JP2023060852A5

JP2023060852A5 -

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Publication number: JP2023060852A5
Application number: JP2022198167A
Authority: JP
Filing date: 2022-12-12
Publication date: 2023-08-08

Claims

システム（１０）であって、
制御可能装置（９５０）に接続される位置調整機器（９００）であって、処理範囲に対して前記制御可能装置（９５０）を配置するための、位置調整機器（９００）、
電磁波（ＥＭＲ）ビームを生成するためのＥＭＲ源（２０３）であって、前記ＥＭＲ源（２０３）は、前記制御可能装置（９５０）に結合され、前記制御可能装置（９５０）は、前記処理範囲に前記ＥＭＲビームを放出するように構成される、ＥＭＲ源（２０３）、
前記制御可能装置（９５０）に接続される位置センサ（１０００、１７１１）であって、前記制御可能装置（９５０）と前記処理範囲との間の距離を決定するように構成される、位置センサ（１０００、１７１１）、および
前記位置センサ（１０００、１７１１）からの距離に基づいて前記処理範囲に対して前記制御可能装置（９５０）を配置するために、前記位置調整機器（９００）および前記位置センサ（１０００、１７１１）と電子通信する制御装置（４０３）
を含む、システム（１０）。
前記制御装置（４０３）は、前記位置センサ（１０００、１７１１）からの距離に基づいて前記位置調整機器（９００）の移動をおこなうことによって、前記制御可能装置（９５０）と前記処理範囲との間の決められた区切りを維持するように構成される、請求項１に記載のシステム（１０）。
前記制御可能装置（９５０）に接続される温度センサ（１０００、１７１３）であって、前記制御装置（４０３）と電子通信し、前記処理範囲の温度を決定して、前記制御装置（４０３）へ前記温度を提供するように構成される、温度センサ（１０００、１７１３）をさらに含む、請求項１に記載のシステム（１０）。
前記制御装置（４０３）は、前記ＥＭＲ源（２０３）と電子通信し、前記温度センサ（１０００、１７１３）によって決定された温度に基づいて治療上許容できる温度で前記処理範囲を維持するために、前記ＥＭＲ源（２０３）の出力を調節するように構成される、請求項３に記載のシステム（１０）。
治療上許容できる温度で前記処理範囲を維持するために、前記位置センサ（１０００、１７１１）からの距離および前記温度センサ（１０００、１７１３）からの温度に基づいて前記処理範囲に対して前記制御可能装置（９５０）を配置することをさらに含む、請求項３に記載のシステム（１０）。
前記ＥＭＲ源（２０３）は、赤外線波長、可視光波長または紫外線の波長を含む群から選択される波長を有するＥＭＲビームを生成するように構成される、請求項１に記載のシステム（１０）。
前記ＥＭＲ源（２０３）は、９００ｎｍから１１００ｎｍの波長、もしくは１３００から１５００ｎｍの波長を有するＥＭＲビームを生成するように構成される、請求項６に記載のシステム（１０）。
前記システム（１０）は、前記ＥＭＲ源（２０３）を前記制御可能装置（９５０）に結合するためのＥＭＲ経路をさらに含み、
前記制御可能装置（９５０）は、前記ＥＭＲビームを前記処理範囲に方向づけるために、前記ＥＭＲビームを拡大するための、前記ＥＭＲ経路に光学的に係合された光学素子を含む、請求項１に記載のシステム（１０）。
前記制御可能装置（９５０）は、噴流衝撃冷却を生成するのに十分な速度で前記処理範囲に冷却気流を方向づけるように構成される、請求項１に記載のシステム（１０）。
システム（１０）であって、
制御可能装置（９５０）に接続される位置調整機器（９００）であって、処理範囲に対して前記制御可能装置（９５０）を配置するための、位置調整機器（９００）、
電磁波（ＥＭＲ）ビームを生成するためのＥＭＲ源（２０３）であって、前記ＥＭＲ源（２０３）は、前記制御可能装置（９５０）に結合され、前記制御可能装置（９５０）は、前記処理範囲に前記ＥＭＲビームを放出するように構成される、ＥＭＲ源（２０３）、および
少なくとも１つのセンサ（１０００、１７１１、１７１３）および前記位置調整機器（９００）と電子通信する制御装置（４０３）であって、前記少なくとも１つのセンサ（１０００、１７１１、１７１３）は、前記制御可能装置（９５０）に結合され、前記制御装置（４０３）は、治療上許容できる温度で前記処理範囲を維持するために、前記少なくとも１つのセンサ（１０００、１７１１、１７１３）から受け取った情報に基づいて前記処理範囲に対して前記制御可能装置（９５０）を配置するために前記位置調整機器（９００）を方向づけるように構成される、制御装置（４０３）
を含む、システム（１０）。
前記少なくとも１つのセンサは、位置センサおよび温度センサを含む群から選択される、請求項１０に記載のシステム（１０）。
前記制御装置（４０３）は、前記ＥＭＲ源（２０３）と電子通信し、治療上許容できる温度で前記処理範囲を維持することは、前記ＥＭＲビームの出力を調節することをさらに含む、請求項１０に記載のシステム（１０）。
前記制御可能装置（９５０）は、前記ＥＭＲビームを妨害せずに前記処理範囲に冷却気流を方向づけるように構成される、請求項１０に記載のシステム（１０）。
前記制御装置（４０３）は、前記制御可能装置（９５０）を前記処理範囲上で走査パターンで移動させるために、位置調整機器（９００）を方向づけるように構成される、請求項１０に記載のシステム（１０）。
前記制御装置（４０３）は、前記制御可能装置（９５０）が、最初の位置の温度の予想される減衰時間未満の時間で前記最初の位置へ戻る速度でパターンを走査するように構成される、請求項１４に記載のシステム（１０）。