JP2023060398A - 排ガス浄化装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】担持された触媒の早期活性化を促して排ガス浄化作用の向上を図ることができる排ガス浄化装置用の基材を提供する。【解決手段】排ガス浄化装置用の基材11は、ハニカム構造を有する排ガス浄化装置用の基材11であって、セリア-ジルコニア固溶体を主原料として含み、吸水率が50wt%未満である。【選択図】図1
Description
本発明は、排ガス浄化装置に関する。
自動車等の内燃機関の排ガス浄化装置として、浄化作用を有する触媒を基材に担持させた触媒担持構造を有するものが広く使用されている。近年、排ガス規制の厳格化に伴って、触媒の早期活性化が要求されているが、上記触媒担持構造においては触媒を担持する基材が浄化作用に実質的に関与しておらず、全体として熱容量が大きくなり触媒の早期活性化が阻害されている。これに対して、電気加熱のように強制的に触媒の温度を上げる方法等も検討されているが、高圧電源を使用するために装置の大型化やコスト高を招くというデメリットがある。
かかる触媒担持構造の問題を解消すべく、特許文献1には、触媒を担持させる基材として、助触媒であるセリア-ジルコニア複合酸化物とアルミナを含む焼成体からなるハニカム構造体の構成が開示されている。当該ハニカム構造体では、基材自身が助触媒からなるため、触媒作用に実質的に関与しない骨格を用いる必要がないとともに、従来のコージェライトなどに比べて軽量である。そのため、全体として熱容量を低減でき早期活性化を促すことができる。また、装置が大型化せず、コスト高も招きにくい。
しかしながら、冬季などの外気温が低い環境下では、エンジンで発生した水蒸気が外気に接した配管で冷やされて凝縮水として排ガス流路内に滞留することがある。そして、特許文献1に開示の構成において、ハニカム構造体の基材が当該凝縮水を接触して吸収すると、その分熱容量が大きくなる。したがって、助触媒からなる基材を用いたとしても、基材が高い吸水率を有する場合には、基材が当該凝縮水を多量に吸収することとなり、結果的にハニカム構造体全体の熱容量が増加し、触媒の早期活性化が阻害されることとなる。そのため、触媒の早期活性化を図るには改善の余地がある。
本発明は、かかる課題に鑑みてなされたもので、担持された触媒の早期活性化を促して排ガス浄化作用の向上を図ることができる排ガス浄化装置用の基材を提供しようとするものである。
本発明の一態様は、ハニカム構造を有する排ガス浄化装置用の基材(11)であって、
セリア-ジルコニア固溶体を主原料として含み、
吸水率が50wt%未満である、排ガス浄化装置用の基材にある。
セリア-ジルコニア固溶体を主原料として含み、
吸水率が50wt%未満である、排ガス浄化装置用の基材にある。
上記排ガス浄化装置用の基材は、助触媒として機能するセリア-ジルコニア固溶体を主原料として含んでいる。これにより、触媒作用に実質的に関与しない骨格を用いる必要がないため、熱容量を低減でき、当該基材に担持させた触媒の早期活性化を促すことができ、排ガス浄化作用の向上が図られる。さらに、当該基材の吸水率が50wt%未満であるため、基材の吸水率は比較的低くなっており、排ガス流路に凝縮水が発生しても基材が当該凝縮水を過剰に吸収することが防止されている。その結果、基材の吸水による熱容量の増加が抑制され、これによっても、当該基材に担持させた触媒の早期活性化を促すことができ、排ガス浄化作用の向上が図られる。
以上のごとく、上記態様によれば、担持された触媒の早期活性化を促して排ガス浄化作用の向上を図ることができる排ガス浄化装置用の基材を提供することができる。
なお、特許請求の範囲及び課題を解決する手段に記載した括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示すものであり、本発明の技術的範囲を限定するものではない。
(実施形態1)
上記排ガス浄化装置用の基材の実施形態について、図1~図6を用いて説明する。
本実施形態の排ガス浄化装置用の基材11は、ハニカム構造を有する排ガス浄化装置用の基材11であって、セリア-ジルコニア固溶体を主原料として含み、吸水率が50wt%未満である。
上記排ガス浄化装置用の基材の実施形態について、図1~図6を用いて説明する。
本実施形態の排ガス浄化装置用の基材11は、ハニカム構造を有する排ガス浄化装置用の基材11であって、セリア-ジルコニア固溶体を主原料として含み、吸水率が50wt%未満である。
以下、本実施形態の排ガス浄化装置用の基材11について、詳述する。
図1に示すように、基材11はセル部12とスキン部13とを含む。セル部12はハニカム構造を有している。ハニカム構造とは、多孔質のセル壁12aにより、排ガスの流路となる複数のセル14が区画形成された構造である。各セル14の両端部は目封じされずに開放されており、各セル14はX方向に貫通している。セル14の貫通方向Xに直交する断面におけるセル14の形状は特に限定されず、図1に示すように略四角形としたり、これに替えて略六角形としたりすることができる。スキン部13は、セル部12の外周に設けられており、基材11の外周壁を構成している。
図1に示すように、基材11はセル部12とスキン部13とを含む。セル部12はハニカム構造を有している。ハニカム構造とは、多孔質のセル壁12aにより、排ガスの流路となる複数のセル14が区画形成された構造である。各セル14の両端部は目封じされずに開放されており、各セル14はX方向に貫通している。セル14の貫通方向Xに直交する断面におけるセル14の形状は特に限定されず、図1に示すように略四角形としたり、これに替えて略六角形としたりすることができる。スキン部13は、セル部12の外周に設けられており、基材11の外周壁を構成している。
基材11はセリア-ジルコニア固溶体を主原料として含む。セリア-ジルコニア固溶体は、助触媒として機能する。助触媒とは、自分単独では触媒作用をもたらせないが、所定の触媒における触媒反応を補助する作用をもたらすものをいう。例えば、基材11は、セリア-ジルコニア固溶体を主成分とする原料粒子と、該原料粒子同士を接合する無機バインダを含む材料とから構成することができる。また、基材11は、貴金属を含んでいてもよい。当該貴金属としては、触媒作用をもたらす金、銀、銅、白金、パラジウム、ロジウムなどを採用することができる。無機バインダとしては、γ-アルミナ、θ-アルミナ、α-アルミナなどのアルミナや他の公知のものを採用することができる。中でも無機バインダとして、γ-アルミナを採用することが好ましい。γ-アルミナは立方晶系の結晶構造を有して比表面積が高いため、触媒作用の向上に寄与する。一方、無機バインダとしてγ-アルミナ、θ-アルミナ、α-アルミナのうちのいずれかまたは全てを共存させてもよい。これにより、基材11の製造工程において、より高い焼成温度で焼結させることができ、高温となる排ガス流路においてセル部12のハニカム構造を維持しやすくなる。本実施形態では、基材11は主原料としてのセリア-ジルコニア固溶体と、無機バインダとしてのγ-アルミナとからなるACZ基材とした。
本実施形態1では、基材11は、以下のように作製することができる。まず、セリア-ジルコニア固溶体とアルミナバインダーおよびθアルミナを混合して坏土を作成する。そして、当該坏土をハニカム成形用の金型にて押し出し成形した後、乾燥させる。その後、所定温度で脱脂焼成し、本焼成を行って完成とする。
基材11には、図示しないが、貴金属を含む触媒が担持されている。本実施形態では、当該触媒としてPt、Pd、Rhを含む三元触媒を採用している。基材11に触媒とともにさらに助触媒を担持させてもよい。
図1に示す基材11における吸水率は50wt%未満である。これにより、基材11における吸水が抑制される。また、基材11におけるセル壁12aの厚さTは、例えば1.5~12milとすることができ、好ましくは1.5~3.5milとすることができる。セル壁12aの厚さTが1.5mil未満の場合には、セル壁12aの厚さTが過度に小さくなるため、セル部12の成形時に、成形用の金型に坏土が詰まりやすくなる。当該金型に坏土が詰まるとセル14を構成するセル壁12aに欠損が生じ、熱ストレスにより基材11に割れが生じやすくなる。一方、セル壁12aの厚さTが12milを超える場合には、セル壁12aの厚さTが過度に厚くなるため、セル部12の成形時に、セル壁12aにおいて坏土の接合圧力が不足しやすくなる。坏土の接合圧力が不足すると熱ストレスにより基材11に割れが生じやすくなる。
また、基材11におけるセル密度は、例えば200~1200cpsiとすることができ、好ましくは600~1200cpsiとすることができる。セル密度が200cpsi未満の場合には、対向するセル壁12aの間隔が広くなるため、熱ストレスに起因してセル部12が変形しやすくなり、当該変形が生じると基材11に割れが生じやすくなる。一方、セル密度が1200cpsiを超える場合は、セル部12の成形時において、型強度が不足して成形圧力を付与できず、セル壁12aにおいて接合圧力が不足しやすくなる。当該接合圧力が不足すると熱ストレスに起因して基材11に割れが生じやすくなる。
また、基材11の気孔率は、例えば80%以下とすることができる。基材11の気孔率が80%を超えると基材11に気孔が過剰に形成されて基材11の強度が低下するため、基材11に割れが生じやすくなる。
(確認試験1)
次に、本実施形態1の基材11における、非吸水時及び吸水時の受熱量と浄化率について、以下の確認試験1を行った。
試験例1、2は本実施形態1における基材11を用い、比較例1~4はコージェライトからなる基材を用いた。試験例1、2及び比較例1~4の基材はいずれも、直径120mm、長さ100mmの円柱形状であって、セル壁の厚さTを4mil、セル密度を600cpsiとし、触媒を担持させた場合の担持量を200g/Lとした。なお、当該触媒担持量における貴金属量は1.9g/Lであった。
次に、本実施形態1の基材11における、非吸水時及び吸水時の受熱量と浄化率について、以下の確認試験1を行った。
試験例1、2は本実施形態1における基材11を用い、比較例1~4はコージェライトからなる基材を用いた。試験例1、2及び比較例1~4の基材はいずれも、直径120mm、長さ100mmの円柱形状であって、セル壁の厚さTを4mil、セル密度を600cpsiとし、触媒を担持させた場合の担持量を200g/Lとした。なお、当該触媒担持量における貴金属量は1.9g/Lであった。
吸水率の導出は以下の通りとした。各試験例1、2及び比較例1~4と同一組成で直径25~30mm、長さ30mmに成形した基材試験片を新たに3個ずつ用意し、それぞれ十分な純水に浸漬させ超音波振動をかけた状態で5min放置する。その後、基材を取り出して、0.3MPaのエアージェットを15cm離れた位置から10秒間噴射して、セル壁の間すなわちセル内部に存在する水を除去し、基材の重量を測定して得られた値を吸水状態の重量とする。3個の基材試験片における吸水状態の重量の平均値を算出し、吸水前の基材重量で除して100倍したものを吸水率(%)として導出する。
気孔率及び気孔径の測定は、基材を100℃の電気炉にて24時間乾燥させた後、日本工業規格JIS R 1655:2003に規定された「ファインセラミックスの水銀圧入法による成形体気孔径分布試験方法」に則って行う。
基材温度の算出は、水の比熱および蒸発潜熱をそれぞれ4.2J/g・K、2250L/g・Kとし、コージェライトの比熱を0.72J/g・K、コージェライトに担持させた触媒及びACZ基材の比熱を0.47J/g・Kとして、各基材に加えた熱量から算出する。
HC浄化率の算出は、CO濃度5500ppm、NO濃度3500ppm、C3H6濃度550ppm、H2濃度2400ppm、O2濃度4500ppm、CO2濃度14.8%ととし、Total流量が20L/minになるようN2で調整した上、SV=100000h-1になるように触媒量を調整して実施した。このときの触媒温度に対する浄化率を事前に求め、上記で算出した温度と合わせて各基材担体を使用したときの浄化率を算出した。事前の浄化率測定に使用した触媒はセリア-ジルコニア担体に貴金属としてPdを含侵担持して調製した。Pd源として硝酸Pdを用い、セリア-ジルコニア100g当たりのPd量の金属換算値が0.95gになるように原料使用量を調整した。
試験例1及び比較例1~4における、吸水前重量、気孔率、気孔径(d90)、吸水率、吸水状態で400℃に必要な熱量は下記の表1に示すとおりである。なお、試験例1及び比較例1、3の基材において、各基材温度に到達するのに必要な熱量は下記の表2に示すとおりである。そして、非吸水状態におけるHC浄化率と、基材の受熱量との関係を図2に示し、吸水状態におけるHC浄化率と基材の受熱量との関係を図3に示した。
表1に示すように、基材がコージェライトからなる比較例2、4では、吸水率はそれぞれ35wt%、55wt%であり、吸水状態で400℃に必要な熱量はそれぞれ711KL、731KJとなっていた。一方、基材がACZからなる試験例1、2では吸水率はそれぞれ35wt%、34wt%であり、吸水状態で400℃に必要な熱量はともに525KJとなっており、いずれも比較例2、4に比べて低くなっていた。また、表2に示すようにいずれの基材温度においても必要な熱量は、試験例1の方が比較例1、3よりも少なくなっていることが確認された。
そして、図2に示す非吸水状態でのHC浄化率と、図3に示す吸水状態での浄化率とを比較すると、比較例2、4では吸水状態での基材の受熱量は、非吸水状態での基材の受熱量に比べて大きくなっている。これに対して、試験例2では、吸水状態での基材の受熱量は、非吸水状態での基材の受熱量に比べて比較例2、4ほどは大きくなっていない。これにより、試験例2では、吸水による熱容量の増加が抑制されたものと推察される。
以上から、基材がコージェライトからなる比較例4の吸水率が55wt%であり、基材がACZからなる試験例2の吸水率が34wt%であることに鑑みて、基材がACZからなるとともに、吸水率を50wt%未満とすることにより、吸水状態で昇温に必要な熱量を少なくすることができ、基材に担持させた触媒の早期活性化を促すことができると推察された。そして、試験例2では、基材11には貴金属を含む触媒が担持された状態での吸水率が50wt%未満となっており、触媒が担持された状態でも吸水率を50wt%未満とすることができることが示された。
また、気孔径d90は、試験例1、2では0.03μmであり、比較例1、2では3.2μm、比較例3、4では4.4μmとなっており、試験例1、2において比較例1~4に比べて十分小さい値となっている。そして、気孔径が1μmを超えると毛細管現象に基づく吸水が顕著となるため、気孔径は1μm以下であることが好ましい。試験例1、2では気孔径d90が0.03μmであるため、毛細管現象に基づく吸水が抑制されており、吸水率の低減が図られていると推察される。
次に、本実施形態1の排ガス浄化装置用の基材11における作用効果について、詳述する。
本実施形態1の排ガス浄化装置用の基材11は、助触媒として機能するセリア-ジルコニア固溶体を主原料として含んでいる。これにより、触媒作用に実質的に関与しない骨格を用いる必要がないため、熱容量を低減でき、基材11に担持させた触媒の早期活性化を促すことができ、排ガス浄化作用の向上が図られる。さらに、基材11の吸水率が50wt%未満であるため、基材11の吸水率は比較的低くなっており、排ガス流路に凝縮水が発生しても基材11が当該凝縮水を過剰に吸収することが防止されている。その結果、基材11の吸水による熱容量の増加が抑制され、これによっても、基材11に担持させた触媒の早期活性化を促すことができ、排ガス浄化作用の向上が図られる。
本実施形態1の排ガス浄化装置用の基材11は、助触媒として機能するセリア-ジルコニア固溶体を主原料として含んでいる。これにより、触媒作用に実質的に関与しない骨格を用いる必要がないため、熱容量を低減でき、基材11に担持させた触媒の早期活性化を促すことができ、排ガス浄化作用の向上が図られる。さらに、基材11の吸水率が50wt%未満であるため、基材11の吸水率は比較的低くなっており、排ガス流路に凝縮水が発生しても基材11が当該凝縮水を過剰に吸収することが防止されている。その結果、基材11の吸水による熱容量の増加が抑制され、これによっても、基材11に担持させた触媒の早期活性化を促すことができ、排ガス浄化作用の向上が図られる。
本実施形態1では、基材11には貴金属を含む触媒が担持されており、該触媒が担持された状態での吸水率が50wt%未満である。これにより、触媒が担持された基材11が吸水した状態であっても昇温に必要な熱量を少なくすることができ、基材11に担持させた触媒の早期活性化を促すことができる。
本実施形態1では、基材11における気孔径d90は、1μm以下である。これにより、基材において毛細管現象に基づく吸水が抑制されて吸水率の低減が図られている。その結果、基材11が吸水した状態でも昇温に必要な熱量を少なくすることができ、基材11に担持させた触媒の早期活性化を促すことができる。
以上のごとく、本実施形態1によれば、担持された触媒の早期活性化を促して排ガス浄化作用の向上を図ることができる排ガス浄化装置用の基材11を提供することができる。
本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の実施形態に適用することが可能である。
11 基材
12 セル部
12a セル壁
13 スキン部
14 セル
12 セル部
12a セル壁
13 スキン部
14 セル
Claims (3)
- ハニカム構造を有する排ガス浄化装置用の基材(11)であって、
セリア-ジルコニア固溶体を主原料として含み、
吸水率が50wt%未満である、排ガス浄化装置用の基材。 - 上記基材には貴金属を含む触媒が担持されており、該触媒が担持された状態での吸水率が50wt%未満である、請求項1に記載の排ガス浄化装置用の基材。
- 上記基材における気孔径d90は、1μm以下である、請求項1又は2に記載の排ガス浄化装置用の基材。
Priority Applications (1)
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JP2021169981A JP2023060398A (ja) | 2021-10-18 | 2021-10-18 | 排ガス浄化装置 |
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ID=86098102
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Country | Link |
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-
2021
- 2021-10-18 JP JP2021169981A patent/JP2023060398A/ja active Pending
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