JP2022520971A - 光散乱に基づく光学器械および器具に対する空気散乱基準 - Google Patents

光散乱に基づく光学器械および器具に対する空気散乱基準 Download PDF

Info

Publication number
JP2022520971A
JP2022520971A JP2021547729A JP2021547729A JP2022520971A JP 2022520971 A JP2022520971 A JP 2022520971A JP 2021547729 A JP2021547729 A JP 2021547729A JP 2021547729 A JP2021547729 A JP 2021547729A JP 2022520971 A JP2022520971 A JP 2022520971A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
illumination
air
intensity
scattered
volume portion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2021547729A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2020171991A5 (ja
Inventor
フランク リー
チン リー
チーウェイ スー
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
KLA Corp
Original Assignee
KLA Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by KLA Corp filed Critical KLA Corp
Publication of JP2022520971A publication Critical patent/JP2022520971A/ja
Publication of JPWO2020171991A5 publication Critical patent/JPWO2020171991A5/ja
Priority to JP2023219602A priority Critical patent/JP2024026532A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/27—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands using photo-electric detection ; circuits for computing concentration
    • G01N21/274—Calibration, base line adjustment, drift correction
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8806—Specially adapted optical and illumination features
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/47—Scattering, i.e. diffuse reflection
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/21—Polarisation-affecting properties
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8851—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/47—Scattering, i.e. diffuse reflection
    • G01N2021/4704—Angular selective
    • G01N2021/4728—Optical definition of scattering volume
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/47—Scattering, i.e. diffuse reflection
    • G01N2021/4792—Polarisation of scatter light
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8806—Specially adapted optical and illumination features
    • G01N2021/8822—Dark field detection
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/27—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands using photo-electric detection ; circuits for computing concentration
    • G01N21/274—Calibration, base line adjustment, drift correction
    • G01N21/278—Constitution of standards

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Abstract

空気散乱基準を利用する検査システム１００は、照明１０４のビームを生成するための１つ以上の照明源１０２と、照明１０４のビームを、検査室１１０の室の中に内包される空気の体積部分１０８内へと集束させるように構成される照明光学部品１０６と、空気の体積部分１０８から散乱された照明の一部分を収集するように構成される１つ以上の収集光学部品１１８と、１つ以上の収集光学部品１１８からの照明の収集された一部分を受けるように構成される検出器１２０と、制御器１２２であって、検出器１２０からの１つ以上の信号を受信することと、照明１０４のビームの状態を、１つ以上の時間において、空気の体積部分１０８から散乱された照明の強度または偏光のうちの少なくとも１つと、所定の空気散乱基準との間の比較に基づいて決定することとを行うための、プログラム命令１３０の一式を実行するように構成される、検出器１２０に通信可能に結合される、１つ以上のプロセッサ１２６を含む、制御器１２２とを含む。

Description

本発明は、一般的には、光学器械および器具に関し、より詳しくは、光散乱に対する基準に関する。
システム校正およびアライメントが、光学システムが適正に機能するために必要である。光学システムは、しばしば、散乱基準を利用して、器具を校正し、器具の安定性および健全性を監視し、光学アライメントを支援する。ｓｐｅｃｔｒａｌｏｎタイルおよびシリコンウェハ基準などの現在の散乱基準は、汚染の、可能性のある源を持ち込み、追加的なアライメントステップを要し、費用を増大し、電磁放射および環境にさらされることに起因して経時的に劣化する。
米国特許第６３２６６０８号
したがって、上記で確認された不足分に対処する、改善されたシステム校正を提供する、システムおよび方法を提供することが有利である。
空気散乱基準とともに使用するための検査システムが、本開示の１つ以上の例示的実施形態によって開示される。１つの実施形態において、検査システムは、照明のビームを生成するように構成される１つ以上の照明源を含む。別の実施形態において、検査システムは、照明のビームを、検査室（ｉｎｓｐｅｃｔｉｏｎ ｃｈａｍｂｅｒ）の室の中に内包される空気の体積部分（ｖｏｌｕｍｅ）内へと集束させるように構成される１つ以上の照明光学部品を含む。別の実施形態において、検査システムは、空気の体積部分から散乱された照明の一部分を収集するように構成される１つ以上の収集光学部品を含む。別の実施形態において、検査システムは、１つ以上の収集光学部品からの照明の収集された一部分を受けるように構成される検出器を含む。別の実施形態において、検査システムは、検出器に通信可能に結合される１つ以上のプロセッサを含む制御器を含む。別の実施形態において、１つ以上のプロセッサは、メモリ内に記憶されるプログラム命令の一式を実行するように構成される。別の実施形態において、プログラム命令の一式は、１つ以上のプロセッサに、空気の体積部分から散乱された照明の強度を指し示す、検出器からの１つ以上の信号を受信させるように構成される。別の実施形態において、プログラム命令の一式は、１つ以上のプロセッサに、照明のビームの状態を、１つ以上の時間において、空気の体積部分から散乱された照明の強度と、所定の強度基準との間の比較に基づいて決定させるように構成される。
空気散乱基準を利用する方法が、本開示の１つ以上の例示的実施形態によって開示される。１つの実施形態において、方法は、照明のビームを生成するステップを含む。別の実施形態において、方法は、照明のビームを、検査室の中に内包される空気の体積部分内へと集束させるステップを含む。別の実施形態において、方法は、空気の体積部分から散乱された照明の一部分を収集するステップを含む。別の実施形態において、方法は、検出器によって、１つ以上の収集光学部品からの照明の収集された一部分を検出するステップを含む。別の実施形態において、方法は、ビーム強度および／または偏光などの、照明のビームの状態を、１つ以上の時間において、空気の体積部分から散乱された照明の強度と、所定の強度基準との間の比較に基づいて決定するステップを含む。
上述の全体的な説明、および、後に続く詳細な説明の両方は、特許請求される本発明について、単に例示的および解説的であり、必ずしも限定的ではないということが理解されるべきである。本明細書に組み込まれ、本明細書の一部を組成する、添付図面は、本発明の実施形態を例示し、全体的な説明とともに、本発明の原理を解説する役目をする。
本開示の数多くの利点が、添付図への参照により、当業者により、より良好に理解され得る。
本開示の１つ以上の実施形態による、検査システムのブロック線図を例示する図である。 本開示の１つ以上の実施形態による、空気散乱強度の線図を例示する図である。 本開示の１つ以上の実施形態による、センサの二乗平均平方根雑音を例示する図である。 本開示の１つ以上の実施形態による、入射のＰ偏光される光による空気散乱を例示する図である。 本開示の１つ以上の実施形態による、入射のＳ偏光される光による空気散乱を例示する図である。 本開示の１つ以上の実施形態による、偏光を測定するための空気散乱の例を例示する図である。 本開示の１つ以上の実施形態による、偏光を測定するための空気散乱の例を例示する図である。 本開示の１つの実施形態による、検査システムにおいて照明のビームの状態を決定するための方法において実施されるステップを例示する流れ線図である。 本開示の１つの実施形態による、検査システムにおいて照明のビームの強度を決定するための方法において実施されるステップを例示する流れ線図である。 本開示の１つの実施形態による、検査システムにおいて照明のビームの偏光を決定するための方法において実施されるステップを例示する流れ線図である。
今から、添付図面において例示される、開示される主題に詳細に言及する。
図１ないし５、本開示による、空気散乱基準を利用して、散乱を監視および測定する、システムおよび方法を全体的に参照する。
本開示の実施形態は、空気散乱を、光学システムおよび器具に対する散乱基準として利用する。本開示の実施形態は、空気の体積部分からのビームの散乱に基づいて、照明のビームの強度および／または偏光を測定することを対象とする。本開示の実施形態は、光学システムをアライメント、校正、および／または監視するために使用され得る。例えば、検査室内に内包される空気の体積部分から散乱された照明が収集され得る。さらに、収集される、散乱された照明は、空気散乱基準（例えば、既知のビーム特性によって取得される散乱データ）と比較され得る。さらに、この比較に基づいて、ビームの１つ以上の状態（例えば、強度または偏光）が、時間の段階において決定され、または、時間の区域にわたって監視され得る。空気基準は、挿入可能な物理的物体がシステム内に取り付けられるということを要さないということが、本明細書において指摘される。
図１は、本開示の１つ以上の実施形態による、検査システム１００の概念的ブロック線図の視図を例示する。検査システム１００は、１つ以上の照明源１０２と、１つ以上の照明光学部品１０６と、１つ以上の収集光学部品１１８と、検出器１２０とを含み得る。
検査システム１００は、試料検査の技術において既知の、任意の検査構成で構成され得る。例えば、検査システム１００は、暗視野検査器具として構成され得るが、そのように構成されるように求められはしない。
１つ以上の照明源１０２は、試料検査の技術において既知の、任意の照明源を含み得る。１つの実施形態において、１つ以上の照明源１０２は、照明１０４の１つ以上のビームを生成するように構成される。例えば、１つ以上の照明源１０２は、赤外、可視、および／または紫外放射を生成するように構成され得る。１つの実施形態において、１つ以上の照明源１０２は、狭帯域光源を含む。例えば、１つ以上の照明源１０２は、レーザ源を含み得るが、それに制限されない。別の実施形態において、１つ以上の照明源１０２は、広帯域光源を含む。例えば、１つ以上の照明源１０２は、放電灯またはレーザ維持プラズマ（ＬＳＰ）光源を含むが、それらに制限されない。
１つ以上の照明光学部品１０６は、１つ以上の照明源１０２からの光を集束させる、方向設定する、フィルタ処理する、または他の形で調節するために使用される、試料検査の技術において既知の、任意の光学要素を含み得る。例えば、１つ以上の照明光学部品１０６は、後に続くもの：１つ以上のレンズ、１つ以上の鏡、１つ以上のフィルタ、１つ以上の偏光器、１つ以上のプリズム、１つ以上の回折要素、１つ以上のビーム分割器、および類するものの任意の組合せを含み得るが、それらに制限されない。
別の実施形態において、１つ以上の照明源１０２および照明光学部品１０６は、Ｐ偏光される照明、および／または、Ｓ偏光される照明を生み出すように構成される。別の実施形態において、照明１０４は、空気の体積部分１０８に方向設定される。空気の体積部分１０８は、検査室１１０の室の中に内包され得る。
別の実施形態において、検査システム１００は、１つ以上の試料１１４を支持および固定するように構成される載物台１１２を含む。別の実施形態において、検査システム１００は、検出器１２０が、試料載物台１１２の上方に位置する空気の体積部分１０８から散乱された照明を収集するように、試料載物台１１２が配置構成されるように構成され得る。
１つ以上の収集光学部品１１８は、照明を収集する、集束させる、および方向設定するために使用される、照明収集の技術において既知の、任意の光学要素を含み得る。例えば、１つ以上の収集光学部品１１８は、後に続くもの：１つ以上のレンズ、または１つ以上の鏡、および類するものの任意の組合せを含み得るが、それらに制限されない。実例として、収集光学部品１１８は、対物レンズを含み得る。１つの実施形態において、１つ以上の収集光学部品１１８は、空気散乱された照明１１６を収集するように構成される。例えば、収集光学部品１１８は、赤外、可視、および／または紫外放射の、空気散乱された照明１１６を収集するように構成され得る。別の実施形態において、収集光学部品１１８は、照明を検出器１２０に方向設定する。例えば、対物レンズが、照明を検出器１２０に方向設定し得る。
検出器１２０は、照明を検出、検知、記録、または増幅するために使用される、照明検出の技術において既知の、任意の検出器を含み得る。例えば、検出器は、電荷結合デバイス（ＣＣＤ）検出器、光電子増倍管（ＰＭＴ）検出器、および類するものを含み得るが、それらに制限されない。
検査システム１００は、１つ以上のプロセッサ１２６と、メモリ１２８とを含む制御器１２２を含み得る。１つの実施形態において、制御器１２２は、検出器１２０に通信可能に結合される１つ以上のプロセッサ１２６と、メモリ１２８とを含む。１つ以上のプロセッサ１２６は、メモリ１２８内に保持されるプログラム命令１３０の一式を実行するように構成され得る。
制御器１２２の１つ以上のプロセッサ１２６は、下記で説明されるようなアライメントまたは校正手順の、１つ以上のステップを履行するようにプログラムされ得る。図１において例示される検査システム１００の実施形態は、本明細書において説明されるように、さらに構成され得る。加えて、検査システム１００は、本明細書において説明される方法実施形態の任意のものの、任意の他のステップを実施するように構成され得る。
１つ以上のプロセッサ１２６は、空気の体積部分１０８から散乱された照明ビーム１０４の状態を指し示す１つ以上の信号を検出器１２０から受信し得る。例えば、１つ以上のプロセッサ１２６は、空気の体積部分１０８から散乱された照明の強度および／または偏光を指し示す１つ以上の信号を受信し得る。１つ以上のプロセッサ１２６は、さらには、散乱された照明１１６の強度および／または偏光を、所定の強度および／または偏光基準と比較し得る。１つの実施形態において、散乱された照明１１６のデータは、メモリ１２８内に記憶され、散乱基準として利用され得る。別の実施形態において、１つ以上のプロセッサ１２６は、照明１０４のビームの状態を、１つ以上の時間において、空気の体積部分１０８から散乱された照明の強度および／または偏光と、所定の強度および／または偏光基準との間の比較に基づいて決定する。
メモリ１２８は、検出器１２０からの、制御器１２２により受信されるデータの分析を実施するための、プログラム命令１３０の一式を含み得る。例えば、メモリ１２８は、検出器により生成されるデータを散乱基準と比較するための、プログラム命令１３０の一式を含み得る。
プログラム命令１３０の一式は、１つ以上のプロセッサ１２６に、照明のビームの強度および／または偏光を、１つ以上の選択される時間において決定させ得る。例えば、プログラム命令１３０の一式は、１つ以上のプロセッサ１２６に、照明１０４のビームの強度および／または偏光を、１つ以上の時間において監視させ得る。
１つの実施形態において、空気散乱基準は、既知の特性を有する照明のビームから散乱された照明から取得されるデータを含む。例えば、散乱基準は、既知の強度特性を有する照明１０４のビームからの、検出される散乱された照明のデータを含み得る。別の例として、散乱基準は、既知の偏光特性を有する照明１０４のビームからの、検出される散乱された照明のデータを含み得る。
１つの実施形態において、照明ビーム１０４の強度または偏光のうちの少なくとも１つの決定に応答して、１つ以上の照明源１０２、１つ以上の照明光学部品１０６、および／または、収集光学部品１１８のうちの１つ以上が調整される。例えば、ユーザは、１つ以上の照明源１０２のパワーを、照明１０４のビームの決定された状態に基づいて調整し得る。別の例として、１つ以上のプロセッサ１２６が、１つ以上の照明源１０２のパワーを、照明のビームの決定された状態に基づいて調整し得る。別の例として、１つ以上の照明源１０２、１つ以上の照明光学部品１０６、および／または、１つ以上の収集光学部品１１８は、照明１０４のビームの決定された状態に基づいて、ユーザまたは１つ以上のプロセッサ１２６によりアライメントされ得る。
１つの実施形態において、１つ以上の照明源１０２、１つ以上の照明光学部品１０６、または収集光学部品１１８のうちの１つ以上は、収集される散乱された照明から散乱基準までの間の差が、選択されるしきい値以内になるまで調整される。実例として、１つ以上のプロセッサ１２６は、収集される散乱された照明から散乱基準までの間の差が、選択されるしきい値以内になるまで、１つ以上の照明源１０２のパワーおよび／もしくはアライメント、ならびに／または、１つ以上の照明光学部品１０６および／もしくは収集光学部品１１８のアライメントを、繰り返し、または同時的に調整し得る。
制御器１２２は、有線および／またはワイヤレスの一部分を含み得る伝送媒体により、他のシステムからのデータまたは情報（例えば、検出器からの強度、照明および／または収集光学部品からの光学要素向き）を受信および／または獲得するように構成され得る。別の実施形態において、制御器１２２は、有線および／またはワイヤレスの一部分を含み得る伝送媒体により、１つ以上のシステムまたはサブシステム（例えば、照明光学部品または収集光学部品）に、データまたは情報（例えば、本明細書において開示される１つ以上の工程の出力）を送信するように構成され得る。このようにして、伝送媒体は、制御器１２２と、検査システム１００の他のサブシステムとの間のデータリンクの役目をし得る。その上、制御器１２２は、伝送媒体（例えば、ネットワーク接続）を介して、外部システムにデータを送出し得る。
検出器１２０および制御器１２２は、制御器１２２が検出器１２０から情報を受信するように、任意の適した様式で（例えば、図１において示される線により指示される、１つ以上の有線またはワイヤレス伝送媒体により）通信可能に結合され得る。１つの実施形態において、検出器１２０は、制御器１２２に１つ以上の画像１２４または強度データを送信する。別の実施形態において、１つ以上の画像１２４は、メモリ１２８内に記憶される。
制御器１２２の１つ以上のプロセッサ１２６は、当技術において既知の、任意の１つ以上の処理要素を含み得る。この意味において、１つ以上のプロセッサ１２６は、アルゴリズムおよび／または命令を実行するように構成される任意のマイクロプロセッサデバイスを含み得る。１つの実施形態において、１つ以上のプロセッサ１２６は、本開示の全体を通して説明されるような、検査システム１００のすべてまたは一部を動作させるように構成されるプログラムを実行するように構成される、デスクトップコンピュータ、メインフレームコンピュータシステム、ワークステーション、画像コンピュータ、並列プロセッサ、または、他のコンピュータシステム（例えば、ネットワーク化されたコンピュータ）からなる。本開示の全体を通して説明されるステップは、単一のコンピュータシステム、または代替案として、複数個のコンピュータシステムにより履行され得るということが認識されるべきである。一般的に、用語「プロセッサ」は、非一時的メモリ媒体（例えば、メモリ１２８）からのプログラム命令を実行する、１つ以上の処理要素を有する任意のデバイスを包含するように、幅広く定義され得る。それゆえに、上記の説明は、本発明に関する制限ではなく、ただ単に例示として解釈されるべきである。
メモリ１２８のメモリ媒体は、関連付けられる１つ以上のプロセッサ１２６により実行可能なプログラム命令を記憶するのに適した、当技術において既知の、任意の記憶媒体を含み得る。例えば、メモリ１２８は、非一時的メモリ媒体を含み得る。実例として、メモリ１２８は、読み出し専用メモリ、ランダムアクセスメモリ、磁気または光学メモリデバイス（例えば、ディスク）、磁気テープ、ソリッドステートドライブ、および類するものを含み得るが、それらに制限されない。別の実施形態において、メモリ１２８は、検査システム１００からの１つ以上の結果、および／または、本明細書において説明される様々なステップの出力を記憶するように構成されるということが、本明細書において指摘される。メモリ１２８は、１つ以上のプロセッサ１２６とともに、共通の制御器収容部内に収容され得るということが、さらに指摘される。代替的実施形態において、メモリ１２８は、プロセッサ１２６および制御器１２２の物理的位置に関して遠隔に位置し得る。実例として、制御器１２２の１つ以上のプロセッサ１２６は、ネットワーク（例えば、インターネット、イントラネット、および類するもの）を通してアクセス可能な遠隔のメモリ（例えば、サーバ）にアクセスし得る。別の実施形態において、メモリ１２８は、１つ以上のプロセッサ１２６に、本開示によって説明される様々なステップを履行させるためのプログラム命令１３０を記憶する。
簡潔さの目的のために、検査システム１００は、単純化されたブロック線図において描写されているということが指摘される。構成要素および幾何学的構成を含む、この描写は、制限的でなく、単に例示的目的のために提供される。検査システム１００は、空気散乱基準との照明ビーム状態の比較を履行するための、任意の数の光学要素（例えば、レンズ、鏡、フィルタビーム分割器、および類するもの）、エネルギー源（例えば、照明源）、および検出器（例えば、照明検出器）を含み得るということが、本明細書において認識される。
図２は、本開示の１つ以上の実施形態による、空気散乱強度２００の線図を例示する。より具体的には、空気散乱強度２００は、単一の波長の偏光される電磁放射による、単一の散乱体の空気散乱強度の線図を例示する。図２は、Ｚ方向において進行している、Ｅ方向において偏光される放射の空気散乱強度２００を例示するということが、本明細書において指摘される。１つの実施形態において、単一の波長および偏光の放射による空気散乱は、次式により説明される。
Figure 2022520971000002
 ここで、空気散乱強度は、ｒ、散乱体からの距離、および、角度θ、Ｅ軸から始まる方位角の関数として算出される。μ０は、自由空間の透磁率であり、ｐ０は、最大双極子モーメントであり、ωは、放射の周波数であり、θは、高さの角度であり、ｒは、双極子中心からの半径方向距離であるということが、本明細書において指摘される。
図３Ａは、本開示の１つ以上の実施形態による、ＳｕｒｆＳｃａｎ（登録商標）センサの二乗平均平方根（ＲＭＳ）雑音３１０を例示する。より具体的には、図３Ａは、ＰおよびＳ入射偏光に対する、ＳｕｒｆＳｃａｎ（登録商標）検査器具上で測定されるような空気散乱に対するＲＭＳ雑音３１０を例示する。入射の平面に平行な電場を含む照明の一部分が、Ｐ偏光される照明であるということが、その図において指摘される。入射の平面に垂直な電場を含む照明の一部分が、Ｓ偏光される照明であるということが、本明細書においてさらに指摘される。
図３Ｂは、本開示の１つ以上の実施形態による、入射のＰ偏光される光による空気散乱３２０を例示する。より具体的には、図３Ｂは、ＰおよびＳ入射偏光からの、ＳｕｒｆＳｃａｎ（登録商標）検査器具上で測定されるような、空気散乱されたＰ入射３２０を例示する。
図３Ｃは、本開示の１つ以上の実施形態による、入射のＳ偏光される照明による空気散乱３３０を例示する。より具体的には、図３Ｃは、ＰおよびＳ入射偏光からの、ＳｕｒｆＳｃａｎ（登録商標）検査器具上で測定されるような、空気散乱されたＳ偏光される入射３３０を例示する。
空気散乱３２０および３３０は、ＳｕｒｆＳｃａｎ（登録商標）センサのＲＭＳ雑音３１０を超えて測定されるということが、本明細書において指摘される。測定される空気散乱３２０および３３０は、入射偏光に敏感であるということが、さらに指摘される。空気散乱は、光学システムおよび器具において散乱基準として利用され得るということが、本明細書においてさらに指摘される。
図４Ａは、本開示の１つ以上の実施形態による、偏光を測定するための空気散乱の例を例示する。より具体的には、図４Ａは、斜めモードにおいて、対物レンズの開口数（ＮＡ）が７５°である場合の、照明の偏光を測定するための、Ｐ偏光される照明の空気散乱４１０、および、Ｓ偏光される照明の空気散乱４２０の例を例示する。１つの実施形態において、対物レンズにより収集される領域にわたって積分して、Ｐ偏光される、および、Ｓ偏光される入射光において収集される、総合的な空気散乱の百分率が算出され得る。例えば、後に続く式が、Ｐ偏光される、および、Ｓ偏光される入射光において収集される、総合的な空気散乱の百分率を算出するために利用され得る。
Figure 2022520971000003
 図４Ａにおいて例示される具体的な例に対して、Ｐ偏光される入射光の百分率は３２．１％であり、Ｓ偏光される入射光の百分率は４１．６％であるということが、本明細書において指摘される。
図４Ｂは、本開示の１つ以上の実施形態による、偏光を測定するための空気散乱の例を例示する。より具体的には、図４Ｂは、ビーム偏光が進行の軸の周りで回転する際の、Ｓｕｒｆｓｃａｎ（登録商標）ＳＰ７対物レンズにより収集される、標準化された空気散乱パワーを例示する。図４Ｂにおいて、０度が、Ｐ偏光される入射光であり、９０度が、Ｓ偏光される入射光であるということが、本明細書において指摘される。図４Ｂにおいて示される空気散乱パターンは、Ｐ偏光される、および、Ｓ偏光される入射照明に対して異なり、空気散乱が入射ビーム偏光に敏感であるということを指示するということが、本明細書においてさらに指摘される。対物レンズにより捕捉される、Ｐ偏光される、および、Ｓ偏光される入射照明強度の数量が異なるとき、ＰおよびＳ入射照明の強度比率が、入射ビームの偏光の品質について情報価値のあるものであり得るということが、本明細書において加えて指摘される。
１つの実施形態において、検査システム１００は、散乱された照明１１６からの信号を利用して、照明１０４の入射ビームの強度を監視する。例えば、散乱された照明１１６からの信号は、経時的に検査システム１００の照明１０４の入射ビームを監視するための散乱基準として利用され得る。別の実施形態において、散乱された照明１１６からの信号は、複数個の器具にわたる空気散乱強度の標準化校正に対して利用される。散乱された照明１１６からの信号が安定的および一様であることが、システム監視および校正を改善すると考えられるということが、本明細書において指摘される。
１つの実施形態において、検査システム１００は、散乱された照明１１６からの信号を利用して、照明１０４の入射ビームの偏光を測定する。別の実施形態において、検査システム１００は、散乱された照明１１６からの信号を利用して、照明１０４の入射ビームの偏光を監視する。例えば、散乱された照明１１６からの１つ以上の信号は、経時的に、照明１０４の偏光を測定し、照明１０４の偏光を監視するために利用され得る。
１つの実施形態において、検査システム１００は、散乱された照明１１６からの信号を利用して、収集経路内の、偏光に敏感な光学部品およびマスクをアライメントする。別の実施形態において、散乱された照明１１６は、光学マスクおよび偏光器を適格にし、監視するために利用され得る。空気散乱は、偏光される一様な散乱をもたらすということが、本明細書において指摘される。空気がシステムの作業環境内にあり、システムが、空気散乱強度を測定するのに十分に敏感であるということであれば、散乱基準を要する光学システムにおいてのいかなる工程も、空気散乱によって実施され得るということが、本明細書においてさらに指摘される。挿入される物理的散乱基準に頼るシステムは、挿入可能な物理的散乱基準に起因する、潜在的可能性としての汚染を持ち込まない、および、空間制約を消失させる、散乱基準から利益を得ることになるということが考えられるということが、本明細書において加えて指摘される。挿入可能な物理的基準により生出される制約に起因して実現可能でない、光学校正および／またはアライメントを要するシステムが、今や、アライメントおよび／または校正に対して空気散乱基準を利用して現実化可能であるということが、本明細書においてなおもさらに指摘される。
図５は、本開示の１つの実施形態による、検査システム１００において照明のビームの状態を決定するための方法５００において実施されるステップを例示する流れ線図である。方法５００のステップは、検査システム１００により、すべてまたは一部において実装され得るということが、本明細書において指摘される。しかしながら、追加的または代替的なシステムレベルの実施形態が、方法５００のステップのすべてまたは一部を履行し得るという点において、方法５００は検査システム１００に制限されないということが、さらに認識される。
ステップ５０２において、１つ以上の照明源１０２が、照明１０４のビームを生成するための照明を提供する。１つの実施形態においての、偏光されない様態の照明１０４のビーム。別の実施形態において、照明１０４のビームは偏光される。例えば、照明１０４のビームは、直線偏光される、楕円偏光される、円状に偏光器である、または、ランダム偏光されることのうちの１つ以上であり得る。別の実施形態において、照明１０４は、Ｐ偏光される照明、および、Ｓ偏光される照明を含む。
ステップ５０４において、照明のビームが、検査室の中に内包される空気の体積部分内へと集束させられる。１つの実施形態において、照明光学部品１０６が、照明１０４を空気の体積部分１０８に集束させる。例えば、照明光学部品１０６は、照明１０４が、空気の体積部分１０８に向けて方向設定され、空気の体積部分１０８内へと集束させられるように、アライメントおよび構成され得る。別の例として、照明光学部品１０６は、照明１０４が、暗視野検査器具の検査室１１０の中に内包される空気の体積部分１０８内へと集束させられるように、アライメントおよび構成され得る。
ステップ５０６において、空気の体積部分から散乱された照明の一部分が収集される。１つの実施形態において、散乱された照明１１６が、収集光学部品１１８により収集される。例えば、散乱された照明１１６は、対物レンズにより収集される。別の実施形態において、収集光学部品１１８は、検出器１２０に向けて、散乱された照明を方向設定するように構成される。例えば、対物レンズが、検出器１２０に向けての、方向設定、収集される散乱された照明１１６に対して構成され得る。
ステップ５０８において、１つ以上の収集光学部品からの照明の収集された一部分が検出される。１つの実施形態において、空気の体積部分１０８からの散乱された照明１１６の収集された一部分が、検出器１２０により検出される。例えば、検出器１２０は、対物レンズにより収集され、検出器１２０に向けて方向設定される、散乱された照明１１６を検出し得る。
ステップ５１０において、照明１０４のビームの状態が、１つ以上の時間において、空気の体積部分１０８から散乱された照明の状態と、所定の散乱基準との間の比較に基づいて決定される。ステップ５１０は、検出器１２０が、１つ以上の画像１２４を獲得し、１つ以上の画像１２４を制御器１２２に送信するステップを含む。検出器１２０により生成され、制御器１２２に送信される１つ以上の画像１２４は、１つ以上のプロセッサ１２６により、所定の散乱基準と比較される。１つの実施形態において、１つ以上の画像１２４は、メモリ１２８内に記憶され、後での分析のために使用される。別の実施形態において、空気の体積部分１０８から散乱された照明の状態と、所定の散乱基準との間の比較からの１つ以上の結果が、後での使用のためにメモリ１２８内に記憶される。
ステップ５１２において、照明源１０２、照明光学部品１０６のうちの１つ以上、または、収集光学部品１１８のうちの１つ以上のうちの１つ以上を、照明のビームの決定された状態に基づいて調整する。例えば、１つ以上のプロセッサ１２６は、１つ以上の照明源１０２、照明光学部品１０６、または収集光学部品１１８のうちの１つ以上を、照明のビームの決定された状態に基づいて調整し得る。別の例として、１つ以上のプロセッサ１２６は、１つ以上の照明源のパワー、または、１つ以上の照明源のアライメントのうちの少なくとも１つを、照明のビームの決定された状態に基づいて調整し得る。
図６は、本開示の１つの実施形態による、検査システム１００において照明のビームの強度を決定するための方法６００において実施されるステップを例示する流れ線図である。方法６００のステップは、検査システム１００により、すべてまたは一部において実装され得るということが、本明細書において指摘される。しかしながら、追加的または代替的なシステムレベルの実施形態が、方法６００のステップのすべてまたは一部を履行し得るという点において、方法６００は検査システム１００に制限されないということが、さらに認識される。
ステップ６０２において、１つ以上の照明源１０２が、照明１０４のビームを生成するための照明を提供する。１つの実施形態においての、偏光されない様態の照明１０４のビーム。別の実施形態において、照明１０４のビームは偏光される。例えば、照明１０４のビームは、直線偏光される、楕円偏光される、円状に偏光器である、または、ランダム偏光されることのうちの１つ以上であり得る。別の実施形態において、照明１０４は、Ｐ偏光される照明、および、Ｓ偏光される照明を含む。
ステップ６０４において、照明のビームが、検査室の中に内包される空気の体積部分内へと集束させられる。１つの実施形態において、照明光学部品１０６が、照明１０４を空気の体積部分１０８に集束させる。例えば、照明光学部品１０６は、照明１０４が、空気の体積部分１０８に向けて方向設定され、空気の体積部分１０８内へと集束させられるように、アライメントおよび構成され得る。別の例として、照明光学部品１０６は、照明１０４が、暗視野検査器具の検査室１１０の中に内包される空気の体積部分１０８内へと集束させられるように、アライメントおよび構成され得る。
ステップ６０６において、空気の体積部分から散乱された照明の一部分が収集される。１つの実施形態において、散乱された照明１１６が、収集光学部品１１８により収集される。例えば、散乱された照明１１６は、対物レンズにより収集される。別の実施形態において、収集光学部品１１８は、検出器１２０に向けて、散乱された照明を方向設定するように構成される。例えば、対物レンズが、検出器１２０に向けての、方向設定、収集される散乱された照明１１６に対して構成され得る。
ステップ６０８において、１つ以上の収集光学部品からの照明の収集された一部分の強度が検出される。１つの実施形態において、空気の体積部分１０８からの散乱された照明１１６の収集された一部分の強度が、検出器１２０により検出される。例えば、検出器１２０は、対物レンズにより収集され、検出器１２０に向けて方向設定される、散乱された照明１１６の強度を検出し得る。
ステップ６１０において、照明１０４のビームの強度が、１つ以上の時間において、空気の体積部分１０８から散乱された照明の強度と、所定の強度基準との間の比較に基づいて決定される。ステップ６１０は、検出器１２０が、１つ以上の画像１２４を獲得し、１つ以上の画像１２４を制御器１２２に送信するステップを含む。検出器１２０により生成され、制御器１２２に送信される１つ以上の画像１２４は、１つ以上のプロセッサ１２６により、所定の強度基準と比較される。１つの実施形態において、１つ以上の画像１２４は、メモリ１２８内に記憶され、後での分析のために使用される。別の実施形態において、空気の体積部分１０８から散乱された照明の強度と、所定の強度との間の比較からの１つ以上の結果が、後での使用のためにメモリ１２８内に記憶される。
ステップ６１２において、照明源１０２、照明光学部品１０６のうちの１つ以上、または、収集光学部品１１８のうちの１つ以上のうちの１つ以上を、照明のビームの決定される強度に基づいて調整する。例えば、１つ以上のプロセッサ１２６は、１つ以上の照明源１０２、照明光学部品１０６、または収集光学部品１１８のうちの１つ以上を、照明のビームの決定される強度に基づいて調整し得る。別の例として、１つ以上のプロセッサ１２６は、１つ以上の照明源のパワー、または、１つ以上の照明源のアライメントのうちの少なくとも１つを、照明のビームの決定される強度に基づいて調整し得る。
図７は、本開示の１つの実施形態による、検査システム１００において照明のビームの偏光を決定するための方法７００において実施されるステップを例示する流れ線図である。方法７００のステップは、検査システム１００により、すべてまたは一部において実装され得るということが、本明細書において指摘される。しかしながら、追加的または代替的なシステムレベルの実施形態が、方法７００のステップのすべてまたは一部を履行し得るという点において、方法７００は検査システム１００に制限されないということが、さらに認識される。
ステップ７０２において、１つ以上の照明源１０２が、照明１０４のビームを生成するための照明を提供する。１つの実施形態においての、偏光されない様態の照明１０４のビーム。別の実施形態において、照明１０４のビームは偏光される。例えば、照明１０４のビームは、直線偏光される、楕円偏光される、円状に偏光器である、または、ランダム偏光されることのうちの１つ以上であり得る。別の実施形態において、照明１０４は、Ｐ偏光される照明、および、Ｓ偏光される照明を含む。
ステップ７０４において、照明のビームが、検査室の中に内包される空気の体積部分内へと集束させられる。１つの実施形態において、照明光学部品１０６が、照明１０４を空気の体積部分１０８に集束させる。例えば、照明光学部品１０６は、照明１０４が、空気の体積部分１０８に向けて方向設定され、空気の体積部分１０８内へと集束させられるように、アライメントおよび構成され得る。別の例として、照明光学部品１０６は、照明１０４が、暗視野検査器具の検査室１１０の中に内包される空気の体積部分１０８内へと集束させられるように、アライメントおよび構成され得る。
ステップ７０６において、空気の体積部分から散乱された照明の一部分が収集される。１つの実施形態において、散乱された照明１１６が、収集光学部品１１８により収集される。例えば、散乱された照明１１６は、対物レンズにより収集される。別の実施形態において、収集光学部品１１８は、検出器１２０に向けて、散乱された照明を方向設定するように構成される。例えば、対物レンズが、検出器１２０に向けての、方向設定、収集される散乱された照明１１６に対して構成され得る。
ステップ７０８において、１つ以上の収集光学部品からの照明の収集された一部分の偏光が検出される。１つの実施形態において、空気の体積部分１０８からの散乱された照明１１６の収集された一部分の偏光が、検出器１２０により検出される。例えば、検出器１２０は、対物レンズにより収集され、検出器１２０に向けて方向設定される、散乱された照明１１６の偏光を検出し得る。
ステップ７１０において、照明１０４のビームの偏光が、１つ以上の時間において、空気の体積部分１０８から散乱された照明の偏光と、所定の偏光基準との間の比較に基づいて決定される。ステップ７１０は、検出器１２０が、１つ以上の画像１２４を獲得し、１つ以上の画像１２４を制御器１２２に送信するステップを含む。検出器１２０により生成され、制御器１２２に送信される１つ以上の画像１２４は、１つ以上のプロセッサ１２６により、所定の偏光基準と比較される。１つの実施形態において、１つ以上の画像１２４は、メモリ１２８内に記憶され、後での分析のために使用される。別の実施形態において、空気の体積部分１０８から散乱された照明の偏光と、所定の偏光との間の比較からの１つ以上の結果が、後での使用のためにメモリ１２８内に記憶される。
ステップ７１２において、照明源１０２、照明光学部品１０６のうちの１つ以上、または、収集光学部品１１８のうちの１つ以上のうちの１つ以上を、照明のビームの決定される偏光に基づいて調整する。例えば、１つ以上のプロセッサ１２６は、１つ以上の照明源１０２、照明光学部品１０６、または収集光学部品１１８のうちの１つ以上を、照明のビームの決定される偏光に基づいて調整し得る。別の例として、１つ以上のプロセッサ１２６は、１つ以上の照明源のパワー、または、１つ以上の照明源のアライメントのうちの少なくとも１つを、照明のビームの決定される偏光に基づいて調整し得る。
本明細書において説明される方法のすべては、方法実施形態の１つ以上のステップの結果を記憶媒体内に記憶することを含み得る。結果は、本明細書において説明される結果の任意のものを含み得るものであり、当技術において既知の、任意の様式で記憶され得る。記憶媒体は、本明細書において説明される任意の記憶媒体、または、当技術において既知の、任意の他の適した記憶媒体を含み得る。結果が記憶された後、結果は、記憶媒体においてアクセスされ、本明細書において説明される方法またはシステム実施形態の任意のものにより使用され、ユーザに対する表示のために体裁を整えられ、別のソフトウェアモジュール、方法、またはシステム、その他により使用され得る。さらにまた、結果は、「永久的に」、「半永久的に」、一時的に、または、時間の、ある程度の期間の間、記憶され得る。例えば、記憶媒体は、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）であり得るものであり、結果は、必ずしも記憶媒体内で無期限に存続するのではないことがある。
現況技術は、システムの態様のハードウェア実装形態とソフトウェア実装形態との間に残された差異がほとんど存在しない局面に進展しており、ハードウェアまたはソフトウェアの使用は、一般的には（ただし、ある決まった背景状況において、ハードウェアとソフトウェアとの間での選定が有意になり得るという点において、常にではないが）、費用対効率の兼ね合いを表す設計選定であるということを、当業者は認識することになる。様々な表現方式であって、それらにより、本明細書において説明される工程および／またはシステムおよび／または他の技術が達成され得る、表現方式（例えば、ハードウェア、ソフトウェア、および／またはファームウェア）が存在するということ、ならびに、好まれる表現方式は、工程および／またはシステムおよび／または他の技術が展開される背景状況によって変動することになるということを、当業者は察知することになる。例えば、実装者が、速度および正確度が最重要であると決定するならば、実装者は、主としてハードウェアおよび／もしくはファームウェア表現方式を選び得るものであり、代替案として、柔軟性が最重要であるならば、実装者は、主としてソフトウェア実装形態を選び得るものであり、または、なおも再び代替案として、実装者は、ハードウェア、ソフトウェア、および／もしくはファームウェアの何らかの組合せを選び得る。ゆえに、いくつかの可能な表現方式であって、それらにより、本明細書において説明される工程および／またはデバイスおよび／または他の技術が達成され得る、表現方式が存在し、利用されることになるいかなる表現方式も、表現方式が展開されることになる背景状況、および、実装者の特定の関心事（例えば、速度、柔軟性、または予測可能性）に依存的な選定物であり、それらの背景状況および関心事のいずれも変動し得るという点において、それらの可能な表現方式のどれも、本質的には、他のものにまさるものではない。実装形態の光学態様は、典型的には、光学指向のハードウェア、ソフトウェア、およびまたはファームウェアを用いることになるということを、当業者は認識することになる。
本明細書において説明される本発明の主題の個別の態様が示され説明されたが、本明細書においての教示に基づいて、変更および変形が、本明細書において説明される主題、および、その主題のより幅広い態様から逸脱することなくなされ得るものであり、それゆえに、添付される請求項は、それらの請求項の範囲内に、本明細書において説明される主題の真の趣旨および範囲の中にあるような、すべての変更および変形を包含することになるということが、当業者には明らかであることになる。
さらにまた、本発明は、添付される請求項により定義されるということが理解されるべきである。一般的に、本明細書において、およびとりわけ、添付される請求項（例えば、添付される請求項の本体部）において使用される用語は、一般的には「オープンな」用語として意図される（例えば、用語「含む（現在分詞）」は、「含むが、それに制限されない」と解釈されるべきである、用語「有する」は、「少なくとも有する」と解釈されるべきである、用語「含む（三人称単数現在形）」は、「含むが、それに制限されない」と解釈されるべきである、その他）ということが、当業者により理解されることになる。導入される請求項記載物（ｃｌａｉｍ ｒｅｃｉｔａｔｉｏｎ）の特定の数が意図されるならば、そのような意図は、請求項において明示的に記載されることになり、そのような記載がない場合、そのような意図は存在しないということが、当業者によりさらに理解されることになる。例えば、理解の一助として、後に続く添付される請求項は、請求項記載物を導入するための導入句「少なくとも１つの」および「１つ以上の」の使用を内包することがある。しかしながら、そのような語句の使用は、不定冠詞「ａ」または「ａｎ」による請求項記載物の導入が、そのような導入される請求項記載物を内包するいかなる個別の請求項をも、ただ１つのそのような記載物を内包する発明に制限するということを示唆すると解されるべきではなく、そのことは、同じ請求項が、導入句「１つ以上の」または「少なくとも１つの」、および、「ａ」または「ａｎ」などの不定冠詞を含むときでさえであり（例えば、「ａ」および／または「ａｎ」は、典型的には、「少なくとも１つの」または「１つ以上の」を意味すると解釈されるべきである）、同じことが、請求項記載物を導入するために使用される定冠詞の使用に当てはまる。加えて、導入される請求項記載物の特定の数が明示的に記載される場合でさえ、そのような記載は、典型的には、少なくとも記載される数を意味すると解釈されるべきである（例えば、他の修飾語を伴わない、「２つの記載物」の単なる記載は、典型的には、少なくとも２つの記載物、または、２つ以上の記載物を意味する）ということを、当業者は認識することになる。さらにまた、「Ａ、Ｂ、およびＣのうちの少なくとも１つ、その他」に類似した慣用表現が使用される実例において、一般的に、そのような構文は、当業者がその慣用表現を理解することになる意味において意図される（例えば、「Ａ、Ｂ、およびＣのうちの少なくとも１つを有するシステム」は、Ａを単独で、Ｂを単独で、Ｃを単独で、ＡおよびＢを合わせて、ＡおよびＣを合わせて、ＢおよびＣを合わせて、ならびに／または、Ａ、Ｂ、およびＣを合わせて有するシステムを含むが、それらに制限されないことになる、などとなる）。「Ａ、Ｂ、またはＣのうちの少なくとも１つ、その他」に類似した慣用表現が使用される実例において、一般的に、そのような構文は、当業者がその慣用表現を理解することになる意味において意図される（例えば、「Ａ、Ｂ、またはＣのうちの少なくとも１つを有するシステム」は、Ａを単独で、Ｂを単独で、Ｃを単独で、ＡおよびＢを合わせて、ＡおよびＣを合わせて、ＢおよびＣを合わせて、ならびに／または、Ａ、Ｂ、およびＣを合わせて有するシステムを含むが、それらに制限されないことになる、などとなる）。説明においてであれ、特許請求の範囲においてであれ、図面においてであれ、２つ以上の代替的用語を提示する、事実上いかなる離接的単語および／または語句も、用語のうちの１つ、用語のうちのいずれか、または、両方の用語を含むことの可能性を企図すると理解されるべきであるということが、当業者によりさらに理解されることになる。例えば、語句「ＡまたはＢ」は、「Ａ」または「Ｂ」または「ＡおよびＢ」の可能性を含むと理解されることになる。
本開示、および、本開示の付帯する利点の多くが、上述の説明により理解されることになるということが確信され、様々な変更が、開示される主題から逸脱することなく、または、その主題の欠かせない利点のすべてを犠牲にすることなく、構成要素の形式、構築、および配置構成においてなされ得るということが明らかであることになる。説明される形式は、ただ単に解説的なものであり、そのような変更を包含し含むことが、後に続く特許請求の範囲の意図である。

Claims (24)

  1. 照明のビームを生成するように構成される１つ以上の照明源と、
    照明の前記ビームを、検査室の中に内包される空気の体積部分内へと集束させるように構成される１つ以上の照明光学部品と、
    空気の前記体積部分から散乱された照明の一部分を収集するように構成される１つ以上の収集光学部品と、
    前記１つ以上の収集光学部品からの照明の前記収集された一部分を受けるように構成される検出器と、
    制御器であって、前記検出器に通信可能に結合される１つ以上のプロセッサを含み、前記１つ以上のプロセッサは、メモリ内に記憶されるプログラム命令の一式を実行するように構成され、プログラム命令の前記一式は、前記１つ以上のプロセッサに、
    空気の前記体積部分から散乱された前記照明の強度を指し示す、前記検出器からの１つ以上の信号を受信することと、
    照明の前記ビームの状態を、１つ以上の時間において、空気の前記体積部分から散乱された前記照明の前記強度と、所定の強度基準との間の比較に基づいて決定することと
    を行わせるように構成される、制御器と
    を含むことを特徴とする検査システム。
  2. 請求項１に記載のシステムであって、照明の前記ビームの状態を、１つ以上の時間において、空気の前記体積部分から散乱された前記照明の前記強度と、所定の強度基準との間の比較に基づいて前記決定することが、
    照明の前記ビームの強度を、選択される時間において決定すること
    を含むことを特徴とするシステム。
  3. 請求項１に記載のシステムであって、照明の前記ビームの状態を、１つ以上の時間において、空気の前記体積部分から散乱された前記照明の前記強度と、所定の強度基準との間の比較に基づいて前記決定することが、
    照明の前記ビームの強度を、複数の時間において監視すること
    を含むことを特徴とするシステム。
  4. 請求項１に記載のシステムであって、照明の前記ビームの状態を、１つ以上の時間において、空気の前記体積部分から散乱された前記照明の前記強度と、所定の強度基準との間の比較に基づいて前記決定することが、
    照明の前記ビームの偏光を、選択される時間において決定すること
    を含むことを特徴とするシステム。
  5. 請求項１に記載のシステムであって、照明の前記ビームの状態を、１つ以上の時間において、空気の前記体積部分から散乱された前記照明の前記強度と、所定の強度基準との間の比較に基づいて前記決定することが、
    照明の前記ビームの偏光を、複数の時間において監視すること
    を含むことを特徴とするシステム。
  6. 請求項１に記載のシステムであって、前記１つ以上の収集光学部品が、対物レンズを含むことを特徴とするシステム。
  7. 請求項１に記載のシステムであって、空気の前記体積部分が、暗視野検査器具の検査室の中に内包されることを特徴とするシステム。
  8. 請求項１に記載のシステムであって、空気の前記体積部分が、試料載物台の上方に位置することを特徴とするシステム。
  9. 請求項１に記載のシステムであって、前記検出器が、電荷結合デバイス（ＣＣＤ）検出器を含むことを特徴とするシステム。
  10. 請求項１に記載のシステムであって、
    前記１つ以上の照明源、前記１つ以上の照明光学部品、または、前記１つ以上の収集光学部品のうちの少なくとも１つの状態を、照明の前記ビームの前記決定された状態に基づいて調整すること
    をさらに含むことを特徴とするシステム。
  11. 請求項１に記載のシステムであって、
    前記１つ以上の照明源のパワー、または、前記１つ以上の照明源のアライメントのうちの少なくとも１つを、照明の前記ビームの前記決定された状態に基づいて調整すること
    をさらに含むことを特徴とするシステム。
  12. 照明のビームを生成するステップと、
    照明の前記ビームを、検査室の中に内包される空気の体積部分内へと集束させるステップと、
    空気の前記体積部分から散乱された照明の一部分を収集するステップと、
    検出器によって、１つ以上の収集光学部品からの照明の前記収集された一部分を検出するステップと、
    照明の前記ビームの状態を、１つ以上の時間において、空気の前記体積部分から散乱された前記照明の強度と、所定の強度基準との間の比較に基づいて決定するステップと
    を含むことを特徴とする方法。
  13. 請求項１２に記載の方法であって、照明の前記ビームの状態を、１つ以上の時間において、空気の前記体積部分から散乱された前記照明の前記強度と、所定の強度基準との間の比較に基づいて決定する前記ステップが、
    照明の前記ビームの強度を、選択される時間において決定するステップ
    を含むことを特徴とする方法。
  14. 請求項１２に記載の方法であって、照明の前記ビームの状態を、１つ以上の時間において、空気の前記体積部分から散乱された前記照明の前記強度と、所定の強度基準との間の比較に基づいて決定する前記ステップが、
    照明の前記ビームの強度を、複数の時間において監視するステップ
    を含むことを特徴とする方法。
  15. 請求項１２に記載の方法であって、照明の前記ビームの状態を、１つ以上の時間において、空気の前記体積部分から散乱された前記照明の前記強度と、所定の強度基準との間の比較に基づいて決定する前記ステップが、
    照明の前記ビームの偏光を、選択される時間において決定するステップ
    を含むことを特徴とする方法。
  16. 請求項１２に記載の方法であって、照明の前記ビームの状態を、１つ以上の時間において、空気の前記体積部分から散乱された前記照明の前記強度と、所定の強度基準との間の比較に基づいて決定する前記ステップが、
    照明の前記ビームの偏光を、複数の時間において監視するステップ
    を含むことを特徴とする方法。
  17. 請求項１２に記載の方法であって、空気の前記体積部分から散乱された照明の一部分を収集する前記ステップが、
    対物レンズを利用することを含む、空気の前記体積部分から散乱された照明の一部分を収集するステップ
    を含むことを特徴とする方法。
  18. 請求項１２に記載の方法であって、照明の前記ビームを、検査室の中に内包される空気の体積部分内へと集束させる前記ステップが、
    照明の前記ビームを、暗視野検査器具の検査室の中に内包される空気の体積部分内へと集束させるステップ
    を含むことを特徴とする方法。
  19. 請求項１２に記載の方法であって、照明の前記ビームを、検査室の中に内包される空気の体積部分内へと集束させる前記ステップが、
    照明の前記ビームを、検査室の中に内包されて位置する空気の体積部分内へと集束させるステップであって、空気の前記体積部分が、試料載物台の上方に位置する、集束させるステップ
    を含むことを特徴とする方法。
  20. 請求項１２に記載の方法であって、検出器によって、前記１つ以上の収集光学部品からの照明の前記収集された一部分を検出する前記ステップが、
    電荷結合デバイス（ＣＣＤ）検出器によって、前記１つ以上の収集光学部品からの照明の前記収集された一部分を検出するステップ
    を含むことを特徴とする方法。
  21. 請求項１２に記載の方法であって、
    １つ以上の照明源、１つ以上の照明光学部品、または、前記１つ以上の収集光学部品のうちの少なくとも１つの状態を、照明の前記ビームの前記決定された状態に基づいて調整するステップ
    をさらに含むことを特徴とする方法。
  22. 請求項１２に記載の方法であって、
    １つ以上の照明源のパワー、または、前記１つ以上の照明源のアライメントのうちの少なくとも１つを、照明の前記ビームの前記決定された状態に基づいて調整するステップ
    をさらに含むことを特徴とする方法。
  23. 照明のビームを生成するように構成される１つ以上の照明源と、
    照明の前記ビームを、検査室の中に内包される空気の体積部分内へと集束させるように構成される１つ以上の照明光学部品と、
    空気の前記体積部分から散乱された照明の一部分を収集するように構成される１つ以上の収集光学部品と、
    前記１つ以上の収集光学部品からの照明の前記収集された一部分を受けるように構成される検出器と、
    制御器であって、前記検出器に通信可能に結合される１つ以上のプロセッサを含み、前記１つ以上のプロセッサは、メモリ内に記憶されるプログラム命令の一式を実行するように構成され、プログラム命令の前記一式は、前記１つ以上のプロセッサに、
    空気の前記体積部分から散乱された前記照明の強度を指し示す、前記検出器からの１つ以上の信号を受信することと、
    照明の前記ビームの強度を、１つ以上の時間において、空気の前記体積部分から散乱された前記照明の前記強度と、所定の強度基準との間の比較に基づいて決定することと
    を行わせるように構成される、制御器と
    を含むことを特徴とする検査システム。
  24. 照明のビームを生成するように構成される１つ以上の照明源と、
    照明の前記ビームを、検査室の中に内包される空気の体積部分内へと集束させるように構成される１つ以上の照明光学部品と、
    空気の前記体積部分から散乱された照明の一部分を収集するように構成される１つ以上の収集光学部品と、
    前記１つ以上の収集光学部品からの照明の前記収集された一部分を受けるように構成される検出器と、
    制御器であって、前記検出器に通信可能に結合される１つ以上のプロセッサを含み、前記１つ以上のプロセッサは、メモリ内に記憶されるプログラム命令の一式を実行するように構成され、プログラム命令の前記一式は、前記１つ以上のプロセッサに、
    空気の前記体積部分から散乱された前記照明の強度を指し示す、前記検出器からの１つ以上の信号を受信することと、
    照明の前記ビームの偏光を、１つ以上の時間において、空気の前記体積部分から散乱された前記照明の前記強度と、所定の強度基準との間の比較に基づいて決定することと
    を行わせるように構成される、制御器と
    を含むことを特徴とする検査システム。
JP2021547729A 2019-02-19 2020-02-10 光散乱に基づく光学器械および器具に対する空気散乱基準 Pending JP2022520971A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2023219602A JP2024026532A (ja) 2019-02-19 2023-12-26 検査システム及び方法

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US16/279,395 US11016024B2 (en) 2019-02-19 2019-02-19 Air scattering standard for light scattering based optical instruments and tools
US16/279,395 2019-02-19
PCT/US2020/017415 WO2020171991A1 (en) 2019-02-19 2020-02-10 Air scattering standard for light scattering based optical instruments and tools

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023219602A Division JP2024026532A (ja) 2019-02-19 2023-12-26 検査システム及び方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2022520971A true JP2022520971A (ja) 2022-04-04
JPWO2020171991A5 JPWO2020171991A5 (ja) 2023-02-16

Family

ID=72040596

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021547729A Pending JP2022520971A (ja) 2019-02-19 2020-02-10 光散乱に基づく光学器械および器具に対する空気散乱基準
JP2023219602A Pending JP2024026532A (ja) 2019-02-19 2023-12-26 検査システム及び方法

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023219602A Pending JP2024026532A (ja) 2019-02-19 2023-12-26 検査システム及び方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US11016024B2 (ja)
JP (2) JP2022520971A (ja)
KR (1) KR102597965B1 (ja)
CN (1) CN113383228A (ja)
TW (1) TWI829866B (ja)
WO (1) WO2020171991A1 (ja)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012090367A1 (ja) * 2010-12-27 2012-07-05 株式会社日立ハイテクノロジーズ 欠陥検査方法および欠陥検査装置
JP2013522651A (ja) * 2010-03-23 2013-06-13 オフィール−スピリコン エルエルシー ビーム散乱レーザーモニター
JP2016122860A (ja) * 2000-09-20 2016-07-07 ケーエルエー−テンカー コーポレイション 半導体製造プロセスのための方法とシステム

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4249244A (en) * 1978-05-03 1981-02-03 Ppm, Inc. Electro-optical system and method and apparatus for providing automatically-compensating, traceable calibration and zeroing for light scattering devices
US4226533A (en) * 1978-09-11 1980-10-07 General Electric Company Optical particle detector
US4362387A (en) * 1980-08-22 1982-12-07 Rockwell International Corporation Method and apparatus for measuring visibility from the polarization properties of the daylight sky
US4854705A (en) * 1988-04-05 1989-08-08 Aerometrics, Inc. Method and apparatus to determine the size and velocity of particles using light scatter detection from confocal beams
JP2722362B2 (ja) * 1992-03-27 1998-03-04 三井金属鉱業株式会社 粒子または欠陥の大きさ情報の測定方法および装置
US5741298A (en) 1995-04-28 1998-04-21 Macleod; Cathel Method and devices for video-assisted surgical techniques
US6091494A (en) * 1999-05-25 2000-07-18 Venturedyne, Ltd. Particle sensor with cooled light trap and related method
US6326608B1 (en) 1999-07-09 2001-12-04 Chung-Shan Institute Of Science And Technology Polarization-type laser detection system
US6825437B2 (en) * 2001-01-17 2004-11-30 Hitachi, Ltd. Apparatus enabling particle detection utilizing wide view lens
US8072584B2 (en) 2002-08-02 2011-12-06 Ophir Corporation Optical air data systems and methods
JP3720799B2 (ja) * 2002-10-02 2005-11-30 神栄株式会社 花粉センサ
JP2004233078A (ja) * 2003-01-28 2004-08-19 Japan Atom Energy Res Inst 大気中に浮遊する微粒子等の個数、粒径分布等を遠隔において計測するリモートパーティクルカウンター装置
KR100576364B1 (ko) 2003-11-21 2006-05-03 삼성전자주식회사 시편 검사장치의 기준값설정장치 및 이를 이용한 기준값설정방법
WO2005115737A2 (en) * 2004-03-22 2005-12-08 Quantaspec Inc. System and method for detecting and identifying an analyte
EP2595130B1 (en) * 2004-11-12 2016-11-02 Xtralis Technologies Ltd Particle detector, system and method
KR100684903B1 (ko) * 2005-07-15 2007-02-20 삼성전자주식회사 반도체 제조 장치 및 파티클 모니터링 방법
TWI583937B (zh) * 2007-11-15 2017-05-21 愛克斯崔里斯科技有限公司 在主動視頻煙霧檢測（ａｖｓｄ）系統中測定光束對準之技術
EP2252871A2 (en) * 2008-02-01 2010-11-24 Cambridge Consultants Limited Device and method for measuring scattering of radiation
EP3736558A1 (en) * 2009-05-01 2020-11-11 Xtralis Technologies Ltd Particle detector
EP2430465B1 (en) * 2009-05-12 2016-03-16 Thermo Fisher Scientific Inc. Particulate detection and calibration of sensors
US8960909B2 (en) * 2012-01-20 2015-02-24 Canon Kabushiki Kaisha Control apparatus and control method
WO2017060164A1 (en) * 2015-10-08 2017-04-13 Koninklijke Philips N.V. Optical sensor for particle detection
JP6862255B2 (ja) 2017-04-12 2021-04-21 キヤノン株式会社 撮像装置、撮像方法および撮像プログラム

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016122860A (ja) * 2000-09-20 2016-07-07 ケーエルエー−テンカー コーポレイション 半導体製造プロセスのための方法とシステム
JP2013522651A (ja) * 2010-03-23 2013-06-13 オフィール−スピリコン エルエルシー ビーム散乱レーザーモニター
WO2012090367A1 (ja) * 2010-12-27 2012-07-05 株式会社日立ハイテクノロジーズ 欠陥検査方法および欠陥検査装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN113383228A (zh) 2021-09-10
WO2020171991A1 (en) 2020-08-27
JP2024026532A (ja) 2024-02-28
KR20210120113A (ko) 2021-10-06
TWI829866B (zh) 2024-01-21
TW202043732A (zh) 2020-12-01
US11016024B2 (en) 2021-05-25
US20200264099A1 (en) 2020-08-20
KR102597965B1 (ko) 2023-11-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6490042B2 (ja) 非線形光学結晶中の結晶位置寿命の測定
US9360410B2 (en) Method and particle analyzer for determining a broad particle size distribution
CN103868831B (zh) 云粒子谱分布测量方法及测量系统
TW200912287A (en) Inspection device, inspection method, and program
JPH05273110A (ja) 粒子または欠陥の大きさ情報の測定方法および装置
US9400254B2 (en) Method and device for measuring critical dimension of nanostructure
TWI785253B (zh) 基於多個散射信號之嵌入式粒子深度分級
CN103424363B (zh) 非旋转式旋光溶液测量仪及采用该测量仪测量旋光溶液旋光率的方法
EP3159674A1 (en) Measurement cell for saxs measurements and for dls measurements
EP2381241B1 (en) Fluorescence lifetime measuring device, fluorescence lifetime measuring method, and program
JP2022520971A (ja) 光散乱に基づく光学器械および器具に対する空気散乱基準
JPH10281876A (ja) 偏光性イメージング装置
JP2008026049A (ja) フランジ焦点距離測定装置
WO2020200330A2 (zh) 一种偏振成像方法及其装置、偏振成像系统
JP2010271186A (ja) 欠陥検査装置
KR101505745B1 (ko) 이중 검출 반사 공초점 현미경 및 이를 사용하는 시편의 높이의 정보를 검출하는 방법
JP2004354347A (ja) 蛍光測定装置
US20140362378A1 (en) Method and Systems to Detect Matter Through Use of a Magnetic Field Gradient
US20210333206A1 (en) Aerosol transmissometer with an in-process transfer standard
WO2024015006A1 (en) Method and system for characterizing organic live particle types in water
JPH0266425A (ja) 粒度分布測定装置
JP3046504B2 (ja) 微粒子測定方法及び微粒子測定装置
JP2011123397A (ja) 対物レンズユニットおよび表面検査装置
JP5274031B2 (ja) 分析方法および分析装置
GUT et al. Investigation of planar sensing structures for gas detections by means of scattered light methode

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230208

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20230208

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20230208

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230328

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230623

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20230829