JP2023003133A - Processing device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、洗浄液を用いて被加工物を洗浄する機能を有する The present invention has a function of cleaning a workpiece using a cleaning liquid.
研削装置では、チャックテーブルによって下面が吸引保持された被加工物の上面を研削砥石によって研削する。そして、研削終了後は、搬送パッドが被加工物の上面を保持して搬出し、被加工物の下面に洗浄水を供給するとともにブラシを用いて洗浄を行い(例えば特許文献1参照)、被加工物の下面に向けてエアを噴出することにより、下面に付着している水滴を除去している。その後、被加工物をスピンナー洗浄機構に搬送し、下面をスピンナーテーブルにおいて吸引保持して回転させ、被加工物の上面に高圧の洗浄水を噴出することにより当該上面を洗浄している(例えば特許文献2参照)。 In the grinding apparatus, the upper surface of the workpiece whose lower surface is suction-held by the chuck table is ground by the grinding wheel. After the grinding is finished, the conveying pad holds the upper surface of the workpiece and carries it out, supplies cleaning water to the lower surface of the workpiece, and cleans the workpiece using a brush (see, for example, Patent Document 1). Water droplets adhering to the bottom surface of the workpiece are removed by blowing air toward the bottom surface of the workpiece. After that, the workpiece is transported to the spinner cleaning mechanism, the lower surface of the workpiece is held by suction on the spinner table and rotated, and high-pressure cleaning water is jetted onto the upper surface of the workpiece to clean the upper surface. Reference 2).
しかし、被加工物に対してエアを噴出して下面の水滴を除去すると、多くのエアを消費し、その処理にも時間がかかる。また、エアを噴出することにより吹き飛んだ水滴が装置内の他の部品に付着して破損させることがある。 However, blowing air onto the workpiece to remove the water droplets on the bottom surface consumes a large amount of air, and it takes a long time to process it. In addition, the water droplets blown off by the jet of air may adhere to and damage other parts in the apparatus.
本発明は、このような事情にかんがみなされたもので、エアの消費量を低減するとともに水滴の除去を効率的に行い、水滴の飛散を防ぐことを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to reduce air consumption and efficiently remove water droplets to prevent scattering of water droplets.
本発明は、ポーラス板の上面の保持面において被加工物の下面を吸引保持するチャックテーブルと、該保持面が吸引保持した被加工物を加工する加工機構と、該保持面から被加工物を搬出する搬出機構と、該搬出機構が保持した被加工物の下面に洗浄水を供給し該下面を洗浄する下面洗浄機構と、制御部とを備える加工装置であって、該制御部は、該搬出機構が保持する該被加工物の下面を該下面洗浄機構によって洗浄することと、該保持面を吸引源に連通させ該保持面を乾燥状態にすることと、該下面洗浄機構によって洗浄され該搬出機構が保持している被加工物の該下面に残存する水を該保持面に接触させ、毛細管現象を作用させ該保持面から該ポーラス板に吸収させ、該下面に残存する水を除去することと、を制御する。
この加工装置において、該保持面の中心を軸に該チャックテーブルを回転させ該保持面を乾燥させるようにしてもよい。
この加工装置には、該チャックテーブルの該保持面に保持された被加工物の上面に洗浄水を供給し該上面を洗浄する上面洗浄機構を備え、該搬出機構は、被加工物の上面全面を吸引可能な第1吸引面を下面に有するポーラス板からなる搬出パッドを備え、該制御部は、該保持面に保持された被加工物の上面を該上面洗浄機構によって洗浄することと、該第1吸引面を吸引源に連通させ該第1吸引面を乾燥状態にすることと、該上面洗浄機構が洗浄した被加工物の上面に残存する水を該第1吸引面に接触させ、毛細管現象を作用させ、該第1吸引面を有する該ポーラス板に吸収させ、該上面に残存する水を除去することと、を制御するようにしてもよい。
この加工装置には、該チャックテーブルの該保持面に保持された被加工物の上面を洗浄する上面洗浄機構と、被加工物の上面全面を吸引可能なポーラス板の下面の第2吸引面を有する搬入パッドを有し該搬入パッドが吸引保持した被加工物を該保持面に搬入する搬入機構と、を備え、該制御部は、該保持面に保持された被加工物の上面を該上面洗浄機構によって洗浄することと、該第2吸引面を吸引源に連通させ該第2吸引面を乾燥状態にすることと、該上面洗浄機構によって洗浄された被加工物の上面に残存する水を該第2吸引面に接触させ、毛細管現象を作用させ、該第2吸引面を有する該ポーラス板に吸収させ、該上面に残存する水を除去することと、該搬出機構が被加工物の上面を吸引保持し該保持面から被加工物を離間させることと、を制御するようにしてもよい。
The present invention includes a chuck table for sucking and holding the lower surface of a workpiece on the holding surface of the upper surface of a porous plate, a machining mechanism for machining the workpiece sucked and held by the holding surface, and a workpiece from the holding surface. A processing apparatus comprising: a carry-out mechanism for carrying out a workpiece; a lower surface cleaning mechanism for supplying cleaning water to the lower surface of the workpiece held by the carrying-out mechanism to clean the lower surface; and a controller, wherein the controller controls the workpiece. cleaning the lower surface of the workpiece held by the carry-out mechanism by the lower surface cleaning mechanism; connecting the holding surface to a suction source to dry the holding surface; The water remaining on the lower surface of the workpiece held by the carry-out mechanism is brought into contact with the holding surface to cause capillary action to be absorbed by the porous plate from the holding surface, thereby removing the water remaining on the lower surface. Control things and things.
In this processing apparatus, the chuck table may be rotated around the center of the holding surface to dry the holding surface.
This processing apparatus is provided with an upper surface washing mechanism for supplying washing water to the upper surface of the workpiece held on the holding surface of the chuck table to wash the upper surface, and the unloading mechanism is provided with the entire upper surface of the workpiece. a carrying-out pad made of a porous plate having a first suction surface on the bottom surface capable of sucking the material; connecting the first suction surface to a suction source to bring the first suction surface into a dry state; contacting the first suction surface with water remaining on the upper surface of the workpiece washed by the upper surface washing mechanism; A phenomenon may be applied to cause absorption by the porous plate having the first suction surface, and removal of water remaining on the upper surface may be controlled.
This processing apparatus includes an upper surface cleaning mechanism for cleaning the upper surface of the workpiece held on the holding surface of the chuck table, and a second suction surface on the lower surface of the porous plate capable of sucking the entire upper surface of the workpiece. a carrying-in mechanism for carrying a workpiece sucked and held by the carrying-in pad into the holding surface, wherein the control unit moves the upper surface of the workpiece held on the holding surface to the upper surface of the workpiece. cleaning by a cleaning mechanism; connecting the second suction surface to a suction source to dry the second suction surface; and removing water remaining on the upper surface of the workpiece cleaned by the upper surface cleaning mechanism. contacting the second suction surface to cause capillary action to be absorbed by the porous plate having the second suction surface to remove water remaining on the upper surface; may be controlled by sucking and holding the workpiece and separating the workpiece from the holding surface.
本発明では、被加工物の下面に残存する水をチャックテーブルの保持面に接触させ、毛細管現象を作用させて洗浄水を保持面からポーラス板に吸収させることにより当該下面に残存する水滴を除去するため、被加工物の下面をエアブローせずに済み、短時間で被加工物の下面の乾燥が可能になり、水滴が飛散することもなくなる。
搬出機構又は搬入機構の吸引面を被加工物の上面に残存する水に接触させ、毛細管現象を作用させて吸引面を有するポーラス板に吸収させ、上面に残存する水を除去するため、被加工物の上面をエアブローせずに済み、短時間で被加工物の上面の乾燥が可能になり、水滴が飛散することもなくなる。
In the present invention, the water remaining on the lower surface of the workpiece is brought into contact with the holding surface of the chuck table, and capillary action is caused to absorb the cleaning water from the holding surface into the porous plate, thereby removing water droplets remaining on the lower surface. As a result, the lower surface of the workpiece does not need to be blown with air, the lower surface of the workpiece can be dried in a short period of time, and water droplets do not scatter.
The suction surface of the carry-out mechanism or the carry-in mechanism is brought into contact with the water remaining on the upper surface of the workpiece, causing capillary action to be absorbed by the porous plate having the suction surface, thereby removing the water remaining on the upper surface of the workpiece. It is possible to dry the upper surface of the object to be processed in a short time without air blowing the upper surface of the object, and the splashing of water droplets can be prevented.
図1に示す研削装置1は、加工装置の一種であり、被加工物を吸引保持するチャックテーブル2と、チャックテーブル2に保持された被加工物を研削する加工機構3と、加工機構3を研削送りする加工送り機構4とを備えている。
A
研削装置1の前部には、研削前の被加工物を収容する第1カセット51及び研削後の被加工物を収容する第2カセット52がX軸方向に並んで備えられている。第1カセット51及び第2カセット52の近傍には、第1カセット51から研削前の被加工物を取り出すとともに研削後の被加工物を第2カセット52に収容するロボット53を備えている。ロボット53は、上下方向及び水平方向に移動可能なアーム部54と、アーム部54の先端に取り付けられたハンド55とを備えている。
A front portion of the
ハンド55の可動域には、被加工物を一定の位置に位置合わせする位置合わせ部61と、研削後の被加工物をスピンナー洗浄するスピンナー洗浄機構62とが配設されている。
位置合わせ部61は、被加工物が一時的に置かれる仮置きテーブル611と、仮置きテーブル611に載置された被加工物を一定の位置に位置合わせする複数の位置決めピン612とから構成されている。
スピンナー洗浄機構62には、被加工物を保持して回転するスピンナーテーブル621と、被加工物に水及びエアを噴出するノズル622とを備えている。スピンナーテーブル621はポーラス板を備え、被加工物を吸引保持することができる。
In the movable range of the
The
The
スピンナー洗浄機構62の近傍には、被加工物をチャックテーブル2からスピンナーテーブル621に搬出する搬出機構63を備えている。搬出機構63は、図2に示すように、ポーラス板からなる搬出パッド631を備え、その下面は第1吸引面632となっている。第1吸引面632は、被加工物の上面全面を吸引可能である。搬出パッド631は、開閉バルブ633を介して吸引源634に接続されているとともに、開閉バルブ635を介してエア源636に接続されている。
In the vicinity of the
搬出機構63の近傍には、研削後に被加工物の下面に洗浄水を供給し下面を洗浄する下面洗浄機構71が配設されている。下面洗浄機構71は、被加工物の直径以上の長さを有するブラシ711を備えている。ブラシ711は、モータ712によって駆動されて回転可能となっている。
In the vicinity of the carry-
位置合わせ部61の近傍には、被加工物を仮置きテーブル611からチャックテーブル2に搬入する搬入機構64が配設されている。搬入機構64は、図2に示すように搬出機構63と同様の構造であり、ポーラス板からなる搬入パッド641を備え、その下面は被加工物の上面全面を吸引可能な第2吸引面642である。搬入パッド641は、開閉バルブ643を介して吸引源644に接続されているとともに、開閉バルブ645を介してエア源646に接続されている。
A carrying-in
チャックテーブル2は、Z軸方向の回転軸20を中心として回転可能となっているとともに、Y軸方向に水平移動可能となっている。チャックテーブル2は、図3に示すように、ポーラス板21を備えている。ポーラス板21は、開閉バルブ221を介して吸引源222に接続されているとともに、開閉バルブ223を介してエア源224に接続されている。ポーラス板21の上面は、被加工物を保持する保持面211となっている。ポーラス板21は、枠体23によって支持されている。
The chuck table 2 is rotatable around a rotating
チャックテーブル2のY軸方向の移動経路の上方には、被加工物の上面に洗浄水を供給して洗浄する上面洗浄機構72が配設されている。上面洗浄機構72は、ブラシ721と、ブラシ721に連結された軸部722と、軸部722を回転させるモータ723とを備え、昇降可能となっている。なお、上面洗浄機構72は、チャックテーブル2の保持面211の洗浄にも用いることができる。
Above the movement path of the chuck table 2 in the Y-axis direction, an upper
加工機構3は、Z軸方向の回転軸30を中心として回転するスピンドル31と、スピンドル31を回転可能に支持するハウジング32と、スピンドル31を回転させるモータ33と、スピンドル31の下端に連結されたマウント34と、マウント34に取り付けられた研削ホイール35とから構成されている。研削ホイール35は、マウント34に装着される基台351と、基台351の下面に円環状に固着された複数の研削砥石352とで構成される。
The
加工送り機構4は、Z軸方向の回転軸40を中心として回転するボールネジ41と、ボールネジ41と平行に配設された一対のガイドレール42と、ボールネジ41を回転させるモータ43と、ボールネジ41に螺合するナットを内部に備え側部がガイドレール42に摺接する昇降板44と、昇降板44に連結され加工機構3を支持するホルダ45とを備えている。
The
研削装置1は、制御部8を備えており、研削装置1に備える各部位の動作を制御する。
The
図1に示した研削装置1においては、ロボット53が第1カセット51から加工前の被加工物を取り出し、仮置きテーブル611に載置する。そして、位置決めピン612が仮置きテーブル611の中心に向けて移動することにより、被加工物が一定の位置に位置決めされる。
In the
次に、チャックテーブル2を-Y方向側に位置させておき、図2に示した搬入機構64の第2吸引面642によって被加工物の上面が吸引保持されてチャックテーブル2の上方に搬送され、被加工物の下面がチャックテーブル2の保持面211に吸引保持される。
Next, the chuck table 2 is positioned on the -Y direction side, and the upper surface of the workpiece is sucked and held by the
その後に、チャックテーブル2が+Y方向に移動し、被加工物が加工機構3の下方に位置づけられる。そして、モータ33が研削ホイール35を回転させるとともに、加工送り機構4が加工機構3を下降させ、回転する研削砥石352を被加工物の上面に接触させて研削を行う。そして、被加工物が所定の厚さに形成されると、研削を終了する。
After that, the chuck table 2 moves in the +Y direction, and the workpiece is positioned below the
研削終了後は、チャックテーブル2が-Y方向に移動し、被加工物が上面洗浄機構72の下方に位置づけられる。そして、制御部8による制御の下で、図4に示すように、チャックテーブル2を回転させるとともに、モータ723がブラシ721を回転させながら下降させて研削後の被加工物10の上面101に接触させ、上面101を洗浄する。
After finishing the grinding, the chuck table 2 moves in the -Y direction, and the workpiece is positioned below the upper
上面101の洗浄終了後は、制御部8による制御の下で、図2に示した搬出機構63の開閉バルブ643を開いて吸引源634と第1吸引面632とを連通させるとともに、開閉バルブ635を閉じてエア源636と第1吸引面632とを遮断することにより、第1吸引面632に吸引力を作用させ、第1吸引面632を乾燥状態とする。
After the
次に、制御部8による制御の下で、図5に示すように、搬出機構63の第1吸引面632を、チャックテーブル2に吸引保持された被加工物10の上面101に近づけるが、非接触状態としておく。そして、第1吸引面632を被加工物10の上面101に付着している洗浄水の水滴110に接触させて、乾燥状態の搬出パッド631のポーラス板によって毛細管現象を生じさせ、第1吸引面632を有する搬出パッド631に水滴110を吸引する吸引力を作用させ、上面101に残存する水滴110を吸引して被加工物10の上面101から除去する。
Next, under the control of the
なお、このようにして行う上面101に付着している洗浄水の水滴110の吸引除去は、ポーラス板を備える搬入機構64を用いて行うこともできる。この場合も同様に、制御部8による制御の下で、上面洗浄機構72による被加工物10の上面101の洗浄、搬入機構64の第2吸引面642の乾燥処理、第2吸引面642を洗浄水の水滴110に接触させて毛細管現象を生じさせることによる洗浄水の吸引除去を行う。
It should be noted that the cleaning
上記のようにして搬出機構63又は搬入機構64によって被加工物10の上面101の水滴を除去した後、制御部8による制御の下で、搬出機構63の第1吸引面632によって被加工物10の上面101を吸引保持し、被加工物10をチャックテーブル2の保持面211から離間させ、被加工物10を、図1に示した下面洗浄機構71の上方に移動させる。そして、被加工物10の下面102に洗浄水を供給しながら、モータ712がブラシ711を回転させるとともに被加工物10の下面102に接触させることにより、下面102を洗浄する。
After the water droplets on the
洗浄終了後は、制御部8による制御の下で、搬出機構63が被加工物10をチャックテーブル2の上方に移動させる。そして、図6に示すように、チャックテーブル2の開閉バルブ221を開いて吸引源222と連通させるとともに開閉バルブ223を閉じてエア源224と遮断し、保持面211に吸引力を作用させチャックテーブル2のポーラス板21を乾燥状態にする。この乾燥状態で、搬出機構63が吸引保持している被加工物10の下面102に残存している洗浄水の水滴120を保持面211に接触させる。そうすると、毛細管現象により、保持面211を介してポーラス板21に洗浄水が吸収され、図7に示すように、下面102に残存していた洗浄水の水滴120を除去することができる。なお、水滴120を除去した後は、保持面211の中心を軸にチャックテーブル2を回転させて保持面211を乾燥させる。
なお、保持面211を吸引源222に連通させポーラス板2を乾燥状態にする際にチャックテーブル2を回転させてもよい。
なお、保持面211にエアを噴射してポーラス板2を乾燥状態にしてもよい。例えば、保持面211に2流体を噴射する2流体ノズルを備える場合は、2流体ノズルからエアのみを噴射するとともに、保持面211を吸引源222に連通させる。
After the cleaning is completed, the
The chuck table 2 may be rotated when the holding
The
こうして下面102の水滴120が除去されると、搬出機構63が被加工物10を図1に示したスピンナーテーブル621に搬送し、下面102側がスピンナーテーブル621に保持される。そして、被加工物10を保持したスピンナーテーブル621が回転するとともにノズル622から洗浄水を噴出して、上面101を洗浄する。そしてさらに、スピンナーテーブル621を回転させるとともにノズル622から高圧エアを噴出し、上面101を乾燥させる。乾燥した被加工物10は、ロボット53によって第2カセット52に収容される。
When the
スピンナーテーブル621がポーラス板で形成されており、被加工物10の下面102に被加工物10をスピンナーテーブル621に保持した場合、被加工物10の下面102に水が付着していると、ポーラス板が被加工物10の下面102の水を吸収し、洗浄後の被加工物10をスピンナーテーブル621から離間させる際に、ポーラス板に吸収されている水が噴き出され被加工物10の下面102を濡らすことがある。そして、このように濡れた状態の被加工物10を第2カセット52に収納すると、周囲のホコリを付着させ被加工物10を汚すこととなる。しかしながら、被加工物10の上面101及び下面102に付着していた水滴を除去することにより、第2カセット52に収納される被加工物からは水滴が除去されているため、被加工物10にホコリが付着するおそれを低減することができる。
When the spinner table 621 is formed of a porous plate and the
1:研削装置
2:チャックテーブル
20:回転軸 21:ポーラス板 211:保持面
221:開閉バルブ 222:吸引源 223:開閉バルブ 224:エア源
23:枠体
3:加工機構
30:回転軸 31:スピンドル 32:ハウジング 33:モータ 34:マウント
35:研削ホイール 351:基台 352:研削砥石
4:加工送り機構
40:回転軸 41:ボールネジ 42:ガイドレール 43:モータ 44:昇降板
45:ホルダ
51:第1カセット 52:第2カセット 53:ロボット 54:アーム部
55:ハンド
61:位置合わせ部 611:仮置きテーブル 612:位置決めピン
62:スピンナー洗浄機構 621:スピンナーテーブル 622:ノズル
63:搬出機構 631:搬出パッド 632:第1吸引面 633:開閉バルブ
634:吸引源 635:開閉バルブ 636:エア源
64:搬入機構 641:搬入パッド 642:第2吸引面 643:開閉バルブ
644:吸引源 645:開閉バルブ 646:エア源
71:下面洗浄機構 711:ブラシ 712:モータ
72:上面洗浄機構 721:ブラシ 722:軸部 723:モータ
8:制御部
10:被加工物 101:上面 102:下面 110、120:水滴
1: Grinding device 2: Chuck table 20: Rotating shaft 21: Porous plate 211: Holding surface 221: Open/close valve 222: Suction source 223: Open/close valve 224: Air source 23: Frame 3: Processing mechanism 30: Rotating shaft 31: Spindle 32: Housing 33: Motor 34: Mount 35: Grinding Wheel 351: Base 352: Grinding Wheel 4: Processing Feed Mechanism 40: Rotary Axis 41: Ball Screw 42: Guide Rail 43: Motor 44: Elevating Plate 45: Holder 51: First cassette 52: Second cassette 53: Robot 54: Arm part 55: Hand 61: Alignment part 611: Temporary placement table 612: Positioning pin 62: Spinner cleaning mechanism 621: Spinner table 622: Nozzle 63: Carry-out mechanism 631: Unloading pad 632: First suction surface 633: Opening/closing valve 634: Suction source 635: Opening/closing valve 636: Air source 64: Loading mechanism 641: Carrying-in pad 642: Second suction surface 643: Opening/closing valve 644: Suction source 645: Opening/closing valve 646: Air source 71: Lower surface cleaning mechanism 711: Brush 712: Motor 72: Upper surface cleaning mechanism 721: Brush 722: Shaft 723: Motor 8: Control unit 10: Work piece 101: Upper surface 102: Lower surface 110, 120: Water droplets
Claims (4)
該制御部は、
該搬出機構が保持する該被加工物の下面を該下面洗浄機構によって洗浄することと、
該保持面を吸引源に連通させ該保持面を乾燥状態にすることと、
該下面洗浄機構によって洗浄され該搬出機構が保持している被加工物の該下面に残存する水を該保持面に接触させ、毛細管現象を作用させ該保持面から該ポーラス板に吸収させ、該下面に残存する水を除去することと、を制御する
加工装置。 A chuck table for sucking and holding the lower surface of the workpiece on the holding surface of the upper surface of the porous plate, a processing mechanism for machining the workpiece sucked and held by the holding surface, and a carrying-out mechanism for carrying out the workpiece from the holding surface. a lower surface cleaning mechanism for supplying cleaning water to the lower surface of the workpiece held by the carry-out mechanism to clean the lower surface; and a control unit, wherein
The control unit
cleaning the lower surface of the workpiece held by the carry-out mechanism by the lower surface cleaning mechanism;
Communicating the retaining surface with a source of suction to dry the retaining surface;
The water remaining on the lower surface of the workpiece which has been washed by the lower surface washing mechanism and is held by the carry-out mechanism is brought into contact with the holding surface to cause capillary action to be absorbed by the porous plate from the holding surface. A processing device that controls and removes residual water on the underside.
請求項1記載の加工装置。 2. The processing apparatus according to claim 1, wherein the chuck table is rotated around the center of the holding surface to dry the holding surface.
該搬出機構は、被加工物の上面全面を吸引可能な第1吸引面を下面に有するポーラス板からなる搬出パッドを備え、
該制御部は、
該保持面に保持された被加工物の上面を該上面洗浄機構によって洗浄することと、
該第1吸引面を吸引源に連通させ該第1吸引面を乾燥状態にすることと、
該上面洗浄機構が洗浄した被加工物の上面に残存する水を該第1吸引面に接触させ、毛細管現象を作用させ、該第1吸引面を有する該ポーラス板に吸収させ、該上面に残存する水を除去することと、を制御する
請求項1記載の加工装置。 an upper surface washing mechanism for supplying washing water to the upper surface of the workpiece held on the holding surface of the chuck table to wash the upper surface;
The carry-out mechanism includes a carry-out pad made of a porous plate having a first suction surface on the lower surface capable of sucking the entire upper surface of the workpiece,
The control unit
cleaning the upper surface of the workpiece held on the holding surface by the upper surface cleaning mechanism;
communicating the first suction surface to a suction source to dry the first suction surface;
The water remaining on the upper surface of the workpiece washed by the upper surface washing mechanism is brought into contact with the first suction surface, causes capillary action, is absorbed by the porous plate having the first suction surface, and remains on the upper surface. 2. The processing apparatus according to claim 1, which controls removing the water.
該制御部は、
該保持面に保持された被加工物の上面を該上面洗浄機構によって洗浄することと、
該第2吸引面を吸引源に連通させ該第2吸引面を乾燥状態にすることと、
該上面洗浄機構によって洗浄された被加工物の上面に残存する水を該第2吸引面に接触させ、毛細管現象を作用させ、該第2吸引面を有する該ポーラス板に吸収させ、該上面に残存する水を除去することと、
該搬出機構が被加工物の上面を吸引保持し該保持面から被加工物を離間させることと、を制御する
請求項1記載の加工装置。 It has an upper surface cleaning mechanism for cleaning the upper surface of the workpiece held on the holding surface of the chuck table, and a loading pad having a second suction surface on the lower surface of the porous plate capable of sucking the entire upper surface of the workpiece. a loading mechanism for loading the workpiece sucked and held by the loading pad into the holding surface;
The control unit
cleaning the upper surface of the workpiece held on the holding surface by the upper surface cleaning mechanism;
connecting the second suction surface to a suction source to dry the second suction surface;
Water remaining on the upper surface of the workpiece cleaned by the upper surface cleaning mechanism is brought into contact with the second suction surface, causes capillary action, is absorbed by the porous plate having the second suction surface, and is absorbed by the upper surface. removing residual water;
2. The processing apparatus according to claim 1, wherein said carry-out mechanism sucks and holds the upper surface of the workpiece and separates the workpiece from the holding surface.
Priority Applications (1)
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