JP2022505589A - 偏光板の製造方法 - Google Patents

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Abstract

本出願は、高分子フィルム及び偏光板の製造方法に関する。本出願では、偏光板で要求される光学的及び機械的耐久性を効果的に満足させ、ディスプレイ装置に適用されたときにベンディングを誘発しない偏光板を形成できる高分子フィルムとその高分子フィルムを適用した偏光板の製造方法を提供することができる。本出願では、薄いディスプレイ装置に適用される偏光板及び／又は薄い厚さの偏光板でもベンディングを誘発しないと共に、要求される光学的及び機械的耐久性を実現できる高分子フィルムとその高分子フィルムを適用した偏光板の製造方法を提供することができる。

Description

関連出願との相互引用
本出願は、２０１９年１月１１日に提出された大韓民国特許出願第１０－２０１９－０００３６８５号に基づく優先権の利益を主張し、該当韓国特許出願の文献に開示されたすべての内容は本明細書の一部として組み込まれる。
技術分野
本出願は、偏光板の製造方法に関する。
偏光板は、多様なディスプレイ装置で光の状態を制御するために適用される高分子フィルムである。通常、偏光板は、偏光機能がある偏光フィルムの一面又は両面に保護フィルムを付着して製造される。
偏光板は、ディスプレイ装置の使用環境によって多様な温度及び湿度条件に露出されるので、耐久性が要求される。例えば、偏光板は、温度及び湿度のような外部環境によっても設計された光学特性を安定的に維持する必要があり、クラック（ｃｒａｃｋ）などのような機械的欠陥も発生してはいけない。
偏光フィルムの保護フィルムは、偏光板が上記のような要求物性を満足できるように選択されなければならない。
最近には、一層薄いディスプレイ装置に対する要求も増加するとともにベンディング（ｂｅｎｄｉｎｇ）を誘発しない薄い偏光板に対する要求も存在する。偏光板に含まれる偏光フィルムやその他構成要素は、通常、延伸工程を経て製造されるので、外部の温度及び湿度によっては応力を発生させる傾向がある。このような応力は、薄いディスプレイ装置でベンディングを誘発することがあり、このようなベンディングは、ディスプレイ装置の性能に悪影響を与え得る。
本出願は、偏光板の製造方法に関する。本出願では、偏光板で要求される光学的及び機械的耐久性を効果的に満足させ、ディスプレイ装置に適用されたときにベンディングを誘発しない偏光板の製造方法を提供することを目的とする。
本出願では、薄いディスプレイ装置に適用される偏光板及び／又は薄い厚さの偏光板でもベンディングを誘発しないと共に、要求される光学的及び機械的耐久性を実現できる偏光板の製造方法を提供することを一つの目的とする。
本明細書で角度を定義する用語のうち垂直、平行、直交又は水平などは、目的とする効果を損傷させない範囲での実質的な垂直、平行、直交又は水平を意味し、前記垂直、平行、直交又は水平の範囲は、製造誤差（ｅｒｒｏｒ）又は偏差（ｖａｒｉａｔｉｏｎ）などの誤差を含むものである。例えば、上記それぞれの場合は、約±１５度以内の誤差、約±１０度以内の誤差又は約±５度以内の誤差を含むことができる。
本明細書で言及する物性のうち測定温度が該当物性に影響を及ぼす場合に、特記のない限り、前記物性は、常温で測定した物性である。
本明細書で用語「常温」は、特に加温したり減温しない状態での温度であって、約１０℃～３０℃の範囲内のいずれか一つの温度、例えば、約１５℃以上、１８℃以上、２０℃以上又は約２３℃以上であると共に、約２７℃以下の温度を意味することができる。また、特記のない限り、本明細書で言及する温度の単位は、℃である。
本明細書で言及する物性のうち測定圧力が該当物性に影響を及ぼす場合に、特記のない限り、前記物性は、常圧で測定した物性である。
本明細書で用語「常圧」は、特に加圧もしくは減圧しない自然そのままの圧力であって、通常、大気圧のような１気圧程度の圧力を意味する。
本明細書で言及する物性のうち測定湿度が該当物性に影響を及ぼす場合に、特記のない限り、前記物性は、約０ＲＨ％～１００ＲＨ％の範囲内のいずれか一つの湿度、例えば、約９０ＲＨ％以下、約８０ＲＨ％以下、約７０ＲＨ％以下、約６０ＲＨ％以下、約５０ＲＨ％以下、約４０ＲＨ％以下、約３０ＲＨ％以下、約２０ＲＨ％以下、約１８ＲＨ％以下、１５ＲＨ％以下又は約１０ＲＨ％以下であるか、約１ＲＨ％以上、約２ＲＨ％以上、約５ＲＨ％以上、約１０ＲＨ％以上、約１５ＲＨ％以上、約２０ＲＨ％以上、約２５ＲＨ％以上、約３０ＲＨ％以上、約３５ＲＨ％以上、約４０ＲＨ％以上、又は約４５ＲＨ％以上の相対湿度で測定した物性である。上記で単位「ＲＨ％」は、該当湿度が相対湿度（単位：％）であることを意味する。
特記のない限り、本明細書で言及するある２個の方向が成す角度は、上記二つの方向が成す鋭角乃至鈍角のうち鋭角であるか、又は時計方向及び反時計方向に測定された角度のうち小さい角度であってもよい。したがって、特記のない限り、本明細書で言及する角度は、正数である。ただし、場合によって、時計方向又は反時計方向に測定された角度間の測定方向を表示するために、前記時計方向に測定された角度及び反時計方向に測定された角度のうちいずれか一つの角度を陽数で表記し、他の一つの角度を負数で表記してもよい。
本出願の偏光板の製造方法は、高分子フィルムを熱処理するステップ；及び熱処理された前記高分子フィルムを一方向に光吸収軸が形成された偏光フィルムと付着するステップを含むことができる。本出願の方法で、前記高分子フィルムは、光学的に意図された一つ以上の機能を示す高分子フィルムであってもよく、例えば、前記偏光フィルムの保護フィルムであってもよい。
本出願では、高分子フィルムを一旦熱処理した後に偏光フィルムと付着することによって目的とする偏光板を製造し得るという点を確認した。このような熱処理は、特に後述するような機械的非対称性を有する高分子フィルムに対して効果的である。
本出願の一つの例示で、前記熱処理が行われる高分子フィルムは、特定の非対称性を有するフィルムであってもよい。このようなフィルムを前記熱処理工程に適用することで目的を効果的に達成することができる。
本明細書で言及する各高分子フィルムの物性の測定は、本明細書の実施例の項目に記述した方式によって測定する。
本明細書で用いる用語「高分子フィルムの第１方向及び第２方向」は、前記高分子フィルムの面内の任意の方向である。例えば、高分子フィルムが延伸高分子フィルムである場合に、前記面内の方向は、前記高分子フィルムのＭＤ（Ｍａｃｈｉｎｅ Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）及びＴＤ（ｔｒａｎｓｖｅｒｓｅ ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）方向により形成される面内の方向であってもよい。他の例示で、前記第１方向は、高分子フィルムが延伸高分子フィルムである場合に、ＭＤ（Ｍａｃｈｉｎｅ Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）及びＴＤ（ｔｒａｎｓｖｅｒｓｅ ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）方向のうちいずれか一つの方向であり、第２方向は、ＭＤ（Ｍａｃｈｉｎｅ Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）及びＴＤ（ｔｒａｎｓｖｅｒｓｅ ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）方向のうち他の一つの方向であってもよい。
一つの例示で、本明細書で言及する高分子フィルムの第１方向は、前記ＴＤ方向であってもよい。
前記高分子フィルムの非対称性は、高分子フィルムの収縮力により代弁され得る。本明細書で言及する収縮力（高分子フィルム、偏光フィルム又は偏光板の収縮力）は、下記実施例で記載した方式によって測定したものである。また、前記収縮力は、高分子フィルム単独又は高分子フィルム上に後述する光学層が形成されている状態で測定したものであってもよい。
一つの例示で、前記高分子フィルムは、前記熱処理前に第１方向（例えば、上述したＴＤ方向）での収縮力が５．５Ｎ～１５Ｎの範囲内であってもよい。前記高分子フィルムの第１方向での収縮力は、他の例示で、約６Ｎ以上、約６．５Ｎ以上、約７Ｎ以上又は約７．５Ｎ以上であるか、約１５Ｎ以下、１４Ｎ以下、１３Ｎ以下、１２Ｎ以下、１１Ｎ以下、１０Ｎ以下、９Ｎ以下又は８Ｎ以下であってもよい。このような一方向での高い収縮力は、熱処理工程後に目的とする高分子フィルムが効果的に形成され得るようにする。
前記高分子フィルムは、熱処理前に前記第１方向での収縮力（Ｓ１）と前記第１方向に垂直な面内の第２方向での収縮力（Ｓ２）の割合（Ｓ１／Ｓ２）が１０以上であってもよい。前記割合（Ｓ１／Ｓ２）は、他の例示で、約１１以上、約１２以上、約１３以上、約１４以上、約１５以上又は約１５．５以上であるか、約１５０以下、約１４０以下、約１３０以下、約１２０以下、約１１０以下、約１００以下、約９０以下又は約８０以下程度であってもよい。上記で面内の第２方向は、一つの例示で、前記ＭＤ方向であってもよい。
前記高分子フィルムは、前記熱処理前に前記第２方向（例えば、上述したＭＤ方向）での収縮力が０．０１Ｎ～２Ｎの範囲内であってもよい。前記高分子フィルムの第２方向での収縮力は、他の例示で、約０．０３Ｎ以上、約０．０５Ｎ以上、約０．０７Ｎ以上又は約０．０９Ｎ以上であるか、約１．８Ｎ以下、１．６Ｎ以下、１．４Ｎ以下、１．２Ｎ以下、１Ｎ以下、０．８Ｎ以下又は０．６Ｎ以下程度であってもよい。このような一方向での高い収縮力は、熱処理工程後に目的とする高分子フィルムが効果的に形成され得るようにする。
上記のような大きい収縮力及び／又は収縮力の非対称性を有する高分子フィルムとしては、約３，０００ｎｍ以上の高位相差を示す、いわゆる高延伸ＰＥＴ（ｐｏｌｙ（ｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ））フィルム又はＳＲＦ（Ｓｕｐｅｒ Ｒｅｔａｒｄａｔｉｏｎ Ｆｉｌｍ）などとして知られているフィルムが代表的に知られている。したがって、本出願で前記高分子フィルムは、例えば、ポリエステル高分子フィルムであってもよい。
上記のような高分子フィルム、すなわち、高い位相差を有するフィルムは、業界で公知であり、このようなフィルムは、製造過程での高延伸などによって機械的物性も大きな非対称性を示す。業界で公知の状態の前記高分子フィルムの代表的な例としては、ＰＥＴ（ｐｏｌｙ（ｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ））フィルムなどのようなポリエステルフィルムであり、例えば、Ｔｏｙｏｂｏ社から供給される商品名ＳＲＦ（Ｓｕｐｅｒ Ｒｅｔａｒｄａｔｉｏｎ Ｆｉｌｍ）系列のフィルムがある。
通常、延伸ＰＥＴフィルムは、ＰＥＴ系樹脂を溶融／圧出で製膜し、延伸して製造した１層以上の一軸延伸フィルム又は製膜後に縦及び横延伸して製造した１層以上の二軸延伸フィルムである。
ＰＥＴ系樹脂は、通常、繰り返し単位の８０モル％以上がエチレンテレフタレートになる樹脂を意味し、他のジカルボン酸成分とジオール成分を含んでもよい。他のジカルボン酸成分としては、特に限定されるものではないが、例えば、イソフタル酸、ｐ－ベータ－オキシエトキシ安息香酸、４，４’－ジカルボキシジフェニル、４，４’－ジカルボキシベンゾフェノン、ビス（４－カルボキシフェニル）エタン、アジピン酸、セバシン酸及び／又は１，４－ジカルボキシシクロヘキサンなどが挙げられる。
他のジオール成分としては、特に限定されるものではないが、プロピレングリコール、ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、シクロヘキサンジオール、ビスフェノールＡのエチレンオキシド付加物、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール及び／又はポリテトラメチレングリコールなどが挙げられる。
前記ジカルボン酸成分やジオール成分は、必要に応じて、２種以上を組み合わせて用いることができる。また、ｐ－オキシ安息香酸などのオキシカルボン酸を併用してもよい。また、他の共重合成分として、少量のアミド結合、ウレタン結合、エーテル結合及びカーボネート結合などを含有するジカルボン酸成分又はジオール成分が用いられてもよい。
ＰＥＴ系樹脂の製造方法としては、テレフタル酸、エチレングリコール及び／又は、必要に応じて、他のジカルボン酸又は他のジオールを直接重縮合させる方法、テレフタル酸のジアルキルエステル及びエチレングリコール及び／又は、必要に応じて、他のジカルボン酸のジアルキルエステル又は他のジオールをエステル交換反応させた後に重縮合させる方法、及びテレフタル酸及び／又は、必要に応じて、他のジカルボン酸のエチレングリコールエステル及び／又は、必要に応じて、他のジオールエステルを重縮合させる方法などが採用される。
それぞれの重合反応には、アンチモン系、チタン系、ゲルマニウム系又はアルミニウム系化合物を含む重合触媒、又は前記複合化合物を含む重合触媒を用いることができる。
重合反応条件は、用いられる単量体、触媒、反応装置及び目的とする樹脂物性によって適切に選択することができ、特に制限されるものではないが、例えば、反応温度は、通常、約１５０℃～約３００℃、約２００℃～約３００℃又は約２６０℃～約３００℃である。また、反応圧力は、通常、大気圧乃至約２．７Ｐａであり、反応後半には減圧側であってもよい。
重合反応は、ジオール、アルキル化合物又は水などの離脱反応物を揮発させることで進行される。
重合装置は、反応槽が一つに完結されるものであってもよく、又は複数の反応槽を連結したものであってもよい。この場合、通常、重合度によって、反応物は、反応槽の間を移送されながら重合される。また、重合後半に横型反応装置を具備し、加熱／混練しながら揮発させる方法も採用できる。
重合終了後の樹脂は、溶融状態で反応槽や横型反応装置から放出された後、冷却ドラムや冷却ベルトなどで冷却／粉砕されたフレーク状の形態で、又は圧出器に導入されて紐形状に圧出された後に裁断されたペレット状の形態で得られる。また、必要に応じて、固相重合を行って分子量を向上させるか低分子量成分を減少させることもできる。ＰＥＴ系樹脂に含まれ得る低分子量成分としては、環状３量体成分が挙げられるが、このような環状３量体成分の樹脂中での含有量は、通常、５０００ｐｐｍ以下又は３０００ｐｐｍ以下に調節される。
ＰＥＴ系樹脂の分子量は、フェノール／テトラクロロエタン＝５０／５０（重量比）の混合溶媒に樹脂を溶解させ、３０℃で測定した極限粘度で示したとき、通常、０．４５～１．０ｄＬ／ｇ、０．５０～１０ｄＬ／ｇ又は０．５２～０．８０ｄＬ／ｇの範囲である。
ＰＥＴ系樹脂は、必要に応じて、添加剤を含有することができる。添加剤としては、例えば、滑剤、ブロッキング防止剤、熱安定剤、酸化防止剤、帯電防止剤、耐光剤及び耐衝撃性改良剤などが挙げられる。その添加量は、光学物性に悪影響を及ぼさない範囲にすることが好ましい。
ＰＥＴ系樹脂は、このような添加剤の配合のために、及び後述するフィルムの成形のために、通常、圧出器により組み立てられたペレット形状で用いられる。ペレットのサイズや形状は、特に制限されるものではないが、通常、高さ、直径が全て５ｍｍ以下である円柱状、球状又は扁平球状である。このようにして得られるＰＥＴ系樹脂は、フィルム状に成形して延伸処理することで、透明で且つ均質の機械的強度が高いＰＥＴフィルムに製造できる。その製造方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、次に記載する方法が採用される。
乾燥させたＰＥＴ樹脂からなるペレットを溶融圧出装置に供給し、融点以上に加熱して溶融させる。次に、溶融された樹脂をダイから圧出、回転冷却ドラム上でガラス転移温度以下の温度になるように急冷固化させ、実質的に非結晶状態の未延伸フィルムを得る。この溶融温度は、用いられるＰＥＴ系樹脂の融点や圧出器によって決まるものであり、特に制限されるものではないが、通常、２５０℃～３５０℃である。また、フィルムの平面性を向上させるためには、フィルムと回転冷却ドラムとの密着性を高めることが好ましく、静電印加密着法又は液体塗布密着法が好ましく採用される。静電印加密着法とは、通常、フィルムの上面側にフィルムの流れと直交する方向に線状電極を設置し、その電極に約５～１０ｋＶの直流電圧を印加することでフィルムに静電荷を提供して回転冷却ドラムとフィルムとの密着性を向上させる方法である。また、液体塗布密着法とは、回転冷却ドラム表面の全体又は一部（例えば、フィルムの両端部と接触する部分のみ）に液体を均一に塗布することで回転冷却ドラムとフィルムとの密着性を向上させる方法である。必要に応じて、両方を併用してもよい。用いられるＰＥＴ系樹脂は、必要に応じて、２種以上の樹脂、構造や組成が異なる樹脂を混合してもよい。例えば、ブロッキング防止剤としての粒状充填材、紫外線吸収剤又は帯電防止剤などが配合されたペレットと無配合のペレットを混合して用いるものなどが挙げられる。
圧出させるフィルムの積層数は、必要に応じて、２層以上にしてもよい。例えば、ブロッキング防止剤への粒状充填材を配合したペレットと無配合のペレットを準備し、他の圧出器から同一なダイに供給して「充填材配合／無配合／充填材配合」の２種３層からなるフィルムを圧出させるものなどが挙げられる。
前記未延伸フィルムは、ガラス転移温度以上の温度で、通常、優先圧出方向に縦延伸される。延伸温度は、通常、７０℃～１５０℃、８０～１３０℃又は９０～１２０℃である。また、延伸倍率は、通常、１．１～６倍又は２～５．５倍である。延伸は、１回でおわってもよく、必要に応じて、複数回に分けて行ってもよい。
このようにして得られる縦延伸フィルムは、その後に熱処理を行うことができる。その後、必要に応じて、弛緩処理を行ってもよい。この熱処理温度は、通常、１５０℃～２５０℃、１８０～２４５℃又は２００～２３０℃である。また、熱処理時間は、通常、１～６００秒間又は１～３００秒間又は１～６０秒間である。
弛緩処理の温度は、通常、９０～２００℃又は１２０～１８０℃である。また、弛緩量は、通常、０．１～２０％又は２～５％である。この弛緩処理の温度及び弛緩量は、弛緩処理後のＰＥＴフィルムの１５０℃での熱収縮率が２％以下になるように、弛緩量及び弛緩処理時の温度を設定することができる。
一軸延伸及び二軸延伸フィルムを得る場合、通常、縦延伸処理後に、または必要に応じて、熱処理又は弛緩処理を経た後に、テンターにより横延伸が行われる。この延伸温度は、通常、７０℃～１５０℃、８０℃～１３０℃又は９０℃～１２０℃である。また、延伸倍率は、通常、１．１～６倍又は２～５．５倍である。その後、熱処理及び必要に応じて、弛緩処理を行うことができる。熱処理温度は、通常、１５０℃～２５０℃又は１８０℃～２４５℃又は２００～２３０℃である。熱処理時間は、通常、１～６００秒間、１～３００秒間又は１～６０秒間である。
弛緩処理の温度は、通常、１００～２３０℃、１１０～２１０℃又は１２０～１８０℃である。また、弛緩量は、通常、０．１～２０％、１～１０％又は２～５％である。この弛緩処理の温度及び弛緩量は、弛緩処理後のＰＥＴフィルムの１５０℃での熱収縮率が２％以下になるように、その弛緩量及び弛緩処理時の温度を設定することができる。
一軸延伸及び二軸延伸処理においては、横延伸後、ボーイングに代表されるような配向主軸の変形を緩和させるために、再び熱処理を行うか延伸処理を行うことができる。ボーイングによる配向主軸の延伸方向に対する変形の最大値は、通常、４５度以内、３０度以内又は１５度以内である。また、ここで、延伸方向とは、縦延伸又は横延伸における延伸が大きい方向を言う。
ＰＥＴフィルムの二軸延伸では、通常、横延伸倍率の場合の方が縦延伸倍率より多少大きく行われ、この場合、延伸方向とは、前記フィルムの長い方向に対して垂直方向を言う。また、一軸延伸では、通常、上述したように横方向に延伸され、この場合、延伸方向とは、同一に長い方向に対して垂直方向を言う。
配向主軸とは、延伸ＰＥＴフィルム上の任意の点での分子配向方向を言う。また、配向主軸の延伸方向に対する変形とは、配向主軸と延伸方向との角度差を言う。また、その最大値とは、長い方向に対して垂直方向上での値の最大値を言う。配向主軸の確認方法は、公知であり、例えば、位相差フィルム／光学材料検査装置ＲＥＴＳ（大塚電子株式会社製造）又は分子配向計ＭＯＡ（王子計測機器株式会社製造）を用いて測定することができる。
本出願で適用される前記高分子フィルムの厚さは、用途によって決まるものであって、特に制限されない。例えば、前記高分子フィルムの厚さは、約２０μｍ～２５０μｍの範囲内であってもよい。前記厚さは、他の例示で、約２４０μｍ以下、約２３０μｍ以下、約２２０μｍ以下、約２１０μｍ以下、約２００μｍ以下、約１９０μｍ以下、約１８０μｍ以下、約１７０μｍ以下、約１６０μｍ以下、１５０μｍ以下、約１４０μｍ以下、約１３０μｍ以下、約１２０μｍ以下、約１１０μｍ以下又は１００μｍ以下であってもよく、約３０μｍ以上、４０μｍ以上、５０μｍ以上、６０μｍ以上又は７０μｍ以上程度であってもよい。
前記高分子フィルムの熱処理は、前記第１方向での熱処理前の高分子フィルムの収縮力（ＳＢ）と熱処理後の高分子フィルムの収縮力（ＳＡ）の割合（ＳＢ／ＳＡ）が約１を超過できるように行われる得る。前記割合（ＳＢ／ＳＡ）は、他の例示で、約１．０１以上、約１．０２以上、約１．０３以上、１．０４以上、約１．０５以上、約１．０６以上、約１．０７以上、約１．０８以上、約１．０９以上、約１．１以上、約１．１１以上、約１．１２以上、約１．１３以上、１．１４以上、約１．１５以上、約１．１６以上、約１．１７以上、約１．１８以上、約１．１９以上、約１．２以上、約１．２１以上、約１．２２以上、約１．２３以上、約１．２４以上、約１．２５以上、約１．２６以上、約１．２７以上、約１．２８以上、約１．２９以上又は約１．３以上であるか、あるいは、約１０以下、約９以下、約８以下、約７以下、約６以下、約５以下、約４以下、約３以下、約２以下、約１．９以下、約１．８以下、約１．７以下、約１．６以下、約１．５以下、約１．４以下、約１．３以下又は約１．２以下程度になってもよい。前記高分子フィルムの第１方向での収縮力が前記範囲内に補正されるように行う熱処理によって全体的な偏光板の物性が目的とするレベルに維持され得る。
前記高分子フィルムは、熱処理後に前記第１方向での収縮力が約５Ｎ～１０Ｎの範囲内に属することができる。前記熱処理後の第１方向での収縮力は、他の例示で、約５．１Ｎ以上、約５．２Ｎ以上、約５．３Ｎ以上、約５．４Ｎ以上、約５．５Ｎ以上、５．６Ｎ以上、５．７Ｎ以上、５．８Ｎ以上、５．９Ｎ以上、６Ｎ以上、６．１Ｎ以上、６．２Ｎ以上、６．３Ｎ以上、６．４Ｎ以上、６．５Ｎ以上、６．６Ｎ以上、６．７Ｎ以上、６．８Ｎ以上、６．９Ｎ以上、約７Ｎ以上又は約７．１Ｎ以上であるか、約９．５Ｎ以下、約９Ｎ以下、約８．５Ｎ以下、約８以下、約７．５Ｎ以下、７．３Ｎ以下、７．２Ｎ以下、７．１Ｎ以下、７．０Ｎ以下又は６．９Ｎ以下であってもよい。前記高分子フィルムの第１方向での収縮力が前記範囲内に補正されるように行う熱処理によって全体的な偏光板の物性が目的とするレベルに維持され得る。
前記高分子フィルムは、熱処理後に前記第１方向（例えば、前記ＴＤ方向）での収縮力（Ｓ１）と前記第１方向に垂直な面内の第２方向（例えば、前記ＭＤ方向）での収縮力（Ｓ２）の割合（Ｓ１／Ｓ２）が１３以上であってもよい。前記割合（Ｓ１／Ｓ２）は、他の例示で、約１４以上、約１５以上、約１６以上、約１７以上又は約１７．５以上であるか、約１５０以下、約１４０以下、約１３０以下、約１２０以下、約１１０以下、約１００以下、約９０以下又は約８０以下、約７０以下、約６０以下、約５０以下、約４０以下又は約３８以下程度であってもよい。前記高分子フィルムの収縮力が前記範囲内に補正されるように行う熱処理によって全体的な偏光板の物性が目的とするレベルに維持され得る。
前記高分子フィルムは、前記熱処理後に前記第２方向（例えば、上述したＭＤ方向）での収縮力が０．０５Ｎ～３Ｎの範囲内であってもよい。前記高分子フィルムの第２方向での収縮力は、他の例示で、約０．０７Ｎ以上、約０．０９Ｎ以上、約０．１Ｎ以上、約０．１５Ｎ以上又は約０．２Ｎ以上であるか、約１．８Ｎ以下、１．６Ｎ以下、１．４Ｎ以下、１．２Ｎ以下、１Ｎ以下、０．８Ｎ以下、０．６Ｎ以下又は約０．４Ｎ以下程度であってもよい。前記高分子フィルムの収縮力が前記範囲内に補正されるように行う熱処理によって全体的な高分子フィルムの物性が目的とするレベルに維持され得る。
通常、熱処理温度が高くなるか、熱処理時間が長くなれば、収縮力が減る傾向があるので、これを考慮して熱処理条件を適切に調節することができる。
上述した高延伸ポリエステルフィルムは、上述したように非対称性を示すが、それ自体では本出願で目的とする収縮力特性の達成が容易ではない。したがって、本出願では、前記高延伸ポリエステルフィルムに対して所定の熱処理を行ってその特性を調節する。例えば、高分子フィルムは、該当フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）を基準に所定範囲の温度での熱処理を通じて収縮力を減少させ得る。例えば、該当保護フィルムのガラス転移温度をＴｇとするとき（単位：℃）、Ｔｇ－６０（℃）～Ｔｇ＋５０（℃）の範囲内の温度で熱処理することで、収縮力などを目的とする範囲に調節することができる。このような場合に、一般的に、いわゆるＭＤ（Ｍａｃｈｉｎｅ Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）方向よりはＴＤ（ｔｒａｎｓｖｅｒｓｅ ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）方向での収縮力が制御される。
前記熱処理温度は、他の例示で、Ｔｇ＋４５℃以下、Ｔｇ＋４０℃以下、Ｔｇ＋３５℃以下、Ｔｇ＋３０℃以下、Ｔｇ＋２５℃以下、Ｔｇ＋２０℃以下、Ｔｇ＋１５℃以下、Ｔｇ＋１０℃以下、Ｔｇ＋５℃以下、Ｔｇ０℃以下、Ｔｇ－５℃以下、Ｔｇ－１０℃以下、Ｔｇ－１５℃以下、Ｔｇ－２０℃以下、Ｔｇ－２５℃以下、Ｔｇ－３０℃以下又はＴｇ－３５℃以下程度であるか、Ｔｇ－５５℃以上、Ｔｇ－５０℃以上、Ｔｇ－４５℃以上又はＴｇ－４０℃以上であってもよく、上記でＴｇは、ガラス転移温度である。
本出願では、高延伸ポリエステルフィルムに対して上記のような温度で熱処理を行うことで上記目的とする特性の確保が可能である点を確認した。熱処理が行われる時間は、特別な制限なしに目的特性を考慮して調節することができ、通常、約１０秒～１，０００秒の範囲内で行われ得る。前記熱処理時間は、他の例示で、約１５秒以上、約２０秒以上、約２５秒以上又は約３０秒以上であるか、約９００秒以下、約８５０秒以下、約８００秒以下、約７５０秒以下、約７００秒以下、約６５０秒以下、約６００秒以下、約５５０秒以下、約５００秒以下、約４５０秒以下、約４００秒以下、約３５０秒以下、約３００秒以下、約２５０秒以下、約２００秒以下、約１５０秒以下、約１００秒以下又は約９０秒以下程度であってもよい。
前記のような熱処理を経て高分子フィルムの非対称性を目的とするレベルに補正して目的とする偏光板を形成することができる。
本出願は、上記のような方式で熱処理した高分子フィルムを偏光フィルムと付着するステップを含む偏光板を製造する方法に関する。
本明細書で用語「偏光フィルム」と「偏光板」は、異なる意味を有する。用語「偏光フィルム」は、例えば、ヨウ素のような異方性物質が吸着及び配向されているＰＶＡ（ｐｏｌｙ（ｖｉｎｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ））系フィルムのように偏光機能を示す機能性素子自体を意味し、「偏光板」は、前記偏光フィルムと共に他の要素を含む素子を意味する。上記で偏光フィルムとともに含まれる他の要素としては、偏光フィルムの保護フィルム、視野角補償フィルム、ハードコーティング層、位相差フィルム、帯電防止層、接着剤層、粘着剤層又は低反射（Ｌｏｗ Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）層などが例示され得るが、これに制限されるものではない。
本出願の方法で用いられる高分子フィルムは、前記偏光フィルムとともに偏光板に含まれる他の要素であってもよく、一つの例示で、前記偏光フィルムの保護フィルムとして前記高分子フィルムが適用され得る。
本出願で製造される偏光板は、全体厚さが２００μｍ以下であってもよい。すなわち、前記偏光板は、上述した多様な要素を含むことができるが、最終厚さは、前記範囲内に制限され得る。偏光板の厚さを２００μｍ以下にする場合に、薄い厚さが要求される多様な用途に効果的に対処することができる。通常、偏光板には、前記偏光板をディスプレイ装置に適用するための粘着剤層が形成されており、前記粘着剤層を保護するために離型フィルムを前記粘着剤層に付着しておくか、偏光板の最外側に一時的に離型性の表面保護シートを付着しておく場合がある。本出願で言及する前記２００μｍ以下の厚さは、前記離型フィルムや表面保護シートのように最終的に偏光板をディスプレイに適用するときに除去される部位は除いた厚さである。前記厚さは、他の例示で、約１９５μｍ以下、約１９０μｍ以下、約１８５μｍ以下、約１８０μｍ以下、約１７５μｍ以下、約１７０μｍ以下、約１６５μｍ以下、約１６０μｍ以下、約１５５μｍ以下、約１５０μｍ以下、約１４５μｍ以下又は約１４０μｍ以下程度であってもよい。前記偏光板の厚さの下限は、特に制限されるものではないが、一般的に、約５０μｍ以上、６０μｍ以上、７０μｍ以上、８０μｍ以上、９０μｍ以上、１００μｍ以上、１１０μｍ以上又は１２０μｍ以上程度であってもよい。
本明細書で言及する厚さは、対象物品の主表面と主裏面を連結する最短距離、最大距離又は平均距離を意味することができ、一定部分の製造誤差乃至偏差が存在してもよい。
上記で偏光フィルムとしては、面内の一つの方向に沿って光吸収軸が形成されている偏光フィルムを用いることができる。このような偏光フィルムは、多様に公知となっている。一つの例示で、前記偏光フィルムとしては、代表的な線形吸収型偏光フィルムであるポリビニルアルコール（ｐｏｌｙ（ｖｉｎｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ）、以下、ＰＶＡ）系偏光フィルムを用いることができる。このような偏光フィルムは、通常、ＰＶＡフィルム及び前記ＰＶＡフィルムに吸着配向された異方吸収性物質を含む。前記異方吸収性物質としては、多様な二色性色素が用いられ得、代表的には、ヨウ素系列の物質が用いられ得る。このような偏光フィルムは、一般的に、ヨウ素系吸水性線形ＰＶＡ偏光フィルムと呼ばれる。
例えば、前記ＰＶＡ系偏光フィルムは、ＰＶＡ系フィルムに、膨潤、染色、架橋及び延伸などの各処理を行い、洗浄及び乾燥工程を経て製造することができる。後述するように、前記偏光フィルムは、収縮力が所定範囲に調節され得るが、前記工程のうちいずれか一つの工程で工程条件を調節して前記収縮力を調節することができる。一般的に、収縮力は、前記工程のうち延伸工程時に延伸倍率などに影響を受け得る。すなわち、延伸倍率が高いと、収縮力が高くなり、低いと、低くなり得る。しかし、このような方式は、収縮力を調節することができる一つの例示的な方法に該当し、偏光フィルムの製造分野において当業者は、目的によって所望する収縮力を有する偏光フィルムを容易に製造することができる。
本出願の偏光フィルムは、前記ヨウ素系吸収型線形ＰＶＡ偏光フィルムであって、ＰＶＡ系フィルム及び前記ＰＶＡ系フィルム上に吸着配向されている異方吸収性物質を含むことができる。
上記でＰＶＡ系フィルムとしては、例えば、従来偏光フィルムに用いられている一般的なＰＶＡ系フィルムが用いられ得る。このようなＰＶＡ系フィルムの材料としては、ＰＶＡ又はその誘導体が挙げられる。ＰＶＡの誘導体としては、ポリビニルホルマール又はポリビニルアセタールなどが挙げられ、その外にもエチレン又はプロピレンなどのオレフィン、アクリル酸、メタクリル酸又はクロトン酸などの不飽和カルボン酸及びそのアルキルエステル又はアクリルアミドなどにより変性されたものが挙げられる。ＰＶＡの重合度は、通常的に、１００～１００００程度、１０００～１００００程度であり、鹸化度は、８０モル％～１００モル％程度であるが、これに制限されるものではない。
ＰＶＡ系フィルムとしては、エチレン酢酸ビニル共重合体系列の部分鹸化フィルムなどの親水性高分子フィルム、ＰＶＡの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物などポリエン系配向フィルムなども例示され得る。
ＰＶＡ系フィルム中には、可塑剤又は界面活性剤などの添加剤が含まれていてもよい。上記で可塑剤としては、ポリオールやその縮合物などが例示され得、例えば、グリセリン、ジグリセリン、トリグリセリン、エチレングリコール、プロピレングリコール又はポリエチレングリコールなどが例示され得る。このような可塑剤が用いられる場合に、その割合は、特に制限されず、通常的にＰＶＡ系フィルム中約２０重量％以下であってもよい。
偏光フィルムに含まれ得る異方吸収性物質の種類も特に制限されない。本出願では、公知の異方吸収性物質のうち上述した光学的特性を満足させることができるものが適切に選択され得る。異方吸収性物質の例としては、ヨウ素が例示され得る。偏光フィルム内の異方吸収性物質の割合も所望する物性を満足させることができる範囲であれば、特に制限されない。
偏光フィルムは、例えば、ＰＶＡ系フィルムに染色、架橋及び延伸工程を少なくとも行って製造することができる。
染色工程では、前記ＰＶＡ系フィルムにヨウ素のような異方吸収性物質を吸着及び／又は配向させ得る。このような染色工程は、延伸工程とともに行われ得る。染色は、前記フィルムを、異方吸収性物質を含む溶液、例えば、ヨウ素溶液に浸漬させて一般的に行われ得る。ヨウ素溶液としては、例えば、ヨウ素及び溶解補助剤であるヨウ化物によりヨードイオンを含有させた水溶液などが用いられ得る。上記でヨウ化物としては、例えば、ヨウ化カリウム、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化亜鉛、ヨウ化アルミニウム、ヨウ化鉛、ヨウ化銅、ヨウ化バリウム、ヨウ化カルシウム、ヨウ化スズ又はヨウ化チタンなどが用いられ得る。前記ヨウ素溶液中でヨウ素及び／又はヨウ化イオンの濃度は、目的によって通常的な範囲内で制御され得る。染色工程でヨウ素溶液の温度は、通常的に、２０℃～５０℃、２５℃～４０℃程度であり、浸漬時間は、通常的に、１０秒～３００秒又は２０秒～２４０秒程度であるが、これに制限されるものではない。
偏光フィルムの製造過程で行われる架橋工程は、例えば、ホウ素化合物のような架橋剤を用いて行うことができる。架橋工程の順序は特に制限されず、例えば、染色及び／又は延伸工程とともに行うか、別に進行することができる。架橋工程は、複数回実施してもよい。前記ホウ素化合物としては、ホウ酸又はホウ砂などが用いられ得る。ホウ素化合物は、水溶液又は水と有機溶媒の混合溶液の形態で一般的に用いられ得、通常的には、ホウ酸水溶液が用いられる。ホウ酸水溶液でのホウ酸濃度は、架橋度とそれによる耐熱性などを考慮して適正範囲に選択され得る。ホウ酸水溶液などにもヨウ化カリウムなどのヨウ化物を含有させ得る。
架橋工程の処理温度は、通常的に、２５℃以上、３０℃～８５℃又は３０℃～６０℃程度の範囲であり、処理時間は、通常的に、５秒～８００秒間又は８秒～５００秒間程度であるが、これに制限されるものではない。
延伸工程は、一般的に一軸延伸で行う。このような延伸は、前記染色及び／又は架橋工程とともに行ってもよい。延伸方法は特に制限されず、例えば、湿潤式延伸方式が適用され得る。このような湿潤式延伸方法では、例えば、染色後に延伸を行うことが一般的であるが、延伸は架橋とともに行われ得、複数回又は多段で行ってもよい。
湿潤式延伸方法に適用される処理液にヨウ化カリウムなどのヨウ化物を含有させ得る。延伸で処理温度は、通常的に、２５℃以上、３０℃～８５℃又は５０℃～７０℃の範囲内程度であり、処理時間は、通常、１０秒～８００秒又は３０秒～５００秒間であるが、これに制限されるものではない。
延伸過程で総延伸倍率は、配向特性などを考慮して調節することができ、ＰＶＡ系フィルムの本来の長さを基準に総延伸倍率が３倍～１０倍、４倍～８倍又は５倍～７倍程度であってもよいが、これに制限されるものではない。上記で総延伸倍率は、延伸工程以外の膨潤工程などにおいても延伸を伴う場合には、各工程における延伸を含んだ累積延伸倍率を意味することができる。このような総延伸倍率は、配向性、偏光フィルムの加工性乃至は延伸切断可能性などを考慮して適正範囲に調節され得る。上述したように、前記延伸倍率の制御を通じて収縮力の制御が可能である。
偏光フィルムの製造工程では、前記染色、架橋及び延伸に追加で前記工程を行う前に膨潤工程を行ってもよい。膨潤によりＰＶＡ系フィルム表面の汚染やブロッキング防止剤を洗浄することができ、また、それによって染色偏差などの不均一を減らすことができる効果もある。
膨潤工程では、通常的に、水、蒸溜水又は純水などが用いられ得る。当該処理液の主成分は、水であり、必要に応じて、ヨウ化カリウムなどのヨウ化物又は界面活性剤などのような添加物や、アルコールなどが少量含まれていてもよい。
膨潤過程での処理温度は、通常的に、２０℃～４５℃又は２０℃～４０℃程度であるが、これに制限されない。膨潤偏差は、染色偏差を誘発することができるので、このような膨潤偏差の発生ができるだけ抑制されるように工程変数が調節され得る。必要に応じて、膨潤工程でも適切な延伸が行われ得る。延伸倍率は、ＰＶＡ系フィルムの本来の長さを基準に６．５倍以下、１．２～６．５倍、２倍～４倍又は２倍～３倍程度であってもよい。膨潤過程での延伸は、膨潤工程後に行われる延伸工程での延伸を小さく制御することができ、フィルムの延伸破断が発生しないように制御することができる。
偏光フィルムの製造過程では、金属イオン処理が行われ得る。このような処理は、例えば、金属塩を含有する水溶液にＰＶＡ系フィルムを浸漬することで行う。これを通じて、偏光子内に金属イオンを含有させ得るが、この過程で金属イオンの種類乃至は割合を調節してもＰＶＡ系偏光フィルムの色調の調節が可能である。適用できる金属イオンとしては、コバルト、ニッケル、亜鉛、クロム、アルミニウム、銅、マンガン又は鉄などの転移金属の金属イオンが例示され得、このうち適切な種類の選択により色調の調節が可能である。
偏光フィルムの製造過程では、染色、架橋及び延伸後に洗浄工程が進行され得る。このような洗浄工程は、ヨウ化カリウムなどのヨウ化物溶液により行われ得、水を用いて行ってもよい。
このような水による洗浄とヨウ化物溶液による洗浄は、組み合わされてもよく、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール又はプロパノールなどの液体アルコールを配合した溶液が用いられてもよい。
このような工程を経た後に乾燥工程を行って偏光フィルムを製造することができる。乾燥工程では、例えば、偏光フィルムに要求される水分率などを考慮して適切な温度で適切な時間の間行われ得、このような条件は特に制限されない。
本出願で適用する偏光フィルムの厚さは、通常、約５μｍ～２５μｍの範囲内であってもよい。前記厚さは、他の例示で、約２４μｍ以下、２３μｍ以下、２２μｍ以下、２１μｍ以下、２０μｍ以下、１９μｍ以下、１８μｍ以下又は１７μｍ以下であってもよく、約６μｍ以上、７μｍ以上、８μｍ以上、９μｍ以上、１０μｍ以上、１１μｍ以上、１２μｍ以上、１３μｍ以上、１４μｍ以上、１５μｍ以上又は１６μｍ以上程度であってもよい。
前記偏光フィルムは、面内の一つの方向での収縮力が約０．１Ｎ～１５Ｎの範囲内であってもよい。前記面内の一つの方向は、例えば、上述した光吸収軸が形成された方向であってもよい。前記収縮力は、１４．５Ｎ以下、１４Ｎ以下、１３．５Ｎ以下、１３Ｎ以下、１２．５Ｎ以下、１２Ｎ以下、１１．５Ｎ以下、１１Ｎ以下、１０．５Ｎ以下、１０Ｎ以下、９．５Ｎ以下又は９Ｎ以下であってもよく、又は０．５Ｎ以上、１Ｎ以上、２Ｎ以上、３Ｎ以上、４Ｎ以上、５Ｎ以上、６Ｎ以上、７Ｎ以又は８Ｎ以上であってもよい。本明細書で言及する収縮力は、実施例で提示した方式で測定した値である。通常、ＰＶＡ系偏光フィルムは、光吸収軸方向で前記言及した収縮力を示す。
上記のような収縮力の偏光フィルムは、入手可能な偏光フィルムのうち前記収縮力を有する偏光フィルムを選択するか、あるいは上述したように製造過程で延伸条件などの工程条件を制御して適用することができる。通常、ＰＶＡ偏光フィルムを用いて製造した偏光フィルムは光吸収軸方向で上記言及した範囲の収縮力を示すので、一般的には、本出願で前記ＰＶＡ系フィルムを用いて製造された偏光フィルム、すなわち、ＰＶＡ系偏光フィルムが用いられ得る。
本出願の製造方法では、上記のような偏光フィルムと前記高分子フィルムを付着するステップを行う。
本出願の製造方法で、前記偏光フィルムと前記高分子フィルムの付着は、前記偏光フィルムの光吸収軸方向の全体偏光板の収縮力（ＳＰ）と前記光吸収軸方向と垂直の方向の全体偏光板の収縮力（ＳＶ）の割合（ＳＰ／ＳＶ）が０．７８～１．５の範囲内になるように行われ得る。前記割合（ＳＰ／ＳＶ）は、他の例示で、約０．７９以上、約０．８以上、約０．８１以上、約０．８２以上、約０．８３以上、約０．８４以上、約０．８５以上、約０．８６以上、約０．８７以上、約０．８８以上、約０．８９以上、約０．９以上、約０．９１以上、約０．９２以上、約０．９３以上、約０．９４以上、約０．９５以上、約０．９６以上又は約０．９７以上であるか、約１．４９以下、約１．４８以下、約１．４７以下、約１．４６以下、約１．４５以下、約１．４４以下、約１．４３以下、約１．４２以下、約１．４１以下、約１．４以下、約１．３９以下、約１．３８以下、約１．３７以下、約１．３６以下、約１．３５以下、約１．３４以下、約１．３３以下、約１．３２以下、約１．３１以下、約１．３０以下、約１．２９以下、約１．２８以下、約１．２７以下、約１．２６以下、約１．２５以下、約１．２４以下、約１．２３以下、約１．２２以下、約１．２１以下、約１．２以下、約１．１９以下、約１．１８以下、約１．１７以下、約１．１６以下、約１．１５以下、約１．１４以下、約１．１３以下、約１．１２以下、約１．１１以下、約１．１以下、約１．０９以下、約１．０８以下、約１．０７以下、約１．０６以下、約１．０５以下、約１．０４以下、約１．０３以下、約１．０２以下、約１．０１以下又は約１以下程度であってもよい。前記割合を調節することで、目的とする偏光板、すなわち、厚さ及び光吸収軸方向、そして偏光板のサイズなどと関係なくベンディング乃至はツイスティングを防止し得る偏光板を形成することができる。
また、本出願の製造方法で、前記偏光フィルムと前記高分子フィルムの付着は、前記偏光フィルムの光吸収軸と平行の方向での全体偏光板の収縮力が６．５Ｎ～１５Ｎの範囲内であってもよい。前記収縮力は、他の例示で、約６．６Ｎ以上、６．７Ｎ以上、６．８Ｎ以上、６．９Ｎ以上、７Ｎ以上、７．１Ｎ以上、７．２Ｎ以上、７．３Ｎ以上、７．４Ｎ以上、７．５Ｎ以上、７．６Ｎ以上又は７．７Ｎ以上であるか、１４．９Ｎ以下、１４．８Ｎ以下、１４．７Ｎ以下、１４．６Ｎ以下、１４．５Ｎ以下、１４．４Ｎ以下、１４．３Ｎ以下、１４．２Ｎ以下、１４．１Ｎ以下、１４Ｎ以下、１３．９Ｎ以下、１３．８Ｎ以下、１３．７Ｎ以下、１３．６Ｎ以下、１３．５Ｎ以下、１３．４Ｎ以下、１３．３Ｎ以下、１３．２Ｎ以下、１３．１Ｎ以下、１３Ｎ以下、１２．９Ｎ以下、１２．８Ｎ以下、１２．７Ｎ以下、１２．６Ｎ以下、１２．５Ｎ以下、１２．４Ｎ以下、１２．３Ｎ以下、１２．２Ｎ以下、１２．１Ｎ以下、１２Ｎ以下、１１．９Ｎ以下、１１．８Ｎ以下、１１．７Ｎ以下、１１．６Ｎ以下、１１．５Ｎ以下、１１．４Ｎ以下、１１．３Ｎ以下、１１．２Ｎ以下、１１．１Ｎ以下、１１Ｎ以下、１０．９Ｎ以下、１０．８Ｎ以下、１０．７Ｎ以下、１０．６Ｎ以下、１０．５Ｎ以下、１０．４Ｎ以下、１０．３Ｎ以下、１０．２Ｎ以下、１０．１Ｎ以下、１０Ｎ以下、９．９Ｎ以下、９．８Ｎ以下、９．７Ｎ以下、９．６Ｎ以下、９．５Ｎ以下、９．４Ｎ以下、９．３Ｎ以下、９．２Ｎ以下、９．１Ｎ以下、９Ｎ以下、８．９Ｎ以下、８．８Ｎ以下、８．７Ｎ以下、８．６Ｎ以下、８．５Ｎ以下、８．４Ｎ以下、８．３Ｎ以下、８．２Ｎ以下又は８．１Ｎ以下であってもよい。前記割合を調節することで、目的とする偏光板、すなわち、厚さ及び光吸収軸方向、そして偏光板のサイズなどと関係なくベンディング乃至はツイスティングを防止し得る偏光板を形成することができる。
また、本出願の製造方法は、前記偏光フィルムの光吸収軸と垂直の方向での全体偏光板の収縮力が６Ｎ～１５Ｎの範囲内になるように行われ得る。前記収縮力は、他の例示で、約６．１Ｎ以上、約６．２Ｎ以上、約６．３Ｎ以上、約６．４Ｎ以上、約６．５Ｎ以上、６．６Ｎ以上、６．７Ｎ以上、６．８Ｎ以上、６．９Ｎ以上、７Ｎ以上、７．１Ｎ以上又は７．２Ｎ以上であるか、１４．９Ｎ以下、１４．８Ｎ以下、１４．７Ｎ以下、１４．６Ｎ以下、１４．５Ｎ以下、１４．４Ｎ以下、１４．３Ｎ以下、１４．２Ｎ以下、１４．１Ｎ以下、１４Ｎ以下、１３．９Ｎ以下、１３．８Ｎ以下、１３．７Ｎ以下、１３．６Ｎ以下、１３．５Ｎ以下、１３．４Ｎ以下、１３．３Ｎ以下、１３．２Ｎ以下、１３．１Ｎ以下、１３Ｎ以下、１２．９Ｎ以下、１２．８Ｎ以下、１２．７Ｎ以下、１２．６Ｎ以下、１２．５Ｎ以下、１２．４Ｎ以下、１２．３Ｎ以下、１２．２Ｎ以下、１２．１Ｎ以下、１２Ｎ以下、１１．９Ｎ以下、１１．８Ｎ以下、１１．７Ｎ以下、１１．６Ｎ以下、１１．５Ｎ以下、１１．４Ｎ以下、１１．３Ｎ以下、１１．２Ｎ以下、１１．１Ｎ以下、１１Ｎ以下、１０．９Ｎ以下、１０．８Ｎ以下、１０．７Ｎ以下、１０．６Ｎ以下、１０．５Ｎ以下、１０．４Ｎ以下、１０．３Ｎ以下、１０．２Ｎ以下、１０．１Ｎ以下、１０Ｎ以下、９．９Ｎ以下、９．８Ｎ以下、９．７Ｎ以下、９．６Ｎ以下、９．５Ｎ以下、９．４Ｎ以下、９．３Ｎ以下、９．２Ｎ以下、９．１Ｎ以下、９Ｎ以下、８．９Ｎ以下、８．８Ｎ以下、８．７Ｎ以下、８．６Ｎ以下、８．５Ｎ以下、８．４Ｎ以下、８．３Ｎ以下、８．２Ｎ以下、又は８．１Ｎ以下であってもよい。前記割合を調節することで、目的とする偏光板、すなわち、厚さ及び光吸収軸方向、そして偏光板のサイズなどと関係なくベンディング乃至はツイスティングを防止し得る偏光板を形成することができる。
上記のような偏光板の形成のために、高分子フィルムと偏光フィルムの付着時に付着位置が制御され得る。例えば、前記付着は、前記高分子フィルムの第１方向、すなわち、前記熱処理後の収縮力が５Ｎ～１０Ｎの範囲内である方向（例えば、高分子フィルムのＴＤ方向）が前記偏光フィルムの光吸収軸と互いにおおよそ垂直になるように行われ得る。
したがって、前記付着工程で適用される高分子フィルムの第１方向での収縮力（Ｓ１）と前記第１方向と垂直の第２方向での収縮力（Ｓ２）の割合（Ｓ１／Ｓ２）（熱処理後の前記割合）は、１３以上であってもよい。
前記熱処理後の高分子フィルム又は高分子フィルムの第１方向での収縮力や、収縮力の割合（Ｓ１／Ｓ２）及びその他特性の具体的な事項は、既に記述した通りである。
上述した偏光フィルムの光吸収軸方向の収縮力を考慮するときに、上記のような付着工程によって前記光吸収軸方向と平行の面内方向の偏光フィルムの収縮力（ＳＰＶＡ）と高分子フィルム（高分子フィルム）の前記第１方向での収縮力（ＳＰｒｏ）の割合（ＳＰｒｏ／ＳＰＶＡ）が０．１～５の範囲内であってもよい。前記割合は、他の例示で、約０．１５以上、約０．２以上、約０．２５以上、約０．３以上、約０．３５以上、約０．４以上、約０．４５以上、約０．５以上、約０．５５以上、約０．６以上又は約０．６５以上であるか、約４．５以下、約４以下、約３．５以下、約３以下、約２．５以下、約２以下、約１．５以下、約１以下、約０．９５以下、約０．９以下、約０．８５以下、約０．８以下又は約０．７５以下程度であってもよい。
上記のような配置を通じて、本出願では、厚さ、光吸収軸の形成方向及び偏光板のサイズと関係なく耐久性や曲がり又はツイスティングの問題がない偏光板を提供することができる。
本出願の製造方法では、上記のような偏光フィルムと前記高分子フィルムを付着する過程は、前記高分子フィルムの上述した第１方向、すなわち、前記熱処理後の収縮力が５Ｎ～１０Ｎの範囲内である方向（例えば、高分子フィルムのＴＤ方向）と前記偏光フィルムの光吸収軸の方向が成す角度が約８０度～１００度の範囲内になるように行われ得る。前記角度は、他の例示で、約８２度以上程度、８４度以上程度、８６度以上程度、８８度以上程度又は９０度以上程度であるか、９８度以下程度、９６度以下程度、９４度以下程度、９２度以下程度又は９０度以下程度であってもよい。
上記のような工程を通じて、本出願では、厚さ、光吸収軸の形成方向及び／又は偏光板のサイズと関係なく耐久性や曲がり又はツイスティングの問題がない偏光板を提供することができる。
前記偏光板の製造方法で、前記高分子フィルムと偏光フィルムの付着は、公知の接着剤を用いて行うことができる。したがって、前記偏光板で前記高分子フィルムと偏光フィルムの間には、接着剤層がさらに含まれ得る。
接着剤としては、例えば、従来の偏光板で偏光フィルムと高分子フィルムを付着することに用いた接着剤層を用いることができる。
接着剤層は、例えば、ポリビニルアルコール系接着剤；アクリル系接着剤；酢酸ビニル系接着剤；ウレタン系接着剤；ポリエステル系接着剤；ポリオレフィン系接着剤；ポリビニルアルキルエーテル系接着剤；ゴム系接着剤；塩化ビニル－酢酸ビニル系接着剤；スチレン－ブタジエン－スチレン（ＳＢＳ）接着剤；スチレン－ブタジエン－スチレンの水素添加物（ＳＥＢＳ）系接着剤；エチレン系接着剤；及びアクリル酸エステル系接着剤などの１種又は２種以上を含むことができる。上記のような接着剤は、例えば、水系、溶剤系又は無溶剤系接着剤組成物を用いて形成することができる。また、前記接着剤組成物は、熱硬化型、常温硬化型、湿気硬化型、活性エネルギー線硬化型又は混成硬化型接着剤組成物であってもよい。
このような接着剤を用いて偏光フィルムと高分子フィルムを付着する方式は、特に制限されず、接着剤組成物を偏光フィルム又は高分子フィルムに塗布し、前記偏光フィルムと高分子フィルムを合紙した後に硬化させる方式や液滴方式などを用いることができる。
このような接着剤層の厚さは、例えば、約１μｍ～５μｍ又は約２μｍ～４μｍの範囲内であってもよい。
前記製造方法に適用される高分子フィルムの表面には、光学層が存在してもよい。上記で高分子フィルムの表面に形成される光学層の種類は、特に制限されない。光学層は、例えば、いわゆるハードコーティング層、反射防止層、帯電防止層（ａｎｔｉ－ｓｔａｔｉｃ ｌａｙｅｒ）又は防眩層（Ａｎｔｉ－ｇｌａｒｅ ｌａｙｅｒ）であるか、上記言及した層が示す機能のうち２個以上の機能が複合化された光学層であってもよい。
前記ハードコート層は、通常、偏光板や高分子フィルムの表面でのスクラッチ防止などを目的に形成される。反射防止層は、通常、偏光板や高分子フィルムの表面での外光反射の防止を目的に実施され、防眩層は、偏光板や高分子フィルムの表面での外光反射によって視認性が低下することを防止することを目的に形成される層である。また、帯電防止層は、通常、光学フィルムの電気抵抗を適正レベルに調整して、光学フィルムが不必要であるか、過度に帯電される現象を防止するために形成される層である。
上記言及した光学層の材料とその形成方法は、偏光板などの高分子フィルムの業界でよく知られており、本出願では、このような公知の材料及び方法が適用され得る。
通常的に、上記言及された光学層は、光硬化性バインダーを含み、したがって、本出願で適用される前記光学層も光硬化性バインダーを含む。上記で光硬化性バインダーは、光硬化性乃至は光重合性の化合物を硬化乃至重合させて形成されたバインダーを意味する。また、上記で光硬化性乃至は光重合性の化合物の硬化乃至重合を誘導する光の範疇には、マイクロ波（ｍｉｃｒｏｗａｖｅｓ）、赤外線（ＩＲ）、紫外線（ＵＶ）、Ｘ線及びガンマ線はもちろん、アルファ-粒子線（ａｌｐｈａ－ｐａｒｔｉｃｌｅ ｂｅａｍ）、プロトンビーム（ｐｒｏｔｏｎ ｂｅａｍ）、ニュートロンビーム（ｎｅｕｔｒｏｎ ｂｅａｍ）又は電子線（ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｂｅａｍ）のような粒子ビームなどが含まれ得る。通常的には、紫外線又は電子線硬化型乃至は重合性化合物が前記光学層のバインダーとして用いられる。
代表的な光硬化性乃至は光重合性化合物としては、アクリル系化合物が例示され得る。
例えば、前記アクリル系化合物をバインダーとして含有するコーティング組成物をコーティングし、前記化合物を架橋又は重合させて前記光学層を形成することができる。したがって、前記光学層は、前記アクリル系化合物の架橋物又は硬化物をバインダーとして含む硬化性組成物の架橋層又は硬化層であってもよい。
適用可能なアクリル系化合物の非制限的例には、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６－ヘキサンジオール（メタ）アクリレート又はプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸ジエステル；トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート又はポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートなどのポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル；ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートなどの多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル；エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート又はポリエステル（メタ）アクリレートなどの化合物や、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、１，２，４－シクロヘキサンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールトリアクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールペンタアクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリアクリレート又はトリペンタエリスリトールヘキサトリアクリレートなどの３以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能化合物などが含まれる。
前記光学層又は前記光学層を形成するための硬化性組成物は、前記バインダーに追加で必要な機能を確保するための任意の添加剤をさらに含むことができる。例えば、前記光学層又は硬化性組成物は、前記アクリル化合物の硬化乃至架橋を開始あるいは促進させるための開始剤や触媒、該当光学層の屈折率を制御するための高屈折あるいは低屈折の粒子、界面活性剤又はレベリング剤などの任意の添加剤をさらに含むことができ、その種類は特に制限されない。
前記偏光板の製造方法は、前記高分子フィルムの熱処理前に前記高分子フィルムをスチーム処理するステップをさらに含むことができる。
前記スチーム処理ステップは、前記高分子フィルムをスチームに露出させるステップであって、このステップによって前記高分子フィルムの平坦度が改善され得る。平坦度が改善された高分子フィルムに対して上述した熱処理を行うことで、目的とする特性をより効果的に確保することができる。
前記スチーム処理を行う方式は、特に制限されない。例えば、高分子フィルムをフラットな面上に位置させるか、重力方向と水平の方向に高分子フィルムを位置させるか、あるいは平坦度を確保することができるその他位置に高分子フィルムを位置させた後、高分子フィルムの全部又は一部をスチームに露出させる方式で行うことができる。
前記処理に適用されるスチームとしては、高分子フィルムのガラス転移温度などを考慮して適正範囲の温度のスチームを適用して前記スチーム処理を行うことができる。一つの例示で、前記スチーム処理時に適用されるスチームの温度は、５０℃～１５０℃の範囲内であってもよい。前記スチーム温度は、他の例示で、約５５℃以上、約６０℃以上、約６５℃以上、約７０℃以上、約７５℃以上又は約８０℃以上であるか、約１４５℃以下、約１４０℃以下、約１３５℃以下、約１３０℃以下、約１２５℃以下、約１２０℃以下、約１１５℃以下、約１１０℃以下、約１０５℃以下又は約１００℃以下程度であってもよい。
前記スチーム処理を行う時間は、目的とする高分子フィルムの平坦度が確保され得る範囲内に設定することができ、具体的な範囲は、高分子フィルムの状態、スチームの温度などによって変動され得る。通常、前記スチーム処理は、１０秒～１時間の間行われ得る。前記スチーム処理時間は、他の例示で、約５５分以下、約５０分以下、約４５分以下、約４０分以下、約３５分以下、約３０分以下、約２５分以下、約２０分以下、約１５分以下、約１０分以下、約５分以下又は約１分以下であるか、約２０秒以上程度であってもよい。
光学層を高分子フィルムに形成する場合、前記光学層の形成は、前記スチーム処理後に行われ得る。前記光学層を形成する方式は特に制限されず、光学層を形成する公知の方式によって光学層を形成することができる。例えば、上述したバインダーとしてのアクリル化合物とその他必要な添加剤を用いて製造した硬化性組成物を高分子フィルムの一面にコーティングした後にアクリル化合物を架橋乃至は重合させる方式で光学層を形成することができる。
本出願の製造方法は、前記熱処理工程の前に前記高分子フィルムを水処理するステップをさらに行うことができる。前記スチーム処理が行われる場合、前記水処理は、前記スチーム処理後に行われ得る。
前記水処理を行った後に熱処理を進行することで、目的とする高分子フィルムの特性をより効果的に達成することができる。前記水処理は、例えば、適正温度に維持された水中に前記高分子フィルムを浸漬させる方式で行うことができる。前記水処理時に高分子フィルムが浸漬される水の温度は、例えば、１０℃～１００℃の範囲内であってもよい。前記温度は、他の例示で、約１５℃以上又は２０℃以上であるか、約９０℃以下、約８０℃以下、約７０℃以下、約６０℃以下、約５０℃以下、約４０℃以下又は約３０℃以下程度であってもよい。
前記水処理は、前記水中に高分子フィルムを、通常、約５秒～１，０００秒の範囲内の時間の間浸漬させて行われ得る。前記水処理時間は、他の例示で、約１０秒以上、約１５秒以上、約２０秒以上、約２５秒以上又は約３０秒以上であるか、約９００秒以下、約８５０秒以下、約８００秒以下、約７５０秒以下、約７００秒以下、約６５０秒以下、約６００秒以下、約５５０秒以下、約５００秒以下、約４５０秒以下、約４００秒以下、約３５０秒以下、約３００秒以下、約２５０秒以下、約２００秒以下、約１５０秒以下、約１００秒以下、約９０秒以下、約８０秒以下、約７０秒以下、約６０秒以下、約５０秒以下、約４０秒以下、約３０秒以下又は約２０秒以下程度であってもよい。
本出願の製造方法で製造される前記偏光板は、基本的に偏光フィルム及び前記高分子フィルムを含むことができ、このとき、前記高分子フィルムは、前記偏光フィルムの保護フィルムとして含まれ得る。また、前記偏光板は、粘着剤層を含むことができる。このような粘着剤層は、前記偏光板をディスプレイ装置に付着するための粘着剤層であってもよい。粘着剤層が含まれる場合に、偏光板の構成要素は、前記高分子フィルム、偏光フィルム及び粘着剤層の順序に配置され得る。
したがって、前記製造方法は、前記偏光フィルムの高分子フィルムが付着される面と反対側の面に粘着剤層を形成するステップをさらに含んでもよい。
前記粘着剤層は、ＬＣＤやＯＬＥＤなどのディスプレイ装置に前記偏光板を付着するために存在することができる。前記粘着剤層を形成する粘着剤は、特に制限されず、例えば、アクリル系重合体、シリコン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエーテル又はフッ素系やゴム系などのポリマーをベースポリマーにするものを適切に選択して用いることができる。上述したように前記粘着剤層の露出面に対しては、実用に提供する時までの間にその汚染防止などを目的に離型フィルムが臨時付着されてカバーされ得る。
粘着剤層の厚さは、通常、５μｍ～１００μｍの範囲内であってもよい。前記厚さは、他の例示で、約１０μｍ以上、１５μｍ以上又は２０μｍ以上であるか、約９０μｍ以下、８０μｍ以下、７０μｍ以下、６０μｍ以下、５０μｍ以下、４０μｍ以下又は３０μｍ以下であってもよい。
前記粘着剤層の形成過程が追加で行われる場合に、前記偏光板の製造方法は、下記数式１によるＡ値の範囲が０．０１～２６Ｎ・ｍｍの範囲内になるように行われ得る。すなわち、偏光板の製造時に適用される高分子フィルムと偏光フィルムの収縮力を考慮して、前記高分子フィルム、粘着剤層及び／又は偏光フィルムの厚さ又は上記外に偏光板に含まれる各要素の厚さを調節することで、下記数式１を満足させ得る。
[数式１]
Ａ＝ａ Ｘ（ＳＰＶＡ Ｘ（Ｔ１＋ｂ）＋ＳＰｒｏ Ｘ（Ｔ２＋ｂ））
数式１で、ＳＰＶＡは、前記偏光フィルムの光吸収軸方向の収縮力であり、ＳＰｒｏは、高分子フィルムの前記偏光フィルムの光吸収軸方向と平行の方向の収縮力と高分子フィルムの前記光吸収軸方向と垂直の方向の収縮力のうち大きい収縮力であり、Ｔ１は、前記粘着剤層の最も下部から前記偏光フィルムの中心までの距離（単位：ｍｍ）であり、Ｔ２は、前記粘着剤層の最も下部から前記高分子フィルムの中心までの距離（単位：ｍｍ）であり、ａは、０．５～２の範囲内の数であり、ｂは、０．１４～０．６の範囲内の数である。
前記数式１のＡ値は、偏光板のベンディング（ｂｅｎｄｉｎｇ）特性を反映する。偏光板が前記Ａ値を有すると、その偏光板が薄く形成される場合にもＬＣＤやＯＬＥＤなどのディスプレイ装置に適用されたときに曲がりやツイスティングを誘発せず、耐久性及び光学特性に優れたディスプレイ装置を提供することができる。
前記数式１のＡ値は、他の例示で、０．０５Ｎ・ｍｍ以上、０．１Ｎ・ｍｍ以上、０．１５Ｎ・ｍｍ以上、０．２Ｎ・ｍｍ以上、０．２５Ｎ・ｍｍ以上、０．３Ｎ・ｍｍ以上、０．３５Ｎ・ｍｍ以上、０．４Ｎ・ｍｍ以上、０．４５Ｎ・ｍｍ以上、０．５Ｎ・ｍｍ以上、０．５５Ｎ・ｍｍ以上、０．６Ｎ・ｍｍ以上、０．６５Ｎ・ｍｍ以上、０．７Ｎ・ｍｍ以上、０．７５Ｎ・ｍｍ以上、０．８Ｎ・ｍｍ以上、０．８５Ｎ・ｍｍ以上、０．９Ｎ・ｍｍ以上、０．９５Ｎ・ｍｍ以上、０．１Ｎ・ｍｍ以上、０．５Ｎ・ｍｍ以上、１Ｎ・ｍｍ以上、１．５Ｎ・ｍｍ以上、２Ｎ・ｍｍ以上、２．５Ｎ・ｍｍ以上、３Ｎ・ｍｍ以上、３．５Ｎ・ｍｍ以上、４Ｎ・ｍｍ以上、４．５Ｎ・ｍｍ以上、５Ｎ・ｍｍ以上、５．５Ｎ・ｍｍ以上、６Ｎ・ｍｍ以上、６．５Ｎ・ｍｍ以上、７Ｎ・ｍｍ以上、７．５Ｎ・ｍｍ以上、８Ｎ・ｍｍ以上、８．５Ｎ・ｍｍ以上、９Ｎ・ｍｍ以上、９．５Ｎ・ｍｍ以上、１０Ｎ・ｍｍ以上、１１Ｎ・ｍｍ以上、１２Ｎ・ｍｍ以上、１３Ｎ・ｍｍ以上、１４Ｎ・ｍｍ以上、１５Ｎ・ｍｍ以上、１６Ｎ・ｍｍ以上、１７Ｎ・ｍｍ以上、１８Ｎ・ｍｍ以上、１９Ｎ・ｍｍ以上又は２０Ｎ・ｍｍ以上程度であるか、２５Ｎ・ｍｍ以下、２４Ｎ・ｍｍ以下、２３Ｎ・ｍｍ以下、２２Ｎ・ｍｍ以下、２１Ｎ・ｍｍ以下、２０Ｎ・ｍｍ以下、１９Ｎ・ｍｍ以下、１８Ｎ・ｍｍ以下、１７Ｎ・ｍｍ以下、１６Ｎ・ｍｍ以下、１５Ｎ・ｍｍ以下、１４Ｎ・ｍｍ以下、１３Ｎ・ｍｍ以下、１２Ｎ・ｍｍ以下、１１Ｎ・ｍｍ以下、１０Ｎ・ｍｍ以下、９Ｎ・ｍｍ以下、８Ｎ・ｍｍ以下、７Ｎ・ｍｍ以下、６Ｎ・ｍｍ以下又は５Ｎ・ｍｍ以下であってもよい。
前記Ａ値は、前記規定されたａ及び／又はｂの全体範囲内で上述した数値範囲内に属するか、あるいはａの範囲内のいずれか一つの値及びｂの範囲内のいずれか一つの値を代入したときに上述した数値範囲に属してもよい。
前記数式１で、ａ値は、０．５～２の範囲内の数であってもよい。前記ａ値は、他の例示で、約０．５５以上、約０．６以上、約０．６５以上、約０．７以上、約０．７５以上、約０．８以上、約０．８５以上、約０．９以上、約１以上又は約１．５以上であるか、１．９以下、約１．８以下、約１．７以下、約１．６以下、約１．５以下、約１．４以下、約１．３以下、約１．２以下、約１．１以下、約１．０以下、約０．９５以下、約０．９以下、約０．８５以下、約０．８以下、約０．７５以下、約０．７以下又は約０．６５以下であってもよい。
前記数式１で、ｂ値は、０．１４～０．６の範囲内の数であってもよい。前記数式１に代入されるｂ値は、他の例示で、０．１５以上又は０．２以上であるか、０．５５以下、０．５以下、０．４５以下、０．４以下、０．３５以下又は０．３以下であってもよい。一つの例示で、前記偏光板がＬＣＤに適用される場合に、前記ｂ値は、前記ＬＣＤパネルの厚さによって定められ、例えば、前記ＬＣＤパネルの厚さ（単位：ｍｍ）の１／２倍が前記ｂ値になり得る。
追加構成として、偏光板は、前記偏光フィルムと粘着剤層の間に硬化樹脂層又は他の種類の偏光フィルムの保護フィルムをさらに含むことができる。より薄い厚さの偏光板の形成のためには、保護フィルムよりは硬化樹脂層が有利であるが、前記保護フィルムも適用され得る。このような硬化樹脂層は、通常、ハードコーティング層とも呼ばれ、一般的に、偏光板でいずれか一つの高分子フィルムを省略する代りに適用されている。本出願で適用され得る前記硬化樹脂層の種類は、特に制限されず、前記薄い偏光板を提供するために用いられている多様な種類の硬化樹脂層が全て適用され得る。通常、このような硬化樹脂層は、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、ウレタン樹脂及び／又はアクリル樹脂などを含むことができ、このような樹脂層は多様に公知となっている。
このような硬化樹脂層の厚さは、例えば、約４μｍ～１０μｍ又は約４．５μｍ～１０μｍの範囲内であってもよい。
本出願で適用され得る保護フィルムの種類も特に制限されず、公知の材料から適切に選択され得る。
本出願の偏光板は、上述したように、目的に応じて、公知の他の構成、例えば、位相差板、光視野角補償フィルム及び／又は輝度向上フィルムからなる群より選択された一つ以上の機能性層をさらに含んでいてもよく、したがって、前記製造方法では、このような機能性層を必要な位置に形成するステップをまた含むことができる。
前記偏光板は、適用される用途、例えば、適用されるディスプレイ装置の種類や該当装置のモード（ｍｏｄｅ）などによって多様な形態で構成され得る。
例えば、前記偏光板で前記偏光フィルムの一辺と前記偏光フィルムの光吸収軸が成す角度のうち小さい角度は、０度～１０度の範囲内又は８０度～１００度の範囲内にあってもよい。前記角度は、他の例示で、９度以下、８度以下、７度以下、６度以下、５度以下、４度以下、３度以下、２度以下又は１度以下であってもよい。また、前記角度は、他の例示で、約８１度以上、８２度以上、８３度以上、８４度以上、８５度以上、８６度以上、８７度以上、８８度以上、８９度以上又は９０度以上であるか、９９度以下、９８度以下、９７度以下、９６度以下、９５度以下、９４度以下、９３度以下、９２度以下、９１度以下又は９０度以下程度であってもよい。
他の例示で、前記偏光板で前記偏光フィルムの一辺と前記偏光フィルムの光吸収軸が成す角度のうち小さい角度が３５度～５５度の範囲内又は１２５度～１４５度の範囲内にあってもよい。
前記角度は、他の例示で、約３６度以上程度、３７度以上程度、３８度以上程度、３９度以上程度、４０度以上程度、４１度以上程度、４２度以上程度、４３度以上程度、４４度以上程度又は４５度以上程度であるか、５４度以下程度、５３度以下程度、５２度以下程度、５１度以下程度、５０度以下程度、４９度以下程度、４８度以下程度、４７度以下程度、４６度以下程度又は４５度以下程度であってもよく、また、約１２６度以上程度、１２７度以上程度、１２８度以上程度、１２９度以上程度、１３０度以上程度、１３１度以上程度、１３２度以上程度、１３３度以上程度、１３４度以上程度又は１３５度以上程度であるか、１４４度以下程度、１４３度以下程度、１４２度以下程度、１４１度以下程度、１４０度以下程度、１３９度以下程度、１３８度以下程度、１３７度以下程度、１３６度以下程度又は１３５度以下程度であってもよい。
通常、偏光フィルム及び偏光板は、四角形であり、前記光吸収軸と前記角度を成す偏光フィルムの一辺は、前記四角形の任意の一辺であってもよい。例えば、前記四角形が直四角形であると、前記一辺は、前記直四角形の長辺又は短辺であってもよい。
本出願の場合、偏光板の適用用途によって光吸収軸がどのように形成されても適切な性能の偏光板を提供することができる。
また、本出願は、ディスプレイ装置に関するものであって、例えば、ＬＣＤやＯＬＥＤに関する。前記ＬＣＤやＯＬＥＤなどのディスプレイ装置は、本出願の前記偏光板を含むことができる。前記ディスプレイ装置は、例えば、ＬＣＤパネルやＯＬＥＤパネルなどのディスプレイパネルと前記ディスプレイパネルに付着された本出願の前記偏光板を含むことができる。
本出願のディスプレイ装置に適用され得る前記ディスプレイパネルの種類やそのパネルに付着される偏光板の位置などは、特に制限されない。すなわち、前記本出願の偏光板が適用される限り多様な公知の方式で前記ディスプレイパネルは具現され得る。
本出願では、偏光板で要求される光学的及び機械的耐久性を効果的に満足させ、ディスプレイ装置に適用されたときにベンディングを誘発しない偏光板を形成できる高分子フィルムとその高分子フィルムを適用した偏光板の製造方法を提供することができる。本出願では、薄いディスプレイ装置に適用される偏光板及び／又は薄い厚さの偏光板でもベンディングを誘発しないと共に、要求される光学的及び機械的耐久性を実現できる高分子フィルムとその高分子フィルムを適用した偏光板の製造方法を提供することができる。
以下、実施例を通じて本出願を具体的に説明するが、本出願の範囲が下記実施例によって制限されるものではない。
本明細書で言及する用語「ＭＤ」は、特記のない限り、延伸フィルムのＭａｃｈｉｎｅ Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎを意味し、「ＴＤ」は、特記のない限り、延伸フィルムのＴｒａｎｓｖｅｒｓｅ ｄｉｒｅｃｔｉｏｎを意味する。
１．収縮力の測定
本明細書で言及する偏光フィルム、高分子フィルム、偏光板又は高分子フィルムの収縮力は、ＴＡ社のＤＭＡ装備を用いて下記方式で測定した。試片は、幅が約５．３ｍｍであり、長さが約１５ｍｍになるように製作し、前記試片の長手方向の両末端を測定装備のクランプに固定した後に収縮力を測定した。上記で試片の長さ１５ｍｍは、クランプに固定される部位を除いた長さである。上記のように試片をクランプに固定した後、ｐｒｅｌｏａｄ ０Ｎの状態でｓｔｒａｉｎ ０．１％が維持されるように試料を引いて固定した後、下記温度条件の高温でｓｔｒａｉｎ ０．１％が維持されるときにかかる収縮力を測定した。前記収縮力は、約４８％程度に維持された相対湿度で測定した。収縮力の結果は、下記温度条件の８０℃安定化後に１２０分経った後の値を測定した。
＜測定温度条件及び時間＞
温度：２５℃ ｓｔａｒｔ→３分後７５℃→７分後８０℃安定化（Ａｃｃｅｌｅｒａｔｉｏｎ条件はなし）
測定時間：１２０分
＜製造例１．ＰＶＡ系偏光フィルム（Ａ）の製作＞
偏光フィルムの製作に用いられる厚さが約４５μｍ程度であるＰＶＡ（ｐｏｌｙ（ｖｉｎｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ））フィルム（日本合成社、重合度約３，０００内外）を約２０℃～３０℃の範囲の温度の純水溶液で膨潤（ｓｗｅｌｌｉｎｇ）させた後、３０℃～４０℃程度の温度のヨウ素溶液で約１０秒～３０秒程度染色工程を進行した。その後、約４０℃程度の温度のホウ酸溶液（濃度：約２重量％）で約２０秒間洗浄工程を行った後、５０℃～６０℃及び約４．０重量％濃度のホウ酸溶液内で約６倍延伸し、延伸後に約２～４重量％の濃度のＫＩ溶液で補色工程を行い、乾燥させて厚さが約１７μｍ程度である偏光フィルムを製作した。上記製作されたＰＶＡ系偏光フィルムの光吸収軸方向の収縮力（以下、ＭＤ収縮力）を測定した結果、約８～１０Ｎ程度であった。
＜実施例１＞
高分子フィルムの熱処理
ＰＥＴ（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）高分子フィルム（ＳＲＦフィルム、厚さ：８０μｍ、製造社：Ｔｏｙｏｂｏ、製品名：ＴＡ０５５、ガラス転移温度：８０℃、熱処理前のＴＤ方向収縮力：約７．５３Ｎ、ＭＤ方向収縮力：約０．１～０．５Ｎの範囲）に対して、まず、水処理工程を進行し、その後、熱処理を進行した。まず、前記ＳＲＦフィルムを温度が約２０℃～３０℃程度に維持された水に全体が浸るように浸漬した後、約１０秒～２０秒間維持して水処理工程を行った。その後、前記ＳＲＦフィルムを約５０℃程度の温度で１０秒～６０秒程度維持して熱処理を行った。前記熱処理工程後に前記ＳＲＦフィルムのＴＤ（Ｔｒａｎｓｖｅｒｓｅ ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）方向の収縮力は、約７Ｎ程度であり、ＭＤ方向の収縮力は、約０．２～０．３５Ｎ程度のレベルであった。
偏光板の製作
前記熱処理されたＳＲＦフィルムを保護フィルムとして適用して偏光板を次の方式で製作した。まず、製造例１で製造されたＰＶＡ偏光フィルム（ＭＤ収縮力：８～１０Ｎ、厚さ：１７μｍ）の一面にエポキシ系紫外線硬化型接着剤（厚さ：２μｍ～３μｍ）を用いて前記ＳＲＦフィルムを付着した。前記付着時には、ＳＲＦフィルムのＴＤ（Ｔｒａｎｓｖｅｒｓｅ ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）方向とＰＶＡ偏光フィルムのＭＤ方向（光吸収軸方向）がおおよそ垂直になるように付着した。その後、前記ＰＶＡ偏光フィルムのＳＲＦフィルムが付着されない面にエポキシ系ハードコーティング層を約５～７μｍ程度の厚さで形成した。その後、ハードコーティング層の下部に約２５μｍ程度の厚さのアクリル系粘着剤層を形成して偏光板を製作した。
上記製作された偏光板の偏光フィルムのＭＤ方向の収縮力は、約８Ｎであり、偏光フィルムのＴＤ方向の収縮力は、約９．０Ｎ程度であった。
上記製作された偏光板に対して前記数式１のＡ値を求めた結果、約３．８９Ｎｍｍ～６．３４Ｎｍｍ程度であった。前記Ａ値の範囲の下限は、数式１に、ａとして０．７８を適用し、ｂとして０．２５ｍｍ（＝適用ＬＣＤパネルの厚さ（ｍｍ）／２）を適用し、ＳＰＶＡとして約９Ｎを適用し、ＳＰｒｏとして７Ｎを適用し、Ｔ１として０．０３９５ｍｍ（＝粘着剤の厚さ（２５μｍ）＋ハードコーティング層の厚さ（６μｍ）＋偏光フィルムの厚さ（１７μｍ）／２）を適用し、Ｔ２として０．０９０５ｍｍ（＝粘着剤の厚さ（２５μｍ）＋ハードコーティング層の厚さ（６μｍ）＋偏光フィルムの厚さ（１７μｍ）＋接着剤層の厚さ（２．５μｍ）＋保護フィルムの厚さ（８０μｍ）／２）を適用して求めた。また、前記Ａ値の範囲の上限は、数式１に、ａとして１．２７を適用し、ｂとして０．２５ｍｍ（＝適用ＬＣＤパネルの厚さ（ｍｍ）／２）を適用し、ＳＰＶＡとして約９Ｎを適用し、ＳＰｒｏとして７Ｎを適用し、Ｔ１として０．０３９５ｍｍ（＝粘着剤の厚さ（２５μｍ）＋ハードコーティング層の厚さ（６μｍ）＋偏光フィルムの厚さ（１７μｍ）／２）を適用し、Ｔ２として０．０９０５ｍｍ（＝粘着剤の厚さ（２５μｍ）＋ハードコーティング層の厚さ（６μｍ）＋偏光フィルムの厚さ（１７μｍ）＋接着剤層の厚さ（２．５μｍ）＋保護フィルムの厚さ（８０μｍ）／２）を適用して求めた。
＜実施例２＞
実施例１と同一の方式で水処理が行われたＳＲＦフィルムを、約１００℃程度の温度で１０秒～６０秒程度維持して熱処理を行った。前記熱処理工程後に前記ＳＲＦフィルムのＴＤ（Ｔｒａｎｓｖｅｒｓｅ ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）方向の収縮力は、約６．６Ｎ程度であった。前記ＳＲＦフィルムを用いて実施例１と同一に偏光板を製造した。上記製作された偏光板の偏光フィルムのＭＤ方向の収縮力は、約８Ｎであり、偏光フィルムのＴＤ方向の収縮力は、約８．６Ｎ程度であった。上記製作された偏光板に対して前記数式１のＡ値を求めた結果、約４．１７Ｎｍｍ～５．６８Ｎｍｍ程度であった。前記Ａ値の範囲の下限は、数式１に、ａとして０．８６を適用し、ｂとして０．２５ｍｍ（＝適用ＬＣＤパネルの厚さ（ｍｍ）／２）を適用し、ＳＰＶＡとして約９Ｎを適用し、ＳＰｒｏとして６．６Ｎを適用し、Ｔ１として０．０３９５ｍｍ（＝粘着剤の厚さ（２５μｍ）＋ハードコーティング層の厚さ（６μｍ）＋偏光フィルムの厚さ（１７μｍ）／２）を適用し、Ｔ２として０．０９０５ｍｍ（＝粘着剤の厚さ（２５μｍ）＋ハードコーティング層の厚さ（６μｍ）＋偏光フィルムの厚さ（１７μｍ）＋接着剤層の厚さ（２．５μｍ）＋保護フィルムの厚さ（８０μｍ）／２）を適用して求めた。また、前記Ａ値の範囲の上限は、数式１に、ａとして１．１７を適用し、ｂとして０．２５ｍｍ（＝適用ＬＣＤパネルの厚さ（ｍｍ）／２）を適用し、ＳＰＶＡとして約９Ｎを適用し、ＳＰｒｏとして６．６Ｎを適用し、Ｔ１として０．０３９５ｍｍ（＝粘着剤の厚さ（２５μｍ）＋ハードコーティング層の厚さ（６μｍ）＋偏光フィルムの厚さ（１７μｍ）／２）を適用し、Ｔ２として０．０９０５ｍｍ（＝粘着剤の厚さ（２５μｍ）＋ハードコーティング層の厚さ（６μｍ）＋偏光フィルムの厚さ（１７μｍ）＋接着剤層の厚さ（２．５μｍ）＋保護フィルムの厚さ（８０μｍ）／２）を適用して求めた。
＜比較例１＞
ＳＲＦフィルムに熱処理を行わないこと以外は、実施例１と同一の方式で偏光板を製造した。上記製作された偏光板の偏光フィルムのＭＤ方向の収縮力は、約８Ｎであり、偏光フィルムのＴＤ方向の収縮力は、約１０．４Ｎ程度であった。
ベンディング特性の評価
それぞれの実施例及び比較例で製作された偏光板を一般の３２インチＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）パネル（厚さ：約５００μμｍ）の上部面と下部面にそれぞれ偏光板の粘着剤層を通じて付着した。その後、前記ＬＣＤパネルの平面度（初期平面度）を測定した。その後、前記パネルを６０℃の温度のチャンバ内に７２時間の間投入した後に取り出し、２時間経過時点と２４時間経過時点におけるパネル変化量を測定し、下記表１に整理した。下記表１で用語「平面度」は、液晶パネルで上部偏光板側に最も多く曲がった部分と下部偏光板側に最も多く曲がった部分の差であり、このような平面度は、公知の３次元測定器（（株）ＤＵＫＩＮ）を用いて確認できる。
Figure 2022505589000001

Claims (20)

  1. 高分子フィルムを熱処理するステップ；及び熱処理された前記高分子フィルムを一方向に光吸収軸が形成された偏光フィルムと付着するステップを含む、偏光板の製造方法。
  2. 熱処理前の高分子フィルムは、第１方向での収縮力が５．５Ｎ～１５Ｎの範囲内であり、前記第１方向が偏光フィルムの光吸収軸と８０度～１００度の範囲内の角度を成すように高分子フィルムと偏光フィルムを付着する、請求項１に記載の偏光板の製造方法。
  3. 熱処理前の高分子フィルムの第１方向での収縮力（Ｓ１）と前記第１方向と垂直の第２方向での収縮力（Ｓ２）の割合（Ｓ１／Ｓ２）が１０以上である、請求項２に記載の偏光板の製造方法。
  4. 熱処理前の高分子フィルムの第２方向での収縮力（Ｓ２）が０．０１Ｎ～２Ｎの範囲内である、請求項３に記載の偏光板の製造方法。
  5. 熱処理前の高分子フィルムの第１方向での収縮力（ＳＢ）と熱処理後の高分子フィルムの前記第１方向での収縮力（ＳＡ）の割合（ＳＢ／ＳＡ）が１を超過する、請求項２に記載の偏光板の製造方法。
  6. 熱処理後の高分子フィルムは、第１方向での収縮力が５Ｎ～１０Ｎの範囲内である、請求項２に記載の偏光板の製造方法。
  7. 熱処理後の高分子フィルムの第１方向での収縮力（Ｓ１）と前記第１方向と垂直の第２方向での収縮力（Ｓ２）の割合（Ｓ１／Ｓ２）が１３以上である、請求項６に記載の偏光板の製造方法。
  8. 熱処理は、下記数式２を満足する温度で行う、請求項１に記載の偏光板の製造方法。
    [数式２]
    （Ｔｇ－６０）℃≦Ｔ≦（Ｔｇ＋５０）℃
    数式２で、Ｔｇは、高分子フィルムのガラス転移温度であり、Ｔは、熱処理温度であり、前記ガラス転移温度及び熱処理温度の単位は、℃である。
  9. 熱処理は、１０秒～１，０００秒の間行う、請求項１に記載の偏光板の製造方法。
  10. 偏光フィルムの光吸収軸方向の偏光板の収縮力（ＳＰ）と前記光吸収軸方向と垂直の方向の偏光板の収縮力（ＳＶ）の割合（ＳＰ／ＳＶ）が０．７８～１．５の範囲内になるように高分子フィルムを偏光フィルムに付着する、請求項２に記載の偏光板の製造方法。
  11. 偏光フィルムの光吸収軸と平行の方向での偏光板の収縮力が６．５Ｎ～１５Ｎの範囲内になるように高分子フィルムを偏光フィルムに付着する、請求項１０に記載の偏光板の製造方法。
  12. 光吸収軸と垂直の方向での偏光板の収縮力が６．０Ｎ～１５Ｎの範囲内になるように高分子フィルムを偏光フィルムに付着する、請求項１０に記載の偏光板の製造方法。
  13. 光吸収軸方向と平行の方向の偏光フィルムの収縮力（ＳＰＶＡ）と高分子フィルムの第１方向での収縮力（ＳＰｒｏ）の割合（ＳＰｒｏ／ＳＰＶＡ）が０．１～５の範囲内である、請求項２に記載の偏光板の製造方法。
  14. 光吸収軸と平行の方向での偏光フィルムの収縮力が０．１～１５Ｎの範囲内である、請求項２に記載の偏光板の製造方法。
  15. 熱処理前に高分子フィルムを水処理するステップをさらに行う、請求項１に記載の偏光板の製造方法。
  16. 水処理は、高分子フィルムを温度が１０℃～１００℃の範囲内である水に浸漬して行う、請求項１５に記載の偏光板の製造方法。
  17. 高分子フィルムを５秒～１，０００秒間水に浸漬する、請求項１６に記載の偏光板の製造方法 。
  18. 偏光フィルムの高分子フィルムが付着される面と反対側の面に粘着剤層が形成されるステップをさらに含み、前記偏光フィルム、高分子フィルム及び粘着剤層の厚さを、下記数式１を満足するように調節する、請求項１に記載の偏光板の製造方法。
    [数式１]
    ０．０１～２６Ｎ・ｍｍ＝ａ Ｘ（ＳＰＶＡ Ｘ（Ｔ１＋ｂ）＋ＳＰｒｏ Ｘ（Ｔ２＋ｂ））
    数式１で、ＳＰＶＡは、前記偏光フィルムの光吸収軸方向の収縮力であり、ＳＰｒｏは、高分子フィルムの前記偏光フィルムの光吸収軸方向と平行の方向の収縮力と高分子フィルムの前記光吸収軸方向と垂直の方向の収縮力のうち大きい収縮力であり、Ｔ１は、前記粘着剤層の最も下部から前記偏光フィルムの中心までの距離（単位：ｍｍ）であり、Ｔ２は、前記粘着剤層の最も下部から前記高分子フィルムの中心までの距離（単位：ｍｍ）であり、ａは、０．５～２の範囲内の数であり、ｂは、０．１４～０．６の範囲内の数である。
  19. 偏光フィルムの一辺と前記偏光フィルムの光吸収軸が成す角度のうち小さい角度が０度～１０度の範囲内又は８０度～１００度の範囲内にある、請求項１に記載の偏光板の製造方法。
  20. 偏光フィルムの一辺と前記偏光フィルムの光吸収軸が成す角度のうち小さい角度が３５度～５５度の範囲内又は１２５度～１４５度の範囲内にある、請求項１に記載の偏光板の製造方法。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200087435A (ko) * 2019-01-11 2020-07-21 주식회사 엘지화학 편광판

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04292937A (ja) * 1991-03-22 1992-10-16 Toray Ind Inc 熱可塑性樹脂フイルムの製造方法
JP2003207620A (ja) * 2002-01-10 2003-07-25 Fuji Photo Film Co Ltd 偏光板、製造方法及び液晶表示装置
JP2005292646A (ja) * 2004-04-02 2005-10-20 Nitto Denko Corp 反射防止フィルムの製造方法及び反射防止フィルム
JP2013122530A (ja) * 2011-12-12 2013-06-20 Sumitomo Chemical Co Ltd 複合偏光板セット、液晶パネルおよび液晶表示装置
KR20150072993A (ko) * 2013-12-20 2015-06-30 제일모직주식회사 액정표시장치용 모듈 및 이를 포함하는 액정표시장치
JP2015222368A (ja) * 2014-05-23 2015-12-10 住友化学株式会社 偏光フィルム、偏光板及び液晶パネル
US20160025909A1 (en) * 2014-07-23 2016-01-28 Samsung Sdi Co., Ltd. Polarizing plate and method for manufactureing the same
JP2016504632A (ja) * 2013-01-11 2016-02-12 ドングウー ファイン−ケム カンパニー、 リミテッドＤｏｎｇｗｏｏ Ｆｉｎｅ−Ｃｈｅｍ Ｃｏ．， Ｌｔｄ． 液晶表示装置
JP2017156399A (ja) * 2016-02-29 2017-09-07 住友化学株式会社 偏光板のセットおよび液晶パネル
JP2017194717A (ja) * 2016-03-31 2017-10-26 東洋紡株式会社 液晶表示装置
JP2017223940A (ja) * 2016-06-09 2017-12-21 住友化学株式会社 偏光板セット
WO2019054406A1 (ja) * 2017-09-15 2019-03-21 東洋紡株式会社 偏光子保護フィルム、偏光板及び液晶表示装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20090113347A (ko) * 2007-02-21 2009-10-30 후지필름 가부시키가이샤 투명 폴리머 필름의 제조 방법과 이 방법에 의해 제조되는 투명 폴리머 필름, 위상차 필름, 편광판, 및 액정 표시 장치
EP2397310A4 (en) * 2007-02-21 2014-05-07 Fujifilm Corp PROCESS FOR PRODUCING TRANSPARENT POLYMER FILM, TRANSPARENT POLYMER FILM PRODUCED THEREBY, DELAY FILM, POLARIZATION PLATE AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY APPARATUS
JP5227778B2 (ja) * 2008-12-22 2013-07-03 日東電工株式会社 ハードコートフィルム、ハードコートフィルムの製造方法、透明導電性積層体、光学素子および電子機器
JP2012067272A (ja) * 2010-06-21 2012-04-05 Fujifilm Corp セルロースアシレートフィルムの製造方法、セルロースアシレートフィルム、偏光板、液晶表示装置及び光学補償フィルム
JP2012226226A (ja) * 2011-04-21 2012-11-15 Fujifilm Corp セルロースアシレートフィルム、その製造方法、偏光板および液晶表示装置
JP6062430B2 (ja) 2012-06-11 2017-01-18 富士フイルム株式会社 液晶表示装置
JP5990128B2 (ja) 2013-05-01 2016-09-07 富士フイルム株式会社 液晶表示装置
KR101850565B1 (ko) * 2013-06-18 2018-04-19 주식회사 엘지화학 편광판 및 상기 편광판을 포함하는 디스플레이 장치
US10696648B2 (en) 2016-05-04 2020-06-30 Bristol-Myers Squibb Company Inhibitors of indoleamine 2,3-dioxygenase and methods of their use
KR102084116B1 (ko) * 2017-08-30 2020-03-03 삼성에스디아이 주식회사 액정표시장치용 모듈 및 이를 포함하는 액정표시장치

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04292937A (ja) * 1991-03-22 1992-10-16 Toray Ind Inc 熱可塑性樹脂フイルムの製造方法
JP2003207620A (ja) * 2002-01-10 2003-07-25 Fuji Photo Film Co Ltd 偏光板、製造方法及び液晶表示装置
JP2005292646A (ja) * 2004-04-02 2005-10-20 Nitto Denko Corp 反射防止フィルムの製造方法及び反射防止フィルム
JP2013122530A (ja) * 2011-12-12 2013-06-20 Sumitomo Chemical Co Ltd 複合偏光板セット、液晶パネルおよび液晶表示装置
JP2016504632A (ja) * 2013-01-11 2016-02-12 ドングウー ファイン−ケム カンパニー、 リミテッドＤｏｎｇｗｏｏ Ｆｉｎｅ−Ｃｈｅｍ Ｃｏ．， Ｌｔｄ． 液晶表示装置
KR20150072993A (ko) * 2013-12-20 2015-06-30 제일모직주식회사 액정표시장치용 모듈 및 이를 포함하는 액정표시장치
JP2015222368A (ja) * 2014-05-23 2015-12-10 住友化学株式会社 偏光フィルム、偏光板及び液晶パネル
US20160025909A1 (en) * 2014-07-23 2016-01-28 Samsung Sdi Co., Ltd. Polarizing plate and method for manufactureing the same
JP2017156399A (ja) * 2016-02-29 2017-09-07 住友化学株式会社 偏光板のセットおよび液晶パネル
JP2017194717A (ja) * 2016-03-31 2017-10-26 東洋紡株式会社 液晶表示装置
JP2017223940A (ja) * 2016-06-09 2017-12-21 住友化学株式会社 偏光板セット
WO2019054406A1 (ja) * 2017-09-15 2019-03-21 東洋紡株式会社 偏光子保護フィルム、偏光板及び液晶表示装置

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