JP2023048851A5 - - Google Patents

Description

上記目的を達成するために、本発明の一側面としてのステージ装置は、基板を保持するステージ装置であって、前記基板を保持する保持面を有する基板保持部と、前記保持面に前記基板を載置するための駆動機構と、前記保持面よりも小さい支持面で前記基板が支持された状態で計測された前記基板の反りに関する反り情報に基づいて、前記駆動機構の駆動を制御する制御部と、を有することを特徴とする。

Claims (20)

1. 基板を保持するステージ装置であって、
   前記基板を保持する保持面を有する基板保持部と、
   前記保持面に前記基板を載置するための駆動機構と、
   前記保持面よりも小さい支持面で前記基板が支持された状態で計測された前記基板の反りに関する反り情報に基づいて、前記駆動機構の駆動を制御する制御部と、
   を有することを特徴とするステージ装置。
2. 前記制御部は、前記基板の反りが低減された状態で前記基板が前記保持面に載置されるように前記駆動機構の駆動を制御することを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
3. 前記反り情報を取得する取得部を更に有することを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
4. 前記取得部は、
   前記支持面を有する支持部材と、
   前記支持面に支持された前記基板の高さ方向の位置を計測する計測部と、
   前記計測部で計測された位置に基づいて、前記反り情報を求める処理部と、
   を含むことを特徴とする請求項３に記載のステージ装置。
5. 前記取得部は、前記支持面に支持された前記基板の反りを計測する外部計測装置から前記反り情報を取得することを特徴とする請求項３に記載のステージ装置。
6. 前記駆動機構は、
   前記基板保持部に設けられた孔を介して前記保持面から突出可能に設けられ、前記基板を保持する保持部材と、
   前記保持部材の突出方向に沿って前記基板保持部と前記保持部材とを相対的に駆動する駆動部と、
   を含み、
   前記制御部は、前記駆動部を介して前記基板保持部と前記保持部材とを相対的に駆動して前記保持部材から前記保持面に前記基板を載置するときの速度を制御することを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載のステージ装置。
7. 前記反り情報は、前記基板の反りの形状を示す情報を含み、
   前記制御部は、前記基板の反りの形状に応じて前記保持部材から前記保持面に前記基板を載置するときの速度が変更されるように、前記駆動機構の駆動を制御することを特徴とする請求項６に記載のステージ装置。
8. 前記制御部は、
   前記基板の反りの形状が前記保持面に対して下に凸となる形状である場合、前記保持部材から前記保持面に前記基板を載置するときの速度が予め定められた速度よりも速くなるように、前記駆動機構の駆動を制御し、
   前記基板の反りの形状が前記保持面に対して上に凸となる形状である場合、前記保持部材から前記保持面に前記基板を載置するときの速度が前記予め定められた速度よりも遅くなるように、前記駆動機構の駆動を制御することを特徴とする請求項７に記載のステージ装置。
9. 前記予め定められた速度は、前記基板の形状が平坦である場合に、前記駆動部を介して前記基板保持部と前記保持部材とを相対的に駆動して前記保持部材から前記保持面に前記基板を載置するときの速度であることを特徴とする請求項８に記載のステージ装置。
10. 前記反り情報は、前記基板の反りの大きさを示す情報を含み、
    前記制御部は、前記基板の反りの大きさに応じて前記保持部材から前記保持面に前記基板を載置するときの速度が変更されるように、前記駆動機構の駆動を制御することを特徴とする請求項６乃至９のうちいずれか１項に記載のステージ装置。
11. 前記制御部は、
    前記基板の反りの形状が前記保持面に対して下に凸となる形状である場合、前記基板の反りの大きさが大きいほど、前記保持部材から前記保持面に前記基板を載置するときの速度が速くなるように、前記駆動機構の駆動を制御し、
    前記基板の反りの形状が前記保持面に対して上に凸となる形状である場合、前記基板の反りの大きさが大きいほど、前記保持部材から前記保持面に前記基板を載置するときの速度が遅くなるように、前記駆動機構の駆動を制御することを特徴とする請求項１０に記載のステージ装置。
12. 前記反り情報は、前記基板の反りの形状を示す情報を含み、
    前記保持面を介して気体を吸引する吸引部を更に含み、
    前記制御部は、前記基板の反りの形状に応じて前記気体を吸引する圧力が変更されるように、前記吸引部を制御することを特徴とする請求項１乃至１１のうちいずれか１項に記載のステージ装置。
13. 前記制御部は、
    前記基板の反りの形状が前記保持面に対して下に凸となる形状である場合、前記気体を吸引する圧力が予め定められた圧力よりも小さくなるように、前記吸引部を制御し、
    前記基板の反りの形状が前記保持面に対して上に凸となる形状である場合、前記気体を吸引する圧力が前記予め定められた圧力よりも大きくなるように、前記吸引部を制御することを特徴とする請求項１２に記載のステージ装置。
14. 前記予め定められた圧力は、前記基板の形状が平坦である場合に、前記気体を吸引する際の圧力であることを特徴とする請求項１３に記載のステージ装置。
15. 前記反り情報は、前記基板の反りの大きさを示す情報を含み、
    前記制御部は、前記基板の反りの大きさに応じて前記気体を吸引する圧力が変更されるように、前記吸引部を制御することを特徴とする請求項１２乃至１４のうちいずれか１項に記載のステージ装置。
16. 前記反り情報は、前記基板の反りの形状を示す情報を含み、
    前記保持面から前記基板に向けて気体を吹き出す吹出部を更に含み、
    前記制御部は、
    前記基板の反りの形状が前記保持面に対して下に凸となる形状である場合、前記気体を吹き出すように、前記吹出部を制御し、
    前記基板の反りの形状が前記保持面に対して上に凸となる形状である場合、前記気体を吹き出さないように、前記吹出部を制御することを特徴とする請求項１乃至１５のうちいずれか１項に記載のステージ装置。
17. 前記反り情報は、前記基板の反りの形状を示す情報を含み、
    前記保持面から前記基板に向けて気体を吹き出す吹出部を更に含み、
    前記制御部は、前記基板の反りの形状に応じて前記気体を吹き出す圧力が変更されるように、前記吹出部を制御することを特徴とする請求項１乃至１５のうちいずれか１項に記載のステージ装置。
18. 基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
    前記基板を保持する請求項１乃至１７のうちいずれか１項に記載のステージ装置を有することを特徴とするリソグラフィ装置。
19. 原版のパターンを前記基板に投影する投影光学系を更に有することを特徴とする請求項１８に記載のリソグラフィ装置。
20. 請求項１８又は１９に記載のリソグラフィ装置を用いて基板にパターンを形成する工程と、
    前記工程で前記パターンが形成された前記基板を処理する工程と、
    処理された前記基板から物品を製造する工程と、
    を有することを特徴とする物品の製造方法。