｎＮＰ、ＩｎＮＡｓ、ＩｎＰＡｓ、ＧａＡｌＮＰ、ＧａＡｌＮＡｓ、ＧａＡｌＰＡｓ、ＧａＩｎＮＰ、ＧａＩｎＮＡｓ、ＧａＩｎＰＡｓ、ＩｎＡｌＮＰ、ＩｎＡｌＮＡｓ、ＩｎＡｌＰＡｓ等の１３族元素と１５族元素との化合物；ＰｄＳ、ＰｂＳｅ等の１４族元素と１６族元素との化合物等が挙げられる。
量子ドットがＳやＳｅを含む場合、金属酸化物や有機物で表面修飾した量子ドットを使用してもよい。表面修飾した量子ドットを使用することで、組成物Ｉに含まれる又は含まれ得る反応成分によってＳやＳｅが引き抜かれることを防止することができる。
また量子ドットは、上記の化合物を組み合わせてコアシェル構造を形成していてもよい。このような組み合わせとしては、コアがＣｄＳｅであり、シェルがＺｎＳである微粒子、コアがＩｎＰであり、シェルがＺｎＳｅＳである微粒子等が挙げられる。
量子ドットのエネルギー状態はその大きさに依存するため、粒子径を変えることにより自由に発光波長を選択することが可能である。また、量子ドットからの発光光はスペクトル幅が狭いため、表示装置の広色域化に有利である。さらに、量子ドットは応答性が高いため、一次光の利用効率の面でも有利である。
ペロブスカイト化合物は、Ａ、Ｂ及びＸを成分とする、ペロブスカイト型結晶構造を有する化合物である。
Ａは、ペロブスカイト型結晶構造において、Ｂを中心とする６面体の各頂点に位置する成分であって、１価の陽イオンである。
Ｘは、ペロブスカイト型結晶構造において、Ｂを中心とする８面体の各頂点に位置する成分を表し、ハロゲン化物イオン及びチオシアン酸イオンからなる群より選ばれる少なくとも一種のイオンである。
Ｂは、ペロブスカイト型結晶構造において、Ａを頂点に配置する６面体及びＸを頂点に配置する８面体の中心に位置する成分であって、金属イオンである。
Ａ、Ｂ及びＸを成分とするペロブスカイト化合物としては、特に限定されず、３次元構造、２次元構造、疑似２次元構造のいずれの構造を有する化合物であってもよい。
３次元構造の場合には、ペロブスカイト化合物は、ＡＢＸ（３＋δ）で表される。
２次元構造の場合には、ペロブスカイト化合物は、Ａ２ＢＸ（４＋δ）で表される。
ここで、δは、Ｂの電荷バランスに応じて適宜変更が可能な数であり、－０．７以上０．７以下である。
ペロブスカイト化合物であって、ＡＢＸ（３＋δ）で表される、３次元構造のペロブスカイト型の結晶構造を有する化合物の好ましい具体例としては、
ＣＨ３ＮＨ３ＰｂＢｒ３、ＣＨ３ＮＨ３ＰｂＣｌ３、ＣＨ３ＮＨ３ＰｂＩ３、ＣＨ３ＮＨ３ＰｂＢｒ（３－ｙ）Ｉｙ（０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３ＰｂＢｒ（３－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ｙ＜３）、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ－ＮＨ２）ＰｂＢｒ３、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ－ＮＨ２）ＰｂＣｌ３、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ－ＮＨ２）ＰｂＩ３、
ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＣａａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＳｒａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＬａａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，０＜δ≦０．７）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＢａａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＤｙａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，０＜δ≦０．７）、
ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＮａａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＬｉａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０）、
ＣｓＰｂ（１－ａ）ＮａａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０）、ＣｓＰｂ（１－ａ）ＬｉａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０）、
ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＮａａＢｒ（３＋δ－ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０，０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＬｉａＢｒ（３＋δ－ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０，０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＮａａＢｒ（３＋δ－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０，０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＬｉａＢｒ（３＋δ－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０，０＜ｙ＜３）、
（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ－ＮＨ２）Ｐｂ（１－ａ）ＮａａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０）、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ－ＮＨ２）Ｐｂ（１－ａ）ＬｉａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０）、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ－ＮＨ２）Ｐｂ（１－ａ）ＮａａＢｒ（３＋δ－ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０，０＜ｙ＜３）、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ－ＮＨ２）Ｐｂ（１－ａ）ＮａａＢｒ（３＋δ－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０，０＜ｙ＜３）、
ＣｓＰｂＢｒ３、ＣｓＰｂＣｌ３、ＣｓＰｂＩ３、ＣｓＰｂＢｒ（３－ｙ）Ｉｙ（０＜ｙ＜３）、ＣｓＰｂＢｒ（３－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３ＰｂＢｒ（３－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ｙ＜３）、
ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＺｎａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＡｌａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，０≦δ≦０．７）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＣｏａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＭｎａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＭｇａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、
ＣｓＰｂ（１－ａ）ＺｎａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣｓＰｂ（１－ａ）ＡｌａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，０＜δ≦０．７）、ＣｓＰｂ（１－ａ）ＣｏａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣｓＰｂ（１－ａ）ＭｎａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣｓＰｂ（１－ａ）ＭｇａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、
ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＺｎａＢｒ（３－ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＡｌａＢｒ（３＋δ－ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，０＜δ≦０．７，０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＣｏａＢｒ（３－ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＭｎａＢｒ（３－ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＭｇａＢｒ（３－ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＺｎａＢｒ（３－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＡｌａＢｒ（３＋δ－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，０＜δ≦０．７，０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＣｏａＢｒ（３＋δ－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＭｎａＢｒ（３－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１－ａ）ＭｇａＢｒ（３－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜３）、
（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ－ＮＨ２）ＺｎａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ－ＮＨ２）ＭｇａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ－ＮＨ２）Ｐｂ（１－ａ）ＺｎａＢｒ（３－ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜３）、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ－ＮＨ２）Ｐｂ（１－ａ）ＺｎａＢｒ（３－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜３）等が挙げられる。
ペロブスカイト化合物であって、Ａ２ＢＸ（４＋δ）で表される、２次元構造のペロブスカイト型の結晶構造を有する化合物の好ましい具体例としては、
（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２ＰｂＢｒ４、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２ＰｂＣｌ４、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２ＰｂＩ４、（Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３）２ＰｂＢｒ４、（Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３）２ＰｂＣｌ４、（Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３）２ＰｂＩ４、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＬｉａＢｒ（４＋δ）（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０）、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＮａａＢｒ（４＋δ）（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０）、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＲｂａＢｒ（４＋δ）（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０）、
（Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＮａａＢｒ（４＋δ）（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０）、（Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＬｉａＢｒ（４＋δ）（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０）、（Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＲｂａＢｒ（４＋δ）（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０）、
（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＮａａＢｒ（４＋δ－ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０，０＜ｙ＜４）、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＬｉａＢｒ（４＋δ－ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０，０＜ｙ＜４）、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＲｂａＢｒ（４＋δ－ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０，０＜ｙ＜４）、
（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＮａａＢｒ（４＋δ－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０，０＜ｙ＜４）、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＬｉａＢｒ（４＋δ－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０，０＜ｙ＜４）、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＲｂａＢｒ（４＋δ－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，－０．７≦δ＜０，０＜ｙ＜４）、
（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２ＰｂＢｒ４、（Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３）２ＰｂＢｒ４、
（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２ＰｂＢｒ（４－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ｙ＜４）、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２ＰｂＢｒ（４－ｙ）Ｉｙ（０＜ｙ＜４）、
（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＺｎａＢｒ４（０＜ａ≦０．７）、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＭｇａＢｒ４（０＜ａ≦０．７）、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＣｏａＢｒ４（０＜ａ≦０．７）、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＭｎａＢｒ４（０＜ａ≦０．７）、
（Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＺｎａＢｒ４（０＜ａ≦０．７）、（Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＭｇａＢｒ４（０＜ａ≦０．７）、（Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＣｏａＢｒ４（０＜ａ≦０．７）、（Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＭｎａＢｒ４（０＜ａ≦０．７）、
（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＺｎａＢｒ（４－ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜４）、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＭｇａＢｒ（４－ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜４）、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＣｏａＢｒ（４－ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜４）、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＭｎａＢｒ（４－ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜４）、
（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＺｎａＢｒ（４－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜４）、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＭｇａＢｒ（４－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜４）、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＣｏａＢｒ（４－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜４）、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２Ｐｂ（１－ａ）ＭｎａＢｒ（４－ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜４）等が挙げられる。
組成物Ｉは、一次光を吸収して緑色を発光する半導体粒子（Ａ）を１種のみを含有していてもよく、２種以上組み合わせて含有していてもよい。組成物Ｉは、一次光を吸収して赤色を発光する半導体粒子（Ａ）を１種のみを含有していてもよく、２種以上組み合わせて含有していてもよい。
組成物Ｉにおける半導体粒子（Ａ）の含有率は、組成物Ｉの固形分の総量に対して、例えば１質量％以上６０質量％以下であり、好ましくは１０質量％以上５０質量％以下、より好ましくは１５質量％以上５０質量％以下、さらに好ましくは２０質量％以上５０質量％以下、なおさらに好ましくは２０質量％以上４０質量％以下である。
組成物Ｉが半導体粒子（Ａ）を２種以上含む場合、上記半導体粒子（Ａ）の含有率は、２種以上の半導体粒子（Ａ）の合計含有率を意味する。組成物Ｉに含まれる又は含まれ得る後述の半導体粒子（Ａ）以外の成分についても同様であり、該成分の含有量又は含有率は、２種以上含まれる場合には、それらの合計含有量又は合計含有率を意味する。後述する組成物ＩＩについても同様である。
本明細書において組成物の固形分の総量とは、組成物に含まれる成分のうち、溶剤（Ｊ）を除いた成分の合計を意味する。組成物の固形分中の含有率は、液体クロマトグラフィ又はガスクロマトグラフィ等の公知の分析手段で測定することができる。組成物の固形分中における各成分の含有率は、組成物調製時の配合から算出されてもよい。
（１－２）有機配位子（Ｇ）
組成物Ｉは、有機配位子（Ｇ）をさらに含むことができ、半導体粒子（Ａ）は、有機配位子（Ｇ）が配位した状態で組成物Ｉ中に存在していてもよい。有機配位子（Ｇ）は、例えば、半導体粒子（Ａ）に対する配位能を示す極性基を有する有機化合物である。有機配位子（Ｇ）は、例えば半導体粒子（Ａ）の表面に配位することができる。組成物Ｉは、１種又は２種以上の有機配位子（Ｇ）を含むことができる。
組成物Ｉにおいて有機配位子（Ｇ）は、その少なくとも一部の分子が半導体粒子（Ａ）に配位していることが好ましく、そのすべて又はほぼすべての分子が半導体粒子（Ａ）に配位していてもよい。半導体粒子（Ａ）に配位している有機配位子（Ｇ）を含むことは、半導体粒子（Ａ）の安定性及び分散性、並びに、波長変換層の発光強度を向上させる観点から有利となり得る。
有機配位子（Ｇ）の上記極性基は、例えば、チオール基（－ＳＨ）、カルボキシ基（－ＣＯＯＨ）及びアミノ基（－ＮＨ２）からなる群より選択される少なくとも１種の基である。該群より選択される極性基は、半導体粒子（Ａ）への配位性を高めるうえで有利となり得る。高い配位性は、組成物Ｉにおける半導体粒子（Ａ）の安定性及び分散性向上、並びに、波長変換層の発光強度向上等に寄与し得る。中でも、極性基は、チオール基及びカルボキシ基からなる群より選択される少なくとも１種の基であることがより好ましい。有機配位子（Ｇ）は、１個又は２個以上の極性基を有し得る。
有機配位子（Ｇ）は、例えば、下記式（ｘ）：
ＸＡ－ＲＸ （ｘ）
で表される有機化合物であることができる。式中、ＸＡは上記の極性基であり、ＲＸはヘテロ原子（Ｎ、Ｏ、Ｓ、ハロゲン原子等）を含んでいてもよい１価の炭化水素基である。該炭化水素基は、炭素－炭素二重結合等の不飽和結合を１個又は２個以上有していてもよい。該炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状又は環状構造を有していてもよい。該炭化水素基の炭素数は、例えば１以上４０以下であり、１以上３０以下であってもよい。該炭化水素基に含まれるメチレン基は、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、－ＮＨ－等で置換されていてもよい。
基ＲＸは、極性基を含んでいてもよい。該極性基の具体例については極性基ＸＡに係る上記記述が引用される。
極性基ＸＡとしてカルボキシ基を有する有機配位子の具体例として、ギ酸、酢酸、プロピオン酸のほか、飽和又は不飽和脂肪酸を挙げることができる。飽和又は不飽和脂肪酸の具体例は、ブチル酸、ペンタン酸、カプロン酸、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、マルガリン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸等の飽和脂肪酸；ミリストレイン酸、パルミトレイン酸、オレイン酸、イコセン酸、エルカ酸、ネルボン酸等の一価不飽和脂肪酸；リノール酸、α－リノレン酸、γ－リノレン酸、ステアドリン酸、ジホモ－γ－リノレン酸、アラキドン酸、エイコサテトラエン酸、ドコサジエン酸、アドレン酸（ドコサテトラエン酸）等の多価不飽和脂肪酸を含む。
極性基ＸＡとしてチオール基又はアミノ基を有する有機配位子の具体例は、上で例示した極性基ＸＡとしてカルボキシ基を有する有機配位子のカルボキシ基がチオール基又はアミノ基に置き換わった有機配位子を含む。
上記のほか、上記式（ｘ）で表される有機配位子としては、化合物（Ｇ－１）及び化合物（Ｇ－２）が挙げられる。
〔化合物（Ｇ－１）〕
化合物（Ｇ－１）は、第１官能基及び第２官能基を有する化合物である。第１官能基はカルボキシ基（－ＣＯＯＨ）であり、第２官能基はカルボキシ基又はチオール基（－ＳＨ）である。化合物（Ｇ－１）は、カルボキシ基及び／又はチオール基を有しているため、半導体粒子（Ａ）に配位する配位子となり得る。組成物Ｉは、化合物（Ｇ－１）を１種のみ含んでいてもよいし２種以上含んでいてもよい。
化合物（Ｇ－１）の一例は、下記式（Ｇ－１ａ）で表される化合物である。化合物（Ｇ－１）は、式（Ｇ－１ａ）で表される化合物の酸無水物であってもよい。
Figure 2023120153000002
［式中、ＲＢは、２価の炭化水素基を表す。複数のＲＢが存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。上記炭化水素基は１以上の置換基を有していてもよい。置換基が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよく、それらは互いに結合して、それぞれが結合する原子とともに環を形成していてもよい。上記炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－、－ＣＯ－及び－ＮＨ－の少なくとも１つに置き換わっていてもよい。
ｐは、１～１０の整数を表す。］
ＲＢで表される２価の炭化水素基としては、例えば、鎖状炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。
鎖状炭化水素基としては、例えば、直鎖状又は分岐状のアルカンジイル基が挙げられ、その炭素数は通常１～５０であり、好ましくは１～２０、より好ましくは１～１０である。脂環式炭化水素基としては、例えば、単環式又多環式のシクロアルカンジイル基が挙げられ、その炭素数は通常３～５０であり、好ましくは３～２０、より好ましくは３～１０である。芳香族炭化水素基としては、例えば、単環式又多環式のアレーンジイル基が挙げられ、その炭素数は通常６～２０である。
上記炭化水素基が有していてもよい置換基としては、例えば、炭素数１～５０のアルキル基、炭素数３～５０のシクロアルキル基、炭素数６～２０のアリール基、カルボキシ基、アミノ基、ハロゲン原子等が挙げられる。上記炭化水素基が有していてもよい置換基は、好ましくは、カルボキシ基、アミノ基又はハロゲン原子である。
上記炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－が－Ｏ－、－ＣＯ－及び－ＮＨ－の少なくとも１つに置き換わる場合、－ＣＨ２－が置き換わるのは、好ましくは－ＣＯ－及び－ＮＨ－の少なくとも１つであり、より好ましくは－ＮＨ－である。ｐは、好ましくは１又は２である。
式（Ｇ－１ａ）で表される化合物としては、例えば、下記式（１－１）～（１－９）で表される化合物が挙げられる。
Figure 2023120153000003
式（Ｇ－１ａ）で表される化合物の具体例を化学名で示せば、例えば、メルカプト酢酸、２－メルカプトプロピオン酸、３－メルカプトプロピオン酸、３－メルカプトブタン酸、４－メルカプトブタン酸、メルカプトコハク酸、メルカプトステアリン酸、メルカプトオクタン酸、４－メルカプト安息香酸、２，３，５，６－テトラフルオロ－４－メルカプト安息香酸、Ｌ－システイン、Ｎ－アセチル－Ｌ－システイン、３－メルカプトプロピオン酸３－メトキシブチル、３－メルカプト－２－メチルプロピオン酸等が挙げられる。中でも３－メルカプトプロピオン酸、メルカプトコハク酸が好ましい。
化合物（Ｇ－１）の他の一例は、多価カルボン酸化合物であり、好ましくは上記式（Ｇ－１ａ）で表される化合物において、式（Ｇ－１ａ）中の－ＳＨがカルボキシ基（－ＣＯＯＨ）に置き換わった化合物（Ｇ－１ｂ）が挙げられる。
化合物（Ｇ－１ｂ）としては、例えば、以下の化合物が挙げられる。
コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、オクタフルオロアジピン酸、アゼライン酸、ドデカン二酸、テトラデカン二酸、ヘキサデカン二酸、ヘプタデカン二酸、オクタデカン二酸、ノナデカン二酸、ドデカフルオロスベリン酸、３－エチル－３－メチルグルタル酸、ヘキサフルオログルタル酸、ｔｒａｎｓ－３－ヘキセン二酸、セバシン酸、ヘキサデカフルオロセバシン酸、アセチレンジカルボン酸、ｔｒａｎｓ－アコニット酸、１，３－アダマンタンジカルボン酸、ビシクロ［２．２．２］オクタン－１，４－ジカルボン酸、ｃｉｓ－４－シクロヘキセン－１，２－ジカルボン酸、１，１－シクロプロパンジカルボン酸、１，１－シクロブタンジカルボン酸、ｃｉｓ－又はｔｒａｎｓ－１，３－シクロヘキサンジカルボン酸、ｃｉｓ－又はｔｒａｎｓ－１，４－シクロヘキサンジカルボン酸、１，１－シクロペンタン二酢酸、１，２，３，４－シクロペンタンテトラカルボン酸、デカヒドロ－１，４－ナフタレンジカルボン酸、２，３－ノルボルナンジカルボン酸、５－ノルボルネン－２，３－ジカルボン酸、フタル酸、３－フルオロフタル酸、イソフタル酸、テトラフルオロイソフタル酸、テレフタル酸、テトラフルオロテレフタル酸、２，５－ジメチルテレフタル酸、２，６－ナフタレンジカルボン酸、２，３－ナフタレンジカルボン酸、１，４－ナフタレンジカルボン酸、１，１’－フェロセンジカルボン酸、２，２’－ビフェニルジカルボン酸、４，４’－ビフェニルジカルボン酸、２，５－フランジカルボン酸、ベンゾフェノン－２，４’－ジカルボン酸一水和物、ベンゾフェノン－４，４’－ジカルボン酸、２，３－ピラジンジカルボン酸、２，３－ピリジンジカルボン酸、２，４－ピリジンジカルボン酸、３，５－ピリジンジカルボン酸、２，５－ピリジンジカルボン酸、２，６－ピリジンジカルボン酸、３，４－ピリジンジカルボン酸、ピラゾール－３，５－ジカルボン酸一水和物、４，４’－スチルベンジカルボン酸、アントラキノン－２，３－ジカルボン酸、４－（カルボキシメチル）安息香酸、ケリドン酸一水和物、アゾベンゼン－４，４’－ジカルボン酸、アゾベンゼン－３，３’－ジカルボン酸、クロレンド酸、１Ｈ－イミダゾール－４，５－ジカルボン酸、２，２－ビス（４－カルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、１，１０－ビス（４－カルボキシフェノキシ）デカン、ジプロピルマロン酸、ジチオジグリコール酸、３，３’－ジチオジプロピオン酸、４，４’－ジチオジブタン酸、４，４’－ジカルボキシジフェニルエーテル、４，４’－ジカルボキシジフェニルスルホン、エチレングリコール ビス（４－カルボキシフェニル）エーテル、３，４－エチレンジオキシチオフェン－２，５－ジカルボン酸、４，４’－イソプロピリデンジフェノキシ酢酸、１，３－アセトンジカルボン酸、メチレンジサリチル酸、５，５’－チオジサリチル酸、トリス（２－カルボキシエチル）イソシアヌレート、テトラフルオロコハク酸、α，α，α’，α’－テトラメチル－１，３－ベンゼンジプロピオン酸、１，３，５－ベンゼントリカルボン酸等。
半導体粒子（Ａ）の安定性及び分散性、並びに、波長変換層の発光強度を向上させる観点から、化合物（Ｇ－１）の分子量は、好ましくは３０００以下、より好ましくは２５００以下、さらに好ましくは２０００以下、なおさらに好ましくは１０００以下、特に好ましくは８００以下、最も好ましくは５００以下である。化合物（Ｇ－１）の分子量は、通常１００以上である。
上記分子量は、数平均分子量であってもよいし重量平均分子量であってもよい。この場合、数平均分子量及び重量平均分子量はそれぞれ、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により測定される標準ポリスチレン換算の数平均分子量及び重量平均分子量である。
組成物Ｉが化合物（Ｇ－１）を含む場合、組成物Ｉ中の半導体粒子（Ａ）に対する化合物（Ｇ－１）の含有量比は、質量比で、好ましくは０．００１以上１以下、より好ましくは０．０１以上０．５以下、さらに好ましくは０．０２以上０．４５以下である。該含有量比がこの範囲にあると、半導体粒子（Ａ）の安定性及び分散性、並びに、波長変換層の発光強度を向上させる観点から有利となり得る。
組成物Ｉが化合物（Ｇ－１）を含む場合、組成物Ｉにおける化合物（Ｇ－１）の含有率は、半導体粒子（Ａ）の安定性及び分散性、並びに、波長変換層の発光強度を向上させる観点から、組成物Ｉの固形分の総量に対して、好ましくは０．１質量％以上２０質量％以下、より好ましくは０．２質量％以上２０質量％以下、さらに好ましくは０．２質量％以上１０質量％以下、なおさらに好ましくは０．５質量％以上１０質量％以下、特に好ましくは０．５質量％以上８質量％以下である。
〔化合物（Ｇ－２）〕
化合物（Ｇ－２）は、化合物（Ｇ－１）とは異なる化合物であって、ポリアルキレングリコール構造を含み、かつ極性基を分子末端に有する化合物である。分子末端とは、化合物（Ｇ－２）中、最も長い炭素鎖（炭素鎖中の炭素原子は、酸素原子等の他の原子に置き換わっていてもよい。）の末端であることが好ましい。
組成物Ｉは、化合物（Ｇ－２）を１種のみ含んでいてもよいし２種以上含んでいてもよい。組成物Ｉは、化合物（Ｇ－１）又は化合物（Ｇ－２）を含んでいてもよいし、化合物（Ｇ－１）及び化合物（Ｇ－２）を含んでいてもよい。
なお、ポリアルキレングリコール構造を含み、上記第１官能基及び第２官能基を有する化合物は、化合物（Ｇ－１）に属するものとする。
ポリアルキレングリコール構造とは、下記式：
Figure 2023120153000004
で表される構造をいう（ｎは２以上の整数）。式中、ＲＣはアルキレン基であり、例えば、エチレン基、プロピレン基等が挙げられる。
化合物（Ｇ－２）の具体例として、下記式（Ｇ－２ａ）で表されるポリアルキレングリコール系化合物を挙げることができる。
Figure 2023120153000005
式（Ｇ－２ａ）中、Ｘは極性基であり、Ｙは１価の基であり、ＺＣは２価又は３価の基である。ｎは２以上の整数である。ｍは１又は２である。ＲＣはアルキレン基である。
極性基Ｘは、チオール基（－ＳＨ）、カルボキシ基（－ＣＯＯＨ）及びアミノ基（－ＮＨ２）からなる群より選択される少なくとも１種の基であることが好ましい。該群より選択される極性基は、半導体粒子（Ａ）への配位性を高めるうえで有利となり得る。中でも、半導体粒子（Ａ）の安定性及び分散性、並びに、波長変換層の発光強度を向上させる観点から、極性基Ｘは、チオール基及びカルボキシ基からなる群より選択される少なくとも１種の基であることがより好ましい。
基Ｙは１価の基である。基Ｙとしては特に制限されず、置換基（Ｎ、Ｏ、Ｓ、ハロゲン原子等）を有していてもよい１価の炭化水素基が挙げられる。該炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、－ＮＨ－等で置換されていてもよい。上記炭化水素基の炭素数は、例えば１以上１２以下である。該炭化水素基は、不飽和結合を有していてもよい。
基Ｙとしては、直鎖状、分岐鎖状又は環状構造を有する炭素数１以上１２以下のアルキル基；直鎖状、分岐鎖状又は環状構造を有する炭素数１以上１２以下のアルコキシ基等が挙げられる。該アルキル基及びアルコキシ基の炭素数は、好ましくは１以上８以下であり、より好ましくは１以上６以下であり、さらに好ましくは１以上４以下である。該アルキル基及びアルコキシ基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、－ＮＨ－等で置換されていてもよい。中でも、基Ｙは、炭素数が１以上４以下である直鎖状又は分岐鎖状のアルコキシ基であることが好ましく、炭素数が１以上４以下である直鎖状のアルコキシ基であることがより好ましい。
基Ｙは、極性基を含んでいてもよい。該極性基としては、チオール基（－ＳＨ）、カルボキシ基（－ＣＯＯＨ）及びアミノ基（－ＮＨ２）からなる群より選択される少なくとも１種の基が挙げられる。ただし、上述のとおり、ポリアルキレングリコール構造を含み、上記第１官能基及び第２官能基を有する化合物は、化合物（Ｇ－１）に属するものとする。該極性基は、好ましくは基Ｙの末端に配置される。
基ＺＣは２価又は３価の基である。基ＺＣとしては特に制限されず、ヘテロ原子（Ｎ、Ｏ、Ｓ、ハロゲン原子等）を含んでいてもよい２価又は３価の炭化水素基が挙げられる。該炭化水素基の炭素数は、例えば１以上２４以下である。該炭化水素基は、不飽和結合を有していてもよい。
２価の基である基ＺＣとしては、直鎖状、分岐鎖状又は環状構造を有する炭素数１以上２４以下のアルキレン基；直鎖状、分岐鎖状又は環状構造を有する炭素数１以上２４以下のアルケニレン基等が挙げられる。該アルキル基及びアルケニレン基の炭素数は、好ましくは１以上１２以下であり、より好ましくは１以上８以下であり、さらに好ましくは１以上４以下である。該アルキル基及びアルケニレン基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、－ＮＨ－等で置換されていてもよい。３価の基である基ＺＣの例としては、上記２価の基である基ＺＣから水素原子を１つ取り除いた基を挙げることができる。
基ＺＣは、分岐構造を有していてもよい。分岐構造を有する基ＺＣは、上記式（Ｇ－２ａ）に示されるポリアルキレングリコール構造を含む分岐鎖とは別の分岐鎖において、上記式（Ｇ－２ａ）に示されるポリアルキレングリコール構造とは別のポリアルキレングリコール構造を有していてもよい。
中でも、基ＺＣは、炭素数が１以上６以下である直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基であることが好ましく、炭素数が１以上４以下である直鎖状のアルキレン基であることがより好ましい。
ＲＣはアルキレン基であり、炭素数が１以上６以下である直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基であることが好ましく、炭素数が１以上４以下である直鎖状のアルキレン基であることがより好ましい。
式（Ｇ－２ａ）中のｎは２以上の整数であり、好ましくは２以上５４０以下であり、より好ましくは２以上１２０以下であり、さらに好ましくは２以上６０以下である。
化合物（Ｇ－２）の分子量は、例えば１５０以上１００００以下程度であり得るが、半導体粒子（Ａ）の安定性及び分散性、並びに、波長変換層の発光強度を向上させる観点から、１５０以上５０００以下であることが好ましく、１５０以上４０００以下であることがより好ましい。該分子量は、数平均分子量であってもよいし重量平均分子量であってもよい。この場合、数平均分子量及び重量平均分子量はそれぞれ、ＧＰＣにより測定される標準ポリスチレン換算の数平均分子量及び重量平均分子量である。
組成物Ｉが化合物（Ｇ－２）を含む場合、組成物Ｉ中の半導体粒子（Ａ）に対する化合物（Ｇ－２）の含有量比は、質量比で、好ましくは０．００１以上２以下、より好ましくは０．０１以上１．５以下、さらに好ましくは０．１以上１以下である。該含有量比がこの範囲にあると、半導体粒子（Ａ）の安定性及び分散性、並びに、波長変換層の発光強度を向上させる観点から有利となり得る。
組成物Ｉが化合物（Ｇ－２）を含む場合、組成物Ｉにおける化合物（Ｇ－２）の含有率は、半導体粒子（Ａ）の安定性及び分散性、並びに、波長変換層の発光強度を向上させる観点から、組成物Ｉの固形分の総量に対して、好ましくは０．１質量％以上４０質量％以下、より好ましくは０．１質量％以上２０質量％以下、さらに好ましくは１質量％以上１５質量％以下、なおさらに好ましくは２質量％以上１２質量％以下である。
組成物Ｉが有機配位子（Ｇ）を含む場合、組成物Ｉ中の半導体粒子（Ａ）に対する有機配位子（Ｇ）の含有量の比は、質量比で、好ましくは０．００１以上１以下、より好ましくは０．０１以上０．８以下、さらに好ましくは０．０２以上０．５以下である。該含有量比がこの範囲にあると、半導体粒子（Ａ）の安定性及び分散性、並びに、波長変換層の発光強度を向上させる観点から有利となり得る。ここでいう有機配位子（Ｇ）の含有量とは、組成物Ｉに含まれるすべての有機配位子の合計含有量である。
組成物Ｉにおける半導体粒子（Ａ）及び有機配位子（Ｇ）の合計含有率は、半導体粒子（Ａ）の安定性及び分散性、並びに、波長変換層の発光強度を向上させる観点から、組成物Ｉの固形分の総量に対して、好ましくは１０質量％以上７５質量％以下、より好ましくは１２質量％以上７０質量％以下、さらに好ましくは１５質量％以上６５質量％以下である。
（１－３）光散乱剤（Ｂ）
組成物Ｉは、光散乱剤（Ｂ）をさらに含むことができる。該組成物から形成される波長変換層は、光散乱性を示し得る。組成物Ｉは、光散乱剤（Ｂ）を２種以上含んでいてもよい。波長変換層の発光強度を向上させる観点から、組成物Ｉは、光散乱剤（Ｂ）をさらに含むことが好ましい。
光散乱剤（Ｂ）としては、金属又は金属酸化物の粒子、ガラス粒子等の無機粒子が挙げられる。金属酸化物としては、ＴｉＯ２、ＳｉＯ２、ＢａＴｉＯ３、ＺｎＯ等が挙げられ、効率的に光を散乱することから、好ましくはＴｉＯ２の粒子である。光散乱剤（Ｂ）の粒子径は、例えば０．０３μｍ以上２０μｍ以下程度であり、好ましくは０．０５μｍ以上１μｍ以下であり、より好ましくは０．０５μｍ以上０．５μｍ以下である。
光散乱剤（Ｂ）としては、分散剤を用いて溶剤（Ｊ）の一部又は全部に予め光散乱剤を分散させたものを用いてもよい。分散剤としては市販品を用いることができる。市販品の例としては、
ビックケミー・ジャパン社製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１０１、１０２、１０３、１０６、１０７、１０８、１０９、１１０、１１１、１１６、１１８、１３０、１４０、１５４、１６１、１６２、１６３、１６４、１６５、１６６、１７０、１７１、１７４、１８０、１８１、１８２、１８３、１８４、１８５、１９０、１９２、２０００、２００１、２０２０、２０２５、２０５０、２０７０、２０９５、２１５０、２１５５；ＡＮＴＩ－ＴＥＲＲＡ－Ｕ、Ｕ１００、２０３、２０４、２５０、；ＢＹＫ－Ｐ１０４、Ｐ１０４Ｓ、Ｐ１０５、２２０Ｓ、６９１９；ＢＹＫ－ＬＰＮ６９１９、２１１１６；ＬＡＣＴＩＭＯＮ、ＬＡＣＴＩＭＯＮ－ＷＳ；Ｂｙｋｕｍｅｎ等；
日本ルーブリゾール社製のＳＯＬＳＰＥＲＳＥ－３０００、９０００、１３０００、１３２４０、１３６５０、１３９４０、１６０００、１７０００、１８０００、２００００、２１０００、２４０００、２６０００、２７０００、２８０００、３１８４５、３２０００、３２５００、３２５５０、３３５００、３２６００、３４７５０、３５１００、３６６００、３８５００、４１０００、４１０９０、５３０９５、５５０００、７６５００等；
ＢＡＳＦ社製のＥＦＫＡ－４６、４７、４８、４５２、４００８、４００９、４０１０、４０１５、４０２０、４０４７、４０５０、４０５５、４０６０、４０８０、４４００、４４０１、４４０２、４４０３、４４０６、４４０８、４３００、４３１０、４３２０、４３３０、４３４０、４５０、４５１、４５３、４５４０、４５５０、４５６０、４８００、５０１０、５０６５、５０６６、５０７０、７５００、７５５４、１１０１、１２０、１５０、１５０１、１５０２、１５０３等；
味の素ファインテクノ社製のアジスパーＰＡ１１１、ＰＢ７１１、ＰＢ８２１、ＰＢ８２２、ＰＢ８２４等が挙げられる。
組成物Ｉにおける光散乱剤（Ｂ）の含有率は、組成物Ｉの固形分の総量に対し、例えば０．００１質量％以上５０質量％以下であり、波長変換層の光散乱能及び発光強度を向上させる観点から、好ましくは１質量％以上３０質量％以下、より好ましくは２質量％以上２０質量％以下、さらに好ましくは２質量％以上１５質量％以下、なおさらに好ましくは３質量％以上１０質量％以下である。
（１－４）樹脂（Ｃ）
組成物Ｉは、樹脂（Ｃ）をさらに含むことができる。組成物Ｉから波長変換層を形成する観点からは、組成物Ｉは、樹脂（Ｃ）を含むことが好ましい。樹脂（Ｃ）は、１種又は２種以上の樹脂を含むことができる。樹脂（Ｃ）としては、以下の樹脂［Ｋ１］～［Ｋ４］等が挙げられる。
樹脂［Ｋ１］；不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群より選ばれる少なくとも１種（ａ）（以下、「（ａ）」ともいう。）と、（ａ）と共重合可能な単量体（ｃ）（ただし、（ａ）とは異なる。）（以下、「（ｃ）」ともいう。）との共重合体；
樹脂［Ｋ２］；（ａ）と（ｃ）との共重合体に炭素数２～４の環状エーテル構造とエチレン性不飽和結合とを有する単量体（ｂ）（以下、「（ｂ）」ともいう。）を反応させた樹脂；
樹脂［Ｋ３］；（ｂ）と（ｃ）との共重合体に（ａ）を反応させた樹脂；
樹脂［Ｋ４］；（ｂ）と（ｃ）との共重合体に（ａ）を反応させ、さらにカルボン酸無水物を反応させた樹脂。
（ａ）としては、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、ｏ－、ｍ－、ｐ－ビニル安息香酸等の不飽和モノカルボン酸；
マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、３－ビニルフタル酸、４－ビニルフタル酸、３，４，５，６－テトラヒドロフタル酸、１，２，３，６－テトラヒドロフタル酸、ジメチルテトラヒドロフタル酸、１，４－シクロヘキセンジカルボン酸等の不飽和ジカルボン酸；
メチル－５－ノルボルネン－２，３－ジカルボン酸、５－カルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５，６－ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－カルボキシ－５－メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－カルボキシ－５－エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－カルボキシ－６－メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－カルボキシ－６－エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン等のカルボキシ基を含有するビシクロ不飽和化合物；
無水マレイン酸、シトラコン酸無水物、イタコン酸無水物、３－ビニルフタル酸無水物、４－ビニルフタル酸無水物、３，４，５，６－テトラヒドロフタル酸無水物、１，２，３，６－テトラヒドロフタル酸無水物、ジメチルテトラヒドロフタル酸無水物、５，６－ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン無水物等の不飽和ジカルボン酸無水物；
コハク酸モノ〔２－（メタ）アクリロイルオキシエチル〕、フタル酸モノ〔２－（メタ）アクリロイルオキシエチル〕等の２価以上の多価カルボン酸の不飽和モノ〔（メタ）アクリロイルオキシアルキル〕エステル；
α－（ヒドロキシメチル）（メタ）アクリル酸のような、同一分子中にヒドロキシ基及びカルボキシ基を含有する不飽和（メタ）アクリレート
等が挙げられる。
これらのうち、共重合反応性等の観点から、（メタ）アクリル酸、無水マレイン酸等が好ましい。
本明細書において（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸及び／又はメタクリル酸を意味する。「（メタ）アクリロイル」、「（メタ）アクリレート」等においても同様である。
（ｂ）は、例えば、炭素数２～４の環状エーテル構造（例えば、オキシラン環、オキセタン環及びテトラヒドロフラン環からなる群より選ばれる少なくとも１種）とエチレン性不飽和結合とを有する単量体である。（ｂ）は、炭素数２～４の環状エーテル構造と（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する単量体であることが好ましい。
環状エーテル構造の炭素数は、例えばオキシラン環、オキセタン環又はテトラヒドロフラン環等のエーテル結合を含む環が他の環とともに縮合環を形成している場合には、該縮合環としての炭素数を意味する。
（ｂ）としては、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、β－メチルグリシジル（メタ）アクリレート、β－エチルグリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテル、ｏ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、α－メチル－ｏ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、α－メチル－ｍ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、α－メチル－ｐ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、２，３－ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，４－ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，５－ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，６－ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，４－トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，５－トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，６－トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、３，４，５－トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，４，６－トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン等のオキシラン環とエチレン性不飽和結合とを有する単量体；
３－メチル－３－メタクリルロイルオキシメチルオキセタン、３－メチル－３－アクリロイルオキシメチルオキセタン、３－エチル－３－メタクリロイルオキシメチルオキセタン、３－エチル－３－アクリロイルオキシメチルオキセタン、３－メチル－３－メタクリロイルオキシエチルオキセタン、３－メチル－３－アクリロイルオキシエチルオキセタン、３－エチル－３－メタクリロイルオキシエチルオキセタン、３－エチル－３－アクリロイルオキシエチルオキセタン等のオキセタン環とエチレン性不飽和結合とを有する単量体；
テトラヒドロフルフリルアクリレート（例えば、ビスコートＶ＃１５０、大阪有機化学工業（株）製）、テトラヒドロフルフリルメタクリレート等のテトラヒドロフラン環とエチレン性不飽和結合とを有する単量体
等が挙げられる。
樹脂［Ｋ２］～［Ｋ４］の製造時の反応性が高く、未反応の（ｂ）が残存しにくいことから、（ｂ）としては、オキシラン環とエチレン性不飽和結合とを有する単量体が好ましい。
（ｃ）としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ－ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ－ブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２－メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン－８－イル（メタ）アクリレート（当該技術分野では、慣用名として「ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート」といわれている。また、「トリシクロデシル（メタ）アクリレート」という場合がある。）、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デセン－８－イル（メタ）アクリレート（当該技術分野では、慣用名として「ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート」といわれている。）、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、プロパルギル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル；
２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシ基含有（メタ）アクリル酸エステル；
マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等のジカルボン酸ジエステル；
ビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－ヒドロキシメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－（２’－ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－メトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－エトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５，６－ジヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５，６－ジ（ヒドロキシメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５，６－ジ（２’－ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５，６－ジメトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５，６－ジエトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－ヒドロキシ－５－メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－ヒドロキシ－５－エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－ヒドロキシメチル－５－メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－シクロヘキシルオキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－フェノキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５，６－ビス（ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５，６－ビス（シクロヘキシルオキシカルボニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン等のビシクロ不飽和化合物；
Ｎ－フェニルマレイミド、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド、Ｎ－ベンジルマレイミド、Ｎ－スクシンイミジル－３－マレイミドベンゾエート、Ｎ－スクシンイミジル－４－マレイミドブチレート、Ｎ－スクシンイミジル－６－マレイミドカプロエート、Ｎ－スクシンイミジル－３－マレイミドプロピオネート、Ｎ－（９－アクリジニル）マレイミド等のジカルボニルイミド誘導体；
スチレン、α－メチルスチレン、ｍ－メチルスチレン、ｐ－メチルスチレン、ビニルトルエン、ｐ－メトキシスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタクリルアミド、酢酸ビニル、１，３－ブタジエンイソプレン、２，３－ジメチル－１，３－ブタジエン；
３，４－エポキシトリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン－８－イルアクリレート、３，４－エポキシトリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン－９－イルアクリレート等の炭素数が４を超える環状エーテル構造とエチレン性不飽和結合とを有する単量体
等が挙げられる。
環状エーテル構造の炭素数は、例えばオキシラン環、オキセタン環又はテトラヒドロフラン環等のエーテル結合を含む環が他の環とともに縮合環を形成している場合には、該縮合環としての炭素数を意味する。
上記のうち、共重合反応性及び樹脂（Ｃ）の耐熱性の点から、（ｃ）としては、スチレン、ビニルトルエン、Ｎ－フェニルマレイミド、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド、Ｎ－ベンジルマレイミド、ビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン等が好ましい。また、（ｃ）として炭素数が４を超える環状エーテル構造とエチレン性不飽和結合とを有する単量体を含むことも好ましい。
樹脂［Ｋ１］において、それぞれに由来する構成単位の比率は、樹脂［Ｋ１］を構成する全構成単位中、
（ａ）に由来する構成単位；２モル％以上６０モル％以下
（ｃ）に由来する構成単位；４０モル％以上９８モル％以下
であることが好ましく、
（ａ）に由来する構成単位；１０モル％以上５０モル％以下
（ｃ）に由来する構成単位；５０モル％以上９０モル％以下
であることがより好ましい。
樹脂［Ｋ１］の構成単位の比率が上記の範囲にあると、組成物Ｉの保存安定性及び波長変換層の耐溶剤性に優れる傾向がある。
樹脂［Ｋ１］は、例えば、文献「高分子合成の実験法」（大津隆行著 発行所（株）化学同人 第１版第１刷 １９７２年３月１日発行）に記載された方法及び当該文献に記載された引用文献を参考にして製造することができる。
具体的には、（ａ）及び（ｃ）の所定量、重合開始剤並びに溶剤等を反応容器中に入れて、例えば、窒素により酸素を置換することにより、脱酸素雰囲気にし、攪拌しながら、加熱及び保温する方法が挙げられる。
用いられる重合開始剤及び溶剤等は、特に限定されず、当該分野で通常使用されているものを使用することができる。例えば、重合開始剤としては、アゾ化合物（２，２’－アゾビスイソブチロニトリル、２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）等）や有機過酸化物（ベンゾイルペルオキシド等）が挙げられ、溶剤としては、各モノマーを溶解するものであればよく、組成物Ｉに含まれていてもよい溶剤（Ｊ）として後述する溶剤等が挙げられる。
得られた共重合体は、反応後の溶液をそのまま使用してもよいし、濃縮あるいは希釈した溶液を使用してもよいし、再沈殿等の方法で固体（粉体）として取り出したものを使用してもよい。重合の際の溶剤として後述の溶剤（Ｊ）を使用すれば、反応後の溶液をそのまま組成物Ｉの調製に使用することができるため、組成物Ｉの製造工程を簡略化することができる。
樹脂［Ｋ２］は、（ａ）と（ｃ）との共重合体に、（ｂ）が有する炭素数２～４の環状エーテルを（ａ）が有するカルボン酸及び／又はカルボン酸無水物に付加させることにより製造することができる。
まず（ａ）と（ｃ）との共重合体を、樹脂［Ｋ１］の製造方法として記載した方法と同様にして製造する。この場合、それぞれに由来する構成単位の比率は、樹脂［Ｋ１］について述べた比率と同じであることが好ましい。
次に、上記共重合体中の（ａ）に由来するカルボン酸及び／又はカルボン酸無水物の一部に、（ｂ）が有する炭素数２～４の環状エーテルを反応させる。
（ａ）と（ｃ）との共重合体の製造に引き続き、フラスコ内雰囲気を窒素から空気に置換し、（ｂ）、カルボン酸又はカルボン酸無水物と環状エーテルとの反応触媒（例えば有機リン化合物、金属錯体、アミン化合物等）及び重合禁止剤（例えばハイドロキノン等）等の存在下、例えば６０℃以上１３０℃以下で、１時間以上１０時間以下反応することにより、樹脂［Ｋ２］を製造することができる。
（ｂ）の使用量は、（ａ）１００モルに対して、好ましくは５モル以上８０モル以下、より好ましくは１０モル以上７５モル以下である。この範囲にすることにより、組成物Ｉの保存安定性、並びに、波長変換層の耐溶剤性、耐熱性及び機械強度のバランスが良好になる傾向がある。
反応触媒としての有機リン化合物としては、例えばトリフェニルホスフィン等が挙げられる。反応触媒としてのアミン化合物としては、例えば脂肪族第三級アミン化合物又は脂肪族第四級アンモニウム塩化合物等が使用可能であり、その具体例としては、例えばトリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、トリエチルアミン、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムクロリド等が挙げられる。反応触媒は、好ましくは有機リン化合物である。
反応触媒の使用量は、（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）の合計量１００質量部に対して、好ましくは０．００１質量部以上５質量部以下である。
重合禁止剤の使用量は、（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）の合計量１００質量部に対して、好ましくは０．００１質量部以上５質量部以下である。
仕込方法、反応温度及び時間等の反応条件は、製造設備や重合による発熱量等を考慮して適宜調整することができる。なお、重合条件と同様に、製造設備や重合による発熱量等を考慮し、仕込方法や反応温度を適宜調整することができる。
樹脂［Ｋ３］は、第一段階として、上述した樹脂［Ｋ１］の製造方法と同様にして、（ｂ）と（ｃ）との共重合体を得る。上記と同様に、得られた共重合体は、反応後の溶液をそのまま使用してもよいし、濃縮あるいは希釈した溶液を使用してもよいし、再沈殿等の方法で固体（粉体）として取り出したものを使用してもよい。
（ｂ）及び（ｃ）に由来する構成単位の比率は、上記共重合体を構成する全構成単位の合計モル数に対して、それぞれ、
（ｂ）に由来する構成単位；５モル％以上９５モル％以下
（ｃ）に由来する構成単位；５モル％以上９５モル％以下
であることが好ましく、
（ｂ）に由来する構成単位；１０モル％以上９０モル％以下
（ｃ）に由来する構成単位；１０モル％以上９０モル％以下
であることがより好ましい。
樹脂［Ｋ３］は、樹脂［Ｋ２］の製造方法と同様の条件で（ｂ）と（ｃ）との共重合体が有する（ｂ）に由来する環状エーテルに、（ａ）が有するカルボン酸又はカルボン酸無水物を反応させることにより得ることができる。
上記共重合体に反応させる（ａ）の使用量は、（ｂ）１００モルに対して、５モル以上８０モル以下が好ましい。
樹脂［Ｋ４］は、樹脂［Ｋ３］に、さらにカルボン酸無水物を反応させた樹脂である。環状エーテルとカルボン酸又はカルボン酸無水物との反応により発生するヒドロキシ基に、カルボン酸無水物を反応させる。
カルボン酸無水物としては、例えば、無水マレイン酸、シトラコン酸無水物、イタコン酸無水物、３－ビニルフタル酸無水物、４－ビニルフタル酸無水物、３，４，５，６－テトラヒドロフタル酸無水物、１，２，３，６－テトラヒドロフタル酸無水物、ジメチルテトラヒドロフタル酸無水物、５，６－ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン無水物等が挙げられる。
カルボン酸無水物の使用量は、（ａ）の使用量１モルに対して、０．５～１モルが好ましい。
樹脂［Ｋ１］、樹脂［Ｋ２］、樹脂［Ｋ３］及び樹脂［Ｋ４］としては、例えば、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体、スチレン／（メタ）アクリル酸共重合体等の樹脂［Ｋ１］；
ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを付加させた樹脂、トリシクロデシル（メタ）アクリレート／スチレン／（メタ）アクリル酸共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを付加させた樹脂、トリシクロデシル（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを付加させた樹脂等の樹脂［Ｋ２］；
トリシクロデシル（メタ）アクリレート／グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸を反応させた樹脂、トリシクロデシル（メタ）アクリレート／スチレン／グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸を反応させた樹脂等の樹脂［Ｋ３］；
トリシクロデシル（メタ）アクリレート／グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸を反応させた樹脂にさらにテトラヒドロフタル酸無水物を反応させた樹脂等の樹脂［Ｋ４］等が挙げられる。
樹脂（Ｃ）は、樹脂［Ｋ１］を含むことが好ましい。
樹脂（Ｃ）のさらなる例として、特開２０１８－１２３２７４号公報に記載の樹脂が挙げられる。該樹脂としては、側鎖に二重結合を有するとともに、主鎖に、下記式（Ｉ）で表される構成単位（α）と、下記式（ＩＩ）で表される構成単位（β）とを含み、さらに酸基を含む重合体（以下、「樹脂（Ｃａ）」ともいう。）が挙げられる。
酸基は、例えば樹脂（Ｃａ）が、酸基含有単量体（例えば（メタ）アクリル酸等）に由来する構成単位（γ）を含むことで、樹脂中に導入されたものであることができる。樹脂（Ｃａ）は、好ましくは、主鎖骨格に構成単位（α）、（β）及び（γ）を含む。
Figure 2023120153000006
［式中、ＲＡ及びＲＢは、同一又は異なって、水素原子又は炭素数１～２５の炭化水素基を表す。ｎは、式（Ｉ）で表される構成単位の平均繰り返し単位数を表し、１以上の数である。］
Figure 2023120153000007
［式中、ＲＣは、同一又は異なって、水素原子又はメチル基を表す。ＲＤは、同一又は異なって、炭素数４～２０の直鎖状又は分岐鎖状炭化水素基を表す。ｍは、式（ＩＩ）で表される構成単位の平均繰り返し単位数を表し、１以上の数である。］
樹脂（Ｃａ）において、構成単位（α）の含有割合は、樹脂（Ｃａ）の耐熱性や保存安定性の観点から、樹脂（Ｃａ）の主鎖骨格を与える全単量体単位の総量１００質量％に対し、例えば０．５質量％以上５０質量％以下であり、好ましくは１質量％以上４０質量％以下、より好ましくは５質量％以上３０質量％以下である。式（Ｉ）中のｎは、樹脂（Ｃａ）中の構成単位（α）の平均繰り返し単位数を表し、構成単位（α）の含有割合が上記範囲内になるようにｎを設定することができる。
構成単位（β）の含有割合は、波長変換層の耐溶剤性の観点から、樹脂（Ｃａ）の主鎖骨格を与える全単量体単位の総量１００質量％に対し、例えば１０質量％以上９０質量％以下であり、好ましくは２０質量％以上８０質量％以下、より好ましくは３０質量％以上７５質量％以下である。式（ＩＩ）中のｍは、樹脂（Ｃａ）中の構成単位（β）の平均繰り返し単位数を表し、構成単位（β）の含有割合が上述した範囲内になるようにｍを設定することができる。
構成単位（γ）の含有割合は、溶剤（Ｊ）に対する樹脂（Ｃａ）の溶解性等の観点から、樹脂（Ｃａ）の主鎖骨格を与える全単量体単位の総量１００質量％に対し、例えば０．５質量％以上５０質量％以下であり、好ましくは２質量％以上５０質量％以下、より好ましくは５質量％以上４５質量％以下である。
樹脂（Ｃ）は、上述の樹脂［Ｋ１］、樹脂［Ｋ２］、樹脂［Ｋ３］、樹脂［Ｋ４］及び樹脂（Ｃａ）からなる群より選ばれる１種以上を含むことができる。
樹脂（Ｃ）は、ＧＰＣによって測定される標準ポリスチレン換算の重量平均分子量Ｍｗが、例えば１０００以上２００００以下であり、組成物Ｉの現像性及び波長変換層の発光強度の観点から、好ましくは２０００以上１５０００以下であり、より好ましくは３０００以上１３０００以下である。樹脂（Ｃ）のＭｗは、用いる原料の選択、仕込方法、反応温度及び時間等の反応条件を適宜組み合わせて調整することができる。樹脂（Ｃ）のＭｗは、後述の実施例の欄に記載の測定方法に従って測定することができる。あるいは、組成物Ｉに含まれる樹脂（Ｃ）について、ＧＰＣを用いてＭｗを測定してもよい。
ＧＰＣによって測定される樹脂（Ｃ）の分子量分布［重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）］は、例えば１．０以上６．０以下であり、波長変換層の発光強度を向上させる観点から、好ましくは１．２以上４．０以下である。
樹脂（Ｃ）の酸価は、組成物Ｉの現像性及び波長変換層の耐溶剤性の観点から、好ましくは９０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは９５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、さらに好ましくは１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である。樹脂（Ｃ）の酸価は、酸基を有するモノマー成分（例えば上記（ａ））の含有率によって調整することができる。
樹脂（Ｃ）の酸価は、樹脂（Ｃ）１ｇを中和するに必要な水酸化カリウムの量（ｍｇ）として測定される値であり、例えば水酸化カリウム水溶液を用いて滴定することにより求めることができる。具体的には、後述の実施例の欄に記載の測定方法に従って測定することができる。あるいは、組成物Ｉに含まれる樹脂（Ｃ）について、例えばその構造解析を行うことにより、酸価を求めてもよい。
樹脂（Ｃ）は、波長変換層の発光強度を向上させる観点から、二重結合当量が、３００ｇ／ｅｑ以上２０００ｇ／ｅｑ以下の樹脂を含むことが好ましく、５００ｇ／ｅｑ以上１５００ｇ／ｅｑ以下である樹脂を含むことがより好ましい。３００ｇ／ｅｑ以上２０００ｇ／ｅｑ以下の二重結合当量を有する樹脂としては、（メタ）アクリル系樹脂が挙げられる。樹脂（Ｃ）は、好ましくは（メタ）アクリル系樹脂からなる。
組成物Ｉにおける樹脂（Ｃ）の含有率は、組成物Ｉの固形分の総量に対して、例えば５質量％以上８０質量％以下であり、好ましくは１０質量％以上７０質量％以下であり、より好ましくは１３質量％以上６０質量％以下であり、さらに好ましくは１７質量％以上５５質量％以下である。樹脂（Ｃ）の含有率が上記範囲であると、半導体粒子（Ａ）が分散し易くなり、波長変換層の発光強度が高くなりやすい傾向にある。
組成物Ｉにおいて、後述する重合性化合物（Ｄ）に対する樹脂（Ｃ）の質量比（固形分比）は、例えば１以上であり、組成物Ｉの現像性及び波長変換層の発光強度の観点から、好ましくは１．５以上、より好ましくは２以上である。
（１－５）重合性化合物（Ｄ）
組成物Ｉは、重合性化合物（Ｄ）をさらに含むことができる。重合性化合物（Ｄ）は、後述する重合開始剤（Ｅ）から発生した活性ラジカル、酸等によって重合し得る化合物である。重合性化合物（Ｄ）としては、エチレン性不飽和結合を有する化合物等の光重合性化合物が挙げられ、例えば（メタ）アクリル酸エステル化合物である。重合性化合物（Ｄ）の他の例は、熱重合性化合物である。組成物Ｉは、重合性化合物（Ｄ）を２種以上含んでいてもよい。
重合性化合物（Ｄ）は、好ましくは、分子内にエチレン性不飽和結合を３個以上有する光重合性化合物である。重合性化合物（Ｄ）の重量平均分子量は、好ましくは１５０以上２９００以下、より好ましくは２５０以上１５００以下である。
分子内にエチレン性不飽和結合を３個以上有する光重合性化合物としては、分子内にエチレン性不飽和結合を３個以上有し、かつ、酸性官能基を有する化合物（Ｄａ）、分子内にエチレン性不飽和結合を３個以上有し、かつ、酸性官能基を有しない化合物（Ｄｂ）が挙げられる。重合性化合物（Ｄ）は、化合物（Ｄａ）及び化合物（Ｄｂ）の少なくとも１種を含むことが好ましく、化合物（Ｄａ）を２種以上、化合物（Ｄｂ）を２種以上、又は化合物（Ｄａ）の少なくとも１種と化合物（Ｄｂ）の少なくとも１種とを含んでいてもよい。
上記酸性官能基としては、例えば、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基等が挙げられる。中でも、酸性官能基は、カルボキシ基であることが好ましい。
重合性化合物（Ｄ）が化合物（Ｄａ）を含むことにより、組成物Ｉにおける半導体粒子（Ａ）の分散性を向上させることができ、波長変換層の発光強度を向上させ得る。また、重合性化合物（Ｄ）が化合物（Ｄａ）を含むことにより、組成物Ｉの硬化性及び耐熱性を向上させ得る。
化合物（Ｄａ）が有するエチレン性不飽和結合は、好ましくは（メタ）アクリロイルオキシ基である。化合物（Ｄａ）１分子が有するエチレン性不飽和結合の数は、好ましくは３～５、より好ましくは３である。化合物（Ｄａ）１分子が有する酸性官能基の数は、１以上である。２以上の酸性官能基を有する場合は、それぞれの酸性官能基は異なってもいてもよく同一であってもよいが、少なくとも１つのカルボキシ基を有することが好ましい。
化合物（Ｄａ）としては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート又はジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等の３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基及び１個以上のヒドロキシ基を有する化合物を多塩基酸変性して得られた化合物が挙げられる。該化合物としては、例えば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートとコハク酸とをモノエステル化した化合物、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートとコハク酸とをモノエステル化した化合物、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートとマレイン酸とをモノエステル化した化合物、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートとマレイン酸とをモノエステル化した化合物等が挙げられる。中でも、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートとコハク酸とをモノエステル化した化合物が好ましい。
化合物（Ｄｂ）が有するエチレン性不飽和結合は、好ましくは（メタ）アクリロイルオキシ基である。化合物（Ｄｂ）１分子が有するエチレン性不飽和結合の数は、好ましくは３～６である。
化合物（Ｄｂ）としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールノナ（メタ）アクリレート、トリス（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、エチレングリコール変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エチレングリコール変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、プロピレングリコール変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、プロピレングリコール変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。中でも、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が好ましい。
組成物Ｉにおける重合性化合物（Ｄ）の含有率は、組成物Ｉの固形分の総量に対して、好ましくは７質量％以上６０質量％以下、より好ましくは１０質量％以上４５質量％以下、さらに好ましくは１３質量％以上３０質量％以下である。重合性化合物（Ｄ）の含有率が上記範囲内にあると、組成物Ｉの現像性及び波長変換層の耐溶剤性が向上する傾向にある。
組成物Ｉの現像性を向上させる観点からは、重合性化合物（Ｄ）は、化合物（Ｄｂ）を５０質量％以上含むことが好ましい。波長変換層の耐溶剤性を向上させる観点からは、重合性化合物（Ｄ）は、化合物（Ｄａ）及び化合物（Ｄｂ）を含むことが好ましい。
（１－６）重合開始剤（Ｅ）
組成物Ｉは、重合開始剤（Ｅ）をさらに含むことができる。重合開始剤（Ｅ）は、光又は熱の作用により活性ラジカル、酸等を発生し、重合性化合物（Ｄ）の重合を開始し得る化合物である。組成物Ｉは、１種又は２種以上の重合開始剤（Ｅ）を含むことができる。
重合開始剤（Ｅ）としては、オキシム化合物、ビイミダゾール化合物、トリアジン化合物及びアシルホスフィン化合物等の光重合開始剤、アゾ系化合物や有機過酸化物等の熱重合開始剤が挙げられる。
オキシム化合物の一例は、下記式（１）で表される第１分子構造を有するオキシム化合物である。以下、該オキシム化合物を「オキシム化合物（１）」ともいう。
Figure 2023120153000008
重合開始剤（Ｅ）としてオキシム化合物（１）を含むことは、波長変換層の発光強度を向上させる観点から有利となり得る。このような効果を奏することができる一因は、オキシム化合物（１）が有する特有の分子構造に起因して、オキシム化合物（１）が光重合を開始させる際に必要となるオキシム化合物（１）の開裂（分解）前後でのオキシム化合物（１）の吸収波長が大きく変化することから、オキシム化合物（１）は光ラジカル重合開始能力が高いことにあると推定される。
式（１）中、Ｒ１は、Ｒ１１、ＯＲ１１、ＣＯＲ１１、ＳＲ１１、ＣＯＮＲ１２Ｒ１３又はＣＮを表す。
Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～３０のアリール基、炭素数７～３０のアラルキル基又は炭素数２～２０の複素環基を表す。
Ｒ１１、Ｒ１２又はＲ１３で表わされる基の水素原子は、ＯＲ２１、ＣＯＲ２１、ＳＲ２１、ＮＲ２２Ｒａ２３、ＣＯＮＲ２２Ｒ２３、－ＮＲ２２－ＯＲ２３、－Ｎ（ＣＯＲ２２）－ＯＣＯＲ２３、－Ｃ（＝Ｎ－ＯＲ２１）－Ｒ２２、－Ｃ（＝Ｎ－ＯＣＯＲ２１）－Ｒ２２、ＣＮ、ハロゲン原子、又はＣＯＯＲ２１で置換されていてもよい。
Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～３０のアリール基、炭素数７～３０のアラルキル基又は炭素数２～２０の複素環基を表す。
Ｒ２１、Ｒ２２又はＲ２３で表される基の水素原子は、ＣＮ、ハロゲン原子、ヒドロキシ基又はカルボキシ基で置換されていてもよい。
Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ２１、Ｒ２２又はＲ２３で表される基がアルキレン部分を有する場合、該アルキレン部分は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＮＲ２４－、－ＮＲ２４ＣＯ－、－ＮＲ２４ＣＯＯ－、－ＯＣＯＮＲ２４－、－ＳＣＯ－、－ＣＯＳ－、－ＯＣＳ－又は－ＣＳＯ－により１～５回中断されていてもよい。
Ｒ２４は、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～３０のアリール基、炭素数７～３０のアラルキル基又は炭素数２～２０の複素環基を表す。
Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ２１、Ｒ２２又はＲ２３で表される基がアルキル部分を有する場合、該アルキル部分は、分枝鎖状であってもよく、環状であってもよく、また、Ｒ１２とＲ１３及びＲ２２とＲ２３はそれぞれ一緒になって環を形成していてもよい。
＊は、オキシム化合物（１）が有する第１分子構造以外の他の分子構造である第２分子構造との結合手を表す。
式（１）中のＲ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４で表される炭素数１～２０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、イソオクチル基、２－エチルヘキシル基、ｔｅｒｔ－オクチル基、ノニル基、イソノニル基、デシル基、イソデシル基、ウンデシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、イコシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル、シクロヘキシルエチル基等が挙げられる。
式（１）中のＲ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４で表される炭素数６～３０のアリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、エチルフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、上記アルキル基で１つ以上置換されたフェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、アントリル基等が挙げられる。
式（１）中のＲ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４で表される炭素数７～３０のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、α－メチルベンジル基、α、α－ジメチルベンジル基、フェニルエチル基等が挙げられる。
式（１）中のＲ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４で表される炭素数２～２０の複素環基としては、例えば、ピリジル基、ピリミジル基、フリル基、チエニル基、テトラヒドロフリル基、ジオキソラニル基、ベンゾオキサゾール－２－イル基、テトラヒドロピラニル基、ピロリジル基、イミダゾリジル基、ピラゾリジル基、チアゾリジル基、イソチアゾリジル基、オキサゾリジル基、イソオキサゾリジル基、ピペリジル基、ピペラジル基、モルホリニル基等が挙げられ、好ましくは５～７員複素環である。
式（１）中のＲ１２とＲ１３及びＲ２２とＲ２３はそれぞれ一緒になって環を形成していてもよいとは、Ｒ１２とＲ１３及びＲ２２とＲ２３はそれぞれ一緒になって接続する窒素原子、炭素原子又は酸素原子とともに環を形成していてもよいことを意味する。
式（１）中のＲａ１２とＲａ１３及びＲａ２２とＲａ２３が一緒になって形成し得る環としては、例えば、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロペンテン環、ベンゼン環、ピペリジン環、モルホリン環、ラクトン環、ラクタム環等が挙げられ、好ましくは５～７員環である。
式（１）中のＲ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３が置換基として有してもよいハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
式（１）中のＲ１は、好ましくはＲ１１であり、より好ましくは炭素数１～２０のアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数１～１０のアルキル基であり、なおさらに好ましくは１～６のアルキル基である。
式（１）で表される第１分子構造に連結される第２分子構造の一例は、下記式（２）で表される構造である。第２分子構造とは、オキシム化合物（１）が有する上記第１分子構造以外の他の分子構造部分を意味する。
式（２）において「＊」で表される結合手は、式（１）において「＊」で表される結合手と直接結合している。すなわち、第２分子構造が式（２）で表される構造である場合、式（２）中の「－＊」を有するベンゼン環と式（１）中の「－＊」を有するカルボニル基とは直接結合している。
Figure 2023120153000009
式（２）中、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、Ｒ１１、ＯＲ１１、ＳＲ１１、ＣＯＲ１１、ＣＯＮＲ１２Ｒ１３、ＮＲ１２ＣＯＲ１１、ＯＣＯＲ１１、ＣＯＯＲ１１、ＳＣＯＲ１１、ＯＣＳＲ１１、ＣＯＳＲ１１、ＣＳＯＲ１１、ＣＮ又はハロゲン原子を表す。
Ｒ２が複数存在するとき、それらは同じであっても異なっていてもよい。
Ｒ３が複数存在するとき、それらは同じであっても異なっていてもよい。
Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、上記と同じ意味を表す。
ｓ及びｔは、それぞれ独立に、０～４の整数を表す。
Ｌは、硫黄原子、ＣＲ３１Ｒ３２、ＣＯ又はＮＲ３３を表す。
Ｒ３１、Ｒ３２及びＲ３３は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～３０のアリール基又は炭素数７～３０のアラルキル基を表す。
Ｒ３１、Ｒ３２又はＲ３３で表される基がアルキル部分を有する場合、該アルキル部分は、分枝鎖状であってもよく、環状であってもよく、Ｒ３１、Ｒ３２及びＲ３３は、それぞれ独立に、隣接するどちらかのベンゼン環と一緒になって環を形成していてもよい。
Ｒ４は、ヒドロキシ基、カルボキシ基又は下記式（２－１）
Figure 2023120153000010
（式（２－１）中、Ｌ１は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ２２－、－ＮＲ２２ＣＯ－、－ＳＯ２－、－ＣＳ－、－ＯＣＯ－又は－ＣＯＯ－を表す。
Ｒ２２は、上記と同じ意味を表す。
Ｌ２は、炭素数１～２０のアルキル基からｖ個の水素原子を除いた基、炭素数６～３０のアリール基からｖ個の水素原子を除いた基、炭素数７～３０のアラルキル基からｖ個の水素原子を除いた基又は炭素数２～２０の複素環基からｖ個の水素原子を除いた基を表す。
Ｌ２で表される基がアルキレン部分を有する場合、該アルキレン部分は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＮＲ２２－、－ＮＲ２２ＣＯＯ－、－ＯＣＯＮＲ２２－、－ＳＣＯ－、－ＣＯＳ－、－ＯＣＳ－又は－ＣＳＯ－により１～５回中断されていてもよく、該アルキレン部分は分枝鎖状であってもよく、環状であってもよい。
Ｒ４ａは、ＯＲ４１、ＳＲ４１、ＣＯＮＲ４２Ｒ４３、ＮＲ４２ＣＯＲ４３、ＯＣＯＲ４１、ＣＯＯＲ４１、ＳＣＯＲ４１、ＯＣＳＲ４１、ＣＯＳＲ４１、ＣＳＯＲ４１、ＣＮ又はハロゲン原子を表す。
Ｒ４ａが複数存在するとき、それらは同じであっても異なっていてもよい。
Ｒ４１、Ｒ４２及びＲ４３は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～３０のアリール基又は炭素数７～３０のアラルキル基を表し、Ｒ４１、Ｒ４２及びＲ４３で表される基がアルキル部分を有する場合、該アルキル部分は分枝鎖状であってもよく、環状であってもよく、Ｒ４２とＲ４３は、一緒になって環を形成していてもよい。
ｖは１～３の整数を表す。）
で表される基を表す。
＊は、オキシム化合物（１）が有する第１分子構造との結合手を表す。
式（２）中のＲ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ３１、Ｒ３２及びＲ３３、並びに上記式（２－１）中のＲ２２、Ｒ４１、Ｒ４２及びＲ４３で表される炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～３０のアリール基、炭素数７～３０のアラルキル基の例は、式（１）中のＲ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４についての例と同様である。
式（２）中のＲ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、並びに上記式（２－１）中のＲ２２で表される炭素数２～２０の複素環基の例は、式（１）中のＲ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４についての例と同様である。
式（２）中のＲ３１、Ｒ３２及びＲ３３は、それぞれ独立に、隣接するどちらかのベンゼン環と一緒になって環を形成していてもよいとは、Ｒ３１、Ｒ３２及びＲ３３は、それぞれ独立に、隣接するどちらかのベンゼン環と一緒になって接続する窒素原子とともに環を形成していてもよいことを意味する。
式（２）中のＲ３１、Ｒ３２及びＲ３３が隣接するどちらかのベンゼン環と一緒になって形成し得る環の例は、式（１）中のＲａ１２とＲａ１３及びＲａ２２とＲａ２３が一緒になって形成し得る環についての例と同様である。
上記式（２－１）中のＬ２は、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～３０のアリール基、炭素数７～３０のアラルキル基又は炭素数２～２０の複素環基からｖ個の水素原子を除いた基を表す。
炭素数１～２０のアルキル基からｖ個の水素原子を除いた基としては、例えば、ｖが１の場合、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、メチルエチレン基、ブチレン基、１－メチルプロピレン基、２－メチルプロピレン基、１，２－ジメチルプロピレン基、１，３－ジメチルプロピレン基、１－メチルブチレン基、２－メチルブチレン基、３－メチルブチレン基、４－メチルブチレン基、２，４－ジメチルブチレン基、１，３－ジメチルブチレン基、ペンチレン基、へキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、ドデシレン基、トリデシレン基、テトラデシレン基、ペンタデシレン基、エタン－１，１－ジイル基、プロパン－２，２－ジイル基等のアルキレン基が挙げられる。
炭素数６～３０のアリール基からｖ個の水素原子を除いた基としては、例えば、ｖが１の場合、１，２－フェニレン基、１，３－フェニレン基、１，４－フェニレン基、２，６－ナフチレン基、１，４－ナフチレン基、２，５－ジメチル－１，４－フェニレン基、ジフェニルメタン－４，４’－ジイル基、２，２－ジフェニルプロパン－４，４’－ジイル基、ジフェニルスルフィド－４，４’－ジイル基、ジフェニルスルホン－４，４’－ジイル基等のアリーレン基が挙げられる。
炭素数７～３０のアラルキル基からｖ個の水素原子を除いた基としては、例えば、ｖが１の場合、下記式（ａ）で表される基及び下記式（ｂ）で表される基等が挙げられる。
Figure 2023120153000011
［式（ａ）及び（ｂ）中、Ｌ３及びＬ５は、炭素数１～１０のアルキレン基を表し、Ｌ４及びＬ６は、単結合又は炭素数１～１０のアルキレン基を表す。］
炭素数１～１０のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、メチルエチレン基、ブチレン基、１－メチルプロピレン基、２－メチルプロピレン基、１，２－ジメチルプロピレン基、１，３－ジメチルプロピレン基、１－メチルブチレン基、２－メチルブチレン基、３－メチルブチレン基、４－メチルブチレン基、２，４－ジメチルブチレン基、１，３－ジメチルブチレン基、ペンチレン基、へキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基等が挙げられる。
炭素数２～２０の複素環基からｖ個の水素原子を除いた基としては、例えば、ｖが１の場合、２，５－ピリジンジイル基、２，６－ピリジンジイル基、２，５－ピリミジンジイル基、２，５－チオフェンジイル基、３，４－テトラヒドロフランジイル基、２，５－テトラヒドロフランジイル基、２，５－フランジイル基、３，４－チアゾールジイル基、２，５－ベンゾフランジイル基、２，５－ベンゾチオフェンジイル基、Ｎ－メチルインドール－２，５－ジイル基、２，５－ベンゾチアゾールジイル基、２，５－ベンゾオキサゾールジイル基等の２価の複素環基が挙げられる。
式（２）中のＲ２及びＲ３、並びに上記式（２－１）中のＲ４ａで表されるハロゲン原子の例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
溶剤（Ｊ）への溶解性、及び／又は、組成物Ｉの現像性の観点から、式（２）で表される構造の好ましい例は、下記式（２ａ）で表される構造である。
Figure 2023120153000012
［式（２ａ）中、Ｌ’は、硫黄原子又はＮＲ５０を表し、Ｒ５０は、直鎖状、分枝鎖状又は環状の炭素数１～２０のアルキル基を表し、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｓ及びｔは、前記と同じ意味を表す。］
上記と同様の観点から、式（２）で表される構造の他の好ましい例は、下記式（２ｂ）で表される構造である。
Figure 2023120153000013
［式（２ｂ）中、Ｒ４４は、ヒドロキシ基、カルボキシ基又は下記式（２－２）
Figure 2023120153000014
（式（２－２）中、Ｌ１１は、－Ｏ－又は＊－ＯＣＯ－を表し、＊はＬ１２との結合手を表し、Ｌ１２は、炭素数１～２０のアルキレン基を表し、該アルキレン基は、１～３個の－Ｏ－により中断されていてもよく、Ｒ４４ａは、ＯＲ５５又はＣＯＯＲ５５を表し、Ｒ５５は、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表す。）
で表される基を表す。］
Ｒ４４は、好ましくは、式（２－２）で表される基である。この場合、オキシム化合物（１）の溶剤（Ｊ）への溶解性及び組成物Ｉの現像性の点で有利となる。
Ｌ１２で表されるアルキレン基の炭素数は、好ましくは１～１０であり、より好ましくは１～４である。
Ｒ４４ａは、好ましくはヒドロキシ基又はカルボキシ基であり、より好ましくはヒドロキシ基である。
式（２）で表される第２分子構造を有するオキシム化合物（１）の製造方法は、特に限定されないが、例えば、特開２０１１－１３２２１５号公報に記載の方法で製造することができる。
式（１）で表される第１分子構造に連結される第２分子構造の他の一例は、下記式（３）で表される構造である。
式（３）において「＊」で表される結合手は、式（１）において「＊」で表される結合手と直接結合している。すなわち、第２分子構造が式（３）で表される構造である場合、式（３）中の「－＊」を有するベンゼン環と式（１）中の「－＊」を有するカルボニル基とは直接結合している。
Figure 2023120153000015
式（３）中、Ｒ５は、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～３０のアリール基、炭素数７～３０のアリールアルキル基又は炭素数２～２０の複素環基を表す。
Ｒ５で表される基がアルキル部分を有する場合、該アルキル部分は、分枝鎖状であってもよく、環状であってもよい。
Ｒ５で表される基の水素原子は、Ｒ２１、ＯＲ２１、ＣＯＲ２１、ＳＲ２１、ＮＲ２２Ｒ２３、ＣＯＮＲ２２Ｒ２３、－ＮＲ２２－ＯＲ２３、－Ｎ（ＣＯＲ２２）－ＯＣＯＲ２３、ＮＲ２２ＣＯＲ２１、ＯＣＯＲ２１、ＣＯＯＲ２１、－Ｃ（＝Ｎ－ＯＲ２１）－Ｒ２２、－Ｃ（＝Ｎ－ＯＣＯＲ２１）－Ｒ２２、ＳＣＯＲ２１、ＯＣＳＲ２１、ＣＯＳＲ２１、ＣＳＯＲ２１、水酸基、ニトロ基、ＣＮ、ハロゲン原子、又はＣＯＯＲ２１で置換されていてもよい。
Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３は、上記と同じ意味を表す。
Ｒ２１、Ｒ２２又はＲ２３で表される基の水素原子は、ＣＮ、ハロゲン原子、ヒドロキシ基又はカルボキシ基で置換されていてもよい。
Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３で表される基がアルキレン部分を有する場合、該アルキレン部分は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＮＲ２４－、－ＮＲ２４ＣＯ－、－ＮＲ２４ＣＯＯ－、－ＯＣＯＮＲ２４－、－ＳＣＯ－、－ＣＯＳ－、－ＯＣＳ－又は－ＣＳＯ－により１～５回中断されていてもよい。
Ｒ２４は、上記と同じ意味を表す。
Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３で表される基がアルキル部分を有する場合、該アルキル部分は、分枝鎖状であってもよく、環状であってもよく、また、Ｒ２２とＲ２３は一緒になって環を形成していてもよい。
Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立に、Ｒ６１、ＯＲ６１、ＳＲ６１、ＣＯＲ６２、ＣＯＮＲ６３Ｒ６４、ＮＲ６５ＣＯＲ６１、ＯＣＯＲ６１、ＣＯＯＲ６２、ＳＣＯＲ６１、ＯＣＳＲ６１、ＣＯＳＲ６２、ＣＳＯＲ６１、水酸基、ニトロ基、ＣＮ又はハロゲン原子を表す。
Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３、Ｒ６４及びＲ６５は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～３０のアリール基、炭素数７～３０のアリールアルキル基又は炭素数２～２０の複素環基を表す。
Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３、Ｒ６４又はＲ６５で表わされる基の水素原子は、ＯＲ２１、ＣＯＲ２１、ＳＲ２１、ＮＲ２２Ｒａ２３、ＣＯＮＲ２２Ｒ２３、－ＮＲ２２－ＯＲ２３、－Ｎ（ＣＯＲ２２）－ＯＣＯＲ２３、－Ｃ（＝Ｎ－ＯＲ２１）－Ｒ２２、－Ｃ（＝Ｎ－ＯＣＯＲ２１）－Ｒ２２、ＣＮ、ハロゲン原子、又はＣＯＯＲ２１で置換されていてもよい。
Ｒ６とＲ７、Ｒ７とＲ８及びＲ８とＲ９はそれぞれ一緒になって環を形成していてもよい。
＊は、オキシム化合物（１）が有する第１分子構造との結合手を表す。
式（３）中のＲ５、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３、Ｒ６４及びＲ６５で表される炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～３０のアリール基、炭素数７～３０のアラルキル基、炭素数２～２０の複素環基の例は、式（１）中のＲ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４についての例と同様である。
式（３）中のＲ２２とＲ２３は一緒になって環を形成していてもよいとは、Ｒ２２とＲ２３は一緒になって接続する窒素原子、炭素原子又は酸素原子とともに環を形成していてもよいことを意味する。
式（３）中のＲ２２とＲ２３が一緒になって形成し得る環の例は、式（１）中のＲａ１２とＲａ１３及びＲａ２２とＲａ２３が一緒になって形成し得る環についての例と同様である。
式（３）中のＲ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９で表されるハロゲン原子、Ｒ５、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３、Ｒ６４及びＲ６５の水素原子を置換してもよいハロゲン原子の例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
溶剤（Ｊ）への溶解性、及び／又は、組成物Ｉの現像性の観点から、１つの好ましい形態において、Ｒ５は、下記式（３－１）で表される基である。
Figure 2023120153000016
［式（３－１）中、Ｚは、炭素数１～２０のアルキル基から１個の水素原子を除いた基、炭素数６～３０のアリール基から１個の水素原子を除いた基、炭素数７～３０のアラルキル基から１個の水素原子を除いた基又は炭素数２～２０の複素環基から１個の水素原子を除いた基を表し、
Ｚで表される基がアルキレン部分を有する場合、該アルキレン部分は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＮＲ２４－、－ＮＲ２４ＣＯＯ－、－ＯＣＯＮＲ２４－、－ＳＣＯ－、－ＣＯＳ－、－ＯＣＳ－又は－ＣＳＯ－により１～５回中断されていてもよく、該アルキレン部分は分枝鎖状であってもよく、環状であってもよく、
Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２４は、前記と同じ意味を表す。］
式（３－１）中のＺは、上記と同様の観点から、好ましくは、メチレン基、エチレン又はフェニレン基である。
式（３－１）中のＲ２１及びＲ２２は、上記と同様の観点から、好ましくは、炭素数１～２０のアルキル基又は炭素数６～３０のアリール基であり、より好ましくは、メチル基、エチル基又はフェニル基である。
上記と同様の観点から、他の１つの好ましい形態において、Ｒ７は、ニトロ基である。
式（３）で表される第２分子構造を有するオキシム化合物（１）の製造方法は、特に限定されないが、例えば、特開２０００－８００６８号公報及び特開２０１１－１７８７７６号公報に記載の方法で製造することができる。
式（１）で表される第１分子構造に連結される第２分子構造のさらに他の一例は、下記式（４）で表される構造である。
式（４）において「＊」で表される結合手は、式（１）において「＊」で表される結合手と直接結合している。すなわち、第２分子構造が式（４）で表される構造である場合、式（４）中の「－＊」を有するベンゼン環と式（１）中の「－＊」を有するカルボニル基とは直接結合している。
Figure 2023120153000017
式（４）中、Ｒ７１は、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～３０のアリール基、炭素数７～３０のアラルキル基又は炭素数２～２０の複素環基を表す。
Ｒ７１で表される基がアルキル部分を有する場合、該アルキル部分は、分枝鎖状であってもよく、環状であってもよい。
Ｒ７１で表される基の水素原子は、Ｒ２１、ＯＲ２１、ＣＯＲ２１、ＳＲ２１、ＮＲ２２Ｒ２３、ＣＯＮＲ２２Ｒ２３、－ＮＲ２２－ＯＲ２３、－Ｎ（ＣＯＲ２２）－ＯＣＯＲ２３、ＮＲ２２ＣＯＲ２１、ＯＣＯＲ２１、ＣＯＯＲ２１、－Ｃ（＝Ｎ－ＯＲ２１）－Ｒ２２、－Ｃ（＝Ｎ－ＯＣＯＲ２１）－Ｒ２２、ＳＣＯＲ２１、ＯＣＳＲ２１、ＣＯＳＲ２１、ＣＳＯＲ２１、水酸基、ニトロ基、ＣＮ、ハロゲン原子、又はＣＯＯＲ２１で置換されていてもよい。
Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３は、前記と同じ意味を表す。
Ｒ２１、Ｒ２２又はＲ２３で表される基の水素原子は、ＣＮ、ハロゲン原子、ヒドロキシ基又はカルボキシ基で置換されていてもよい。
Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３で表される基がアルキレン部分を有する場合、該アルキレン部分は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＮＲ２４－、－ＮＲ２４ＣＯ－、－ＮＲ２４ＣＯＯ－、－ＯＣＯＮＲ２４－、－ＳＣＯ－、－ＣＯＳ－、－ＯＣＳ－又は－ＣＳＯ－により１～５回中断されていてもよい。
Ｒ２４は、上記と同じ意味を表す。
Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３で表される基がアルキル部分を有する場合、該アルキル部分は、分枝鎖状であってもよく、環状であってもよく、また、Ｒ２２とＲ２３は一緒になって環を形成していてもよい。
Ｒ７２、Ｒ７３及び３個のＲ７４は、それぞれ独立に、Ｒ６１、ＯＲ６１、ＳＲ６１、ＣＯＲ６２、ＣＯＮＲ６３Ｒ６４、ＮＲ６５ＣＯＲ６１、ＯＣＯＲ６１、ＣＯＯＲ６２、ＳＣＯＲ６１、ＯＣＳＲ６１、ＣＯＳＲ６２、ＣＳＯＲ６１、水酸基、ニトロ基、ＣＮ又はハロゲン原子を表す。
Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３、Ｒ６４及びＲ６５は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～３０のアリール基、炭素数７～３０のアリールアルキル基又は炭素数２～２０の複素環基を表す。
Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３、Ｒ６４又はＲ６５で表わされる基の水素原子は、ＯＲ２１、ＣＯＲ２１、ＳＲ２１、ＮＲ２２Ｒａ２３、ＣＯＮＲ２２Ｒ２３、－ＮＲ２２－ＯＲ２３、－Ｎ（ＣＯＲ２２）－ＯＣＯＲ２３、－Ｃ（＝Ｎ－ＯＲ２１）－Ｒ２２、－Ｃ（＝Ｎ－ＯＣＯＲ２１）－Ｒ２２、ＣＮ、ハロゲン原子、又はＣＯＯＲ２１で置換されていてもよい。
Ｒ７２とＲ７３及び２個のＲ７４はそれぞれ一緒になって環を形成していてもよい。
＊は、オキシム化合物（１）が有する第１分子構造との結合手を表す。
式（４）中のＲ７１、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３、Ｒ６４及びＲ６５で表される炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～３０のアリール基、炭素数７～３０のアラルキル基、炭素数２～２０の複素環基の例は、式（１）中のＲ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４についての例と同様である。
式（４）中のＲ２２とＲ２３は一緒になって環を形成していてもよいとは、Ｒ２２とＲ２３は一緒になって接続する窒素原子、炭素原子又は酸素原子とともに環を形成していてもよいことを意味する。
式（４）中のＲ２２とＲ２３が一緒になって形成し得る環の例は、式（１）中のＲａ１２とＲａ１３及びＲａ２２とＲａ２３が一緒になって形成し得る環についての例と同様である。
式（４）中のＲ７２、Ｒ７３及びＲ７４で表されるハロゲン原子、Ｒ７１、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３、Ｒ６４及びＲ６５の水素原子を置換してもよいハロゲン原子の例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
式（４）で表される第２分子構造を有するオキシム化合物（１）の製造方法は、特に限定されないが、例えば、国際公開第２０１７／０５１６８０号及び国際公開第２０２０／００４６０１号に記載の方法で製造することができる。
式（１）で表される第１分子構造に連結される第２分子構造のさらに他の一例は、下記式（５）で表される構造である。
式（５）において「＊」で表される結合手は、式（１）において「＊」で表される結合手と直接結合している。すなわち、第２分子構造が式（５）で表される構造である場合、式（５）中の「－＊」を有するピロール環と式（１）中の「－＊」を有するカルボニル基とは直接結合している。
Figure 2023120153000018
式（５）中、Ｒ８１は、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～３０のアリール基、炭素数７～３０のアラルキル基又は炭素数２～２０の複素環基を表す。
Ｒ８１で表される基がアルキル部分を有する場合、該アルキル部分は、分枝鎖状であってもよく、環状であってもよい。
Ｒ８１で表される基の水素原子は、Ｒ２１、ＯＲ２１、ＣＯＲ２１、ＳＲ２１、ＮＲ２２Ｒ２３、ＣＯＮＲ２２Ｒ２３、－ＮＲ２２－ＯＲ２３、－Ｎ（ＣＯＲ２２）－ＯＣＯＲ２３、ＮＲ２２ＣＯＲ２１、ＯＣＯＲ２１、ＣＯＯＲ２１、－Ｃ（＝Ｎ－ＯＲ２１）－Ｒ２２、－Ｃ（＝Ｎ－ＯＣＯＲ２１）－Ｒ２２、ＳＣＯＲ２１、ＯＣＳＲ２１、ＣＯＳＲ２１、ＣＳＯＲ２１、水酸基、ニトロ基、ＣＮ、ハロゲン原子、又はＣＯＯＲ２１で置換されていてもよい。
Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３は、上記と同じ意味を表す。
Ｒ２１、Ｒ２２又はＲ２３で表される基の水素原子は、ＣＮ、ハロゲン原子、ヒドロキシ基又はカルボキシ基で置換されていてもよい。
Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３で表される基がアルキレン部分を有する場合、該アルキレン部分は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＮＲ２４－、－ＮＲ２４ＣＯ－、－ＮＲ２４ＣＯＯ－、－ＯＣＯＮＲ２４－、－ＳＣＯ－、－ＣＯＳ－、－ＯＣＳ－又は－ＣＳＯ－により１～５回中断されていてもよい。
Ｒ２４は、上記と同じ意味を表す。
Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３で表される基がアルキル部分を有する場合、該アルキル部分は、分枝鎖状であってもよく、環状であってもよく、また、Ｒ２２とＲ２３は一緒になって環を形成していてもよい。
Ｒ８２、Ｒ８３、Ｒ８４、Ｒ８５及びＲ８６は、それぞれ独立に、Ｒ６１、ＯＲ６１、ＳＲ６１、ＣＯＲ６２、ＣＯＮＲ６３Ｒ６４、ＮＲ６５ＣＯＲ６１、ＯＣＯＲ６１、ＣＯＯＲ６２、ＳＣＯＲ６１、ＯＣＳＲ６１、ＣＯＳＲ６２、ＣＳＯＲ６１、水酸基、ニトロ基、ＣＮ又はハロゲン原子を表す。
Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３、Ｒ６４及びＲ６５は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～３０のアリール基、炭素数７～３０のアリールアルキル基又は炭素数２～２０の複素環基を表す。
Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３、Ｒ６４又はＲ６５で表わされる基の水素原子は、ＯＲ２１、ＣＯＲ２１、ＳＲ２１、ＮＲ２２Ｒａ２３、ＣＯＮＲ２２Ｒ２３、－ＮＲ２２－ＯＲ２３、－Ｎ（ＣＯＲ２２）－ＯＣＯＲ２３、－Ｃ（＝Ｎ－ＯＲ２１）－Ｒ２２、－Ｃ（＝Ｎ－ＯＣＯＲ２１）－Ｒ２２、ＣＮ、ハロゲン原子、又はＣＯＯＲ２１で置換されていてもよい。
Ｒ８３とＲ８４、Ｒ８４とＲ８５及びＲ８５とＲ８６はそれぞれ一緒になって環を形成していてもよい。
＊は、オキシム化合物（１）が有する第１分子構造との結合手を表す。
式（５）中のＲ８１、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３、Ｒ６４及びＲ６５で表される炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～３０のアリール基、炭素数７～３０のアラルキル基、炭素数２～２０の複素環基の例は、式（１）中のＲ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４についての例と同様である。
式（５）中のＲ２２とＲ２３は一緒になって環を形成していてもよいとは、Ｒ２２とＲ２３は一緒になって接続する窒素原子、炭素原子又は酸素原子とともに環を形成していてもよいことを意味する。
式（５）中のＲ２２とＲ２３が一緒になって形成し得る環の例は、式（１）中のＲａ１２とＲａ１３及びＲａ２２とＲａ２３が一緒になって形成し得る環についての例と同様である。
式（５）中のＲ８２、Ｒ８３、Ｒ８４、Ｒ８５及びＲ８６で表されるハロゲン原子、Ｒ８１、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３、Ｒ６４及びＲ６５の水素原子を置換してもよいハロゲン原子の例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
式（５）で表される第２分子構造を有するオキシム化合物（１）の製造方法は、特に限定されないが、例えば、国際公開第２０１７／０５１６８０号及び国際公開第２０２０／００４６０１号に記載の方法で製造することができる。
式（１）で表される第１分子構造に連結される第２分子構造のさらに他の一例は、下記式（６）で表される構造である。
式（６）において「＊」で表される結合手は、式（１）において「＊」で表される結合手と直接結合している。すなわち、第２分子構造が式（６）で表される構造である場合、式（６）中の「－＊」を有するベンゼン環と式（１）中の「－＊」を有するカルボニル基とは直接結合している。
Figure 2023120153000019
式（６）中、４個のＲ９１、Ｒ９２、Ｒ９３、Ｒ９４、Ｒ９５、Ｒ９６及びＲ９７は、それぞれ独立に、Ｒ６１、ＯＲ６１、ＳＲ６１、ＣＯＲ６２、ＣＯＮＲ６３Ｒ６４、ＮＲ６５ＣＯＲ６１、ＯＣＯＲ６１、ＣＯＯＲ６２、ＳＣＯＲ６１、ＯＣＳＲ６１、ＣＯＳＲ６２、ＣＳＯＲ６１、水酸基、ニトロ基、ＣＮ又はハロゲン原子を表す。
Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３、Ｒ６４及びＲ６５は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～３０のアリール基、炭素数７～３０のアリールアルキル基又は炭素数２～２０の複素環基を表す。
Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３、Ｒ６４又はＲ６５で表わされる基の水素原子は、ＯＲ２１、ＣＯＲ２１、ＳＲ２１、ＮＲ２２Ｒａ２３、ＣＯＮＲ２２Ｒ２３、－ＮＲ２２－ＯＲ２３、－Ｎ（ＣＯＲ２２）－ＯＣＯＲ２３、－Ｃ（＝Ｎ－ＯＲ２１）－Ｒ２２、－Ｃ（＝Ｎ－ＯＣＯＲ２１）－Ｒ２２、ＣＮ、ハロゲン原子、又はＣＯＯＲ２１で置換されていてもよい。
Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３は、上記と同じ意味を表す。
Ｒ９２とＲ９３、Ｒ９４とＲ９５、Ｒ９５とＲ９６及びＲ９６とＲ９７はそれぞれ一緒になって環を形成していてもよい。
＊は、オキシム化合物（１）が有する第１分子構造との結合手を表す。
式（６）中のＲ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３、Ｒ６４及びＲ６５で表される炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～３０のアリール基、炭素数７～３０のアラルキル基、炭素数２～２０の複素環基の例は、式（１）中のＲ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３についての例と同様である。
式（６）中のＲ２２とＲ２３は一緒になって環を形成していてもよいとは、Ｒ２２とＲ２３は一緒になって接続する窒素原子、炭素原子又は酸素原子とともに環を形成していてもよいことを意味する。
式（６）中のＲ２２とＲ２３が一緒になって形成し得る環の例は、式（１）中のＲａ１２とＲａ１３及びＲａ２２とＲａ２３が一緒になって形成し得る環についての例と同様である。
式（６）中のＲ９１、Ｒ９２、Ｒ９３、Ｒ９４、Ｒ９５、Ｒ９６及びＲ９７で表されるハロゲン原子、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３、Ｒ６４及びＲ６５の水素原子を置換してもよいハロゲン原子の例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
式（６）で表される第２分子構造を有するオキシム化合物（１）の製造方法は、特に限定されないが、例えば、国際公開第２０１７／０５１６８０号及び国際公開第２０２０／００４６０１号に記載の方法で製造することができる。
光重合開始剤の他の例は、オキシム化合物（１）以外の他の光重合開始剤である。他の光重合開始剤としては、オキシム化合物（１）以外のオキシム化合物、ビイミダゾール化合物、トリアジン化合物及びアシルホスフィン化合物が挙げられる。
オキシム化合物（１）以外のオキシム化合物としては、下記式（ｄ１）で表される部分構造を有するオキシム化合物が挙げられる。＊は結合手を表す。
Figure 2023120153000020
式（ｄ１）で表される部分構造を有するオキシム化合物としては、例えば、Ｎ－ベンゾイルオキシ－１－（４－フェニルスルファニルフェニル）ブタン－１－オン－２－イミン、Ｎ－ベンゾイルオキシ－１－（４－フェニルスルファニルフェニル）オクタン－１－オン－２－イミン、Ｎ－ベンゾイルオキシ－１－（４－フェニルスルファニルフェニル）－３－シクロペンチルプロパン－１－オン－２－イミン、Ｎ－アセトキシ－１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］エタン－１－イミン、Ｎ－アセトキシ－１－［９－エチル－６－｛２－メチル－４－（３，３－ジメチル－２，４－ジオキサシクロペンタニルメチルオキシ）ベンゾイル｝－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］エタン－１－イミン、Ｎ－アセトキシ－１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－３－シクロペンチルプロパン－１－イミン、Ｎ－ベンゾイルオキシ－１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－３－シクロペンチルプロパン－１－オン－２－イミン；特開２０１１－１３２２１５号公報、国際公開２００８／７８６７８号、国際公開２００８／７８６８６号、国際公開２０１２／１３２５５８号記載の化合物等が挙げられる。イルガキュアＯＸＥ０１、ＯＸＥ０２（以上、ＢＡＳＦ社製）、Ｎ－１９１９（ＡＤＥＫＡ社製）等の市販品を用いてもよい。
中でも、式（ｄ１）で表される部分構造を有するオキシム化合物は、Ｎ－ベンゾイルオキシ－１－（４－フェニルスルファニルフェニル）ブタン－１－オン－２－イミン、Ｎ－ベンゾイルオキシ－１－（４－フェニルスルファニルフェニル）オクタン－１－オン－２－イミン及びＮ－ベンゾイルオキシ－１－（４－フェニルスルファニルフェニル）－３－シクロペンチルプロパン－１－オン－２－イミンからなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましく、Ｎ－ベンゾイルオキシ－１－（４－フェニルスルファニルフェニル）オクタン－１－オン－２－イミンがより好ましい。
ビイミダゾール化合物としては、例えば、式（ｄ５）で表される化合物が挙げられる。
Figure 2023120153000021
［式（ｄ５）中、ＲＥ～ＲＪは、置換基を有していてもよい炭素数６～１０のアリール基を表す。］
炭素数６～１０のアリール基としては、例えば、フェニル基、トルイル基、キシリル基、エチルフェニル基及びナフチル基等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
置換基としては、例えば、ハロゲン原子、炭素数１～４のアルコキシ基等が挙げられる。ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、好ましくは塩素原子である。炭素数１～４のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等挙げられ、好ましくはメトキシ基である。
ビイミダゾール化合物としては、例えば、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール、２，２’－ビス（２，３－ジクロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール（例えば、特開平０６－７５３７２号公報、特開平０６－７５３７３号公報等参照。）、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラ（アルコキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラ（ジアルコキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラ（トリアルコキシフェニル）ビイミダゾール（例えば、特公昭４８－３８４０３号公報、特開昭６２－１７４２０４号公報等参照。）、４，４’５，５’－位のフェニル基がカルボアルコキシ基により置換されているイミダゾール化合物（例えば、特開平７－１０９１３号公報等参照。）等が挙げられる。中でも、下記式で表される化合物又はこれらの混合物が好ましい。
Figure 2023120153000022
トリアジン化合物としては、例えば、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシナフチル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－ピペロニル－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシスチリル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（５－メチルフラン－２－イル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（フラン－２－イル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（４－ジエルアミノ－２－メチルフェニル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（３，４－ジメトキシフェニル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン等が挙げられる。中でも、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－ピペロニル－１，３，５－トリアジンが好ましい。
アシルホスフィン化合物としては、例えば、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、（２，４，６－トリメチルベンゾイル）ジフェニルホスフィンオキサイド等が挙げられる。
オキシム化合物（１）以外の他の光重合開始剤の別の例としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン化合物；ベンゾフェノン、ｏ－ベンゾイル安息香酸メチル、４－フェニルベンゾフェノン、４－ベンゾイル－４’－メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’－テトラ（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６－トリメチルベンゾフェノン、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物；９，１０－フェナンスレンキノン、２－エチルアントラキノン、カンファーキノン等のキノン化合物；１０－ブチル－２－クロロアクリドン、ベンジル、フェニルグリオキシル酸メチル、チタノセン化合物等が挙げられる。
組成物Ｉにおける重合開始剤（Ｅ）の含有量は、重合性化合物（Ｄ）１００質量部に対して、好ましくは０．１質量部以上３００質量部以下、より好ましくは０．１質量部以上２００質量部以下である。また、組成物Ｉにおける重合開始剤（Ｅ）の含有量は、樹脂（Ｃ）及び重合性化合物（Ｄ）の合計量１００質量部に対して、好ましくは０．１質量部以上３０質量部以下、より好ましくは０．５質量部以上２０質量部以下である。重合開始剤（Ｅ）の含有量が上記範囲内にあると、組成物Ｉが高感度化して露光時間が短縮される傾向があるため、波長変換層の生産性が向上する傾向にある。
重合開始剤（Ｅ）におけるオキシム化合物（１）の含有率は、波長変換層の発光強度を向上させる観点から、重合開始剤（Ｅ）の総量に対して、好ましくは３０質量％以上１００質量％以下、より好ましくは５０質量％以上１００質量％以下、さらに好ましくは８０質量％以上１００質量％以下、なおさらに好ましくは９０質量％以上１００質量％以下、特に好ましくは９５質量％以上１００質量％以下、最も好ましくは１００質量％である。
（１－７）重合開始助剤（Ｅ１）
組成物Ｉは、重合開始剤（Ｅ）とともに重合開始助剤（Ｅ１）をさらに含むことができる。重合開始助剤（Ｅ１）は、重合開始剤（Ｅ）によって開始された重合性化合物（Ｄ）の重合を促進するために用いられる化合物、もしくは増感剤である。重合開始助剤（Ｅ１）としては、アミン化合物、アルコキシアントラセン化合物、チオキサントン化合物及びカルボン酸化合物等の光重合開始助剤、並びに熱重合開始助剤が挙げられる。組成物Ｉは、重合開始助剤（Ｅ１）を２種以上含んでいてもよい。
アミン化合物としては、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、４－ジメチルアミノ安息香酸メチル、４－ジメチルアミノ安息香酸エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸２－ジメチルアミノエチル、４－ジメチルアミノ安息香酸２－エチルヘキシル、Ｎ，Ｎ－ジメチルパラトルイジン、４，４’－ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン（通称ミヒラーズケトン）、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’－ビス（エチルメチルアミノ）ベンゾフェノン等が挙げられる。
アルコキシアントラセン化合物としては、例えば、９，１０－ジメトキシアントラセン、２－エチル－９，１０－ジメトキシアントラセン、９，１０－ジエトキシアントラセン、２－エチル－９，１０－ジエトキシアントラセン、９，１０－ジブトキシアントラセン、２－エチル－９，１０－ジブトキシアントラセン等が挙げられる。
チオキサントン化合物としては、例えば、２－イソプロピルチオキサントン、４－イソプロピルチオキサントン、２，４－ジエチルチオキサントン、２，４－ジクロロチオキサントン、１－クロロ－４－プロポキシチオキサントン等が挙げられる。
カルボン酸化合物としては、例えば、フェニルスルファニル酢酸、メチルフェニルスルファニル酢酸、エチルフェニルスルファニル酢酸、メチルエチルフェニルスルファニル酢酸、ジメチルフェニルスルファニル酢酸、メトキシフェニルスルファニル酢酸、ジメトキシフェニルスルファニル酢酸、クロロフェニルスルファニル酢酸、ジクロロフェニルスルファニル酢酸、Ｎ－フェニルグリシン、フェノキシ酢酸、ナフチルチオ酢酸、Ｎ－ナフチルグリシン、ナフトキシ酢酸等が挙げられる。
組成物Ｉが重合開始助剤（Ｅ１）を含む場合、組成物Ｉにおける重合開始助剤（Ｅ１）の含有量は、重合性化合物（Ｄ）１００質量部に対して、好ましくは０．１質量部以上３００質量部以下、より好ましくは０．１質量部以上２００質量部以下である。また、組成物Ｉにおける重合開始助剤（Ｅ１）の含有量は、樹脂（Ｃ）及び重合性化合物（Ｄ）の合計量１００質量部に対して、好ましくは０．１質量部以上３０質量部以下、より好ましくは１質量部以上２０質量部以下である。重合開始助剤（Ｅ１）の含有量が上記範囲内にあると、組成物Ｉのさらなる高感度化を図ることができる。
（１－８）酸化防止剤（Ｆ）
組成物Ｉは、酸化防止剤（Ｆ）をさらに含むことができる。酸化防止剤（Ｆ）としては、工業的に一般に使用される酸化防止剤であれば特に限定はなく、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、リン／フェノール複合型酸化防止剤及び硫黄系酸化防止剤等を用いることができる。組成物Ｉは、酸化防止剤（Ｆ）を２種以上含んでいてもよい。
リン／フェノール複合型酸化防止剤は、例えば、分子中にリン原子とフェノール構造とをそれぞれ１以上有する化合物である。中でも、組成物Ｉの現像性及び波長変換層の発光強度の観点から、酸化防止剤（Ｆ）は、リン／フェノール複合型酸化防止剤を含むことが好ましい。
フェノール系酸化防止剤としては、例えば、イルガノックス（登録商標）１０１０（Ｉｒｇａｎｏｘ １０１０：ペンタエリスリトールテトラキス［３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ＢＡＳＦ（株）製）、同１０７６（Ｉｒｇａｎｏｘ １０７６：オクタデシル－３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ＢＡＳＦ（株）製）、同１３３０（Ｉｒｇａｎｏｘ １３３０：３，３’，３’’，５，５’，５’’－ヘキサ－ｔｅｒｔ－ブチル－ａ，ａ’，ａ’’－（メシチレン－２，４，６－トリイル）トリ－ｐ－クレゾール、ＢＡＳＦ（株）製）、同３１１４（Ｉｒｇａｎｏｘ ３１１４：１，３，５－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオン、ＢＡＳＦ（株）製）、同３７９０（Ｉｒｇａｎｏｘ ３７９０：１，３，５－トリス（（４－ｔｅｒｔ－ブチル－３－ヒドロキシ－２，６－キシリル）メチル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオン、ＢＡＳＦ（株）製）、同１０３５（Ｉｒｇａｎｏｘ １０３５：チオジエチレンビス［３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ＢＡＳＦ（株）製）、同１１３５（Ｉｒｇａｎｏｘ １１３５：ベンゼンプロパン酸の３，５－ビス（１，１－ジメチルエチル）－４－ヒドロキシ－Ｃ７－Ｃ９側鎖アルキルエステル、ＢＡＳＦ（株）製）、同１５２０Ｌ（Ｉｒｇａｎｏｘ １５２０Ｌ：４，６－ビス（オクチルチオメチル）－ｏ－クレゾール、ＢＡＳＦ（株）製）、同３１２５（Ｉｒｇａｎｏｘ ３１２５、ＢＡＳＦ（株）製）、同５６５（Ｉｒｇａｎｏｘ ５６５：２，４－ビス（ｎ－オクチルチオ）－６－（４－ヒドロキシ－３’、５’－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルアニリノ）－１，３，５－トリアジン、ＢＡＳＦ（株）製）、アデカスタブ（登録商標）ＡＯ－８０（アデカスタブ ＡＯ－８０：３，９－ビス（２－（３－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオニルオキシ）－１，１－ジメチルエチル）－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ（５，５）ウンデカン、（株）ＡＤＥＫＡ製）、スミライザー（登録商標）ＢＨＴ、同ＧＡ－８０、同ＧＳ（以上、住友化学（株）製）、サイアノックス（登録商標）１７９０（Ｃｙａｎｏｘ １７９０、（株）サイテック製）、ビタミンＥ（エーザイ（株）製）等が挙げられる。
リン系酸化防止剤としては、例えば、イルガフォス（登録商標）１６８（Ｉｒｇａｆｏｓ １６８：トリス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）フォスファイト、ＢＡＳＦ（株）製）、同１２（Ｉｒｇａｆｏｓ １２：トリス［２－［［２，４，８，１０－テトラ－ｔｅｒｔ－ブチルジベンゾ［ｄ、ｆ］［１，３，２］ジオキサフォスフィン－６－イル］オキシ］エチル］アミン、ＢＡＳＦ（株）製）、同３８（Ｉｒｇａｆｏｓ ３８：ビス（２，４－ビス（１，１－ジメチルエチル）－６－メチルフェニル）エチルエステル亜りん酸、ＢＡＳＦ（株）製）、アデカスタブ（登録商標）３２９Ｋ、同ＰＥＰ３６、同ＰＥＰ－８（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、Ｓａｎｄｓｔａｂ Ｐ－ＥＰＱ（クラリアント社製）、Ｗｅｓｔｏｎ（登録商標）６１８、同６１９Ｇ（以上、ＧＥ社製）、Ｕｌｔｒａｎｏｘ６２６（ＧＥ社製）等が挙げられる。
リン／フェノール複合型酸化防止剤としては、例えば、スミライザー（登録商標）ＧＰ（６－［３－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロポキシ］－２，４，８，１０－テトラ－ｔｅｒｔ－ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１．３．２］ジオキサホスフェピン）（住友化学（株）製）等が挙げられる。
硫黄系酸化防止剤としては、例えば、チオジプロピオン酸ジラウリル、ジミリスチル又はジステアリール等のジアルキルチオジプロピオネート化合物及びテトラキス［メチレン（３－ドデシルチオ）プロピオネート］メタン等のポリオールのβ－アルキルメルカプトプロピオン酸エステル化合物等が挙げられる。
組成物Ｉにおける酸化防止剤（Ｆ）の含有量は、樹脂（Ｃ）１００質量部に対して、例えば１質量部以上５０質量部以下であり、波長変換層の発光強度及び耐熱性の観点から、好ましくは５質量部以上４０質量部以下、より好ましくは７質量部以上３０質量部以下である。
（１－９）レベリング剤（Ｈ）
組成物Ｉは、レベリング剤（Ｈ）をさらに含むことができる。レベリング剤（Ｈ）としては、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤及びフッ素原子を有するシリコーン系界面活性剤等が挙げられる。これらは、側鎖に重合性基を有していてもよい。レベリング剤（Ｈ）は、組成物Ｉの現像性及び波長変換層の発光強度の観点から、好ましくはフッ素系界面活性剤である。組成物Ｉは、レベリング剤（Ｈ）を２種以上含んでいてもよい。
シリコーン系界面活性剤としては、分子内にシロキサン結合を有する界面活性剤等が挙げられる。具体的には、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、同ＳＨ７ＰＡ、同ＤＣ１１ＰＡ、同ＳＨ２１ＰＡ、同ＳＨ２８ＰＡ、同ＳＨ２９ＰＡ、同ＳＨ３０ＰＡ、同ＳＨ８４００（商品名：東レ・ダウコーニング（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２２、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ４４４６、ＴＳＦ４４５２及びＴＳＦ４４６０（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製）等が挙げられる。
フッ素系界面活性剤としては、分子内にフルオロカーボン鎖を有する界面活性剤等が挙げられる。具体的には、フロラード（登録商標）ＦＣ４３０、同ＦＣ４３１（住友スリーエム（株）製）、メガファック（登録商標）Ｆ１４２Ｄ、同Ｆ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７７、同Ｆ１８３、同Ｆ５５４、同Ｆ５７５、同Ｒ３０、同ＲＳ－７１８－Ｋ（ＤＩＣ（株）製）、エフトップ（登録商標）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（三菱マテリアル電子化成（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ３８１、同Ｓ３８２、同ＳＣ１０１、同ＳＣ１０５（旭硝子（株）製）及びＥ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）等が挙げられる。
フッ素原子を有するシリコーン系界面活性剤としては、分子内にシロキサン結合及びフルオロカーボン鎖を有する界面活性剤等が挙げられる。具体的には、メガファック（登録商標）Ｒ０８、同ＢＬ２０、同Ｆ４７５、同Ｆ４７７及び同Ｆ４４３（ＤＩＣ（株）製）等が挙げられる。
組成物Ｉがレベリング剤（Ｈ）を含む場合、組成物Ｉにおけるレベリング剤（Ｈ）の含有率は、組成物Ｉの総量に対して、例えば０．００１質量％以上１．０質量％以下、好ましくは０．００５質量％以上０．７５質量％以下、より好ましくは０．０１質量％以上０．５質量％以下、さらに好ましくは０．０２質量％以上０．５質量％以下である。レベリング剤（Ｈ）の含有率が上記範囲内にあると、波長変換層の平坦性をより良好にすることができる。
（１－１０）溶剤（Ｊ）
組成物Ｉは、１種又は２種以上の溶剤（Ｊ）を含むことができる。溶剤（Ｊ）は、好ましくは、樹脂（Ｃ）、重合性化合物（Ｄ）及び重合開始剤（Ｅ）を溶解するものである。溶剤（Ｊ）としては、例えば、エステル溶剤（分子内に－ＣＯＯ－を含み、－Ｏ－を含まない溶剤）、エーテル溶剤（分子内に－Ｏ－を含み、－ＣＯＯ－を含まない溶剤）、エーテルエステル溶剤（分子内に－ＣＯＯ－と－Ｏ－とを含む溶剤）、ケトン溶剤（分子内に－ＣＯ－を含み、－ＣＯＯ－を含まない溶剤）、アルコール溶剤（分子内にＯＨを含み、－Ｏ－、－ＣＯ－及びＣＯＯ－を含まない溶剤）、芳香族炭化水素溶剤、アミド溶剤、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
エステル溶剤としては、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ｎ－ブチル、２－ヒドロキシイソブタン酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸ｎ－ペンチル、酢酸イソペンチル、プロピオン酸ｎ－ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ｎ－ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、シクロヘキサノールアセテート及びγ－ブチロラクトン等が挙げられる。
エーテル溶剤としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、３－メトキシ－１－ブタノール、３－メトキシ－３－メチルブタノール、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，４－ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、アニソール、フェネトール及びメチルアニソール等が挙げられる。
エーテルエステル溶剤としては、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、２－メトキシプロピオン酸メチル、２－メトキシプロピオン酸エチル、２－メトキシプロピオン酸プロピル、２－エトキシプロピオン酸メチル、２－エトキシプロピオン酸エチル、２－メトキシ－２－メチルプロピオン酸メチル、２－エトキシ－２－メチルプロピオン酸エチル、３－メトキシブチルアセテート、３－メチル－３－メトキシブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート及びジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等が挙げられる。
ケトン溶剤としては、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン、アセトン、２－ブタノン、２－ヘプタノン、３－ヘプタノン、４－ヘプタノン、４－メチル－２－ペンタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン及びイソホロン等が挙げられる。
アルコール溶剤としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール及びグリセリン等が挙げられる。
芳香族炭化水素溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン及びメシチレン等が挙げられる。
アミド溶剤としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド及びＮ－メチルピロリドン等が挙げられる。
溶剤（Ｊ）は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングコールモノエチルエーテル、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン、及び芳香族炭化水素溶剤からなる群より選択される１種又は２種以上を含むことが好ましい。
溶剤（Ｊ）としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングコールモノエチルエーテル、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン若しくはトルエン、又はこれらのうちの２種以上の混合物が好ましい。
溶剤（Ｊ）は、固形分以外の成分であり、例えば半導体粒子（Ａ）の分散液や樹脂（Ｃ）の溶液等に含まれる溶剤も溶剤（Ｊ）に包含される。
組成物Ｉにおける溶剤（Ｊ）の含有率は、組成物Ｉの総量に対する該組成物に含まれる全溶剤の合計質量の割合であり、組成物Ｉの総量に対して、例えば４０質量％以上９５質量％以下であり、好ましくは５５質量％以上９０質量％以下である。言い換えると、組成物Ｉの固形分は、例えば５質量％以上６０質量％以下であり、好ましくは１０質量％以上４５質量％以下である。溶剤（Ｊ）の含有率が上記範囲内にあると、塗布時の組成物層の平坦性がより良好になり、また適切な厚みの波長変換層を形成しやすい傾向にある。
（１－１１）その他の成分
組成物Ｉは必要に応じて、重合禁止剤、充填剤、他の高分子化合物、密着促進剤、光安定剤、連鎖移動剤等、当該技術分野で公知の添加剤をさらに含んでいてもよい。
（１－１２）組成物Ｉの製造方法
組成物Ｉは、所定の成分、並びに必要に応じて使用される他の成分を混合する工程を含む方法によって製造することができる。組成物Ｉの製造方法は、樹脂（Ｃ）を調製する工程をさらに含むことができる。
（２）波長変換層及びその製造方法
波長変換層は、組成物Ｉから形成される。波長変換層は、例えば、
組成物Ｉを基材に塗布した後に乾燥させる工程を含む方法ａ、又は
組成物Ｉを支持体に塗布した後に乾燥させる工程を含む方法によって波長変換層を製造した後、この波長変換層を支持体から剥離し、接着剤層を介して基材に貼合する方法ｂ
等によって、基材上に設けることができる。
一実施形態において、組成物Ｉは、樹脂（Ｃ）をさらに含む樹脂組成物Ｒ１である。樹脂組成物Ｒ１から形成される波長変換層（樹脂膜）は、組成物Ｉを基材又は支持体に塗布した後に乾燥させることにより形成することができる。
他の実施形態において、組成物Ｉは、重合性化合物（Ｄ）と重合開始剤（Ｅ）とをさらに含む硬化性組成物Ｒ２である。硬化性組成物Ｒ２は、樹脂（Ｃ）をさらに含んでいてもよい。硬化性組成物Ｒ２から形成される波長変換層は、硬化膜である。該硬化膜は、硬化性組成物Ｒ２を基材又は支持体に塗布した後に乾燥させ、光の作用及び／又は熱の作用で硬化させることにより得ることができる。
硬化性組成物Ｒ２の一態様は、光重合性化合物及び光重合開始剤を含む光硬化性組成物Ｒ３である。光硬化性組成物Ｒ３は、樹脂（Ｃ）をさらに含んでいてもよい。
波長変換層は、基材全面に設けられてもよいし、基材の一部にパターン状に設けられてもよい。基材上に波長変換層をパターン状に形成する方法としては、フォトリソグラフ法、インクジェット法、印刷法等が挙げられる。印刷法としては、ステンシル印刷法、スクリーン印刷法、アプリケーターによる印刷塗工等が挙げられる。
基材としては、石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミナケイ酸塩ガラス、表面をシリカコートしたソーダライムガラス等のガラス板；ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリエチレンテレフタレート等の樹脂板；シリコン；これらの基材上にアルミニウム、銀、銀／銅／パラジウム合金薄膜等を形成したもの；表示装置に含まれる又は含まれ得る部材等が挙げられる。表示装置に含まれる又は含まれ得る部材としては、例えば、一次光源（例えば青色光源）、導光板、拡散フィルム（拡散層）、光反射部材（反射フィルム等）、輝度強化部材、プリズムシート、バリア層、保護層（オーバーコート層）等が挙げられる。
樹脂組成物Ｒ１から形成されるパターン状の樹脂膜（波長変換層）は、例えば、以下のようにして基材上に形成することができる。まず、樹脂組成物Ｒ１をマスクを介して基材上に塗布して、パターン状の組成物層を形成する。樹脂組成物の塗布方法としては、スピンコート法、スリットコート法、スリット アンド スピンコート法等が挙げられる。
次に、組成物層を乾燥させる（溶剤等の揮発成分を除去する）ことにより樹脂膜（波長変換層）を得る。乾燥方法としては、加熱乾燥、減圧乾燥又はこれらの組み合わせが挙げられる。加熱乾燥を行う場合の温度は、好ましくは３０℃以上２５０℃以下、より好ましくは５０℃以上２３５℃以下である。加熱時間は、好ましくは１０秒間以上１８０分間以下、より好ましくは３０秒間以上９０分間以下である。減圧乾燥を行う場合は、５０Ｐａ以上１５０Ｐａ以下の圧力下で行うことが好ましい。組成物層の乾燥は、例えば乾燥温度の異なる複数の乾燥工程を実施するなど、複数段で実施してもよい。
光硬化性組成物Ｒ３から形成されるパターン状の硬化膜（波長変換層）は、フォトリソグラフ法を用いる方法を例に挙げると、例えば、以下のようにして基材上に形成することができる。まず、光硬化性組成物Ｒ３を基材上に塗布し、加熱乾燥（プリベーク）及び／又は減圧乾燥することにより溶剤等の揮発成分を除去して、組成物層を得る。塗布方法としては、上記と同様の方法が挙げられる。
加熱乾燥を行う場合の温度は、３０℃以上１２０℃以下が好ましく、５０℃以上１１０℃以下がより好ましい。加熱時間は、１０秒間以上６０分間以下であることが好ましく、３０秒間以上３０分間以下であることがより好ましい。減圧乾燥を行う場合は、５０Ｐａ以上１５０Ｐａ以下の圧力下、２０℃以上２５℃以下の温度範囲で行うことが好ましい。
次に、組成物層は、目的のパターン形状を形成するためのフォトマスクを介して露光される。露光に用いられる光源としては、２５０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の波長の光を発生する光源が好ましい。例えば、該波長の光から、光重合開始剤の吸収波長に応じて、４３６ｎｍ付近、４０８ｎｍ付近、又は３６５ｎｍ付近の光をバンドパスフィルタにより選択的に取り出してもよい。光源として具体的には、水銀灯、発光ダイオード、メタルハライドランプ、ハロゲンランプ等が挙げられる。
露光面全体に均一に平行光線を照射することができたり、フォトマスクと組成物層が形成された基材との正確な位置合わせを行うことができたりするため、マスクアライナ及びステッパ等の露光装置を使用することが好ましい。露光された組成物層は、該組成物層に含まれる光重合性化合物等が重合することにより硬化する。
露光後の組成物層を現像液に接触させて現像することにより、組成物層の未露光部が現像液に溶解して除去されて、パターン状の硬化膜（波長変換層）が得られる。現像液としては、例えば、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム等のアルカリ性化合物の水溶液や有機溶剤が挙げられる。アルカリ性化合物の水溶液中の濃度は、好ましくは０．０１質量％以上１０質量％以下であり、より好ましくは０．０３質量％以上５質量％以下である。有機溶剤としては、上述の溶剤（Ｊ）と同様のものが挙げられる。現像液は、界面活性剤を含んでいてもよい。
現像方法は、パドル法、ディッピング法及びスプレー法等のいずれでもよい。さらに現像時に基材を任意の角度に傾けてもよい。
現像により得られたパターン状の膜に対して、さらに加熱（ポストベーク）を行うことが好ましい。加熱温度は、１５０℃以上２５０℃以下が好ましく、１６０℃以上２３５℃以下がより好ましい。加熱時間は、１分間以上１２０分間以下が好ましく、１０分間以上６０分間以下がより好ましい。現像後に加熱を行うことにより、膜に含まれる未反応の光重合性化合物等の重合を進行させることができるため、より耐薬品性に優れた硬化膜を得ることができる。現像を行わない場合においても、露光された組成物層に対して、加熱（ポストベーク）をさらに行うことが好ましい。
一方、基材全面に硬化膜（波長変換層）を形成する方法としては、硬化性組成物を基材に塗布し、必要に応じて乾燥させて組成物層を形成し、該組成物層を加熱及び／又は該組成物層全面に露光する方法が挙げられる。
硬化性組成物Ｒ２から形成される硬化膜は、硬化性組成物Ｒ２に含まれる重合性化合物及び重合開始剤の硬化反応物を含む。該硬化反応物は、重合性化合物、重合開始剤の構造に起因する構造を含む物質である。重合性化合物、重合開始剤の構造に起因する構造とは、例えば、重合性化合物、重合開始剤の硬化反応部位以外の骨格構造又はその部分である。
波長変換層の厚みは、例えば１μｍ以上２０μｍ以下、好ましくは１．５μｍ以上１８μｍ以下、より好ましくは２μｍ以上１４μｍ以下、さらに好ましくは２μｍ以上１２μｍ以下である。波長変換層の厚みが過度に小さいと、波長変換層に一次光を照射したときに、一次光が波長変換層によって十分に吸収又は散乱されずに波長変換層を透過する割合が大きくなる傾向がある。
パターン状の波長変換層の形状及び寸法は特に制限されない。パターン状の波長変換層は、例えばその平面視形状が方形形状である。
一実施形態に係る波長変換層は、一次光源からの一次光を吸収して緑色を発光する層であり、好ましくは、該一次光である青色の光の波長を緑色の光の波長に変換する層である。該波長変換層が発する緑色光は、発光スペクトルにおいて、好ましくは、５００ｎｍ以上５６０ｎｍ以下の波長域に極大値を有するピークを含み、より好ましくは、５２０ｎｍ以上５４５ｎｍ以下の波長域に極大値を有するピークを含み、さらに好ましくは、５２５ｎｍ以上５３５ｎｍ以下の波長域に極大値を有するピークを含む。該ピークは、好ましくは、半値全幅が１５ｎｍ以上８０ｎｍ以下、より好ましくは１５ｎｍ以上６０ｎｍ以下、さらに好ましくは１５ｎｍ以上５０ｎｍ以下、特に好ましくは１５ｎｍ以上４５ｎｍ以下である。
他の実施形態に係る波長変換層は、一次光源からの一次光を吸収して赤色を発光する層であり、好ましくは、該一次光である青色の光の波長を赤色の光の波長に変換する層である。該波長変換層が発する赤色光は、発光スペクトルにおいて、好ましくは、６１０ｎｍ以上７５０ｎｍ以下の波長域に極大値を有するピークを含み、より好ましくは、６２０ｎｍ以上６５０ｎｍ以下の波長域に極大値を有するピークを含み、さらに好ましくは、６２５ｎｍ以上６４５ｎｍ以下の波長域に極大値を有するピークを含む。該ピークは、好ましくは、半値全幅が１５ｎｍ以上８０ｎｍ以下、より好ましくは１５ｎｍ以上６０ｎｍ以下、さらに好ましくは１５ｎｍ以上５０ｎｍ以下、特に好ましくは１５ｎｍ以上４５ｎｍ以下である。
後述する積層体及び表示装置は、緑色を発光する波長変換層及び赤色を発光する波長変換層の両方を備えることができる。
波長変換層は、一次光の一部を吸収し、一次光の残部を透過する層であってもよい。表示装置の広色域化及びエネルギー効率の観点から、波長変換層は、波長４５０ｎｍにおける光線透過率が、好ましくは９０％以下、より好ましくは８５％以下、さらに好ましくは７５％以下、なおさらに好ましくは６０％以下、特に好ましくは４０％以下、より特に好ましくは３０％以下、最も好ましくは２０％以下である。波長変換層を透過する一次光の量は少ないことが望ましいが、波長変換層上に所定の光吸収層を配置する本発明によれば、一次光の一部が波長変換層を透過する場合であっても、視認側への一次光の漏れを抑制できるとともに、光吸収層を設けることにより発光強度の低下を抑制することができる。この観点から、波長変換層は、波長４５０ｎｍにおける光線透過率が、１０％以上、さらには１５％以上、なおさらには２０％以上であってもよい。
「発光強度の低下」とは、既述のとおり、波長変換層上に光吸収層を配置した場合における、光吸収層を配置しない場合と比較したときの発光強度の低下を意味しており、以下同様である。
＜光吸収層を形成するために用いられる組成物及び光吸収層＞
（１）光吸収層を形成するために用いられる組成物ＩＩ
光吸収層は、特定波長域の光を透過し、それ以外の波長域のうちの少なくとも一部の波長域の光を吸収する層である。波長変換層から放出された光は、光吸収層を透過することにより緑色光又は赤色光として表示装置から放出される。波長変換層上に光吸収層を設けることにより、光吸収層の視認側への一次光の漏れを抑制でき、これにより、表示装置の広色域化を図ることができる。
光吸収層が透過する光の波長域は、緑色又は赤色の波長域である。該緑色の波長域は、例えば４９５ｎｍ以上５８５ｎｍ以下に含まれる波長域である。該赤色の波長域は、例えば５８５ｎｍ以上７８０ｎｍ以下に含まれる波長域である。光吸収層が吸収する光の波長域は、好ましくは青色の波長域であり、より好ましくは４５０ｎｍを含む波長範囲であり、例えば３８０ｎｍ以上４９５ｎｍに含まれる波長域である。
一実施形態において、組成物ＩＩ及び光吸収層は、５２０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の波長域における平均光線透過率が９８％以上である。平均光線透過率が９８％以上であることにより、発光強度をより高めることができる。平均光線透過率は、後述する実施例の欄において説明する方法に従って測定される。
（１－１）着色剤
光吸収層は、下記式（ｉ）及び（ｉｉ）を満たす第１着色剤を含有する光吸収層形成用組成物（以下、「組成物ＩＩ」ともいう。）から形成される。組成物ＩＩは、光照射又は熱により硬化する硬化性組成物であってもよい。式中、λｍａｘ（ｎｍ）は、吸光スペクトルの可視光波長域において最大吸光度を示す波長を表す。Ａｍａｘは、上記最大吸光度を表す。Ａ４８０は、波長４８０ｎｍにおける吸光度を表す。
４２５≦λｍａｘ≦４７０ （ｉ）
Ａ４８０／Ａｍａｘ＜０．５ （ｉｉ）
式（ｉ）を満たすことにより、光吸収層の視認側への一次光（青色光）の漏れを抑制でき、これにより、表示装置の広色域化を図ることができる。λｍａｘは、好ましくは、下記式のいずれか１つを満たす。
４２５≦λｍａｘ≦４６０、４２５≦λｍａｘ≦４５０、４２５≦λｍａｘ≦４４０、４３０≦λｍａｘ≦４６０、４３０≦λｍａｘ≦４５０、又は、４３０≦λｍａｘ≦４４０
式（ｉｉ）を満たすことにより、波長変換層上に光吸収層を配置しても発光強度の低下を抑制することができる。
式（ｉｉ）の左辺は、好ましくは０．４５以下、より好ましくは０．４以下であり、０．３５以下であってもよい。式（ｉｉ）の左辺は、通常０．００１以上であり、０．００５以上、０．０１以上又は０．０５以上であってもよい。
組成物ＩＩから形成される光吸収層を波長変換層上に設けることにより、光吸収層の視認側への一次光（青色光）の漏れを抑制できるとともに、発光強度の低下を抑制することができる。一次光の漏れ抑制及び発光強度の低下抑制の観点から、組成物ＩＩは、上記式（ｉ）及び（ｉｉ）を満たすことが好ましく、また、組成物ＩＩから形成される光吸収層は、上記式（ｉ）及び（ｉｉ）を満たすことが好ましい。
光吸収層の吸光スペクトルは、後述する実施例の欄において説明する方法に従って測定される。組成物ＩＩの吸光スペクトルは、該組成物をガラス基板等に塗布して組成物層を形成したときの該層の吸光スペクトルとして測定することができる。
また、第１着色剤の吸光スペクトルは、着色剤として第１着色剤のみを含む光吸収層の吸光スペクトルとして測定することができる。
第１着色剤は、好ましくは黄色着色剤である。黄色着色剤は、顔料であってもよいし染料であってもよい。顔料としては、公知の顔料を使用することができ、例えば、カラーインデックス（The Society of Dyers and Colourists出版）でピグメントに分類されている顔料が挙げられる。顔料は、１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。染料としては、公知の染料を使用することができ、例えば、カラーインデックス（The Society of Dyers and Colourists 出版）及び染色ノート（色染社）に記載されている染料が挙げられる。染料は、１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
第１着色剤として用いることができる黄色顔料は、好ましくは、キノフタロン系黄色顔料及びアゾ系黄色顔料から選択され、より好ましくは、キノフタロン系黄色顔料である。キノフタロン系黄色顔料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８、２３１等が挙げられる。アゾ系黄色顔料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０等が挙げられる。
組成物ＩＩは、着色剤として第１着色剤のみを含有していてもよいし、第１着色剤に加えて、第１着色剤以外の第２着色剤を含有していてもよい。組成物ＩＩが第２着色剤をさらに含有する場合、一次光の漏れ抑制及び発光強度の低下抑制の観点から、第１着色剤と第２着色剤との組み合わせが上記式（ｉ）及び（ｉｉ）を満たすことが好ましい。第２着色剤は、顔料であってもよいし染料であってもよい。顔料及び染料は、それぞれ、１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
第２着色剤は、好ましくは、緑色着色剤及び赤色着色剤から選択される。
緑色着色剤としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、３６、５８、５９、６２、６３等の緑色顔料が挙げられる。緑色着色剤の他の例は、下記染料である。
Ｃ．Ｉ．ソルベントグリーン１、３、４、５、７、２８、２９、３２、３３、３４、３５等のＣ．Ｉ．ソルベント染料；
Ｃ．Ｉ．アシッドグリーン１、３、５、６、７、８、９、１１、１３、１４、１５、１６、２２、２５、２７、２８、４１、５０、５０：１、５８、６３、６５、８０、１０４、１０５、１０６、１０９等のＣ．Ｉ．アシッド染料；
Ｃ．Ｉ．ダイレクトグリーン２５、２７、３１、３２、３４、３７、６３、６５、６６、６７、６８、６９、７２、７９、８２等のＣ．Ｉ．ダイレクト染料；
Ｃ．Ｉ．ベーシックグリーン１等のＣ．Ｉ．ベーシック染料；
Ｃ．Ｉ．モーダントグリーン１、３、４、５、１０、１３、１５、１９、２１、２３、２６、２９、３１、３３、３４、３５、４１、４３、５３等のＣ．Ｉ．モーダント染料；
Ｃ．Ｉ．バットグリーン１等のＣ．Ｉ．バット染料等。
赤色着色剤としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９、９７、１０５、１２２、１２３、１４４、１４９、１６６、１６８、１７６、１７７、１７８、１７９、１８０、１９０、１９２、２０９、２１５、２１６、２２４、２４２、２５４、２５５、２６４、２６５、２６６、２６８、２６９、２７３等の赤色顔料が挙げられる。赤色着色剤の他の例は、下記染料である。
Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド２４、４５、４９、９０，９１１１１、１１８、１１９、１２２、１２４、１２５、１２７、１３０、１３２、１４３、１４５、１４６、１５０、１５１、１５５、１６０、１６８、１６９、１７２、１７５、１８１、２０７、２１８、２２２、２２７、２３０、２４５、２４７等のＣ．Ｉ．ソルベント染料；
Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１、４、８、１４、１７、１８、２６、２７、２９、３１、３３、３４、３５、３７、４０、４２、４４、５０、５１、５２、５７、６６、７３、７６、８０、８７、８８、９１、９２、９４、９５、９７、９８、１０３、１０６、１１１、１１４、１２９、１３３、１３４、１３８、１４３、１４５、１５０、１５１、１５５、１５８、１６０、１７２、１７６、１８２、１８３、１９５、１９８、２０６、２１１、２１５、２１６、２１７、２２７、２２８、２４９、２５２、２５７、２５８、２６０、２６１、２６６、２６８、２７０、２７４、２７７、２８０、２８１、２８９、３０８、３１２、３１５、３１６、３３９、３４１、３４５、３４６、３４９、３８２、３８３、３８８、３９４、４０１、４１２、４１７、４１８、４２２、４２６等のＣ．Ｉ．アシッド染料；
Ｃ．Ｉ．ダイレクトレッド７９、８２、８３、８４、９１、９２、９６、９７、９８、９９、１０５、１０６、１０７、１７２、１７３、１７６、１７７、１７９、１８１、１８２、１８４、２０４、２０７、２１１、２１３、２１８、２２０、２２１、２２２、２３２、２３３、２３４、２４１、２４３、２４６、２５０等のＣ．Ｉ．ダイレクト染料；
Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド１、９、１０等のＣ．Ｉ．ベーシック染料；
Ｃ．Ｉ．モーダントレッド１、２、３、４、９、１１、１２、１４、１７、１８、１９、２２、２３、２４、２５、２６、２７、２９、３０、３２、３３、３６、３７、３８、３９、４１、４２、４３、４５、４６、４８、５２、５３、５６、６２、６３、７１、７４、７６、７８、８５、８６、８８、９０、９４、９５等のＣ．Ｉ．モーダント染料等。
着色剤は、必要に応じて、ロジン処理、酸性基又は塩基性基が導入された着色剤誘導体等を用いた表面処理、高分子化合物等による着色剤表面へのグラフト処理、硫酸微粒化法等による微粒化処理、不純物を除去するための有機溶剤や水等による洗浄処理、イオン性不純物のイオン交換法等による除去処理等が施されていてもよい。着色剤の粒径は、略均一であることが好ましい。
組成物ＩＩが第２着色剤を含む場合、第２着色剤は、波長変換層が緑色を発光する層であるときには緑色着色剤であることが好ましく、波長変換層が赤色を発光する層であるときには赤色着色剤であることが好ましい。緑色着色剤及び赤色着色剤は、それぞれ、１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
組成物ＩＩにおける着色剤の含有率は、組成物ＩＩの固形分の総量に対して、例えば０．０１質量％以上９９．９９質量％以下であり、発光強度の低下を抑制する観点から、好ましくは０．１質量％以上９９．９質量％以下、より好ましくは１質量％以上９９質量％以下、さらに好ましくは１０質量％以上９０質量％以下、なおさらに好ましくは１５質量％以上７０質量％以下、特に好ましくは２０質量％以上７０質量％以下である。着色剤とは、組成物ＩＩが着色剤として第１着色剤のみを含む場合は第１着色剤を意味し、第１着色剤及び第２着色剤を含む場合はこれらの第１着色剤及び第２着色剤を意味する。
（１－２）その他の成分
組成物ＩＩは、着色剤以外に、樹脂（Ｃ）、重合性化合物（Ｄ）及び重合開始剤（Ｅ）をさらに含むことが好ましい。組成物ＩＩにおける樹脂（Ｃ）、重合性化合物（Ｄ）及び重合開始剤（Ｅ）に関し、該組成物における含有率以外の事項については、組成物Ｉについての記述が引用される。組成物ＩＩは、重合開始助剤（Ｅ１）、酸化防止剤（Ｆ）、レベリング剤（Ｈ）及び溶剤（Ｊ）からなる群より選択される少なくとも１種をさらに含むことができる。組成物ＩＩにおける重合開始助剤（Ｅ１）、酸化防止剤（Ｆ）、レベリング剤（Ｈ）及び溶剤（Ｊ）に関し、該組成物におけるこれらの含有率以外の事項については、組成物Ｉについての記述が引用される。
組成物ＩＩにおける樹脂（Ｃ）の含有率は、組成物ＩＩの固形分の総量に対して、例えば０．００００１質量％以上９９．９９９９９質量％以下であり、好ましくは１質量％以上９９質量％以下、より好ましくは１質量％以上９７質量％以下、さらに好ましくは１質量％以上９５質量％以下、なおさらに好ましくは３質量％以上９０質量％以下、特に好ましくは５質量％以上８０質量％以下、最も好ましくは１０質量％以上７０質量％以下である。
組成物ＩＩにおける重合性化合物（Ｄ）の含有率は、組成物ＩＩの固形分の総量に対して、例えば０．００００１質量％以上９９．９９９９９以下、好ましくは１質量％以上９９質量％以下、より好ましくは１質量％以上９７質量％以下、さらに好ましくは１質量％以上９５質量％以下、なおさらに好ましくは１質量％以上９０質量％以下、特に好ましくは２質量％以上８０質量％以下、最も好ましくは３質量％以上７０質量％以下である。
組成物ＩＩにおける重合開始剤（Ｅ）の含有率は、樹脂（Ｃ）及び重合性化合物（Ｄ）の合計量に対して、好ましくは０．００１質量％以上６０質量％以下、より好ましくは０．０１質量％以上５０質量％以下である。
重合開始助剤（Ｅ１）を用いる場合、組成物ＩＩにおける重合開始助剤（Ｅ１）の含有率は、樹脂（Ｃ）及び重合性化合物（Ｄ）の合計量に対して、好ましくは０．００００１質量％以上６０質量％以下、より好ましくは０．０００１質量％以上５０質量％以下である。
酸化防止剤（Ｆ）を用いる場合、組成物ＩＩにおける酸化防止剤（Ｆ）の含有量は、樹脂（Ｃ）１００質量部に対して、例えば１質量部以上５０質量部以下であり、好ましくは５質量部以上４０質量部以下、より好ましくは７質量部以上３０質量部以下である。
レベリング剤（Ｈ）を用いる場合、組成物ＩＩにおけるレベリング剤（Ｈ）の含有率は、組成物ＩＩの総量に対して、例えば０．００１質量％以上１．０質量％以下、好ましくは０．００５質量％以上０．７５質量％以下、より好ましくは０．０１質量％以上０．５質量％以下、さらに好ましくは０．０２質量％以上０．５質量％以下である。レベリング剤（Ｈ）の含有率が上記範囲内にあると、光吸収層の平坦性をより良好にすることができる。
組成物ＩＩの固形分は、組成物ＩＩの総量に対して、好ましくは０．０１質量％以上１００質量％以下、より好ましくは０．１質量％以上９９．９質量％以下、さらに好ましくは０．１質量％以上９９質量％以下、なおさらに好ましくは１質量％以上９０質量％以下、一層好ましくは１質量％以上８０質量％以下、特に好ましくは１質量％以上７０質量％以下であり、極めて好ましくは１質量％以上６０質量％以下である。
組成物ＩＩにおける溶剤（Ｊ）の含有率は、組成物ＩＩの総量に対して、好ましくは０質量％以上９９．９９質量％以下、より好ましくは０．１質量％以上９９．９質量％以下、さらに好ましくは１質量％以上９９．９質量％以下、なおさらに好ましくは１０質量％以上９９質量％以下、一層好ましくは２０質量％以上９９質量％以下、特に好ましくは３０質量％以上９９質量％以下、極めて好ましくは４０質量％以上９９質量％以下である。
組成物ＩＩは必要に応じて、重合禁止剤、充填剤、他の高分子化合物、密着促進剤、光安定剤、連鎖移動剤等、当該技術分野で公知の添加剤をさらに含んでいてもよい。
（１－３）組成物ＩＩの製造方法
組成物ＩＩは、着色剤、並びに必要に応じて使用される他の成分を混合する工程を含む方法によって製造することができる。着色剤は、予め溶剤（Ｊ）の一部又は全部と混合し、着色剤の平均粒子径が０．２μｍ以下程度となるまで、ビーズミルなどを用いて分散させた着色剤分散液の状態で用いることが好ましい。この際、必要に応じて分散剤、樹脂（Ｃ）の一部又は全部を配合してもよい。分散剤としては、光散乱剤（Ｂ）の欄で述べた分散剤についての記述が引用される。
（２）光吸収層及びその製造方法
光吸収層は、組成物ＩＩから形成される。光吸収層は、波長変換層の上に形成される。光吸収層は、例えば、波長変換層の光取り出し方向側に配置される。光吸収層は、波長変換層と接していてもよいし、波長変換層と光吸収層との間に他の層が介在していてもよい。他の層としては、保護層（オーバーコート層）が挙げられる。微細なパターンで光吸収層を形成できること、及び、波長変換層を透過した一次光を効率良く光吸収層に導入できることから、光吸収層は、波長変換層に直接積層されることが好ましい。
光吸収層は、組成物ＩＩを基材に塗布した後に乾燥させる工程を含む方法によって波長変換層上に形成することができる。
一実施形態において、組成物ＩＩは、樹脂（Ｃ）をさらに含む樹脂組成物Ｒ４である。樹脂組成物Ｒ４から形成される光吸収層（樹脂膜）は、組成物ＩＩを基材に塗布した後に乾燥させることにより形成することができる。
他の実施形態において、組成物ＩＩは、重合性化合物（Ｄ）と重合開始剤（Ｅ）とをさらに含む硬化性組成物Ｒ５である。硬化性組成物Ｒ５は、樹脂（Ｃ）をさらに含んでいてもよい。硬化性組成物Ｒ５から形成される光吸収層は、硬化膜である。該硬化膜は、硬化性組成物Ｒ５を基材に塗布した後に乾燥させ、光の作用及び／又は熱の作用で硬化させることにより得ることができる。
硬化性組成物Ｒ５の一態様は、光重合性化合物及び光重合開始剤を含む光硬化性組成物Ｒ６である。光硬化性組成物Ｒ６は、樹脂（Ｃ）をさらに含んでいてもよい。
光吸収層が形成される基材は、波長変換層又は波長変換層上に形成される層（例えば、保護層）である。基材上に光吸収層を形成する方法としては、フォトリソグラフ法、インクジェット法、印刷法等が挙げられる。印刷法としては、ステンシル印刷法、スクリーン印刷法、アプリケーターによる印刷塗工等が挙げられる。
組成物ＩＩである樹脂組成物Ｒ４や硬化性組成物Ｒ５、光硬化性組成物Ｒ６を用いてパターン状の光吸収層を形成することができる。その方法は、樹脂組成物Ｒ１や硬化性組成物Ｒ２、光硬化性組成物Ｒ３を用いてパターン状の波長変換層を形成する上述の方法と同様であってよい。
光硬化性組成物Ｒ６から形成されるパターン状の硬化膜（光吸収層）は、フォトリソグラフ法を用いる方法を例に挙げると、例えば、以下のようにして基材上に形成することができる。まず、光硬化性組成物Ｒ６を基材上に塗布し、加熱乾燥（プリベーク）及び／又は減圧乾燥することにより溶剤等の揮発成分を除去して、組成物層を得る。塗布方法としては、スピンコート法、スリットコート法、スリット アンド スピンコート法等が挙げられる。
加熱乾燥を行う場合の温度は、３０℃以上１２０℃以下が好ましく、５０℃以上１１０℃以下がより好ましい。加熱時間は、１０秒間以上６０分間以下であることが好ましく、３０秒間以上３０分間以下であることがより好ましい。減圧乾燥を行う場合は、５０Ｐａ以上１５０Ｐａ以下の圧力下、２０℃以上２５℃以下の温度範囲で行うことが好ましい。
次に、組成物層は、目的のパターン形状を形成するためのフォトマスクを介して露光される。露光に用いられる光源としては、２５０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の波長の光を発生する光源が好ましい。例えば、該波長の光から、光重合開始剤の吸収波長に応じて、４３６ｎｍ付近、４０８ｎｍ付近、又は３６５ｎｍ付近の光をバンドパスフィルタにより選択的に取り出してもよい。光源として具体的には、水銀灯、発光ダイオード、メタルハライドランプ、ハロゲンランプ等が挙げられる。
露光面全体に均一に平行光線を照射することができたり、フォトマスクと組成物層が形成された基材との正確な位置合わせを行うことができたりするため、マスクアライナ及びステッパ等の露光装置を使用することが好ましい。露光された組成物層は、該組成物層に含まれる光重合性化合物等が重合することにより硬化する。
露光後の組成物層を現像液に接触させて現像することにより、組成物層の未露光部が現像液に溶解して除去されて、パターン状の硬化膜（光吸収層）が得られる。現像液としては、例えば、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム等のアルカリ性化合物の水溶液や有機溶剤が挙げられる。アルカリ性化合物の水溶液中の濃度は、好ましくは０．０１質量％以上１０質量％以下であり、より好ましくは０．０３質量％以上５質量％以下である。有機溶剤としては、上述の溶剤（Ｊ）と同様のものが挙げられる。現像液は、界面活性剤を含んでいてもよい。
現像方法は、パドル法、ディッピング法及びスプレー法等のいずれでもよい。さらに現像時に基材を任意の角度に傾けてもよい。
現像により得られたパターン状の膜に対して、さらに加熱（ポストベーク）を行うことが好ましい。加熱温度は、１５０℃以上２５０℃以下が好ましく、１６０℃以上２３５℃以下がより好ましい。加熱時間は、１分間以上１２０分間以下が好ましく、１０分間以上６０分間以下がより好ましい。現像後に加熱を行うことにより、膜に含まれる未反応の光重合性化合物等の重合を進行させることができるため、より耐薬品性に優れた硬化膜を得ることができる。現像を行わない場合においても、露光された組成物層に対して、加熱（ポストベーク）をさらに行うことが好ましい。
光吸収層の厚みは、例えば０．１μｍ以上３０μｍ以下であり、光吸収層の視認側への一次光（青色光）の漏れを効果的に抑制する観点から、好ましくは０．１μｍ以上２０μｍ以下、より好ましくは０．５μｍ以上１０μｍ以下、さらに好ましくは０．５μｍ以上６μｍ以下である。
光吸収層における着色剤の含有率は、例えば０．０１質量％以上９９．９９質量％以下であり、好ましくは０．１質量％以上９９．９質量％以下、より好ましくは１質量％以上９９質量％以下、さらに好ましくは１０質量％以上９０質量％以下、なおさらに好ましくは１５質量％以上７０質量％以下である。
＜積層体＞
（１）積層体の構成
本発明に係る積層体（以下、単に「積層体」ともいう。）は、緑色又は赤色を発光する半導体粒子（Ａ）を含有する上記波長変換層と、上記本発明に係る光吸収層とを含む光学積層体である。図１は本発明に係る積層体の一例を示す概略断面図であり、図２は本発明に係る積層体の他の一例を示す概略断面図であり、図３は本発明に係る積層体のさらに他の一例を示す概略断面図である。
光吸収層が透過する光の波長域は、緑色又は赤色の波長域である。該緑色の波長域は、例えば４９５ｎｍ以上５８５ｎｍ以下に含まれる波長域である。該赤色の波長域は、例えば５８５ｎｍ以上７８０ｎｍ以下に含まれる波長域である。光吸収層が吸収する光の波長域は、好ましくは青色の波長域であり、より好ましくは４５０ｎｍを含む波長範囲であり、例えば３８０ｎｍ以上４９５ｎｍに含まれる波長域である。
一実施形態において、組成物ＩＩ及び光吸収層は、５２０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の波長域における平均光線透過率が９８％以上である。平均光線透過率が９８％以上であることにより、発光強度をより高めることができる。平均光線透過率は、後述する実施例の欄において説明する方法に従って測定される。
図１～図３に示される積層体は、波長変換層１０と、その上に配置される光吸収層２０とを含む。図１及び図３に示される積層体のように、光吸収層２０は、波長変換層１０に直接積層され、光吸収層２０と波長変換層１０とが接していてもよい。あるいは、図２に示される積層体のように、波長変換層１０と光吸収層２０との間に他の層が介在していてもよい。他の層としては、保護層（オーバーコート層）３０が挙げられる。微細なパターンで光吸収層２０を形成できること、及び、波長変換層１０を透過した一次光を効率良く光吸収層２０に導入できることから、光吸収層２０は、波長変換層１０に直接積層されることが好ましい。
図４は、本発明に係る積層体のさらに他の一例を示す概略断面図である。図４に示されるように、積層体は、赤色を発光する第１波長変換層１１と、その上に配置される第１光吸収層２１と、緑色を発光する第２波長変換層１２と、その上に配置される第２光吸収層２２とを含む。第１光吸収層２１及び第２光吸収層２２は、いずれも本発明に係る光吸収層である。第１光吸収層２１及び第２光吸収層２２をそれぞれ設ける代わりに、第１波長変換層１１及び第２波長変換層１２上に１つの光吸収層を設けてもよい。また、図４に示される積層体において、図２や図３の積層体と同様に保護層３０が設けられてもよい。
図４に示される積層体において保護層３０を設ける場合、第１波長変換層１１又は第１光吸収層２１上に第１保護層を設け、第２波長変換層１２又は第２光吸収層２２上に第２保護層を設けることができる。あるいは、第１波長変換層１１及び第２波長変換層１２上、又は、第１光吸収層２１及び第２光吸収層２２上に１つ（一体）の保護層を設けてもよい。
第１光吸収層２１は、赤色の波長域の光を透過する。第２光吸収層２２は、緑色の波長域の光を透過する。第１光吸収層２１及び第２光吸収層２２が吸収する光の波長域は、好ましくは青色の波長域であり、より好ましくは４５０ｎｍを含む波長範囲であり、例えば３８０ｎｍ以上４９５ｎｍに含まれる波長域である。
積層体は、表示装置の一次光源（青色光源）上に配置される色変換部材として好適に用いることができる。本発明に係る積層体によれば、光吸収層の視認側への一次光（青色光）の漏れを抑制できるとともに、発光強度の低下を抑制することができる。
積層体は、保護層を有していなくてもよく、光吸収層が保護層の機能を兼ねていてもよい。
（２）保護層を形成するために用いられる組成物ＩＩＩ
保護層は、波長変換層上に配置される層である。保護層は、多官能重合性化合物（Ｋ）又はその重合体を含み、半導体粒子（Ａ）を含まない保護層形成用組成物（以下、「組成物ＩＩＩ」ともいう。）から形成される。組成物ＩＩＩは、硬化性組成物である。組成物ＩＩＩから形成される保護層を波長変換層上に配置することにより、保護層を配置しない場合と比較して波長変換層の熱による発光強度の低下を抑制することができる。組成物ＩＩＩは、多官能重合性化合物（Ｋ）又はその重合体を２種以上含んでいてもよい。
（２－１）多官能重合性化合物（Ｋ）又はその重合体
組成物ＩＩＩは、分子内にエチレン性不飽和結合を２個以上有する多官能重合性化合物（Ｋ）又はその重合体を含むことが好ましい。重合体とは、多官能重合性化合物（Ｋ）が重合されてなるオリゴマー又はポリマーを意味する。エチレン性不飽和結合としては、（メタ）アクリロイルオキシ基、ビニル基等が挙げられ、好ましくは（メタ）アクリロイルオキシ基である。
多官能重合性化合物（Ｋ）は、好ましくは、エチレン性不飽和結合として（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多官能（メタ）アクリル系化合物である。
２官能（メタ）アクリル系化合物としては、例えば、アルキレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリオキシアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート、ハロゲン置換アルキレングリコールジ（メタ）アクリレート、脂肪族ポリオールのジ（メタ）アクリレート、水添ジシクロペンタジエン又はトリシクロデカンジアルカノールのジ（メタ）アクリレート、ジオキサングリコール又はジオキサンジアルカノールのジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ又はビスフェノールＦのアルキレンオキシド付加物のジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ又はビスフェノールＦのエポキシジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
上記２官能（メタ）アクリル系化合物のより具体的な例を挙げれば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルのジ（メタ）アクリレート、２，２－ビス［４－（メタ）アクリロイルオキシエトキシエトキシフェニル］プロパン、２，２－ビス［４－（メタ）アクリロイルオキシエトキシエトキシシクロヘキシル］プロパン、水添ジシクロペンタジエニルジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、１，３－ジオキサン－２，５－ジイルジ（メタ）アクリレート〔別名：ジオキサングリコールジ（メタ）アクリレート〕、ヒドロキシピバルアルデヒドとトリメチロールプロパンとのアセタール化合物〔化学名：２－（２－ヒドロキシ－１，１－ジメチルエチル）－５－エチル－５－ヒドロキシメチル－１，３－ジオキサン〕のジ（メタ）アクリレート、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡのジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＡのジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＦのジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＦのジ（メタ）アクリレート等である。
３官能以上の（メタ）アクリル系化合物としては、例えば、グリセリントリ（メタ）アクリレート、アルコキシ化グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールノナ（メタ）アクリレート、トリス（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、エチレングリコール変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エチレングリコール変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、プロピレングリコール変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、プロピレングリコール変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
波長変換層の熱による発光強度の低下を抑制する観点及びパターン状の保護層を形成する際のパターニング性の観点から、多官能重合性化合物（Ｋ）は、分子内にエチレン性不飽和結合を３個以上有することが好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基を３個以上有することがより好ましい。多官能重合性化合物（Ｋ）が有するエチレン性不飽和結合は、好ましくは６個以下である。
また、波長変換層の熱による発光強度の低下をより効果的に抑制する観点から、多官能重合性化合物（Ｋ）は、酸性官能基を有することが好ましい。酸性官能基としては、例えば、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基等が挙げられる。中でも、酸性官能基は、カルボキシ基であることが好ましい。多官能重合性化合物（Ｋ）が有することができる酸性官能基の数は、波長変換層の熱による発光強度の低下をより効果的に抑制する観点から、好ましくは１個以上３個以下であり、より好ましくは１個又は２個である。２個以上の酸性官能基を有する場合は、それぞれの酸性官能基は異なってもいてもよく同一であってもよい。
酸性官能基を有する多官能重合性化合物（Ｋ）としては、分子内に２個以上（好ましくは３個以上）の（メタ）アクリロイルオキシ基及び１個以上のヒドロキシ基を有する化合物を多塩基酸変性して得られた化合物が挙げられる。該化合物としては、例えば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと二塩基酸（例えばコハク酸、マレイン酸）又はその酸無水物とをモノエステル化した化合物、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと二塩基酸（例えばコハク酸、マレイン酸）又はその酸無水物とをモノエステル化した化合物等が挙げられる。
酸性官能基を有する多官能重合性化合物（Ｋ）の市販品としては、例えば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートの二塩基酸無水物付加物を主成分とする東亞合成（株）製「アロニックス Ｍ－５１０」、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートの二塩基酸無水物付加物を主成分とする、東亞合成（株）製「アロニックス Ｍ－５２０Ｄ」等を挙げることができる。これらの市販品は、酸性官能基としてカルボキシ基を有し、（メタ）アクリロイルオキシ基を３個以上有する多官能重合性化合物（Ｋ）に属する。
波長変換層の熱による発光強度の低下を抑制する観点から、多官能重合性化合物（Ｋ）又はその重合体は、分子内にシリコン原子を含まないことが好ましい。
組成物ＩＩＩにおける多官能重合性化合物（Ｋ）又はその重合体の含有率は、組成物ＩＩＩの固形分の総量に対して、好ましくは７質量％以上８０質量％以下、より好ましくは１０質量％以上７５質量％以下、さらに好ましくは１５質量％以上７０質量％以下、なおさらに好ましくは３０質量％以上７０質量％以下、特に好ましくは４０質量％以上７０質量％以下、最も好ましくは４５質量％以上６５質量％以下である。該含有率が上記範囲内にあると、波長変換層の熱による発光強度の低下を抑制するうえで有利である。
（２－２）その他の成分
組成物ＩＩＩは、多官能重合性化合物（Ｋ）又はその重合体以外に、樹脂（Ｃ）及び重合開始剤（Ｅ）をさらに含むことが好ましい。組成物ＩＩＩにおける樹脂（Ｃ）及び重合開始剤（Ｅ）に関し、該組成物における含有率以外の事項については、組成物Ｉについての記述が引用される。重合開始剤（Ｅ）は、光重合開始剤であることが好ましい。組成物ＩＩＩは、重合開始助剤（Ｅ１）、酸化防止剤（Ｆ）、レベリング剤（Ｈ）及び溶剤（Ｊ）からなる群より選択される少なくとも１種をさらに含むことができる。組成物ＩＩＩにおける重合開始助剤（Ｅ１）、酸化防止剤（Ｆ）、レベリング剤（Ｈ）及び溶剤（Ｊ）に関し、該組成物におけるこれらの含有率以外の事項については、組成物Ｉについての記述が引用される。
組成物ＩＩＩにおける樹脂（Ｃ）の含有率は、組成物ＩＩＩの固形分の総量に対して、例えば０．００００１質量％以上９９．９９９９９質量％以下であり、好ましくは１質量％以上９９質量％以下、より好ましくは１質量％以上９７質量％以下、さらに好ましくは１質量％以上９５質量％以下、なおさらに好ましくは３質量％以上９０質量％以下、特に好ましくは５質量％以上８０質量％以下、最も好ましくは１０質量％以上７０質量％以下である。
組成物ＩＩＩにおける重合開始剤（Ｅ）の含有率は、樹脂（Ｃ）及び多官能重合性化合物（Ｋ）又はその重合体の合計量に対して、好ましくは０．００１質量％以上６０質量％以下、より好ましくは０．０１質量％以上５０質量％以下である。
重合開始助剤（Ｅ１）を用いる場合、組成物ＩＩＩにおける重合開始助剤（Ｅ１）の含有率は、樹脂（Ｃ）及び多官能重合性化合物（Ｋ）又はその重合体の合計量に対して、好ましくは０．００００１質量％以上６０質量％以下、より好ましくは０．０００１質量％以上５０質量％以下である。
酸化防止剤（Ｆ）を用いる場合、組成物ＩＩＩにおける酸化防止剤（Ｆ）の含有率は、樹脂（Ｃ）及び多官能重合性化合物（Ｋ）又はその重合体の合計量１００質量部に対して、好ましくは１質量部以上５０質量部以下、より好ましくは２質量部以上４０質量部以下、さらに好ましくは４質量部以上３０質量部以下である。
レベリング剤（Ｈ）を用いる場合、組成物ＩＩＩにおけるレベリング剤（Ｈ）の含有率は、組成物ＩＩＩの総量に対して、例えば０．００１質量％以上１．０質量％以下、好ましくは０．００５質量％以上０．７５質量％以下、より好ましくは０．０１質量％以上０．５質量％以下、さらに好ましくは０．０２質量％以上０．５質量％以下である。レベリング剤（Ｈ）の含有率が上記範囲内にあると、保護層の平坦性をより良好にすることができる。
組成物ＩＩＩは、半導体粒子（Ａ）を含有しない。組成物ＩＩＩは、半導体粒子（Ａ）以外の着色剤を含むことができるが、好ましくは着色剤を含有しない。着色剤は、顔料であってもよいし染料であってもよい。顔料としては、公知の顔料を使用することができ、例えば、カラーインデックス（The Society of Dyers and Colourists出版）でピグメントに分類されている顔料が挙げられる。顔料は、１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。染料としては、公知の染料を使用することができ、例えば、カラーインデックス（The Society of Dyers and Colourists 出版）及び染色ノート（色染社）に記載されている染料が挙げられる。染料は、１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
着色剤は、必要に応じて、ロジン処理、酸性基又は塩基性基が導入された着色剤誘導体等を用いた表面処理、高分子化合物等による着色剤表面へのグラフト処理、硫酸微粒化法等による微粒化処理、不純物を除去するための有機溶剤や水等による洗浄処理、イオン性不純物のイオン交換法等による除去処理等が施されていてもよい。着色剤の粒径は、略均一であることが好ましい。
組成物ＩＩＩが着色剤を含む場合、組成物ＩＩＩにおける着色剤の含有率は、組成物ＩＩＩの固形分の総量に対して、例えば０．０１質量％以上９９．９９質量％以下であり、好ましくは０．１質量％以上９９．９質量％以下、より好ましくは１質量％以上９９質量％以下、さらに好ましくは１０質量％以上９０質量％以下、なおさらに好ましくは１５質量％以上７０質量％以下である。
組成物ＩＩＩは必要に応じて、重合禁止剤、充填剤、他の高分子化合物、密着促進剤、光安定剤、連鎖移動剤等、当該技術分野で公知の添加剤をさらに含んでいてもよい。
組成物ＩＩＩの固形分は、組成物ＩＩＩの総量に対して、好ましくは０．０１質量％以上１００質量％以下、より好ましくは０．１質量％以上９９．９質量％以下、さらに好ましくは０．１質量％以上９９質量％以下、なおさらに好ましくは１質量％以上９０質量％以下、一層好ましくは１質量％以上８０質量％以下、特に好ましくは１質量％以上７０質量％以下であり、極めて好ましくは１質量％以上６０質量％以下、最も好ましくは１質量％以上５０質量％以下である。
組成物ＩＩＩにおける溶剤（Ｊ）の含有率は、組成物ＩＩＩの総量に対して、好ましくは０質量％以上９９．９９質量％以下、より好ましくは０．１質量％以上９９．９質量％以下、さらに好ましくは１質量％以上９９．９質量％以下、なおさらに好ましくは１０質量％以上９９質量％以下、一層好ましくは２０質量％以上９９質量％以下、特に好ましくは３０質量％以上９９質量％以下、極めて好ましくは４０質量％以上９９質量％以下、最も好ましくは５０質量％以上９９質量％以下である。
（２－３）組成物ＩＩＩの製造方法
組成物ＩＩＩは、所定の成分、並びに必要に応じて使用される他の成分を混合する工程を含む方法によって製造することができる。組成物ＩＩＩの製造方法は、樹脂（Ｃ）を調製する工程をさらに含むことができる。着色剤を用いる場合、着色剤は、予め溶剤（Ｊ）の一部又は全部と混合し、着色剤の平均粒子径が０．２μｍ以下程度となるまで、ビーズミルなどを用いて分散させた着色剤分散液の状態で用いることが好ましい。この際、必要に応じて分散剤、樹脂（Ｃ）の一部又は全部を配合してもよい。分散剤としては、光散乱剤（Ｂ）の欄で述べた分散剤についての記述が引用される。
（３）保護層及びその製造方法
保護層は、組成物ＩＩＩから形成される。保護層は、波長変換層の上に形成される。保護層は、波長変換層と接していてもよいし、波長変換層と保護層との間に他の層が介在していてもよい。他の層としては、光吸収層が挙げられる。
一実施形態において、組成物ＩＩＩは、多官能重合性化合物（Ｋ）又はその重合体と重合開始剤（Ｅ）とを含む硬化性組成物である。該硬化性組成物は、樹脂（Ｃ）をさらに含んでいてもよい。該硬化性組成物から形成される保護層は、硬化膜である。該硬化膜は、該硬化性組成物を基材に塗布した後に乾燥させ、光の作用及び／又は熱の作用で硬化させることにより得ることができる。
上記硬化性組成物の一態様は、多官能重合性化合物（Ｋ）又はその重合体と光重合開始剤とを含む光硬化性組成物である。該光硬化性組成物は、樹脂（Ｃ）をさらに含んでいてもよい。
保護層が形成される基材は、波長変換層又は波長変換層上に形成される層（例えば、光吸収層）である。基材上に保護層を形成する方法としては、フォトリソグラフ法、インクジェット法、印刷法等が挙げられる。印刷法としては、ステンシル印刷法、スクリーン印刷法、アプリケーターによる印刷塗工等が挙げられる。
組成物ＩＩＩである上述の硬化性組成物や光硬化性組成物を用いてパターン状の保護層を形成することができる。その方法は、樹脂組成物Ｒ１や硬化性組成物Ｒ２、光硬化性組成物Ｒ３を用いてパターン状の波長変換層を形成する上述の方法と同様であってよい。
保護層の厚みは、例えば０．１μｍ以上２０μｍ以下であり、硬化時に生じ得る反りやシワを抑制する観点及び波長変換層の熱による発光強度の低下を抑制する観点から、好ましくは０．１μｍ以上１５μｍ以下、より好ましくは０．５μｍ以上１０μｍ以下、さらに好ましくは０．５μｍ以上６μｍ以下、なおさらに好ましくは０．５μｍ以上４．５μｍ以下である。
＜表示装置＞
本発明に係る表示装置（以下、単に「表示装置」ともいう。）は、一次光源と、上記本発明に係る積層体とを含む。表示装置は、一次光源からの一次光を波長変換層に照射することにより波長変換層を発光させ、その発光した光を光吸収層を介して取り出す装置である。
図５は、本発明に係る表示装置の一例を示す概略断面図である。図５に示される表示装置は、図４に示される積層体を含むものであり、互いに異なる領域である第１領域、第２領域及び第３領域を有する一次光源である青色光源４０と、青色光源４０の第１領域上に配置され、赤色を発光する第１波長変換層１１と、その上に配置される第１光吸収層２１と、青色光源４０の第２領域上に配置され、緑色を発光する第２波長変換層１２と、その上に配置される第２光吸収層２２とを含む。該表示装置は、赤色発光領域（すなわち、第１領域）、緑色発光領域（すなわち、第２領域）及び青色発光領域（すなわち、第３領域）を有する。このように、該表示装置は、青色光源４０からの光の光路において、青色光源と波長変換層と光吸収層とをこの順に有する。
第１波長変換層１１及び第２波長変換層１２は、青色光源４０上に直接配置されてもよいし、青色光源４０からの光の光路において、青色光源４０と第１波長変換層１１及び第２波長変換層１２との間に配置された導光板上に配置されてもよい。
表示装置は、青色光源４０の第３領域上に配置され、青色光を透過する透明層又は光拡散剤を含有する層と、該層上に配置され、青色光を透過し、青色光以外の光を吸収する第３光吸収層とをさらに備えていてもよい。また、表示装置が備える積層体は、図２や図３の積層体と同様に保護層３０を有していてもよい。
青色光源４０としては、例えば、青色発光ダイオード等の発光ダイオード（ＬＥＤ）、レーザー、ＥＬ等の公知の光源を用いることができる。青色光源４０は、色域及びエネルギー効率の観点から、好ましくは４９５ｎｍ以下にピークを有する光を放出する光源であり、より好ましくは４２５ｎｍ以上４９５ｎｍ以下にピークを有する光を放出する光源である。
表示装置は、例えば、導光板、拡散フィルム（拡散層）、光反射部材（反射フィルム等）、輝度強化部材、プリズムシート、バリア層等をさらに含んでいてもよい。
導光板としては、任意の適切な導光板が用いられる。例えば、横方向からの光を厚さ方向に偏向可能となるよう、背面側にレンズパターンが形成された導光板、背面側及び／又は視認側にプリズム形状等が形成された導光板が用いられる。
拡散フィルムは、一次光又は波長変換層から発せられた光を拡散させるためのフィルムであり、増幅拡散フィルム等であってよい。光反射部材は、一次光を波長変換層に向けて反射させるための部材であり、例えば、反射鏡、反射粒子のフィルム、反射金属フィルム、又は反射体等であってよい。輝度強化部材は、光の一部分を、光が伝送された方向に向かって反射して戻すための部材である。
プリズムシートは、代表的には、基材部とプリズム部とを有する。基材部は、隣接する部材に応じて省略してもよい。プリズムシートは、任意の適切な接着層（例えば、接着剤層、粘着剤層）を介して隣接する部材に貼り合わせることができる。プリズムシートは、視認側とは反対側（背面側）に凸となる複数の単位プリズムが並列されて構成されている。プリズムシートの凸部を背面側に向けて配置することにより、プリズムシートを透過する光が集光されやすくなる。また、プリズムシートの凸部を背面側に向けて配置すれば、凸部を視認側に向けて配置する場合と比較して、プリズムシートに入射せずに反射する光が少なく、発光強度の高い表示装置を得ることができる。
バリア層は、波長変換層を外気の水蒸気、及び大気中の酸素から保護するための層である。
表示装置は、隣接する要素（層）間の光路上に１以上の媒体材料からなる層を含んでいてもよい。１以上の媒体材料としては、例えば真空、空気、ガス、光学材料、接着剤、光学接着剤、ガラス、ポリマー、固体、液体、ゲル、硬化材料、光学結合材料、屈折率整合又は屈折率不整合材料、屈折率勾配材料、クラッディング又は抗クラッディング材料、スペーサー、シリカゲル、輝度強化材料、散乱又は拡散材料、反射又は抗反射材料、波長選択性材料、波長選択性抗反射材料又は当該技術分野で既知の他の好適な媒体が含まれるが、これらに限定されず、任意の好適な材料が含まれてもよい。
表示装置の具体例としては、例えば、ＥＬディスプレイや液晶ディスプレイ用の波長変換材料を備えたものが挙げられる。表示装置は、図５を用いて示した例に限定されるものではなく、例えば、
波長変換層を導光板の端面（側面）に沿うように、青色光源と導光板の間に配置し、白色光を放出するバックライト（オンエッジ方式のバックライト）とし、導光板側に光吸収層を配置した表示装置；
波長変換層を導光板の上に設置して、導光板の端面（側面）に置かれた青色光源から導光板を通して波長変換層に照射される光を白色光として放出するバックライト（表面実装方式のバックライト）とし、波長変換層上に光吸収層を配置した表示装置；
波長変換層を青色光源の発光部近傍に設置し、照射される光を白色光として放出するバックライト（オンチップ方式のバックライト）とし、波長変換層上に光吸収層を配置した表示装置；
等であってもよい。
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。例中の「％」及び「部」は、特記のない限り、質量％及び質量部である。
＜測定＞
（１）波長変換層及び光吸収層の厚み測定
膜厚測定装置（ＤＥＫＴＡＫＸＴ；ブルカー社製））により測定した。
（２）波長変換層及び積層体の発光強度ＥＩの測定
発光ピーク波長が４５０ｎｍである青色ＬＥＤランプを点光源とするバックライト上に光拡散板を配置してバックライト部とした。光拡散板を上に向けてバックライト部を載置し、光拡散板の表面から高さ６０ｃｍの位置に、分光放射輝度計（トプコン（株）製の「ＳＲ－ＵＬ１Ｒ」）を設置した。ガラス基板上に形成した波長変換層又はガラス基板上に形成した波長変換層と光吸収層との積層体を測定サンプルとし、該測定サンプルを、波長変換層又は積層体を上に向けて光拡散板の表面に配置した。この状態でバックライトを点灯させ、波長変換層又は積層体から発せられる光について、上記分光放射輝度計を用いて分光放射輝度スペクトルを測定し、このスペクトルから、緑色発光ピークの最大ピーク波長における発光強度ＥＩ（μＷ）を算出した。
上述の緑色発光ピークの最大ピーク波長は、波長変換層に含まれる半導体粒子（Ａ）の発光スペクトルにおける緑色発光ピークの最大ピーク波長であり、５３０ｎｍであった。該緑色発光ピークの半値全幅は４２ｎｍであった。
半導体粒子（Ａ）の発光スペクトルは、絶対ＰＬ量子収率測定装置（浜松ホトニクス製の「Ｃ９９２０－０２」、励起光４５０ｎｍ、室温、大気下）を用いて、波長４５０ｎｍにおける吸光度が０．４となるように希釈した半導体粒子（Ａ）分散液を測定サンプルとして測定した。
（３）着色剤及び光吸収層の吸光スペクトル
ガラス基板上に形成した光吸収層を測定サンプルとし、積分球を具備した紫外可視近赤外分光光度計（（株）島津製作所製「ＵＶ－３６００」）を用いて、該測定サンプルの吸光スペクトルを測定した。バックグラウンドはガラス基板で取得した。得られた吸光スペクトルから、最大吸光度を示す波長（最大吸収波長、λｍａｘ）、該最大吸光度（最大吸収波長における吸光度、Ａｍａｘ）、波長４８０ｎｍにおける吸光度Ａ４８０を求め、Ａ４８０／Ａｍａｘの値を算出した。着色剤の吸光スペクトルの測定方法は、上記光吸収層の吸光スペクトルの測定方法と同じであり、着色剤についてのλｍａｘ、Ａｍａｘ及びＡ４８０の値は、光吸収層についてのこれらの値と同じである。
（４）波長変換層の光線透過率及び光吸収層の平均光線透過率
波長変換層の波長４５０ｎｍにおける光線透過率、及び、光吸収層（光吸収層形成用組成物）の５２０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の波長域における平均光線透過率は、積分球を具備した紫外可視近赤外分光光度計（（株）島津製作所製「ＵＶ－３６００」）を用いて吸光スペクトルを測定し、これに基づいて求めた。バックグラウンドはガラス基板で取得した。
（５）樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）の測定
樹脂（Ｃ）のポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）の測定は、ＧＰＣ法により以下の条件で行った。
装置：ＨＬＣ－８１２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）
カラム：ＴＳＫ－ＧＥＬＧ２０００ＨＸＬ
カラム温度：４０℃
溶媒：テトラヒドロフラン
流速：１．０ｍＬ／分
分析試料の固形分濃度：０．００１～０．０１質量％
注入量：５０μＬ
検出器：ＲＩ
校正用標準物質：ＴＳＫ ＳＴＡＮＤＡＲＤ ＰＯＬＹＳＴＹＲＥＮＥ Ｆ－４０、Ｆ－４、Ｆ－２８８、Ａ－２５００、Ａ－５００（東ソー（株）製）
＜合成例１：樹脂（Ｃ１）の合成＞
還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えたフラスコ内に窒素を適量流し窒素雰囲気に置換し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）８０部を入れ、攪拌しながら８５℃まで加熱した。次いで、メタクリル酸６部、ジシクロペンタニルメタクリレート２５部、メチルメタクリレート４０部、コハク酸１－［２－（メタクリロイルオキシ）エチル］２９部を、ＰＧＭＥＡ２０部に溶解させて調製した混合溶液を４時間かけてフラスコ内に滴下した。一方、重合開始剤２，２－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）９部をＰＧＭＥＡ４０部に溶解させた溶液を５時間かけて滴下した。開始剤溶液の滴下終了後、８５℃で４時間保持した後、室温まで冷却して、共重合体（樹脂（Ｃ１））溶液を得た。樹脂（Ｃ１）溶液の固形分は４０％、重量平均分子量Ｍｗは１１５００であった。
＜合成例２：樹脂（Ｃ２）の合成＞
還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えたフラスコ内に窒素を適量流し窒素雰囲気に置換し、ＰＧＭＥＡ３７１部を入れ、攪拌しながら８５℃まで加熱した。次いで、アクリル酸５４部、３，４－エポキシトリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン－８－イルアクリレート及び３，４－エポキシトリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン－９－イルアクリレートの混合物（含有比はモル比で５０：５０）２２５部、ビニルトルエン（異性体混合物）８１部を、ＰＧＭＥＡ８０部に溶解させて調製した混合溶液を４時間かけてフラスコ内に滴下した。一方、重合開始剤２，２－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）３０部をＰＧＭＥＡ１６０部に溶解させた溶液を５時間かけて滴下した。開始剤溶液の滴下終了後、８５℃で４時間保持した後、室温まで冷却して、共重合体（樹脂（Ｃ２））溶液を得た。樹脂（Ｃ２）溶液の固形分は３７％、重量平均分子量Ｍｗは１０６００であった。
＜調製例１：半導体粒子（Ａ１）分散液の調製＞
有機配位子（Ｇ１）としてオレイン酸を含む半導体粒子（Ａ１）〔緑色発光のＩｎＰ／ＺｎＳｅＳ量子ドット〕のトルエン分散液ａを準備した。上記のとおり、該量子ドットの緑色発光ピークの最大ピーク波長は５３０ｎｍであり、該緑色発光ピークの半値全幅は４２ｎｍであった。
上記トルエン分散液ａから減圧蒸留でトルエンを除去した後、半導体粒子（Ａ１）及び有機配位子（Ｇ１）の合計量３０部に対し、シクロヘキシルアセテート（Ｊ３）７０部を添加して、半導体粒子（Ａ１）分散液ｂを得た。半導体粒子（Ａ１）分散液ｂの組成は表１のとおりである。
Figure 2023120153000023
半導体粒子（Ａ１）と有機配位子（Ｇ１）との組成比は、トルエンを除去した後の混合物について、ＴＧ－ＤＴＡ測定により昇温速度５℃／ｍｉｎで５５０℃まで加熱したときの残量を測定し、該残量が有機配位子（Ｇ１）の重量として算出した。
＜調製例２：波長変換層形成用組成物（Ｉ）の調製＞
半導体粒子（Ａ１）分散液ｂに対し、表２の各成分を混合し、波長変換層形成用組成物（Ｉ）を調製した。表２中、溶剤（Ｊ）以外の成分の部数は固形分換算値を示す。
Figure 2023120153000024
表２に示される成分の略称の詳細は次のとおりである。
光散乱剤（Ｂ１）： 酸化チタン粒子６０部に樹脂Ｃ１を１０部（固形分換算）、ＰＧＭＥＡを合計３０部混合し、ビーズミルを用いて、酸化チタン粒子を十分に分散させたものを組成物（Ｉ）の調製に使用した。表２に記載の光散乱剤（Ｂ１）の部数は、酸化チタン粒子の部数である。
重合性化合物（Ｄ１）： カルボキシ基含有多官能（メタ）アクリレート（東亞合成（株）製の商品名「アロニックス Ｍ－５１０」）
重合開始剤（Ｅ１）： ＢＡＳＦ社製の「イルガキュア（登録商標）ＯＸＥ－０２」
酸化防止剤（Ｆ１）： 住友化学（株）製の商品名「スミライザーＧＰ」
レベリング剤（Ｈ１）： ポリエーテル変性シリコーンオイル（東レダウコーニング（株）製の商品名「トーレシリコーンＳＨ８４００」）
溶剤（Ｊ１）： プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）
＜調製例３：顔料分散液（Ｐｈ）の調製＞
表３の各成分を混合し、ビーズミルを用いて着色剤である顔料を十分に分散させることにより、顔料分散液（Ｐｈ－１）～（Ｐｈ－４）を調製した。
Figure 2023120153000025
表３に示される成分の略称の詳細は次のとおりである。
顔料（Ｐ１）： Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８
顔料（Ｐ２）： Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー２３１
顔料（Ｐ３）： Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０
顔料（Ｐ４）： Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８５
顔料分散剤 ： 溶剤系顔料分散剤
樹脂（Ｃ３）： メタクリル酸／ベンジルメタクリレート共重合体（共重合比（質量比）：３０／７０、Ｍｗ：１．２×１０４
溶剤（Ｊ２）： プロピレングリコール１－モノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）
＜実施例１～５、比較例１：光吸収層形成用組成物（ＩＩ）の調製＞
表４の各成分を混合して、光吸収層形成用組成物（ＩＩ－１）～（ＩＩ－６）を得た。表４中、樹脂の部数は固形分換算の値を示す。
Figure 2023120153000026
表４に示される成分の略称の詳細は次のとおりである。
重合性化合物（Ｄ２）： ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製の商品名「ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＨＡ」）
重合開始剤（Ｄ２） ： Ｎ－ベンゾイルオキシ－１－（４－フェニルスルファニルフェニル）オクタン－１－オン－２－イミン（ＢＡＳＦ社製の商品名「イルガキュア（登録商標）ＯＸＥ－０１」）
＜実施例６：光吸収層の形成＞
５ｃｍ角のガラス基板（コーニング社製の「イーグルＸＧ」）上に、実施例１の光吸収層形成用組成物（ＩＩ－１）を、ポストベーク後の層の厚みが１μｍとなるようにスピンコート法で塗布した後、１００℃で３分間プリベークして組成物層を形成した。この組成物層が形成された基板に対して、露光機（トプコン（株）製の「ＴＭＥ－１５０ＲＳＫ」）を用いて、大気雰囲気下、１００ｍＪ／ｃｍ２の露光量（３６５ｎｍ基準）で光照射し、現像後、１８０℃で３０分間ポストベークを行うことにより光吸収層を形成した。得られた光吸収層及び該光吸収層に含まれる着色剤（顔料）の最大吸収波長λｍａｘは４３０ｎｍであり、Ａ４８０／Ａｍａｘの値は０．１０であった。
また、光吸収層（光吸収層形成用組成物）の５２０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の波長域における平均光線透過率を測定したところ、９８％以上であった。
＜実施例７～１０及び比較例２＞
実施例１の光吸収層形成用組成物（ＩＩ－１）の代わりに、実施例２～５、比較例１の光吸収層形成用組成物（ＩＩ－２）～（ＩＩ－６）をそれぞれ用いたこと以外は実施例６と同様にして、光吸収層を形成した。得られた光吸収層及び該光吸収層に含まれる着色剤（顔料）の最大吸収波長λｍａｘ及びＡ４８０／Ａｍａｘの値を表５に示す。
また、光吸収層（光吸収層形成用組成物）の５２０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の波長域における平均光線透過率を測定したところ、いずれの光吸収層形成用組成物についても９８％以上であった。
Figure 2023120153000027
＜実施例１１：波長変換層と光吸収層との積層体の作製＞
５ｃｍ角のガラス基板（コーニング社製の「イーグルＸＧ」）上に、波長変換層形成用組成物（Ｉ）を、ポストベーク後の層の厚みが１０μｍとなるようにスピンコート法で塗布した後、１００℃で３分間プリベークして組成物層を形成した。この組成物層が形成された基板に対して、露光機（トプコン（株）製の「ＴＭＥ－１５０ＲＳＫ」）を用いて、大気雰囲気下、８０ｍＪ／ｃｍ２の露光量（３６５ｎｍ基準）で光照射し、現像後、１８０℃で３０分間ポストベークを行うことにより波長変換層を形成した。得られた波長変換層の発光強度（光吸収層積層前の発光強度）ＥＩｂを測定した。また、波長変換層の波長４５０ｎｍにおける光線透過率を測定したところ、１７％であった。
次に、この波長変換層を下地とすること以外は実施例６と同様の方法で、実施例１の光吸収層形成用組成物（ＩＩ－１）を用いて波長変換層上に光吸収層を形成し、波長変換層と光吸収層との積層体を得た。得られた積層体の発光強度（光吸収層積層後の発光強度）ＥＩａを測定し、光吸収層積層前後の発光強度ＥＩの維持率を下記式に従って求めた。結果を表６に示す。
光吸収層積層前後の発光強度ＥＩの維持率（％）＝［ＥＩａ／ＥＩｂ］×１００
＜実施例１２～１５及び比較例３＞
実施例１の光吸収層形成用組成物（ＩＩ－１）の代わりに、実施例２～５、比較例１の光吸収層形成用組成物（ＩＩ－２）～（ＩＩ－６）をそれぞれ用いたこと以外は実施例１１と同様にして、波長変換層と光吸収層との積層体を形成し、光吸収層積層前後の発光強度ＥＩの維持率を求めた。結果を表６に示す。
Figure 2023120153000028
１０ 波長変換層、１１ 第１波長変換層、１２ 第２波長変換層、２０ 光吸収層、２１ 第１光吸収層、２２ 第２光吸収層、３０ 保護層、４０ 青色光源。

Claims (9)

  1. 緑色又は赤色を発光する発光性無機半導体粒子を含有する波長変換層上に配置される光吸収層を形成するために用いられる組成物であって、
    下記式（ｉ）及び（ｉｉ）を満たす第１着色剤を含有する、組成物。
    ４２５≦λｍａｘ≦４７０ （ｉ）
    Ａ４８０／Ａｍａｘ＜０．５ （ｉｉ）
    ［式中、λｍａｘ（ｎｍ）は、吸光スペクトルの可視光波長域において最大吸光度を示す波長を表す。Ａｍａｘは、前記最大吸光度を表す。Ａ４８０は、波長４８０ｎｍにおける吸光度を表す。］
  2. 前記第１着色剤は、キノフタロン系黄色顔料である、請求項１に記載の組成物。
  3. 前記組成物に含有される着色剤が前記第１着色剤のみである、請求項１に記載の組成物。
  4. 緑色着色剤及び赤色着色剤から選択される第２着色剤をさらに含有する、請求項２に記載の組成物。
  5. ５２０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の波長域における平均光線透過率が９８％以上である、請求項１に記載の組成物。
  6. 請求項１～５のいずれか１項に記載の組成物から形成される光吸収層。
  7. 緑色又は赤色を発光する発光性無機半導体粒子を含有する波長変換層と、
    前記波長変換層上に配置される請求項６に記載の光吸収層と、
    を含む、積層体。
  8. 前記波長変換層は、波長４５０ｎｍにおける光線透過率が１０％以上である、請求項７に記載の積層体。
  9. 請求項７に記載の積層体を含む表示装置。
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