JP2023018861A - 感光性樹脂組成物、造形物、造形物の製造方法及び液体吐出ヘッドの製造方法 - Google Patents
感光性樹脂組成物、造形物、造形物の製造方法及び液体吐出ヘッドの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2023018861A JP2023018861A JP2021123199A JP2021123199A JP2023018861A JP 2023018861 A JP2023018861 A JP 2023018861A JP 2021123199 A JP2021123199 A JP 2021123199A JP 2021123199 A JP2021123199 A JP 2021123199A JP 2023018861 A JP2023018861 A JP 2023018861A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin composition
- photosensitive resin
- group
- epoxy resin
- composition according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 104
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 23
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 17
- 238000000465 moulding Methods 0.000 title 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims abstract description 59
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims abstract description 59
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 24
- 150000001454 anthracenes Chemical class 0.000 claims abstract description 20
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 claims abstract description 18
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims abstract description 18
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 13
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims abstract description 10
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 35
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 30
- -1 sulfonium salt compounds Chemical class 0.000 claims description 23
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 10
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 8
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 6
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 4
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 claims description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 4
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910018286 SbF 6 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical group C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 claims description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 3
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 claims description 3
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical group C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 claims description 2
- 229910017008 AsF 6 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003518 norbornenyl group Chemical group C12(C=CC(CC1)C2)* 0.000 claims description 2
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002298 terpene group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 claims 1
- 125000000041 C6-C10 aryl group Chemical group 0.000 abstract 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 16
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 7
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 5-(2,4-dioxooxolan-3-yl)-7-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C(C(OC2=O)=O)C2C(C)=CC1C1C(=O)COC1=O FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 5
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 4
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 3
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 3
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 102100033806 Alpha-protein kinase 3 Human genes 0.000 description 2
- 101710082399 Alpha-protein kinase 3 Proteins 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 2
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- YOETUEMZNOLGDB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl carbonochloridate Chemical compound CC(C)COC(Cl)=O YOETUEMZNOLGDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUUDMIKZAHVUFL-UHFFFAOYSA-N 9,10-bis(2-methylpropoxy)anthracene Chemical compound C(C(C)C)OC=1C2=CC=CC=C2C(=C2C=CC=CC=12)OCC(C)C NUUDMIKZAHVUFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NYEVBSJUVMRZNE-UHFFFAOYSA-N 9,10-dibutoxy-2-ethylanthracene Chemical compound CCC1=CC=C2C(OCCCC)=C(C=CC=C3)C3=C(OCCCC)C2=C1 NYEVBSJUVMRZNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSMGAOMUPSQGTB-UHFFFAOYSA-N 9,10-dibutoxyanthracene Chemical compound C1=CC=C2C(OCCCC)=C(C=CC=C3)C3=C(OCCCC)C2=C1 KSMGAOMUPSQGTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDNFESAFXIMDEK-UHFFFAOYSA-N 9,10-didecoxyanthracene Chemical compound C1=CC=C2C(OCCCCCCCCCC)=C(C=CC=C3)C3=C(OCCCCCCCCCC)C2=C1 YDNFESAFXIMDEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JELGMNFSBVSQRB-UHFFFAOYSA-N 9,10-dipentoxyanthracene Chemical compound C1=CC=C2C(OCCCCC)=C(C=CC=C3)C3=C(OCCCCC)C2=C1 JELGMNFSBVSQRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANYUCYYLYYCNOG-UHFFFAOYSA-N 9,10-diphenoxyanthracene Chemical compound C=12C=CC=CC2=C(OC=2C=CC=CC=2)C2=CC=CC=C2C=1OC1=CC=CC=C1 ANYUCYYLYYCNOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- CHESANDFJVJNJP-UHFFFAOYSA-N CCCCOC1=C2C=CC=C(C2=C(C3=CC=CC=C31)OCCCC)Cl Chemical compound CCCCOC1=C2C=CC=C(C2=C(C3=CC=CC=C31)OCCCC)Cl CHESANDFJVJNJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YXHKONLOYHBTNS-UHFFFAOYSA-N Diazomethane Chemical class C=[N+]=[N-] YXHKONLOYHBTNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N Diethyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OCC OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical group 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Chemical class CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical group 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 150000005676 cyclic carbonates Chemical class 0.000 description 1
- 150000003997 cyclic ketones Chemical class 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 1
- 150000002790 naphthalenes Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013500 performance material Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0048—Photosensitive materials characterised by the solvents or agents facilitating spreading, e.g. tensio-active agents
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0382—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable the macromolecular compound being present in a chemically amplified negative photoresist composition
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0385—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable using epoxidised novolak resin
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Abstract
Description
増感剤としては、ナフタレン誘導体、アントラセン誘導体、アントラキノン誘導体、チオキサントン誘導体等様々な例が挙げられる。これらの増感剤は、複数の芳香環を有することから、感光性樹脂層を高Tg化、高硬度化、及び低熱膨潤率化することができる。特にアントラセン又はその誘導体はi線における吸収が大きく、好適に用いられる。特許文献1では、増感剤として、アントラセンを含有させることで高い増感効果を得ることができる旨開示している。
本開示は、硬化性を維持しつつ保存安定性に優れた感光性樹脂組成物、並びに該感光性樹脂組成物を用いた造形物及び液体吐出ヘッドの製造方法を提供する。
(b)カチオン重合開始剤、
(c)アントラセン誘導体、及び
(d)カルボニル基を有する有機溶媒
を含有する感光性樹脂組成物であって、
該(c)アントラセン誘導体が、下記式(1)で表される化合物からなる群から選択される少なくとも一を含む感光性樹脂組成物に関する。
(式(1)において、R1及びR2は、それぞれ独立して、炭素数4以上のアルキル基又は炭素数6~10のアリール基を表し、R3及びR4は、それぞれ独立して、アルキル基、炭素数4以上のアルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルスルホニル基又はハロゲン原子を表し、m及びnはそれぞれ独立して0~4の整数を表す。)
感光性樹脂組成物は、成分(a)としてエポキシ樹脂を含有する。エポキシ樹脂は、その硬化物の密着性能、機械的強度、耐膨潤性、フォトリソグラフィー材料としての反応性、解像性等を考慮すると、カチオン重合型のエポキシ樹脂であることが好ましい。
のものを用いることもできる。
市販の二官能エポキシ樹脂としては、三菱化学製「jER1004」、「jER1007」、「jER1009」、「jER1009F」、「jER1010」、「jER1256」(商品名)、大日本インキ化学工業製「EPICLON 4050」、「EPICLON 7050」(商品名)等が挙げられる。
感光性樹脂組成物は、成分(b)としてカチオン重合開始剤を含有する。カチオン重合開始剤は、カチオン部とアニオン部を有するものが好ましい。カチオン重合開始剤は、スルホン酸化合物、ジアゾメタン化合物、スルホニウム塩化合物、ヨードニウム塩化合物、及びジスルホン系化合物などからなる群から選択される少なくとも一が好ましい。i線照射時の反応性の観点から、スルホニウム塩化合物及びヨードニウム塩化合物からなる群から選択される少なくとも一がより好ましく、スルホニウム塩化合物からなる群から選択される少なくとも一がさらに好ましい。すなわち、カチオン部がスルホニウム塩及びヨードニウム塩からなる群から選択される少なくとも一を含むことが好ましい。
SP-172」、「SP-150」(商品名)、サンアプロ製「CPI-410S」、「CPI-110A」、「CPI-100P」(商品名)、みどり化学製「DTS-102」、「DTS-200」、「BBI-103」、「BBI-102」(商品名)、三和ケミカル製「IBPF」、「IBCF」、「TS-01」、「TS-91」(商品名)、富士フィルム和光純薬製「WPI-116」、「WPI-124」(商品名)IGM Resins B.V.製「Omnicat 250」(商品名)等が挙げられる。
感光性樹脂組成物は、成分(d)として有機溶媒を含む。有機溶媒は、エポキシ樹脂の溶解性、及びレジスト材の塗布溶媒としての塗布性の観点からカルボニル基を有する有機溶媒である。有機溶媒は、メチルイソブチルケトン(MIBK)などのケトン化合物、シクロヘキサノンなどの環状ケトン化合物、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート(PGMEA)などのエステル化合物、γ-ブチロラクトンなどのラクトン化合物、炭酸ジエチルなどの炭酸エステル化合物、及びプロピレンカーボネートなどの環状炭酸エステル化合物からなる群から選択される少なくとも一が挙げられる。
感光性樹脂組成物には上記に示した成分以外に、フォトリソグラフィー性能や密着性能等の向上を目的に、増感補助剤、アミン類などの塩基性物質、弱酸性(pKa=-1.5~3.0)のトルエンスルホン酸を発生させる酸発生剤、シランカップリング剤などを含むことができる。
本開示は上記感光性樹脂組成物の硬化物からなる造形物を提供する。
造形物の製造方法は、好ましくは、感光性樹脂組成物にパターン露光する工程、及びパターン露光した露光部を硬化させたのち未露光部を除去して該造形物を得る工程を含み、
パターン露光する工程において感光性樹脂組成物にi線を照射する。造形物は、例えば、感光性樹脂組成物のi線による硬化物が挙げられる。
また、造形物を含む構造体の製造方法は、好ましくは、基板上に上記感光性樹脂組成物を積層する工程、感光性樹脂組成物にパターン露光する工程、及びパターン露光した露光部を硬化させたのち未露光部を除去して基板上に該造形物である上記感光性樹脂組成物の硬化物が形成された構造体を得る工程を含み、パターン露光する工程において感光性樹脂組成物にi線を照射する。
造形物の例として、液体吐出ヘッドが挙げられる。すなわち、感光性樹脂組成物は液体吐出ヘッドに適用することができる。液体吐出ヘッドは、例えば、基板と、基板上に設けられ液体の流路を形成する流路形成部材と、流路形成部材上に設けられ液体を吐出する吐出口を有する吐出口形成部材と、を備える。そして、流路形成部材が上記感光性樹脂組成物の硬化物である。吐出口形成部材が上記感光性樹脂組成物の硬化物であってもよい。
基板の感光性樹脂組成物を積層する面に対して垂直な方向において、液体吐出ヘッド又は造形物の厚さは、液体吐出ヘッドの吐出設計あるいは造形物の設計により適宜決定するとよいが、例えば、3.0μm~25.0μmとすることが好ましい。
吐出口形成部材10とは一体であってもよい。
図3(A)~(H)は、本実施形態における造形物を適用したインクジェット記録ヘッドの製造方法の一例を示す模式的断面図である。
感光性樹脂組成物15は上述した本開示にかかる感光性樹脂組成物であってもよいし、他の感光性樹脂組成物であってもよい。
以上の各工程を行うことによって基板6と流路形成部材8との密着性に優れたインクジェット記録ヘッドを製造することが可能となる。
表1~6に示される各成分を混合し、実施例1~37の各感光性樹脂組成物(1)を調製した。25℃にて30日保存した後に、以下の通り、図1(A)~(C)に示される工程により、基板上に造形物を作製した。表の各成分の数値は部数である。また、表の各製品名に関しては明細書本文に記載の通りである。
図3(A)~(H)に示される工程により、インクジェット記録ヘッドを作製した。
まず、表1(実施例2)、表2(実施例12)、表6(実施例37)に示される組成を有する感光性樹脂組成物(1)を25℃にて30日保存した。その後、それぞれの感光性樹脂組成物(1)をスピンコート法でPETフィルム12上に塗布し、90℃で5分間熱処理することで乾燥させ、ドライフィルムを得た(図3(A))。得られたドライフィルムを、エネルギー発生素子5及び供給部7を備えたシリコン製の基板6上に転写した(図3(B))。
続いて図3(C)に示されるように、流路パターンを有するマスク14を介して、感光性樹脂組成物13をパターン露光し、さらに熱処理することで露光部を硬化させた。ここで、露光機にはi線露光ステッパー(キヤノン製)を用いて露光量12000J/m2にて光照射した。その後、感光性樹脂組成物13の未露光部を、PGMEAを用いて除去し、流路形成部材8及び流路9を形成した(図3(D))。流路形成部材8の厚さは10μmであった。
続いて、表8に示される組成を有する感光性樹脂組成物(2)をPETフィルム12上に塗布し、90℃で5分間熱処理することで乾燥させ、ドライフィルム15を得た(図3(E))。なお、表9に記載の組み合わせで、表8の各組成の感光性樹脂組成物(2)を使用した。
得られたドライフィルム15を流路形成部材8上に転写した。吐出口パターンを有するマスク16を介して、15をパターン露光し、さらに熱処理することで露光部を硬化させた。この後、15の未露光部をPGMEAで除去し、吐出口形成部材10及び吐出口11を形成することで、インクジェット吐出ヘッドを作製した(図3(G)、(H))。図3(G)における露光は、前述と同様の装置を用いて露光量1100J/m2にて行った。
感光性樹脂組成物(1)として表7に示される組成で混合した組成物を用いた以外は実施例1と同様に造形物を形成した。
感光性樹脂組成物(1)として表7に示される組成で混合した組成物を、表9の組み合わせで用いた以外は実施例38と同様にインクジェット吐出ヘッドを作製した。
実施例1~37、及び比較例1~4の方法にて作製した造形物について、硬化性を評価した。硬化性については、現像前後の造形物4の膜厚を測定し、その変化量によって評価を以下の三段階に判定した。
硬化性A:変化率3%未満
硬化性B:変化率3%以上5%未満
硬化性C:変化率5%以上
実施例1~37及び比較例1~4の各感光性樹脂組成物に対し、保存前後で、i線における吸収スペクトルを測定した。なお、保存条件は25℃にて30日間とした。また、吸収スペクトルは分光光度計U-3300(日立ハイテクサイエンス製)にて測定した。保存前後のi線における吸光度の変化率を確認し、以下の評価を行った。
保存安定性A:変化率1%未満
保存安定性B:変化率1%以上3%未満
保存安定性C:変化率3%以上
実施例38~40及び比較例5~8にて作製したインクジェット吐出ヘッドを用いて、印字品位の評価を行った。キヤノン製プリンタMB5330を用い、30℃、80%RHの環境下で連続印字試験を行い、目視でドットのヨレの有無を確認した。連続印字試験は、A4版ベタ印字100枚を連続印字した。初期から印字品位が変化せずヨレが発生しなかった場合A、印字ヨレが1%未満の場合B、1%以上の場合Cとした。
なお、印字ヨレ(%)は、以下の様に算出した。
印字ヨレ=(ヨレ面積/ベタ印字面積)×100
ヨレ面積とはヨレて空白になっている部分の面積であり、電子顕微鏡で観察して目視で判断した。
表1~6に示されるように、本実施例に係る方法では、硬化性、及び保存安定性に優れた感光性樹脂組成物を提供することができた。一方、比較例1においては、アントラセン誘導体を添加していないため、カチオン重合開始剤の反応性が不足し硬化性が低下してしまった。比較例2~4においては、硬化性は確保できたものの、保存によりアントラセン誘導体が分解され、i線における吸光度に低下が見られた。
続いて、インクジェット吐出ヘッドの評価結果について述べる。本実施例に係る方法では、吐出耐久性に優れたインクジェット吐出ヘッドを提供することができた。特に、実施例40については、ベタ印字100枚後も印字品位に劣化が見られず良好な結果が得られた。感光性樹脂組成物(1)には、インクジェット吐出ヘッドに用いるために最適化された実施例37の組成を用いたためである。具体的には、酸発生剤によってパターニング精度が向上し、さらにシランカップリング剤によって基板との密着性が向上した組成となっている。一方、比較例に係る方法で製造した、比較例5~8のインクジェット吐出ヘッドについては、ベタ印字100枚後にヨレが発生してしまい、吐出耐久性が不十分であった。
(b)カチオン重合開始剤、
(c)アントラセン誘導体、及び
(d)カルボニル基を有する有機溶媒
を含有する感光性樹脂組成物であって、
該(a)エポキシ樹脂が、三官能以上のエポキシ樹脂及び二官能のエポキシ樹脂を含み、
該(c)アントラセン誘導体が、下記式(1)で表される化合物からなる群から選択される少なくとも一を含む感光性樹脂組成物に関する。
(式(1)において、R1及びR2は、それぞれ独立して、炭素数4以上のアルキル基又は炭素数6~10のアリール基を表し、R3及びR4は、それぞれ独立して、アルキル基、炭素数4以上のアルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルスルホニル基又はハロゲン原子を表し、m及びnはそれぞれ独立して0~4の整数を表す。)
Claims (18)
- (a)エポキシ樹脂、
(b)カチオン重合開始剤、
(c)アントラセン誘導体、及び
(d)カルボニル基を有する有機溶媒
を含有する感光性樹脂組成物であって、
該(c)アントラセン誘導体が、下記式(1)で表される化合物からなる群から選択される少なくとも一を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。
(式(1)において、R1及びR2は、それぞれ独立して、炭素数4以上のアルキル基又は炭素数6~10のアリール基を表し、R3及びR4は、それぞれ独立して、アルキル基、炭素数4以上のアルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルスルホニル基又はハロゲン原子を表し、m及びnはそれぞれ独立して0~4の整数を表す。) - 前記式(1)において、前記R1及びR2は、それぞれ独立して炭素数4~18のアルキル基又はフェニル基を表し、前記R3及びR4は、それぞれ独立して、炭素数1~4のアルキル基、炭素数4~12のアルコキシ基又はハロゲン原子を表す請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記(a)エポキシ樹脂が、三官能以上のエポキシ樹脂を含む請求項1又は2に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記(a)エポキシ樹脂が、脂環式骨格を有するエポキシ樹脂、ビスフェノール骨格を有するエポキシ樹脂、フェノールノボラック骨格を有するエポキシ樹脂、クレゾールノボラック骨格を有するエポキシ樹脂、ノルボルネン骨格を有するエポキシ樹脂、テルペン骨格を有するエポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ樹脂、オキシシクロヘキサン骨格を有するエポキシ樹脂からなる群から選択される少なくとも一を含む請求項1~3のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記(a)エポキシ樹脂が、三官能以上のエポキシ樹脂及び二官能のエポキシ樹脂を含む請求項1~4のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記(b)カチオン重合開始剤が、スルホニウム塩化合物及びヨードニウム塩化合物からなる群から選択される少なくとも一を含む請求項1~5のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記(b)カチオン重合開始剤が、SbF6 -、AsF6 -、PF6 -、(Rf)nPF6-n -(Rfはパーフルオロアルキル基)、BF4 -、及びB(C6F5)4 -からなる群から選択される少なくとも一を含む請求項1~6のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記(b)カチオン重合開始剤の含有量が、前記エポキシ樹脂の固形分100質量部に対し、0.1質量部~30質量部である請求項1~7のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記(c)アントラセン誘導体の含有量が、前記エポキシ樹脂の固形分100質量部に対し、0.1質量部~30質量部である請求項1~8のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記(d)カルボニル基を有する有機溶媒が、エステル化合物、ラクトン化合物、炭酸エステル化合物及び環状炭酸エステル化合物からなる群から選択される少なくとも一を含む請求項1~9のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記感光性樹脂組成物が、さらに増感補助剤を含む請求項1~10のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記感光性樹脂組成物が、さらに塩基性物質又は酸発生剤を含む請求項1~11のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記感光性樹脂組成物が、さらにシランカップリング剤を含む請求項1~12のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
- 請求項1~13のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物の硬化物からなる造形物。
- 造形物の製造方法であって、
請求項1~13のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物にパターン露光する工程、及び
該パターン露光した露光部を硬化させたのち未露光部を除去して該造形物を得る工程を含み、
該パターン露光する工程において前記感光性樹脂組成物にi線を照射する造形物の製造方法。 - 造形物を含む構造体の製造方法であって、
基板上に感光性樹脂組成物を積層する工程、
該感光性樹脂組成物にパターン露光する工程、及び
該パターン露光した露光部を硬化させたのち未露光部を除去して該基板上に該造形物である該感光性樹脂組成物の硬化物が形成された構造体を得る工程を含み、
該感光性樹脂組成物が、請求項1~13のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物であり、
該パターン露光する工程において該感光性樹脂組成物にi線を照射する構造体の製造方法。 - 基板と、該基板上に設けられ液体の流路を形成する流路形成部材と、該流路形成部材上に設けられ液体を吐出する吐出口を有する吐出口形成部材と、を備える液体吐出ヘッドであって、
該流路形成部材が、請求項1~13のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物の硬化物である液体吐出ヘッド。 - 基板と、基板上に設けられ液体の流路を形成する流路形成部材と、該流路形成部材上に設けられ液体を吐出する吐出口を有する吐出口形成部材と、を少なくとも備える液体吐出
ヘッドの製造方法であって、
少なくとも、基板上に感光性樹脂組成物を積層する工程、
該感光性樹脂組成物にパターン露光する工程、及び
該パターン露光した露光部を硬化させたのち未露光部を除去して該基板上に該流路形成部材を形成する工程を含み、
該感光性樹脂組成物が、請求項1~13のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物であり、
パターン露光する工程において感光性樹脂組成物にi線を照射する液体吐出ヘッドの製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021123199A JP7362698B2 (ja) | 2021-07-28 | 2021-07-28 | 感光性樹脂組成物、造形物、造形物の製造方法及び液体吐出ヘッドの製造方法 |
US17/813,704 US20230090580A1 (en) | 2021-07-28 | 2022-07-20 | Photosensitive resin composition, shaped product, method for manufacturing shaped product and method for manufacturing liquid discharge head |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021123199A JP7362698B2 (ja) | 2021-07-28 | 2021-07-28 | 感光性樹脂組成物、造形物、造形物の製造方法及び液体吐出ヘッドの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2023018861A true JP2023018861A (ja) | 2023-02-09 |
JP7362698B2 JP7362698B2 (ja) | 2023-10-17 |
Family
ID=85159675
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021123199A Active JP7362698B2 (ja) | 2021-07-28 | 2021-07-28 | 感光性樹脂組成物、造形物、造形物の製造方法及び液体吐出ヘッドの製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20230090580A1 (ja) |
JP (1) | JP7362698B2 (ja) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012176750A1 (ja) * | 2011-06-20 | 2012-12-27 | 日本化薬株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物及びその硬化物 |
JP2014203062A (ja) * | 2013-04-10 | 2014-10-27 | キヤノン株式会社 | 感光性ネガ型樹脂組成物 |
WO2016153044A1 (ja) * | 2015-03-26 | 2016-09-29 | 東京応化工業株式会社 | ネガ型感光性組成物、パターン形成方法 |
WO2018155016A1 (ja) * | 2017-02-21 | 2018-08-30 | 日本ゼオン株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物 |
JP2019056106A (ja) * | 2017-09-19 | 2019-04-11 | 三洋化成工業株式会社 | 活性エネルギー線硬化性組成物 |
JP2020106698A (ja) * | 2018-12-27 | 2020-07-09 | キヤノン株式会社 | 感光性組成物、並びにその用途としてのコーティング膜の製造方法、光造形物の製造方法及び液体吐出ヘッドの製造方法 |
-
2021
- 2021-07-28 JP JP2021123199A patent/JP7362698B2/ja active Active
-
2022
- 2022-07-20 US US17/813,704 patent/US20230090580A1/en active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012176750A1 (ja) * | 2011-06-20 | 2012-12-27 | 日本化薬株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物及びその硬化物 |
JP2014203062A (ja) * | 2013-04-10 | 2014-10-27 | キヤノン株式会社 | 感光性ネガ型樹脂組成物 |
WO2016153044A1 (ja) * | 2015-03-26 | 2016-09-29 | 東京応化工業株式会社 | ネガ型感光性組成物、パターン形成方法 |
WO2018155016A1 (ja) * | 2017-02-21 | 2018-08-30 | 日本ゼオン株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物 |
JP2019056106A (ja) * | 2017-09-19 | 2019-04-11 | 三洋化成工業株式会社 | 活性エネルギー線硬化性組成物 |
JP2020106698A (ja) * | 2018-12-27 | 2020-07-09 | キヤノン株式会社 | 感光性組成物、並びにその用途としてのコーティング膜の製造方法、光造形物の製造方法及び液体吐出ヘッドの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7362698B2 (ja) | 2023-10-17 |
US20230090580A1 (en) | 2023-03-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5247138B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
JP4051467B2 (ja) | 放射線硬化性樹脂層を備えたインク・ジェット・プリントヘッド | |
US8109608B2 (en) | Micro-fluid ejection head and stress relieved orifice plate therefor | |
JP5822477B2 (ja) | 液体吐出装置、及びその製造方法 | |
WO2006001532A1 (en) | Ink jet head manufacturing method and ink jet head manufactured by the manufacturing method | |
KR101891854B1 (ko) | 경화성 수지 조성물에 의해 제조된 층을 포함하는 잉크젯 프린트 헤드 | |
JP5653181B2 (ja) | 親水被膜の形成方法および親水被膜、ならびにインクジェット記録ヘッドの製造方法およびインクジェット記録ヘッド | |
JP4237088B2 (ja) | 感光性樹脂組成物および該組成物を用いたパターン形成方法 | |
JP4913142B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、その積層体、その硬化物及び該組成物を用いたパターン形成方法(3) | |
JP4789727B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、その積層体、その硬化物及び該組成物を用いたパターン形成方法 | |
WO2005093514A1 (ja) | 感光性樹脂組成物および該組成物を用いたパターン形成方法 | |
JP7362698B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、造形物、造形物の製造方法及び液体吐出ヘッドの製造方法 | |
JP7071179B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
JP2018051883A (ja) | 液体吐出ヘッド及びその製造方法 | |
JP3986060B2 (ja) | インクジェット記録ヘッドの流路構成部材及びインクジェット記録ヘッドの製造方法 | |
JP5361498B2 (ja) | インクジェットヘッドの製造方法およびインクジェットヘッド | |
JP7413039B2 (ja) | 液体吐出ヘッド及び液体吐出ヘッドの製造方法 | |
JP2023063812A (ja) | 造形物の製造方法、液体吐出ヘッドの製造方法及び液体吐出ヘッド | |
JP4913141B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、その積層体、その硬化物及び該組成物を用いたパターン形成方法(2) | |
JP2010240873A (ja) | インクジェットヘッドの製造方法およびインクジェットヘッド | |
JP6961470B2 (ja) | 液体吐出ヘッドおよびその製造方法 | |
JP5159336B2 (ja) | インクジェット記録ヘッドおよびその製造方法 | |
JP2020106698A (ja) | 感光性組成物、並びにその用途としてのコーティング膜の製造方法、光造形物の製造方法及び液体吐出ヘッドの製造方法 | |
JP2007186685A (ja) | エポキシ樹脂組成物、樹脂硬化物および液体吐出ヘッド。 | |
JP7297442B2 (ja) | 微細構造体の製造方法及び液体吐出ヘッドの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220725 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220725 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230424 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230516 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230714 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230905 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20231004 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 7362698 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |