JP2023115863A5 - - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 2
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Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022018326A JP2023115863A (ja) | 2022-02-08 | 2022-02-08 | Fpd用のフォトマスク、fpd用のフォトマスクにおける位置計測用マークの形成方法及びfpd用のフォトマスクの製造方法 |
KR1020230004397A KR20230120090A (ko) | 2022-02-08 | 2023-01-12 | Fpd용의 포토마스크, fpd용의 포토마스크에 있어서의 위치 계측용 마크의 형성 방법 및 fpd용의 포토마스크의 제조 방법 |
CN202310086669.6A CN116577961A (zh) | 2022-02-08 | 2023-01-18 | Fpd用光掩模、fpd用光掩模的位置测量用标记的形成方法以及fpd用光掩模的制造方法 |
TW112103767A TWI866050B (zh) | 2022-02-08 | 2023-02-03 | 平板顯示器用光罩、平板顯示器用光罩的位置測量用標記的形成方法及平板顯示器用光罩的製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022018326A JP2023115863A (ja) | 2022-02-08 | 2022-02-08 | Fpd用のフォトマスク、fpd用のフォトマスクにおける位置計測用マークの形成方法及びfpd用のフォトマスクの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2023115863A JP2023115863A (ja) | 2023-08-21 |
JP2023115863A5 true JP2023115863A5 (enrdf_load_stackoverflow) | 2025-02-06 |
Family
ID=87540130
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022018326A Pending JP2023115863A (ja) | 2022-02-08 | 2022-02-08 | Fpd用のフォトマスク、fpd用のフォトマスクにおける位置計測用マークの形成方法及びfpd用のフォトマスクの製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2023115863A (enrdf_load_stackoverflow) |
KR (1) | KR20230120090A (enrdf_load_stackoverflow) |
CN (1) | CN116577961A (enrdf_load_stackoverflow) |
TW (1) | TWI866050B (enrdf_load_stackoverflow) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN117452778B (zh) * | 2023-11-08 | 2024-12-13 | 深圳清溢微电子有限公司 | 掩膜版二次曝光自动对位方法、装置 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001201844A (ja) | 2000-01-21 | 2001-07-27 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路装置の製造方法およびフォトマスクの製造方法 |
TW519701B (en) * | 2001-12-28 | 2003-02-01 | United Microelectronics Corp | Overlay mark structure and its measurement application |
WO2005116577A1 (ja) * | 2004-05-28 | 2005-12-08 | Nikon Corporation | 結像光学系の調整方法、結像装置、位置ずれ検出装置、マ-ク識別装置及びエッジ位置検出装置 |
TWI271811B (en) * | 2005-01-13 | 2007-01-21 | Ind Tech Res Inst | Overlay measurement target |
JP6792901B2 (ja) * | 2016-03-31 | 2020-12-02 | Hoya株式会社 | 反射型マスクブランクの製造方法、反射型マスクブランク、反射型マスクの製造方法、反射型マスク、及び半導体装置の製造方法 |
CN109468593A (zh) * | 2018-12-04 | 2019-03-15 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示面板的制备方法、显示面板及蒸镀装置 |
-
2022
- 2022-02-08 JP JP2022018326A patent/JP2023115863A/ja active Pending
-
2023
- 2023-01-12 KR KR1020230004397A patent/KR20230120090A/ko active Pending
- 2023-01-18 CN CN202310086669.6A patent/CN116577961A/zh active Pending
- 2023-02-03 TW TW112103767A patent/TWI866050B/zh active
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