JP2022167694A - 導光光学装置、光源装置、および画像投射装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】3つ以上の光源からの光を高い効率で合成することを可能とする導光光学装置、光源装置、および画像投射装置を提供する。【解決手段】互いに異なる3方向から入射する光を合成して射出方向に射出する光路合成部100を備える導光光学装置であって、前記光路合成部100は、第1方向から入射する第1光を射出方向に偏向する第1偏向部101と、前記第1方向とは異なる第2方向からの入射する第2光を前記射出方向に偏向する第2偏向部102と、前記第1方向および前記第2方向とは異なる第3方向から入射する第3光を前記射出方向に透過する透過部105と、有し、前記透過部105は、前記第1偏向部101と前記第2偏向部102との間に位置する。【選択図】図1

Description

本発明は、導光光学装置、光源装置、および画像投射装置に関する。
プロジェクタ(画像投射装置の一例)は、大型機でもフルHDがまだ主流であるが、今後、4Kが広く普及していくとみられている。また、将来的には、8Kのプロジェクタが既に技術的に検討されており、今後さらなるプロジェクタの大画面化、それに伴う照明系の高輝度化が求められている。
そのような中で、プロジェクタのさらなる高輝度化のため、青色のレーザ光と、当該レーザ光を励起光として利用する蛍光体から出射される蛍光光と、を合成する技術が知られている。特許文献2は、レーザ光源と蛍光体を用いた光源光学系を開示している。また、特許文献1は、複数の発光素子からの光線を合成することで、薄型化および小型化を図った光学装置を開示している。
しかしながら、複数の光(光路)を合成する技術において、3つ以上の光源の光を合成する場合、各光源から射出される光を高い効率で合成することが難しい。
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、3つ以上の光源からの光を高い効率で合成することを可能とする導光光学装置、光源装置、および画像投射装置を提供することを目的とする。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明は、互いに異なる3方向から入射する光を合成して射出方向に射出する光路合成部を備える導光光学装置であって、前記光路合成部は、第1方向から入射する第1光を射出方向に偏向する第1偏向部と、前記第1方向とは異なる第2方向からの入射する第2光を前記射出方向に偏向する第2偏向部と、前記第1方向および前記第2方向とは異なる第3方向から入射する第3光を前記射出方向に透過する透過部と、有し、前記透過部は、前記第1偏向部と前記第2偏向部との間に位置する。
本発明によれば、3つ以上の光源からの光を高い効率で合成することを可能とする、という効果を奏する。
図1は、本実施の形態にかかる導光光学装置および光路合成部の一例を説明するための図である。 図2は、本実施の形態にかかる導光光学装置および光路合成部の一例を説明するための図である。 図3は、本実施の形態にかかる導光光学装置および光路合成部の一例を説明するための図である。 図4は、本実施の形態にかかる光源装置においてライトトンネルの入口に照射される光の強度分布の一例を示す図である。 図5は、本実施の形態にかかる光源装置においてライトトンネルの入口に照射される光の強度分布の一例を示す図である。 図6は、本実施の形態にかかる導光光学装置の構成の一例を説明するための図である。 図7は、本実施の形態にかかる導光光学装置の構成の一例を説明するための図である。 図8は、本実施の形態にかかる導光光学装置の構成の一例を説明するための図である。 図9は、本実施の形態にかかる導光光学装置が有する光源の一例を説明するための図である。 図10は、本実施の形態にかかる導光光学装置が有する光源の他の例を説明するための図である。 図11は、本実施の形態にかかる導光光学装置が有する光源の他の例を説明するための図である。 図12は、本実施の形態にかかる導光光学装置が有する光源の他の例を説明するための図である。 図13は、本実施の形態にかかる導光光学装置が有する光源の他の例を説明するための図である。 図14は、本実施の形態にかかる導光光学装置が有するプリズムの構成の一例を示す図である。 図15は、本実施の形態にかかる導光光学装置が有するプリズムの構成の一例を示す図である。 図16は、本実施の形態にかかる導光光学装置の構成の一例を示す図である。 図17は、本実施の形態にかかる導光光学装置の構成の一例を示す図である。 図18は、本実施の形態にかかる導光光学装置が有するプリズムの他の例を示す図である。 図19は、本実施の形態にかかる導光光学装置が有するプリズムの他の例を示す図である。 図20は、本実施の形態にかかる導光光学装置が有する光路合成部の他の例を示す図である。 図21は、本実施の形態にかかる導光光学装置が有する光路合成部の他の例を示す図である。 図22は、本実施の形態にかかる導光光学装置が有する光路合成部の他の例を示す図である。 図23は、本実施の形態にかかる導光光学装置の他の例を示す図である。 図24は、本実施の形態にかかる画像投射装置の構成の一例を示す図である。
以下に添付図面を参照して、導光光学装置、光源装置、および画像投射装置の実施の形態を詳細に説明する。
図1~3は、本実施の形態にかかる導光光学装置および光路合成部の一例を説明するための図である。本実施の形態にかかる導光光学装置は、図1および図2に示すように、光路合成部100を有する。また、本実施の形態にかかる光源装置は、図3に示すように、光源LS1~LS3、光路合成部100、およびライトトンネルLTを有する。以下の説明では、光源LS1~LS3を区別する必要がない場合には、光源LSと記載する。
光源LS1~LS3は、光を出射する光源の一例である。具体的には、光源LS1は、z軸の+方向に光(第1光の一例)を出射する第1光源の一例である。光源LS2は、z軸の-方向に光(第2光の一例)を出射する第2光源の一例である。
光源LS3は、x軸の+方向に光(第3光の一例)を出射する第3光源の一例である。本実施の形態では、光源LS3は、x軸の+方向(射出方向の一例)に向かって直進する光を出射することが好ましい。
これにより、光源LS3から出射される光の射出方向への偏向による損失を低減できる。また、光路合成部100において光源LS3から出射される光が通過する有効領域を小さくすることができるので、導光光学装置を小型化することができる。
また、本実施の形態では、光源LS3は、レーザ光を出射するレーザ光源であることが好ましい。これにより、光源LS3から出射される光を光路合成部100に対して鋭く集光させることができるので、当該光の損失を低減できる。
光路合成部100は、互いに異なる3方向から入射する光を合成して、x軸の+方向(射出方向の一例)に射出する光路合成部の一例である。例えば、光路合成部100は、図1に示すように、反射面101,102および透過部105を有する。
反射面101は、光源LS1から入射する光(第1光の一例)、言い換えると、z軸の-方向から入射する光を、x軸の+方向(射出方向の一例)に反射(偏向の一例)させる第1偏向部の一例である。反射面102は、光源LS2から入射する光(第2光の一例)、言い換えると、z軸の+方向から入射する光を、x軸の+方向に反射(偏向の一例)させる第2偏向部の一例である。
透過部105は、x軸の-方向から入射する光を、x軸の+方向に透過させる透過部の一例である。また、透過部105は、反射面101および反射面102との間に位置する。言い換えると、光源LS1~LS3のそれぞれから入射されて、反射面101、反射面102、および透過部105に集光される各光の集光部が、互い重ならない。これにより、反射面101、反射面102によって、透過部105に集光される光がケラレる(反射面101、反射面102によって光源LS3からの光がさえぎられる)ことによる損失を低減することができる。その結果、3つ以上の光源LSからの光を高い効率で合成することが可能となる。
本実施の形態では、導光光学装置は、光源LS1~LS3から出射される光を、光路合成部100に集光することにより、光源LS1~LS3の共役像を、光路合成部100に形成している。これにより、光路合成部100において光を偏向する領域である有効領域を小さくして、光源装置を小型化することを可能にしている。
その際、光路合成部100に形成される光源LS1~LS3の共役像が、x軸の+方向(射出方向の一例)から見て、一列に配列されていることが好ましい(図4等参照)。これにより、光路合成部100の有効領域をさらに狭めることが可能となるので、光源装置をさらに小型化することができる。
ここで、共役像は、光源LSから出射した光が集光する集光部である。また、共役像は、光源LSがレーザ光源である場合には当該レーザ光源から出射される光の集光部である。また、共役像は、光源LSが励起光源および波長変換部を含む場合には当該波長変換部から出射される光の集光部である。
また、光源LS3の共役像は、透過部105の近傍に結像されることが好ましい。光源LS1の共役像と光源LS2の共役像は、それぞれ反射面101および反射面102の近傍に結像されることが好ましい。光源LS1および光源LS2の共役像は、反射面101および反射面102と重なるように結像されていることが好ましい。これにより、光路合成部100の有効領域をさらに狭めることが可能となるので、光源装置をさらに小型化することができる。
また、光源LS1の共役像と、光源LS2の共役像と、の間に、光源LS3の共役像が形成されていることが好ましい。これにより、光路合成部100を射出方向から見て左右対称の配置にすることが可能となり、光源装置のレイアウトを小型化することができる。
本実施の形態では、導光光学装置は、光源LS1~LS3の共役像を全て、光路合成部100に形成しているが、光源LS1~LS3の共役像のうち少なくとも1つの共役像を、光路合成部100に形成するものであれば、これに限定するものではない。また、本実施の形態では、光源LS1~LS3から出射される光は、光路合成部100に対して集光しているが、これに限定するものではなく、光路合成部100に対して平行または発散する光であっても良い。
図1に示す光路合成部100は、光源LS1,LS2から入射する光を射出方向に偏向する偏向部の一例として反射面101,102を用いているが、光源LS1,LS2から入射する光を射出方向に偏向するものであれば、これに限定しない。例えば、光路合成部100は、図2に示すように、光源LS1,LS2から入射する光を射出方向に偏向する偏向部として、屈折面103,104を有していても良い。
屈折面103は、図2に示すように、光源LS1から入射する光(第1光の一例)、言い換えると、z軸の-方向から入射する光を、x軸の+方向(射出方向の一例)に屈折(偏向の一例)させる第1偏向部の一例である。屈折面104は、光源LS2から入射する光(第2光の一例)、言い換えると、z軸の+方向から入射する光を、x軸の+方向に屈折(偏向の一例)させる第2偏向部の一例である。
本実施の形態では、第1偏向部および第2偏向部の一例として反射面101,102または屈折面103,104を用いているが、反射面および屈折面を組み合わせても良い。例えば、反射面101を第1偏向部の一例として用い、屈折面104を第2偏向部の一例として用いても良い。
ライトトンネルLTは、図3に示すように、光源LS1~LS3から出射される光の光路において、光路合成部100の直後に設けられる。ライトトンネルLTは、光路合成部100から射出される光を導光して射出する光均一化素子の一例である。本実施の形態では、ライトトンネルLTは、その内部が、反射面が複数張り合わされた導光路、全反射を利用して導光するガラスロッド等であっても良い。
図4および図5は、本実施の形態にかかる光源装置においてライトトンネルの入口に照射される光の強度分布の一例を示す図である。本実施の形態では、ライトトンネルLTの入口に入射される3つの光源LS1~LS3の光の強度分布は、図4に示すように、同じ強度分布となっているが、当該3つの光源LS1~LS3の光の強度分布は、同じ強度分布、大きさ、形状でなくても良い。
例えば、ライトトンネルLTの入口に入射される3つの光源LS1~LS3の光の強度分布は、図5に示すように、光源LS3の光の強度分布が、光源LS1,LS2の光の強度分布よりも小さくても良い。すなわち、光路合成部100に形成される光源LS1~LS3の共役像のうち、光源LS3の共役像が、光源LS1,LS2の共役像よりも小さくても良い。
また、本実施の形態では、光路合成部100に形成される光源LS1~LS3のそれぞれの共役像は、図4および図5に示すように、像面内の1方向に長い形状(例えば、矩形、楕円)である。本実施の形態では、光源LS1~LS3の全ての共役像が1方向に長い形状となっているが、光源LS1~LS3のうち少なくとも1つの共役像が1方向に長い形状になっていれば良い。
図6~8は、本実施の形態にかかる導光光学装置の構成の一例を説明するための図である。本実施の形態では、図6~8に示すように、光源LS1~LS3のうち、少なくとも1つの光源(ここでは、光源LS3)が、半導体レーザアレイLDa(レーザ光源の一例)であっても良い。半導体レーザアレイLDaは、図6~8に示すように、レーザ光を発光する発光部LDc、および当該発光部LDc毎に設けられるレンズLDLを有する。
そして、図7および図8に示すように、半導体レーザアレイLDaの発光部LDcの長手方向と、光路合成部100が有する透過部105の長手方向とが、一致していることが好ましい。本実施の形態では、発光部LDcは、矩形の形状を有しており、その長手方向が、反射面101,102の間に形成される透過部105の長手方向と一致するように配置されている。
また、本実施の形態では、光源装置は、単一の半導体レーザアレイLDaを有しているが、複数の半導体レーザアレイLDaを有していても良い。その際、複数の半導体レーザアレイLDaのそれぞれから出射されるレーザ光の波長は、同一の波長でも、互いに異なる波長であっても良い。
すなわち、図6~8に示す例では、光源LS3を半導体レーザアレイLDaにより構成する例について説明しているが、光源LS1~LS3のうち少なくとも1つを半導体レーザアレイLDa等のレーザ光源とするものであれば、これに限定するものではない。その際、当該半導体レーザアレイLDaの発光部LDcの長手方向を、当該半導体レーザアレイLDaから光が入射する、第1偏向部、第2偏向部、および透過部のいずれかの長手方向と対応していることが好ましい。
図9は、本実施の形態にかかる導光光学装置が有する光源の一例を説明するための図である。本実施の形態では、光源LS1~LS3は、等価な構成の光源であるため、ここでは、光源LS1の構成の一例について説明する。
本実施の形態では、光源LS1は、励起光源LD1、および波長変換部F1を有する。励起光源LD1は、励起光を出射する励起光源の一例である。励起光源LD1は、半導体レーザ等の光源であり、アレイ構成でも良い。また、光源LS1は、励起光源LD1から出射される励起光を波長変換部F1へ導光する導光手段を備える。
波長変換部F1は、例えば、蛍光体であり、励起光源LD1から出射される励起光によって励起され、励起光源LD1よりも広帯域の光(蛍光光)を放出する。すなわち、波長変換部F1は、励起光源LD1から入射した励起光を異なる波長域の光に変換して出射する波長変換部の一例である。さらに、光源LS1は、波長変換部F1から出射される光と、波長変換部F1で反射された励起光源LD1の光を、反射面101に集光する手段を備える。
光源LS1から集光するように出射された光は、反射面101でx軸の+方向に反射され、ライトトンネルLTに入射する。ライトトンネルLTは、上述したように、その内部に、反射面を複数面貼り合わせた導光路でも、全反射を利用して導光するガラスロッドでも良い。
なお、光源LS2から照射される光は、反射面102でx軸の+方向に反射され、ライトトンネルLTに入射し、光源LS3から照射される光は、反射面101と反射面102の間に設けられる透過部105を通り、直接、ライトトンネルLTに入射する。以上の構成により、3方向からの光源LS1~LS3からの光の合成が実現される。
図10および図11は、本実施の形態にかかる導光光学装置が有する光源の他の例を説明するための図である。本実施の形態では、3つの光源LS1~LS3のうち、少なくとも1つの光源LSを、励起光源および波長変換部を有する光源とし、当該光源以外の光源LSを、励起光源および波長変換素部を有する光源よりも狭い波長域の光を出射する光源としても良い。
ここでは、本実施の形態にかかる光源装置は、図10に示すように、光源LS1、当該光源LS1と等価な光源LS2、および光源LS3を有する。光源LS1は、図9に示す光源LS1と同様の構成を有する。光源LS3は、光源LS1よりも狭い波長帯域の光を出射する光源であり、例えば、半導体レーザ、単一の発光素子、もしくはアレイ状の発光素子を有する構成の光源でもよい。光源LS3から出射される光は、図10に示すように、集光レンズによって集光され、反射面101と反射面102との間の透過部105を通り、ライトトンネルLTに入射することで、光源LS1~LS3から出射される光の合波が可能となる。
なお、光源LS3は、図11に示すように、光源LS1から出射される光より波長域の狭い光を出射する複数の光源LS3a,LS3bを有していても良い。光源LS3aおよび光源LS3bのそれぞれから出射される光は、同一波長でも、異なる波長でも良く、単一の発光素子もしくはアレイ状の発光素子により構成されていても良い。
この場合、光源装置は、光源LS3a,LS3bのそれぞれから出射される光を偏向、もしくは、光源LS3a,LS3bのそれぞれが出射される光の光源波長特性を利用した光路の合成を行う。そして、光源装置は、光源LS3a,LS3bから出射される光を、集光レンズによって、反射面101と反射面102との間の透過部105を通し、ライトトンネルLTに入射することで、光源LS1~LS4から出射される光の合波を実現している。なお、光源LS3aおよび光源LS3bのそれぞれから出射される光の合波は、単純にハーフミラーを用いるものであっても良い。
図10の光源LS3、図11の光源LS3aおよび光源LS3bから出射される光の強度は、光源LS1と光源LS2から出射される光の強度より小さくすることができる。光源LS3,LS3a,LSabは、波長変換部を含まずにそれぞれの光源LS3,LS3a,LS3bの波長の光を出射しかつ波長帯域の狭い光を出射するため、光源LS3,LS3a,LS3bから出射された光を高い効率で合成できるためである。光源LS3,LS3a,LS3bが出射する光の強度を小さくすることで、低出力の光源LSを用いることができるので、光源LSを含む光源装置全体をさらに小型化することができる。
図12は、本実施の形態にかかる導光光学装置が有する光源の他の例を説明するための図である。本実施の形態では、3つの光源LS1~LS3のうち、少なくとも1つの光源LSを、励起光源および波長変換部を有する光源とし、当該光源以外の光源LSを、励起光源および波長変換部を有する光源よりも狭い波長域の光を出射する光源としても良い。
本実施の形態では、光源装置は、図12に示すように、励起光源LD1および波長変換部F1を有する少なくとも1つの光源LS1と、光源LS1よりも狭い波長域の光を出射する光源LS2,LS3を有していても良い。そして、光源装置は、光路合成部100において、当該3つの光源LS1~LS3から出射される光を合成することも可能である。
光源LS1は、図9に示す光源LS1と同様の構成を有する。一方、光源LS2,LS3は、光源LS1が出射する光より狭い波長域の光を出射する光源である。光源LS2,LS3のそれぞれから出射される光は、同一の波長でも、異なる波長でも良い。また、光源LS2,LS3は、単一の発光素子でも、アレイ状の発光素子を有していても良い。また、光源LS2,LS3は、複数の光源から出射される光の光路を合成する光源でも良い。
光源LS1は、反射面101に集光するように光を出射する。そして、光源LS1から出射される光は、反射面101でx軸の+方向に反射して、ライトトンネルLTに入射する。ライトトンネルLTは、その内部が、反射面を複数面貼り合わせた導光路でも、全反射を利用して導光するガラスロッドでも良い。
光源LS2から出射される光は、反射面102でx軸の+方向に反射して、ライトトンネルLTに入射する。また、光源LS3から出射される光は、反射面101と反射面102との間の透過部105を通り、直接、ライトトンネルLTに入射する。本実施の形態にかかる光源装置は、以上の構成のように、波長変換部F1を有する1つの光源LSから出射される光と、当該光源LSよりも狭い波長域の光を出射する少なくとも2つの光源LSから出射される光を合成しても良い。
図13は、本実施の形態にかかる導光光学装置が有する光源の他の例を説明するための図である。本実施の形態では、光源装置は、図13に示すように、光源LS1~LS3として、狭い波長域の光を出射する光源(例えば、レーザ光源)を用いることも可能である。その場合、光源LS1~LS3から出射する光は、同一の波長でも、互いに異なる波長であっても良い。また、光源LS1~LS3は、単一の発光素子、またはアレイ状の発光素子であっても良い。また、光源LS1~LS3は、複数の光源から出射される光の光路を合成する光源であっても良い。
光源LS1から出射された光は、集光レンズにより集光され、反射面101でx軸の+方向に反射して、ライトトンネルLTに入射する。ライトトンネルLTは、その内部が、反射面を複数面貼り合わせた導光路でも、全反射を利用して導光するガラスロッドでも良い。
光源LS2から出射される光は、集光レンズにより集光され、反射面102でx軸の+方向に反射して、ライトトンネルLTに入射する。光源LS3から出射される光は、集光レンズにより集光され、反射面101と反射面102との間の透過部105を通り、直接、ライトトンネルLTに入射する。本実施の形態にかかる光源装置は、以上の構成のように、光路合成部100に対して、波長域の狭い3つの光源LSから出射される光を合成しても良い。
図14および図15は、本実施の形態にかかる導光光学装置が有するプリズムの構成の一例を示す図である。図16および図17は、本実施の形態にかかる導光光学装置の構成の一例を示す図である。本実施の形態では、光路合成部100は、図14および図15に示すように、少なくとも2つの反射面101,102、および透過部105を有するプリズムP(光学素子の一例)であっても良い。ここで、透過部105は、図14および図15に示すように、透過面105aおよび透過面105bを有する。本実施の形態では、光路合成部100は、単一のプリズムPによって実現されているが、複数のプリズムを組み合わせて実現しても良い。
光路合成部100を単一のプリズムPで構成した場合、透過面105aは、反射面101と反射面102とに隙間なく隣接させることができる。それにより、透過面105aと反射面101および反射面102との間に光学的に不要な部分がなくなるので、効率的に光を合成することができる。また、反射面101、反射面102、透過部105の角度や幅等の寸法精度は、単一のプリズムPの加工の精度で高めることができる。それにより、複数部品の組付がなくなるので、光路合成部100をより簡易に構成することができる。
光路合成部100をプリズムPにより実現した場合も、当該プリズムPの反射面101,102は、それぞれ、光源LS1,LS2から出射される光をx軸の+方向に反射させて、当該光をライトトンネルLTに導光する。また、光源LS3から出射される光は、透過面105a,105bを透過(通過)した後、ライトトンネルLTに入射する。以上の構成により、本実施の形態にかかる光源装置は、少なくとも2面の反射面101,102を有するプリズムPによって構成される光学素子(光路合成部100)によって、3つの光源LS1~LS3から出射される光の光路を合成する。
図18および図19は、本実施の形態にかかる導光光学装置が有するプリズムの他の例を示す図である。本実施の形態では、光路合成部100は、図18に示すように、反射面101,102、および透過面105a,105b,302,306を有するプリズムPであっても良い。反射面101は、プリズムPの内部に設けられる反射面であり、光源LS1から出射されかつ透過面302を透過した光を、x軸の+方向に反射させる。
光路合成部100を単一のプリズムPで構成した場合、透過面105aは、反射面101と反射面102とに隙間なく隣接させることができる。それにより、透過面105aと反射面101および反射面102との間に光学的に不要な部分がなくなるので、効率的に光を合成することができる。また、反射面101、反射面102、および透過部105の角度や幅等の寸法精度は、単一のプリズムPの加工の精度で高めることができる。それにより、複数部品の組付がなくなるので、光路合成部1000をより簡易に構成することができる。
また、反射面102は、プリズムPの内部に設けられる反射面であり、光源LS2から出射されかつ透過面306を透過した光を、x軸の+方向に反射させる。透過面105a,105bは、光源LS3から出射される光を、x軸の+方向に透過させてライトトンネルLTに導光する。
また、本実施の形態では、光路合成部100は、図19に示すように、図18に示す反射面を屈折面103,104に置き換えたプリズムPにより実現することも可能である。屈折面103は、光源LS1から出射された光を、x軸の+方向に屈折させる。また、屈折面104は、光源LS2から出射された光を、x軸の+方向に屈折させる。透過面105a,105bは、光源LS3から出射される光を、x軸の+方向に透過させてライトトンネルLTに導光する。
図18および図19に示すプリズムPでは、光源LS1,LS2から出射される光を、x軸の+方向に偏向させる偏向部として、反射面または屈折面を用いているが、当該偏向部を、反射面および屈折面を組み合わせて実現することも可能である。
図20~22は、本実施の形態にかかる導光光学装置が有する光路合成部の他の例を示す図である。本実施の形態では、光路合成部100は、図20に示すように、反射面101を有する光学素子401と、反射面102を有する光学素子402と、を含んでいても良い。
または、本実施の形態では、光路合成部100は、図21に示すように、その内部に反射面101を有する光学素子501と、その内部に反射面102を有する光学素子502と、を含んでいても良い。ここで、光学素子501は、光源LS1から出射される光を透過する透過面503および反射面101で反射した光を透過する透過面505を有する。また、光学素子502は、光源LS2から出射される光を透過する透過面507および反射面102で反射した光を透過する透過面508を有する。
または、本実施の形態では、光路合成部100は、図22に示すように、屈折面103を有する光学素子701と、屈折面104を有する光学素子702と、を含んでいても良い。ここで、光学素子701は、屈折面103により屈折された光を透過する透過面705を有する。また、光学素子702は、屈折面104で屈折した光を透過する透過面706を有する。
図23は、本実施の形態にかかる導光光学装置の他の例を示す図である。本実施の形態にかかる光源装置は、図23に示すように、光源LS3から出射される光を、x軸の+方向に導光する導光手段の一例である光導波路2301(例えば、光ファイバ)を有していても良い。光導波路2301により導光された光は、図23に示すように、反射面101と反射面102との間を直進するように、x軸の+方向に出射される。図20~23に示すように、光路合成部100を複数の光学素子で構成した場合は、透過部105に部材配置されないので光源LS3から出射された光は損失しない。それにより、光源LS3から出射された光を高効率で合成することができる。
図24は、本実施の形態にかかる画像投射装置の構成の一例を示す図である。本実施の形態にかかる画像投射装置は、例えば、プロジェクタであり、図24に示すように、照明光学系2401、光変調器2402、および投射光学系2403を有する。
照明光学系2401は、上述した光源LS1~LS2、光路合成部100、およびライトトンネルLTを有する光学装置の一例である。そして、照明光学系2401は、ライトトンネルLTから出口から、光変調器2402に対して光を出射する。
光変調器2402は、液晶、DMD等であり、それらによって空間的に変調された光線を投射光学系2403に出射する。すなわち、光変調器2402は、照明光学系2401から出射した光を受光し、画像光を出射する空間変調素子の一例である。投射光学系2403は、光変調器2402から出射される光(画像光)を投射レンズによって投射像として、スクリーン等の被写体に投射する。これにより、本実施の形態にかかる画像投射装置は、プロジェクタとしての機能を満たすことが可能である。
このように、本実施の形態にかかる導光光学装置、光源装置、および画像投射装置によれば、反射面101、反射面102、および透過部105における、光源LS1~LS3から出射される光の集光部(共役像)が重なることによる損失を低減することができる。その結果、3つ以上の光源LSからの光を高い効率で合成することが可能となる。
100 光路合成部
101,102 反射面
103,104 屈折面
105 透過部
105a,105b 透過面
P プリズム
2301 光導波路
2401 照明光学系
2402 光変調器
2403 投射光学系
F1 波長変換部
LS1,LS2,LS3,LS3a,LS3b 光源
LT ライトトンネル
LDa 半導体レーザアレイ
LDc 発光部
LDL レンズ
LD1 励起光源
特開2006-010741号公報 特許第6094866号公報

Claims (15)

  1. 互いに異なる3方向から入射する光を合成して射出方向に射出する光路合成部を備える導光光学装置であって、
    前記光路合成部は、
    第1方向から入射する第1光を射出方向に偏向する第1偏向部と、
    前記第1方向とは異なる第2方向からの入射する第2光を前記射出方向に偏向する第2偏向部と、
    前記第1方向および前記第2方向とは異なる第3方向から入射する第3光を前記射出方向に透過する透過部と、有し、
    前記透過部は、前記第1偏向部と前記第2偏向部との間に位置する、導光光学装置。
  2. 前記第1偏向部および前記第2偏向部は、反射面または屈折面を有する光学素子である、請求項1に記載の導光光学装置。
  3. 前記第1偏向部、前記第2偏向部、および前記透過部は、単一の光学素子である請求項1に記載の導光光学装置。
  4. 前記第3光を前記射出方向に導光する光導波路を有する、請求項1または2に記載の導光光学装置。
  5. 請求項1から4のいずれか一に記載の導光光学装置と、
    前記第1光を射出する第1光源と、
    前記第2光を射出する第2光源と、
    前記第3光を射出する第3光源と、を備え、
    前記導光光学装置は、前記第1光源、前記第2光源、および前記第3光源の少なくとも1つの光源の共役像を前記光路合成部に形成する、光源装置。
  6. 前記導光光学装置は、前記第1光源、前記第2光源、および前記第3光源の共役像を前記光路合成部に形成し、
    前記第1光源、前記第2光源、および前記第3光源のそれぞれの前記共役像は、前記射出方向から見て一列に配列している、請求項5に記載の光源装置。
  7. 前記導光光学装置は、前記第1光源の前記共役像と、前記第2光源の前記共役像と、の間に、前記第3光源の前記共役像を形成する、請求項6に記載の光源装置。
  8. 前記第3光源の前記共役像は、前記第1光源の前記共役像と前記第2光源の前記共役像より小さい、請求項6または7に記載の光源装置。
  9. 前記第3光は、前記射出方向に向かって直進し、かつ前記第1光および前記第2光より強度が小さい光である、請求項8に記載の光源装置。
  10. 前記導光光学装置は、前記第1光源、前記第2光源、および前記第3光源の少なくとも一つの前記共役像は、像面内の1方向に長い形状である、請求項5から9のいずれか一に記載の光源装置。
  11. 前記第1光源、前記第2光源、および前記第3光源の少なくとも一つは、レーザ光源を含み、
    前記レーザ光源の発光部の長手方向は、前記レーザ光源からの光が入射する、前記第1偏向部、前記第2偏向部、および前記透過部のいずれかの長手方向と対応する、請求項5から10のいずれか一に記載の光源装置。
  12. 前記第1光源、前記第2光源、および前記第3光源は、励起光を出射する励起光源と、当該励起光源から入射した前記励起光を異なる波長域の光に変換して出射する波長変換部と、を含む、請求項5から10のいずれか一に記載の光源装置。
  13. 前記第1光源、前記第2光源、および前記第3光源のうち少なくとも1つの光源が、励起光を出射する励起光源と、当該励起光源から入射した前記励起光を異なる波長域の光に変換して出射する波長変換部と、を含む光源であり、それ以外の少なくとも1つの光源が、前記波長域よりも狭い波長域の光を出射する、請求項5から10のいずれか一に記載の光源装置。
  14. 前記光路合成部から射出した光を導光して射出する光均一化素子をさらに備える、請求項5から13のいずれか一に記載の光源装置。
  15. 請求項14に記載の光源装置を有する照明光学系と、
    前記照明光学系から出射した光を受光し、画像光を射出する空間変調素子と、
    前記画像光を被写体に投射する投射光学系と、
    を備える画像投射装置。
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