JP2023078251A - アクリル酸誘導体の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】アクリル酸誘導体の製造方法を提供すること。【解決手段】化合物（Ｓ）を、溶媒の存在下にメチル化剤と反応させる化合物（Ｐ）の製造方法。化合物（Ｓ）TIFF2023078251000016.tif2143化合物（Ｐ）TIFF2023078251000017.tif2143【選択図】なし
Description
本発明はアクリル酸誘導体の製造方法に関する。
アクリル酸誘導体の製造方法として、例えば、特許文献１に示される方法により製造されることが知られている。
本発明の目的は、アクリル酸誘導体の新規な製造方法を提供することである。
本発明は、以下の通りである。
［１］ 式（ＩＩ）
〔式中、
Ｒ1は、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、シクロプロピル基、ハロゲン原子又は水素原子を表し、
Ｒ2は、ハロゲン原子、Ｒ4Ｒ5Ｃ＝Ｃ（Ｒ6）－、Ｒ7－Ｃ≡Ｃ－、Ｒ14Ｏ－Ｎ＝Ｃ（Ｒ9）－、Ｒ8Ｒ9Ｃ＝Ｎ－Ｏ－ＣＨ2－、Ｒ8Ｏ－Ｎ＝Ｃ（Ｒ9）－Ｃ（Ｒ10）＝Ｎ－Ｏ－ＣＨ2－、Ｒ8Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｒ9）＝Ｎ－Ｏ－ＣＨ2－、Ｒ8Ｃ（＝Ｎ－Ｏ－Ｒ9）－Ｃ（Ｒ10）＝Ｎ－Ｏ－ＣＨ2－、Ｃ５－Ｃ６シクロアルケニル基、Ｃ６－Ｃ１０アリール基又は５－１０員芳香族複素環基｛該Ｃ５－Ｃ６シクロアルケニル基、該Ｃ６－Ｃ１０アリール基及び該５－１０員芳香族複素環基は、群Ｄより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝を表し、
Ｒ3は、Ｃ１－Ｃ６鎖式炭化水素基を表し、
Ｌは、ＣＨ2、酸素原子又はＮＣＨ3を表し、
Ｒ4及びＲ6は、同一又は相異なり、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－Ｃ３鎖式炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、又は水素原子を表し、
Ｒ5は、群Ａより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、群Ｂより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ３－Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ６－Ｃ１０アリール基、５－１０員芳香族複素環基｛該Ｃ６－Ｃ１０アリール基及び該５－１０員芳香族複素環基は、群Ｄより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝、ハロゲン原子、シアノ基又は水素原子を表し、
Ｒ7は、群Ａより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、群Ｂより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ３－Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ６－Ｃ１０アリール基、５－１０員芳香族複素環基｛該Ｃ６－Ｃ１０アリール基及び該５－１０員芳香族複素環基は、群Ｄより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝又はＳｉＲ20Ｒ21Ｒ22を表し、
Ｒ8は、群Ａより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、群Ｂより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ３－Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ６－Ｃ１０アリール基又は５－１０員芳香族複素環基｛該Ｃ６－Ｃ１０アリール基及び該５－１０員芳香族複素環基は、群Ｄより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝を表し、
Ｒ9、Ｒ10及びＲ17は、同一又は相異なり、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－Ｃ３鎖式炭化水素基又は水素原子を表し、
Ｒ14は、群Ａより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、群Ｂより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ３－Ｃ６シクロアルキル基、Ｒ15Ｃ（Ｏ）－、Ｒ16ＯＣ（Ｏ）－、Ｒ15Ｒ17ＮＣ（Ｏ）－、Ｃ６－Ｃ１０アリール基又は５－１０員芳香族複素環基｛該Ｃ６－Ｃ１０アリール基及び該５－１０員芳香族複素環基は、群Ｄより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝を表し、
Ｒ15は、群Ａより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、群Ｂより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ３－Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ６－Ｃ１０アリール基、５－１０員芳香族複素環基｛該Ｃ６－Ｃ１０アリール基及び該５－１０員芳香族複素環基は、群Ｄより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝又は水素原子を表し、
Ｒ16は、群Ａより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、群Ｂより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ３－Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ６－Ｃ１０アリール基、又は５－１０員芳香族複素環基｛該Ｃ６－Ｃ１０アリール基及び該５－１０員芳香族複素環基は、群Ｄより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝を表し、
Ｒ20、Ｒ21及びＲ22は、同一又は相異なり、Ｃ１－Ｃ６鎖式炭化水素基又はフェニル基を表す。
群Ａ：Ｃ３－Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ１－Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１－Ｃ４アルキルチオ基｛該Ｃ３－Ｃ６シクロアルキル基、該Ｃ１－Ｃ４アルコキシ基及び該Ｃ１－Ｃ４アルキルチオ基は、ハロゲン原子及びシアノ基からなる群より選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、フェノキシ基、フェニル基、ナフチル基及び５－６員芳香族複素環基｛該フェノキシ基、該フェニル基、該ナフチル基及び該５－６員芳香族複素環基は、群Ｃより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝からなる群。
群Ｂ：Ｃ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、Ｃ３－Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ１－Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１－Ｃ４アルキルチオ基｛該Ｃ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、該Ｃ３－Ｃ６シクロアルキル基、該Ｃ１－Ｃ４アルコキシ基及び該Ｃ１－Ｃ４アルキルチオ基は、ハロゲン原子及びシアノ基からなる群より選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、フェノキシ基、フェニル基、ナフチル基及び５－６員芳香族複素環基｛該フェノキシ基、該フェニル基、該ナフチル基及び該５－６員芳香族複素環基は、群Ｃより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝からなる群。
群Ｃ：Ｃ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、Ｃ３－Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ１－Ｃ６アルコキシ基及びＣ１－Ｃ６アルキルチオ基｛該Ｃ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、該Ｃ３－Ｃ６シクロアルキル基、該Ｃ１－Ｃ６アルコキシ基及び該Ｃ１－Ｃ６アルキルチオ基は、ハロゲン原子及びシアノ基からなる群より選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基及びヒドロキシ基からなる群。
群Ｄ：群Ａより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、群Ｂより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ３－Ｃ６シクロアルキル基、ＯＲ11、Ｓ（Ｏ）mＲ13、ＯＳ（Ｏ）2Ｒ13、Ｃ（Ｏ）Ｒ11、Ｃ（Ｏ）ＯＲ11、ＮＲ11Ｒ12、Ｃ（Ｏ）ＮＲ11Ｒ12、Ｓ（Ｏ）2ＮＲ11Ｒ12、ＮＲ12Ｃ（Ｏ）Ｒ11、ＮＲ12Ｃ（Ｏ）ＯＲ13、ＮＲ12Ｓ（Ｏ）2Ｒ13、Ｃ（Ｒ12）＝Ｎ－ＯＲ11、フェニル基、ナフチル基、５－６員芳香族複素環基｛該フェニル基、該ナフチル基及び該５－６員芳香族複素環基は、群Ｃより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝、オキソ基、チオキソ基、ハロゲン原子、シアノ基及びニトロ基からなる群。
Ｒ11及びＲ12は、同一又は相異なり、群Ａより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、群Ｂより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ３－Ｃ６シクロアルキル基、フェニル基、ナフチル基、５－６員芳香族複素環基｛該フェニル基、該ナフチル基及び該５－６員芳香族複素環基は、群Ｃより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝又は水素原子を表し、
Ｒ13は、群Ａより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、群Ｂより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ３－Ｃ６シクロアルキル基、フェニル基、ナフチル基又は５－６員芳香族複素環基｛該フェニル基、該ナフチル基及び該５－６員芳香族複素環基は、群Ｃより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝を表し、
ｍは、０、１又は２を表す。〕
で示される化合物を、溶媒の存在下にメチル化剤と反応させる式（Ｉ）
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＬは、それぞれ前記と同じ意味を表す。〕
で示される化合物の製造方法。
［２］前記メチル化剤がジメチル硫酸である［１］に記載の製造方法。
［３］さらに触媒を存在させて前記反応を行う［１］に記載の製造方法。
［４］前記溶媒が、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エーテル、ケトン、エステル、アルコール、水、ニトリル及び非プロトン性極性溶媒からなる群より選ばれる少なくとも１種を含む溶媒である［１］～［３］のいずれか１項に記載の製造方法。
［５］前記式（ＩＩ）で示される化合物が、塩基の存在下に式（ＩＩＩ）
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＬは、それぞれ前記と同じ意味を表す。〕
で示される化合物と、式（ＩＶ）
〔式中、Ｒaは、Ｃ１－Ｃ６鎖式炭化水素基を表す。〕
で示されるギ酸アルキルとを反応させて得られたものである［１］～［３］のいずれか１項に記載の製造方法。
［１］ 式（ＩＩ）
Ｒ1は、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、シクロプロピル基、ハロゲン原子又は水素原子を表し、
Ｒ2は、ハロゲン原子、Ｒ4Ｒ5Ｃ＝Ｃ（Ｒ6）－、Ｒ7－Ｃ≡Ｃ－、Ｒ14Ｏ－Ｎ＝Ｃ（Ｒ9）－、Ｒ8Ｒ9Ｃ＝Ｎ－Ｏ－ＣＨ2－、Ｒ8Ｏ－Ｎ＝Ｃ（Ｒ9）－Ｃ（Ｒ10）＝Ｎ－Ｏ－ＣＨ2－、Ｒ8Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｒ9）＝Ｎ－Ｏ－ＣＨ2－、Ｒ8Ｃ（＝Ｎ－Ｏ－Ｒ9）－Ｃ（Ｒ10）＝Ｎ－Ｏ－ＣＨ2－、Ｃ５－Ｃ６シクロアルケニル基、Ｃ６－Ｃ１０アリール基又は５－１０員芳香族複素環基｛該Ｃ５－Ｃ６シクロアルケニル基、該Ｃ６－Ｃ１０アリール基及び該５－１０員芳香族複素環基は、群Ｄより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝を表し、
Ｒ3は、Ｃ１－Ｃ６鎖式炭化水素基を表し、
Ｌは、ＣＨ2、酸素原子又はＮＣＨ3を表し、
Ｒ4及びＲ6は、同一又は相異なり、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－Ｃ３鎖式炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、又は水素原子を表し、
Ｒ5は、群Ａより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、群Ｂより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ３－Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ６－Ｃ１０アリール基、５－１０員芳香族複素環基｛該Ｃ６－Ｃ１０アリール基及び該５－１０員芳香族複素環基は、群Ｄより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝、ハロゲン原子、シアノ基又は水素原子を表し、
Ｒ7は、群Ａより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、群Ｂより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ３－Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ６－Ｃ１０アリール基、５－１０員芳香族複素環基｛該Ｃ６－Ｃ１０アリール基及び該５－１０員芳香族複素環基は、群Ｄより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝又はＳｉＲ20Ｒ21Ｒ22を表し、
Ｒ8は、群Ａより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、群Ｂより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ３－Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ６－Ｃ１０アリール基又は５－１０員芳香族複素環基｛該Ｃ６－Ｃ１０アリール基及び該５－１０員芳香族複素環基は、群Ｄより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝を表し、
Ｒ9、Ｒ10及びＲ17は、同一又は相異なり、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－Ｃ３鎖式炭化水素基又は水素原子を表し、
Ｒ14は、群Ａより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、群Ｂより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ３－Ｃ６シクロアルキル基、Ｒ15Ｃ（Ｏ）－、Ｒ16ＯＣ（Ｏ）－、Ｒ15Ｒ17ＮＣ（Ｏ）－、Ｃ６－Ｃ１０アリール基又は５－１０員芳香族複素環基｛該Ｃ６－Ｃ１０アリール基及び該５－１０員芳香族複素環基は、群Ｄより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝を表し、
Ｒ15は、群Ａより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、群Ｂより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ３－Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ６－Ｃ１０アリール基、５－１０員芳香族複素環基｛該Ｃ６－Ｃ１０アリール基及び該５－１０員芳香族複素環基は、群Ｄより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝又は水素原子を表し、
Ｒ16は、群Ａより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、群Ｂより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ３－Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ６－Ｃ１０アリール基、又は５－１０員芳香族複素環基｛該Ｃ６－Ｃ１０アリール基及び該５－１０員芳香族複素環基は、群Ｄより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝を表し、
Ｒ20、Ｒ21及びＲ22は、同一又は相異なり、Ｃ１－Ｃ６鎖式炭化水素基又はフェニル基を表す。
群Ａ：Ｃ３－Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ１－Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１－Ｃ４アルキルチオ基｛該Ｃ３－Ｃ６シクロアルキル基、該Ｃ１－Ｃ４アルコキシ基及び該Ｃ１－Ｃ４アルキルチオ基は、ハロゲン原子及びシアノ基からなる群より選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、フェノキシ基、フェニル基、ナフチル基及び５－６員芳香族複素環基｛該フェノキシ基、該フェニル基、該ナフチル基及び該５－６員芳香族複素環基は、群Ｃより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝からなる群。
群Ｂ：Ｃ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、Ｃ３－Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ１－Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１－Ｃ４アルキルチオ基｛該Ｃ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、該Ｃ３－Ｃ６シクロアルキル基、該Ｃ１－Ｃ４アルコキシ基及び該Ｃ１－Ｃ４アルキルチオ基は、ハロゲン原子及びシアノ基からなる群より選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、フェノキシ基、フェニル基、ナフチル基及び５－６員芳香族複素環基｛該フェノキシ基、該フェニル基、該ナフチル基及び該５－６員芳香族複素環基は、群Ｃより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝からなる群。
群Ｃ：Ｃ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、Ｃ３－Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ１－Ｃ６アルコキシ基及びＣ１－Ｃ６アルキルチオ基｛該Ｃ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、該Ｃ３－Ｃ６シクロアルキル基、該Ｃ１－Ｃ６アルコキシ基及び該Ｃ１－Ｃ６アルキルチオ基は、ハロゲン原子及びシアノ基からなる群より選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基及びヒドロキシ基からなる群。
群Ｄ：群Ａより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、群Ｂより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ３－Ｃ６シクロアルキル基、ＯＲ11、Ｓ（Ｏ）mＲ13、ＯＳ（Ｏ）2Ｒ13、Ｃ（Ｏ）Ｒ11、Ｃ（Ｏ）ＯＲ11、ＮＲ11Ｒ12、Ｃ（Ｏ）ＮＲ11Ｒ12、Ｓ（Ｏ）2ＮＲ11Ｒ12、ＮＲ12Ｃ（Ｏ）Ｒ11、ＮＲ12Ｃ（Ｏ）ＯＲ13、ＮＲ12Ｓ（Ｏ）2Ｒ13、Ｃ（Ｒ12）＝Ｎ－ＯＲ11、フェニル基、ナフチル基、５－６員芳香族複素環基｛該フェニル基、該ナフチル基及び該５－６員芳香族複素環基は、群Ｃより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝、オキソ基、チオキソ基、ハロゲン原子、シアノ基及びニトロ基からなる群。
Ｒ11及びＲ12は、同一又は相異なり、群Ａより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、群Ｂより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ３－Ｃ６シクロアルキル基、フェニル基、ナフチル基、５－６員芳香族複素環基｛該フェニル基、該ナフチル基及び該５－６員芳香族複素環基は、群Ｃより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝又は水素原子を表し、
Ｒ13は、群Ａより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、群Ｂより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ３－Ｃ６シクロアルキル基、フェニル基、ナフチル基又は５－６員芳香族複素環基｛該フェニル基、該ナフチル基及び該５－６員芳香族複素環基は、群Ｃより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝を表し、
ｍは、０、１又は２を表す。〕
で示される化合物を、溶媒の存在下にメチル化剤と反応させる式（Ｉ）
で示される化合物の製造方法。
［２］前記メチル化剤がジメチル硫酸である［１］に記載の製造方法。
［３］さらに触媒を存在させて前記反応を行う［１］に記載の製造方法。
［４］前記溶媒が、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エーテル、ケトン、エステル、アルコール、水、ニトリル及び非プロトン性極性溶媒からなる群より選ばれる少なくとも１種を含む溶媒である［１］～［３］のいずれか１項に記載の製造方法。
［５］前記式（ＩＩ）で示される化合物が、塩基の存在下に式（ＩＩＩ）
で示される化合物と、式（ＩＶ）
で示されるギ酸アルキルとを反応させて得られたものである［１］～［３］のいずれか１項に記載の製造方法。
本発明により、アクリル酸誘導体の新規な製造方法を提供することができる。
本発明における置換基について説明する。
ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を意味する。
置換基が２以上のハロゲン原子又は置換基で置換されている場合、それらのハロゲン原子又は置換基は、各々同一でも異なっていてもよい。
ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を意味する。
置換基が２以上のハロゲン原子又は置換基で置換されている場合、それらのハロゲン原子又は置換基は、各々同一でも異なっていてもよい。
本明細書における「ＣＸ－ＣＹ」との表記は、炭素原子数がＸ乃至Ｙであることを意味する。例えば「Ｃ１－Ｃ６」との表記は、炭素原子数が１乃至６であることを意味する。
鎖式炭化水素基とは、アルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を表す。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、１，１－ジメチルプロピル基、１，２－ジメチルプロピル基、１－エチルプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、及びヘキシル基が挙げられる。
アルケニル基としては、例えば、ビニル基、１－プロペニル基、２－プロペニル基、１－メチル－１－プロペニル基、１－メチル－２－プロペニル基、１，２－ジメチル－１－プロペニル基、１－エチル－２－プロペニル基、３－ブテニル基、４－ペンテニル基、及び５－ヘキセニル基が挙げられる。
アルキニル基としては、例えば、エチニル基、１－プロピニル基、２－プロピニル基、１－メチル－２－プロピニル基、１，１－ジメチル－２－プロピニル基、１－エチル－２－プロピニル基、２－ブチニル基、４－ペンチニル基、及び５－ヘキシニル基が挙げられる。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、１，１－ジメチルプロピル基、１，２－ジメチルプロピル基、１－エチルプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、及びヘキシル基が挙げられる。
アルケニル基としては、例えば、ビニル基、１－プロペニル基、２－プロペニル基、１－メチル－１－プロペニル基、１－メチル－２－プロペニル基、１，２－ジメチル－１－プロペニル基、１－エチル－２－プロペニル基、３－ブテニル基、４－ペンテニル基、及び５－ヘキセニル基が挙げられる。
アルキニル基としては、例えば、エチニル基、１－プロピニル基、２－プロピニル基、１－メチル－２－プロピニル基、１，１－ジメチル－２－プロピニル基、１－エチル－２－プロピニル基、２－ブチニル基、４－ペンチニル基、及び５－ヘキシニル基が挙げられる。
シクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、及びシクロヘキシル基が挙げられる。
シクロアルケニル基としては、例えば、シクロペンテニル基、及びシクロヘキセニル基が挙げられる。
アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、インダニル基及びテトラヒドロナフチル基が挙げられる。
シクロアルケニル基としては、例えば、シクロペンテニル基、及びシクロヘキセニル基が挙げられる。
アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、インダニル基及びテトラヒドロナフチル基が挙げられる。
芳香族複素環基としては、例えばピロリル基、フラニル基、チエニル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサジアゾリル基及びチアジアゾリル基等の５員芳香族複素環基；ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基及びテトラジニル基の６員芳香族複素環基；インダゾリル基、インドリジニル基、イミダゾピリジル基及び１，３－ベンゾジオキソリル基等の９員芳香族複素環基；キノリル基、イソキノリル基、キナゾリニル基、ナフチリジニル基、ベンゾピラニル基及びジヒドロベンゾピラニル基等の１０員芳香族複素環基が挙げられる。
アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基、ペンチルオキシ基、及びヘキシルオキシ基が挙げられる。
アルキルチオ基としては、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、及びヘキシルチオ基が挙げられる。
次に、前記式（ＩＩ）で示される化合物（本明細書中、以下、「化合物（ＩＩ）」と記載することがある）を、溶媒の存在下にメチル化剤と反応（本明細書中、以下、かかる反応を「第２の反応」と記載することがある）させる前記式（Ｉ）で示される化合物（本明細書中、以下、「化合物（Ｉ）」と記載することがある）の製造方法について説明する。
第２の反応の溶媒としては、例えば、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エーテル、ケトン、エステル、アルコール、水、ニトリル及び非プロトン性極性溶媒からなる群より選ばれる少なくとも１種を含む溶媒を使用することができる。かかる溶媒としては、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エーテル、ケトン、エステル、アルコール、水、ニトリル及び非プロトン性極性溶媒からなる群より選ばれる１種であってもよいし、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エーテル、ケトン、エステル、アルコール、水、ニトリル及び非プロトン性極性溶媒からなる群より選ばれる２種以上の混合溶媒であってもよいし、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エーテル、ケトン、エステル、アルコール、水、ニトリル及び非プロトン性極性溶媒からなる群より選ばれる少なくとも１種と、これら以外の化合物との混合溶媒であってもよい。
芳香族炭化水素としては、例えば、トルエン、キシレン、エチルベンゼンが挙げられる。脂肪族炭化水素としては、例えば、ｎ－ヘキサン、ｎ－ヘプタンが挙げられる。ハロゲン化炭化水素としては、例えば、モノクロロベンゼンが挙げられる。エーテルとしては、例えば、１，４－ジオキサン、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、エチレングリコ－ルジメチルエ－テル、ｔ－ブチルメチルエ－テルが挙げられる。ケトンとしては、例えば、アセトンが挙げられる。エステルとしては、例えば、酢酸ブチル、酢酸エチルが挙げられる。アルコールとしては、例えば、メタノール、エタノールが挙げられる。ニトリルとしては、例えば、アセトニトリル、ベンゾニトリルが挙げられる。非プロトン性極性溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ－メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホランが挙げられる。
第２の反応のメチル化剤としては、例えば、ＣＨ3－Ｘで示される化合物〔式中、Ｘは、脱離基を表す。〕、ジメチル硫酸、炭酸ジメチル、ジアゾ化合物が挙げられ、中でも、ジメチル硫酸が好ましい。脱離基としては、例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ｐ－トルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基が挙げられる。ジアゾ化合物としては、例えば、トリメチルシリルジアゾメタン等のトリアルキルシリルジアゾメタン；ジアゾメタンが挙げられる。第２の反応には、化合物（ＩＩ）１モルに対して、メチル化剤が通常１～５モルの割合で用いられる。
第２の反応のメチル化剤として上述のＣＨ3－Ｘで示される化合物、ジメチル硫酸又は炭酸ジメチルを用いる場合には、塩基をさらに存在させて第２の反応を行うのがよい。塩基としては、例えば、無機塩基、有機塩基、アルカリ金属アルコキシド、あるいはこれらの混合物が挙げられる。無機塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、水素化ナトリウムが挙げられる。有機塩基としては、例えば、ピリジン、トリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、アニリンが挙げられる。アルカリ金属アルコキシドとしては、例えば、カリウム－ｔ－ブトキシド、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドが挙げられる。第２の反応において塩基を用いる場合、好ましくは、化合物（ＩＩ）１モルに対して、塩基が１～１０モルの割合で用いられる。塩基として有機塩基を用いる場合、過剰量用いることにより前記溶媒を兼ねてもよい。
第２の反応のメチル化剤として上述のジアゾ化合物を用いる場合には、プロトン性溶媒を用いることが好ましい。プロトン性溶媒としては、例えば、上述のアルコールが挙げられる。
第２の反応は、さらに触媒を存在させて行ってもよい。触媒としては、例えば、塩化テトラブチルアンモニウム、臭化テトラブチルアンモニウム、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、臭化ベンジルトリメチルアンモニウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム、臭化ベンジルトリエチルアンモニウム等の第四級アンモニウム塩が挙げられる。反応には、化合物（ＩＩ）１モルに対して、触媒が通常０．００５～０．２モルの割合で用いられる。
第２の反応の反応温度は通常－２０～１００℃の範囲内である。第２の反応の反応時間は通常１～４８時間の範囲内である。反応終了後は、反応混合物に対して有機溶媒抽出、濃縮等の通常の後処理を行い、化合物（Ｉ）を得ることができる。必要ならば再結晶、蒸留、クロマトグラフィー等により精製して、化合物（Ｉ）を単離することができる。再結晶に用いられる溶媒としては、例えば、上述の第２の反応の溶媒として挙げた溶媒が挙げられる。中でも芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エーテル、ケトン、エステル、ニトリル及び非プロトン性極性溶媒からなる群より選ばれる少なくとも１種と、脂肪族炭化水素、アルコール及び水からなる群より選ばれる少なくとも１種との混合溶媒が好ましい。
第２の反応において、化合物（ＩＩ）、溶媒及びメチル化剤の混合順序は、特に制限されないが、例えば、化合物（ＩＩ）、溶媒及びメチル化剤を同時に混合してもよいし、化合物（ＩＩ）と溶媒との混合液にメチル化剤を混合してもよいし、メチル化剤と溶媒との混合液に化合物（ＩＩ）を混合してもよい。反応系に化合物（ＩＩ）又はメチル化剤を供給する場合、化合物（ＩＩ）又はメチル化剤は前記溶媒の溶液又はスラリーとして供給してもよい。
得られた化合物（Ｉ）の結晶は、式（Ｉ）中、Ｒ1がメチル基であり、Ｒ2がフェニル基であり、Ｒ3がメチル基であり、Ｌが酸素原子である化合物の場合、Ｃｕ－Ｋα線による粉末Ｘ線回折における２θ値（°）の回折ピークの一例として、反射法で測定すると、検出可能な割合でＺ体を含む場合には図１及び図２に示す回折ピークを有し、例えば、２θ＝９．３±０．２°、１３．２±０．２°、１６．８±０．２°、１８．７±０．２°、２２．３±０．２°、２３．４±０．２°、２８．１±０．２°、２８．５±０．２°、３１．０±０．２°、３７．８±０．２°、及び４７．８±０．２°に回折ピークを有し、検出可能な割合でＥ体を含む場合には図３に示す回折ピークを有し、例えば、１２．３±０．２°、１４．９±０．２°、１７．３±０．２°、１７．９±０．２°、１８．２±０．２°、１８．５±０．２°、２１．３±０．２°、２２．５±０．２°、２４．７±０．２°、２４．８±０．２°、２５．０±０．２°及び２６．９±０．２°に回折ピークを有する。尚、Ｅ体及びＺ体の記載はカーン・インゴールド・プレローグ順位則に則っており、これ以降も同様とする。
得られた化合物（Ｉ）は、医薬、農薬等の原料及び中間体、特に農園芸用殺菌剤として有用である。
化合物（ＩＩ）は、公知であるか、又は既知の方法を用いて製造することができるが、塩基の存在下に前記式（ＩＩＩ）で示される化合物（本明細書中、以下、「化合物（ＩＩＩ）」と記載することがある）と、前記式（ＩＶ）で示されるギ酸アルキル（本明細書中、以下、「化合物（ＩＶ）」と記載することがある）とを反応（本明細書中、以下、かかる反応を「第１の反応」と記載することがある）させて得ることもできる。
第１の反応の化合物（ＩＶ）としては、例えば、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸イソプロピル、ギ酸ブチル、ギ酸ペンチル、ギ酸ヘキシルが挙げられる。第１の反応には、化合物（ＩＩＩ）１モルに対して、化合物（ＩＶ）が通常１～１０モルの割合で用いられる。
第１の反応の塩基としては、例えば、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の無機塩基；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、カリウム－ｔ－ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド；ナトリウムアミド、リチウムアミド、リチウムジイソプロピルアミド、ナトリウムヘキサメチルジシラジド、リチウムヘキサメチルジシラジド等のアルカリ金属アミド；及びこれらの混合物が挙げられる。第１の反応には、化合物（ＩＩＩ）１モルに対して、塩基が通常１～１０モルの割合で用いられる。
第１の反応は必要に応じて、溶媒中にて行われ、溶媒としては、例えば、１，４－ジオキサン、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、エチレングリコ－ルジメチルエ－テル、ｔ－ブチルメチルエ－テル等のエ－テル；ｎ－ヘキサン、ｎ－ヘプタン等の脂肪族炭化水素；トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素；モノクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素；ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン等の有機塩基；アセトニトリル等のニトリル；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド；ジメチルスルホキシド；Ｎ，Ｎ－ジメチル－２－イミダゾリドン；スルホラン；あるいはそれらの混合物が挙げられる。
第１の反応の反応温度は通常０～８０℃の範囲内である。第１の反応の反応時間は通常１～４８時間の範囲内である。反応終了後は、反応混合物を希塩酸等の酸性水溶液で処理した後、有機溶媒抽出、濃縮等の通常の後処理を行い、化合物（ＩＩ）を得ることができる。必要ならば再結晶、クロマトグラフィー等により精製して、化合物（ＩＩ）を単離することができる。再結晶に用いられる溶媒としては、例えば、上述の第２の反応の溶媒として挙げた溶媒が挙げられる。
化合物（ＩＩＩ）は、公知であるか、又は既知の方法を用いて製造することができる。
第２の反応において第１の反応により得られた化合物（ＩＩ）を用いる場合、かかる化合物（ＩＩ）として、前記の後処理又は単離により得られたものを用いてもよいし、反応終了後の反応混合物を中和することなく、必要に応じて抽出等の後処理を行うことにより得られた化合物（ＩＩ）を含む混合物を用いてもよいし、反応終了後の反応混合物を部分中和又は中性になるまで中和して得られる、化合物（ＩＩ）を含む混合物を第２の反応に供してもよい。反応終了後の反応混合物を中和することなくあるいは部分中和して得られる、化合物（ＩＩ）を含む混合物を第２の反応に供する場合、化合物（ＩＩ）はリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩等の塩を形成しているため、第２の反応において使用され得る前記塩基の使用を省略あるいは使用量を削減することができる。前記の部分中和又は中和に用いられる酸としては、例えば、塩酸、硫酸、リン酸等の無機酸；酢酸、プロピオン酸、安息香酸等の有機酸が挙げられる。
化合物（Ｉ）及び化合物（ＩＩ）は、一つ以上の立体異性体が存在する場合がある。立体異性体としては、エナンチオマー、ジアステレオマー及び幾何異性体等が挙げられる。化合物（Ｉ）及び化合物（ＩＩ）には各立体異性体及び任意の比率の立体異性体混合物が含まれる。化合物（ＩＩ）は、下式に示す互変異性体が存在する。第１の反応においては製造条件によって異なる生成比で化合物（ＩＩ）が得られる。第２の反応においては、化合物（ＩＩ）として、互変異性体の混合物を用いることができる。
化合物（Ｉ）においては、下式で示されるＥ体及びＺ体が存在するが、式（Ｉ）は、その各々及びその混合物の何れかを表す。化合物（Ｉ）において、Ｅ体とＺ体との比率は、例えば以下の態様が挙げられる。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝５０／５０以下である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝４０／６０以下である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝２０／８０以下である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝１／１００００～１０／９０である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝１／１００００～５／９５である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝１／１０００～２／９８である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝１０／９０である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９／９１である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝８／９２である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝７／９３である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝６／９４である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝５／９５である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝４／９６である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝３／９７である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝２／９８である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝１／９９である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝０．１／９９．９である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝０．０１／９９．９９である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝０．００１／９９．９９９である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝０．０００１／９９．９９９９である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝５０／５０以上である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝６０／４０以上である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝８０／２０以上である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９０／１０～１００００／１である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９５／５～１００００／１である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９８／２～１０００／１である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９０／１０である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９１／９である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９２／８である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９３／７である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９４／６である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９５／５である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９６／４である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９７／３である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９８／２である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９９／１である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９９．９／０．１である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９９．９９／０．０１である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９９．９９９／０．００１である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９９．９９９９／０．０００１である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝５０／５０以下である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝４０／６０以下である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝２０／８０以下である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝１／１００００～１０／９０である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝１／１００００～５／９５である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝１／１０００～２／９８である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝１０／９０である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９／９１である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝８／９２である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝７／９３である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝６／９４である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝５／９５である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝４／９６である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝３／９７である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝２／９８である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝１／９９である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝０．１／９９．９である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝０．０１／９９．９９である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝０．００１／９９．９９９である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝０．０００１／９９．９９９９である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝５０／５０以上である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝６０／４０以上である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝８０／２０以上である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９０／１０～１００００／１である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９５／５～１００００／１である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９８／２～１０００／１である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９０／１０である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９１／９である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９２／８である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９３／７である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９４／６である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９５／５である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９６／４である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９７／３である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９８／２である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９９／１である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９９．９／０．１である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９９．９９／０．０１である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９９．９９９／０．００１である。
１つの実施態様では、Ｅ体／Ｚ体＝９９．９９９９／０．０００１である。
以下、本発明の実施例、製造例、参考例を示すが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。実施例中、化合物（Ｓ）は、式（ＩＩ）中、Ｒ1がメチル基であり、Ｒ2がフェニル基であり、Ｒ3がメチル基であり、Ｌが酸素原子である化合物であり、化合物（Ｐ）は、式（Ｉ）中、Ｒ1がメチル基であり、Ｒ2がフェニル基であり、Ｒ3がメチル基であり、Ｌが酸素原子である化合物であり、化合物（Ｑ）は、式（ＩＩＩ）中、Ｒ1がメチル基であり、Ｒ2がフェニル基であり、Ｒ3がメチル基であり、Ｌが酸素原子である化合物である。化合物（Ｐ）において、Ｅ体及びＺ体はそれぞれ以下に示す化合物である。化合物（Ｓ）及び化合物（Ｐ）の含有量は、高速液体クロマトグラフィーにより分析し、収率を算出した。化合物（Ｐ）のＺ体選択性及びＥ体／Ｚ体比は、化合物（Ｐ）のＥ体及びＺ体それぞれの含有量を高速液体クロマトグラフィーにより分析し、算出した。なお、下式の化合物（Ｓ）、化合物（Ｐ）、化合物（Ｑ）、化合物（Ｐ）のＥ体及び化合物（Ｐ）のＺ体において、Ｍｅはメチル基を表す。
製造例１
化合物（Ｑ）５０．０ｇ、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド４３０．３ｇ、ナトリウムメトキシド（２８重量％メタノール溶液）８２．８ｇ及びギ酸メチル５８．５ｇを混合し、３０℃で１７時間撹拌した。得られた混合物を塩酸で中和した後に、ｔ－ブチルメチルエーテル５１２．８ｇを用いて２度抽出した。得られた有機層を２５重量％塩化ナトリウム水溶液３８２．５ｇで２度洗浄した後に濃縮し、化合物（Ｓ）を８５％重量含む混合物７６．０ｇを得た。
化合物（Ｑ）５０．０ｇ、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド４３０．３ｇ、ナトリウムメトキシド（２８重量％メタノール溶液）８２．８ｇ及びギ酸メチル５８．５ｇを混合し、３０℃で１７時間撹拌した。得られた混合物を塩酸で中和した後に、ｔ－ブチルメチルエーテル５１２．８ｇを用いて２度抽出した。得られた有機層を２５重量％塩化ナトリウム水溶液３８２．５ｇで２度洗浄した後に濃縮し、化合物（Ｓ）を８５％重量含む混合物７６．０ｇを得た。
実施例１
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を０．７ｇ含む混合物１．１ｇ、Ｎ,Ｎ－ジメチルホルムアミド４．０ｇ、炭酸カリウム０．６ｇ及びジメチル硫酸０．５ｇを混合し、２５℃で６時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として８５％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を０．７ｇ含む混合物１．１ｇ、Ｎ,Ｎ－ジメチルホルムアミド４．０ｇ、炭酸カリウム０．６ｇ及びジメチル硫酸０．５ｇを混合し、２５℃で６時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として８５％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
実施例２
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を０．８ｇ含む混合物１．２ｇ、アセトニトリル４．２ｇ、炭酸カリウム０．６ｇ及びジメチル硫酸０．５ｇを混合し、２５℃で６時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として８９％（Ｚ体選択性９９％（Ｅ体：Ｚ体＝１：９９））であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を０．８ｇ含む混合物１．２ｇ、アセトニトリル４．２ｇ、炭酸カリウム０．６ｇ及びジメチル硫酸０．５ｇを混合し、２５℃で６時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として８９％（Ｚ体選択性９９％（Ｅ体：Ｚ体＝１：９９））であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
実施例３
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を０．８ｇ含む混合物１．２ｇ、キシレン４．０ｇ、炭酸カリウム０．５ｇ及びジメチル硫酸０．５ｇを混合し、２５℃で６時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として８３％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を０．８ｇ含む混合物１．２ｇ、キシレン４．０ｇ、炭酸カリウム０．５ｇ及びジメチル硫酸０．５ｇを混合し、２５℃で６時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として８３％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
実施例４
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を０．８ｇ含む混合物１．３ｇ、アセトン４．２ｇ、炭酸カリウム０．５ｇ及びジメチル硫酸０．５ｇを混合し、２５℃で６時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として８８％（Ｚ体選択性９９％（Ｅ体：Ｚ体＝１：９９））であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を０．８ｇ含む混合物１．３ｇ、アセトン４．２ｇ、炭酸カリウム０．５ｇ及びジメチル硫酸０．５ｇを混合し、２５℃で６時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として８８％（Ｚ体選択性９９％（Ｅ体：Ｚ体＝１：９９））であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
実施例５
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を０．８ｇ含む混合物１．２ｇ、酢酸エチル４．０ｇ、炭酸カリウム０．６ｇ及びジメチル硫酸０．５ｇを混合し、２５℃で６時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として８８％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を０．８ｇ含む混合物１．２ｇ、酢酸エチル４．０ｇ、炭酸カリウム０．６ｇ及びジメチル硫酸０．５ｇを混合し、２５℃で６時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として８８％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
実施例６
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を０．８ｇ含む混合物１．２ｇ、トルエン５．０ｇ、ナトリウムメトキシド０．２ｇ及びジメチル硫酸０．６ｇを混合し、２５℃で３時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として７２％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を０．８ｇ含む混合物１．２ｇ、トルエン５．０ｇ、ナトリウムメトキシド０．２ｇ及びジメチル硫酸０．６ｇを混合し、２５℃で３時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として７２％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
実施例７
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を０．８ｇ含む混合物１．２ｇ、Ｎ,Ｎ－ジメチルホルムアミド５．１ｇ、ナトリウムメトキシド０．２ｇ及びジメチル硫酸０．５ｇを混合し、２５℃で３時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として８７％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を０．８ｇ含む混合物１．２ｇ、Ｎ,Ｎ－ジメチルホルムアミド５．１ｇ、ナトリウムメトキシド０．２ｇ及びジメチル硫酸０．５ｇを混合し、２５℃で３時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として８７％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
実施例８
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を０．８ｇ含む混合物１．２ｇ、トルエン５．１ｇ、Ｎ,Ｎ－ジメチルホルムアミド５．１ｇ、ナトリウムメトキシド０．２ｇ及びジメチル硫酸０．５ｇを混合し、２５℃で３時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として８４％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を０．８ｇ含む混合物１．２ｇ、トルエン５．１ｇ、Ｎ,Ｎ－ジメチルホルムアミド５．１ｇ、ナトリウムメトキシド０．２ｇ及びジメチル硫酸０．５ｇを混合し、２５℃で３時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として８４％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
実施例９
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を０．８ｇ含む混合物１．３ｇ、酢酸エチル４．０ｇ、ナトリウムメトキシド０．２ｇ及びジメチル硫酸０．５ｇを混合し、２５℃で３時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として７９％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を０．８ｇ含む混合物１．３ｇ、酢酸エチル４．０ｇ、ナトリウムメトキシド０．２ｇ及びジメチル硫酸０．５ｇを混合し、２５℃で３時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として７９％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
実施例１０
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を０．８ｇ含む混合物１．３ｇ、アセトニトリル４．１ｇ、ナトリウムメトキシド０．３ｇ及びジメチル硫酸０．５ｇを混合し、２５℃で３時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として８０％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を０．８ｇ含む混合物１．３ｇ、アセトニトリル４．１ｇ、ナトリウムメトキシド０．３ｇ及びジメチル硫酸０．５ｇを混合し、２５℃で３時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として８０％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
実施例１１
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を１．０ｇ含む混合物１．５ｇ、アセトン４．０ｇ、水３．０ｇ、臭化テトラブチルアンモニウム０．１ｇ、水酸化ナトリウム０．２ｇ及びジメチル硫酸０．６ｇを混合し、４０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として９６％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を１．０ｇ含む混合物１．５ｇ、アセトン４．０ｇ、水３．０ｇ、臭化テトラブチルアンモニウム０．１ｇ、水酸化ナトリウム０．２ｇ及びジメチル硫酸０．６ｇを混合し、４０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として９６％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
実施例１２
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を１．０ｇ含む混合物１．５ｇ、Ｎ－メチルピロリドン３．９ｇ、水３．０ｇ、臭化テトラブチルアンモニウム０．１ｇ、水酸化ナトリウム０．２ｇ及びジメチル硫酸０．６ｇを混合し、４０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として８３％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を１．０ｇ含む混合物１．５ｇ、Ｎ－メチルピロリドン３．９ｇ、水３．０ｇ、臭化テトラブチルアンモニウム０．１ｇ、水酸化ナトリウム０．２ｇ及びジメチル硫酸０．６ｇを混合し、４０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として８３％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
実施例１３
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を１．０ｇ含む混合物１．６ｇ、キシレン４．０ｇ、水２．９ｇ、臭化テトラブチルアンモニウム０．１ｇ、水酸化ナトリウム０．２ｇ及びジメチル硫酸０．６ｇを混合し、４０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として９３％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を１．０ｇ含む混合物１．６ｇ、キシレン４．０ｇ、水２．９ｇ、臭化テトラブチルアンモニウム０．１ｇ、水酸化ナトリウム０．２ｇ及びジメチル硫酸０．６ｇを混合し、４０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として９３％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
実施例１４
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を１．０ｇ含む混合物１．５ｇ、酢酸エチル３．９ｇ、水３．０ｇ、臭化テトラブチルアンモニウム０．１ｇ、水酸化ナトリウム０．２ｇ及びジメチル硫酸０．６ｇを混合し、４０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として８８％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を１．０ｇ含む混合物１．５ｇ、酢酸エチル３．９ｇ、水３．０ｇ、臭化テトラブチルアンモニウム０．１ｇ、水酸化ナトリウム０．２ｇ及びジメチル硫酸０．６ｇを混合し、４０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として８８％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
実施例１５
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を１．０ｇ含む混合物１．５ｇ、テトラヒドロフラン３．９ｇ、水３．０ｇ、水酸化ナトリウム０．２ｇ及びジメチル硫酸０．６ｇを混合し、４０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として９２％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を１．０ｇ含む混合物１．５ｇ、テトラヒドロフラン３．９ｇ、水３．０ｇ、水酸化ナトリウム０．２ｇ及びジメチル硫酸０．６ｇを混合し、４０℃で２時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として９２％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
実施例１６
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を０．９ｇ含む混合物１．２ｇ、テトラヒドロフラン３．６ｇ、カリウムメトキシド０．３ｇ及びジメチル硫酸０．６ｇを混合し、２５℃で２時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として８８％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を０．９ｇ含む混合物１．２ｇ、テトラヒドロフラン３．６ｇ、カリウムメトキシド０．３ｇ及びジメチル硫酸０．６ｇを混合し、２５℃で２時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として８８％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
実施例１７
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を０．９ｇ含む混合物１．２ｇ、アセトニトリル３．４ｇ、カリウムメトキシド０．４ｇ及びジメチル硫酸０．６ｇを混合し、２５℃で２時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として８６％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を０．９ｇ含む混合物１．２ｇ、アセトニトリル３．４ｇ、カリウムメトキシド０．４ｇ及びジメチル硫酸０．６ｇを混合し、２５℃で２時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として８６％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
実施例１８
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を０．９ｇ含む混合物１．３ｇ、メタノール３．６ｇ、カリウムメトキシド０．４ｇ及びジメチル硫酸０．６ｇを混合し、２５℃で２時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として８０％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を０．９ｇ含む混合物１．３ｇ、メタノール３．６ｇ、カリウムメトキシド０．４ｇ及びジメチル硫酸０．６ｇを混合し、２５℃で２時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として８０％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
実施例１９
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を０．９ｇ含む混合物１．３ｇ、Ｎ,Ｎ－ジメチルホルムアミド３．５ｇ、カリウムメトキシド０．４ｇ及びジメチル硫酸０．６ｇを混合し、２５℃で２時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として８４％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を０．９ｇ含む混合物１．３ｇ、Ｎ,Ｎ－ジメチルホルムアミド３．５ｇ、カリウムメトキシド０．４ｇ及びジメチル硫酸０．６ｇを混合し、２５℃で２時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として８４％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
実施例２０
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を０．９ｇ含む混合物１．３ｇ、キシレン３．６ｇ、カリウムメトキシド０．３ｇ及びジメチル硫酸０．６ｇを混合し、２５℃で２時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として９１％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を０．９ｇ含む混合物１．３ｇ、キシレン３．６ｇ、カリウムメトキシド０．３ｇ及びジメチル硫酸０．６ｇを混合し、２５℃で２時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として９１％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
実施例２１
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を１．１ｇ含む混合物１．４ｇ、水３．２ｇ、水酸化ナトリウム０．３ｇ及びジメチル硫酸０．６ｇを混合し、２５℃で２時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として８０％（
Ｚ体選択率９９％）であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を１．１ｇ含む混合物１．４ｇ、水３．２ｇ、水酸化ナトリウム０．３ｇ及びジメチル硫酸０．６ｇを混合し、２５℃で２時間撹拌した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として８０％（
Ｚ体選択率９９％）であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
実施例２２
化合物（Ｑ）１０．３ｇ、ｔ－ブチルメチルエーテル５０．２ｇ、水素化ナトリウム２．３ｇ及びギ酸メチル４．７ｇを混合し、３０℃で２時間撹拌した。得られた混合物に水４０．０ｇを加えて撹拌後、静置し、分液した。得られた有機層を水２０.０ｇで洗浄し、分液した。１回目の分液により得られた水層と２回目の分液により得られた水層を混合することにより、化合物（Ｓ）のナトリウム塩を含む混合物が７１．１ｇ得られた。
得られた化合物（Ｓ）のナトリウム塩を含む混合物７１．１ｇに、キシレン４４．３ｇ、臭化テトラブチルアンモニウム１．３ｇ及びジメチル硫酸７．４ｇを加えて混合し、３０℃で１．５時間撹拌した後、５０℃に昇温し、５０℃で０．５時間撹拌を継続した。得られた混合物を静置して分液後、有機層を水２２．２ｇで洗浄し、再度静置し分液した。得られた有機層を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｑ）を基準として８９％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
化合物（Ｑ）１０．３ｇ、ｔ－ブチルメチルエーテル５０．２ｇ、水素化ナトリウム２．３ｇ及びギ酸メチル４．７ｇを混合し、３０℃で２時間撹拌した。得られた混合物に水４０．０ｇを加えて撹拌後、静置し、分液した。得られた有機層を水２０.０ｇで洗浄し、分液した。１回目の分液により得られた水層と２回目の分液により得られた水層を混合することにより、化合物（Ｓ）のナトリウム塩を含む混合物が７１．１ｇ得られた。
得られた化合物（Ｓ）のナトリウム塩を含む混合物７１．１ｇに、キシレン４４．３ｇ、臭化テトラブチルアンモニウム１．３ｇ及びジメチル硫酸７．４ｇを加えて混合し、３０℃で１．５時間撹拌した後、５０℃に昇温し、５０℃で０．５時間撹拌を継続した。得られた混合物を静置して分液後、有機層を水２２．２ｇで洗浄し、再度静置し分液した。得られた有機層を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｑ）を基準として８９％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
実施例２３
化合物（Ｑ）２０．０ｇ、キシレン６２．１ｇ、ナトリウムメトキシド８．８８ｇ及びギ酸メチル９．３７ｇを混合し、３０℃で７時間撹拌した。得られた混合物に水６０．０ｇ及び３５重量％塩酸１．４ｇを加えて撹拌後、静置し、分液して水層１００．０ｇを回収した。得られた水層を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｓ）のナトリウム塩の収率は化合物（Ｑ）を基準として９０％であった。
得られた水層５０．１ｇに、キシレン４２．９ｇ、塩化テトラブチルアンモニウム０．５ｇ及びジメチル硫酸６．６ｇを加えて混合し、４０℃で４時間撹拌した。得られた混合物を静置して分液後、有機層を水２１．５ｇで洗浄し、再度静置し分液した。得られた有機層を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）のナトリウム塩を基準として８９％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
化合物（Ｑ）２０．０ｇ、キシレン６２．１ｇ、ナトリウムメトキシド８．８８ｇ及びギ酸メチル９．３７ｇを混合し、３０℃で７時間撹拌した。得られた混合物に水６０．０ｇ及び３５重量％塩酸１．４ｇを加えて撹拌後、静置し、分液して水層１００．０ｇを回収した。得られた水層を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｓ）のナトリウム塩の収率は化合物（Ｑ）を基準として９０％であった。
得られた水層５０．１ｇに、キシレン４２．９ｇ、塩化テトラブチルアンモニウム０．５ｇ及びジメチル硫酸６．６ｇを加えて混合し、４０℃で４時間撹拌した。得られた混合物を静置して分液後、有機層を水２１．５ｇで洗浄し、再度静置し分液した。得られた有機層を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）のナトリウム塩を基準として８９％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
実施例２４
［化合物（Ｓ）の製造］
化合物（Ｑ）５０．０ｇ、テトラヒドロフラン１５０．１ｇ、ナトリウムメトキシド２１．９ｇ及びギ酸メチル２３．７ｇを混合し、３０℃で２２時間撹拌した。得られた混合物に水４０．５ｇ及び３５重量％塩酸２．０４ｇを加えて２０℃で撹拌し、部分中和した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｓ）のナトリウム塩の収率は化合物（Ｑ）を基準として９５％であった。
［化合物（Ｐ）の製造］
上記［化合物（Ｓ）の製造］により部分中和後に得られた混合物７９．９ｇに、ジメチル硫酸１２．６ｇを加え、２０℃で５時間撹拌した後、静置して分液した。得られた有機層を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）のナトリウム塩を基準として８２％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
［化合物（Ｓ）の製造］
化合物（Ｑ）５０．０ｇ、テトラヒドロフラン１５０．１ｇ、ナトリウムメトキシド２１．９ｇ及びギ酸メチル２３．７ｇを混合し、３０℃で２２時間撹拌した。得られた混合物に水４０．５ｇ及び３５重量％塩酸２．０４ｇを加えて２０℃で撹拌し、部分中和した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｓ）のナトリウム塩の収率は化合物（Ｑ）を基準として９５％であった。
［化合物（Ｐ）の製造］
上記［化合物（Ｓ）の製造］により部分中和後に得られた混合物７９．９ｇに、ジメチル硫酸１２．６ｇを加え、２０℃で５時間撹拌した後、静置して分液した。得られた有機層を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）のナトリウム塩を基準として８２％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
実施例２５
［化合物（Ｓ）の製造］
テトラヒドロフランに代えてキシレンを使用し、かつナトリウムメトキシドに代えてカリウムメトキシドを使用し、かつ部分中和において３５重量％塩酸に代えて酢酸を使用したこと以外は実施例２４［化合物（Ｓ）の製造］に記載の方法に準じて化合物（Ｑ）から化合物（Ｓ）のカリウム塩を含む混合物を製造した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｓ）のカリウム塩の収率は化合物（Ｑ）を基準として９４％であった。
［化合物（Ｐ）の製造］
上記［化合物（Ｓ）の製造］により部分中和後に得られた化合物（Ｓ）のカリウム塩を含む混合物を使用して、実施例２４［化合物（Ｐ）の製造］に記載の方法に準じて、化合物（Ｐ）を含む有機層を得た。得られた有機層を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として９２％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
［化合物（Ｓ）の製造］
テトラヒドロフランに代えてキシレンを使用し、かつナトリウムメトキシドに代えてカリウムメトキシドを使用し、かつ部分中和において３５重量％塩酸に代えて酢酸を使用したこと以外は実施例２４［化合物（Ｓ）の製造］に記載の方法に準じて化合物（Ｑ）から化合物（Ｓ）のカリウム塩を含む混合物を製造した。得られた混合物を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｓ）のカリウム塩の収率は化合物（Ｑ）を基準として９４％であった。
［化合物（Ｐ）の製造］
上記［化合物（Ｓ）の製造］により部分中和後に得られた化合物（Ｓ）のカリウム塩を含む混合物を使用して、実施例２４［化合物（Ｐ）の製造］に記載の方法に準じて、化合物（Ｐ）を含む有機層を得た。得られた有機層を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、化合物（Ｐ）の収率は化合物（Ｓ）を基準として９２％であった。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
実施例２６
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を６４．６ｇ含む混合物７６．０ｇ、Ｎ,Ｎ－ジメチルホルムアミド４３０．３ｇ、炭酸カリウム４０．４４ｇ及びジメチル硫酸２９．５ｇを加え、２５～３０℃で３時間撹拌した。水５００ｇを加えた後、酢酸エチル４１８ｇを用いて２度抽出した。得られた有機層を水３７５ｇで２度洗浄した後に、２５重量％塩化ナトリウム水溶液３７５ｇで２度洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させて、化合物（Ｐ）を含む有機層を得た。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
製造例１に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｓ）を６４．６ｇ含む混合物７６．０ｇ、Ｎ,Ｎ－ジメチルホルムアミド４３０．３ｇ、炭酸カリウム４０．４４ｇ及びジメチル硫酸２９．５ｇを加え、２５～３０℃で３時間撹拌した。水５００ｇを加えた後、酢酸エチル４１８ｇを用いて２度抽出した。得られた有機層を水３７５ｇで２度洗浄した後に、２５重量％塩化ナトリウム水溶液３７５ｇで２度洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させて、化合物（Ｐ）を含む有機層を得た。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
実施例２７
化合物（Ｑ）１００．０ｇ、２－メチルテトラヒドロフラン９７１ｇ、ナトリウムメトキシド４２．０ｇ及びギ酸メチル４６．９ｇを混合し、３０～３５℃で５時間撹拌した。得られた混合物に、ジメチル硫酸１２３．０ｇを加え、３０～３５℃で４時間撹拌した後、水３００．０ｇを加えて混合し、静置して分液した。得られた有機層を水２００．０ｇで洗浄した後に濃縮し、化合物（Ｐ）を含む混合物１１０．０ｇを得た。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
化合物（Ｑ）１００．０ｇ、２－メチルテトラヒドロフラン９７１ｇ、ナトリウムメトキシド４２．０ｇ及びギ酸メチル４６．９ｇを混合し、３０～３５℃で５時間撹拌した。得られた混合物に、ジメチル硫酸１２３．０ｇを加え、３０～３５℃で４時間撹拌した後、水３００．０ｇを加えて混合し、静置して分液した。得られた有機層を水２００．０ｇで洗浄した後に濃縮し、化合物（Ｐ）を含む混合物１１０．０ｇを得た。得られた化合物（Ｐ）はＥ体／Ｚ体混合物であった。
参考例１〔化合物（Ｐ）の精製〕
実施例２２に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｐ）を含む有機層を濃縮した。得られたＥ体／Ｚ体混合物である化合物（Ｐ）１２．０ｇ（純度８９．５％）を、７０℃のキシレン２０．４ｇに溶解させた後、５℃まで冷却し、結晶を析出させた。析出した結晶を濾別した後、５℃のキシレンで洗浄し、次いで６０℃で減圧乾燥した。得られた結晶を高速液体クロマトグラフィーで分析したところ、純度９９．８％の化合物（Ｐ）が収率８０％（有機層に含まれる化合物（Ｐ）を基準）で得られた。
実施例２２に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｐ）を含む有機層を濃縮した。得られたＥ体／Ｚ体混合物である化合物（Ｐ）１２．０ｇ（純度８９．５％）を、７０℃のキシレン２０．４ｇに溶解させた後、５℃まで冷却し、結晶を析出させた。析出した結晶を濾別した後、５℃のキシレンで洗浄し、次いで６０℃で減圧乾燥した。得られた結晶を高速液体クロマトグラフィーで分析したところ、純度９９．８％の化合物（Ｐ）が収率８０％（有機層に含まれる化合物（Ｐ）を基準）で得られた。
参考例２〔化合物（Ｐ）の精製〕
実施例２３に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｐ）を含む有機層を濃縮した。得られたＥ／Ｚ混合物である化合物（Ｐ）９．０ｇを６０℃のキシレン９．９ｇとメタノール１７．８ｇとの混合溶媒に溶解させた後、５℃まで冷却し、結晶を析出させた。析出した結晶を濾別した後、５℃のメタノールで洗浄し、次いで５０～５５℃で減圧乾燥した。得られた結晶を高速液体クロマトグラフィーで分析したところ、純度９９．７％の化合物（Ｐ）が収率８１％（有機層に含まれる化合物（Ｐ）を基準）で得られた。
実施例２３に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｐ）を含む有機層を濃縮した。得られたＥ／Ｚ混合物である化合物（Ｐ）９．０ｇを６０℃のキシレン９．９ｇとメタノール１７．８ｇとの混合溶媒に溶解させた後、５℃まで冷却し、結晶を析出させた。析出した結晶を濾別した後、５℃のメタノールで洗浄し、次いで５０～５５℃で減圧乾燥した。得られた結晶を高速液体クロマトグラフィーで分析したところ、純度９９．７％の化合物（Ｐ）が収率８１％（有機層に含まれる化合物（Ｐ）を基準）で得られた。
参考例３〔化合物（Ｐ）の粉末Ｘ線回折測定〕
参考例２で得られた化合物（Ｐ）の結晶（Ｅ体／Ｚ体比＝１／９９以下）のＣｕ－Ｋα線による粉末Ｘ線回折を測定した結果、反射法で測定することにより得られた回折ピークの回折角度（２θ）は図１及び図２に示す通りであった。典型的な具体的回折ピークとしては、９．３、１３．２、１６．８、１８．７、２２．３、２３．４、２８．１、２８．５、３１．０、３７．８、及び４７．８であったが、これに限定されるものではない。
粉末Ｘ線回折測定条件は以下の通りである。
（粉末Ｘ線回折測定条件）
粉末Ｘ線回折装置：ＳｍａｒｔＬａｂ（株式会社リガク製）
Ｘ線出力：ＣｕＫα、５０ｋＶ、４０ｍＡ
サンプリング幅：０．０２°
走査範囲：５°～５０°
測定温度：室温
参考例２で得られた化合物（Ｐ）の結晶（Ｅ体／Ｚ体比＝１／９９以下）のＣｕ－Ｋα線による粉末Ｘ線回折を測定した結果、反射法で測定することにより得られた回折ピークの回折角度（２θ）は図１及び図２に示す通りであった。典型的な具体的回折ピークとしては、９．３、１３．２、１６．８、１８．７、２２．３、２３．４、２８．１、２８．５、３１．０、３７．８、及び４７．８であったが、これに限定されるものではない。
粉末Ｘ線回折測定条件は以下の通りである。
（粉末Ｘ線回折測定条件）
粉末Ｘ線回折装置：ＳｍａｒｔＬａｂ（株式会社リガク製）
Ｘ線出力：ＣｕＫα、５０ｋＶ、４０ｍＡ
サンプリング幅：０．０２°
走査範囲：５°～５０°
測定温度：室温
参考例４〔化合物（Ｐ）の精製〕
実施例２６に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｐ）を含む有機層を濃縮した。得られたＥ体／Ｚ体混合物である化合物（Ｐ）（純度９６．８％）を、酢酸エチル１８５．６ｇとｎ－ヘキサン７６４．５ｇとの８０℃の混合液に溶解させた後、５℃まで冷却し、結晶を析出させた。析出した結晶を濾別した後、５℃のｎ－ヘキサン１５２．９ｇで２度洗浄し、減圧乾燥した。得られた結晶を高速液体クロマトグラフィーで分析したところ、純度９９．９％の化合物（Ｐ）が収率７２．２％（製造例１に記載の方法に準じて使用した化合物（Ｑ）を基準）で得られた。
実施例２６に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｐ）を含む有機層を濃縮した。得られたＥ体／Ｚ体混合物である化合物（Ｐ）（純度９６．８％）を、酢酸エチル１８５．６ｇとｎ－ヘキサン７６４．５ｇとの８０℃の混合液に溶解させた後、５℃まで冷却し、結晶を析出させた。析出した結晶を濾別した後、５℃のｎ－ヘキサン１５２．９ｇで２度洗浄し、減圧乾燥した。得られた結晶を高速液体クロマトグラフィーで分析したところ、純度９９．９％の化合物（Ｐ）が収率７２．２％（製造例１に記載の方法に準じて使用した化合物（Ｑ）を基準）で得られた。
参考例５〔化合物（Ｐ）の精製〕
実施例２７に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｐ）を含む混合物をシリカゲル（１００－２００メッシュ）カラムクロマトグラフィーで精製し、純度９９．９％の化合物（Ｐ）の結晶（Ｅ体／Ｚ体比＝９９／１以上）を２３．４ｇ得た。
実施例２７に記載の方法に準じて製造した化合物（Ｐ）を含む混合物をシリカゲル（１００－２００メッシュ）カラムクロマトグラフィーで精製し、純度９９．９％の化合物（Ｐ）の結晶（Ｅ体／Ｚ体比＝９９／１以上）を２３．４ｇ得た。
参考例６〔化合物（Ｐ）の粉末Ｘ線回折測定〕
参考例５で得られた化合物（Ｐ）の結晶のＣｕ－Ｋα線による粉末Ｘ線回折を測定した結果、反射法で測定することにより得られた回折ピークの回折角度（２θ）は図３に示す通りであった。典型的な具体的回折ピークとしては、１２．３、１４．９、１７．３、１７．９、１８．２、１８．５、２１．３、２２．５、２４．７、２４．８、２５．０及び２６．９であったが、これに限定されるものではない。
粉末Ｘ線回折測定条件は以下の通りである。
（粉末Ｘ線回折測定条件）
粉末Ｘ線回折装置：ＳｍａｒｔＬａｂ（株式会社リガク製）
Ｘ線出力：ＣｕＫα、５０ｋＶ、４０ｍＡ
サンプリング幅：０．０２°
走査範囲：５°～５０°
測定温度：室温
参考例５で得られた化合物（Ｐ）の結晶のＣｕ－Ｋα線による粉末Ｘ線回折を測定した結果、反射法で測定することにより得られた回折ピークの回折角度（２θ）は図３に示す通りであった。典型的な具体的回折ピークとしては、１２．３、１４．９、１７．３、１７．９、１８．２、１８．５、２１．３、２２．５、２４．７、２４．８、２５．０及び２６．９であったが、これに限定されるものではない。
粉末Ｘ線回折測定条件は以下の通りである。
（粉末Ｘ線回折測定条件）
粉末Ｘ線回折装置：ＳｍａｒｔＬａｂ（株式会社リガク製）
Ｘ線出力：ＣｕＫα、５０ｋＶ、４０ｍＡ
サンプリング幅：０．０２°
走査範囲：５°～５０°
測定温度：室温
本発明によれば、アクリル酸誘導体の新規な製造方法を提供することができる。
Claims (5)
- 式（ＩＩ）
〔式中、
Ｒ1は、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、シクロプロピル基、ハロゲン原子又は水素原子を表し、
Ｒ2は、ハロゲン原子、Ｒ4Ｒ5Ｃ＝Ｃ（Ｒ6）－、Ｒ7－Ｃ≡Ｃ－、Ｒ14Ｏ－Ｎ＝Ｃ（Ｒ9）－、Ｒ8Ｒ9Ｃ＝Ｎ－Ｏ－ＣＨ2－、Ｒ8Ｏ－Ｎ＝Ｃ（Ｒ9）－Ｃ（Ｒ10）＝Ｎ－Ｏ－ＣＨ2－、Ｒ8Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｒ9）＝Ｎ－Ｏ－ＣＨ2－、Ｒ8Ｃ（＝Ｎ－Ｏ－Ｒ9）－Ｃ（Ｒ10）＝Ｎ－Ｏ－ＣＨ2－、Ｃ５－Ｃ６シクロアルケニル基、Ｃ６－Ｃ１０アリール基又は５－１０員芳香族複素環基｛該Ｃ５－Ｃ６シクロアルケニル基、該Ｃ６－Ｃ１０アリール基及び該５－１０員芳香族複素環基は、群Ｄより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝を表し、
Ｒ3は、Ｃ１－Ｃ６鎖式炭化水素基を表し、
Ｌは、ＣＨ2、酸素原子又はＮＣＨ3を表し、
Ｒ4及びＲ6は、同一又は相異なり、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－Ｃ３鎖式炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、又は水素原子を表し、
Ｒ5は、群Ａより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、群Ｂより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ３－Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ６－Ｃ１０アリール基、５－１０員芳香族複素環基｛該Ｃ６－Ｃ１０アリール基及び該５－１０員芳香族複素環基は、群Ｄより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝、ハロゲン原子、シアノ基又は水素原子を表し、
Ｒ7は、群Ａより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、群Ｂより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ３－Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ６－Ｃ１０アリール基、５－１０員芳香族複素環基｛該Ｃ６－Ｃ１０アリール基及び該５－１０員芳香族複素環基は、群Ｄより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝又はＳｉＲ20Ｒ21Ｒ22を表し、
Ｒ8は、群Ａより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、群Ｂより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ３－Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ６－Ｃ１０アリール基又は５－１０員芳香族複素環基｛該Ｃ６－Ｃ１０アリール基及び該５－１０員芳香族複素環基は、群Ｄより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝を表し、
Ｒ9、Ｒ10及びＲ17は、同一又は相異なり、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－Ｃ３鎖式炭化水素基又は水素原子を表し、
Ｒ14は、群Ａより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、群Ｂより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ３－Ｃ６シクロアルキル基、Ｒ15Ｃ（Ｏ）－、Ｒ16ＯＣ（Ｏ）－、Ｒ15Ｒ17ＮＣ（Ｏ）－、Ｃ６－Ｃ１０アリール基又は５－１０員芳香族複素環基｛該Ｃ６－Ｃ１０アリール基及び該５－１０員芳香族複素環基は、群Ｄより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝を表し、
Ｒ15は、群Ａより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、群Ｂより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ３－Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ６－Ｃ１０アリール基、５－１０員芳香族複素環基｛該Ｃ６－Ｃ１０アリール基及び該５－１０員芳香族複素環基は、群Ｄより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝又は水素原子を表し、
Ｒ16は、群Ａより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、群Ｂより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ３－Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ６－Ｃ１０アリール基、又は５－１０員芳香族複素環基｛該Ｃ６－Ｃ１０アリール基及び該５－１０員芳香族複素環基は、群Ｄより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝を表し、
Ｒ20、Ｒ21及びＲ22は、同一又は相異なり、Ｃ１－Ｃ６鎖式炭化水素基又はフェニル基を表す。
群Ａ：Ｃ３－Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ１－Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１－Ｃ４アルキルチオ基｛該Ｃ３－Ｃ６シクロアルキル基、該Ｃ１－Ｃ４アルコキシ基及び該Ｃ１－Ｃ４アルキルチオ基は、ハロゲン原子及びシアノ基からなる群より選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、フェノキシ基、フェニル基、ナフチル基及び５－６員芳香族複素環基｛該フェノキシ基、該フェニル基、該ナフチル基及び該５－６員芳香族複素環基は、群Ｃより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝からなる群。
群Ｂ：Ｃ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、Ｃ３－Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ１－Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１－Ｃ４アルキルチオ基｛該Ｃ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、該Ｃ３－Ｃ６シクロアルキル基、該Ｃ１－Ｃ４アルコキシ基及び該Ｃ１－Ｃ４アルキルチオ基は、ハロゲン原子及びシアノ基からなる群より選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、フェノキシ基、フェニル基、ナフチル基及び５－６員芳香族複素環基｛該フェノキシ基、該フェニル基、該ナフチル基及び該５－６員芳香族複素環基は、群Ｃより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝からなる群。
群Ｃ：Ｃ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、Ｃ３－Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ１－Ｃ６アルコキシ基及びＣ１－Ｃ６アルキルチオ基｛該Ｃ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、該Ｃ３－Ｃ６シクロアルキル基、該Ｃ１－Ｃ６アルコキシ基及び該Ｃ１－Ｃ６アルキルチオ基は、ハロゲン原子及びシアノ基からなる群より選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基及びヒドロキシ基からなる群。
群Ｄ：群Ａより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、群Ｂより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ３－Ｃ６シクロアルキル基、ＯＲ11、Ｓ（Ｏ）mＲ13、ＯＳ（Ｏ）2Ｒ13、Ｃ（Ｏ）Ｒ11、Ｃ（Ｏ）ＯＲ11、ＮＲ11Ｒ12、Ｃ（Ｏ）ＮＲ11Ｒ12、Ｓ（Ｏ）2ＮＲ11Ｒ12、ＮＲ12Ｃ（Ｏ）Ｒ11、ＮＲ12Ｃ（Ｏ）ＯＲ13、ＮＲ12Ｓ（Ｏ）2Ｒ13、Ｃ（Ｒ12）＝Ｎ－ＯＲ11、フェニル基、ナフチル基、５－６員芳香族複素環基｛該フェニル基、該ナフチル基及び該５－６員芳香族複素環基は、群Ｃより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝、オキソ基、チオキソ基、ハロゲン原子、シアノ基及びニトロ基からなる群。
Ｒ11及びＲ12は、同一又は相異なり、群Ａより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、群Ｂより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ３－Ｃ６シクロアルキル基、フェニル基、ナフチル基、５－６員芳香族複素環基｛該フェニル基、該ナフチル基及び該５－６員芳香族複素環基は、群Ｃより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝又は水素原子を表し、
Ｒ13は、群Ａより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６鎖式炭化水素基、群Ｂより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ３－Ｃ６シクロアルキル基、フェニル基、ナフチル基又は５－６員芳香族複素環基｛該フェニル基、該ナフチル基及び該５－６員芳香族複素環基は、群Ｃより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝を表し、
ｍは、０、１又は２を表す。〕
で示される化合物を、溶媒の存在下にメチル化剤と反応させる式（Ｉ）
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＬは、それぞれ前記と同じ意味を表す。〕
で示される化合物の製造方法。 - 前記メチル化剤がジメチル硫酸である請求項１に記載の製造方法。
- さらに触媒を存在させて前記反応を行う請求項１に記載の製造方法。
- 前記溶媒が、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エーテル、ケトン、エステル、アルコール、水、ニトリル及び非プロトン性極性溶媒からなる群より選ばれる少なくとも１種を含む溶媒である請求項１～３のいずれか１項に記載の製造方法。
- 前記式（ＩＩ）で示される化合物が、塩基の存在下に式（ＩＩＩ）
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＬは、それぞれ前記と同じ意味を表す。〕
で示される化合物と、式（ＩＶ）
〔式中、Ｒaは、Ｃ１－Ｃ６鎖式炭化水素基を表す。〕
で示されるギ酸アルキルとを反応させて得られたものである請求項１～３のいずれか１項に記載の製造方法。
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