JP2022545424A - 洗浄時の微生物除去が向上した微細構造化表面、物品、及び方法 - Google Patents

Abstract

山部構造及び隣接する谷部の配列を有する微細構造化表面を含むフィルム及び物品が記載される。洗浄性を改善するために、谷部は、好ましくは、１０ミクロン～２５０ミクロンの範囲の最大幅を有し、山部構造は、１０度を超える側壁角度を有する。山部構造は、プリズムの直線配列又はキューブコーナー要素の配列の場合などにおいて、２つ以上のファセットを含み得る。ファセットは、同じ方向に連続した又は半連続した表面を形成している。谷部には、典型的には、交差する壁がない。また、製造方法及び使用方法も記載される。物品の微細構造化表面は、重合性樹脂のコーティング、射出成形、エンボス加工、レーザーエッチング、押出、並びに鋳造及び硬化、接着剤を用いた微細構造化フィルムの表面又は物品への接着など、様々な高精細技術によって調製することができる。

Description

米国特許出願公開第２０１７／０１００３３２号（要約）は、第１の複数の間隔が空いた特徴部を含む物品を記載している。間隔が空いた特徴部は複数のグループになるように配置され、特徴部のグループは繰り返し単位を含み、１つのグループ内の間隔が空いた特徴部同士は約１ナノメートル～約５００マイクロメートルの平均距離で間隔が空いており、各特徴部は隣接する特徴部上の表面に実質的に平行な表面を有し、各特徴部はその隣接する特徴部から離されており、特徴部のグループは蛇行経路を画定するように互いに対して配置されている。複数の間隔が空いた特徴部は、物品に、加工粗さ指数約５～約２０をもたらす。

国際公開第２０１３／００３３７３号及び同第２０１２／０５８６０５号は、特に医療用物品上の、バイオフィルム形成に抵抗し、それを低減するための表面を記載している。表面は、複数の微細構造特徴部を含む。

特定の微細構造特徴部を有する物品は、特に医療用物品の場合には、バイオフィルムの初期形成を減少させるのに有用であるが、他の物品の場合、そのような微細構造化表面は、洗浄が難しい場合がある。これは、少なくとも部分的には、ブラシの毛材又は（例えば、不織布）拭き取り布の繊維が微細構造体間のスペースよりも大きいためであると推測される。驚くべきことに、いくつかの種類の微細構造化表面は、平滑な表面と比較しても、洗浄されたときにより良好な微生物（例えば、細菌）除去を示すことが見出された。そのような微細構造化表面は、微生物の接触移動（touch transfer）の減少をもたらすことも見出された。

一実施形態では、平坦なベース層上に配置された微細構造化表面を含むフィルムが記載される。微細構造化表面は、山部構造及び隣接する谷部の配列を含む。谷部は、好ましくは、１０ミクロン～２５０ミクロンの範囲の最大幅を有する。いくつかの実施形態では（例えば、洗浄性を改善するために）、山部構造は、１０度を超える側壁角度を有する。山部構造は、プリズムの直線配列又はキューブコーナー要素の配列の場合などにおいて、２つ以上のファセットを含み得る。いくつかの実施形態では、山部構造のファセットは、典型的には約２０～１２０度の範囲の頂角を形成する。ファセットは、同じ方向に連続した又は半連続した表面を形成している。谷部には、典型的には、交差する壁がない。フィルムは、フィルムの反対の面上に感圧接着剤を更に含む。いくつかの実施形態では、感圧接着剤は除去可能である。

別の実施形態では、洗浄時の微生物（例えば、細菌）除去が向上した表面を有する物品を提供する方法が記載され、この方法は、物品上に本明細書に記載の微細構造化表面を提供することを含む。物品は、典型的には、無菌インプラント型医療用物品ではない。むしろ、微細構造化表面は、典型的には、人及び／又は動物、並びに他の汚染物質（例えば、汚れ）と触れ合う。いくつかの代表的な物品は、例えば、乗り物（例えば、自動車、バス、電車、飛行機、ボート）の表面又は構成要素、及び電子デバイスのハウジング又はケースを含む。物品の微細構造化表面は、重合性樹脂のコーティング、射出成形、エンボス加工、レーザーエッチング、押出、並びに鋳造及び硬化などの様々な高精細（microreplication）技術によって調製することができる。一実施形態では、フィルムに、本明細書に記載の微細構造化表面と、フィルムの反対の面上に配置される感圧接着剤とを提供すること、及びフィルムを感圧接着剤で表面又は物品に接着することによって、微細構造化表面が物品上に提供される。

別の実施形態では、ベース部材と、ベース部材上に配置された、本明細書に記載の微細構造化表面と、を含む物品が記載される。一態様では、物品は、ベース部材と微細構造化表面との間に配置された感圧接着剤層を含む。

別の実施形態では、物品の製造方法が記載され、本方法は、
本明細書に記載の微細構造化表面を含むベース部材を提供する工程であって、山部構造が、ベース部材よりも高い溶融温度を有する有機ポリマー材料を含む、工程と、山部構造の溶融温度未満の温度でベース部材を物品に熱成形する工程と、を含む。

微細構造化表面が洗浄後にもたらす微生物（例えば、細菌）のｌｏｇ１０減少値は、少なくとも２、３、４、５、６、７、又は８である。

以下の例よっても証明されるように、微細構造化表面が、同様の非構造化（例えば、平滑な）表面と比較して、少なくとも２５、３０、３５、４０、４５、５０、６０、７０、８０、９０、９５、又は９９％の微生物の接触移動の減少をもたらす。

好ましい実施形態では、同じ微細構造化表面が、洗浄後の微生物（例えば、細菌）の減少及び微生物の接触移動の減少の両方をもたらす。しかしながら、他の実施形態では、微細構造化表面は微生物の接触移動の減少をもたらし得るが、山部及び谷部の寸法特徴及び／又は角度により、洗浄後の微生物（例えば、細菌）の減少をもたらさない場合があることが推測される。

別の実施形態では、本明細書に記載の微細構造化表面を含む物品を提供する工程と、微細構造化表面を洗浄する工程とを含む、物品を洗浄する方法が記載される。微細構造化表面が拭き取り布又はブラシで機械的に洗浄されるか、及び／又は微細構造化表面に抗菌溶液を適用することによって洗浄されるかに関係なく、微細構造化表面は、平坦面と比較して微生物（例えば、細菌）の改善された除去をもたらす。

様々な微細構造化表面を説明するために利用され得る表面のデカルト座標系の斜視図である。 微細構造化表面の断面図である。 微細構造化表面の斜視図である。 プリズムの直線配列を含む微細構造化表面の斜視図である。 キューブコーナー要素の配列を含む微細構造化表面の斜視図である。 角錐形要素の配列を含む微細構造化表面の斜視図である。 キューブコーナー要素の寸法及び角度を示す斜視図である。 好適形状キューブコーナー要素の配列を含む微細構造化表面の斜視図である。 様々な頂角を有する山部構造の断面図である。 丸みを帯びた頂上を有する山部構造の断面図である。 平坦な頂上を有する山部構造の断面図である。 比較例の微細構造化表面の電子顕微鏡写真である（スケールバーは２０ミクロンを表している）。

図１を参照すると、微細構造化表面は、デカルト座標系をその構造に重ね合わせることによって、三次元空間で特徴付けることができる。第１の基準面１２４は、主表面１１２と１１４との間の中心にある。ｙ－ｚ平面と称される第１の基準面１２４は、その法線ベクトルとしてｘ軸を有する。ｘ－ｙ平面と称される第２の基準面１２６は、表面１１６と実質的に同一平面上に延びており、その法線ベクトルとしてｚ軸を有する。ｘ－ｚ平面と称される第３の基準面１２８は、第１の端面１２０と第２の端面１２２との間の中心にあり、その法線ベクトルとしてｙ軸を有する。

いくつかの実施形態では、物品はマクロスケールで三次元である。ただし、マイクロスケール（例えば、少なくとも２つの隣接する微細構造体と、その微細構造体間に配置された谷部又はチャネルとを含む領域）では、ベース層／ベース部材は、微細構造体に対して平面であると見なすことができる。微細構造体の幅及び長さは、ｘ－ｙ平面にあり、微細構造体の高さは、ｚ方向にある。更に、ベース層は、ｘ－ｙ平面に平行であり、ｚ平面に直交している。

図２は、微細構造化表面２００の例示的な断面図である。このような断面は、複数の個別の（例えば、ポスト又はリブ）微細構造体２２０を表す。微細構造体は、（例えば、加工）平坦面２１６（基準面１２６に平行な図１の表面１１６）に隣接するベース部２１２を含む。上（例えば、平坦な）面２０８（表面２１６及び図１の基準面２６に平行）は、微細構造体の高さ（「Ｈ」）だけベース部２１２から間隔が空いている。微細構造体２２０の側壁２２１は、平坦面２１６に垂直である。側壁２２１が平坦面２１６に垂直であるとき、微細構造体は、側壁角度が０度である。垂直側壁の場合、ある山部微細構造体の垂直側壁は互いに平行であり、垂直側壁を有する隣接する微細構造体とも平行である。あるいは、微細構造体２３０は、平坦面２１６に対して垂直ではなく角度付けされた側壁２３１を有する。側壁角度２３２は、側壁２３１と平坦面２１６に垂直な基準面２３３（図１の基準面１２６に垂直であり、基準面１２８に平行）との交点によって画定することができる。米国特許第９，３３５，４４９号に記載されているようなプライバシーフィルムの場合、壁角度は、典型的には、１０、９、８、７、６、又は５度未満である。プライバシーフィルムのチャネルは光吸収材料を含むため、壁角度が大きくなると透過率が低減する可能性がある。しかしながら、本明細書に記載されるように、壁角度が０度に近付くと、洗浄することがより困難にもなる。

本明細書で記載されるのは、１、２、３、４、５、６、７、８、９、又は１０度を超える側壁角度を有する微細構造体を含む微細構造化表面である。いくつかの実施形態では、側壁角度は、少なくとも１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、又は２０度である。他の実施形態では、側壁角度は、少なくとも２１、２２、２３、２４、２５、２６、２７、２８、２９、又は３０度である。例えば、いくつかの実施形態では、微細構造体は、３０度の側壁角度を有するキューブコーナー山部構造である。他の実施形態では、側壁角度は、少なくとも３１、３２、３３、３４、３５、３６、３７、３８、３９、４０、４１、４２、４３、４４、又は４５度である。例えば、いくつかの実施形態では、微細構造体は、４５度の側壁角度を有するプリズム構造である。他の実施形態では、側壁角度は、少なくとも４６、４７、４８、４９、５０、５１、５２、５３、５４、５５、５６、５７、５８、５９、又は６０度である。側壁のいくつかがより低い側壁角度を有する場合でも、微細構造化表面は有益であろうことが理解される。例えば、山部構造の配列の半分が所望の範囲内の側壁角度を有する場合、改善された微生物（例えば、細菌）除去の利点の約半分が得られ得る。したがって、いくつかの実施形態では、山部構造の５０、４５、４０、３５、３０、２５、２０、１５、１０、５、又は１％未満が、１０、９、８、７、６、５、４、３、２、又は１度未満の側壁角度を有する。いくつかの実施形態では、山部構造の５０、４５、４０、３５、３０、２５、２０、１５、１０、５、又は１％未満が、３０、２５、２０、又は１５度未満の側壁角度を有する。いくつかの実施形態では、山部構造の５０、４５、４０、３５、３０、２５、２０、１５、１０、５、又は１％未満が、４０、３５、又は３０度未満の側壁角度を有する。あるいは、上述のように、山部構造の少なくとも５０、６０、７０、８０、９０、９５、又は９９％が、十分に大きな側壁角度を有する。

例えば、国際公開第２０１３／００３３７３号において記載されているように、５ミクロン以下の断面寸法を有する微細構造体は、ＨＡＩ、又は抗力の増加、熱伝達の減少、ろ過ファウリングなど他の生物付着の問題に最も関与する標的細菌の定着及び付着を実質的に妨げると考えられる。図２を参照すると、この図に示される微細構造体の断面幅（「Ｗ_Ｍ」）は、隣接する微細構造体間のチャネル又は谷部の断面幅（「Ｗ_Ｖ」）以下である。したがって、（この線形プリズムの実施形態で）図示されるように、微細構造体の断面幅（Ｗ_Ｍ）が５ミクロン以下である場合、微細構造体間のチャネル又は谷部の断面幅（Ｗ_Ｖ）も、５ミクロン以下である。図２の微細構造体２２０によって示されるように、谷部の両側の微細構造体の側壁角度が０の場合、側壁によって画定されるチャネル又は谷部は、底面２１２に隣接するのと同じ幅（Ｗ_Ｖ）を上面２０８に隣接して有する。例えば微細構造体２３０の線２３１によって示されるように、微細構造体の側壁角度が０より大きい場合、谷部は、典型的には、底面２１２に隣接するチャネル又は谷部の幅と比較して、より大きな（例えば最大）幅を上面２０８に隣接して有する。

側壁角度が小さすぎる場合、及び／又は谷部の最大幅が小さすぎる場合、及び／又は微細構造化表面が、過剰な平坦な領域を含む場合、微細構造化表面は、洗浄がより困難になることが見出された。

本明細書で記載されるのは、谷部の最大幅が、少なくとも１、２、３、又は４ミクロン、より典型的には５、６、７、８、９、又は１０ミクロンより大きく、最大２５０ミクロンまでの範囲の微細構造体を含む微細構造化表面である。いくつかの実施形態では、谷部の最大幅は、少なくとも１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０、２１、２２、２３、２４又は２５ミクロンである。いくつかの実施形態では、谷部の最大幅は、１０００、９５０、９００、８５０、８００、７５０、７００、６５０、６００、５５０、５００、４５０、４００、３５０、３００、２５０、２２５、２００、１７５、１５０、１２５、１００、７５、又は５０ミクロン以下である。いくつかの実施形態では、谷部の最大幅は、４５、４０、３５、３０、２５、２０、又は１５ミクロン以下である。谷部のいくつかが最大幅よりも小さい場合でも、微細構造化表面が有益であろうことが理解される。例えば、微細構造化表面の谷部の総数の半分が所望の範囲内にある場合、約半分の利点が得られ得る。したがって、いくつかの実施形態では、谷部の５０、４５、４０、３５、３０、２５、２０、１５、１０、５、又は１％未満が、１０、９、８、７、６、又は５ミクロン未満の最大幅を有する。あるいは、上述のように、谷部の少なくとも５０、６０、７０、８０、９０、９５、又は９９％が最大幅を有する。

典型的な実施形態では、微細構造体の最大幅は、谷部について説明したのと同じ範囲内にある。他の実施形態では、谷部の幅は、微細構造体の幅よりも大きくてもよい。したがって、いくつかの好ましい実施形態では、微細構造化表面は、典型的には、１ミクロン未満の幅を有するナノ構造を含む、５、４、３、２、又は１ミクロン未満の幅を有する微細構造体を実質的に含まない。実質的に含まないとは、そのような微細構造体が、全く存在しないか、又は後に記載されるようにその存在が洗浄性特性を損なわないことを条件に、いくつかが存在し得ることを意味する。

ナノ構造を含むより小さな構造体は、バイオフィルム形成を防止することができるが、小さな谷部及び／又は側壁角度が不十分な谷が多数存在すると、汚れの除去を含む洗浄性が妨げられる可能性がある。更に、より大きな微細構造体及び谷部を有する微細構造化表面は、典型的には、より速い速度で製造することができる。したがって、典型的な実施形態では、微細構造体の寸法はそれぞれ、少なくとも１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、又は１５ミクロンである。更に、好ましい実施形態では、少なくとも５０、６０、７０、８０、９０、９５、又は９９％の微細構造体の寸法はいずれも、１５、１４、１３、１２、１１、１０、９、８、７、６、５、４、３、２、又は１ミクロン未満ではない。

図９は、不連続な谷部を有する比較例の微細構造化表面を示す。そのような表面はまた、蛇行経路を画定するように互いに対して配置された特徴部のグループを有するものとして説明されている。むしろ、谷部は壁により分割され、個別のセルの配列を形成しており、各セルは壁に囲まれている。セルのいくつかは約３ミクロンの長さであり、一方、他のセルは約１１ミクロンの長さである。

対照的に、記載された微細構造化表面の谷部は、交差する側壁又は谷部に対する他の障害物を実質的に含まない。実質的に含まないとは、側壁又は他の障害物が、谷部内に存在しないか、又は後に記載されるようにその存在が洗浄性特性を損なわないことを条件に、いくつかが存在し得ることを意味する。谷部は、典型的には、少なくとも１つの方向に連続的である。これは、谷部を通る洗浄溶液の流れを円滑にすることができる。したがって、山部の配置は、典型的には、蛇行経路を画定しない。

山部構造は、典型的には、１～１２５ミクロンの範囲の高さ（Ｈ）を有する。いくつかの実施形態では、微細構造体の高さは、少なくとも２、３、４、又は５ミクロンである。いくつかの実施形態では、微細構造体の高さは、少なくとも６、７、８、９、又は１０ミクロンである。いくつかの実施形態では、微細構造体の高さは、１００、９０、８０、７０、６０又は５０ミクロン以下である。いくつかの実施形態では、微細構造体の高さは、４５、４０、３５、３０、又は２５ミクロン以下である。いくつかの実施形態では、微細構造体の高さは、２４、２３、２２、２１、２０、１９、１８、１７、１６、１５、１４、１３、１２、１１、又は１０ミクロン以下である。典型的な実施形態では、谷部又はチャネルの高さは、山部構造について説明したのと同じ範囲内である。いくつかの実施形態では、山部構造及び谷部は、同じ高さを有する。

谷部のアスペクト比は、谷部の高さ（微細構造体の山部高さと同じとすることができる）を谷部の最大幅で割ったものである。いくつかの実施形態では、谷部のアスペクト比は、少なくとも０．１、０．１５、０．２、又は０．２５である。いくつかの実施形態では、谷部のアスペクト比は、１、０．９、０．８、０．７、０．６、又は０．５以下である。したがって、いくつかの実施形態では、谷部の高さは、典型的には、谷部の最大幅以下であり、より典型的には、谷部の最大幅よりも小さい。

各微細構造体のベース部は、任意選択で角が丸みを帯びた平行四辺形、矩形、正方形、円、半円、半楕円、三角形、台形、他の多角形（例えば、五角形、六角形、八角形など、及びそれらの組み合わせ）を含むがこれらに限定されない、様々な断面形状を含み得る。

本明細書に記載の微細構造化表面は、微生物（例えば、ストレプトコッカスミュータンス（Streptococcus mutans）、黄色ブドウ球菌（Staphyloccus aureus）、又は緑膿菌（Psueodomonas aeruginosa）などの細菌）が微細構造化表面上に存在することを防止しない、又は言い換えれば、バイオフィルムを形成することを防止しない。以下の実施例によって証明されるように、本明細書に記載の平滑な平坦面及び微細構造化表面の両方には、洗浄前には、ほぼ同じ量、すなわち、８０コロニー形成単位を超える微生物（例えば、細菌）が存在していた。したがって、本明細書に記載される微細構造化表面は、無菌インプラント型医療用デバイスに有益であるとは期待されないであろう。

しかしながら、以下の実施例によっても証明されるように、本明細書に記載される微細構造化表面は、洗浄がより容易であり、洗浄後に存在する微生物（例えば、細菌）は少量である。理論に束縛されることを意図するものではないが、走査型電子顕微鏡画像は、大きな連続したバイオフィルムが、典型的には平滑な表面上に形成されることを示唆している。しかしながら、山部及び谷部が、微生物（例えば、細菌）よりもはるかに大きい場合でも、微細構造化表面によって、バイオフィルムは分断される。いくつかの実施形態では、バイオフィルム（洗浄前）は、連続したバイオフィルムではなく、微細構造化表面上に不連続な凝集体及び細胞の小さなグループとして存在する。洗浄後、小さなパッチの状態のバイオフィルム凝集体が平滑な表面を覆う。しかしながら、微細構造化表面は、洗浄後、少量の細胞のグループ及び個々の細胞のみを有することが観察された。好ましい実施形態では、微細構造化表面が洗浄後にもたらす微生物（例えば、ストレプトコッカスミュータンス、黄色ブドウ球菌、又は緑膿菌などの細菌）のｌｏｇ１０減少値は、少なくとも２、３、４、５、６、７、又は８であった。いくつかの実施形態では、微細構造化表面は、諸試験方法に従って調製された高度に汚染された表面について、洗浄後の微生物の回収コロニー形成単位の平均ｌｏｇ１０が、６、５、４、又は３未満であった。典型的な表面は、初期汚染が少ないことが多く、したがって、洗浄後の回収コロニー形成単位が更に少ないと予想される。これらの特性についての試験方法は、実施例において説明される。

いくつかの実施形態では、微細構造化表面は、同じポリマー（例えば、熱可塑性、熱硬化性、又は重合樹脂）材料の平滑な表面と比較して、水性又は（例えば、イソプロパノール）アルコール系洗浄溶液が玉形成する（beading up）のを防ぐことができる。洗浄溶液が玉形成する、又は言い換えれば、ディウェッティングする場合、消毒剤は、微生物を死滅させるのに十分な時間、微生物と接触しない可能性がある。しかしながら、微細構造化表面の少なくとも５０、６０、７０、８０、又は９０％は、（実施例に記載の試験方法に従って）洗浄溶液を微細構造化表面に適用してから１分後、２分後、及び３分後に洗浄溶液を含んでいることができることが見出された。

一実施形態では、微細構造化表面は、輝度向上フィルムと同じ表面を有し得る。例えば、米国特許第７，０７４，４６３号において説明されるように、バックライト付き液晶ディスプレイは、一般に、拡散体と液晶ディスプレイパネルとの間に配置された輝度向上フィルムを含む。輝度向上フィルムは光をコリメートし、それによって液晶ディスプレイパネルの輝度を増加させ、また光源の電力を低減することを可能にする。したがって、輝度向上フィルムは、微生物（例えば、細菌）又は汚れに曝露されない照明付き表示デバイス（例えば、携帯電話、コンピュータ）の内部構成要素として利用されている。

図３を参照すると、一実施形態では、微細構造化表面３００は、規則的な直角プリズム３２０の直線配列を含む。各プリズムは、第１のファセット３２１と第２のファセット３２２とを有する。プリズムは、典型的には、（例えば、予め形成されたポリマーフィルム）ベース部材３１０上に形成され、このベース部材３１０は、その上にプリズムが形成される、（基準面１２６に平行な）第１の平坦面３３１と、実質的に平ら又は平坦であり、かつ第１の面の反対側の第２の表面３３２と、を有する。直角プリズムは、頂角θ３４０が典型的には約９０°であることを意味する。しかしながら、この角度は、７０°～１２０°の範囲とすることができ、８０°～１００°の範囲であってもよい。これらの頂上は、（図示のように）鋭利であってもよく、（図７に示されるように）丸みを帯びていてもよく、又は（図８に示されるように）切頭状であってもよい。（例えば、プリズムの）山部間の間隔は、ピッチ（「Ｐ」）として特徴付けられ得る。この実施形態では、ピッチは、谷部の最大幅にも等しい。したがって、ピッチは、前述のように、１、２、３、４、５、６、７、８、９、又は１０ミクロンより大きく、最大２５０ミクロンまでの範囲である。（例えば、プリズムの）微細構造体の長さ（「Ｌ」）は、典型的には最大寸法であり、微細構造化表面、フィルム、又は物品の寸法全体に延び得る。プリズムファセットは同一である必要はなく、プリズムは、図６に示すように互いに対して傾斜していてもよい。

別の実施形態では、微細構造化表面は、キューブコーナー再帰反射シートと同じ表面を有し得る。再帰反射性材料は、材料に入射した光を発光源に戻す方向に転換できる能力によって特徴付けられる。この特性により、様々な交通安全及び個人の安全用途の再帰反射シートが広範に使用されるようになった。図４Ａを参照すると、キューブコーナー再帰反射シートは、典型的には、実質的に平坦な前面を有する薄い透明層と、複数のキューブコーナー要素１７を含む後部構造化表面１０とを備える。封止フィルム（図示せず）は、典型的には、キューブコーナー要素の裏側に適用される。例えば、米国特許第４，０２５，１５９号及び同第５，１１７，３０４号を参照されたい。封止フィルムは、境界面での内部全反射を可能にし、汚れ及び／又は水分などの汚染物質の侵入を阻止する、キューブの裏面の空気界面を維持する。

図４Ａの微細構造化表面１０は、３組の平行な溝（すなわち、谷部）１１、１２、及び１３によって画定されるキューブコーナー要素１７の配列として特徴付けられ得る。２組の溝（すなわち、谷部）は、６０度を超える角度で互いに交差し、第３の組の溝（谷部）は、他の２組と６０度未満の角度で互いに交差して、傾斜したキューブコーナー要素対応対の配列を形成する（米国特許第４，５８８，２５８号（Ｈｏｏｐｍａｎ）を参照されたい）。溝の角度は、溝の交点の直線部において形成される二面角になるように選択され、例えば、代表的なキューブコーナー要素１７についての１４、１５、及び１６は、約９０度である。いくつかの実施形態では、三角形の底部は、少なくとも６４、６５、６６、６７、６８、６９、又は７０度の角度を有し、他の角度は、５５、５６、５７、又は５８度である。

図４Ｂに示される別の実施形態では、図４Ｂの微細構造化表面４００は、第１のｙ方向の平行溝（すなわち谷部）の組と第２のｘ方向の平行溝の組とによって画定される角錐形山部構造４２０の配列を特徴とし得る。角錐形山部構造のベース部は、溝の間隔に応じて、多角形、典型的には正方形又は長方形である。頂角θ４４０は、典型的には約９０°である。しかしながら、この角度は、７０°～１２０°の範囲とすることができ、８０°～１００°の範囲であってもよい。他の実施形態では、頂角は、少なくとも２０°、３０°、４０°、５０°、又は６０°である。

「フルキューブ」又は「好適形状（ＰＧ）キューブコーナー要素」として記載される他のキューブコーナー要素構造は、典型的には、例えば、参照により本明細書に組み込まれる、米国特許第７，１８８，９６０号に記載されているように同一平面上にない少なくとも２つの非二面縁部を含む。フルキューブは、切頭状ではない。一態様では、平面図のフルキューブ要素のベース部は、三角形ではない。別の態様では、フルキューブ要素の非二面縁部は、特徴として全てが同じ平面内にあるわけではない（すなわち、同一平面上にはない）。そのようなキューブコーナー要素は、「好適形状（ＰＧ）キューブコーナー要素」として特徴付けられ得る。

ＰＧキューブコーナー要素は、基準面に沿って延びているキューブコーナー要素の構造化表面の文脈で定義され得る。ＰＧキューブコーナー要素は、（１）基準面に対して非平行であり、かつ（２）近隣のキューブコーナー要素の隣接する非二面縁部に実質的に平行である、少なくとも１つの非二面縁部を有するキューブコーナー要素を意味する。矩形（正方形を含む）、台形、又は五角形を含む、反射面を有するキューブコーナー要素は、ＰＧキューブコーナー要素の例である。

図５を参照すると、別の実施形態では、微細構造化表面５００は、好適形状（ＰＧ）キューブコーナー要素の配列を含み得る。例示的な微細構造化表面は、好適形状（ＰＧ）キューブコーナー要素の４つの列（５０１、５０２、５０３、及び５０４）を含む。好適形状（ＰＧ）キューブコーナー要素の各列は、「側溝」とも呼ばれる第１及び第２の溝の組から形成された面を有する。そのような側溝は、隣接する側溝に対して、名目上の平行～１度以内の非平行である。そのような側溝は、典型的には、図１の基準面１２４に対して垂直である。そのようなキューブコーナー要素の第３の面は、好ましくは、主溝面５５０を備える。この主溝面範囲は、側溝から形成された面に対して、名目上の垂直～１度以内の非垂直である。いくつかの実施形態では、側溝は、名目上９０度の頂角θを形成することができる。他の実施形態では、好適形状（ＰＧ）キューブコーナー要素の列は、図５に示されるように、交互になった一対の側溝５１０及び５１１（例えば、約７５度及び約１０５度）から形成された山部構造を含む。したがって、隣接する（ＰＧ）キューブコーナー要素の頂角５４０は、９０度より大きくてもよいし、又はそれより小さくてもよい。いくつかの実施形態では、同じ列の隣接する（ＰＧ）キューブコーナー要素の平均頂角は、典型的には９０度である。前に引用した米国特許第７，１８８，９６０号に記載されているように、ＰＧキューブコーナー要素を含む微細構造化表面の製造中に、側溝を個々の薄層（薄いプレート）上に独立して形成することができ、各薄層は、そのようなキューブコーナー要素の１つの列を有する。反対の向きを有する薄層の対が、それらのそれぞれの主溝面が主溝５５２を形成するように配置され、それによって、垂直壁の形成を最小限に抑える。薄層を組み立てて微細構造化表面を形成し、そしてそれを複製して、適切なサイズのツールを形成することができる。

いくつかの実施形態では、全ての山部構造は、同じ頂角θを有する。例えば、図３の前述の微細構造化表面は、各々が９０度の頂角θを有する複数のプリズム構造を示す。別の例として、図４Ｂの前述の微細構造化表面は、各々が６０度の頂角θを有する複数の角錐形構造を示す。他の実施形態では、山部構造は、同じではない頂角を形成し得る。例えば、図５に示すように、山部構造のいくつかは、９０度を超える頂角を有してもよく、山部構造のうちのいくつかは、９０度未満の頂角を有してもよい。いくつかの実施形態では、微細構造体の配列の山部構造は、異なる頂角を有する山部構造を有するが、頂角は、平均して６０～１２０度の範囲の値である。いくつかの実施形態では、平均頂角は、少なくとも６５、７０、７５、８０、又は８５度である。いくつかの実施形態では、平均頂角は、１１５、１１０、１００、又は９５度未満である。

更に別の例として、図６の断面に示されるように、微細構造化表面６００は、それぞれが山部６５２、６５４、及び６５６を有する６４６、６４８、及び６５０などの複数の山部構造を含み得る。微細構造化表面が平坦な表面（すなわち、図１の基準面１２６に平行な表面）を含まない場合、隣接する山部構造のファセットはまた、隣接する山部間の谷部も画定し得る。いくつかの実施形態では、山部構造のファセットは、９０度未満の谷部角度を有する谷部（例えば、谷部６５８）を形成する。いくつかの実施形態では、山部構造のファセットは、９０度を超える谷部角度を有する谷部（例えば、谷部６６０）を形成する。いくつかの実施形態では、谷部６５８及び６６０によって示されるように、谷部は対称である。他の実施形態では、谷部６６２によって示されるように、谷部は対称である。谷部が対称である場合、谷部を画定している隣接する山部構造の側壁同士は、実質的に同じである。谷部が非対称である場合、谷部を画定している隣接する山部構造の側壁同士は異なっている。微細構造化表面は、対称及び非対称の谷部の組み合わせを有し得る。

図７は、微細構造化表面７００の別の実施形態を示し、山部構造は、丸みを帯びた頂上７４０を有する。これらの山部構造は、弦幅７４２、断面ベース山部幅７４４、曲率半径７４６、及び根元角７４８によって特徴付けられる。いくつかの実施形態では、弦幅は、断面ピッチ幅の約２０％～４０％に等しい。いくつかの実施形態では、曲率半径は、断面ピッチ幅の約２０％～５０％に等しい。いくつかの実施形態では、根元角は、少なくとも５０、６５、７０、８０又は８５度である。いくつかの実施形態では、根元角は、１１０、１０５、１００、又は９５度以下である。いくつかの実施形態では、少なくとも６０、６５、７０、７５、８０、又は９０度である根元角が好ましい。根元角は、谷部角度と同じであり得る。いくつかの実施形態では、山部構造は、少なくとも２、３、又は４マイクロメートルであり、かつ１５、１０、又は５マイクロメートル以下の範囲の半径に丸められた頂上を有する。

図８は、微細構造化表面８００の別の実施形態を示し、山部構造８４０は、切頭されており、平らな、又は言い換えると平坦な、上面（図１の基準面１２６に実質的に平行）を有している。これらの山部構造は、平坦化された幅８４２及び断面ベース山部幅８４４によって特徴付けることができる。典型的な実施形態では、平坦化された幅は、断面ベース山部幅の５０、４５、４０、３５、３０、２５、２０、１５、１０、５、４、３、２、又は１％以下であり得る。特に、山部構造は、頂上が、鋭利である、丸みを帯びている、又は切頭状であるかどうかに関係なく、同じ側壁角度を有することができる。

いくつかの実施形態では、山部構造は、典型的には、少なくとも２つ（例えば、図３のプリズム）、３つ（例えば、図４Ａのキューブコーナー）又はより多数のファセットを含む。例えば、微細構造体のベース部が八角形である場合、山部構造は、８つの側壁ファセットを含む。しかしながら、ファセットが、図７、図８に示されるような丸みを帯びた面又は切頭面を有する場合、微細構造体は、特定の幾何学的形状によって特徴付けられない場合がある。

微細構造体のファセットが、頂上と谷部とが鋭利である又は丸みを帯びているが、切頭状ではないように接合される場合、微細構造化表面は、平坦なベース層に平行な平坦な表面を含まないことを特徴とすることができる。しかしながら、頂上及び／又は谷部が、切頭状である場合、微細構造化表面は、典型的には、平坦なベース層に実質的に平行な平坦な領域の５０、４５、４０、３５、３０、２５、２０、１５、１０、５、又は１％未満を含む。一実施形態では、谷部は、平坦な表面を有してもよく、山部の側壁のうちの１つのみが、図２Ａに示されるように角度付けされている。しかしながら、好ましい実施形態では、谷部を画定している隣接する山部同士の両方の側壁は、前述のように、互いに向かって角度が付けられている。したがって、谷部の両側の側壁は、互いに平行ではない。

図３～図８の各実施形態では、隣接する（例えば、プリズム又はキューブコーナー）山部構造のファセット同士は、典型的には、谷部の底部において、すなわち平坦なベース層の近くで接続されている。山部構造のファセット同士は、同じ方向に連続表面を形成している。例えば、図３では、（例えば、プリズム）山部構造のファセット３２１及び３２２は、微細構造体の長さ（Ｌ）の方向、又は換言すればｙ方向に連続している。更に別の例として、図５のＰＧキューブコーナー要素の主溝４５２及び５５０は、ｙ方向に連続表面を形成している。他の実施形態では、ファセットは、同じ方向に半連続表面を形成している。例えば、図４では、（例えば、キューブコーナー又は角錐形）山部構造のファセットは、ｘ方向及びｙ方向の両方において同じ平面内にある。これらの半連続表面及び連続表面は、表面からの病原体の洗浄を促進することができる。

いくつかの実施形態では、山部構造の頂角は、特に山部構造のファセット同士が山部構造の間の谷部で相互に接続している場合、典型的には、壁角度の２倍である。したがって、頂角は、典型的には２０度を超え、より典型的には少なくとも２５、３０、３５、４０、４５、５０、５５、又は６０度である。山部構造の頂角は、典型的には１６０度未満であり、より典型的には１５５、１５０、１４５、１４０、１３５、１３０、１２５、又は１２０度未満である。

共焦点レーザー走査顕微鏡（ＣＬＳＭ）を使用して、トポグラフィマップを得た。全てのイメージングに使用されるＣＬＳＭ装置は、Ｋｅｙｅｎｃｅ ＶＫ－Ｘ２００である。ＣＬＳＭは、集束レーザービームを使用して表面を走査し、表面のトポグラフィをマッピングする光学顕微鏡技術である。ＣＬＳＭは、レーザービームを光源の開口部に通し、次いで対物レンズによって表面上の小さな領域に集束させることで機能し、試料から放出された光子を収集することによって画像が画素ごとに構築される。これは、ピンホールを使用して画像形成時の焦点外光を遮断する。次元解析を使用して、マニュアル（ｈｔｔｐｓ：／／ｗｗｗ．ｉｍａｇｅｍｅｔ．ｃｏｍ／ｍｅｄｉａ－ｌｉｂｒａｒｙ／ｓｕｐｐｏｒｔ－ｄｏｃｕｍｅｎｔｓを参照）に従って、ＳＰＩＰ ６．７．７画像計測ソフトウェアを使用して、様々なパラメータを測定した。

表面粗さパラメータ、Ｓａ（粗さ平均）、Ｓｑ（二乗平均平方根）、及びＳｂｉ（表面ベアリング指数）、Ｓｖｉ（谷部流体保持指数）を、トポグラフィ画像（３Ｄ）から計算した。粗さを計算する前に、平面補正を使用した「減算平面」（一次平面フィッティングフォームの除去）。

以下の表は、いくつかの代表的な実施例及び比較例のＳパラメータを説明するものである。

式中、Ｍ及びＮは、データ点Ｘ及びＹの数である。

平滑な表面では、Ｓａがゼロに近づくことがあるが、洗浄後に微生物除去が不十分であることが見出された比較例の平滑な表面は、少なくとも１０、１５、２０、２５、又は３０ｎｍの平均表面粗さＳａを有していた。比較例の平滑な表面の平均表面粗さＳａは、１０００ｎｍ（１ミクロン）未満であった。いくつかの実施形態では、比較例の平滑な表面のＳａは、少なくとも５０、７５、１００、１２５、１５０、２００、２５０、３００、又は３５０ｎｍであった。いくつかの実施形態では、比較例の平滑な表面のＳａは、９００、８００、７００、６００、５００、又は４００ｎｍ以下であった。

洗浄後の微生物除去が改善された微細構造化表面の平均表面粗さＳａは、１ミクロン（１０００ｎｍ）以上であった。いくつかの実施形態では、Ｓａは、少なくとも１１００ｎｍ、１２００ｎｍ、１３００ｎｍ、１４００ｎｍ、１５００ｎｍ、１６００ｎｍ、１７００ｎｍ、１８００ｎｍ、１９００ｎｍ、又は２０００ｎｍ（２ミクロン）であった。いくつかの実施形態では、微細構造化表面のＳａは、少なくとも２５００ｎｍ、３０００ｎｍ、３５００ｎｍ、４０００ｎｍ、又は５０００ｎｍであった。いくつかの実施形態では、微細構造化表面のＳａは、少なくとも１０，０００ｎｍ、１５，０００ｎｍ、２０，０００ｎｍ、又は２５，０００ｎｍであった。いくつかの実施形態では、洗浄後の微生物除去が改善された微細構造化表面のＳａは、４０，０００ｎｍ（４０ミクロン）、３５，０００ｎｍ、３０，０００ｎｍ、１５，０００ｎｍ、１０，０００ｎｍ、又は５，０００ｎｍ以下であった。

いくつかの実施形態では、微細構造化表面のＳａは、平滑な表面のＳａの少なくとも２倍又は３倍である。他の実施形態では、微細構造化表面のＳａは、平滑な表面のＳａの少なくとも４、５、６、７、８、９、又は１０倍である。他の実施形態では、微細構造化表面のＳａは、平滑な表面のＳａの少なくとも１５、２０、２５、３０、３５、４０、４５、５０倍である。他の実施形態では、微細構造化表面のＳａは、平滑な表面のＳａの少なくとも１００、２００、３００、４００、５００、６００、７００、８００、９００、又は１０００倍である。

式中、Ｍ及びＮは、データ点Ｘ及びＹの数である。

Ｓｑ値はＳａ値よりもわずかに高いが、Ｓｑ値もまたＳａ値について説明された範囲と同じ範囲内にある。

式中、Ｚ_０．０５は、５％のベアリング面積での表面高さである。

式中、Ｖｖ（ｈ０．８０）は、８０～１００％のベアリング面積内の谷部ゾーンでの空隙体積である。

上記のＳパラメータ表に記載されているように、比較例の平滑な試料のＳｂｉ／Ｓｖｉ比は、１及び３であった。洗浄後の微生物除去が改善された微細構造化表面は、３より大きいＳｂｉ／Ｓｖｉ比を有していた。微細構造化表面は、少なくとも４、５、又は６であるＳｂｉ／Ｓｖｉ比を有する。いくつかの実施形態では、洗浄後の微生物除去が改善された微細構造化表面は、少なくとも７、８、９、又は１０であるＳｂｉ／Ｓｖｉ比を有していた。いくつかの実施形態では、洗浄後の微生物除去が改善された微細構造化表面は、少なくとも１５、２０、２５、３０、３５、４０、又は４５であるＳｂｉ／Ｓｖｉ比を有していた。洗浄後の微生物除去が改善された微細構造化表面は、比較例の方形波状微細構造化表面よりも小さいＳｂｉ／Ｓｖｉ比を有していた。したがって、洗浄後の微生物除去が改善された微細構造化表面は、９０、８５、８０、７５、７０、又は６５未満であるＳｂｉ／Ｓｖｉ比を有していた。いくつかの実施形態では、洗浄後の微生物除去が改善された微細構造化表面は、６０、５５、５０、４５、４０、３５、３０、２５、２０、又は１０未満であるＳｂｉ／Ｓｖｉ比を有していた。

トポグラフィマップを使用して、微細構造化表面の他の特徴部を測定することもできる。例えば、山部高さ（特に同じ高さの繰り返し山部）は、ソフトウェアの高さヒストグラム関数から決定することができる。方形波状フィルムの「平坦な領域」のパーセントを計算するためには、特定の形状（この場合は、微細構造化方形波状フィルムの「平坦な頂部」）を識別する、ＳＰＩＰの粒子細孔分析機能を使用して「平坦な領域」を識別することができる。

方法
微細構造化フィルム及び物品は、重合性樹脂のコーティング、鋳造及び硬化、射出成形、並びに／又は圧縮技術を含むがこれらに限定されない、様々な高精細方法を含む様々な方法によって形成することができる。例えば、（例えば、加工）表面の微細構造化は、（１）微細構造パターンを有するツールを使用して溶融熱可塑性樹脂を鋳造すること、（２）微細構造パターンを有するツール上に流体をコーティングすること、その流体を凝固させること、及び得られたフィルムを取り外すこと、（３）熱可塑性フィルムをニップロールに通して、微細構造パターンを有するツールに押し付けて圧縮すること（すなわち、エンボス加工）、及び／又は（４）揮発性溶媒中のポリマーの溶液又は分散体を、微細構造パターンを有するツールに接触させ、例えば、蒸発によって溶媒を除去すること、のうちの少なくとも１つによって達成することができる。ツールは、ある程度はツール材料及び所望のトポグラフィの特徴に応じて選択される、当業者に知られている多数の技術のいずれかを使用して形成することができる。例示的な技術としては、エッチング（例えば、化学エッチング、機械エッチング、又はレーザーアブレーション若しくは反応性イオンエッチングなどの他のアブレーション手段、及びこれらの組み合わせ）、フォトリソグラフィ、ステレオリソグラフィ、マイクロマシニング、ローレット加工（例えば、切削ローレット若しくは酸強化ローレット）、スコアリング、カッティングなど、又はそれらの組み合わせが挙げられる。いくつかの実施形態では、ツールは金属ツールである。ツールは、国際公開第２００９／０３２８１５号（Ｄａｖｉｄ）に記載されているようなダイヤモンド様ガラス層を更に含み得る。

（例えば、加工）微細構造化表面を形成する代替的な方法としては、熱可塑性樹脂の押出加工、硬化性流体コーティング法、及び硬化も可能な熱可塑性層のエンボス加工が挙げられる。（例えば、加工）微細構造化表面を形成するための材料及び様々なプロセスに関する追加情報は、例えば、Ｈａｌｖｅｒｓｏｎらの国際公開第２００７／０７０３１０号及び米国特許出願公開第２００７／０１３４７８４号、Ｈａｎｓｃｈｅｎらの米国特許出願公開第２００３／０２３５６７７号、Ｇｒａｈａｍらの国際公開第２００４／０００５６９号、Ｙｌｉｔａｌｏらの米国特許第６，３８６，６９９号、Ｊｏｈｎｓｔｏｎらの米国特許出願公開第２００２／０１２８５７８号及び米国特許第６，４２０，６２２号、同第６，８６７，３４２号、同第７，２２３，３６４号、並びにＳｃｈｏｌｚらの米国特許第７，３０９，５１９号に見ることができる。

いくつかの実施形態では、微細構造化表面は、物品の表面の少なくとも一部に組み込まれる。この実施形態では、微細構造化表面は、典型的には、物品の製造中に形成される。いくつかの実施形態では、これは、（例えば、熱可塑性、熱硬化性、又は重合性）樹脂の成形、（例えば、熱硬化性又は熱可塑性）シートの圧縮成形、又は微細構造化シートの熱成形によって達成される。

一実施形態では、携帯電話のケース又はハウジングなどのその構成要素である物品は、液体（例えば、熱可塑性、熱硬化性、又は重合性）樹脂を金型内に鋳造することによって調製することができ、モールド面は、微細構造化表面のネガ複製を含む。

エポキシ樹脂組成物
エポキシ樹脂組成物は、一般に、少なくとも２つのエポキシド基を含む少なくとも１つのエポキシ樹脂を含む。エポキシド基は、３個の環原子を有する環状エーテルであり、グリシジル基又はオキシラン基とも呼ばれることもある。エポキシ樹脂は、典型的には周囲温度で液体である低分子量モノマーである。

エポキシ樹脂組成物は、一般に、少なくとも１つの環状部分を含む少なくとも１つのエポキシ樹脂を含む。環状部分は、芳香族又は環式脂肪族であってもよい。

いくつかの実施形態において、エポキシ樹脂組成物は、ビスフェノールエポキシ樹脂を含む。ビスフェノールエポキシ樹脂は、エピクロロヒドリンをビスフェノールＡと反応させて、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテルを形成することから形成される。

市販のビスフェノールエポキシ樹脂の例としては、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル（例えば、Ｍｏｍｅｎｔｉｖｅ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．から商品名ＥＰＯＮ ８２８、ＥＰＯＮ １００１、ＥＰＯＮ １００４、ＥＰＯＮ ２００４、ＥＰＯＮ １５１０、及びＥＰＯＮ １３１０で入手可能なもの、Ｄｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．から商品名Ｄ．Ｅ．Ｒ．３３１、Ｄ．Ｅ．Ｒ．３３２、Ｄ．Ｅ．Ｒ．３３４、及びＤ．Ｅ．Ｎ．４３９で入手可能なもの）；ビスフェノールＦのジグリシジルエーテル（例えば、Ｈｕｎｔｓｍａｎ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから商品名ＡＲＡＬＤＩＴＥ ＧＹ ２８１で入手可能なもの）又はＭｏｍｅｎｔｉｖｅ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．製のＥＰＩＫＯＴＥ ２３２などのビスフェノールＡ樹脂とＦ樹脂とのブレンド；難燃性エポキシ樹脂（例えば、商品名ＤＥＲ ５６０で入手可能なもの、及びＤｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙから入手可能なものなどの臭素化ビスフェノール型エポキシ樹脂）が挙げられる。

芳香族エポキシ樹脂はまた、ビフェニルジオール及びトリフェニルジオール並びにトリオールなどの芳香族アルコールとエピクロロヒドリンとの反応によって調製することもできる。このような芳香族ビフェニルエポキシ樹脂及び芳香族トリフェニルエポキシ樹脂は、ビスフェノールエポキシ樹脂ではない。１つの代表的な化合物は、Ｈｕｎｔｓｍａｎ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｂａｓｅｌ，Ｓｗｉｔｚｅｒｌａｎｄ）からＴａｃｔｉｘ（商標）７４２として入手可能なトリス－（ヒドロキシルフェニル）メタン系エポキシである。

ノボラックエポキシ樹脂は、フェノールとホルムアルデヒドとの反応によって形成され、その後エピクロロヒドリンでのグリシジル化により、エポキシフェノールノボラック（ＥＰＮ）及びエポキシクレゾールノボラック（ＥＣＮ）などのエポキシ化ノボラックを生成する。これらは、固体樹脂に対して非常に粘稠であり、約２～６の典型的な平均エポキシド官能価を有する。代表的な市販のノボラックエポキシ樹脂は、Ｄｏｗから商品名「Ｄ．Ｅ．Ｎ．４３１」として市販されている半固体エポキシノボラック樹脂である。このようなノボラックエポキシ樹脂は、２５℃で液体であるエポキシ樹脂と組み合わせて使用することができる。

いくつかの実施形態では、エポキシ樹脂は、１分子当たり２つ以上の１，２エポキシ基を含む脂環式エポキシ樹脂である。これらは概ね、当該技術分野において既知であるように、過酸化水素、又は過酢酸及び過安息香酸などの過酸を使用して、シクロオレフィンなどの不飽和芳香族炭化水素化合物をエポキシ化することによって調製される。このような脂環式エポキシ樹脂は、飽和（すなわち、非芳香族）環構造を有し、エポキシド基は、環の一部であるか、又は環構造に結合している。これらのエポキシ樹脂は、典型的にはエポキシド基の間に１つ以上のエステル結合を含む。アルキレン（Ｃ_１～Ｃ_４）結合はまた、典型的にはエポキシド基とエステル結合との間、又はエステル結合の間に存在する。例示的な脂環式エポキシ樹脂としては、例えば、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレートビス（３，４－エポキシシクロヘキシルメチル）アジペートが挙げられる。別の好適な脂環式エポキシ樹脂としては、２つのエポキシド基（１つは環構造の一部である）を含むビニルシクロヘキサンジオキシド；３，４－エポキシ－６－メチルシクロヘキシルメチル－３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、及びジシクロペンタジエンジオキシドが挙げられる。グリシジルエーテルを含む他の好適な脂環式エポキシ樹脂としては、１，２－ビス（２，３－エポキシシクロペンチルオキシ）－エタン；２，３－エポキシシクロペンチルグリシジルエーテル；ジグリシジルシクロヘキサン－１，２－ジカルボキシレート；３，４－エポキシシクロヘキシルグリシジルエーテル；ビス－（２，３－エポキシシクロペンチル）エーテル；ビス－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エーテル；５（６）－グリシジル－２－（１，２－エポキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン；シクロヘキサ－１，３－ジエンジオキシド；３，４－エポキシ－６－メチルシクロヘキシルメチル３’，４’－エポキシ－６’－メチルシクロヘキサンカルボキシレートが挙げられる。

また、１，２－エポキシ基が様々なヘテロ原子又は官能基に結合しているエポキシ樹脂も好適であり、このような化合物としては、例えば、４－アミノフェノールのＮ，Ｎ，Ｏ－トリグリシジル誘導体、３－アミノフェノールのＮ，Ｎ，Ｏ－トリグリシジル誘導体、サリチル酸のグリシジルエーテル／グリシジルエステル、Ｎ－グリシシル（glycicyl）－Ｎ’－（２－グリシジルオキシプロピル）－５，５－ジメチルヒダントイン、又は２－グリシジルオキシ－１，３－ビス－（５，５－ジメチル－１－グリシジルヒダントイン－３－イル）プロパンが挙げられる。

エポキシ樹脂は、典型的には、エポキシド基１つ当たり５０～２５０、３００、３５０、４００、４５０、又は５００グラムのエポキシ当量を有する。エポキシ樹脂は、典型的には、２５℃で約１０００ｃｐｓ未満の粘度を有する。いくつかの実施形態において、粘度は、少なくとも５０、１００、１５０、２００、２５０、又は３００センチポアズである。いくつかの実施形態において、粘度は、９００、８００、７００、６００、又は５００センチポアズ以下である。単一のエポキシ樹脂又はエポキシ樹脂の組み合わせを利用してもよい。エポキシ樹脂組成物は、典型的には、総エポキシ樹脂組成物の重量を基準にして、少なくとも５、６、７、８、９、又は１０重量％のエポキシ樹脂を含む。高濃度の熱伝導性無機粒子により、エポキシ樹脂の量は、典型的には２０重量％以下であり、いくつかの実施形態において、１９、１８、１７、１６、又は１５重量％以下である。

いくつかの実施形態において、エポキシ樹脂組成物は、オリゴマー又はポリマー成分を更に含む。オリゴマー又はポリマー成分は、硬化エポキシ樹脂組成物に可撓性、耐熱衝撃性、耐クラック性、及び耐衝突性を付与することができる。

いくつかの実施形態において、オリゴマー又はポリマー成分は、強化剤として特徴付けることができる。強化剤は、典型的には、硬化エポキシ樹脂中で相分離する有機ポリマー添加剤である。強化剤は、非反応性オリゴマー又はポリマー成分であると特徴付けることができる。強化剤としては、例えば、ブロックコポリマー、両親媒性ブロックコポリマー、アクリルブロックコポリマー、カルボキシル末端ブタジエンアクリロニトリルゴム（ＣＴＢＮ）、コアシェルゴム（ＣＳＲ）、直鎖ポリブタジエン－ポリアクリロニトリルコポリマー、オリゴマーポリシロキサン、シリコーンポリエーテル、オルガノポリシロキサン樹脂、又はこれらの混合物が挙げられる。他のエポキシ反応性ポリマー強化剤としては、カルボキシル末端ポリブタジエン、ポリスルフィド系強化剤、アミン末端ブタジエンニトリルゴム、ポリチオエーテル、又はこれらの混合物が挙げられる。

エポキシ反応性オリゴマー成分の例としては、例えば、脂肪酸；ポリアゼライン酸無水物及びドデセニルコハク酸無水物などの脂肪酸無水物；エチレングリコールなどのジオール、ポリオール、エチレングリコールポリエチレングリコール及びポリプロピレングリコールのポリマーなどのポリエーテルジオール、脂肪族アルコール、並びにヒドロキシル基、カルボキシルエポキシ、及び／又はカルボン酸無水物官能基を有する他の材料が挙げられる。他の好適なオリゴマー成分としては、三価及び二価のカルボキシル末端、カルボン酸無水物末端、グリシジル末端、及びヒドロキシル末端ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、又はポリブチレングリコールが挙げられる。

いくつかの実施形態において、エポキシ樹脂組成物は、硬化剤を含む。エポキシ樹脂の一般的な部類の硬化剤としては、アミン、アミド、尿素、イミダゾール、及びチオールが挙げられる。硬化剤は、典型的には周囲温度においてエポキシド基との反応性が高い。

いくつかの実施形態において、硬化剤は、反応性－ＮＨ基又は反応性－ＮＲ_１Ｒ_２基を含み、ここで、Ｒ_１及びＲ_２は、独立してＨ又はＣ_１～Ｃ_４アルキルであり、最も典型的にはＨ又はメチルである。

一部類の硬化剤は、一級、二級、及び三級ポリアミンである。ポリアミン硬化剤は、直鎖、分枝鎖、又は環状であってもよい。いくつかの好ましい実施形態において、ポリアミン架橋剤は脂肪族である。あるいは、芳香族ポリアミンを利用することができる。

有用なポリアミンは、一般式Ｒ_５－（ＮＲ_１Ｒ_２）_ｘのポリアミンであり、式中、Ｒ_１及びＲ_２は、独立してＨ又はアルキルであり、Ｒ_５は、多価のアルキレン又はアリーレンであり、ｘは、少なくとも２である。Ｒ_１及びＲ_２のアルキル基は、典型的にはＣ_１～Ｃ_１８アルキルであり、より典型的にはＣ_１～Ｃ_４アルキルであり、最も典型的にはメチルである。Ｒ_１及びＲ_２を組み合わせて、環状アミンを形成し得る。いくつかの実施形態において、ｘは２（すなわち、ジアミン）である。他の実施形態において、ｘは３（すなわち、トリアミン）である。更に他の実施形態において、ｘは４である。

有用なジアミンは、一般式：

［式中、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、及びＲ_４は、独立してＨ又はアルキルであり、Ｒ_５は、二価のアルキレン又はアリーレンである］で表すことができる。いくつかの実施形態において、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、及びＲ_４は、それぞれＨであり、ジアミンは、一級アミンである。他の実施形態において、Ｒ_１及びＲ_４は、それぞれＨであり、Ｒ_２及びＲ_４は、それぞれ独立してアルキルであり、ジアミンは、二級アミンである。更に他の実施形態において、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、及びＲ_４は、独立してアルキルであり、ジアミンは、三級アミンである。

いくつかの実施形態において、一級アミンが好ましい。例としては、ヘキサメチレンジアミン；１，１０－ジアミノデカン；１，１２－ジアミノドデカン；２－（４－アミノフェニル）エチルアミン；イソホロンジアミン；ノルボルナンジアミン４，４’－ジアミノジシクロヘキシルメタン；及び１，３－ビス（アミノメチル）シクロヘキサンが挙げられる。例示的な６員環ジアミンとしては、例えば、ピペラジン（piperzine）及び１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（「ＤＡＢＣＯ」）が挙げられる。

他の有用なポリアミンとしては、少なくとも３つのアミノ基を有するポリアミンが挙げられ、３つのアミノ基は、一級、二級、又はこれらの組み合わせである。例としては、３，３’－ジアミノベンジジン及びヘキサメチレントリアミンが挙げられる。

脂環式エポキシ樹脂を硬化させるために使用される一般的な硬化剤としては、少なくとも１つの無水物基を有するカルボン酸から誘導される無水物が挙げられる。このような無水物硬化剤は、参照によって本明細書に組み込まれる米国特許第６，１９４，０２４号に記載される。

一実施形態において、硬化性エポキシ樹脂組成物は、２剤型組成物として提供されてもよい。一般に、２剤型組成物の２つの成分は、エポキシ樹脂組成物を金型に供給する前に混合されてもよい。金型の少なくとも一部は、本明細書に記載の微細構造化表面のネガ型複製を含む。

エポキシ樹脂シートの圧縮成形
別の実施形態では、微細構造化表面は、エポキシ樹脂シートの圧縮成形によって調製され、モールド面は、微細構造化表面のネガ複製を含む。

エポキシ樹脂シートは、潜在性硬化剤を含む合成熱硬化性エポキシ樹脂を含浸させた紙、キャンバス、リネン、又はガラス布の層に熱及び圧力を加えることによって生成される。様々な樹脂の種類及び布材料を使用して、様々な機械的、熱的、及び電気的特性を有する熱硬化性積層体（laminate）を製造することができる。硬化性エポキシ樹脂シートは、モールド面をシートと接触させ、熱及び圧力を加えることによって成形することができる。熱及び圧力は、最初に、微細構造化表面がエポキシ樹脂シートの表面上に複製されるように、材料を軟化させる。熱はまた、微細構造化表面が維持されるように、エポキシ樹脂を硬化（すなわち、固定）する。Ｇ－１０は、良好な電気的特性、高強度、より高い寸法安定性、及び高耐湿性の組み合わせを有する。Ｇ－１０の代表的な特性は、以下のとおりである。同様の特性を有する他の材料を使用することもできる。

シートの微細構造化フィルムを形成する方法
いくつかの実施形態では、山部構造及び（例えば、平坦な）ベース部材は、異なる材料を含む。例えば、Ｌｕらの特許米国特許第５，１７５，０３０号、及びＬｕの米国特許第５，１８３，５９７号に記載されるように、微細構造を有する物品（例えば、輝度向上フィルム）は、（ａ）重合性組成物を調製する工程と、（ｂ）マスターネガ微細構造モールド面上に、マスターの空洞を充填するのに、かろうじて十分な量で重合性組成物を堆積させる工程と、（ｃ）重合性組成物のビーズを（モノリシック、又は多層（例えばＰＥＴフィルム）などの）予め形成されたベース部とマスターとの間で（そのうちの少なくとも１つが可撓性である）移動させることによって空洞を充填する工程と、（ｄ）組成物を硬化する工程と、を含む、方法によって調製することができる。マスターは、ニッケル、ニッケルめっきが施された銅、又は黄銅などの金属製であってもよく、あるいは重合条件下で安定であり、かつ、マスターからの重合材料のきれいな除去を可能にする表面エネルギーを好ましくは有する熱可塑性材料であってもよい。ベースフィルムの表面のうちの１つ以上は、任意選択的に、プライマー処理されるか、又はそうしない場合は、ベース部への光学層の接着を促進するように処理されてもよい。

このような鋳造及び硬化方法を利用して、微細構造化フィルムを形成することができる。このような方法を利用して、熱成形可能な微細構造化ベース部材（例えば、シート又はプレート）を形成することもできる。

一実施形態では、微細構造化表面を含むベース部材（例えば、シート又はプレート）を提供する工程を含む、物品の製造方法が記載される。ベース部材は、熱硬化性材料の熱可塑性樹脂を含む。山部構造は、山部構造がベース部材よりも高い溶融温度を有するように、ベース部材とは異なる材料を含む。山部構造は、典型的には、硬化した重合性樹脂を含む。この方法は、微細構造化ベース部材（例えば、フィルム、シート、又はプレート）を、山部構造の溶融温度未満の温度で物品に熱成形する工程を含む。いくつかの実施形態では、真空形成が、二重真空熱成形（ＤＶＴ）としても知られる熱成形と組み合わせて使用され得る。いくつかの実施形態では、熱成形物品は、酸素マスク又は（例えば、内装の）自動車トリム部品などの三次元シェルであり得る。

有用なベース部材材料としては、例えばスチレン－アクリロニトリル、酢酸酪酸セルロース、酢酸プロピオン酸セルロース、三酢酸セルロース、ポリエーテルスルホン、ポリメチルメタクリレート、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ナフタレンジカルボン酸に基づくコポリマー又はブレンド、ポリシクロオレフィン、ポリイミド、シリコーン及びフッ素化フィルム、並びにガラスが挙げられる。任意選択で、ベース材料は、これらの材料の混合物又は組み合わせを含有することができる。一実施形態では、ベース部は多層であってもよく、又は連続相中に懸濁若しくは分散された分散成分を含有してもよい。有用なＰＥＴフィルムの例としては、ＤｕＰｏｎｔ Ｆｉｌｍ（Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，Ｄｅｌ）から入手可能なフォトグレードポリエチレンテレフタレート及びＭＥＬＩＮＥＸ（商標）ＰＥＴが挙げられる。有用な熱成形可能材料の例は、ＶＩＶＡＫ ＰＥＴＧとして市販されているポリエチレンテレフタレート（グリコールを含むポリエステル）である。このような材料は、５０００～１０，０００ｐｓｉ（ＡＳＴＭＤ ６３８）の範囲の引張強度及び５，０００～１５，０００の曲げ強度（ＡＳＴＭ Ｄ－７９０）を有することを特徴とする。このような材料は、１７８°Ｆ（ＡＳＴＭ Ｄ－３４１８）のガラス転移温度を有する。

微細構造化フィルムの製造に好適な様々な重合性樹脂が記載される。典型的な実施形態では、重合性樹脂は、少なくとも２つの（メタ）アクリレート基（例えば、Ｐｈｏｔｏｍｅｒ ６２１０）及び（例えば、マルチ（メタ）アクリレート）架橋剤（例えば、ＨＤＤＡ）を含む少なくとも１つの（メタ）アクリレートモノマー又はオリゴマーを含む。

再帰反射シート及び輝度向上フィルムの材料は、光学特性に基づいて選択されている。したがって、山部構造及び隣接する谷部は、典型的には、少なくとも１．５０、１．５５、１．６０以上の屈折率を有する材料を含む。更に、可視光の透過率は、典型的には８５又は９０％を超える。しかしながら、本明細書に記載のフィルム、方法、及び物品の多くの実施形態にとって、光学特性は重要ではないこともある。したがって、着色されたもの、光透過性のもの、及び不透明なものを含むより低い屈折率を有する様々な他の材料を使用することができる。いくつかの実施形態では、微細構造化フィルム又はシートは、印刷されたグラフィックを更に含み得る。

代替的実施形態では、微細構造体及び（例えば平坦な）ベース部材の材料は、本明細書に記載の改善された微生物除去及び／又は減少された接触移動に加えて、特定の光学特性を提供するように選択され得る。例えば、一実施形態では、（例えば平坦な）ベース部材は、少なくとも複数の交互の第１及び第２の光学層を含む多層光学フィルムであって、第１及び第２の光学層が、０°、３０°、４５°、６０°、又は７５°の入射光角度のうちの少なくとも１つで、１００ナノメートル～２８０ナノメートルの波長範囲における少なくとも３０ナノメートル波長反射帯域幅にわたって入射紫外光の少なくとも３０パーセントを合計で反射する、多層光学フィルムを含む。このような多層光学フィルムは、参照により本明細書に組み込まれる国際公開第２０２０／０７０５８９号に記載されている。いくつかの実施形態では、少なくとも複数の交互の第１及び第２の光学層を通る入射可視光透過率が、少なくとも４００ナノメートル～７５０ナノメートルの波長範囲における少なくとも３０ナノメートル波長反射帯域幅にわたって、３０パーセントを超える。第１の光学層は、少なくとも１つのポリエチレンコポリマーを含み得る。第２の光学層は、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、及びフッ化ビニリデンを含むコポリマー、テトラフルオロエチレン及びヘキサフルオロプロピレンを含むコポリマー、又はペルフルオロアルコキシアルカンのうちの少なくとも１つを含み得る。第１の光学層は、チタニア、ジルコニア、酸窒化ジルコニウム、ハフニア、又はアルミナを含み得る。第２の光学層は、シリカ、フッ化アルミニウム、又はフッ化マグネシウムのうちの少なくとも１つを含み得る。いくつかの実施形態では、微細構造体は、多層光学フィルムと共に、可視光透過性ＵＶ－Ｃ保護層、又は言い換えればＵＶ－Ｃシールドを提供する。ＵＶＣ光を使用して表面を消毒することができるが、これらの波長は、有機材料を損傷し、望ましくない変色を引き起こす可能性がある。本明細書に記載の微細構造化表面をＵＶ－Ｃシールドと組み合わせることにより、表面は、ＵＶＣ光及び従来の洗浄法（例えば、拭き取り、こすり取り、及び／又は抗菌溶液の適用）の両方を用いて洗浄され、微細構造化表面を消毒することができる。

図３に示されているように、連続するランド層３６０は、チャネル又は谷部の底部と（例えば平坦な）ベース部材３１０の上面３３１との間に存在することができる。いくつかの実施形態では、微細構造化表面が重合性樹脂組成物を鋳造及び硬化させることから調製される場合、ランド層の厚さは、典型的には、少なくとも０．５、１、２、３、４、又は５ミクロンで、最大５０ミクロンまでの範囲である。いくつかの実施形態では、ランド層の厚さは、４５、４０、３５、３０、２５、２０、１５、又は１０ミクロン以下である。

いくつかの実施形態では、微細構造化表面（例えば、少なくともその山部構造）は、少なくとも２５℃のガラス転移温度（示差走査熱量計で測定される）を有する有機ポリマー材料を含む。いくつかの実施形態では、有機ポリマー材料は、少なくとも３０、３５、４０、４５、５０、５５、又は６０℃のガラス転移温度を有する。いくつかの実施形態では、有機ポリマー材料は、１００、９５、９０、８５、８０、又は７５℃以下のガラス転移温度を有する。他の実施形態では、微細構造化表面（例えば、少なくともその山部構造）は、示差走査熱量計で測定された２５℃未満又は１０℃未満のガラス転移温度を有する有機ポリマー材料を含む。少なくともいくつかの実施形態では、微細構造体は、エラストマーであってもよい。エラストマーは、他の材料と比較して、一般に、好適に低いヤング率及び高い降伏歪みを有する粘弾性（又は弾性）の特性を有するポリマーとして理解され得る。この用語は、多くの場合、ゴムという用語と同じ意味で使用されるが、架橋ポリマーを指す場合には、後者が好ましい。

有機ポリマー材料はまた、好適な有機又は無機充填剤で充填されてもよく、特定の用途において、充填剤は放射線不透過性である。

一実施形態では、微細構造体又は微細構造化表面は、硬化可能な熱硬化性材料で作製され得る。溶融及び固化が熱的に可逆的である熱可塑性材料とは異なり、熱硬化性プラスチックは、加熱後に硬化するため、最初は熱可塑性だが、硬化後に再溶融できなくなるか、又は硬化後に溶融温度が著しく高くなる。

いくつかの実施形態では、熱硬化性材料は、重量基準で大半がシリコーンポリマーである。少なくともいくつかの実施形態では、シリコーンポリマーは、ポリ（ジメチルシロキサン）（ＰＤＭＳ）などのポリジアルコキシシロキサンであって、微細構造体は、重量基準で大半がＰＤＭＳである材料から作製される。より具体的には、微細構造体は、全て又は実質的に全てがＰＤＭＳであってもよい。例えば、微細構造体はそれぞれ、９５重量％を上回るＰＤＭＳであってもよい。ある特定の実施形態では、ＰＤＭＳは、ビニル官能性ＰＤＭＳなどの不飽和官能性ＰＤＭＳとのシリコーン水素化物（Ｓｉ－Ｈ）官能性ＰＤＭＳのヒドロシリル化によって形成された、硬化した熱硬化性組成物である。Ｓｉ－Ｈ及び不飽和基は、末端、ペンダント、又はそれらの両方であってもよい。他の実施形態において、ＰＤＭＳは、アルコキシシラン末端ＰＤＭＳなどの湿気硬化型であり得る。

いくつかの実施形態において、ＰＤＭＳ以外の他のシリコーンポリマーが有用であってもよく、例えば、ケイ素原子のうちのいくつかは、アリール、例えば、フェニル、アルキル、例えば、エチル、プロピル、ブチル、又はオクチル、フルオロアルキル、例えば、３，３，３－トリフルオロプロピル、又はアリールアルキル、例えば、２－フェニルプロピルであってもよい他の基を有するシリコーンがある。シリコーンポリマーはまた、ビニル、水素化ケイ素（Ｓｉ－Ｈ）、シラノール（Ｓｉ－ＯＨ）、アクリレート、メタクリレート、エポキシ、イソシアネート、無水物、メルカプト、及びクロロアルキルなどの反応基を含有し得る。これらのシリコーンは、熱可塑性であってもよく、又は例えば、縮合硬化、ビニル及びＳｉ－Ｈ基の付加硬化、又はペンダントアクリレート基のフリーラジカル硬化によって硬化されてもよい。それらはまた、過酸化物の使用で架橋されてもよい。そのような硬化は、熱又は化学線の追加によって達成され得る。

微細構造体又は微細構造化表面に有用な他のポリマーは、熱可塑性又は熱硬化性ポリマーであってもよく、ポリウレタン、メタロセンポリオレフィンを含むポリオレフィン、低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレンメタクリレートコポリマー；ポリエステル（エラストマーポリエステル（例えば、Ｈｙｔｒｅｌ）など）、生分解性ポリエステル（ポリ乳酸、ポリ乳酸／グリコール酸、コハク酸とジオールとのコポリマー、及び同等物など）、フルオロエラストマーを含むフルオロポリマー、アクリル（ポリアクリレート及びポリメタクリレート）が含まれる。ポリウレタンは、線状であってもよく、熱可塑性又は熱硬化性であってもよい。ポリウレタンは、ポリエステル若しくはポリエーテルポリオールと又はそれらの組み合わせと、組み合わせた芳香族又は脂肪族イソシアネートから形成されてもよい。

いくつかの実施形態では、微細構造体又は微細構造化表面は、微細構造化表面がより親水性であるように改質され得る。微細構造化表面は、一般に、改質された微細構造化表面と同じ材料の平坦な有機ポリマーフィルム表面が、脱イオン水と４５度以下の前進接触角又は後退接触角を呈するように、改質され得る。そのような改質がない場合、微細構造化表面と同じ材料の平坦な有機ポリマーフィルム表面は、典型的には、脱イオン水と４５、５０、５５、又は６０度を超える前進接触角又は後退接触角を呈する。

親水性を有する微細構造化表面を実現するために、任意の好適な既知の方法を利用してよい。プラズマ処理、真空蒸着、親水性モノマーの重合、フィルム表面への親水性部分のグラフト化、コロナ又は火炎処理などの表面処理を使用してもよい。特定の実施形態では、親水性表面処理は、双性イオン性シランを含み、また特定の実施形態では、親水性表面処理は、非双性イオン性シランを含む。非双性イオン性シランとしては、例えば、非双性イオン性アニオン性シランが挙げられる。

他の実施形態では、親水性表面処理は、少なくとも１つのケイ酸塩を更に含み、例えば、これらに限定されないが、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、シリカ、テトラエチルオルトシリケート、ポリ（ジエトキシシロキサン）、又はそれらの組み合わせを含む。１つ以上のケイ酸塩は、微細構造化表面への適用のために、親水性シラン化合物を含有する溶液中に混合されてもよい。

任意選択的に、界面活性剤又は他の好適な薬剤を、微細構造化表面を形成するために利用される有機ポリマー組成物に添加してもよい。例えば、親水性アクリレート及び開始剤を重合性組成物に添加し、熱又は化学線によって重合させることができる。あるいは、微細構造化表面は、親水性ポリマーから形成することができ、親水性ポリマーとしては、エチレン酸化物のホモ及びコポリマー；ビニルピロリドン、カルボン酸、スルホン酸、又はアクリル酸などのホスホン酸官能性アクリレートなどのビニル不飽和モノマーを組み込む親水性ポリマー、ヒドロキシエチルアクリレート、酢酸ビニル及びその加水分解誘導体（例えばポリビニルアルコール）、アクリルアミド、ポリエトキシル化アクリレートなどのヒドロキシ官能性アクリレート；親水性改質セルロース、並びにデンプン及び改質デンプン、デキストランなどの多糖類などが挙げられる。

このような親水性表面は、参照により本明細書に組み込まれる米国特許出願公開第２０１７／００４５２８４号に記載されるように、流体制御フィルムに使用するために記載されている。

任意選択の添加剤及びコーティング
微細構造化表面の有機ポリマー材料は、抗菌剤（殺菌剤及び抗生物質を含む）、染料、離型剤、酸化防止剤、可塑剤、熱及び光安定剤（紫外線（ＵＶ）吸収剤を含む）、充填剤、顔料などを含む他の添加剤を含有し得る。

好適な抗菌剤を、ポリマーに組み込むか、又はポリマー上に堆積することができる。好適な好ましい抗菌剤としては、Ｓｃｈｏｌｚらの米国特許出願公開第２００５／００８９５３９号及び同第２００６／００５１３８４号、及びＳｃｈｏｌｚの米国特許出願公開第２００６／００５２４５２号及び同第２００６／００５１３８５号に記載されているものが挙げられる。本発明の微細構造体はまた、Ａｌｉらの国際出願ＰＣＴ／ＵＳ２０１１／３７９６６号に開示されているものなどの抗菌剤コーティングでコーティングされ得る。

典型的な実施形態では、微細構造化表面は、（例えば、フッ素化又はＰＤＭＳ）低表面エネルギー材料からは調製されず、低表面エネルギーコーティングを含まず、平坦な表面上の材料又はコーティングは、９０、９５、１００、１０５、又は１１０度を超える水との後退接触角を有する。この実施形態では、材料の低表面エネルギーは、洗浄性に寄与しない。むしろ、洗浄性の改善は、微細構造化表面の特徴に起因する。この実施形態では、微細構造化表面は、ある材料から調製され、その材料の平坦な表面が、典型的には、９０、８５、又は８０度未満の水との後退接触角を有するように、調製される。

他の実施形態では、低表面エネルギーコーティングを微細構造体に適用してもよい。使用され得る例示的な低表面エネルギーコーティング材料としては、いくつか例を挙げると、ヘキサフルオロプロピレンオキシド（ＨＦＰＯ）、又はオルガノシラン（例えば、アルキルシラン、アルコキシシラン、アクリルシラン、多面体オリゴマーシルセスキオキサン（ＰＯＳＳ）及びフッ素含有オルガノシラン）などの材料を挙げることができる。当該技術分野で既知の特定のコーティングの例は、例えば、米国特許出願公開第２００８／００９００１０号、及び同一所有者の公開である、米国特許公開第２００７／０２９８２１６号に見出すことができる。コーティングが微細構造体に適用される実施形態の場合、スパッタリング、蒸着、スピンコーティング、ディップコーティング、ロール・ツー・ロールコーティング、又は他の任意の数の適切な方法など、任意の適切なコーティング方法によって適用され得る。

微細構造体の忠実度を維持するために、微細構造体を形成するために使用される組成物中に表面エネルギー改質化合物を含むことも可能であり、多くの場合で好ましい。いくつかの実施形態では、ブルーム添加剤は、ベース部組成物の結晶化を遅延又は防止し得る。好適なブルーム添加剤は、例えば、Ｓｃｈｏｌｚらの国際公開第２００９／１５２３４５号、及びＫｌｕｎらの米国特許第７，８７９，７４６号に見出すことができる。

微細構造化表面の洗浄
一実施形態では、洗浄時の微生物（例えば、細菌）除去が向上した表面を有する物品を提供する方法が記載されている。微細構造化表面は、例えば、微細構造化表面を織布又は不織布材料で拭き取るか、又は微細構造化表面をブラシでこすることによって、機械的に洗浄することができる。いくつかの実施形態では、織布材料又は不織布材料の繊維は、谷部の最大幅よりも小さい繊維直径を有する。いくつかの実施形態では、ブラシの毛材は、谷部の最大幅よりも小さい直径を有する。あるいは、微細構造化表面は、微細構造化表面に抗菌溶液を適用することによって洗浄されてもよい。更に、微細構造化表面はまた、（例えば、紫外線）放射型の消毒によって洗浄され得る。そのような洗浄技術の組み合わせを使用することができる。

抗菌溶液は、殺菌成分を含有し得る。様々な殺菌成分が知られており、例えば、クロルヘキシジン及びその各種の塩（ジグルコネート、ジアセテート、ジメトサルフェート、及びジラクテート塩、並びにこれらの組み合わせが挙げられるが、これらに限定されない）、ポリヘキサメチレンビグアニドなどの高分子第四級アンモニウム化合物などのビグアニド及びビスビグアニド；銀及び各種銀錯体；小分子第四級アンモニウム化合物（塩化ベンザルコニウム（benzalkoium）及びアルキル置換誘導体など）；ジ－長鎖アルキル（Ｃ８～Ｃ１８）第四級アンモニウム化合物；ハロゲン化セチルピリジニウム及びその誘導体；塩化ベンゼトニウム及びそのアルキル置換誘導体；オクテニジン、及びこれらの適合性のある組み合わせなどが挙げられる。他の実施形態では、抗菌成分は、過酸化水素、過酢酸、漂白剤などのカチオン性抗菌剤又は酸化剤であってもよい。

いくつかの実施形態では、抗菌成分は、小分子第四級アンモニウム化合物である。好ましい第四級アンモニウム殺菌剤の例としては、Ｃ８～Ｃ１８、より好ましくはＣ１２～Ｃ１６のアルキル鎖長、及び最も好ましくは鎖長の混合を有するベンザルコニウムハロゲン化物が挙げられる。例えば、典型的な塩化ベンザルコニウム試料は、４０％のＣ１２アルキル鎖、５０％のＣ１４アルキル鎖、及び１０％のＣ１６アルキル鎖から構成され得る。これらは、Ｌｏｎｚａ社（Ｂａｒｑｕａｔ ＭＢ－５０）を含む多数の供給源から市販されており、ベンザルコニウムハロゲン化物はフェニル環上でアルキル基で置換されている。市販の例は、Ｌｏｎｚａ社から入手可能なＢａｒｑｕａｔ ４２５０であり、アルキル基がＣ８～Ｃ１８の鎖長を有するジメチルジアルキルアンモニウムハライドである。鎖長の混合（ジオクチル、ジラウリル、及びジオクタデシルの混合など）が特に有用であり得る。例示的な化合物は、Ｌｏｎｚａ社製のＢａｒｄａｃ２０５０、２０５Ｍ、及び２２５０；Ｃｅｐａｃｏｌ ＣｈｌｏｒｉｄｅとしてＭｅｒｒｅｌｌ ｌａｂｓから入手可能な塩化セチルピリジニウムなどのセチルピリジニウムハロゲン化物；Ｒｏｈｍ ａｎｄ Ｈａａｓ社から入手可能なＨｙａｍｉｎｅ１６２２及びＨｙａｍｉｎｅ１０Ｘなどのベンゼトニウムハロゲン化物及びアルキル置換ベンゼトニウムハロゲン化物；オクテニジンなどが市販されている。

一実施形態では、（例えば、消毒）抗菌溶液は、エンベロープウイルス（例えば、ヘルペスウイルス、インフルエンザ、Ｂ型肝炎）、非エンベロープウイルス（例えば、パピローマウイルス、ノロウイルス、ライノウイルス、ロトウイルス）、ＤＮＡウイルス（例えば、ポックスウイルス）、ＲＮＡウイルス（例えば、コロナウイルス、ノロウイルス）、レトロウイルス（例えば、ＨＩＶ－１）、ＭＲＳＡ、ＶＲＥ、ＫＰＣ、アシネトバクター、及び他の病原体を３分で死滅させる。水性消毒剤溶液には、ベンジル－Ｃ１２－１６－アルキルジメチルアンモニウムクロリド（８．９重量％）、オクチルデシルジメチルアンモニウムクロリド（６．６７重量％）、ジオクチルジメチルアンモニウムクロリド（２．６７重量％）、界面活性剤（５～１０％）、エチルアルコール（１～３重量％）、及びｐＨ１～３に調整されたキレート剤（７～１０重量％）を含有する消毒剤濃縮物の１：２５６の希釈液が含有され得る。

物品
本発明の目的は、洗浄時の微生物（例えば、細菌）除去が向上した表面を有する物品を提供することであり、物品は、典型的には、鼻腔栄養チューブ、創傷接触層、血流カテーテル、ステント、ペースメーカーシェル、心臓弁、整形外科用インプラント（股関節、膝、肩など）、歯周インプラント、義歯、歯冠、コンタクトレンズ、眼内レンズ、軟組織インプラント（乳房インプラント、陰茎インプラント、顔面及び手インプラントなど）、外科用器具、縫合糸（分解性縫合糸を含む）、蝸牛インプラント、鼓室形成チューブ、シャント（水痘症用シャントを含む）、術後廃液チューブ及び廃液デバイス、尿道カテーテル、気管内チューブ、心臓弁、創傷包帯、他のインプラント型デバイス、並びに他の留置デバイスなどの（例えば、殺菌された）医療用物品ではない。いくつかの実施形態では、物品はまた、歯科矯正装置でも歯科矯正ブラケットでもない。

記載した医療用物品は、単回使用物品として特徴付けられることができ、すなわち、物品は一度使用された後、廃棄される。上記の物品はまた、単一個人（例えば、患者）用物品として特徴付けられることができる。したがって、そのような物品は、典型的には、洗浄（滅菌ではなく）されず、他の患者に再利用されない。

対照的に、本明細書に記載の物品及び表面は、微細構造化表面が周囲（例えば、屋内又は屋外）環境に晒され、かつ、接触対象となる、又は複数の人々及び／若しくは動物、並びに他の汚染物質（例えば、汚れ）と触れ合うものを含む。

いくつかの実施形態では、物品の微細構造化表面は、物品の通常の使用中に（例えば、複数の）人々及び／又は動物と直接（例えば、皮膚）接触する。他の実施形態では、微細構造化表面は、直接（例えば、皮膚）接触がない場合、（例えば、複数の）人／又は動物に近接し得る。しかしながら、微細構造化表面は近接するので、そのような物品表面は、微生物（例えば、細菌）で容易に汚染される可能性があり、したがって、微生物が他に広がるのを防ぐために洗浄される。

通常の使用中に洗浄されるであろう、及び／又は（例えば、除去可能な）保護フィルムと共に使用するのに適している、若しくは微細構造化表面を物品の表面に統合している代表的な物品には、様々な内装又は外装の表面又は構成要素が含まれ、
ａ）乗り物（例えば、自動車、バス、電車、飛行機、ボート、救急車、船）の表面又は構成要素、及び自動車、スクーター、自転車などの電動及び非電動の共有される乗り物（ヘッドレスト、ダッシュボード、ドアパネル、（例えば、航空機の）窓シャッター、ギアシフタ、シートベルトバックル、装置及びボタンパネル、（例えば、プラスチックの）シートバックトレイ及びアームレスト、手すり、客室壁板、荷物室、ステアリングホイール、ハンドルバーを含む）；
ｂ）電子デバイス（例えば、電話、ラップトップ、タブレット、又はコンピュータ）のハウジング及びケース、キーボード及びマウス（マウスパッドを含む）、タッチスクリーン、プロジェクタ、プリンタ、リモートコントロールデバイス、ロック、充電器（コード及びドッキングステーションを含む）、フォブ、ビデオ及びアーケードゲーム、スロットマシン、自動テラーマシン；クレジットカードリーダ、キーパッド、スタイリスト、レジ、バーコードスキャナ、支払いキオスクなどのＰＯＳ電子機器；
ｃ）包装フィルム（例えば、食品又は医療製品用）、及びラベル、封筒、及び気泡シートを含むポリマー製輸送用製品；
ｄ）ギャレー、カート、カッティングボード、ランチボックス、サーモス、電化製品（電子レンジ、ストーブ、オーブン、ブレンダー、トースター、コーヒーメーカー、棚や引き出しを含む冷蔵庫など）、グリル、器具（例えば、特にそのハンドル）、メニュー、調味料ボトル、ソルト＆ペッパーシェーカー、テーブルトップ及び椅子（特にレストラン、寮、老人ホーム、及び刑務所での公共の食事用）を含む、食品の調理及びダイニングの表面、容器、並びにフィルム；
ｅ）医療、歯科、若しくは実験室施設、又は医療、歯科、若しくは実験室用機器の（例えば、非無菌の）表面（例えば、除細動器、人工呼吸器、及びＣＰＡＰ（特にそのマスク）、フェイスシールド、松葉杖、車椅子、ベッド手すり、搾乳ポンプ装置、ＩＶポール及びバッグ、（例えば、歯科材料用）硬化ライト、検査台）；
ｆ）家具の表面又は構成要素（例えば、デスク、テーブル、椅子、シート、及びアームレスト）；
ｇ）家具、建物のドア、ターンスタイルゲート、電化製品、乗り物、ショッピングカート及びバスケット、運動器具、（例えば調理用）器具、ツール、ハンドルバー、窓ブラインドのレバーなどを含む、物品のハンドル（例えば、ノブ、取っ手、ロックを含むレバー）；
ｈ）建物の表面（エスカレータ及びエレベータを含む）、例えば、ドア、手すり、壁、床、カウンタートップ、デスクトップ、キャビネット、ロッカー、窓枠、電気変調器（例：電灯のスイッチ、調光器、及びそれらのプレートを含む差し込み口）など；
ｉ）化粧室の表面及び構成要素（例えば、シンク、トイレ表面（例えば、レバー）、排水キャップ、シャワー壁、浴槽、洗面化粧台、カウンタートップ）；
ｊ）スイミングプール又は屋根材の表面又はライナー；
ｋ）歯ブラシ、眼鏡フレーム、靴、衣類、ハンドバッグなどの身の回り品；
ｌ）おもちゃ、おしゃぶり、ボトル、歯固め、チャイルドシート、ベビーベッド、おむつ交換台、遊具などの子供用物品；
ｍ）掃除用品（掃除機、モップ、スクラブブラシ、ダスター、便器クリーナー、プランジャー、ほうきなど）；
ｎ）運動及びスポーツ用の保護用品（例えば、サッカー、バスケットボール、サッカー、ゴルフなどの様々なスポーツ用のヘルメット、ガード、ボール）;
ｏ）エクササイズ、スパ、サロン（例えば、ヘアスタイリング及びネイル）の設備（例えば、ウェイト、ヨガマット）が含まれる。微細構造化表面は、軍用住宅、刑務所、寮、老人ホーム、アパート、ホテルなどの集合生活施設；オフィス、学校、アリーナ、カジノ、ボーリング場、ゴルフコース、アーケード、ジム、サロン、スパ、ショッピングセンター、空港、駅などの公共の場所；及び公共交通機関に特に好都合である。

いくつかの実施形態では、乗り物又は建物の表面などに適用するためのフィルムは、建築用、装飾用、又はグラフィック用のフィルムとして特徴付けられ得る。グラフィックフィルムは、典型的には、パターン、画像、又は他の視覚的なインダイシア（indicia）を含む。グラフィックフィルムは、印刷されたフィルムであってもよく、又はグラフィックは、印刷以外の手段によって作成されていてもよい。

再び図２～図４及び図６を参照すると、本明細書に記載の物品は、ベース部材（２１０、３１０、４１０、６１０）上に配置された（例えば、加工）微細構造化表面（２００、３００、４００、６００）を含む。物品がフィルム（例えば、シート）である場合、ベース部材は、平坦（例えば、基準面１２６に平行）である。ベース部材の厚さは、典型的には、少なくとも１０、１５、２０又は２５ミクロン（１ミル）、かつ典型的には５００ミクロン（２０ミル）以下の厚さである。いくつかの実施形態では、ベース部材の厚さは、４００、３００、２００又は１００ミクロン以下である。（例えば、フィルム）ベース部材の幅は、少なくとも３０インチ（１２２ｃｍ）であり、好ましくは少なくとも４８インチ（７６ｃｍ）であり得る。（例えば、フィルム）ベース部材は、その長さが最大約５０ヤード（４５．５ｍ）～１００ヤード（９１ｍ）で連続的であってもよく、これにより、微細構造化フィルムは、便利に取り扱われるロール商品の状態で提供される。しかしながら、代替的に、（例えば、フィルム）ベース部材は、ロール商品ではなく個々のシート又はストリップ（例えば、テープ）であってもよい。

熱成形可能な微細構造化ベース部材は、典型的には、少なくとも５０、１００、２００、３００、４００、又は５００ミクロンの厚さを有する。熱成形可能な微細構造化ベース部材は、最大３、４、又は５ｍｍ以上の厚さを有し得る。

物品が三次元物体である場合、シートバックトレイの場合などでは、ベース部材は平坦であってもよい。他の実施形態では、三次元ベース部材は、玩具の場合などでは、湾曲面又は複雑なトポグラフィを有する表面を有する非平坦であってもよい。

ベース部材は、金属、合金、有機ポリマー材料、又は前述のうちの少なくとも１つを含む組み合わせなどの様々な材料から形成することができる。具体的には、ガラス、セラミック、金属又はポリマー材料、並びにセラミックコーティングされたポリマー、セラミックコーティングされた金属、ポリマーコーティングされた金属、金属コーティングされたポリマーなどの他の好適な代替物及びそれらの組み合わせが適切であり得る。ベース部材は、いくつかの実装形態では、個別の細孔及び／又は連通した細孔を含むことができる。ベース部材の厚さは、用途に応じて様々に異なり得る。

ベース部材の有機ポリマー材料は、微細構造化表面について前述したのと同じ有機ポリマー材料（例えば、熱可塑性、熱硬化性）であり得る。更に、繊維強化ポリマー及び／又は粒子強化ポリマーも使用することができる。

平坦又は非平坦なベース部材用の好適な非生分解性ポリマーの非限定的な例としては、ポリオレフィン（例えば、ポリイソブチレンコポリマー）、スチレンブロックコポリマー（例えば、スチレン－イソブチレン－スチレン－ｔｅｒｔ－ブロックコポリマー（ＳＩＢＳ）などのスチレン－イソブチレン－スチレンブロックコポリマー）；ポリビニルピロリドン（架橋ポリビニルピロリドンを含む）；ポリビニルアルコール；ビニルモノマーのコポリマー（ＥＶＡなど）；ポリビニルエーテル；ポリビニル芳香族；ポリエチレン酸化物；ポリエステル（ポリエチレンテレフタレートなど）；ポリアミド；ポリアクリルアミド；ポリエーテル（ポリエーテルスルホンなど）；ポリオレフィン（ポリプロピレン、ポリエチレン、高度に架橋されたポリエチレン、及び高又は超高分子量ポリエチレンなど）；ポリウレタン；ポリカーボネート；シリコーン；シロキサンポリマー；天然ベースのポリマー（任意選択で改質された多糖体及びタンパク質などであって、これらに限定されないが、セルロースポリマー及びセルロースエステル（セルロースアセテートなど）が含まれる）；前述のポリマーのうちの少なくとも１つを含む組み合わせが挙げられる。組み合わせは、混和性及び非混和性ブレンド、並びに積層体を含み得る。

ベース（例えば、平坦又は非平坦な）部材は、生分解性材料から構成されてもよい。好適な生分解性ポリマーの非制限的例としては、ポリカルボン酸；ポリ無水物（無水マレイン酸ポリマーなど）；ポリオルトエステル；ポリ－アミノ酸；ポリエチレンオキシド；ポリホスファゼン；ポリ乳酸、ポリグリコール酸、並びにコポリマー及びその混合物（ポリ（Ｌ乳酸）（ＰＬＬＡ）、ポリ（Ｄ，Ｌ，ラクチド）、ポリ（乳酸－コーグリコール酸）、及び５０／５０重量比の（Ｄ，Ｌ，ラクチド－コーグリコール酸））；ポリジオキサノン；フマル酸ポリプロピレン；ポリデプシペプチド；ポリカプロラクトン及びコポリマー、並びにそれらの混合物（ポリ（Ｄ，Ｌ，ラクチド－カプロラクトン）及びポリカプロラクトン・コ－ブチルアクリレートなど）；ポリヒドロキシブチレートバレレート及びその混合物；ポリカルボネート（チロシン由来ポリカルボネート及びアリレート、ポリイミノカルボネート、並びにポリジメチルトリメチルカルボネート）；シアノアクリレート；リン酸カルシウム；ポリグリコサミングリカン；巨大分子（ポリサッカライド（ヒアルロン酸を含む）、セルロース、及びヒドロキシプロピルメチルセルロースなど）；ゼラチン；スターチ；デキストラン；並びにアルギン酸及びその誘導体、タンパク質及びポリペプチド；並びに前述のいずれかの混合物及びコポリマーが挙げられる。生分解性ポリマーはまた、ポリヒドロキシブチレート及びそのコポリマーなどの表面侵食性ポリマー、ポリカプロラクトン、ポリ無水物（結晶性及び非晶質の両方）、及び無水マレイン酸であり得る。

いくつかの実施形態では、微細構造化表面は、物品又はその構成要素の少なくとも一部と一体化されてもよい。他の実施形態では、（例えば、加工）微細構造化表面は、フィルム又はテープとして提供され、ベース部材に固定され得る。こうした実施形態では、微細構造体は、ベース部材と同じ材料で作成されても異なる材料で作製されてもよい。固定は、機械的結合、接着剤、熱溶接、超音波溶接、ＲＦ溶接などの熱処理、又はそれらの組み合わせを使用して提供され得る。

一実施形態では、本明細書に記載の平坦なベース層上に配置される微細構造化表面を含むフィルム（例えば、テープ）が提供される。フィルム（例えば、テープ）は、フィルムの反対の面上に感圧接着剤（例えば、図３の３５０）を含む。微細構造化表面は、接着剤コーティングされたフィルムを提供し、そのフィルムを感圧接着剤で表面又は物品に接着することによって、表面又は物品上に提供することができる。

ベース（例えば、平坦又は非平坦な）部材は、隣接する感圧接着層とより良好に接着するために、通常の表面処理を受けても良い。更に、ベース部材は、下にあるベース部材への（例えば、鋳造及び硬化された）微細構造化層のより良好な接着のために、通常の表面処理を受けてもよい。表面処理としては、例えば、オゾンへの曝露、火炎への曝露、高圧電撃曝露、電離放射線処理、及び他の化学的又は物理的な酸化処理が挙げられる。化学的表面処理としてはプライマーが挙げられる。好適なプライマーの例としては、塩素化ポリオレフィン、ポリアミド、米国特許第５，６７７，３７６号、同第５，６２３，０１０号に開示されている変性ポリマー、並びに国際公開第９８／１５６０１号及び国際公開第９９／０３９０７号に開示されているもの、並びに他の変性アクリルポリマーが挙げられる。一実施形態では、プライマーは、３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから「３Ｍ（登録商標）Ｐｒｉｍｅｒ９４」として入手可能な、アクリレートポリマー、塩素化ポリオレフィン及びエポキシ樹脂を含む、有機溶媒系プライマーである。

微細構造化フィルムは、様々な（例えば、感圧）接着剤を含んでよく、例えば、天然又は合成のゴム系感圧接着剤、アクリル感圧接着剤、ビニルアルキルエーテル感圧接着剤、シリコーン感圧接着剤、ポリエステル感圧接着剤、ポリアミド感圧接着剤、ポリα－オレフィン、ポリウレタン感圧接着剤、及びスチレンブロックコポリマー系感圧接着剤などを含んでよい。感圧接着剤は一般に、室温（２５℃）で動的粘弾性測定により測定することができる、１Ｈｚの周波数での３×１０^６ダイン／ｃｍ未満の貯蔵弾性率（Ｅ’）を有する。

いくつかの実施形態では、感圧接着剤は、天然ゴム系である場合があり、これは、天然ゴムエラストマーが、接着剤（充填剤、粘着付与剤などを全く含まない）のエラストマー成分の少なくとも約２０重量％を構成することを意味する。更なる実施形態では、天然ゴムエラストマーは、接着剤のエラストマー成分の少なくとも約５０重量％、又は少なくとも約８０重量％を構成する。いくつかの実施形態では、天然ゴムエラストマーは、１つ以上のブロックコポリマー熱可塑性エラストマー（例えば、Ｋｒａｔｏｎ Ｐｏｌｙｍｅｒｓ（Ｈｏｕｓｔｏｎ，ＴＸ）から商品名ＫＲＡＴＯＮで入手可能な全般的種類）とブレンドされ得る。特定の実施形態では、天然ゴムエラストマーは、少なくとも１つの粘着付与樹脂とともに、天然ゴムエラストマーと組み合わせて、スチレン－イソプレンラジカルブロックコポリマーとブレンドしてもよい。この種類の接着剤組成物は、Ｍａらの米国特許出願公開第２００３／０２１５６２８号において更に詳細に開示されている。

感圧接着剤は、有機溶媒系、水性エマルジョン、ホットメルト（例えば米国特許第６，２９４，２４９号に記載されているものなど）、及び化学線（例えば電子ビーム、紫外線）硬化性感圧接着剤であってもよい。

いくつかの実施形態において、接着剤層は除去可能である。除去可能な接着剤は、基材又は表面（例えば、ガラス又はポリプロピレンパネル）からきれいに除去されるが、接着剤は、その基材又は表面に対して、５０、６０、７０、８０、９０、１００、又は１２０℃（２４８°Ｆ）で４時間エージングした後に一時的に接着され、次いで約２０インチ／分の除去速度で２５℃に平衡化される。

いくつかの実施形態では、この接着層は、再配置可能な接着層である。用語「再配置可能」とは、少なくとも初期において、接着能を実質的に損なわずに、基材に繰り返し接着し、取り外すことが可能であることを指す。再配置可能な接着剤は通常、少なくとも初期において、従来の強力な粘着性のＰＳＡの剥離強度よりも低い、基材表面に対する剥離強度を有する。好適な再配置可能な接着剤としては、両方とも３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｓｔ．Ｐａｕｌ，Ｍｉｎｎｅｓｏｔａ，ＵＳＡ）により製造されたＣＯＮＴＲＯＬＴＡＣ Ｐｌｕｓ Ｆｉｌｍブランド及びＳＣＯＴＣＨＬＩＴＥ Ｐｌｕｓ Ｓｈｅｅｔｉｎｇブランドで使用される接着剤の種類が挙げられる。

接着層は、構造化した接着層、又は少なくとも１つの微細構造化した表面を有する接着層も有し得る。このような構造化した接着層を含むフィルム物品を、基材表面に適用すると、チャネル又は同様構造のネットワークがフィルム物品と基材表面との間に存在する。このようなチャネル又は同様構造の存在により、接着層を通って水平方向に空気が通り抜けることができ、これにより、適用中のフィルム物品及び表面基材の下から空気が抜けていくことができる。

トポロジー的構造化した接着剤はまた、再配置可能な接着剤を提供するのにも使用され得る。例えば、比較的大規模な接着剤エンボス加工によって、感圧接着剤／基材接触面積が永続的に低減することにより、感圧接着剤の接着強度も低減することが記載されている。様々なトポロジーとしては、凹面及び凸面のＶ字溝、ダイヤモンド、カップ、半球、コーン、噴火口形、及び他の三次元形状で、接着層のベース面よりも有意に小さな上面領域を有するもの全てが挙げられる。概して、これらのトポロジーは、平滑な表面の接着層に比べ、より低い剥離接着値を有する、接着シート、フィルム及びテープを提供する。多くの場合において、このトポロジー的構造化した表面の接着剤はまた、接触時間の増加に伴う接着の構築が遅いことも示されている。

微細構造化した接着表面を有する接着層には、接着表面の機能部分全体にわたって均一に分布し、かつ接着表面から外向きに突出した、接着剤又は複合接着剤「ペグ」が含まれ得る。このような接着層を備えたフィルム物品は、基材表面上に配置したときに、再配置可能なシート材料を提供する（米国特許第５，２９６，２７７号を参照）。このような接着層は、保管及び加工中に接着剤ペグを保護するため、一致した微細構造化した剥離ライナーも必要とする。微細構造化した接着表面の形成は、例えば、対応する微細エンボスパターン（micro-embossed pattern）の剥離ライナー上に接着剤をコーティングすることによって、又は、国際公開第９８／２９５１６号に記載されている通り、対応する微細エンボスパターンの剥離ライナーに対して、接着剤（例えばＰＳＡ）を押し付けることによって、達成することもできる。

所望の場合、接着層は、複数の接着剤サブ層を含んでもよく、組み合わせた接着層アセンブリを得ることができる。例えば、接着層は、連続的又は不連続なＰＳＡ又は再配置可能な接着剤の被覆層とともに、ホットメルト接着剤のサブ層を含み得る。

アクリル感圧接着剤は、溶液重合、バルク重合、又は乳化重合などのフリーラジカル重合技術によって製造することができる。アクリルポリマーは、ランダムコポリマー、ブロックコポリマー、又はグラフトポリマーなどの任意の種類のものであってよい。重合は、一般に使用される重合開始剤及び連鎖移動剤のいずれを用いてもよい。

アクリル感圧接着剤は、１～１４個の炭素原子、好ましくは平均４～１２個の炭素原子を含有する（例えば非第三級）アルコールに由来する、１つ以上の（メタ）アクリレートエステルモノマーの重合単位を含む。モノマーの例としては、エタノール、１－プロパノール、２－プロパノール、１－ブタノール、２－ブタノール、１－ペンタノール、２－ペンタノール、３－ペンタノール、２－メチル－１－ブタノール、３－メチル－１－ブタノール、１－ヘキサノール、２－ヘキサノール、２－メチル－１－ペンタノール、３－メチル－１－ペンタノール、２－エチル－１－ブタノール；３，５，５－トリメチル－１－ヘキサノール、３－ヘプタノール、１－オクタノール、２－オクタノール、イソオクチルアルコール、２－エチル－１－ヘキサノール、１－デカノール、２－プロピルヘプタノール、１－ドデカノール、１－トリデカノール、１－テトラデカノールなどの非第三級アルコールと、アクリル酸又はメタクリル酸のいずれかとのエステルが挙げられる。

アクリル感圧接着剤は、１つ以上の低Ｔｇ（メタ）アクリレートモノマーの重合単位を含み、すなわち、反応してホモポリマーを形成したときの（メタ）アクリレートモノマーは、０℃以下のＴ_ｇを有する。いくつかの実施形態では、低Ｔｇモノマーは、－５℃以下、又は－１０℃以下のＴ_ｇを有する。これらのホモポリマーのＴｇは、多くの場合に－８０℃以上、－７０℃以上、－６０℃以上、又は－５０℃以上である。

低Ｔｇモノマーは、次の式
Ｈ_２Ｃ＝ＣＲ^１Ｃ（Ｏ）ＯＲ^８
［式中、Ｒ^１はＨ又はメチルであり、Ｒ^８は１～２２個の炭素を有するアルキル、又は２～２０個の炭素及び酸素若しくは硫黄から選択される１～６個のヘテロ原子を有するヘテロアルキルである］を有していてもよい。アルキル基又はヘテロアルキル基は、直鎖、分枝、環状、又はこれらの組み合わせとすることができる。

例示的な低Ｔｇモノマーとしては、例えば、エチルアクリレート、ｎ－プロピルアクリレート、ｎ－ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｔ－ブチルアクリレート、ｎ－ペンチルアクリレート、イソアミルアクリレート、ｎ－ヘキシルアクリレート、２－メチルブチルアクリレート、２－エチルヘキシルアクリレート、４－メチル－２－ペンチルアクリレート、ｎ－オクチルアクリレート、２－オクチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、イソノニルアクリレート、デシルアクリレート、イソデシルアクリレート、ラウリルアクリレート、イソトリデシルアクリレート、オクタデシルアクリレート、及びドデシルアクリレートが挙げられる。

低Ｔｇヘテロアルキルアクリレートモノマーとしては、２－メトキシエチルアクリレート及び２－エトキシエチルアクリレートが挙げられるが、これらに限定されない。

典型的な実施形態では、アクリル感圧接着剤は、６～２０個の炭素原子を含む、アルキル基を有する、少なくとも１つの低Ｔｇモノマーの重合単位を含む。いくつかの実施形態では、低Ｔｇモノマーは、７個又は８個の炭素原子を含む、アルキル基を有する。例示的なモノマーとしては、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ｎ－オクチル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、及び、２－オクチル（メタ）アクリレートなどの、（メタ）アクリル酸と再生可能資源に由来するアルコールとのエステルが挙げられるが、これらに限定されない。

アクリル感圧接着剤は、典型的には、重合単位の総重量（すなわち、無機充填剤又は他の添加剤を除く）に基づいて、少なくとも５０、５５、６０、６５、７０、７５、８０、８５、９０重量％以上の、０℃未満のＴｇを有する単官能性アルキル（メタ）アクリレートモノマーの重合単位を含む。

アクリル感圧接着剤は、少なくとも１つの高Ｔｇモノマーを更に含んでもよく、すなわち、反応してホモポリマーを形成したときの（メタ）アクリレートモノマーは、０℃を超えるＴｇを有する。高Ｔｇモノマーは、より典型的には、５℃、１０℃、１５℃、２０℃、２５℃、３０℃、３５℃又は４０℃を超えるＴｇを有する。高Ｔｇ単官能性アルキル（メタ）アクリレートモノマーとしては、例えば、ｔ－ブチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｎ－ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ｓ－ブチルメタクリレート、ｔ－ブチルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、フェニルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、ノルボルニル（メタ）アクリレート、ベンジルメタクリレート、３，３，５－トリメチルシクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、Ｎ－オクチルアクリルアミド、及びプロピルメタクリレート、又は組み合わせが挙げられる。

アクリル感圧接着剤は、極性モノマーの重合単位を更に含んでもよい。代表的な極性モノマーとしては、例えば、酸官能性モノマー（例えばアクリル酸、メタクリル酸）、ヒドロキシル官能性（メタ）アクリレート）モノマー、窒素含有モノマー（例えばアクリルアミド）、及びそれらの組み合わせが挙げられる。いくつかの実施形態では、アクリル感圧接着剤は、少なくとも０．５、１、２又は３重量％、かつ典型的には１０重量％以下の、アクリルアミドなどの極性モノマー及び／又は（メタ）アクリル酸などの酸官能性モノマーの重合単位を含む。

感圧接着剤は、必要に応じて１種以上の好適な添加剤を更に含んでもよい。添加剤の例は、架橋剤（例えば多官能性（メタ）アクリレート架橋剤（例えば、ＨＤＤＡ、ＴＭＰＴＡ）、エポキシ架橋剤、イソシアネート架橋剤、メラミン架橋剤、アジリジン架橋剤など）、粘着付与剤（例えば、フェノール変性テルペン並びにロジンのグリセロールエステル及びロジンのペンタエリスリトールエステルなどのロジンエステル、並びにＣ５及びＣ９炭化水素粘着付与剤）、増粘剤、可塑剤、充填剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、静電気防止剤、界面活性剤、レベリング剤、着色剤、難燃剤、及びシランカップリング剤である。

（例えば、感圧）接着層は、様々な通常のコーティング方法、（例えばグラビア）ローラーコーティング、フローコーティング、ディップコーティング、スピンコーティング、スプレーコーティング、ナイフコーティング、（例えばロータリ又はスリット）ダイコーティング、（例えばホットメルト）押出コーティング、及び印刷によって、フィルム上に配置することができる。接着剤は、本明細書に記載の基材に直接適用してもよく、又は剥離ライナーを使用して転写コーティングしてもよい。剥離ライナーを使用する場合は、接着剤は、ライナー上にコーティングしてフィルムに積層するか、又は、フィルム上にコーティングしてその後に接着層に剥離ライナーが適用される。接着層は、連続層として、又はパターン化不連続層として、適用することができる。接着層は、典型的には、約５～５０μｍの厚さを有する。

剥離ライナーは、典型的には、オルガノシリコーン化合物、フルオロポリマー、ポリウレタン及びポリオレフィンなどの低表面エネルギー化合物でコーティング又は変性された、紙又はフィルムを含む。この剥離ライナーはまた、接着剤をはじく化合物を添加したか、又は添加していない、ポリエチレン、ポリプロピレン、ＰＶＣ、ポリエステルから製造されたポリマーシートであり得る。上述のように、剥離ライナーは、接着層に対して構造を付与するための、微細構造化したパターン又は微細エンボスパターンを有し得る。

接着層は、前述のように様々な表面に接着することができる。表面は、木材、金属、並びに様々な有機ポリマー材料を含み得る。フィルムは、接着剤がないため、家具及び衣類のテキスタイル（例えば、合成皮革）としての使用にも好適であり得る。

「微生物」という用語は、一般に、１つ以上の細菌（例えば、運動性若しくは非運動性、生長性若しくは休眠性、グラム陽性若しくはグラム陰性、プランクトン性若しくはバイオフィルム生息性）、細菌胞子又は内胞子、藻類、真菌類（例えば、酵母、糸状菌類、真菌胞子）、マイコプラズマ、及び原生動物、並びにそれらの組み合わせを含むがこれらに限定されない、任意の原核生物又は真核生物の微視的生物を指すために使用される。場合によっては、特に対象となる微生物は病原性を有するものであり、「病原体」という用語は、任意の病原性微生物を指すために使用される。病原体の例には、これらに限定されないが、グラム陽性菌及びグラム陰性菌の両方、真菌、及びウイルスが含まれ、腸内細菌科のメンバー、又はミクロコッカス科のメンバー、又はブドウ球菌属種、連鎖球菌種、シュードモナス種、アシネトバクター種、腸球菌種、サルモネラ種、レジオネラ種、赤痢菌種、エルシニア種、エンテロバクター種、エシェリキア種、バチルス種、リステリア種、カンピロバクター種、アシネトバクター種、ビブリオ種、クロストリジウム種、クレブシェラ属、プロテウス属、アスペルギルス属、カンジダ属、及びコリネバクテリウム属が含まれる。病原体の特定の例としては、腸管出血性大腸菌を含むエシェリキア・コライ、例えば、血清型Ｏ１５７：Ｈ７、Ｏ１２９：Ｈ１１；緑膿菌；セレウス菌；炭疽菌；サルモネラ腸炎菌；ネズミチフス菌；リステリア・モノサイトゲネス；ボツリヌス菌；ウェルシュ菌；黄色ブドウ球菌；メチシリン耐性黄色ブドウ球菌；カルバペネム耐性腸内細菌科カンピロバクター・ジェジュニ；腸炎エルシニア；ビブリオ・バルニフィカス；クロストリジウム・ディフィシル；バンコマイシン耐性腸球菌；クレブシエラ・ニューモニエ；プロテウスミラビリス；及びエンテロバクター［クロノバクター］・サカザキを挙げることができるが、それらに限定されない。

本発明の利点を以降の実施例によって更に説明するが、これらの実施例において述べられる特定の材料及びそれらの量、並びに他の条件及び詳細は、本発明を不当に制限するものと解釈されるべきではない。特に指示がない限り、全ての部及び百分率は重量による。

方法
走査型電子顕微鏡－試料調製及びイメージング
試料ディスクを、各ディスクを５％グルタルアルデヒド溶液中に３０分間慎重に浸漬することによって、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）用に固定した。これに続いて、以下の順序で実施した６つの連続したディスク浸漬洗浄ステップ（各洗浄ステップにつき３０分の浸漬時間）を行った：１）ＰＢＳ溶液、２）２５％イソプロピルアルコール水溶液、３）５０％イソプロピルアルコール水溶液、４）７５％イソプロピルアルコール水溶液、５～６）１００％イソプロピルアルコール溶液中での２回の最終的な浸漬洗浄。ピンセットを使用して各ディスクを９６ウェルプレートに移した。ディスクを約４８時間にわたって乾燥させた。次に、ディスクの微細構造化表面がスタブの外側に面した状態で、ディスクを両面テープを使用してＳＥＭスタブに個別に取り付けた。各試料の縁部に導電性銀塗料を塗り、Ｄｅｎｔｏｎ Ｖａｃｕｕｍ Ｄｅｓｋ Ｖ Ｓｐｕｔｔｅｒ Ｃｏａｔｅｒ（Ｄｅｎｔｏｎ Ｖａｃｕｕｍ（Ｍｏｏｒｅｓｔｏｗｎ，ＮＪ））と金のターゲットを使用してスタブアセンブリ全体を９０秒間スパッタコーティングした。スパッタコーティング後、スタブを、ＪＥＯＬ ＪＣＭ－５００ ＮｅｏＳｃｏｐｅ ＳＥＭ装置（ＪＥＯＬ ＵＳＡ Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ（Ｐｅａｂｏｄｙ，ＭＡ））に移動させてイメージングを行った。

培地の調製
トリプシンソイブロス（ＴＳＢ、Ｂｅｃｔｏｎ，Ｄｉｃｋｉｎｓｏｎ ａｎｄ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｆｒａｎｋｌｉｎ Ｌａｋｅｓ，ＮＪ）から入手）を脱イオン水中に溶解し、製造業者の指示に従って濾過滅菌した。

Ｂｒａｉｎ Ｈｅａｒｔ Ｉｎｆｕｓｉｏｎ（ＢＨＩＳ、Ｂｅｃｔｏｎ，Ｄｉｃｋｉｎｓｏｎ ａｎｄ Ｃｏｍｐａｎｙから入手）を脱イオン水中に溶解し、製造業者の指示に従って濾過滅菌した。

細菌培養
緑膿菌（ＡＴＣＣ １５４４２）又は黄色ブドウ球菌（ＡＴＣＣ ６５３８）のストリークプレートを、Ｔｒｙｐｔｉｃ Ｓｏｙ Ａｇａｒの凍結ストックから調製した。プレートを３７℃で一晩インキュベートした。プレートから１個のコロニーを１０ｍＬの滅菌ＴＳＢに移した。培養物を毎分２５０回転及び３７℃で一晩振とうした。接種試料を、培養物（約１０^９コロニー形成単位（ｃｆｕ）／ｍＬ）をＴＳＢ中で１：１００に希釈することによって調製した。

ストレプトコッカスミュータンス（ＡＴＣＣ ２５１７５）の一晩培養物を、滅菌した血清ピペットを使用して、この微生物の少量の２５％グリセロール冷凍ストックをこすり取り、１５ｍＬコニカルチューブに移すことによって増殖させた。このチューブには５ｍＬのＢＨＩブロスが入っていた。チューブを静的（振とうなし）条件下で３７℃で１２～１６時間にわたって維持した。接種試料を、この培養物（約１０^９コロニー形成単位（ｃｆｕ）／ｍＬ）をＴＳＢ中で１：１００に希釈することによって調製した。

微細構造化フィルムを調製するための手順
ＵＶ硬化性樹脂を、ＰＨＯＴＯＭＥＲ ６２１０脂肪族ウレタンジアクリレートオリゴマー（７５部）、ＳＲ２３８ １，６－ヘキサンジオールジアクリレート（２５部）、及びＬＵＣＩＲＩＮ ＴＰＯ光開始剤（０．５％）から調製した。構成成分を高速ミキサーでブレンドし、約７０℃のオーブン内で２４時間加熱し、次いで室温に冷却した。線形プリズムフィルムを調製するためのテンプレートとして、銅ボタン（直径２インチ（５．０８ｃｍ））を使用した。ボタン及び配合樹脂を両方とも約７０℃のオーブン内で１５分間加熱した。温められたボタンの中央に、トランスファーピペットを使用して、約６滴の加温された樹脂を適用した。ＭＥＬＩＮＥＸ ６１８ ＰＥＴ支持フィルム［３インチ×４インチ（７．６２ｃｍ×１０．１６ｃｍ）、厚さ５ミル］の断片を、適用された樹脂を覆うように置き、続いてガラスプレートを置いた。ＰＥＴフィルムのプライマー処理された表面を、樹脂と接触するように方向付けた。樹脂がボタンの表面を完全に覆うまで、ガラスプレートを手で押して所定の位置に保持した。ガラスプレートを慎重に取り外した。気泡が入った場合、ゴムハンドローラを使用してそれらを除去した。

試料を、窒素雰囲気下で１５．２メートル／分（５０フィート／分）の速度でＵＶプロセッサ（ＲＰＣ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ（Ｐｌａｉｎｆｉｅｌｄ，ＩＬ）から入手した、２つのＨｇ蒸気ランプを備えたモデルＱＣ １２０２３３ＡＮ）に２回通過させることにより、試料をＵＶ光で硬化させた。図３の配列パターンを有する硬化した微細構造化フィルムを、９０°の角度でそっと引き離すことによって、銅テンプレートから取り外した。剥離ライナーで裏張りされた接着剤層（厚さ８ミル、３Ｍ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製の３Ｍ ８１８８ Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｌｅａｒ Ａｄｈｅｓｉｖｅとして入手）を、ハンドローラを使用して微細構造化フィルムの裏面（すなわち非微細構造化表面）に適用した。調製された線形プリズム微細構造化フィルムの特徴を表１に報告する。

パターン化された微細構造化表面の代わりに樹脂と接触するための平滑な表面を有する銅ボタンを使用したことを除いて、比較例Ａフィルムは、上記と同じ手順に従って調製された。これにより、平滑な表面を有するフィルム（すなわち、パターン化された微細構造化表面を有さないフィルム）が形成された。

試料ディスクの調製
直径３４ｍｍの中空パンチを使用して、微細構造化フィルムから個々のディスクを切り出した。１つのディスクを、滅菌６ウェルマイクロプレートの各ウェル内に配置し、ディスクの微細構造化表面がウェル開口部に面し、剥離ライナーがウェル底部に面するように向けた。次いで、プレートにイソプロピルアルコールのミストを噴霧して、試料を消毒し、乾燥させた。ディスクを、比較例Ａのフィルムからも調製した。

試料ディスク接種、インキュベーション、及び洗浄方法
細菌培養物（上記）の接種試料（４ｍＬ）を、ディスクの入った６ウェルマイクロプレートの各ウェルに添加した。６ウェルマイクロプレートに蓋を載せて、プレートをＰＡＲＡＦＩＬＭ Ｍ 実験室フィルム（Ｂｅｍｉｓ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｏｓｈｋｏｓｈ，ＷＩ）から入手）で包んだ。包まれたプレートを湿った紙タオルが入ったビニル袋に入れ、密封したその袋を３７℃のインキュベータに入れた。７時間後、プレートをインキュベータから取り出し、ピペットを使用して液体培地を各ウェルから取り出した。新しい滅菌ＴＳＢ（４ｍＬ）を各ウェルに添加し、プレートの蓋を取り付けた。そのプレートをＰＡＲＡＦＩＬＭ Ｍ 実験室フィルムで再び包み、湿った紙タオルと共に袋に密封し、インキュベータに戻した。１７時間後、プレートをインキュベータから取り出した。液体培地を各ウェルから（ピペットを使用して）取り出し、４ｍＬの滅菌脱イオン水と交換した。その水を取り除き、４ｍＬずつの滅菌脱イオン水と更に２回交換した。最後の分の水を各ウェルから取り除き、次いでディスクを取り出した。ライナー層を各ディスクから剥離して、接着剤バッキングを露出させた。中空パンチを使用して、各ディスクから小さい直径１２．７ｍｍのディスクを切り出した。ディスクのうちのいくつか（ｎ＝３）を、ディスク上のコロニーカウント（ｃｆｕ）について分析し、ディスクのうちのいくつか（ｎ＝３）を、洗浄手順ステップに進ませた。

試料ディスク洗浄手順Ａ
直径１２．７ｍｍのディスクを、ディスクの接着剤バッキングを介してＥｌｃｏｍｅｔｅｒ Ｍｏｄｅｌ １７２０ Ａｂｒａｓｉｏｎ ａｎｄ Ｗａｓｈａｂｉｌｉｔｙ Ｔｅｓｔｅｒ（Ｅｌｃｏｍｅｔｅｒ Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ（Ｗａｒｒｅｎ，ＭＩ））の洗浄レーンに取り付けた。特に指定のない限り、各ディスクは、ディスク表面の微細構造化チャネルが洗浄キャリッジの動きと同じ方向に方向付けられるように、テスター内に配置された。不織布シート［ＳＯＮＴＡＲＡ ８０００又はポリプロピレン不織布シート（繊維径５．９ミクロン、４０ｇｓｍ）のいずれかから選択］の２インチ×５インチ（５．０８ｃｍ×１２．７ｃｍ）の断片を、脱イオン水中にＴＷＥＥＮ ２０（０．０５％）を含む溶液に浸漬し、余分な液体を絞り出した。この不織布シートをＵｎｉｖｅｒｓａｌ Ｍａｔｅｒｉａｌ Ｃｌａｍｐ Ｔｏｏｌ（４５０ｇ）の周りに固定し、このツールを装置のキャリッジに取り付けた。装置を、６０サイクル／分の速度で１５キャリッジサイクルで動作するように設定した（総洗浄時間＝１５秒）。

試料ディスク洗浄手順Ｂ
直径１２．７ｍｍのディスクを、ディスクの接着剤バッキングを介してＥｌｃｏｍｅｔｅｒ Ｍｏｄｅｌ １７２０ Ａｂｒａｓｉｏｎ ａｎｄ Ｗａｓｈａｂｉｌｉｔｙ Ｔｅｓｔｅｒの洗浄レーンに取り付けた。特に指定のない限り、各ディスクは、ディスク表面の微細構造化チャネルが洗浄キャリッジの動きと同じ方向に方向付けられるように、テスター内に配置された。Ａｃｃｌｅａｎ手動歯ブラシ（毛材の平均径約１８０ミクロン、Ｈｅｎｒｙ Ｓｃｈｅｉｎ Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ（Ｍｅｌｖｉｌｌｅ，ＮＹ）から入手）のヘッドを装置のキャリッジ内に保持するために、積層造形によってツールを準備した。歯ブラシヘッド及びディスクを、ディスクの露出した表面全体がブラシの毛材に接触するように並べた。ブラシ毛材を、動作前に水に浸漬した。装置を、６０サイクル／分の速度で１５キャリッジサイクルで動作するように設定した（総洗浄時間＝１５秒）。ツールの重量は１９０ｇであった。

試料ディスクコロニーカウント方法Ａ
洗浄手順に続いて、各ディスクを、ＰＢＳ緩衝液中にＴＷＥＥＮ ２０（０．０５％）を含有した１ｍＬずつの溶液で５回洗浄した。洗浄した各ディスクを、個別に、ＰＢＳ緩衝液（１０ｍＬ）中にＴＷＥＥＮ ２０（０．０５％）の溶液を含有した別個の５０ｍＬ円錐バイアルに移した。各チューブを１分間連続的にボルテックスし、Ｂｒａｎｓｏｎ２５１０ Ｕｌｔｒａｓｏｎｉｃ Ｃｌｅａｎｉｎｇ Ｂａｔｈ（Ｂｒａｎｓｏｎ Ｕｌｔｒａｓｏｎｉｃｓ（Ｄａｎｂｕｒｙ，ＣＴ））を使用して１分間超音波処理し、１分間ボルテックスした。各チューブからの溶液をバターフィールド緩衝液（３Ｍ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから入手）で段階希釈し（約８希釈）、３Ｍ ＰＥＴＲＩＦＩＬＭ Ａｅｒｏｂｉｃ Ｃｏｕｎｔ Ｐｌａｔｅ（３Ｍ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）のカウント範囲内のコロニー形成単位（ｃｆｕ）数をもたらす細菌濃度レベルを得た。希釈した各試料のアリコート（１ｍＬ）を、製造業者の指示に従って、別個の３Ｍ ＰＥＴＲＩＦＩＬＭ Ａｅｒｏｂｉｃ Ｃｏｕｎｔ Ｐｌａｔｅにプレーティングした。カウントプレートを３７℃で４８時間にわたってインキュベートした。インキュベーション期間後、３Ｍ ＰＥＴＲＩＦＩＬＭ Ｐｌａｔｅ Ｒｅａｄｅｒ（３Ｍ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）を使用して、各プレート上のｃｆｕの数をカウントした。カウント値を使用して、ディスクから回収したｃｆｕの総数を計算した。結果を、３つのディスクについて決定された平均ｃｆｕカウントとして報告する。

洗浄手順を受けなかったディスクを、同じ記載の手順を使用してコロニーカウント（ｃｆｕ）について分析した。

試料ディスクコロニーカウント方法Ｂ
ブラッシング手順に続いて、各ディスクを、ＰＢＳ緩衝液中にＴＷＥＥＮ ２０（０．０５％）を含有した１ｍＬずつの溶液で５回洗浄した。洗浄した各ディスクを、個別に、ＰＢＳ緩衝液（１０ｍＬ）中にＴＷＥＥＮ ２０（０．０５％）の溶液を含有した別個の５０ｍＬ円錐バイアルに移した。各チューブを１分間連続してボルテックスし、Ｍｉｓｏｎｉｘ Ｓｏｎｉｃａｔｏｒ Ｕｌｔｒａｓｏｎｉｃ Ｐｒｏｃｅｓｓｏｒ ＸＬ（Ｍｉｓｏｎｉｘ Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ（Ｆａｒｍｉｎｇｄａｌｅ，ＮＹ））を使用して、３０秒間超音波処理し（パルス間０．５秒の２秒パルスで、レベル３設定）、１分間ボルテックスした。各チューブからの溶液をバターフィールド緩衝液で段階希釈し（約８希釈）、３Ｍ ＰＥＴＲＩＦＩＬＭ Ａｅｒｏｂｉｃ Ｃｏｕｎｔ Ｐｌａｔｅのカウント範囲内のコロニー形成単位（ｃｆｕ）数をもたらす細菌濃度レベルを得した。希釈した各試料のアリコート（１ｍＬ）を、製造業者の指示に従って、別個の３Ｍ ＰＥＴＲＩＦＩＬＭ Ａｅｒｏｂｉｃ Ｃｏｕｎｔ Ｐｌａｔｅにプレーティングした。カウントプレートを、２つのＢＤ ＧａｓＰａｋ ＥＺパウチ（Ｂｅｃｔｏｎ，Ｄｉｃｋｉｎｓｏｎ ａｎｄ Ｃｏｍｐａｎｙから入手）を備えた気密嫌気性ボックス内で密封し、３７℃で２４時間にわたってインキュベートした。インキュベーション期間後、３Ｍ ＰＥＴＲＩＦＩＬＭ Ｐｌａｔｅ Ｒｅａｄｅｒを使用して、各プレート上のｃｆｕの数をカウントした。カウント値を使用して、ディスクから回収したｃｆｕの総数を計算した。結果を、３つのディスクについて決定された平均ｃｆｕカウントとして報告する。

ブラッシング手順を受けなかったディスクを、同じ記載の手順を使用してコロニーカウント（ｃｆｕ）について分析した。

実施例９
緑膿菌を接種した実施例１、実施例２、及び比較例Ａのディスク（１２．７ｍｍ）を、「試料ディスク接種、インキュベーション、及び洗浄方法」（上記）に記載されたように調製した。不織布シートとしてＳＯＮＴＡＲＡ ８０００を使用して、「試料ディスク洗浄手順Ａ」（上記）に従ってディスクを洗浄した。洗浄したディスクを「試料ディスクコロニーカウント方法Ａ」（上記）に従って分析した。平均ｌｏｇ_１０ｃｆｕカウントを、ディスクを洗浄することによって達成された計算されたｌｏｇ_１０ｃｆｕ減少値と共に表２に報告する。

洗浄前のディスクのＳＥＭ画像は、比較例Ａのディスクの表面上に大きな連続したバイオフィルムを示していた一方で、実施例１及び２のディスクは、微細構造化ディスク表面上に、細胞の分離した凝集体及び小さなグループを示していた。洗浄手順の後、小さなパッチの状態のバイオフィルム凝集体が、比較例Ａのディスクの表面を覆っていた一方で、実施例１及び２のディスクは、微細構造化ディスク表面上に細胞の小さなグループ及び個々の細胞のみを有していた。

実施例１０
緑膿菌を接種した実施例３～８、及び比較例Ａのディスク（１２．７ｍｍ）を、「試料ディスク接種、インキュベーション、及び洗浄方法」に記載されたように調製した。不織布シートとしてＳＯＮＴＡＲＡ ８０００を使用して、「試料ディスク洗浄手順Ａ」に従ってディスクを洗浄した。洗浄したディスクを「試料ディスクコロニーカウント方法Ａ」に従って分析した。平均ｌｏｇ_１０ｃｆｕカウントを、ディスクを洗浄することによって達成された計算されたｌｏｇ_１０ｃｆｕ減少値と共に表３に報告する。

実施例１１
黄色ブドウ球菌を接種した実施例１、実施例２、及び比較例Ａのディスク（１２．７ｍｍ）を、「試料ディスク接種、インキュベーション、及び洗浄方法」に記載されたように調製した。不織布シートとしてＳＯＮＴＡＲＡ ８０００を使用して、「試料ディスク洗浄手順Ａ」に従ってディスクを洗浄した。洗浄したディスクを「試料ディスクコロニーカウント方法Ａ」に従って分析した。平均ｌｏｇ_１０ｃｆｕカウントを、ディスクを洗浄することによって達成された計算されたｌｏｇ_１０ｃｆｕ減少値と共に表４に報告する。

洗浄前のディスクのＳＥＭ画像は、比較例Ａのディスクの表面上に大きな連続したバイオフィルムを示していた一方で、実施例１及び２のディスクは、表面上に、細胞の分離した凝集体及び小さなグループを示していた。実施例１及び２のディスクの場合、黄色ブドウ球菌細胞が主に構造化表面の谷部部分にあった。洗浄手順の後、小さなパッチの状態のバイオフィルム凝集体が、比較例Ａのディスクの表面を覆っていた一方で、実施例１及び２のディスクは、表面上に細胞の小さなグループ及び個々の細胞のみを有していた。

実施例１２
緑膿菌を接種した実施例１、実施例２、及び比較例Ａのディスク（１２．７ｍｍ）を、「試料ディスク接種、インキュベーション、及び洗浄方法」（上記）に記載されたように調製した。不織布シートとしてＳＯＮＴＡＲＡ ８０００を使用して、「試料ディスク洗浄手順Ａ」に従ってディスクを洗浄した。唯一の例外として、ディスクの半分が、ディスク表面の微細構造化チャネルが洗浄キャリッジの動きと同じ方向に方向付けられるように、装置内で方向付けられており、ディスクの半分が、ディスク表面の微細構造チャネルが洗浄キャリッジの動きに垂直な方向に方向付けられるように、装置内で方向付けられていた。洗浄したディスクを「試料ディスクコロニーカウント方法Ａ」に従って分析した。平均ｌｏｇ_１０ｃｆｕカウントを、ディスクを洗浄することによって達成された計算されたｌｏｇ_１０ｃｆｕ減少値と共に表５に報告する。

実施例１３．
緑膿菌を接種した実施例１及び比較例Ａのディスク（１２．７ｍｍ）を、「試料ディスク接種、インキュベーション、及び洗浄方法」に記載されたように調製した。ポリプロピレン不織布シート（繊維直径５．９ミクロン、４０ｇｓｍ）を使用して、「試料ディスク洗浄手順Ａ」に従ってディスクを洗浄した。洗浄したディスクを「試料ディスクコロニーカウント方法Ａ」に従って分析した。平均ｌｏｇ_１０ｃｆｕカウントを、ディスクを洗浄することによって達成された計算されたｌｏｇ_１０ｃｆｕ減少値と共に表６に報告する。

実施例１４．
ストレプトコッカスミュータンスを接種した実施例１、実施例２、及び比較例Ａのディスク（１２．７ｍｍ）を、「試料ディスク接種、インキュベーション、及び洗浄方法」に記載されたように調製した。ディスクを「試料ディスク洗浄手順Ｂ」に従って洗浄した。洗浄したディスクを「試料ディスクコロニーカウント方法Ｂ」に従って分析した。平均ｌｏｇ_１０ｃｆｕカウントを、ディスクを洗浄することによって達成された計算されたｌｏｇ_１０ｃｆｕ減少値と共に表７に報告する。

洗浄前のディスクのＳＥＭ画像は、比較例Ａのディスクの表面上に大きな連続したバイオフィルムを示していたが、実施例１及び２のディスクは、主に微細構造化表面の山部の上部で成長した細胞の分離した凝集体を示していた。洗浄手順の後、バイオフィルム凝集体が依然として比較例Ａのディスクの表面のほとんどを覆っていたが、実施例１及び２のディスクは、微細構造化表面の上部で成長した細胞の小さなグループ及び個々の細胞のみを有していた。

実施例１５．消毒剤溶液による試料ディスクの洗浄
消毒剤洗浄溶液を、３Ｍ Ｄｉｓｉｎｆｅｃｔａｎｔ Ｃｌｅａｎｅｒ ＲＣＴ Ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｅ ４０Ａ（３Ｍ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから入手）を滅菌水で希釈（１：２５６）することにより調製した。緑膿菌を接種した実施例１、実施例２、及び比較例Ａのディスク（１２．７ｍｍ）を、「試料ディスク接種、インキュベーション、及び洗浄方法」に記載されたように調製した。剥離ライナー層を取り外し、各ディスクを別個の５０ｍＬ円錐バイアルの壁に取り付けた（すなわち、１チューブ当たり１ディスク）。消毒剤洗浄溶液中にディスクを確実に完全に浸漬するために、ディスクを、チューブの底部に可能な限り近付けて取り付けた。消毒剤洗浄溶液のアリコート（４ｍＬ）を各チューブに添加し、チューブを３０秒間又は３分間室温で維持した。Ｄｅｙ／Ｅｎｇｌｅｙ中和ブロス（３６ｍＬ）を直ちに添加し、キャップをしたチューブを手で３回反転させて試料を混合した。各チューブを３０秒間連続的にボルテックスし、Ｂｒａｎｓｏｎ ２５１０ Ｕｌｔｒａｓｏｎｉｃ Ｃｌｅａｎｉｎｇ Ｂａｔｈを使用して３０秒間超音波処理し、３０秒間ボルテックスした。各チューブからの溶液をバターフィールド緩衝液で段階希釈し（約８希釈）、３Ｍ ＰＥＴＲＩＦＩＬＭ Ａｅｒｏｂｉｃ Ｃｏｕｎｔ Ｐｌａｔｅのカウント範囲内のコロニー形成単位（ｃｆｕ）数をもたらす細菌濃度レベルを得した。希釈した各試料のアリコート（１ｍＬ）を、製造業者の指示に従って、別個の３Ｍ ＰＥＴＲＩＦＩＬＭ Ａｅｒｏｂｉｃ Ｃｏｕｎｔ Ｐｌａｔｅにプレーティングした。カウントプレートを３７℃で４８時間にわたってインキュベートした。２４時間インキュベートした後、３Ｍ ＰＥＴＲＩＦＩＬＭ Ｐｌａｔｅ Ｒｅａｄｅｒを使用して各プレート上のｃｆｕ数をカウントした。カウント値を使用して、ディスクから回収したｃｆｕの総数を計算した。

ディスクを消毒剤洗浄溶液で処理しなかったことを除いて、対照ディスクを同じ手順に従って調製し、分析した。結果を、対照ディスク（ｎ＝３）で観察された平均ｃｆｕカウントと比較した、消毒剤を使用した場合の平均ｌｏｇ_１０ｃｆｕ減少値として表８に報告する。

実施例１６．
アクリル感圧接着剤（ＰＳＡ）フィルムを、イソオクチルアクリレート（４５０ｇ、Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏｍｐａｎｙ）、アクリル酸（５０ｇ、Ａｌｆａ Ａｅｓａｒ（Ｈａｖｅｒｈｉｌｌ，ＭＡ））、及びＤＡＲＯＣＵＲ １１７３光開始剤（０．１５ｇ）を透明なガラス瓶内で組み合わせて混合することによって調製した。試料を窒素で５分間パージし、約２０００センチポアズの粘度が達成されるまで、３６０ｎｍのＵＶ光からの低強度（０．３ｍＷ／ｃｍ^２）のＵＶ照射に曝露した。粘度測定値は、２３℃かつ５０ｓ^－１のせん断速度でＬＶ Ｓｐｉｎｄｌｅ ＃６３（ＡＭＥＴＥＫ Ｂｒｏｏｋｆｉｅｌｄ（Ｍｉｄｄｌｅｂｏｒｏ，ＭＡ））を有するＢｒｏｏｋｆｉｅｌｄ ＬＶＤＶ－ＩＩ＋ Ｐｒｏ Ｖｉｓｃｏｍｅｔｅｒを使用して判定した。ＩＲＧＡＣＵＲＥ－６５１光開始剤（１．１２５ｇ）及びヘキサンジオールジアクリレート（２．７ｇ、Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏｍｐａｎｙ）を瓶に添加し、混合物を２４時間混合した。得られた粘稠なポリマー溶液を、シリコーン処理したポリエステル剥離ライナー（ＲＦ０２Ｎ及びＲＦ２２Ｎ、ＳＫＣ Ｈａａｓ（Ｓｅｏｕｌ，Ｋｏｒｅａ）から入手）間に、設定ギャップを有するナイフコータを使用してコーティングして、１００ミクロンの接着剤コーティング厚さを得た。この構造を、総線量１２００ｍＪ／ｃｍ^２のＵＶＡ放射線を使用して３５０ｎｍのＵＶ照射で照射して、最終的なＰＳＡフィルムを準備した。

そのＰＳＡフィルムを、実施例１（表１）の微細構造特徴部を有する線形プリズムフィルムシートの裏面（すなわち、非微細構造化表面）に適用した。得られた積層フィルムを試験ストリップ［１インチ×３インチ（２．５４ｃｍ×７．６２ｃｍ）］に切断した。試験ストリップを、ハンドローラを使用して表面が平坦ガラス及びポリプロピレンパネルに適用した。パネルを１２０℃で４時間コンディショニングし、次いで室温に平衡化した。試験ストリップを、手でパネル表面から剥離した。試験ストリップの除去に続いて、パネル表面を目視検査し、試験ストリップの残留物は、いずれのパネル表面においても観察されなかった。

実施例１７
金属ツールをラミネータと共に使用して、実施例３の寸法を有する図３の線形プリズムフィルムを作成した。３Ｍ Ｔａｐｅ Ｐｒｉｍｅｒ ９４（３Ｍ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから入手）の層を、ブラシを使用して、ＶＩＶＡＫ ＰＥＴ－Ｇシート（３０ｃｍ×３０ｃｍ、シート厚さ＝２．１ｍｍ）の片面の中心部（１２ｃｍ×１３ｃｍ）に適用した。次いで、そのプライマー層を室温で５分間乾燥させた。同じ方法で２つ目のプライマー層を適用し、続いて乾燥させた。ＵＶ硬化性樹脂（上記）をピペットでツールに適用し、ディスクのプライマー処理された表面がツールに面し、ツールがシートの中央に置かれた状態で、ツールを覆うようにＰＥＴ－Ｇディスクを置いた。ディスクを、５０ｐｓｉｇのニップ圧力設定及び０．５２フィート／分（０．１６メートル／分）の速度設定を有するラミネータを使用して積層した。試料を、窒素雰囲気下で１５．２メートル／分（５０フィート／分）の速度でＵＶプロセッサ（ＲＰＣ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓから入手した、２つのＨｇ蒸気ランプを備えたモデルＱＣ １２０２３３ＡＮ）に３回通過させることにより、試料をＵＶ光で硬化させた。

得られた積層された微細構造化フィルムシートを、Ｍｏｄｅｌ Ｃ２２－Ｓ ＭＡＡＣ Ｔｈｅｒｍｏｆｏｒｍａｒ（ＭＡＡＣ Ｍａｃｈｉｎｅｓ（Ｃａｒｏｌ Ｓｔｒｅａｍ，ＩＬ））を使用して熱成形した。テンプレートモデルは、並んで配置された２つの手動レンチからなっていた。一方のレンチは、調整可能な三日月レンチ（全長１１０ｍｍ）であり、他方のレンチは、全長１２５ｍｍの７／１６インチのコンビネーションレンチ（開放端及びボックス端）であった。シートをホルダーに入れ、浸漬時間１００～１１０秒、上部及び底部加熱器出力５５％、及び真空３０ｍｍＨｇで熱成形サイクルを開始した。微細構造化表面がレンチテンプレートから離れる方を向くような状態でシートの微細構造化部分がレンチテンプレートと位置合わせされるように、シートを方向付けた。シートは、レンチを覆うように高忠実度でコンフォーマルに形成された。熱成形された熱可塑性物品をテンプレートから分離して、Ｋｅｙｅｎｃｅ ＶＫ－Ｘ ２００シリーズレーザー顕微鏡（Ｋｅｙｅｎｃｅ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）を使用して物品の微細構造体を検査及び測定した。微細構造体は、それらの形状、及びそれらの山部高さの名目上６０％を保持していた。

実施例１８
ＵＶ硬化性樹脂を、ＰＨＯＴＯＭＥＲ ６２１０脂肪族ウレタンジアクリレートオリゴマー（７５部）、ＳＲ２３８ １，６－ヘキサンジオールジアクリレート（２５部）、及びＬＵＣＩＲＩＮ ＴＰＯ光開始剤（０．５％）から調製した。構成成分を高速ミキサーでブレンドし、約７０℃のオーブン内で２４時間加熱し、次いで室温に冷却した。銅ボタンを、キューブコーナー微細構造化フィルムを調製するためのテンプレートとして使用した。ボタン及び配合樹脂を両方とも約７０℃のオーブン内で１５分間加熱した。加温した樹脂を、トランスファーピペットを使用して、加温したボタンの中心に適用した。ボタンよりも大きいＭＥＬＩＮＥＸ ６１８ ＰＥＴ支持フィルム（厚さ５ミル）の断片を、適用された樹脂を覆うように置き、続いてガラスプレートを置いた。ＰＥＴフィルムのプライマー処理された表面を、樹脂と接触するように方向付けた。樹脂がボタンの表面を完全に覆うまで、ガラスプレートを手で押して所定の位置に保持した。ガラスプレートを慎重に取り外した。気泡が入った場合、ゴムハンドローラを使用してそれらを除去した。

試料を、窒素雰囲気下で１５．２メートル／分（５０フィート／分）の速度でＵＶプロセッサ（ＲＰＣ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ（Ｐｌａｉｎｆｉｅｌｄ，ＩＬ）から入手した、２つのＨｇ蒸気ランプを備えたモデルＱＣ １２０２３３ＡＮ）に２回通過させることにより、試料をＵＶ光で硬化させた。硬化した微細構造化フィルムを、９０°の角度でそっと引き離すことによって、銅テンプレートから取り外した。微細構造化表面は、図４Ａに示されるような傾斜したキューブコーナー構造の配列を有していた。図４Ｃを参照すると、個々のキューブコーナー微細構造の寸法は以下のとおりであった：三角形底部が、７０／５５／５５度（ベータ１、２、３）；側壁角度アルファ２、アルファ３、アルファ１がそれぞれ、６０、６０、８９度；山部高さが、６３．３マイクロメートル；谷部幅が、１２７マイクロメートル及び１４５マイクロメートル。テンプレートとして利用される銅ボタンは、この微細構造化表面のネガ型複製を有していた。

実施例１９
圧縮成形を使用して、実施例１について報告されたものと同じ微細構造化特徴寸法を有する線形プリズム微細構造化表面を有する、Ｇ－１０エポキシ積層体のシートを調製した。微細構造化表面のネガ型複製を有する金型を、３Ｍ ＥＳＰＥ ＰＡＲＡＤＩＧＭ Ｈｅａｖｙ Ｂｏｄｙ ＶＰＳ印象材（３Ｍ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）を使用してマスターから作製した。金型（１５．２ｃｍ×１５．２ｃｍ）を平坦な厚紙の断片上に配置した。Ｇ１０ Ｅｐｏｘｙ Ｆｉｂｅｒｂｏａｒｄの２枚のシート（１２．７ｃｍ×１２．７ｃｍ）を積み重ねて、金型の中心に置いた。シリコーンの平坦で平滑なシート（約１．２７ｃｍ）をそれらのエポキシシートの上に置き、平坦なステンレス鋼プレート（厚さ約２．５４ｃｍ）をそのシリコーンシートの上に置いた。完成した積層物を、液圧プレスの下部プラテン上に置いた。プレスの上部及び下部プラテンを３００°Ｆ（１４８．９℃）で加熱し、積層物を２５００ポンドの圧力（１平方インチ当たり１００ポンドの圧力）下に１時間置いた後、積層物への圧力を維持しながらプラテンを７０°Ｆ（２１．１℃）に冷却した。冷却後、加えた圧力を取り除いた。得られた微細構造化Ｇ－１０エポキシシートを金型及びシリコーンスペーサから外した。

実施例２０
圧縮成形を使用して、実施例１９において報告された手順にしたがってキューブコーナー微細構造化表面を有するＧ－１０エポキシ積層体のシートを調製した。実施例１８に記載された微細構造化表面のネガ型複製を有する金型を、３Ｍ ＥＳＰＥ ＰＡＲＡＤＩＧＭ Ｈｅａｖｙ Ｂｏｄｙ ＶＰＳ印象材を使用してマスターから作製した。

実施例２１
金属ツールを用いた圧縮成形を使用して、キューブコーナー微細構造化表面を有するＧ－１０エポキシ積層体のシートを調製した。

ケイ素含有層を、平行板容量結合プラズマ反応器を使用して、国際公開第２００９／０３２８１５号（Ｄａｖｉｄ）に記載されているように、ツールの微細構造化表面に適用した。反応器のチャンバは、３．６１ｆｔ^２（０．１０ｍ^３）の表面積を有する中央円筒型被電力供給電極を有していた。微細構造化ツールを被電力供給電極の真下のチャンバの床に置き（ツールと電極との間の公称距離約４インチ（１０．１６ｃｍ））、反応器チャンバを１．３Ｐａ（１ｍＴｏｒｒ）未満のベース圧力までポンプダウンした。酸素を、６００ＳＣＣＭの流量（１分当たりの標準立方センチメートル）でチャンバに導入した。ＲＦ電力を１３．５６ＭＨｚの周波数及び６００ワットの印加電力で６０秒間反応器中に結合することにより処理が実施された。微細構造上に薄膜を堆積させる第２のステップは、酸素の流れを停止し、ＨＭＤＳＯ（ヘキサメチルジシロキサン）を蒸発させて、１２０ＳＣＣＭの流量でシステム内に輸送することによって達成された。ＲＦ電力を１３．５６ＭＨｚの周波数及び６００ワットの印加電力で１２０秒間反応器内に結合することによって、プラズマ化学気相成長（ＣＶＤ）法を用いて処理を行った。第２のステップの完了後、ＨＭＤＳＯの１２０ＳＣＣＭの流れに加えて、ＨＭＤＳＯの第２のラインをチャンバに開放した。合わせた流量は、４．１ｍＴｏｒｒのチャンバ圧力をもたらした。ＲＦ電力を１３．５６ＭＨｚの周波数及び２００ワットの印加電力で４５秒間反応器中に結合することにより処理が実施された。プロセス条件により、２００ｎｍ未満の推定厚さを有する剥離コーティングがもたらされた。ステップごとに、記載されたガス流が安定した後に、電極にｒｆ電力を印加してプラズマを生成した。プラズマ処理の完了に引き続いて、ＲＦ電力及びガスの供給を停止し、チャンバを大気圧に戻した。

金属ツール（１５．２ｃｍ×１５．２ｃｍ）を平坦な厚紙の断片上に配置した。Ｇ１０ Ｅｐｏｘｙ Ｆｉｂｅｒｂｏａｒｄの２枚のシート（１２．７ｃｍ×１２．７ｃｍ）を積み重ねて、金型の中心に置いた。シリコーンの平坦で平滑なシート（厚さ約１．２７ｃｍ）をそれらのエポキシシートの上に置き、平坦なステンレス鋼プレート（厚さ２．５４ｃｍ）をそのシリコーンシートの上に置いた。完成した積層物を、液圧プレスの下部プラテン上に置いた。プレスの上部及び下部プラテンを３００°Ｆ（１４８．９℃）で加熱し、積層物を２５００ポンドの圧力（１平方インチ当たり１００ポンドの圧力）下に１時間置いた後、積層物への圧力を維持しながらプラテンを７０°Ｆ（２１．１℃）に冷却した。冷却後、加えた圧力を取り除いた。得られた微細構造化Ｇ－１０エポキシシートを金型及びシリコーンスペーサから外した。微細構造化表面は、図４Ａに示されるような傾斜したキューブコーナー構造の配列を有していた。図４Ｃを参照すると、個々のキューブコーナー微細構造の寸法は以下のとおりであった：三角形底部が、５８／５８／６４度（ベータ１、２、３）；側壁角度がそれぞれ、６７、６７、７７度；山部高さが、４９．５マイクロメートル；谷部幅が、１０１．６マイクロメートル及び１０７．７マイクロメートル。

比較例Ｂ
微細要素金型を、積層物における第２の平坦で平滑なシリコーンシートに置き換えたことを除いて、Ｇ－１０エポキシ積層体の平坦で平滑なシートを実施例１９に記載されたものと同じ圧縮成形プロセスに供給した。これにより、平滑な表面を有するエポキシシート（すなわち、パターン化された微細構造化表面を有さないフィルム）が形成された。

実施例２２
実施例１９及び比較例Ｂのディスク（１２．７ｍｍ）を実施例９に記載の手順に従って調製し、洗浄し、分析した。平均ｌｏｇ_１０ｃｆｕカウントを、ディスクを洗浄することによって達成された計算されたｌｏｇ_１０ｃｆｕ減少値と共に表９に報告する。

実施例２３．微生物接触移動の減少
Ｔｒｙｐｔｉｃ Ｓｏｙ Ａｇａｒを、製造業者の指示に従って調製した。緑膿菌（ＡＴＣＣ １５４４２）又は黄色ブドウ球菌（ＡＴＣＣ ６５３８）のストリークプレートを、Ｔｒｙｐｔｉｃ Ｓｏｙ Ａｇａｒの凍結ストックから調製して、３７℃で一晩インキュベートした。プレートからの２つのコロニーを使用して、９ｍＬの滅菌バターフィールド緩衝液（３Ｍ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）に接種した。光学密度（吸光度）を６００ｎｍで読み取り、読み取り値が０．０４０±０．０１０であることを確認した。必要に応じて、培養物をこの範囲内になるように調整した。培養物の一部（１．５ｍＬ）を滅菌５０ｍＬコニカルチューブ中のバターフィールド緩衝液４５ｍＬに添加して、接触移動実験用の接種溶液を作製した。接種溶液の連続希釈試料を、バターフィールド緩衝液を使用して調製した。希釈試料を３Ｍ ＰＥＴＲＩＦＩＬＭ Ａｅｒｏｂｉｃ Ｃｏｕｎｔプレート（３Ｍ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）にプレーティングし、製造業者の指示に従って評価し、各実験で使用した細胞濃度を確認した。

実施例１、２、１８、１９、及び２０の微細構造化試料（５０ｍｍ×５０ｍｍ）を調製し、両面テープを使用して滅菌１００ｍｍペトリ皿の内部底面に個別に接着した。各ペトリ皿には１つの試料が入っており、試料は、微細構造化表面が露出されるように取り付けられていた。対応する比較例Ａ及びＢの試料も試験し、対照試料としての役目を果たした。比較例Ａの試料は、実施例１、２、及び１８の微細構造化試料の対照試料としての役目を果たした。比較例Ｂの試料は、実施例１９及び２０の微細構造化試料の対照試料としての役目を果たした。各微細構造化試料及び対照試料の露出表面を、９５％イソプロピルアルコール溶液で湿潤させたＫＩＭＷＩＰＥ拭き取り布（Ｋｉｍｂｅｒｌｙ－Ｃｌａｒｋ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｉｒｖｉｎｇ，ＴＸ））を使用して３回拭き取った。試料を、ファンをオンにした状態で、ＢｉｏＳａｆｅｔｙ Ｃａｂｉｎｅｔ内で１５分間風乾した。次いで、ＵＶ光による照射を使用して、キャビネット内で試料を３０分間滅菌した。

接種溶液（上記の黄色ブドウ球菌又は緑膿菌のいずれか２５ｍＬ）を滅菌ペトリ皿（１００ｍｍ）に注いだ。試料ごとに、オートクレーブ滅菌したＷｈａｔｍａｎ Ｆｉｌｔｅｒ Ｐａｐｅｒ（グレード２、直径４２．５ｍｍ；ＧＥ Ｈｅａｌｔｈｃａｒｅ（Ｍａｒｂｏｒｏｕｇｈ，ＭＡ））の円形ディスクを、火炎滅菌したピンセットを使用して掴み、接種溶液が入ったペトリ皿に５秒間浸した。その紙を取り出し、２５秒間皿の上方で保持して、余分な接種菌液を紙から排出させた。接種した紙ディスクを微細構造化試料の上に置き、新しいオートクレーブ滅菌されたＷｈａｔｍａｎ Ｆｉｌｔｅｒ紙（グレード２、６０×６０ｍｍ）を、その接種した紙ディスクを覆うように置いた。滅菌したコンラージ棒をその積層物の上部紙表面に押し付けて、表面を横切るように垂直方向に２回移動させた。積層物を２分間維持した。次いで、滅菌ピンセットを使用して、両方のフィルタ紙片を微細構造化試料から取り外した。試料を室温で５分間風乾させた。各試料の微細構造化表面からの細菌の接触移動を、ＲＯＤＡＣプレート（Ｔｒｙｐｔｉｃａｓｅ Ｓｏｙ Ａｇａｒ ｗｉｔｈ Ｌｅｃｉｔｈｉｎ ａｎｄ Ｐｏｌｙｓｏｒｂａｔｅ ８０；Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ製）を均一な圧力（約３００ｇ）で５秒間フィルム試料に均等に押し付けることによって評価した。ＲＯＤＡＣプレートを３７℃で一晩インキュベートした。インキュベーション期間に続いて、プレートごとにコロニー形成単位（ｃｆｕ）をカウントした。試料を３回試験し、平均カウント値を報告した。

ＲＯＤＡＣプレートごとの平均ｃｆｕカウントをｌｏｇ_１０スケールに変換した。接触移動によるｃｆｕカウントのｌｏｇ_１０減少値を、対応する対照試料（平滑表面を有する試料）で得られたｌｏｇ_１０カウント値から微細構造化試料で得られたｌｏｇ_１０カウント値を差し引くことによって決定した。接触移動の平均減少％（ｎ＝３）を、式Ａによって計算した。結果を表１０に報告する。

式Ａ：接触移動の減少％＝（１－１０^{（－ｌｏｇ} _１０ ^減少値））×１００

実施例２４．
３Ｍ Ｔａｐｅ Ｐｒｉｍｅｒ ９４（３Ｍ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから入手）の層を、ＤＵＲＡＮ ＰＥＴ－Ｇディスクの片面の表面全体にブラシを使用して適用した（ディスク直径＝１２５ｍｍ、ディスク厚さ＝０．７５ｍｍ）。次いで、そのプライマー層を室温で５分間乾燥させた。

金属ツールをラミネータと共に使用して、キューブコーナー特徴部を有する微細構造化表面を作成した。ＵＶ硬化性樹脂（上記）をピペットでツールに適用した。コーティングされたツールを真空オーブンに入れ、オーブン内の圧力を６３５ｍｍＨｇまでゆっくりと下げた。この真空が達成されると、圧力を上昇させて大気圧まで戻した。ＰＥＴ－Ｇディスクを、ディスクのプライマー処理された表面がツールに面した状態で、ツールを覆うように置いた。ディスクを、５０ｐｓｉｇのニップ圧力設定及び０．５２フィート／分（０．１６メートル／分）の速度設定を有するラミネータを使用して積層した。試料を、窒素雰囲気下で１５．２メートル／分（５０フィート／分）の速度でＵＶプロセッサ（ＲＰＣ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓから入手した、２つのＨｇ蒸気ランプを備えたモデルＱＣ １２０２３３ＡＮ）に３回通過させることにより、試料をＵＶ光で硬化させた。ディスクをツールから慎重に取り外した。微細構造化表面は、図４Ａに示されるような傾斜したキューブコーナー構造の配列を有していた。図４Ｃを参照すると、個々のキューブコーナー微細構造の寸法は、以下のとおりであった：三角形底部が、７０／５５／５５度（ベータ１、２、３）；側壁角度アルファ２、アルファ３、アルファ１がそれぞれ、６０、６０、８９度；山部高さが、６３．５マイクロメートル；谷部幅が、１２７マイクロメートル及び１７８マイクロメートル。金属ツールは、微細構造化表面のネガ型複製を有していた。

積層された微細構造化ディスクを、ＢＩＯＳＴＡＲ ＶＩ圧力成形機（Ｓｃｈｅｕ－Ｄｅｎｔａｌ ＧｍｂＨ）を使用して、歯科アライナ物品に形成した。微細構造化ディスクを３０秒間加熱し、次いで剛性ポリマーモデルを覆うように引っ張った。微細構造化表面が、モデルと接触するようにフィルムを方向付けた。フィルムの後ろの成形機のチャンバを冷却しながら３０秒間にわたって９０ｐｓｉに加圧し、次いでチャンバを通気して周囲圧力に戻した。熱成形されたフィルムと共にモデルを成形機から取り出し、超音波カッター（モデル ＮＥ８０、Ｎａｋａｎｉｓｈｉ Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ（Ｋａｎｕｍａ Ｃｉｔｙ，Ｊａｐａｎ））を使用して余分なフィルムをトリミングした。完成した熱成形された三次元シェルをモデルから分離した。形成された三次元シェルの微細構造体を、Ｋｅｙｅｎｃｅ ＶＫ－Ｘ２００シリーズレーザー顕微鏡（Ｋｅｙｅｎｃｅ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｉｔａｓｃａ，ＩＬ））を使用して検査及び測定した。キューブコーナー微細構造は、それらの形状、及びそれらの山部高さの名目上８０％を保持していた。

比較例Ｄ．方形波状微細構造化フィルム
ダイヤモンド（先端幅２９．０マイクロメートル、夾角３°、深さ８７マイクロメートル）を使用して、複数の平行線状溝を有するツールが切断された。溝同士は、５９．１マイクロメートルのピッチで間隔が空けられた。樹脂Ａを、以下の表１１の材料を混合することによって調製した。

上記の樹脂Ａ及びツールを使用して鋳造及び硬化高精細プロセスが実施された。ライン条件は、樹脂温度１５０°Ｆ（６５．５℃）、ダイ温度１５０°Ｆ（６５．５℃）、コータＩＲ１２０°Ｆ（４８．９℃）縁部／１３０°Ｆ（５４．４℃）中心部、ツール温度１００°Ｆ（３７．８℃）、及びライン速度７０ｆｐｍであった。ピーク波長が３８５ｎｍのＦｕｓｉｏｎ Ｄランプ（Ｆｕｓｉｏｎ ＵＶ Ｓｙｓｔｅｍｓ（Ｇａｉｔｈｅｒｓｂｕｒｇ，ＭＤ）から入手）を硬化に使用し、１００％の電力で操作した。得られた微細構造化フィルムは、図２に示されているように、チャネルによって分離された複数の壁を備えていた。ベース層は、３ミル（７６．２マイクロメートル）の厚さを有するＰＥＴフィルム（３Ｍ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）であった。樹脂と接触したＰＥＴフィルムの側を、熱硬化性アクリルポリマー（Ｄｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ（Ｍｉｄｌａｎｄ，ＭＩ）から入手したＲｈｏｐｌｅｘ ３２０８）でプライマー処理した。硬化した樹脂のランド層は、８マイクロメートルの厚さを有していた。図２を参照すると、得られた微細構造化フィルム表面の寸法は、以下のとおりであった：壁高（Ｈ）８４．１マイクロメートル、側壁角度０．４度、ピッチ５９．１マイクロメートル、壁の上面の幅２８．５マイクロメートル、及び最大谷部幅３０．６マイクロメートル。

比較例Ｄ及び比較例Ａのディスク（１２．７ｍｍ）を実施例９に記載の手順に従って調製し、洗浄し、分析した。平均ｌｏｇ_１０ｃｆｕカウントを、ディスクを洗浄することによって達成された計算されたｌｏｇ_１０ｃｆｕ減少値と共に表１２に報告する。

比較例Ｅ及び比較例Ｆ．方形波状微細構造化フィルム
比較例Ｄに記載されている手順に従い、異なる寸法を有する２つの方形波状微細構造化フィルムを生成した。比較例Ｅの微細構造化フィルムは、以下の表面寸法を有していた：壁の高さ（Ｈ）８９．５マイクロメートル、側壁角度１．４度、ピッチ６２．３マイクロメートル、壁の上面の幅２８．８マイクロメートル、及び最大谷部幅３３．３マイクロメートル。比較例Ｆの微細構造化フィルムは、以下の表面寸法を有していた：壁の高さ（Ｈ）４５マイクロメートル、側壁角度０．４８度、ピッチ３０マイクロメートル、壁の上面の幅１５マイクロメートル、及び最大谷部幅１５マイクロメートル。

微細構造化フィルムの試料を、実施例２３に記載の手順に従って、微生物接触移動の減少について（黄色ブドウ球菌を使用して）評価した。比較例Ｅの微細構造化フィルムの微生物接触移動の平均減少率は、２５～３７％であった。比較例Ｆの微細構造化フィルムは、対応する対照試料と比較して、微生物接触移動の平均１０％増加を示した。

実施例２５
実施例１（表１）について報告された寸法と同じ寸法を有する線形プリズム微細構造化表面を有するＳＣＯＴＣＨＣＡＬビニルグラフィックフィルム（＃ＩＪ４０、３Ｍ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから入手）のシートをニッケルツールを用いた圧縮成形を使用して調製した。

Ｓｃｏｔｃｈｃａｌグラフィックフィルムの断片（１２．７ｃｍ×１２．７ｃｍ）を、３ミルのＰＥＴフィルムに接着積層した。ニッケルツール（１５．２ｃｍ×１５．２ｃｍ）をテフロンシート上に置いた。積層されたグラフィックフィルムを、ツールの中心に置き、グラフィックフィルムの表面がツールに面するように方向付けた。シリコーンの平坦で平滑なシート（厚さ約１．２７ｃｍ）をグラフィックフィルムを覆うように置き、平坦なステンレス鋼プレート（厚さ２．５４ｃｍ）をそのシリコーンシートの上に置いた。完成した積層物を、液圧プレスの下部プラテン上に置いた。プレスの上部及び下部プラテンを３５０°Ｆ（１７６．７℃）で加熱し、積層物を２０００ポンドの圧力（１平方インチ当たり８０ポンドの圧力）下に１０分間置いた後、積層物への圧力を維持しながらプラテンを７０°Ｆ（２１．１℃）に冷却した。冷却後、加えた圧力を取り除いた。得られた微細構造化シートをツール及びシリコーンスペーサから外した。得られた微細構造化フィルムの試料を、実施例２３に記載の手順に従って、微生物接触移動の減少について評価した。微細構造化フィルムの微生物接触移動の平均減少率は、９５％であった。洗浄後の微生物のｌｏｇ１０減少値は、実施例１と同様になる。

実施例２６
ＳＣＯＴＣＨＣＡＬビニルオーバーラミネートフィルム（＃８５０８、厚さ２．３ミル、３Ｍ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから入手）をＳＣＯＴＣＨＣＡＬビニルグラフィックフィルムの代わりに使用したことを除いて、実施例２５で報告したのと同じ手順に従った。得られた微細構造化フィルムの試料を、実施例２３に記載の手順に従って、微生物接触移動の減少について評価した。微細構造化フィルムの微生物接触移動の平均減少率は、８４％であった。

実施例２７．液体消毒剤の表面被覆率
実施例１、実施例２０、及び比較例Ａの微細構造化フィルムの試料（７．６ｃｍ×２０．３ｃｍのストリップ）を、Ｅｌｃｏｍｅｔｅｒ Ｍｏｄｅｌ １７２０ Ａｂｒａｓｉｏｎ ａｎｄ Ｗａｓｈａｂｉｌｉｔｙ Ｔｅｓｔｅｒ（ＥＬＣＯＭＥＴＥＲ Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ）の洗浄レーンに接着して取り付けた。更に、キューブコーナー微細構造化フィルム（実施例２７ａ）を、実施例２０に従って個々のキューブコーナー微細構造が以下の寸法を有するように調製した：三角形底部が、６０／６０／６０度（ベータ１、２、３）；側壁角度アルファ２、アルファ３、アルファ１が、４５、４５、４５度；山部高さが、９マイクロメートル；谷部幅が、２７．７マイクロメートル及び２７．７マイクロメートル。実施例２７ａの対応する試料ストリップも、装置の洗浄レーンに取り付けた。各レーンには、１つの試験試料が入っていた。微細構造化試料については、微細構造化表面を、反対側の非微細構造化表面を洗浄レーンに取り付けた状態で、露出させた。実施例１の微細構造化フィルムについては、一部の試料を、フィルム表面の微細構造化チャネルがキャリッジの動きと同じ方向（平行方向）に方向付けられるようにして装置内に置き、その他の試料を、フィルム表面の微細構造化チャネルがキャリッジの動きに垂直な方向に方向付けられるようにして装置内に置いた。

試験では２つの異なる湿らせた拭き取り布を使用した。第１の湿らせた拭き取り布は、０．０２５％のクリスタルバイオレット染料（Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏｍｐａｎｙから入手）を含有したイソプロピルアルコール（７０％）の水溶液に浸漬したＳＯＮＴＡＲＡ ８０００不織布（５．１ｃｍｘ１２．７ｃｍ）であった。第２の湿らせた拭き取り布は、０．０２５％のクリスタルバイオレット染料を含有したイソプロピルアルコール（７０％）の溶液に浸漬した、紙タオル（Ｋｉｍｂｅｒｌｙ－Ｃｌａｒｋ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｉｒｖｉｎｇ，ＴＸ）から入手したＷｙｐＡＬＬ Ｌ３０ Ｇｅｎｅｒａｌ Ｐｕｒｐｏｓｅ Ｗｉｐｅｒの５．１ｃｍｘ１２．７ｃｍの断片）であった。各拭き取り布から液体を手で絞ることによって、全ての拭き取り布から余分な液体を除去した。それぞれの湿らせた拭き取り布をＵｎｉｖｅｒｓａｌ Ｍａｔｅｒｉａｌ Ｃｌａｍｐ Ｔｏｏｌ（４５０ｇ）の周りに固定し、このツールを装置のキャリッジに取り付けた。装置を、６０サイクル／分の速度で１５キャリッジサイクルで動作するように設定した（総時間＝１５秒）。

試験の完了後、各試料の表面の画像を１分後及び３分後に撮影し、試料表面上の染料の被覆率を判定した。カラー画像を８ビットに変換し、各画像の３つのランダムに選択された２００×２００画素領域を分析した。閾値を設定し、染料で覆われた表面積パーセントを、オープンソース画像処理ソフトウェアＩｍａｇｅＪ（ＮＩＨ、Ｂｅｔｈｅｓｄａ、ＭＤ、ｈｔｔｐｓ：／／ｉｍａｇｅｊ．ｎｉｈ．ｇｏｖ／ｉｊ／）を使用して測定した。結果を、染料で覆われた試験試料表面のパーセントとして表１３及び表１４に報告した。ここで、１００％とは、染料が試験試料表面を完全に覆っていることを表す。報告値は、３つの分析領域から計算された平均値である。

実施例２８．液体消毒剤の表面被覆率
湿らせた拭き取り布を調製するために別の消毒剤溶液を使用したことを除いて、実施例２７で報告された手順と同じ手順に従った。消毒剤溶液は、０．０２５％のクリスタルバイオレット染料を含有した３Ｍ Ｄｉｓｉｎｆｅｃｔａｎｔ Ｃｌｅａｎｅｒ ＲＣＴ Ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｅ ４０Ａ（第４級アンモニウム系洗浄剤）の希釈水溶液（１：２５６）であった。第１の湿らせた拭き取り布は、消毒剤溶液に浸漬したＳＯＮＴＡＲＡ ８０００不織布（５．１ｃｍ×１２．７ｃｍ）であった。第２の湿らせた拭き取り布は、消毒剤溶液に浸漬した紙タオル（ＷｙｐＡＬＬ Ｌ３０ Ｇｅｎｅｒａｌ Ｐｕｒｐｏｓｅ Ｗｉｐｅｒの５．１ｃｍ×１２．７ｃｍ断片）であった。各拭き取り布から液体を手で絞ることによって、全ての拭き取り布から余分な液体を除去した。結果を表１５及び表１６に示す。

実施例２９
実施例１について説明した手順に従って、様々な寸法を有する３つの異なる線形プリズム微細構造化フィルムを調製した。３つのフィルムの寸法を、表１７に報告する。実施例１及び比較例Ａの試料と共にそれらの３つのフィルムの試料を、実施例９に記載の手順に従って評価した。全ての微細構造化フィルムが、比較例Ａについて観察されたものよりも約１．５ｌｏｇ大きいｌｏｇ_１０ｃｆｕカウント減少を示した。

実施例３０
緑膿菌を接種した実施例１、実施例２、及び比較例Ａのディスク（１２．７ｍｍ）を、方法「最終乾燥工程付きの試料ディスク接種、インキュベーション、及び洗浄方法」（上記）に記載されたように調製した。不織布シートとしてＳＯＮＴＡＲＡ ８０００を使用して、「試料ディスク洗浄手順Ａ」（上記）に従ってディスクを洗浄した。洗浄したディスクを「試料ディスクコロニーカウント方法Ａ」（上記）に従って分析した。平均ｌｏｇ_１０ｃｆｕカウントを、ディスクを洗浄することによって達成された計算されたｌｏｇ_１０ｃｆｕ減少値と共に表１８に報告する。

Claims (46)

1. フィルムであって、
   平坦なベース層上に配置された微細構造化表面であって、山部構造及び隣接する谷部を含み、前記谷部が、１０ミクロン～２５０ミクロンの範囲の最大幅を有し、前記山部構造が、１０度を超える側壁角度を有する、微細構造化表面と、
   前記フィルムの反対の面上に感圧接着剤と、を備える、フィルム。
2. 隣接する山部構造同士が、少なくとも一方向において前記平坦なベース層の近傍で相互に接続している、請求項１に記載のフィルム。
3. 前記山部構造が、２つ以上のファセットを含む、請求項１又は２に記載のフィルム。
4. 前記ファセットが、同じ方向に連続した又は半連続した表面を形成している、請求項３に記載のフィルム。
5. 前記微細構造化表面が、プリズムの直線配列、又は好適形状キューブコーナー要素を含むキューブコーナー要素の配列を含む、請求項１～４のいずれか一項に記載のフィルム。
6. 山部構造が、鋭利な頂上、丸みを帯びた頂上、又は切頭状頂上を有する、請求項３～５のいずれか一項に記載のフィルム。
7. 前記山部構造が、２０～１２０度の範囲の頂角を有する、請求項１～６のいずれか一項に記載のフィルム。
8. 前記山部構造及び前記谷部が、前記平坦なベース層に平行な平坦な領域を含まない、又は、前記山部構造及び／又は前記谷部が切頭されており、前記微細構造化表面が前記平坦なベース層に平行な平坦な領域の５０、４０、３０、２０、又は１０％未満を有する、請求項７に記載のフィルム。
9. 前記谷部には、交差する壁がない、請求項１～８のいずれか一項に記載のフィルム。
10. 前記平坦なベース層及び前記山部構造が、同じ又は異なる材料を含む、請求項１～９のいずれか一項に記載のフィルム。
11. 前記平坦なベース層及び前記山部構造が、有機ポリマー材料を含む、請求項１に記載のフィルム。
12. 前記フィルム及び前記感圧接着剤が、透明、透光性、又は不透明である、請求項１～１１のいずれか一項に記載のフィルム。
13. 前記感圧接着剤が除去可能である、請求項１～１２のいずれか一項に記載のフィルム。
14. 請求項１～１３のいずれか一項に記載の前記フィルムを含む、テープ。
15. 洗浄時の微生物（例えば、細菌）除去が向上した表面を有する物品を提供する方法であって、
    物品上に微細構造化表面を提供する工程であって、前記微細構造化表面が、山部構造及び隣接する谷部の配列を備え、前記谷部が、１０ミクロン～２５０ミクロンの範囲の最大幅を有し、前記山部構造が、１０度を超える側壁角度を有する、工程を含む、方法。
16. 微細構造化表面が、請求項２～１２のいずれか一項に従って更に特徴付けられる、請求項１５に記載の方法。
17. 前記物品が、無菌インプラント型医療用物品でも、歯科矯正装置でも、歯列矯正ブラケットでもない、請求項１５又は１６に記載の方法。
18. 前記物品が、乗り物（例えば、自動車、バス、電車、飛行機、ボート）の内表面又は外表面又は構成要素、電子デバイスのハウジング又はケース、包装フィルム（例えば、食品用又は医療用製品用）、保護フィルム（例えば、食品調製用又は医療設備の表面用）、家具の表面又は構成要素、スイミングプールの表面又はライナーである、請求項１７に記載の方法。
19. 前記微細構造化表面が、重合可能物のコーティング、射出成形、エンボス加工、レーザーエッチング、押出、又は鋳造及び硬化によって前記物品上に提供される、請求項１５～１８のいずれか一項に記載の方法。
20. 請求項１～１３のいずれか一項に記載の前記フィルムを準備し、前記フィルムを前記感圧接着剤で前記物品に接着することによって、前記物品上に前記微細構造化表面が提供される、請求項１５～１８のいずれか一項に記載の方法。
21. 微細構造化表面を備えるベース部材を提供する工程であって、前記微細構造化表面が、複数の山部構造及び隣接する谷部を含み、前記谷部が、１０ミクロン～２５０ミクロンの範囲の最大幅を有し、前記山部構造が、１０度を超える側壁角度を有し、前記山部構造が、前記ベース部材よりも高い溶融温度を有する、工程と、
    前記山部構造の前記溶融温度未満の温度で前記ベース部材を物品に熱成形する工程と、
    を含む、物品を製造する方法。
22. 前記ベース部材が、熱可塑性材料又は熱硬化性材料を含む、請求項２１に記載の方法。
23. 前記山部構造が、架橋有機ポリマー材料を含む、請求項２１又は２２に記載の方法。
24. ベース部材及び前記ベース部材上に配置された微細構造化表面を備える物品であって、前記微細構造化表面が複数の山部構造及び隣接する谷部を含み、前記谷部が、１０ミクロン～２５０ミクロンの範囲の最大幅を有し、前記山部構造が、１０度を超える側壁角度を有する、物品。
25. 微細構造化表面が、請求項２～１２のいずれか一項に従って更に特徴付けられる、請求項２４に記載の物品。
26. 前記物品又は前記ベース部材が、医療用物品ではない、請求項２４又は２５に記載の物品。
27. 前記物品が、乗り物（例えば、自動車、バス、電車、飛行機、ボート）の表面又は構成要素、電子デバイスのハウジング又はケース、食品包装又は食品調製表面、生物医学的包装又は医療設備の表面、家具、ハンドルの表面又は構成要素、スイミングプール又は屋根材の表面又はライナー、子ども用物品である、請求項２４～２６のいずれか一項に記載の物品。
28. 感圧接着剤層が、前記ベース部材と前記微細構造化表面との間に配置されている、請求項２４～２６のいずれか一項に記載の物品。
29. 前記ベース部材が、熱可塑性材料又は熱硬化性材料を含む、請求項２４～２８のいずれか一項に記載の物品。
30. 前記山部構造が、架橋有機ポリマー材料を含む、請求項２９に記載の方法。
31. 前記微細構造化表面が洗浄後にもたらすことができる微生物（例えば、細菌）のｌｏｇ１０減少値が、少なくとも２、３、４、５、６、７、又は８である、請求項１～３０のいずれか一項に記載の物品又は方法。
32. 前記微細構造化表面が、微生物の接触移動の少なくとも２５、３０、３５、４０、４５、５０、６０、７０、８０、９０、９５、又は９９％減少をもたらす、請求項１～３１のいずれか一項に記載の物品又は方法。
33. 請求項１～３２のいずれか一項に記載の微細構造化表面を含む物品を準備する工程と、
    前記微細構造化表面を洗浄する工程と、
    を含む、物品を洗浄する方法。
34. 前記洗浄する工程が、
    ａ）前記微細構造化表面を織布材料又は不織布材料で拭き取る工程、
    ｂ）前記微細構造化表面をブラシでこする工程、
    ｃ）前記微細構造化表面に抗菌溶液を適用する工程、又は
    これらの工程の組み合わせを含む、請求項３３に記載の方法。
35. 環境に晒され、かつ、接触対象となる、又は人及び／若しくは動物と触れ合う表面を含む物品であって、前記表面が、山部構造及び隣接する谷部を含む微細構造化表面を含み、前記谷部が、１ミクロン～１０００ミクロンの範囲の最大幅を有する、物品。
36. 前記物品が、通常の使用中に洗浄される、請求項３５に記載の物品。
37. 前記山部構造が、１０度を超える側壁角度を有する、請求項３５又は３６に記載の表面。
38. 前記微細構造化表面又は前記物品が、請求項１～３７のいずれか一項によって更に特徴付けられる、請求項３５～３７のいずれか一項に記載の表面。
39. モールド面を備えるツールを準備する工程であって、前記モールド面が、山部構造及び隣接する谷部を含む微細構造化表面のネガ型複製であり、前記谷部が、１ミクロン～１０００ミクロンの範囲の最大幅を有する、工程と、
    前記ツールを用いてエポキシ樹脂材料を成形する工程と、
    を含む、物品を製造する方法。
40. 前記成形する工程が、硬化性エポキシ樹脂のシートを加熱及び圧縮成形する工程を含む、請求項３９に記載の方法。
41. 前記微細構造化表面が、請求項３６、１～１１のいずれか一項に従って更に特徴付けられる、請求項２７又は２８に記載の方法。
42. 前記物品が、請求項１７、２６～３２のいずれか一項によって更に特徴付けられる、請求項３９～４１のいずれか一項に記載の方法。
43. 前記微生物（例えば、細菌）が、洗浄前に湿っている又は乾いている、請求項３１に記載の物品又は方法。
44. 前記フィルムがグラフィックフィルムである、請求項１～４３のいずれか一項に記載のフィルム。
45. 前記微細構造化表面の少なくとも５０、６０、７０、８０、９０％が、洗浄溶液を前記微細構造化表面に適用した１～３分後に前記洗浄溶液を含んでいる、請求項１～４４のいずれか一項に記載の物品又は方法。
46. 前記微細構造化表面が、３より大きく９０未満であるＳｂｉ／Ｓｖｉを有する、請求項１～４５のいずれか一項に記載の物品又は方法。
    

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