JP2023051837A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2023051837A5 JP2023051837A5 JP2022154811A JP2022154811A JP2023051837A5 JP 2023051837 A5 JP2023051837 A5 JP 2023051837A5 JP 2022154811 A JP2022154811 A JP 2022154811A JP 2022154811 A JP2022154811 A JP 2022154811A JP 2023051837 A5 JP2023051837 A5 JP 2023051837A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- unsubstituted
- substituted
- aryl
- alkyl
- cycloalkyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 20
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 17
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 16
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 14
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000000592 heterocycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000006651 (C3-C20) cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000006552 (C3-C8) cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000002733 (C1-C6) fluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000006376 (C3-C10) cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000005913 (C3-C6) cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 2
- 125000005348 fluorocycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004404 heteroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004366 heterocycloalkenyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 2
- 125000003358 C2-C20 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2024093304A JP2024123050A (ja) | 2021-09-30 | 2024-06-07 | ヨウ素含有酸開裂性化合物、それから誘導されるポリマー、及びフォトレジスト組成物 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US17/490,923 | 2021-09-30 | ||
| US17/490,923 US20230103685A1 (en) | 2021-09-30 | 2021-09-30 | Iodine-containing acid cleavable compounds, polymers derived therefrom, and photoresist compositions |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2024093304A Division JP2024123050A (ja) | 2021-09-30 | 2024-06-07 | ヨウ素含有酸開裂性化合物、それから誘導されるポリマー、及びフォトレジスト組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2023051837A JP2023051837A (ja) | 2023-04-11 |
| JP2023051837A5 true JP2023051837A5 (https=) | 2024-01-10 |
Family
ID=85734105
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2022154811A Pending JP2023051837A (ja) | 2021-09-30 | 2022-09-28 | ヨウ素含有酸開裂性化合物、それから誘導されるポリマー、及びフォトレジスト組成物 |
| JP2024093304A Pending JP2024123050A (ja) | 2021-09-30 | 2024-06-07 | ヨウ素含有酸開裂性化合物、それから誘導されるポリマー、及びフォトレジスト組成物 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2024093304A Pending JP2024123050A (ja) | 2021-09-30 | 2024-06-07 | ヨウ素含有酸開裂性化合物、それから誘導されるポリマー、及びフォトレジスト組成物 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20230103685A1 (https=) |
| JP (2) | JP2023051837A (https=) |
| CN (1) | CN115894243B (https=) |
| TW (1) | TW202315858A (https=) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20230314944A1 (en) * | 2022-03-30 | 2023-10-05 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Positive resist composition and pattern forming process |
| JP2023161653A (ja) * | 2022-04-26 | 2023-11-08 | 東京応化工業株式会社 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び化合物 |
| WO2026054065A1 (ja) * | 2024-09-09 | 2026-03-12 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ヨウ素含有（メタ）アクリル酸エステル化合物及びヨウ素・水酸基含有重合体の製造方法 |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000122291A (ja) * | 1998-10-09 | 2000-04-28 | Mitsubishi Electric Corp | 化学増幅レジスト用材料、感光性樹脂組成物および該組成物を半導体装置の製造に使用する方法 |
| JP5793389B2 (ja) * | 2011-09-30 | 2015-10-14 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法、及びこれを用いた電子デバイスの製造方法 |
| US10495968B2 (en) * | 2017-06-15 | 2019-12-03 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Iodine-containing polymers for chemically amplified resist compositions |
| JP7044011B2 (ja) * | 2017-09-13 | 2022-03-30 | 信越化学工業株式会社 | 重合性単量体、重合体、レジスト材料、及びパターン形成方法 |
| JP7031537B2 (ja) * | 2018-09-05 | 2022-03-08 | 信越化学工業株式会社 | スルホニウム化合物、ポジ型レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法 |
| JP7763580B2 (ja) * | 2018-10-26 | 2025-11-04 | 住友化学株式会社 | 樹脂、レジスト組成物及びレジスタパターンの製造方法 |
| WO2020137935A1 (ja) * | 2018-12-27 | 2020-07-02 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 化合物、（共）重合体、組成物、パターン形成方法、及び化合物の製造方法 |
| CN120136703A (zh) * | 2019-08-09 | 2025-06-13 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 化合物、聚合物、组合物、膜形成用组合物、图案形成方法、绝缘膜的形成方法及化合物的制造方法 |
| JP7517106B2 (ja) * | 2019-12-11 | 2024-07-17 | 信越化学工業株式会社 | オニウム塩化合物、化学増幅レジスト組成物及びパターン形成方法 |
| JP7659384B2 (ja) * | 2019-12-18 | 2025-04-09 | 住友化学株式会社 | 樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| JP7509071B2 (ja) * | 2020-04-28 | 2024-07-02 | 信越化学工業株式会社 | ヨウ素化芳香族カルボン酸型ペンダント基含有ポリマー、レジスト材料及びパターン形成方法 |
| WO2021241086A1 (ja) * | 2020-05-29 | 2021-12-02 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、レジスト膜、電子デバイスの製造方法、化合物、化合物の製造方法 |
| TWI849314B (zh) * | 2020-06-01 | 2024-07-21 | 日商住友化學股份有限公司 | 化合物、樹脂、抗蝕劑組成物及抗蝕劑圖案的製造方法 |
| JP7840648B2 (ja) * | 2020-09-03 | 2026-04-06 | 住友化学株式会社 | 樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| JP7814674B2 (ja) * | 2020-12-21 | 2026-02-17 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 化合物、重合体、組成物、膜形成用組成物、パターンの形成方法、絶縁膜の形成方法及び化合物の製造方法 |
-
2021
- 2021-09-30 US US17/490,923 patent/US20230103685A1/en active Pending
-
2022
- 2022-09-28 TW TW111136712A patent/TW202315858A/zh unknown
- 2022-09-28 JP JP2022154811A patent/JP2023051837A/ja active Pending
- 2022-09-28 CN CN202211212376.XA patent/CN115894243B/zh active Active
-
2024
- 2024-06-07 JP JP2024093304A patent/JP2024123050A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2023051837A5 (https=) | ||
| JP2024105360A5 (https=) | ||
| JP2005516040A5 (https=) | ||
| EP2311923A3 (en) | Compositions containing fluorine substituted olefins | |
| JP2006502283A5 (https=) | ||
| JP2006511659A5 (https=) | ||
| JP2020500178A5 (https=) | ||
| JP2010525122A5 (https=) | ||
| JP2003513955A5 (https=) | ||
| JP2012505535A5 (https=) | ||
| JP2002543183A5 (https=) | ||
| JP2006156562A5 (https=) | ||
| JP2009538336A5 (https=) | ||
| JP2012533662A5 (https=) | ||
| JP2006512410A5 (https=) | ||
| JP2003261873A5 (https=) | ||
| JP2005536519A5 (https=) | ||
| JP2020128426A5 (https=) | ||
| JP2005503393A5 (https=) | ||
| JP2019512490A5 (https=) | ||
| RU2006121438A (ru) | Способ получения бисфосфолановых лигандов | |
| JPH1072584A5 (https=) | ||
| JPH0912569A5 (https=) | ||
| JP2001518468A5 (https=) | ||
| JP2001072649A5 (https=) |