JP2022162413A - ランプ、光源装置、露光装置、および物品製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】ランプを安定して発光させるために有利な技術を提供する。【解決手段】ランプは、輝点を有する発光管と、前記発光管の端部に接続された口金と、前記口金の周囲に設けられたフィンと、を有する。前記フィンは、前記輝点に近い第1面と、前記輝点から遠い、前記第1面とは反対側の第2面とを有し、前記輝点を含む前記口金の中心軸に直交する平面である輝点面と前記第1面における第1内縁との距離は、前記輝点面と前記第1面における第1外縁との距離よりも短く、前記第1面における前記第1内縁と前記第1外縁との距離は、前記第2面における第2内縁と第2外縁との距離以上である。【選択図】 図3
Description
本発明は、ランプ、光源装置、露光装置、および物品製造方法に関する。
半導体デバイスまたはディスプレイデバイス等のデバイスを製造するためのリソグラフィ工程において露光装置が使用される。露光装置には光源装置が組み込まれていて、光源装置は、交換可能なランプを含みうる。ランプは、例えば、一対の口金と、一対の口金の間に配置された発光管と、発光管の中に配置され一対の口金にそれぞれ接続された一対の電極とを含み、発光管の中に発光物質としての水銀等が封入されうる。一対の口金を通して一対の電極間に電力が供給されることによって一対の電極間でアーク放電が発生し、これによりランプが発光しうる。ランプを発光させているときは口金の温度が高温になるので、口金を冷却する必要がある。特許文献1には、冷却効率を高めるためのフィンを口金部に設け、フィンに対して冷却エアを吹き付けることによって口金部を冷却する光源装置が記載されている。
ランプの高出力化に伴って口金の温度が上昇する傾向にある。口金を十分に冷却するためには、口金に対して十分な流量で気体を吹き付ける必要がある。しかし、その気体によって発光管が過剰に冷却されると、発光管の中の水銀等の発光物質を十分に蒸発させることができなくなり、ランプの点灯不良を引き起こしうる。
本発明は、ランプを安定して発光させるために有利な技術を提供する。
本発明の一側面によれば、輝点を有する発光管と、前記発光管の端部に接続された口金と、前記口金の周囲に設けられたフィンと、を有し、前記フィンは、前記輝点に近い第1面と、前記輝点から遠い、前記第1面とは反対側の第2面とを有し、前記輝点を含む前記口金の中心軸に直交する平面である輝点面と前記第1面における第1内縁との距離は、前記輝点面と前記第1面における第1外縁との距離よりも短く、前記第1面における前記第1内縁と前記第1外縁との距離は、前記第2面における第2内縁と第2外縁との距離以上である、ことを特徴とするランプが提供される。
本発明によれば、ランプを安定して発光させるために有利な技術が提供される。
以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。なお、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。さらに、添付図面においては、同一若しくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。
本明細書および添付図面においては、水平面をXY平面とするXYZ座標系において方向が示される。一般には、被露光基板はその表面が水平面(XY平面)と平行になるように基板ステージ上に搭載される。よって以下では、基板の表面に沿う平面内で互いに直交する方向をX軸およびY軸とし、X軸およびY軸に垂直な方向をZ軸とする。また、以下では、XYZ座標系におけるX軸、Y軸、Z軸にそれぞれ平行な方向をX方向、Y方向、Z方向という。
<第1実施形態>
図1には、本発明の第1実施形態に係る露光装置100の構成が示されている。露光装置100は、感光剤が塗布された基板に投影光学系を介して原版のパターンを投影することによって原版のパターンに対応する潜像パターンを感光剤に形成する装置である。露光装置100は、例えば、光源装置110、シャッタ装置120、照明光学系130、原版保持部140、投影光学系150および基板保持部160を備えうる。光源装置110は、ランプ10を保持する保持部20を含みうる。原版保持部140は、原版142を保持する。原版保持部140は、不図示の原版位置決め機構によって位置決めされ、これにより原版142が位置決めされうる。基板保持部160は、基板162を保持する。露光装置100には、レジスト塗布装置によってレジスト(感光材)が塗布された基板162が供給される。基板保持部160は、不図示の基板位置決め機構によって位置決めされ、これにより基板162が位置決めされうる。
図1には、本発明の第1実施形態に係る露光装置100の構成が示されている。露光装置100は、感光剤が塗布された基板に投影光学系を介して原版のパターンを投影することによって原版のパターンに対応する潜像パターンを感光剤に形成する装置である。露光装置100は、例えば、光源装置110、シャッタ装置120、照明光学系130、原版保持部140、投影光学系150および基板保持部160を備えうる。光源装置110は、ランプ10を保持する保持部20を含みうる。原版保持部140は、原版142を保持する。原版保持部140は、不図示の原版位置決め機構によって位置決めされ、これにより原版142が位置決めされうる。基板保持部160は、基板162を保持する。露光装置100には、レジスト塗布装置によってレジスト(感光材)が塗布された基板162が供給される。基板保持部160は、不図示の基板位置決め機構によって位置決めされ、これにより基板162が位置決めされうる。
シャッタ装置120は、光源装置110と原版保持部140との間の光路において光束を遮断することができるように配置されている。照明光学系130は、光源装置110からの光を使って原版142を照明する。投影光学系150は、照明光学系130によって照明された原版142のパターンを基板162に投影し、これによって基板162が露光される。これにより、基板162に塗布されたレジストに潜像パターンが形成される。潜像バターンは、不図示の現像装置によって現像され、これによりレジストパターンが基板162上に形成される。
図2には、光源装置110の構成が示されている。光源装置110は、ランプ10を保持する保持部20と、ランプ10が発生する光を集光させる集光ミラー50と、ランプ10の口金11a、11bを冷却するための気体を噴射する噴射孔を有するノズル42a、42bとを備えうる。また、光源装置110は、ランプ10にリード線(ケーブル)32a、32bを通して電力を供給する電力供給部(ランプ電源)30と、ノズル42a、42bにそれぞれ供給管41a、41bを通して気体を供給する気体供給部40とを備えうる。
ランプ10は、例えば、水銀ランプ、キセノンランプまたはメタルハライドランプなどのショートアークタイプのランプでありうる。集光ミラー50は、例えば、2つの焦点FP1、FP2を有する楕円ミラーでありうる。第1焦点FP1またはその近傍にランプ10の輝点APがあり、集光ミラー50は、該輝点APから放射された光を反射して、第2焦点FP2に集光させうる。集光ミラー50の開口部の直径は、ランプ10の大きさに依存しうるが、例えば300~400mmである。また、ランプ10は、集光ミラー50の光軸OAX(第1焦点FP1と第2焦点FP2とを結ぶ軸線)の上に配置されうる。ノズル42a、42bは、気体供給部40から供給される高圧のエアをそれぞれ口金11a、11bに吹き付けるように配置されうる。これにより、口金11a、11bが冷却される。ノズル42aは、集光ミラー50で反射された有効光束52を遮断しないように、有効光束52の外側に配置されうる。口金11a、11bの冷却は、エアではなく、別の冷却媒体、例えば、窒素またはヘリウムなどの気体が用いられてもよい。
ランプ10は、輝点APを有する発光管13と、発光管13の両端部に接続された一対の口金11a、11bと、口金11a、11bからそれぞれ延びたステム14a、14bとを含みうる。発光管13は、ステム14a、14bの間に配置されうる。ステム14a、14bおよび発光管13は、一体的に構成されうる。ランプ10は、更に、ステム14a、14bおよび発光管13の中に配置された一対の電極12a、12bを含みうる。一例において、口金11aは陽極側口金であり、口金11bは陰極側口金であり、電極12aは陽極であり、電極12bは陰極でありうる。
口金11aと電極12aとは、モリブデン箔等の接続部によって接続されうる。同様に、口金11bと電極12bとは、モリブデン箔等の接続部によって接続されうる。発光管13の内部には、ネオン、キセノンなどの希ガス、あるいは、水銀、ナトリウム、スカンジウムなどの金属、あるいは、これらの混合物質が封入されうる。一対の電極12a、12b間のアーク放電により発光が行われる。口金11a、11bは、それぞれリード線32a、32bによって電力供給部30に接続されうる。図2では、リード線32a、32bがそれぞれ口金11a、11bの側面に接続された例が示されているが、図3(a)に例示されるように、リード線32a、32bは、それぞれ口金11a、11bの端面に接続されていてもよい。あるいは、図3(b)に例示されるように、リード線32a、32bは、それぞれリード線接続端子、アダプターまたは固定金具などのコネクタ11c、11dを介して口金11a、11bに接続されてもよい。また、リード線32a、32bは、導電性の線材で構成されてもよいし、他の導電性部材で構成されてもよい。
なお、以下では、口金11a、11bを区別することなく説明する場合には、口金11と記載する。口金11についての説明は、口金11aおよび/または口金11bについての説明である。同様に、リード線32a、32bを区別することなく説明する場合には、リード線32と記載する。リード線32についての説明は、リード線32aおよび/またはリード線32bについての説明である。同様に、ノズル42a、42bを区別することなく説明する場合には、ノズル42と記載する。ノズル42についての説明は、ノズル42aおよび/またはノズル42bについての説明である。同様に、供給管41a、41bを区別することなく説明する場合には、供給管41と記載する。供給管41についての説明は、供給管41aおよび/または供給管41bについての説明である。
図4には、口金11とノズル42と集光ミラー50との配置例が模式的に示されている。図4(a)は、Z方向からみた平面図、即ちXY平面に対する正射影を示している。図4(b)は、Y方向からみた側面図、すなわち、口金11の中心軸CAXと平行な平面であるXZ平面に対する正射影を示している。口金11は、円柱面CS、および円柱面の外側に放射状に延びる少なくとも1つの冷却用のフィン15を有しうる。ノズル42は、口金11を冷却するための気体を噴射する噴射孔45を有する。噴射孔45は、中心軸HAXを有する。噴射孔45の中心軸HAXは、例えば、噴射孔45が円筒形状を有する場合、その円筒形状の中心軸と一致する。中心軸HAXが口金11の中心または口金11またはフィン15の少なくとも一部と交差する位置にノズル42が配置される。噴射孔45から噴射される気体の流れは、F1、F2、F3として模式的に示されている。
図5には、ノズル42および供給管41の構造が例示されている。ノズル42は、エアあるいは気体のリークが発生しないように供給管41に接合または結合されうる。ノズル42の噴射孔45は、例えば、直径ΦDが1mm以上かつ2mm以下の範囲内の円形開口でありうる。噴射孔45から噴射されるエアあるいは気体の流速分布は、噴射孔45の中心軸HAXに対して軸対称でありうる。噴射孔45から噴射されるエアあるいは気体の流量は、例えば、20℃1気圧換算で、0.02立方メートル毎分以上かつ0.2立方メートル毎分以下の範囲内に設定されうる。
一例において、口金11、フィン15、およびノズル42は、図4(b)に示されるように、集光ミラー50の開口端50aよりも高い位置に配置されている。この場合、ノズル42は、噴射孔45の中心軸HAXを含む直線と口金11の中心軸CAXとが垂直になるように配置される。一例において、ノズル42の噴射孔45の中心軸HAXの仰角は、-10°以上かつ+10°以下の範囲内であり、鉛直方向(Z軸方向)に対する口金11の中心軸CAXの角度は、-10°以上かつ+10°以下の範囲内でありうる。他の観点において、噴射孔45の中心軸HAXを含み口金11の中心軸CAXに平行な平面において、噴射孔45の中心軸HAXを含む直線L1と口金11の中心軸CAXに垂直な平面とがなす角度は、-10°以上かつ+10°以下の範囲内でありうる。
図6には、口金11とフィン15の構成例が示されている。第1面15aと第2面15bはそれぞれ、実質的にフィンを構成する面であり、不連続な面を含め1つの面とみなしうる。また、内縁(内周部)とは、口金11の円柱面CSと第1面15aとが交わる曲線部、または口金11の円柱面CSと第2面15bとが交わる曲線部をいう。また、外縁(外周部)とは、第1面15aおよび第2面15bにおいて口金の中心軸CAXから遠い曲線部をいう。つまり、第1面15aまたは第2面15bにおいて、内縁は口金の中心軸CAXに近い曲線部であり、外縁は口金の中心軸CAXから遠く内縁よりも外側にある曲線部である。
フィン15は、ランプの輝点APに近い第1面15aと、ランプの輝点APから遠い、第1面15aとは反対側の第2面15bを有しうる。また、フィン15は、口金11の中心軸CAXに関して軸対称の形状を有しうる。ここで、図6において、輝点APを含む平面であって口金11の中心軸CAXに直交する平面を、輝点面Pと定義する。輝点面Pは、典型的には水平面でありうる。第1面15aにおける内縁151(第1内縁)と輝点面Pとの距離をh1とし、第1面15aにおける外縁152(第1外縁)と輝点面Pとの距離をh2とすると、h1とh2は、h2>h1の関係を有する。すなわち、第1面151は、輝点APを含む口金11の中心軸CAXに直交する平面である輝点面Pからの距離が外縁152より内縁151で短い形状を有する。つまり、輝点面Pと内縁151との距離は、輝点面Pと外縁152との距離よりも短い。
第1面15aは、内縁151から外縁152に向かうに従い輝点面Pから離れる方向に傾斜する斜面を含みうる。図6の例では、その斜面は、口金11の中心軸CAXを円錐軸とする円錐面の一部を構成しうる。一方、第2面15bは、例えば、口金11の中心軸CAXに直交する平面からなる。第1面15aにおける内縁151と外縁152との距離をR1、第2面15bにおける内縁153(第2内縁)と外縁154(第2外縁)との距離をR2とすると、R1とR2は、R1≧R2の関係を有する。つまり、第1面15aにおける内縁151と外縁152との距離は、第2面15bにおける内縁153と外縁154との距離以上である。
図7(a)および図7(b)を参照して、本実施形態における口金11のまわりの気体の流れを説明する。図7(a)は口金11をZ方向からみた平面図、図7(b)は口金11をY方向からみた側面図であり、それぞれ図4(a)および図4(b)におけるフィン15付近を拡大した図となっている。
図7(a)によれば、ノズル42から噴出されたエアの流れF1は、口金11の側面で二手の流れF2に分かれ、口金11の側面に沿って流れた後、二手の流れF2は再度合流して流れF3が形成される。図7(b)を参照して、フィン15の上下面の流れに着目すると、ノズル42から噴出されたエアの流れF1は、フィン15の外周部15c(図6の外縁152、外縁154に相当)により上下に隔てられ、円柱面CSの周囲に沿った流れF2を形成する。流れF2の下流において、第2面15bに沿った流れは高さを変えずに流れF22となり、第1面15aに沿った流れはコアンダ効果によって向きを変え上向きの流れF21となる。流れF22と流れF21は外周部15cの反対側の外周部15c’において合流し、上向きの流れF3が形成される。
なお、図6および図7では、口金11に設けたフィンの数は3枚の場合を例示したが、これに限定されない。フィン15の数は1枚でもよいし複数であってもよい。また、複数のフィン15に対応して、ノズル42を複数備えていてもよい。また、フィン15は、口金11と一体形成されていてもよいし、口金11に接合、圧入等の方法で結合されてもよい。また、フィン15は、図3(b)に示すコネクタ11cあるいは11dに設けられ、口金11a,11bに接続される構成にしてもよい。
図8には、ノズル42から噴射されるエアの流れを実測するために使用された実験系の側面図が示されている。噴射孔45の中心軸HAXを含む直線L1と口金11の中心軸CAXとは直交し、口金の高さ方向(Z方向)の中心を通っている。D1は、ノズル42の先端と円柱面CS1との距離を示す。F1は、噴射孔45から円柱面CS1へ向かうエアの流れを示し、F3は、円柱面CS1を通過した後のエアの流れを示す。円柱面CS1からX方向に距離D2隔てた位置を流速分布の測定位置とし、Z方向における流速分布を測定した。円柱面CSの直径Φを40mm、ノズル42の噴射孔45のΦDを1.5mm、ノズル42から噴射されるエアの流量を0.05立方メートル毎分(20℃1気圧換算)とした。
図9には、比較実験に用いた複数のフィンの側面図が示されている。図9(a)は本実施形態に基づくフィンの形状を示している。ここでは、フィンの厚みFH1を3mm、上下のフィン間の円柱部の高さ寸法FH2を3mm、円柱面CS1の直径Φからの延伸長さFLを6mmとした。また、フィンにおける下側の第1面および上側の第2面は図6の例と同様とした。すなわち、フィンの第1面は、例えば、中心軸CAXを円錐軸とする円錐面の一部を構成するような斜面からなり、フィンの第2面は、例えば、中心軸CAXに直交する平面からなる。
図9(b)は比較例のフィンの形状を示している。この比較例のフィンの厚みFH1を3mm、フィン間の円柱部の高さ寸法FH2を3mm、円柱面CS1の直径Φからの延伸長さFLを6mmとした。また、該フィンにおける下側の第1面および上側の第2面は互いに平行な平面とし、フィンの外周側面を円筒面とした。フィンの個数は、両者とも6枚とした。
図10には、ノズル42から噴射されたエアの流速分布をノズル42の先端からの距離D1=120mmの位置で測定した結果が示されている。この測定の際には、図8に示された口金11を取り外した。つまり、ノズル42から噴射されたエアの流れを遮るものがない状態にした。図10のグラフの横軸は、中心軸HAXを含む直線L1を中心とした位置を示し、縦軸は、エアの流速を示す。エアの流速分布は、中心軸HAXを含む直線L1に対して対称であることが分かる。距離D1=120mmは、集光ミラー50の直径が300mm、口金11の円柱面CSの直径Φが40mmの場合において、ノズル42の先端が図2に示された有効光束52を遮断しない最小距離である。
図11には、円柱面CS1からの距離D2=100mmの位置で±Z方向における流速分布を測定した結果が示されている。図11のグラフの横軸は、中心軸HAXを含む直線L1を中心としたZ方向における位置を示し、縦軸は、エアの流速を示す。図11(a)は、本実施形態である図9(a)に示すフィン形状を用いた場合の流速分布を示し、図11(b)は互いに平行な面を有する図9(b)に示すフィン形状を用いた場合の流速分布を示す。図11(b)よりも図11(a)の方が±Z方向における流速分布の広がりが狭くなり、最大流速が上がっていることが分かる。また、流速分布が+Z側(上側)に移動していることが分かる。
一例において、ランプ10の口金11と発光管13との高さ方向の距離(ステム14の長さ)は概ね80mmであり、上側の口金11aと集光ミラー50の上端(開口端)との高さ方向(Z方向)の距離は概ね50mmに設定されうる。したがって、本実施形態の構成を採用することにより、口金11に吹き付けられたエアが口金11以外の範囲に拡散することを抑制することができる。これにより、口金11に吹き付けられたエアが直接的にランプ10の発光管13を冷却したり、集光ミラー50の内側空間に流入して間接的に発光管13を冷却したりすることを抑制し、ランプ10の過冷却による点灯不良、不点灯等を防止することができる。したがって、第1実施形態によれば、ランプ10を安定して発光させることができる。
また、本実施形態によれば、フィンの厚みは、外周部15cで薄く、口金11の円柱面CSに近づくに従って厚くなる。つまり、ノズル42から噴出されたエアが流れる流路が徐々に狭くなる。そのため、ノズル42から噴射されたエアの流速が、フィンの外周部15cから円柱面CSに近づくに従って上がる。これにより、口金11の冷却効率を高めることができる。
また、ランプ10の出力向上に伴って集光ミラー50で反射された光束が口金11aに電力を供給するリード線32aに照射されることによってリード線32aの温度が上昇し、リード線32aの酸化および劣化を招く可能性がある。リード線32aを冷却するために、専用のエア吹き付け機構を設ける場合には、光源装置110のコストの増加、あるいは、エア流量の増加による露光装置100のランニングコストの増加を招きうる。リード線32aのうち光束が照射される部分(温度上昇部)にエアあるいは気体の流れF3が形成されるようにリード線32aを配置することにより、リード線32aの当該部分を低コストで冷却することができる。
<第2実施形態>
以下、第2実施形態を説明する。第2実施形態として言及しない事項は、第1実施形態に従いうる。図12を参照して、光源装置110における口金11に設けられたフィン15の形状の変形例を説明する。図12(a)~(i)は、口金11の中心軸CAXを通る口金11の断面図である。図12(a)~(i)におけるそれぞれのフィン15の形状は、中心軸CAXに対し軸対称形状でありうる。
以下、第2実施形態を説明する。第2実施形態として言及しない事項は、第1実施形態に従いうる。図12を参照して、光源装置110における口金11に設けられたフィン15の形状の変形例を説明する。図12(a)~(i)は、口金11の中心軸CAXを通る口金11の断面図である。図12(a)~(i)におけるそれぞれのフィン15の形状は、中心軸CAXに対し軸対称形状でありうる。
図12(a)には、第1実施形態で示されたフィンの形状が示されている。図12(a)のフィン15は、ランプの輝点APに近い第1面15aと、ランプの輝点APから遠い、第1面15aとは反対側の第2面15bとを有する。第1面15aは、内縁から外縁に向かうに従い輝点面P(図6参照)から離れる方向に傾斜する斜面を含みうる。この斜面は、例えば、口金11の中心軸CAXを円錐軸とする円錐面の一部を構成してもよい。図12(a)において、第2面15bは、口金11の中心軸CAXに直交する平面と平行な平面をなしている。
図12(b)~(i)には、図12(a)に対する変形例が示されている。なお、図12(b)~(i)では見やすさの観点から各符号を省略しており、以下では、図12(a)との違いや特徴について述べる。
図12(b)において、第1面15aは、内縁と外縁とを接続する球面、トロイダル面、または自由曲面を含む。
図12(c)において、第1面15aは、円錐面(斜面)と、口金11の中心軸CAXに直交する平面との組み合わせにより構成されている。
図12(d)において、第1面15aは、円筒面または円錐面と平面とを組み合わせた階段状の形状により構成されている。この階段状の形状は、全体として図12(a)に示された斜面を実質的に構成していると理解されてもよい。この階段状の形状は、図12(a)~(c)における第1面15aの斜面を実現するうえで製造が容易となりうる点で有利である。
図12(c)において、第1面15aは、円錐面(斜面)と、口金11の中心軸CAXに直交する平面との組み合わせにより構成されている。
図12(d)において、第1面15aは、円筒面または円錐面と平面とを組み合わせた階段状の形状により構成されている。この階段状の形状は、全体として図12(a)に示された斜面を実質的に構成していると理解されてもよい。この階段状の形状は、図12(a)~(c)における第1面15aの斜面を実現するうえで製造が容易となりうる点で有利である。
図12(e)~(g)は、図12(a)~(d)と比べて、第2面15bの構成が異なる。図12(a)~(d)では、第2面15bは、口金11の中心軸CAXと直交する平面によって構成されている。これに対し、図12(e)では、第2面15bは、内縁から外縁に向かうに従い輝点面Pに近づく方向に傾斜する斜面を含みうる。この斜面は、例えば、口金11の中心軸CAXを円錐軸とする円錐面の一部を構成してもよい。図12(f)では、第2面15bは、内縁から外縁に向かうに従い輝点面Pから離れる方向に傾斜する斜面を含みうる。この斜面は、口金11の中心軸CAXを円錐軸とする円錐の円錐面の一部を構成してもよい。ただし該円錐面の傾斜度合いは第1面15aのそれよりも緩い。これに対し、図12(g)では、第2面15bの傾斜度合いは第1面15aと同じになっている。つまり、図12(g)の第2面15bは、内縁から外縁に向かうに従い輝点面Pから離れる方向に第1面15aと同じ傾斜度合いで傾斜する斜面を含む。さらに言い換えれば、図12(g)のフィン15は、一様の厚みを有する板状のフィンである。
図12(h)では、フィン15の外周部15cの側面が円筒面または円錐面により構成されている。
図12(i)では、フィン15の外周部15cの側面がトロイダル面や自由曲面により構成されている。
図12(i)では、フィン15の外周部15cの側面がトロイダル面や自由曲面により構成されている。
以上のように、フィン15の形状にはさまざまなものがありうる。ここで、これらの形状はすべて、図12(e)および(f)にも示されているような、第1面15aにおける内縁と外縁との距離R1と、第2面15bの内縁と外縁との距離R2とは、R1≧R2の関係を有する。なお、フィン15の形状は、図12(a)~(i)に示された第1面15aと第2面15bの任意の組み合わせとしてもよい。また、第1面15aおよび第2面15bの少なくとも一方は、口金11の中心軸CAXに関して軸対称の形状を有しうる。
第2実施形態によれば、第1実施形態と同様の効果が得られる他、口金11のまわりの気体の流れを最適化することができる。また、フィンの製造が容易となり低コスト化を図ることができる。さらには、フィンの先端部に人や物が触れて人や物が損傷するリスクを低減することもできる。
<第3実施形態>
以下、図13を参照して、第3実施形態の露光装置における光源装置110の構成を説明する。第3実施形態として言及しない事項は、第1実施形態に従いうる。図13には、第3実施形態の光源装置110における口金11とノズル42と集光ミラー50の配置例を示す側面図が示されている。
以下、図13を参照して、第3実施形態の露光装置における光源装置110の構成を説明する。第3実施形態として言及しない事項は、第1実施形態に従いうる。図13には、第3実施形態の光源装置110における口金11とノズル42と集光ミラー50の配置例を示す側面図が示されている。
第1実施形態に係る図4(b)では、口金11、フィン15、およびノズル42は、集光ミラー50の開口端50aよりも高い位置に配置されていた。しかし、集光ミラー50によるランプ10からの光の捕捉効率を高めるため、集光ミラー50が大型化し、集光ミラー50の開口端50aの位置が、ランプ10の口金11よりも鉛直方向(Z軸方向)に高くなる場合がある。すなわち、口金11およびフィン15の少なくとも一部は、集光ミラー50の開口端50aよりも低い位置に配置されうる。ただし、ノズル42は、集光ミラー50の開口端50aよりも高い位置に配置される。図13にはそのような例が示されている。
図13において、口金11は、円柱面CSと、円柱面CSの外側に放射状に延びる少なくとも1つのフィン15を有しうる。ノズル42は、口金11を冷却するための気体を噴射する噴射孔45を有する。噴射孔45は、中心軸HAXを有する。噴射孔45の中心軸HAXは、例えば、噴射孔45が円筒形状を有する場合、その円筒形状の中心軸と一致する。中心軸HAXは口金11の中心または口金11またはフィン15の少なくとも一部と交差する位置にノズル42が配置される。噴射孔45から噴射される気体の流れは、F1、F2、F3として模式的に示されている。
本実施形態においては、上記したように、口金11は集光ミラー50の開口端50aより下側(-Z側)に配置される一方、ノズル42は集光ミラー50の開口端50aより上側(+Z側)に配置されている。この構成において、ノズル42は、噴射孔45の中心軸HAXを含む直線と口金11の側面とが交わるように配置される。一例において、ノズル42の噴射孔45の中心軸HAXの仰角は、-30°以上かつ0°以下の範囲内であり、鉛直方向(Z軸方向)に対する口金11の中心軸CAXの角度は、-10°以上かつ+10°以下の範囲内でありうる。他の観点において、噴射孔45の中心軸HAXを含み口金11の中心軸CAXに平行な平面において、噴射孔45の中心軸HAXを含む直線L1と口金11の中心軸CAXに垂直な平面とがなす角度は、-30°以上かつ0°以下の範囲内でありうる。
本実施形態において、口金11とフィン15の構成は、第1実施形態または第2実施形態と同様である。第1実施形態と同様に、口金11の円柱面CSを通過した後のエアの流れにおいて、ランプの輝点APから離れる向きの流れF3を得ることができる。したがって、図13に示されるように、口金11が集光ミラー50の開口端50aより下側(-Z側)に配置されていても、口金11に吹き付けられたエアが集光ミラー50の内側空間に過度に流入することを防止できる。よって、本実施形態においても、第1実施形態と同様に、口金11に吹き付けられたエアが口金11以外の範囲に拡散することが抑制され、これにより、ランプ10の過冷却による点灯不良または不点灯などを防止することができる。
<物品製造方法の実施形態>
以下、実施形態の物品製造方法を説明する。物品製造方法は、例えば、デバイス(半導体素子、磁気記憶媒体、液晶表示素子など)、カラーフィルターなどの物品を製造するのに好適である。物品製造方法は、上記の露光装置を用いて、(感光剤が塗布された)基板を露光する露光工程と、該露光工程で露光された基板を現像する現像工程と、該現像工程を経た基板を処理して物品を得る処理工程とを含みうる。また、該処理工程は、例えば、周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージングなど)を含みうる。本実施形態における物品の製造方法は、従来に比べて、物品の性能、品質、生産性及び生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
以下、実施形態の物品製造方法を説明する。物品製造方法は、例えば、デバイス(半導体素子、磁気記憶媒体、液晶表示素子など)、カラーフィルターなどの物品を製造するのに好適である。物品製造方法は、上記の露光装置を用いて、(感光剤が塗布された)基板を露光する露光工程と、該露光工程で露光された基板を現像する現像工程と、該現像工程を経た基板を処理して物品を得る処理工程とを含みうる。また、該処理工程は、例えば、周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージングなど)を含みうる。本実施形態における物品の製造方法は、従来に比べて、物品の性能、品質、生産性及び生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
発明は上記実施形態に制限されるものではなく、発明の精神及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。従って、発明の範囲を公にするために請求項を添付する。
11a、11b:口金、10:ランプ、15:フィン、20:保持部、42:ノズル、45:噴射孔、50:集光ミラー、110:光源装置、AP:ランプの輝点
Claims (18)
- 輝点を有する発光管と、
前記発光管の端部に接続された口金と、
前記口金の周囲に設けられたフィンと、を有し、
前記フィンは、前記輝点に近い第1面と、前記輝点から遠い、前記第1面とは反対側の第2面とを有し、
前記輝点を含む前記口金の中心軸に直交する平面である輝点面と前記第1面における第1内縁との距離は、前記輝点面と前記第1面における第1外縁との距離よりも短く、
前記第1面における前記第1内縁と前記第1外縁との距離は、前記第2面における第2内縁と第2外縁との距離以上である、
ことを特徴とするランプ。 - 前記第1面は、前記第1内縁から前記第1外縁に向かうに従い前記輝点面から離れる方向に傾斜する斜面を含む、ことを特徴とする請求項1に記載のランプ。
- 前記斜面は、前記中心軸を円錐軸とする円錐面の一部を構成する、ことを特徴とする請求項2に記載のランプ。
- 前記第1面は、前記斜面と、前記中心軸に直交する平面とを含む、ことを特徴とする請求項2または3に記載のランプ。
- 前記第1面は、前記第1内縁と前記第1外縁とを接続する球面またはトロイダル面を含む、ことを特徴とする請求項1に記載のランプ。
- 前記第2面は、前記中心軸に直交する平面からなる、ことを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載のランプ。
- 前記第2面は、前記第2内縁から前記第2外縁に向かうに従い前記輝点面に近づく方向に傾斜する斜面を含む、ことを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載のランプ。
- 前記第2面は、前記第2内縁から前記第2外縁に向かうに従い前記輝点面から離れる方向に傾斜する斜面を含む、ことを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載のランプ。
- 前記第2面は、前記第2内縁から前記第2外縁に向かうに従い前記輝点面から離れる方向に前記第1面と同じ傾斜度合いで傾斜する斜面を含む、ことを特徴とする請求項2または3に記載のランプ。
- 前記第1面および前記第2面の少なくとも一方は、前記口金の中心軸に関して軸対称の形状を有する、ことを特徴とする請求項1から9のいずれか1項に記載のランプ。
- 請求項1から10のいずれか1項に記載のランプを保持する保持部と、
前記ランプが発生する光を集光させる集光ミラーと、
前記口金を冷却するための気体を噴射する噴射孔を有するノズルと、
を有することを特徴とする光源装置。 - 前記口金の中心軸と平行な平面への正射影において、前記口金、前記フィン、および前記ノズルは、前記集光ミラーの開口端より高い位置に配置され、
前記ノズルは、前記噴射孔の中心軸を含む直線と前記口金の前記中心軸とが垂直になるように配置されている、
ことを特徴とする請求項11に記載の光源装置。 - 前記口金の中心軸と平行な平面への正射影において、前記口金および前記フィンの少なくとも一部は、前記集光ミラーの開口端より低い位置に配置され、前記ノズルは、前記集光ミラーの開口端より高い位置に配置され、
前記ノズルは、前記噴射孔の中心軸を含む直線と前記口金の側面とが交わるように配置されている、
ことを特徴とする請求項11に記載の光源装置。 - 前記ノズルは、前記ランプから放射され前記集光ミラーによって反射された有効光束の外側に配置されている、ことを特徴とする請求項11から13のいずれか1項に記載の光源装置。
- 前記噴射孔から噴射される気体の流速分布は、前記噴射孔の中心軸に対して軸対称である、ことを特徴とする請求項11から14のいずれか1項に記載の光源装置。
- 前記集光ミラーは、楕円ミラーである、ことを特徴とする請求項11から15のいずれか1項に記載の光源装置。
- 請求項11から16のいずれか1項に記載の光源装置と、
前記光源装置からの光を使って原版を照明する照明光学系と、
前記原版のパターンを基板に投影する投影光学系と、
を備えることを特徴とする露光装置。 - 請求項17に記載の露光装置を用いて基板を露光する露光工程と、
前記露光工程で露光された前記基板を現像する現像工程と、
前記現像工程を経た前記基板を処理して物品を得る処理工程と、
を含むことを特徴とする物品製造方法。
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