JP2022173574A - ピック、搬送装置及びプラズマ処理システム - Google Patents
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Abstract
Description
まず、本発明の一実施形態のプラズマ処理システムについて説明する。図1は、一実施形態のプラズマ処理システムを示す概略構成図である。
次に、本発明の一実施形態のプラズマ処理装置について、図2に基づき説明する。図2は、一実施形態のプラズマ処理装置を示す概略断面図である。図2に示すプラズマ処理装置は、前述のプラズマ処理システムにおけるプロセスモジュールPM1~PM6として用いることができる装置である。
次に、本発明の一実施形態のフォーカスリング交換方法について、図3に基づき説明する。図3は、一実施形態のフォーカスリング交換方法を説明するためのフローチャートである。
次に、処理ユニット側搬送装置TR1の一例について、図4に基づき説明する。図4は、図1の処理ユニット側搬送装置を説明するための図である。
次に、位置検出センサの一例について、図7に基づき説明する。図7は図1の位置検出センサを説明するための図であり、図1における一点鎖線1A-1Bにおいて切断した断面の一部を示している。
10 処理室
112 ピック
113 突起部
FR フォーカスリング
PM プロセスモジュール
TM トランスファモジュール
TR1 処理ユニット側搬送装置
TR2 搬送ユニット側搬送装置
W ウエハ
Claims (9)
- 基板及びフォーカスリングを別のタイミングで保持するピックであって、
前記フォーカスリングは、下面が該フォーカスリングの周方向に沿って伸びる環状の平坦面を有し、
当該ピックは、円錐台形状を有する複数の突起部を有し、
前記複数の突起部は、前記円錐台形状のテーパ部で前記基板の外周縁部に当接し、前記円錐台形状の上面で前記フォーカスリングの前記平坦面と当接する、
ピック。 - 前記突起部は、エラストマーにより形成されている、
請求項1に記載のピック。 - 真空引き可能なモジュールの内部に設けられる、
請求項1又は2に記載のピック。 - 基板及びフォーカスリングを別のタイミングで搬送する搬送装置であって、
前記フォーカスリングは、下面が該フォーカスリングの周方向に沿って伸びる環状の平坦面を有し、
当該搬送装置は、円錐台形状を有する複数の突起部を有し、
前記複数の突起部は、前記円錐台形状のテーパ部で前記基板の外周縁部に当接し、前記円錐台形状の上面で前記フォーカスリングの前記平坦面と当接する、
搬送装置。 - 前記突起部は、エラストマーにより形成されている、
請求項4に記載の搬送装置。 - 真空引き可能なモジュールの内部に設けられる、
請求項4又は5に記載の搬送装置。 - プロセスモジュールと、
前記プロセスモジュールが接続されるトランスファモジュールと、
前記トランスファモジュールに接続される第1のロードロックモジュール及び第2のロードロックモジュールと、
前記第1のロードロックモジュール及び前記第2のロードロックモジュールと接続される搬送モジュールと、
前記搬送モジュールに接続されるロードポートと、
請求項4乃至6のいずれか一項に記載の搬送装置と、
を備え、
前記搬送装置は、前記トランスファモジュールの内部に設けられ、前記プロセスモジュール、前記第1のロードロックモジュール及び前記第2のロードロックモジュールの間で前記フォーカスリングを搬送する、
プラズマ処理システム。 - 前記搬送装置は、前記プロセスモジュールを大気開放することなく前記プロセスモジュールから前記第2のロードロックモジュールに使用済のフォーカスリングを搬送した後、前記プロセスモジュールを大気開放することなく前記第1のロードロックモジュールから前記プロセスモジュールに未使用のフォーカスリングを搬送する、
請求項7に記載のプラズマ処理システム。 - 基板及びフォーカスリングを別のタイミングで保持するピックであって、
前記フォーカスリングは、下面が該フォーカスリングの周方向に沿って伸びる環状の平坦面を有し、
当該ピックは、前記フォーカスリングの前記平坦面と当接する上面を有し、前記基板の外周縁部に当接するテーパ部を有する複数の突起部を備え、前記上面は前記ピックに保持された前記基板の外周縁部よりも外側に配置される、
ピック。
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