JP2022159952A - 転写シートの製造方法及び積層物 - Google Patents

Abstract

【課題】レーザによるパターニングの際に、基体シートと剥離層との間で剥がれが生じにくい積層物と、そのような積層物を用いた転写シートの製造方法を提供する。【解決手段】転写シートの製造方法は、基体シートの上に、少なくとも、剥離層、アンカー層、ＵＶ波長を吸収しにくい透明樹脂を含むブロック層、及びベース色層が順に積層された積層物を準備する工程と、積層物のベース色層が形成されている側から、ベース色層に対してＵＶレーザを照射することで、ベース色層を貫通する穴部を有する任意のパターンを形成する工程とを含む。積層物は、基体シートと、基体シートの上に積層された剥離層と、剥離層の上に積層されたアンカー層と、アンカー層の上に積層された、ＵＶ波長を吸収しにくい透明樹脂を含むブロック層と、ブロック層の上に積層されたベース色層とを含む。【選択図】図１

Description

本発明は、転写シートの製造方法及び積層物に関する。

家電製品のカバーパネル、自動車の内装パネルなどの成形品を製造する際に、加飾シートを用いる方法が知られている。加飾シートに任意の文字、記号、図形などのパターンを表現する場合、加飾シートの印刷層をレーザでパターニングする方法がある。図１１（ａ）を参照して、たとえば特許文献１には、基体シート２１０の上に着色層２２０及び遮光層２３０が順に積層された積層物に対し、遮光層２３０が形成された面から赤外線レーザを照射して、任意のパターンを形成する方法が記載されている。この方法によれば、パターンの追加もしくは変更又はそれらの両方が必要になっても、印刷版を新たに用意する必要がなく、少量多品種の成形品を容易に製造することができる。

しかしながら、従来のパターニング方法は、基体シートが成形品に残る加飾シートを対象としたものであり、基体シートが成形品に残らない転写シートを対象としたパターニング技術は未だ提案されていない。そこで、特許文献１に記載された加飾シートを転写シートの構成に置き換えた積層物を、レーザでパターニングすることが考えられる。図１１（ｂ）を参照して、加工対象となる積層物３００は、基体シート２１０の上に、剥離層２４０、アンカー層２５０、着色層２２０、遮光層２３０が順に積層されたものとなる。剥離層２４０は基体シート２１０を剥離しやすくするための層であり、アンカー層２５０は剥離層２４０と着色層２２０とを密着させるための層である。図１１（ｃ）を参照して、遮光層２３０が形成された面から赤外線レーザを照射すると、任意のパターンが形成された転写シート２００を得ることができる。

特開２００１－３０２９０号公報

しかし、従来の赤外線レーザによるパターニングは、任意の層（たとえば、遮光層２３０）だけを除去する制御が難しく、図１１（ｃ）に示すように、遮光層２３０から剥離層２４０までの全層が除去されたものとなる。このとき、剥離層２４０が赤外線レーザによって除去される際の衝撃で、基体シート２１０と剥離層２４０との間で部分的な剥がれが生じる。その状態で、たとえば成形同時加飾法により転写シート２００と射出成形品とを一体化し、基体シート２１０を剥がすと、加飾品に剥離跡ができる。つまり、従来の赤外線レーザによるパターニングが施された転写シートを用いると、加飾品の外観不良を引き起こしてしまうことがあった。

本発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、レーザによるパターニングの際に、基体シートと剥離層との間で剥がれが生じにくい積層物と、そのような積層物を用いた転写シートの製造方法を提供することを目的とする。

上記の目的を達成するための、第１の発明は、基体シートの上に剥離層を積層するステップと、剥離層の上にアンカー層を積層するステップと、アンカー層の上にＵＶ波長を吸収しにくい透明樹脂を含むブロック層を積層するステップと、ブロック層の上にベース色層を積層するステップとを少なくとも含む、積層物の形成工程と、積層物のベース色層が形成されている側から、ベース色層に対してＵＶレーザを照射することで、ベース色層を貫通する穴部を有する任意のパターンを形成する工程とを含む、転写シートの製造方法である。

また、上記の目的を達成するための、第２の発明は、基体シートの上に、少なくとも、剥離層、アンカー層、ＵＶ波長を吸収しにくい透明樹脂を含むブロック層、及びベース色層が順に積層された積層物を準備する工程と、積層物のベース色層が形成されている側から、ベース色層に対してＵＶレーザを照射することで、ベース色層を貫通する穴部を有する任意のパターンを形成する工程とを含む、転写シートの製造方法である。

第１又は第２の発明のように構成すると、ベース色層の除去により減衰したＵＶレーザのエネルギーは、ブロック層に吸収されてさらに減衰するところ、その減衰したエネルギーではアンカー層及び剥離層は除去されず、ベース色層のみが除去される。基体シートの上に積層された剥離層が除去されないため、基体シートと剥離層との間で剥がれが生じにくい。

第３の発明は、第１又は第２の発明において、ベース色層は黒色系統であり、ブロック層は１層である、転写シートの製造方法である。
このように構成すると、ＵＶレーザエネルギーの多くがベース色層に吸収され、ベース色層の除去に使われる。つまり、ＵＶレーザエネルギーの多くは、ベース色層により減衰される。そして、残りのエネルギーは、ＵＶ波長を吸収しにくいブロック層を透過することで、アンカー層及び剥離層が除去されない程度にまで減衰される。そのため、より確実に、基体シートと剥離層との間で剥がれが発生するのを防ぐことができる。

第４の発明は、第１又は第２の発明において、ベース色層は白色系統であり、ブロック層は２層以上である、転写シートの製造方法である。
このように構成すると、ＵＶレーザエネルギーは、ベース色層によって吸収されにくいため、つまりベース色層によって減衰されにくいため、多くがブロック層に到達する。しかし、そのＵＶレーザエネルギーは、ＵＶ波長を吸収しにくい複数のブロック層を透過することで、アンカー層及び剥離層が除去されない程度にまで減衰される。そのため、より確実に、基体シートと剥離層との間で剥がれが発生するのを防ぐことができる。

第５の発明は、第１から第４の発明のいずれかにおいて、ブロック層に含まれる透明樹脂は、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂及びアクリル樹脂からなる群から選ばれた１つである、転写シートの製造方法である。

第６の発明は、第１から第５の発明のいずれかにおいて、パターンが形成された積層物のベース色層の上に、ベース色層とは異なる色のパターン色層を、穴部に充填するようにして形成する工程を含む、転写シートの製造方法である。
このように構成すると、穴部がＵＶレーザによって形成されるためエッジが明確になり、その穴部にベース色層とは異なる色のパターン色層が充填されるため、任意のパターンを視認しやすくなる。

また、上記目的を達成するための、第７の発明は、基体シートと、基体シートの上に積層された剥離層と、剥離層の上に積層されたアンカー層と、アンカー層の上に積層された、ＵＶ波長を吸収しにくい透明樹脂を含むブロック層と、ブロック層の上に積層されたベース色層とを含む、積層物である。

このように構成すると、ベース色層が形成された側からＵＶレーザを照射して任意のパターンを形成するとき、ベース色層の除去により減衰したＵＶレーザのエネルギーは、ＵＶ波長を吸収しにくいブロック層を透過することでさらに減衰するところ、その減衰したエネルギーではアンカー層及び剥離層は除去されず、ベース色層のみが除去される。基体シートの上に積層された剥離層が除去されないため、基体シートと剥離層との間で剥がれが生じにくい。

本発明の積層物と、それを用いた転写シートの製造方法によれば、レーザによるパターニングの際に、基体シートと剥離層との間で剥がれが生じにくい。

（ａ）積層物の第１実施形態を示す模式的な断面図。（ｂ）転写シートの製造方法の第１実施形態を示す模式的な断面図。 左は第１実施形態の積層物にＵＶレーザでパターニングする様子を示す模式的な断面図、右はＵＶレーザエネルギーの減衰傾向を示す模式図。 （ａ）積層物の第２実施形態を示す模式的な断面図。（ｂ）転写シートの製造方法の第２実施形態を示す模式的な断面図。 左は第２実施形態の積層物にＵＶレーザでパターニングする様子を示す模式的な断面図、右はＵＶレーザエネルギーの減衰傾向を示す模式図。 第１実施形態の転写シートを用いた加飾品の一例を示す模式的な断面図。 第２実施形態の転写シートを用いた加飾品の一例を示す模式的な断面図。 転写シートの別の実施形態を示す模式的な断面図。 転写シートの別の実施形態を示す模式的な断面図。 転写シートの別の実施形態を示す模式的な断面図。 転写シートの別の実施形態を示す模式的な断面図。 （ａ）従来の加飾シートの製造方法を示す模式的な断面図。（ｂ）（ａ）に示す加飾シートを、転写シートの構造に置き換えた模式的な断面図。（ｃ）（ｂ）に示す積層物を、赤外線レーザでパターニングする転写シートの製造方法を示す模式的な断面図。

（第１実施形態）
図１（ａ）を参照して、積層物３は、基体シート３１と、基体シート３１の上に積層された剥離層３２と、剥離層３２の上に積層されたアンカー層３３と、アンカー層３３の上に積層された、ＵＶ波長を吸収しにくい透明樹脂を含むブロック層３４と、ブロック層３４の上に積層されたベース色層３５とを含む。
図１（ｂ）を参照して、転写シート１の製造方法は、上記した積層物３を形成する工程と、積層物３のベース色層３５が形成されている側から、ベース色層３５に対してＵＶレーザを照射することで、ベース色層３５を貫通する穴部３５ａを有する任意のパターン５を形成する工程とを含む。

基体シート３１は、転写シート１を被転写物に転写した後に、被転写物から剥離する。積層物３から被転写物に転写されるのは、剥離層３２、アンカー層３３、ブロック層３４、ベース色層３５を含む転写層３６である。基体シート３１の材料としては、たとえば、ポリプロピレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、アクリル系樹脂、オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ＡＢＳ系樹脂などの熱可塑性樹脂およびこれらの積層品を挙げることができる。

剥離層３２は、転写シート１を被転写物に転写して、基体シート３１を剥離することで、転写層３６によって加飾された被転写物の最表面となる層である。剥離層３２は透明である。剥離層３２は、基体シート３１の上に、全面にわたって形成される。剥離層３２の材料としては、たとえば、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩素化ポリオレフィン樹脂、塩素化エチレン‐酢酸ビニル共重合体樹脂、環化ゴム、クマロンインデン樹脂などの熱可塑性樹脂を用いることができる。このような熱可塑性樹脂で剥離層を形成すると、被転写物に耐薬品性などを与えることができる。また、他の材料としては、たとえば、紫外線硬化型樹脂などの光硬化性樹脂、電子線硬化型樹脂などの放射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂のいずれかを含んで形成することができる。このような樹脂としては、たとえば、ウレタンアクリレート系樹脂、シアノアクリレート系樹脂、エポキシアクリレート系樹脂、ポリエステルアクリレート系樹脂、これらの樹脂にイソシアネートなどの添加剤を加えた樹脂を挙げることができる。上記硬化性樹脂で剥離層を形成すると、被転写物に耐久性や耐摩耗性といった物性を与えることができる。剥離層３２の厚みは２μｍ以上１２μｍ以下とすることができる。

アンカー層３３は、剥離層３２とブロック層３４との密着性を向上させるための層である。アンカー層３３は透明である。アンカー層３３は、剥離層３２の上に、全面にわたって形成される。アンカー層３３の材料としては、たとえば、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂などを用いることができる。アンカー層３３の厚みは１μｍ以上３μｍ以下とすることができる。

ブロック層３４は、ベース色層３５をＵＶレーザでパターニングする際に、アンカー層３３及び剥離層３２がＵＶレーザによってパターニングされるのを防ぐ層である。第１実施形態においては、ブロック層３４は１層形成されている。ブロック層３４は、アンカー層３３の上に、全面にわたって形成される。ブロック層３４の作用・機能についての詳細は、後述する。ブロック層３４は、ＵＶ波長を吸収しにくい透明樹脂を含んで形成された、透明な層である。換言すれば、ブロック層３４は、ＵＶ波長を透過しやすい透明樹脂を含んで形成されている。さらに換言すれば、ブロック層３４は、ＵＶ波長によって分子結合が切れにくい透明樹脂を含んで形成されている。このような透明樹脂としては、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂のいずれかを用いるとよい。なお、ブロック層３４は、これらの樹脂に硬度を向上させる添加剤を加えて形成しても良い。
ブロック層３４の厚みは、２μｍ以上３０μｍ以下とすることができる。なお、ブロック層３４は、ＵＶレーザを拡散させる粒子は含まない。

ベース色層３５は、着色された層である。ベース色層３５は、ブロック層３４の上に、全面にわたって形成される。第１実施形態において、ベース色層３５の色は、黒色系統である。ここで黒色系統とは、好ましくは黒色であるが、黒色に近い比較的濃い色を含む意味である。たとえば、マンセル表色系における明度及び彩度を示す数値が、ともに中央値以下となる範囲の色を含む意味である。ベース色層３５にＵＶレーザが照射されることによって、任意のパターン５が形成される。パターン５は、ベース色層３５を貫通する穴部３５ａを有する。任意のパターン５は、たとえば、文字、記号、図形、及びこれらを組み合わせたものである。転写層３６を被転写物に転写し、基体シート３１を剥離した後、ブロック層３４、アンカー層３３、剥離層３２といった透明な層を通して、ベース色層３５の色及び任意のパターン５が視認される。ベース色層３５の材料としては、バインダー樹脂に黒色系統の顔料又は染料を分散させたインキを用いることができる。ベース色層３５の厚みは、２μｍ以上２０μｍ以下とすることができる。
なお、ベース色層３５は、ブロック層３４の全面ではなく、一部の面に形成してもよい。

上記各層の形成は、公知の層形成方法で行うことができる。たとえば、コーティング法及び印刷法を用いることができる。コーティング法としては、たとえば、グラビアコート法、ロールコート法、コンマコート法がある。印刷法としては、グラビア印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法、ラミネート法がある。

ＵＶレーザは、紫外線波長を有するレーザである。第１実施形態において、ＵＶレーザの波長は３５５ｎｍである。波長３５５ｎｍのＵＶレーザを用いると、集光径はおよそ２５μｍにすることができる。このようにＵＶレーザでは、より波長の長い赤外線レーザなどと比較して、集光径を小さくすることができるため、精密に焦点を合わせ、優れた位置精度を維持しつつ、非常に細かい加工が可能である。
ＵＶレーザは光子の持つエネルギーが大きいため、結合の弱い部分を持つ材料に照射すると、分子結合を直接解離する光分解加工を行うことができる。光分解加工は、分子結合を光（ＵＶレーザ）で断ち切るため、赤外線レーザなど波長の長いレーザによる熱加工と比較して、加工対象物における熱の発生が少ない。また、加工対象物に当たったＵＶエネルギーが、加熱ではなく分解に主に使われるため、加工面が極めてシャープであり、加工残渣が少ないといった利点がある。

図２を参照して、第１実施形態におけるＵＶレーザ加工の詳細と、ブロック層３４の作用・機能について説明する。
加工対象物である積層物３は、図１（ａ）に示す通り、ブロック層３４が１層であり、ベース色層３５は黒色系統である。図２の左側を参照して、ベース色層３５が形成されている側から、ＵＶレーザ光Ｌを照射する。ＵＶレーザ光Ｌは、ＵＶレーザ機（図示せず）の中にあるレンズ（図示せず）によって焦点ｆに集光される。また、図２の右側に示すように、焦点ｆにおいてＵＶレーザエネルギーの値はＥ１となり、最も高くなる。この理由は次の通りである。すなわち、焦点ｆにおいて集光径つまり集光面積が最も小さくなることにより、焦点ｆでは単位面積当たりのレーザエネルギー（エネルギー密度）が最も大きくなるためである。ここで、ベース色層３５は黒色系統であるため、ＵＶレーザ光Ｌの波長を吸収しやすい。したがって、ベース色層３５の表面近傍に焦点ｆの位置を調整すると、ベース色層３５がＵＶレーザ光Ｌをよく吸収し、そのエネルギーによって分子結合が断ち切られ、ベース色層３５が除去される。そして、図２の左側に二点鎖線で示すように、ベース色層３５に穴部３５ａが形成される。このように、ベース色層３５が黒色系統であると、ベース色層３５がＵＶレーザ光Ｌの波長をよく吸収し、かつ、最大のＵＶレーザエネルギー値Ｅ１で加工できるため、ベース色層３５の加工効率がよい。

ＵＶレーザエネルギーは、黒色系統のベース色層３５に吸収され、ベース色層３５を除去することに費やされる。そのため、図２右側に示すように、ＵＶレーザエネルギー値はＥ２まで大きく減衰する。ＵＶレーザ光Ｌは、ベース色層３５に穴部３５ａを形成した後にブロック層３４に到達する。ブロック層３４は、ＵＶ波長を吸収しにくい透明な層であるため、ＵＶレーザ光Ｌによって光分解加工されにくく、ＵＶレーザ光Ｌを透過する。ブロック層３４を透過したＵＶレーザ光Ｌは、アンカー層３３に到達する。ここで、ＵＶレーザ光Ｌはブロック層３４を透過する際にいくらか吸収されるため、ＵＶレーザエネルギー値Ｅ２はさらに減衰し、Ｅ３となっている。アンカー層３３は、上述の通り、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂及びエポキシ系樹脂などのＵＶ波長に弱い透明樹脂で形成される。ＵＶ波長に弱い樹脂とは、換言すれば、ＵＶ波長を吸収しやすく、ＵＶ波長で分子結合が切れやすい樹脂である。アンカー層３３はこのような性質を持つため、ＵＶレーザ光Ｌを吸収して加工されやすいが、アンカー層３３に到達したＵＶレーザエネルギー値Ｅ３では、アンカー層３３は光分解加工されない。つまり、アンカー層３３は、ＵＶレーザエネルギー値Ｅ３では除去されない。

ＵＶレーザ光Ｌは、透明なアンカー層３３を透過して、剥離層３２に到達する。ここで、ＵＶレーザ光Ｌはアンカー層３３を透過する際にいくらか吸収されるため、ＵＶレーザエネルギー値Ｅ３はさらに減衰し、Ｅ４となっている。ＵＶレーザエネルギー値Ｅ４はＥ３より小さいため、アンカー層３３と同様、剥離層３２もＵＶレーザエネルギー値Ｅ４では除去されない。

第１実施形態の積層物３では、ＵＶレーザ光Ｌの多くが黒色系統のベース色層３５に吸収されることにより、ＵＶレーザエネルギーの多く（Ｅ１－Ｅ２）が黒色系統のベース色層３５の除去に費やされる。ベース色層３５の直下に位置するブロック層３４はＵＶ波長を吸収しにくいため、換言すればＵＶレーザ光Ｌの吸収量が少ないため、ＵＶレーザエネルギー値Ｅ２では光分解加工がされにくい。このようなベース色層３５及びブロック層３４の作用・機能により、ブロック層３４の下に位置するアンカー層３３及び剥離層３２はＵＶレーザによって光分解加工がされず、そのままの状態で残る。したがって、基体シート３１と剥離層３２との間で剥がれが生じにくい。

（第２実施形態）
図３（ａ）を参照して、第２実施形態における積層物４は、ベース色層４５が白色系統であり、２層のブロック層４４－１，４４－２がある点において、第１実施形態とは異なる。
ベース色層４５の白色系統とは、好ましくは白色であるが、白色に近い比較的薄い色を含む意味である。たとえば、マンセル表色系における明度を示す数値が８以上、及び彩度を示す数値が２以下となる範囲の色を含む意味である。ベース色層４５にＵＶレーザが照射されることによって、任意のパターン６が形成される。白色系統のベース色層４５の材料としては、バインダー樹脂に白色系統の顔料又は染料を分散させたインキを用いることができる。白色系統のベース色層４５の厚みは、２μｍ以上２０μｍ以下とすることができる。

図４を参照して、第２実施形態におけるＵＶレーザ加工の詳細と、ブロック層４４－１，４４－２の作用・機能について説明する。
加工対象物である積層物４は、２層のブロック層４４－１，４４－２があり、ベース色層４５は白色系統である。図４の左側を参照して、ベース色層４５が形成されている側から、ＵＶレーザ光Ｌを照射する。ＵＶレーザ光Ｌは、ＵＶレーザ機（図示せず）の中にあるレンズ（図示せず）によって焦点ｆに集光される。また、図４の右側に示すように、焦点ｆにおいてＵＶレーザエネルギーの値はＥ１となり、最も高くなる。ここで、ベース色層４５は白色系統であるため、ＵＶレーザ光Ｌの波長を吸収しにくい。換言すれば、白色系統のベース色層４５は、黒色系統のときよりもＵＶレーザで加工されにくい。したがって、焦点ｆの位置を第１実施形態の位置よりも下方の位置（ベース色層４５により近い位置）に調整する必要がある。こうすることで、最も高いＵＶレーザエネルギー値Ｅ１が白色系統のベース色層４５に当たるため、ベース色層４５が白色系統であっても、その分子結合を断ち切りやすくなる。そして、図４の左側に二点鎖線で示すように、ベース色層４５に穴部４５ａが形成される。

ＵＶレーザエネルギーは、白色系統のベース色層４５にいくらか吸収され、ベース色層４５を除去することに費やされる。そのため、図４右側に示すように、ＵＶレーザエネルギー値はＥ５まで減衰する。ここで、ベース色層が黒色系統の場合（図２）と比べると、Ｅ５はＥ２よりも大きい値である。これは、白色系統のベース色層４５に吸収されるＵＶレーザ光Ｌの量が、黒色系統のベース色層２５の場合よりも少ないためである。換言すれば、白色系統のベース色層４５の除去に費やされるＵＶレーザエネルギーが、黒色系統のベース色層２５の除去に費やされる場合よりも少ないためである。

ＵＶレーザ光Ｌは、ベース色層４５に穴部４５ａを形成した後に、ベース色層４５が接している第１ブロック層４４－１に到達する。ここで、第１実施形態では、ベース色層３５に接するブロック層３４は、ＵＶレーザエネルギー値Ｅ２によって光分解加工されなかった。しかし、第２実施形態においては、ＵＶレーザエネルギー値Ｅ５はＥ２よりも大きいため、第１ブロック層４４－１はＵＶ波長を吸収しにくい層であるとは言え、いくらか吸収し、ＵＶレーザエネルギー値Ｅ５によって光分解加工される。そして、図４左側に二点鎖線で示すように、第１ブロック層４４－１にも穴部が形成される。

第１ブロック層４４－１を透過したＵＶレーザ光Ｌは、第２ブロック層４４－２に到達する。ＵＶレーザ光ＬのＵＶレーザエネルギーは、第１ブロック層４４－１を除去することにより減衰する。つまり、ＵＶレーザ光Ｌがブロック層４４－２に到達したとき、ＵＶレーザエネルギー値Ｅ５はＥ６にまで減衰している。このＵＶレーザエネルギー値Ｅ６は、第１実施形態におけるＥ２と同等の値であり、このエネルギーでは、第２ブロック層４４－２は光分解加工されない。このように、第２実施形態では、白色系統のベース色層４５を加工することで、ＵＶレーザエネルギーＥ１をＥ５に減衰させ、そのエネルギー値Ｅ５で第１ブロック層４４－１を加工することによって、第２ブロック層４４－２が加工されない程度の値Ｅ６にまで減衰させている。

第２ブロック層４４－２を透過したＵＶレーザ光Ｌは、アンカー層４３に到達する。ここで、ＵＶレーザ光Ｌは第２ブロック層４４－２を透過する際にいくらか吸収されるため、ＵＶレーザエネルギー値Ｅ６はさらに減衰し、Ｅ７となっている。しかし、アンカー層４３はＵＶレーザエネルギー値Ｅ７では除去されない。ＵＶレーザ光Ｌは、透明なアンカー層４３を透過して、剥離層４２に到達する。ここで、ＵＶレーザ光Ｌはアンカー層４３を透過する際にいくらか吸収されるため、ＵＶレーザエネルギー値Ｅ７はさらに減衰し、Ｅ８となっている。ＵＶレーザエネルギー値Ｅ８はＥ７より小さいため、アンカー層４３と同様、剥離層４２もＵＶレーザエネルギー値Ｅ８では除去されない。

第２実施形態の積層物４では、ＵＶレーザ光Ｌが白色系統のベース色層４５に吸収されにくいため、第１実施形態と比べて、ベース色層４５の除去に費やされるＵＶレーザエネルギーの量（Ｅ１－Ｅ５）も少ない。ＵＶレーザエネルギー値Ｅ５は第１実施形態におけるブロック層が加工されない値Ｅ２よりも大きいため、第１ブロック層４４－１はＵＶレーザエネルギー値Ｅ５で加工される。そして、第１ブロック層４４－１の直下に位置する第２ブロック層４４－２はＵＶレーザ光Ｌを吸収しにくいため、ＵＶレーザエネルギー値Ｅ６では光分解加工されにくい。このようなベース色層４５及び２層のブロック層４４－１，４４－２の作用・機能により、第２ブロック層４４－２の下に位置するアンカー層４３及び剥離層４２はＵＶレーザによって光分解加工がされず、そのままの状態で残る。したがって、基体シート４１と剥離層４２との間で剥がれが生じにくい。

図５及び図６を参照して、第１及び第２実施形態の転写シート１，２の使用方法を説明する。転写シート１，２は、たとえば成形同時加飾法に用いることができる。成形同時加飾法は、一対の金型の間に転写シート１，２を挟み、金型を閉じてキャビティ内に射出成形する方法である。金型を開くと、転写シート１，２と成形体７とが一体化された成形品が製造される。そして、基体シート３１，４１を剥離することで加飾品８，９が得られる。加飾品８，９を、剥離層３２，４２が形成された方から見ると、ベース色層３５，４５に形成された任意のパターン５，６を視認することができる。
なお、成形体７の材料に用いる樹脂を透明樹脂又は着色透明樹脂とし、加飾品８，９の下又は成形体７の内部にＬＥＤなどの光源を配置してもよい。このようにすると、光源をオンにした際、任意のパターン５，６をライトアップし、パターン５，６の視認性及び加飾品８，９の装飾性を高めることができる。

図７～図１０を参照して、実施形態に共通の変形例を説明する。以下では第１実施形態の積層物３を例に説明するが、これらの変形例は第２実施形態の積層物４にも適用できる。
転写シート１の製造方法は、任意のパターン５が形成された積層物３のベース色層３５の上に、ベース色層とは異なる色のパターン色層３７を、穴部３５ａに充填するようにして形成する工程を含んでもよい。ベース色層３５は黒色系統であるので、それと異なる色であれば、どのような色もパターン色層３７として用いることができる。図７を参照して、１色のパターン色層３７が、ベース色層３５を全て覆うようにして形成されてもよい。また、図８を参照して、２色以上のパターン色層３７，３８がベース色層３５を全て覆うように形成されてもよい。また、図９を参照して、１色のパターン色層３７がベース色層３５の一部を覆うようにして形成されてもよい。つまり、図７～図９に示すように、ベース色層３５に形成された全ての穴部３５ａは、１色又は２色以上のパターン色層によって充填される。パターン色層３７，３８の材料としては、バインダー樹脂に、ベース色層３５とは異なる色の顔料又は染料を分散させたインキを用いることができる。パターン色層３７，３８の厚みは、２μｍ以上２０μｍ以下とすることができる。パターン色層３７，３８の形成方法には、たとえば、コーティング法及び印刷法を用いることができる。
このような転写シートの製造方法によれば、穴部３５ａがＵＶレーザによって形成されることでエッジが明確になり、その穴部３５ａにベース色層３５とは異なる色のパターン色層３７，３８が充填されるため、任意のパターン５を視認しやすくなる。
また、図１０を参照して、転写シート１の製造方法は、パターン色層３７を覆うようにして接着層３９を形成する工程を含んでもよい。接着層３９があることにより、被転写物に対する転写層３６の密着力が向上する。

なお、第２実施形態においてブロック層は２層であるが、３層以上形成してもよい。また、第２実施形態において、ブロック層は、ブロック層２層以上に相当する厚みで１層だけ形成してもよい。

１，２ ：転写シート
３，４ ：積層物
３１，４１ ：基体シート
３２，４２ ：剥離層
３３，４３ ：アンカー層
３４，４４ ：ブロック層
４４－１ ：第１ブロック層
４４－２ ：第２ブロック層
３５，４５ ：ベース色層
３５ａ，４５ａ：穴部
３６，４６ :転写層
３７，３８ ：パターン色層
３９ ：接着層
５，６ ：パターン
７ ：成形体
８，９ ：加飾品
Ｌ ：ＵＶレーザ光
ｆ ：焦点
１００ ：加飾シート
２００ ：転写シート
２１０ ：基体シート
２２０ ：着色層
２３０ ：遮光層
２４０ ：剥離層
２５０ ：アンカー層
３００ ：積層物

Claims (7)

1. 基体シートの上に剥離層を積層するステップと、前記剥離層の上にアンカー層を積層するステップと、前記アンカー層の上にＵＶ波長を吸収しにくい透明樹脂を含むブロック層を積層するステップと、前記ブロック層の上にベース色層を積層するステップとを少なくとも含む、積層物の形成工程と、
   前記積層物の前記ベース色層が形成されている側から、前記ベース色層に対してＵＶレーザを照射することで、前記ベース色層を貫通する穴部を有する任意のパターンを形成する工程とを含む、転写シートの製造方法。
2. 基体シートの上に、少なくとも、剥離層、アンカー層、ＵＶ波長を吸収しにくい透明樹脂を含むブロック層、及びベース色層が順に積層された積層物を準備する工程と、
   前記積層物の前記ベース色層が形成されている側から、前記ベース色層に対してＵＶレーザを照射することで、前記ベース色層を貫通する穴部を有する任意のパターンを形成する工程とを含む、転写シートの製造方法。
3. 前記ベース色層は黒色系統であり、前記ブロック層は１層である、請求項１又は２に記載の転写シートの製造方法。
4. 前記ベース色層は白色系統であり、前記ブロック層は２層以上である、請求項１又は２に記載の転写シートの製造方法。
5. 前記ブロック層に含まれる前記透明樹脂は、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂及びアクリル樹脂からなる群から選ばれた１つである、請求項１～４のいずれかに記載の転写シートの製造方法。
6. 前記パターンが形成された前記積層物の前記ベース色層の上に、前記ベース色層とは異なる色のパターン色層を、前記穴部に充填するようにして形成する工程を含む、請求項１～５のいずれかに記載の転写シートの製造方法。
7. 基体シートと、
   前記基体シートの上に積層された剥離層と、
   前記剥離層の上に積層されたアンカー層と、
   前記アンカー層の上に積層された、ＵＶ波長を吸収しにくい透明樹脂を含むブロック層と、
   前記ブロック層の上に積層されたベース色層とを含む、積層物。

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