JP2022154853A - 成型用加飾シート、成型物及び電子デバイス - Google Patents

Abstract

【課題】本開示は、成型性及び熱耐久性に優れる成型用加飾シート及びその応用を提供する。
【解決手段】コレステリック液晶層と、上記コレステリック液晶層に接触した中間層と、上記中間層に接触した粘着層と、をこの順に含み、上記中間層が、２３．０ＭＰａ^１／２以上のＳＰ値を有する重合体を含み、上記中間層の固形分の総量に対する上記重合体の総量の割合が、６０質量％以上であり、８０℃の環境下で測定される破断伸度が、１０％以上である、成型用加飾シート及びその応用。
【選択図】なし

Description

本開示は、成型用加飾シート、成型物及び電子デバイスに関する。

コレステリック液晶相を利用した加飾用材料に関する技術として、例えば、次のような技術が知られている。特許文献１は、基材、中間層、及びコレステリック樹脂層をこの順に備えるコレステリック樹脂積層体であって、積層体を１３０℃において８時間加熱した前後におけるコレステリック樹脂層の反射帯域中心波長の差が５０ｎｍ以下であるコレステリック樹脂積層体を開示している。特許文献２は、基材上に、コレステリック液晶層を有し、コレステリック液晶層が、エチレン性不飽和基を１つ有するか又は環状エーテル基を１つ有するコレステリック液晶化合物を、液晶組成物の全固形分に対し、２５質量％以上含む液晶組成物を硬化してなる層である成型用加飾フィルムを開示している。

国際公開第２０１７／０１８４６８号 国際公開第２０２０／１２２２３５号

加飾用材料は、対象物を装飾する際に、又は対象物を装飾する前に成型されることがある。成型過程では立体物（例えば、金型及び装飾を受ける対象物）の形状に追従して加飾用材料を変形させる必要があるため、加飾用材料の成型性は、加飾用材料の延伸性に左右される傾向にある。しかしながら、加飾用材料の成型性に関する検討において、例えば、コレステリック液晶層の架橋密度の低減によって加飾用材料の成型性が向上する一方で、熱環境下で加飾用材料の色味（観察者の視覚により認識される加飾用材料の色相、彩度及び明度を含む。以下同じ。）が変化しやすくなることが明らかとなった。以上のような事情から、成型性及び熱耐久性（熱環境下で加飾用材料の色味が変化しにくい性質をいう。以下同じ。）の両立が求められる。

本開示は、成型性及び熱耐久性に優れる成型用加飾シート、上記成型用加飾シートを成型してなる成型物及び上記成型物を含む電子デバイスを提供することを目的とする。

上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
＜１＞ コレステリック液晶層と、上記コレステリック液晶層に接触した中間層と、上記中間層に接触した粘着層と、をこの順に含み、上記中間層が、２３．０ＭＰａ^１／２以上のＳＰ値を有する重合体を含み、上記中間層の固形分の総量に対する上記重合体の総量の割合が、６０質量％以上であり、８０℃の環境下で測定される破断伸度が、１０％以上である、成型用加飾シート。
＜２＞ 上記重合体が、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールからなる群より選択される少なくとも１種を含む、＜１＞に記載の成型用加飾シート。
＜３＞ 上記重合体が、エチレン性不飽和基及び環状エーテル基からなる群より選択される少なくとも１種を有する変性ポリビニルアルコールを含む、＜１＞又は＜２＞に記載の成型用加飾シート。

＜４＞ 上記重合体が、下記式（Ｉ）で表される変性ポリビニルアルコールを含む、＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の成型用加飾シート。

式（Ｉ）中、Ｌ^１１は、アミド結合、エーテル結合、ウレタン結合又はエステル結合を含む連結基を表し、Ｒ^１１は、アルキレン基又はアルキレンオキシ基を表し、Ｌ^１２は、単結合又は連結基を表し、Ｑ^１１は、エチレン性不飽和基又は環状エーテル基を表し、ｘ１＋ｙ１＋ｚ１＝１００ｍｏｌ％の前提にて、ｘ１は、１０ｍｏｌ％～９９．９ｍｏｌ％を表し、ｙ１は、０．０１ｍｏｌ％～８０ｍｏｌ％を表し、ｚ１は、０ｍｏｌ％～７０ｍｏｌ％を表し、ｋは、０又は１であり、ｈは、０又は１である。

＜５＞ 上記ｙ１が、０．５ｍｏｌ％～１５ｍｏｌ％である、＜４＞に記載の成型用加飾シート。
＜６＞ 反射帯域中心波長が、３５０ｎｍ～１，２００ｎｍである、＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の成型用加飾シート。
＜７＞ ８０℃の環境下で５００時間の加熱試験前に測定される反射帯域中心波長と、８０℃の環境下で５００時間の加熱試験後に測定される反射帯域中心波長との差の絶対値が、０ｎｍ～１５ｎｍである、＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の成型用加飾シート。
＜８＞ ６０℃及び９０％ＲＨの環境下で５００時間の加熱試験前に測定される反射帯域中心波長と、６０℃及び９０％ＲＨの環境下で５００時間の加熱試験後に測定される反射帯域中心波長との差の絶対値が、０ｎｍ～１５ｎｍである、＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載の成型用加飾シート。
＜９＞ ＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の成型用加飾シートを成型してなる成型物。
＜１０＞ ＜９＞に記載の成型物を含む電子デバイス。

本開示によれば、成型性及び熱耐久性に優れる成型用加飾シート、上記成型用加飾シートを成型してなる成型物及び上記成型物を含む電子デバイスが提供される。

以下、本開示の実施形態について詳細に説明する。本開示は、以下の実施形態に何ら制限されない。以下の実施形態は、本開示の目的の範囲内において適宜変更されてもよい。

本開示において、「～」を用いて示された数値範囲は、「～」の前後に記載される数値をそれぞれ下限値及び上限値として含む範囲を示す。本開示に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。

本開示において、組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する複数の物質の合計量を意味する。

本開示において、「工程」との用語には、独立した工程だけでなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。

本開示において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。

本開示において「固形分」とは、溶剤以外の成分を意味する。溶剤に該当しない液状成分は、固形分としてみなされる。

本開示において、「置換」又は「無置換」との用語が付記されてない基（原子団）は、置換基を有する基及び置換基を有しない基を包含する。例えば、「アルキル基」は、置換基を有するアルキル基及び置換基を有しないアルキル基を包含する。

本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。

本開示における重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、特に断りのない限り、ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００ＨｘＬ（何れも東ソー株式会社製の商品名）のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析装置により、溶媒ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。

本開示において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートを包含する。

本開示において、「（メタ）アクリル」は、アクリル及びメタクリルを包含する。

本開示において、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルを包含する。

本開示において、「ＳＰ値」とは、溶解度パラメーター（Ｓｏｌｕｂｉｌｉｔｙ Ｐａｒａｍｅｔｅｒ）を意味する。

＜成型用加飾シート＞
本開示の一実施形態に係る成型用加飾シートは、コレステリック液晶層と、上記コレステリック液晶層に接触した中間層と、上記中間層に接触した粘着層と、をこの順に含み、上記中間層が、２３．０ＭＰａ^１／２以上のＳＰ値を有する重合体を含み、上記中間層の固形分の総量に対する上記重合体の総量の割合が、６０質量％以上であり、８０℃の環境下で測定される破断伸度が、１０％以上である。上記した実施形態によれば、成型性及び熱耐久性に優れる成型用加飾シートが提供される。以下、「２３．０ＭＰａ^１／２以上のＳＰ値を有する重合体」を「特定重合体」という場合がある。

本開示において成型性及び熱耐久性に優れる成型用加飾シートが提供される理由は、次のように推定される。コレステリック液晶層を含む加飾用材料の成型性に関する検討では、例えば、（１）コレステリック液晶層の架橋密度を低減する方法及び（２）成型用加飾シートにおいてコレステリック液晶層と粘着層とを接触させる方法が試みられた。しかしながら、上記のような方法では、コレステリック液晶層の架橋密度が小さくなると、熱環境下でコレステリック液晶層に含まれる低分子化合物が粘着層に移動しやすくなる。上記のように低分子化合物が移動すると、コレステリック液晶相におけるらせんピッチが変化し、加飾用材料の色味が変化する。一方、本開示の一実施形態に係る成型用加飾シートでは、コレステリック液晶層と粘着層との間に６０質量％以上の特定重合体を含む中間層が配置されている。コレステリック液晶層における低分子化合物の多くは、特定重合体の極性よりも低い極性を示すため、中間層における特定重合体は、熱環境下でコレステリック液晶層に含まれる低分子化合物が中間層を介して粘着層に移動することを抑制し、結果的に、熱環境下で成型用加飾シートの色味が変化することを抑制する。さらに、本開示の一実施形態に係る成型用加飾シートでは、８０℃の環境下で測定される破断伸度が１０％以上であることで、延伸性が向上し、また、立体物（例えば、金型及び装飾を受ける対象物）の形状に対する追従性も向上する。したがって、本開示の一実施形態によれば、成型性及び熱耐久性に優れる成型用加飾シートが提供される。

（破断伸度）
本開示の一実施形態に係る成型用加飾シートにおいて、８０℃の環境下で測定される破断伸度は、１０％以上である。破断伸度が１０％以上であると、延伸性が向上し、結果的に成型性が向上する。成型性の向上の観点から、８０℃の環境下で測定される破断伸度は、１５％以上であることが好ましく、２０％以上であることがより好ましい。成型性という目的において、破断伸度の上限は制限されない。成型前後の成型用加飾シートの厚みの制御の観点から、８０℃の環境下で測定される破断伸度は、３００％以下又は２００％以下であってもよい。

本開示において、破断伸度は、以下の方法によって測定される。成型用加飾シートを１０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに裁断して、試料を準備する。得られた試料に対して、熱テンシロン（株式会社エー・アンド・デイ社製ＲＴＦ－１３１０及び恒温試験装置ＴＫＣ）を用いて、８０℃の雰囲気中で１，０００ｍｍ／秒の速度で引っ張り試験を行う。試料が破断せずに延伸できる最大値を測定し、得られた値を破断伸度として採用する。なお、成型用加飾シートが最外層として剥離可能な基材を含む場合、成型用加飾シートの裁断の前に、最外層として配置された剥離可能な基材を剥離することが好ましい。さらに、最外層として配置された剥離可能な基材を剥離する場合、破断伸度の測定の便宜上、最外層として配置された剥離可能な基材を、高い延伸性を有する基材（例えば、アクリル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリウレタン、アモルファス－ポリエチレンテレフタレートなどの樹脂からなる基材）に置き換えてもよい。剥離可能な基材を除いた試料（剥離可能な基材の代わりに高い延伸性を有する基材が導入された試料を含む。）を用いて測定された破断伸度は、成型用加飾シートの破断伸度とみなされる。

（反射帯域中心波長）
本開示の一実施形態に係る成型用加飾シートは、特定の波長域に選択反射性を有することが好ましい。本開示の一実施形態に係る成型用加飾シートにおいて、反射帯域中心波長は、３５０ｎｍ～１，２００ｎｍであることが好ましく、３８０ｎｍ～９５０ｎｍであることがより好ましく、３８０ｎｍ～７８０ｎｍであることが更に好ましい。

本開示において、成型用加飾シートの反射帯域中心波長は、以下の方法によって測定される。分光光度計（例えば、ＵＶ－３１００ＰＣ、株式会社島津製作所製）を用いて、成型用加飾シートの透過スペクトルを測定する。得られた透過率スペクトルの強度を反転させ、成型用加飾シートの反射スペクトルとして扱う。反射スペクトルを用いて、反射率の極大値、かつ、最大値をＲ_ｍａｘ（％）とし、下記式で表される半値反射率Ｒ^１／２（％）を示す２つの波長の平均値を反射帯域中心波長とする。
式：Ｒ^１／２＝Ｒ_ｍａｘ÷２

本開示の一実施形態に係る成型用加飾シートにおいて、８０℃の環境下で５００時間の加熱試験前に測定される反射帯域中心波長と、８０℃の環境下で５００時間の加熱試験後に測定される反射帯域中心波長との差の絶対値は、０ｎｍ～１５ｎｍであることが好ましく、０ｎｍ～１０ｎｍであることがより好ましく、０ｎｍ～５ｎｍであることが更に好ましい。加熱試験は、恒温器（例えば、エスペック株式会社製のＳＨ－２２１）を用いて実施される。

６０℃及び９０％ＲＨの環境下で５００時間の加熱試験前に測定される反射帯域中心波長と、６０℃及び９０％ＲＨの環境下で５００時間の加熱試験後に測定される反射帯域中心波長との差の絶対値は、０ｎｍ～１５ｎｍであることが好ましく、０ｎｍ～１０ｎｍであることがより好ましく、０ｎｍ～５ｎｍであることが更に好ましい。加熱試験は、恒温恒湿器（例えば、エスペック株式会社製のＳＨ－２２１）を用いて実施される。「％ＲＨ」は、相対湿度を表す。

（厚さ）
成型性及び取り扱いの容易さの観点から、本開示の一実施形態に係る成型用加飾シートの厚さは、２５μｍ～３００μｍであることが好ましく、３０μｍ～２００μｍであることがより好ましく、４０μｍ～１５０μｍであることが更に好ましい。

本開示において、成型用加飾シートの厚さは、走査型電子顕微鏡（例えば、型式「Ｓ-５５００」、株式会社日立ハイテク製）を用いて得られる断面画像に基づいて、３箇所で測定される成型用加飾シートの厚さの算術平均によって表される。試料は、成型用加飾シートを幅５ｍｍ×長さ２ｍｍの大きさに裁断し、得られた試験片をエポキシ樹脂で包埋し、そして、ミクロト－ム（例えば、製品名「ＲＭ２２６５」、Ｌｅｉｃａ社製）を用いて成型用加飾シートの厚み方向に沿って切断することによって得られる。また、本開示において、成型用加飾シートの各構成要素の厚さも、上記した方法に準ずる方法によって測定される。

（コレステリック液晶層）
本開示の一実施形態に係る成型用加飾シートは、コレステリック液晶層を含む。コレステリック液晶層は、コレステリック液晶相を含む層である。コレステリック液晶相は、公知の手段（例えば、偏光顕微鏡及び走査型電子顕微鏡）によって確認される。

コレステリック液晶相は、複数の液晶化合物がらせん状に並ぶことによって形成されることが知られている。コレステリック液晶相における液晶化合物の配向状態は、右円偏光、左円偏光又は右円偏光及び左円偏光の両方を反射する配向状態であってもよい。コレステリック液晶相における液晶化合物の配向状態は、固定化されていてもよい。液晶化合物の配向状態は、例えば、液晶化合物の重合又は架橋によって固定化される。配向状態が固定化された液晶化合物の一部又は全部において、液晶化合物の液晶性は失われてもよい。

コレステリック液晶層は、加飾用材料の意匠に寄与する。例えば、加飾用材料の色及び観察角度に応じた加飾用材料の色の変化の度合いは、コレステリック液晶相におけるらせんピッチ、コレステリック液晶層の屈折率及びコレステリック液晶層の厚さによって調整される。らせんピッチは、キラル化合物の添加量によって調整されてもよい。らせん構造とキラル化合物との関係は、例えば、「富士フイルム研究報告、Ｎｏ．５０（２００５年）、ｐ．６０－６３」に記載されている。また、らせんピッチは、コレステリック液晶相を固定する際の温度、照度及び照射時間といった条件によって調整されてもよい。

本開示の一実施形態に係る成型用加飾シートは、２つ以上のコレステリック液晶層を含んでもよい、２つ以上のコレステリック液晶層の組成は、同じであっても互いに異なっていてもよい。

反射率の観点から、コレステリック液晶層の厚さは、０．３μｍ～１５μｍであることが好ましく、０．５μｍ～９μｍであることがより好ましく、０．６μｍ～７μｍであることが更に好ましい。成型用加飾シートが２つ以上のコレステリック液晶層を含む場合、２つ以上のコレステリック液晶層の厚さは、それぞれ独立に、既述した範囲内であることが好ましい。

コレステリック液晶層の成分は、例えば、目的とするコレステリック液晶層の特性に応じて、公知のコレステリック液晶層の成分から選択される。コレステリック液晶層の成分としては、例えば、後述する液晶組成物の成分が挙げられる。ただし、コレステリック液晶層が液晶組成物の硬化を経て形成される場合、液晶組成物における重合性化合物の一部又は全部は、コレステリック液晶層において重合体（オリゴマーを含む。）を形成してもよい。重合性化合物としては、例えば、重合性基を有する化合物が挙げられる。

コレステリック液晶層は、液晶化合物を含む組成物（以下、「液晶組成物」という場合がある。）を硬化してなる層であることが好ましい。以下、液晶組成物の態様を具体的に説明する。

液晶組成物は、液晶化合物を含む。液晶化合物の種類は、例えば、目的とするコレステリック液晶層の特性に応じて、コレステリック液晶性を有する公知の化合物（すなわち、コレステリック液晶化合物）から選択されてもよい。液晶化合物としては、例えば、エチレン性不飽和基及び環状エーテル基からなる群より選択される少なくとも１種を有する液晶化合物が挙げられる。成型性の向上の観点から、液晶化合物は、エチレン性不飽和基を１つ有するか又は環状エーテル基を１つ有するコレステリック液晶化合物（以下、「特定液晶化合物」という場合がある。）を含むことが好ましい。

特定液晶化合物におけるエチレン性不飽和基としては、例えば、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミド基、ビニル基、ビニルエステル基及びビニルエーテル基が挙げられる。反応性の観点から、エチレン性不飽和基は、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミド基又はビニル基であることが好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基又は（メタ）アクリルアミド基であることがより好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基であることが更に好ましく、アクリロイルオキシ基であることが特に好ましい。

特定液晶化合物における環状エーテル基としては、例えば、エポキシ基及びオキセタニル基が挙げられる。反応性の観点から、環状エーテル基は、エポキシ基又はオキセタニル基であることが好ましく、オキセタニル基であることがより好ましい。

反応性及び成型性の向上の観点から、液晶化合物は、１つのエチレン性不飽和基を有する液晶化合物を含むことが好ましい。さらに、液晶組成物の固形分の総量に対する１つのエチレン性不飽和基を有する液晶化合物の総量の割合は、２５質量％以上であることが好ましい。

分子内に含まれるエチレン性不飽和基の数が１つである場合、特定液晶化合物は、エチレン性不飽和基以外の官能基（例えば、重合性基）を有してもよい。例えば、１つのエチレン性不飽和基を有する液晶化合物は、１つ以上の環状エーテル基を有してもよい。

分子内に含まれる環状エーテル基の数が１つである場合、特定液晶化合物は、環状エーテル基以外の官能基（例えば、重合性基）を有してもよい。例えば、１つの環状エーテル基を有する液晶化合物は、１つ以上のエチレン性不飽和基を有してもよい。

成型性の向上の観点から、液晶化合物は、１つのエチレン性不飽和基を有し、かつ、環状エーテル基を有しない液晶化合物、１つの環状エーテル基を有し、かつ、エチレン性不飽和基を有しない液晶化合物又は１つのエチレン性不飽和基と１つの環状エーテル基とを有する液晶化合物を含むことが好ましい。さらに、液晶化合物は、１つのエチレン性不飽和基を有し、かつ、環状エーテル基を有しない液晶化合物を含むことが好ましい。

特定液晶化合物は、棒状液晶化合物又は円盤状液晶化合物であってもよい。コレステリック液晶相におけるらせんピッチの調整容易性並びに成型後における反射率変化抑制及び色味変化抑制の観点から、棒状液晶化合物が好ましい。

好ましい棒状液晶化合物としては、例えば、アゾメチン系化合物、アゾキシ系化合物、シアノビフェニル系化合物、シアノフェニルエステル、安息香酸エステル、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル、シアノフェニルシクロヘキサン系化合物、シアノ置換フェニルピリミジン系化合物、アルコキシ置換フェニルピリミジン系化合物、フェニルジオキサン系化合物、トラン系化合物及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル系化合物が挙げられる。棒状液晶化合物は、低分子化合物に限られず、高分子化合物であってもよい。

棒状液晶化合物は、例えば、「Ｍａｋｒｏｍｏｌ． Ｃｈｅｍ．， １９０巻、２２５５頁（１９８９年）」、「Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ５巻、１０７頁（１９９３年）」、米国特許第４６８３３２７号明細書、米国特許第５６２２６４８号明細書、米国特許第５７７０１０７号明細書、国際公開第９５／２２５８６号、国際公開第９５／２４４５５号、国際公開第９７／００６００号、国際公開第９８／２３５８０号、国際公開第９８／５２９０５号、特開平１－２７２５５１号公報、特開平６－１６６１６号公報、特開平７－１１０４６９号公報、特開平１１－８００８１号公報及び特開２００１－３２８９７３号公報に記載された、１つのエチレン性不飽和基を有する化合物及び１つの環状エーテル基を有する化合物から選択されてもよい。好ましい棒状液晶化合物は、例えば、特表平１１－５１３０１９号公報及び特開２００７－２７９６８８号公報に記載された、１つのエチレン性不飽和基を有する化合物及び１つの環状エーテル基を有する化合物から選択されてもよい。

好ましい円盤状液晶化合物は、例えば、特開２００７－１０８７３２号公報及び特開２０１０－２４４０３８号公報に記載された、１つのエチレン性不飽和基を有する化合物及び１つの環状エーテル基を有する化合物から選択されてもよい。

特定液晶化合物の具体例を以下に示す。ただし、特定液晶化合物の種類は、以下の具体例に制限されるものではない。

液晶組成物は、１種又は２種以上の特定液晶化合物を含んでもよい。

延伸性及び熱耐久性の向上の観点から、液晶組成物の固形分の総量に対する特定液晶化合物の総量の割合は、２５質量％以上であることが好ましく、３０質量％以上であることがより好ましく、４０質量％以上であることが更に好ましい。さらに、液晶組成物の固形分の総量に対する特定液晶化合物の総量の割合は、６０質量％～９９質量％であることが好ましく、８０質量％～９８質量％であることがより好ましい。

液晶組成物は、他の液晶化合物を含んでもよい。他の液晶化合物とは、特定液晶化合物以外の液晶化合物を意味する。他の液晶化合物としては、例えば、エチレン性不飽和基及び環状エーテル基を有しない液晶化合物、２つ以上のエチレン性不飽和基を有し、かつ、環状エーテル基を有しない液晶化合物、２つ以上の環状エーテル基を有し、かつ、エチレン性不飽和基を有しない液晶化合物及び２つ以上のエチレン性不飽和基及び２つ以上の環状エーテル基を有する液晶化合物が挙げられる。

成型後における反射率変化抑制及び色味変化抑制の観点から、他の液晶化合物は、エチレン性不飽和基及び環状エーテル基を有しない液晶化合物、２つ以上のエチレン性不飽和基を有し、かつ、環状エーテル基を有しない液晶化合物及び２つ以上の環状エーテル基を有し、かつ、エチレン性不飽和基を有しない液晶化合物からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。他の液晶化合物は、エチレン性不飽和基及び環状エーテル基を有しない液晶化合物、２つのエチレン性不飽和基を有し、かつ、環状エーテル基を有しない液晶化合物、及び、２つの環状エーテル基を有し、かつ、エチレン性不飽和基を有しない液晶化合物からなる群より選択される少なくとも１種であることがより好ましい。他の液晶化合物は、エチレン性不飽和基及び環状エーテル基を有しない液晶化合物及び２つのエチレン性不飽和基を有し、かつ、環状エーテル基を有しない液晶化合物からなる群より選択される少なくとも１種であることが更に好ましい。

他の液晶化合物における棒状液晶化合物は、例えば、「Ｍａｋｒｏｍｏｌ． Ｃｈｅｍ．， １９０巻、２２５５頁（１９８９年）」、「Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ５巻、１０７頁（１９９３年）」、米国特許第４６８３３２７号明細書、米国特許第５６２２６４８号明細書、米国特許第５７７０１０７号明細書、国際公開第９５／２２５８６号、国際公開第９５／２４４５５号、国際公開第９７／００６００号、国際公開第９８／２３５８０号、国際公開第９８／５２９０５号、特開平１－２７２５５１号公報、特開平６－１６６１６号公報、特開平７－１１０４６９号公報、特開平１１－８００８１号公報及び特開２００１－３２８９７３号公報に記載された化合物から選択されてもよい。他の液晶化合物における好ましい棒状液晶化合物は、例えば、特表平１１－５１３０１９号公報及び特開２００７－２７９６８８号公報に記載された化合物から選択されてもよい。

他の液晶化合物における好ましい円盤状液晶化合物は、例えば、特開２００７－１０８７３２号公報又は特開２０１０－２４４０３８号公報に記載された化合物から選択されてもよい。

他の液晶化合物の具体例を以下に示す。ただし、他の液晶化合物の種類は、以下の具体例に制限されるものではない。

液晶組成物は、１種又は２種以上の他の液晶化合物を含んでもよい。

液晶組成物の固形分の総量に対する他の液晶化合物の総量の割合は、７０質量％以下であることが好ましく、５０質量％以下であることがより好ましく、３０質量％以下であることが更に好ましく、２０質量％以下であることが特に好ましい。なお、上記した割合の下限は、０質量％である。

液晶組成物は、１種又は２種以上の液晶化合物を含んでもよい。液晶組成物は、特定液用化合物と、他の液晶化合物と、を含んでもよい。

液晶組成物の固形分の総量に対する液晶化合物の総量の割合は、２５質量％以上であることが好ましく、３０質量％以上であることがより好ましく、４０質量％以上であることが更に好ましい。さらに、液晶組成物の固形分の総量に対する液晶化合物の総量の割合は、６０質量％～９９質量％であることが好ましく、８０質量％～９８質量％であることがより好ましい。

（液晶組成物の成分：キラル化合物）
コレステリック液晶層形成の容易性及びらせんピッチの調整容易性の観点から、液晶組成物は、キラル化合物（すなわち、光学活性化合物）を含むことが好ましい。

キラル化合物の種類は、例えば、液晶化合物の種類及び目的のらせん構造（例えば、らせんのよじれ方法及びらせんピッチ）に応じて決定されてもよい。キラル化合物としては、例えば、公知の化合物（例えば、液晶デバイスハンドブック、第３章４－３項、ＴＮ（twisted nematic）、ＳＴＮ（Super-twisted nematic）用キラル化合物、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１９８９に記載された化合物）、イソソルビド誘導体及びイソマンニド誘導体が挙げられる。

キラル化合物は、一般に不斉炭素原子を含む。ただし、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物及び面性不斉化合物をキラル化合物として用いることができる。軸性不斉化合物又は面性不斉化合物の例には、ビナフチル化合物、ヘリセン化合物又はパラシクロファン化合物が好ましく挙げられる。

熱耐久性の向上の観点から、液晶組成物は、重合性基を有するキラル化合物を含んでもよい。反応性及び熱耐久性の向上の観点から、重合性基は、エチレン性不飽和基又は環状エーテル基であることが好ましく、エチレン性不飽和基であることがより好ましい。キラル化合物におけるエチレン性不飽和基の好ましい態様は、既述した特定液晶化合物におけるエチレン性不飽和基の好ましい態様と同じである。キラル化合物における環状エーテル基の好ましい態様は、既述した特定液晶化合物における環状エーテル基の好ましい態様と同じである。

キラル化合物が重合性基を有する場合、反応性及び熱耐久性の向上の観点から、キラル化合物における重合性基の種類は、特定液晶化合物における重合性基の種類と同じであることが好ましい。さらに、キラル化合物における重合性基は、特定液晶化合物における重合性基と同じであることが好ましい。

成型性の向上の観点から、重合性基を有するキラル化合物は、１つのエチレン性不飽和基を有し、かつ、環状エーテル基を有しないキラル化合物、１つの環状エーテル基を有し、かつ、エチレン性不飽和基を有しないキラル化合物又は１つのエチレン性不飽和基と１つの環状エーテル基とを有するキラル化合物を含むことが好ましい。さらに、重合性基を有するキラル化合物は、１つのエチレン性不飽和基を有し、かつ、環状エーテル基を有しないキラル化合物を含むことが好ましい。

キラル化合物は、液晶化合物であってもよい。

液晶組成物は、感光性キラル化合物を含んでもよい。感光性キラル化合物は、光に感応し、コレステリック液晶相におけるらせんピッチを変化できる。感光性キラル化合物は、例えば、光を吸収することで構造が変化する。感光性キラル化合物は、光異性化反応、光二量化反応及び光分解反応からなる群より選択される少なくとも１種を起こす化合物であることが好ましい。光異性化反応を起こす化合物とは、光の作用で立体異性化又は構造異性化を起こす化合物をいう。光異性化反応を起こす化合物としては、例えば、アゾベンゼン化合物及びスピロピラン化合物が挙げられる。光二量化反応を起こす化合物とは、光の照射によって、２つの基の間で付加反応を起こして環化する化合物をいう。光二量化反応を起こす化合物としては、例えば、桂皮酸誘導体、クマリン誘導体、カルコン誘導体及びベンゾフェノン誘導体が挙げられる。光としては、例えば、紫外光、可視光及び赤外光が挙げられる。

好ましい感光性キラル化合物としては、例えば、下記式（ＣＨ１）で表されるキラル化合物が挙げられる。下記式（ＣＨ１）で表されるキラル化合物は、例えば、光照射時の光量に応じてコレステリック液晶相におけるらせんピッチを変化できる。

式（ＣＨ１）中、Ａｒ^ＣＨ１及びＡｒ^ＣＨ２はそれぞれ独立に、アリール基又は複素芳香環基を表し、Ｒ^ＣＨ１及びＲ^ＣＨ２はそれぞれ独立に、水素原子又はシアノ基を表す。

式（ＣＨ１）におけるＡｒ^ＣＨ１及びＡｒ^ＣＨ２はそれぞれ独立に、アリール基であることが好ましい。アリール基の総炭素数は、６～４０であることが好ましく、６～３０であることがより好ましい。アリール基は、置換基を有していてもよい。置換基は、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボキシ基、シアノ基又は複素環基であることが好ましく、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基であることがより好ましい。Ａｒ^ＣＨ１及びＡｒ^ＣＨ２はそれぞれ独立に、下記式（ＣＨ２）又は式（ＣＨ３）で表されるアリール基であることが好ましい。

式（ＣＨ２）及び式（ＣＨ３）中、Ｒ^ＣＨ３及びＲ^ＣＨ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボキシ基、又は、シアノ基を表し、Ｌ^ＣＨ１及びＬ^ＣＨ２はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、又は、ヒドロキシ基を表し、ｎＣＨ１は０～４の整数を表し、ｎＣＨ２は０～６の整数を表し、＊は式（ＣＨ１）におけるエチレン不飽和結合との結合位置を表す。

式（ＣＨ２）及び式（ＣＨ３）におけるＲ^ＣＨ３及びＲ^ＣＨ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、又は、アシルオキシ基であることが好ましく、アルコキシ基、ヒドロキシ基、又は、アシルオキシ基であることがより好ましく、アルコキシ基であることが更に好ましい。

式（ＣＨ２）及び式（ＣＨ３）におけるＬ^ＣＨ１及びＬ^ＣＨ２はそれぞれ独立に、炭素数１～１０のアルコキシ基、又は、ヒドロキシ基であることが好ましい。

式（ＣＨ２）におけるｎＣＨ１は、０又は１であることが好ましい。

式（ＣＨ３）におけるｎＣＨ２は、０又は１であることが好ましい。

式（ＣＨ１）のＡｒ^ＣＨ１及びＡｒ^ＣＨ２における複素芳香環基の総炭素数は、４～４０であることが好ましく、４～３０であることがより好ましい。複素芳香環基は、置換基を有していてもよい。置換基は、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、又は、シアノ基であることが好ましく、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、又は、アシルオキシ基であることがより好ましい。複素芳香環基は、ピリジル基、ピリミジニル基、フリル基、又は、ベンゾフラニル基であることが好ましく、ピリジル基、又は、ピリミジニル基であることがより好ましい。

式（ＣＨ１）におけるＲ^ＣＨ１及びＲ^ＣＨ２はそれぞれ独立に、水素原子であることが好ましい。

液晶組成物は、１種又は２種以上のキラル化合物を含んでもよい。

キラル化合物の含有量は、例えば、液晶化合物の構造及び目的とするらせんピッチに応じて決定されてもよい。コレステリック液晶層形成の容易性及びらせんピッチの調整容易性の観点から、液晶組成物の固形分の総量に対するキラル化合物の総量の割合は、１質量％～２０質量％であることが好ましく、２質量％～１５質量％であることがより好ましく、３質量％～１０質量％であることが更に好ましい。

コレステリック液晶相におけるらせんピッチ及びコレステリック液晶層の選択反射波長は、液晶化合物の種類だけでなく、キラル化合物の含有量によっても容易に調整される。例えば、液晶組成物におけるキラル化合物の含有量が２倍になると、らせんピッチは１／２となり、選択反射波長の中心値も１／２となる場合がある。

液晶組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。重合開始剤は、液晶組成物の硬化反応を促進する。

液晶組成物が露光により硬化される場合、液晶組成物は、光重合開始剤を含むことが好ましい。光重合開始剤としては、例えば、光ラジカル重合開始剤及び光カチオン重合開始剤が挙げられる。

光重合開始剤としては、例えば、α－カルボニル化合物（例えば、米国特許第２３６７６６１号明細書及び米国特許第２３６７６７０号明細書）、アシロインエーテル化合物（例えば、米国特許第２４４８８２８号明細書）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（例えば、米国特許第２７２２５１２号明細書）、多核キノン化合物（例えば、米国特許第３０４６１２７号明細書及び米国特許第２９５１７５８号明細書）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（例えば、米国特許第３５４９３６７号明細書）、オキサジアゾール化合物（例えば、米国特許第４２１２９７０号明細書）、アクリジン化合物及びフェナジン化合物（例えば、特開昭６０－１０５６６７号公報及び米国特許第４２３９８５０号明細書）が挙げられる。

好ましい光ラジカル重合開始剤としては、例えば、α－ヒドロキシアルキルフェノン化合物、α－アミノアルキルフェノン化合物及びアシルホスフィンオキサイド化合物が挙げられる。

好ましい光カチオン重合開始剤としては、例えば、ヨードニウム塩化合物及びスルホニウム塩化合物が挙げられる。

液晶組成物は、ラジカル重合開始剤又はカチオン重合開始剤を含むことが好ましく、光ラジカル重合開始剤又は光カチオン重合開始剤を含むことがより好ましい。

熱耐久性の向上の観点から、１つのエチレン性不飽和基を有する液晶化合物を含む液晶組成物は、ラジカル重合開始剤を含むことが好ましく、光ラジカル重合開始剤を含むことがより好ましい。

熱耐久性の向上の観点から、１つの環状エーテル基を有する液晶化合物を含む液晶組成物は、カチオン重合開始剤を含むことが好ましく、光カチオン重合開始剤を含むことがより好ましい。

液晶組成物は、１種又は２種以上の重合開始剤を含んでもよい。

重合開始剤の含有量は、例えば、特定液晶化合物の構造及び目的とするらせんピッチに応じて決定されてもよい。コレステリック液晶層形成の容易性、らせんピッチの調整容易性、重合速度及びコレステリック液晶層の強度の観点から、液晶組成物の固形分の総量に対する重合開始剤の総量の割合は、０．０５質量％～１０質量％であることが好ましく、０．０５質量％～５質量％以下であることがより好ましく、０．１質量％～２質量％であることが更に好ましく、０．２質量％～１質量％であることが特に好ましい。

硬化後のコレステリック液晶層の強度向上及び耐久性向上の観点から、液晶組成物は、架橋剤を含んでもよい。好ましい架橋剤としては、例えば、紫外線、熱及び湿気といった外的要因により硬化する化合物が挙げられる。

架橋剤としては、例えば、以下に示される化合物が挙げられる。
（１）多官能アクリレート化合物（例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート及びペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート）
（２）エポキシ化合物（例えば、グリシジル（メタ）アクリレート及びエチレングリコールジグリシジルエーテル）
（３）アジリジン化合物（例えば、２，２－ビスヒドロキシメチルブタノール－トリス［３－（１－アジリジニル）プロピオネート］及び４，４－ビス（エチレンイミノカルボニルアミノ）ジフェニルメタン）
（４）イソシアネート化合物（例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート及びビウレット型イソシアネート）
（５）オキサゾリン基を側鎖に有するポリオキサゾリン化合物
（６）アルコキシシラン化合物（例えば、ビニルトリメトキシシラン及びＮ－（２－アミノエチル）３－アミノプロピルトリメトキシシラン）

液晶組成物は、１種又は２種以上の架橋剤を含んでもよい。

コレステリック液晶層の強度及び耐久性の観点から、液晶組成物の固形分の総量に対する架橋剤の総量の割合は、１質量％～２０質量％であることが好ましく、３質量％～１５質量％であることがより好ましい。

液晶組成物は、架橋剤の反応性に応じて公知の触媒を含んでもよい。架橋剤及び触媒の併用は、コレステリック液晶層の強度及び耐久性の向上に加えて、生産性を向上できる。

液晶組成物は、多官能重合性化合物を含んでもよい。多官能重合性化合物とは、２つ以上の重合性基を有する化合物を意味する。多官能重合性化合物に含まれる２つ以上の重合性基の種類は、同じであることが好ましい。

多官能重合性化合物としては、例えば、２つ以上のエチレン性不飽和基を有し、かつ、環状エーテル基を有しない液晶化合物、２つ以上の環状エーテル基を有し、かつ、エチレン性不飽和基を有しない液晶化合物、２つ以上のエチレン性不飽和基と２つ以上の環状エーテル基とを有する液晶化合物及び２つ以上の重合性基を有するキラル化合物及び２つ以上の重合性基を有する架橋剤が挙げられる。多官能重合性化合物は、２つ以上のエチレン性不飽和基を有し、かつ、環状エーテル基を有しない液晶化合物、２つ以上の環状エーテル基を有し、かつ、エチレン性不飽和基を有しない液晶化合物及び２つ以上の重合性基を有するキラル化合物からなる群より選択される少なくとも１種を含むことが好ましく、２つ以上の重合性基を有するキラル化合物を含むことがより好ましい。

液晶組成物は、１種又は２種以上の多官能重合性化合物を含んでもよい。

成型性の向上と重合後の配向構造変化の抑制の観点から、液晶組成物の固形分の総量に対する多官能重合性化合物の総量の割合は、０．５質量％～５０質量％であることが好ましく、１質量％～４０質量％であることがより好ましく、１．５質量％～３０質量％であることが更に好ましく、２質量％～２０質量％であることが特に好ましい。液晶組成物の固形分の総量に対する多官能重合性化合物の総量の割合が小さくなると、コレステリック液晶層の架橋密度が小さくなる。この結果、コレステリック液晶層の延伸性が向上し、成型性が向上する。液晶組成物の固形分の総量に対する多官能重合性化合物の総量の割合が大きくなると、重合後にコレステリック液晶層の配向構造が維持されやすくなる。成型性の向上の観点から、多官能重合性化合物の中でも、２つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物、２つ以上の環状エーテル基を有する化合物及び１つ以上のエチレン性不飽和基と１つ以上の環状エーテル基とを有する化合物の含有量が規制されることが好ましい。すなわち、液晶組成物の固形分の総量に対する「２つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物、２つ以上の環状エーテル基を有する化合物及び１つ以上のエチレン性不飽和基と１つ以上の環状エーテル基とを有する化合物の総量」の割合は、０．５質量％～５０質量％であることが好ましく、１質量％～４０質量％であることがより好ましく、１．５質量％～３０質量％であることが更に好ましく、２質量％～２０質量％であることが特に好ましい。

液晶組成物は、必要に応じて、他の添加剤を含んでもよい。他の添加剤としては、例えば、界面活性剤、重合禁止剤、酸化防止剤、水平配向剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、着色剤及び金属酸化物粒子が挙げられる。液晶組成物は、１種又は２種以上の他の添加剤を含んでもよい。

液晶組成物は、溶剤を含んでもよい。溶剤は、有機溶剤であることが好ましい。有機溶剤としては、例えば、ケトン類（例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン及びシクロヘキサノン）、アルキルハライド類、アミド類、スルホキシド類、ヘテロ環化合物、炭化水素類、エステル類及びエーテル類が挙げられる。環境への負荷を考慮した場合、ケトン類が好ましい。

液晶組成物は、１種又は２種以上の溶剤を含んでもよい。

溶剤の含有量は、例えば、液晶組成物の塗布性に応じて決定されてもよい。

液晶組成物の総量に対する液晶組成物の固形分の総量の割合は、１質量％～９０質量％であることが好ましく、５質量％～８０質量％であることがより好ましく、１０質量％～８０質量％であることが更に好ましい。

コレステリック液晶層の形成過程で液晶組成物が硬化される場合、液晶組成物の硬化時における液晶組成物の固形分の総量に対する溶剤の総量の割合は、５質量％以下であることが好ましく、３質量％以下であることがより好ましく、２質量％以下であることが更に好ましく、１質量％以下であることが特に好ましい。

コレステリック液晶層の総量に対するコレステリック液晶層における溶剤の総量の割合は、５質量％以下であることが好ましく、３質量％以下であることがより好ましく、２質量％以下であることが更に好ましく、１質量％以下であることが特に好ましい。

液晶組成物の製造方法は、制限されない。液晶組成物は、例えば、液晶化合物と、液晶化合物以外の成分との混合によって製造される。混合方法は、公知の混合方法から選択されてもよい。

液晶組成物の硬化は、例えば、露光により実施される。露光は、例えば、液晶組成物に光を照射することによって実施される。好ましい光源としては、例えば、３６５ｎｍ及び４０５ｎｍからなる群より選択される少なくとも１種を含む光を照射できる光源が挙げられる。具体的な光源としては、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯及びメタルハライドランプが挙げられる。露光量は、５ｍＪ／ｃｍ^２～２，０００ｍＪ／ｃｍ^２であることが好ましく、１０ｍＪ／ｃｍ^２～１，０００ｍＪ／ｃｍ^２であることがより好ましい。露光方法として、例えば、特開２００６－２３６９６号公報の段落００３５～段落００５１に記載された方法が適用されてもよい。

液晶化合物の配列を容易にするため、液晶組成物を加熱しながら露光することが好ましい。加熱温度は、例えば、液晶組成物の組成に応じて決定される。加熱温度は、例えば、６０℃～１２０℃である。加熱手段としては、例えば、ヒーター、オーブン、ホットプレート、赤外線ランプ及び赤外線レーザーが挙げられる。

液晶組成物の硬化は、例えば、加熱により実施されてもよい。加熱温度は、６０℃～２００℃～であることが好ましい。加熱時間は、５分間～２時間であることが好ましい。加熱手段としては、例えば、既述した加熱手段が挙げられる。

液晶組成物は、硬化前に、公知の方法によって乾燥されてもよい。液晶組成物は、放置又は風乾によって乾燥されてもよい。液晶組成物は、加熱によって乾燥されてもよい。

（中間層）
本開示の一実施形態に係る成型用加飾シートは、コレステリック液晶層に接触した中間層を含む。中間層は、熱環境下でコレステリック液晶層に含まれる低分子化合物が中間層を介して粘着層に移動することを抑制し、熱耐久性を向上させる。

中間層は、２３．０ＭＰａ^１／２以上のＳＰ値を有する重合体（すなわち、特定重合体）を含む。熱耐久性の向上の観点から、特定重合体のＳＰ値は、２３．０ＭＰａ^１／２以上であることが好ましく、２３．２ＭＰａ^１／２以上であることがより好ましく、２３．５ＭＰａ^１／２以上であることが更に好ましい。熱耐久性の向上という目的において、特定重合体のＳＰ値の上限は制限されない。特定重合体のＳＰ値の上限は、２８．０ＭＰａ^１／２又は２６．０ＭＰａ^１／２であってもよい。

本開示において、ＳＰ値は、対象化合物の分子構造に基づいて、「Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｆｏｕｒｔｈ ｅｄｉｔｉｏｎ」に記載のＨｏｙ法により算出される。対象化合物が複数種の構成単位を含む重合体である場合、ＳＰ値は、構成単位ごとに構成単位のＳＰ値に構成単位のモル比を掛けて得られる値の総和によって表される。複数種の構成単位を含む重合体において、各構成単位のモル比の総和は１．０である。例えば、構成単位Ｘ１と構成単位Ｘ２とを含む重合体（ただし、構成単位Ｘ１のモル比と構成単位Ｘ２のモル比との総和は１．０である。）のＳＰ値は、構成単位Ｘ１のＳＰ値に構成単位Ｘ１のモル比をかけて得られる値と構成単位Ｘ２のＳＰ値に構成単位Ｘ２のモル比をかけて得られる値との総和によって表される。対象化合物の分子構造（構成単位のモル比を含む。）は、中間層から採取された試料を用いて、熱分解ガスクロマトグラフィー／質量分析法（すなわち、熱分解ＧＣ／ＭＳ）及び核磁気共鳴（ＮＭＲ）によって解析される。

ＳＰ値が２３．０ＭＰａ^１／２以上である限り、特定重合体の種類は制限されない。特定重合体としては、例えば、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールが挙げられる。保存性の観点から、特定重合体は、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールからなる群より選択される少なくとも１種を含むことが好ましく、変性ポリビニルアルコール含むことがより好ましい。

中間層とコレステリック液晶層との密着性の観点から、特定重合体は、エチレン性不飽和基及び環状エーテル基からなる群より選択される少なくとも１種を有する変性ポリビニルアルコールを含むことが好ましく、エチレン性不飽和基を有する変性ポリビニルアルコールを含むことがより好ましい。エチレン性不飽和基としては、例えば、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミド基、ビニル基、ビニルエステル基及びビニルエーテル基が挙げられる。反応性の観点から、エチレン性不飽和基は、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基であることが好ましく、メタクリロイルオキシ基であることがより好ましい。環状エーテル基としては、例えば、エポキシ基及びオキセタニル基が挙げられる。反応性の観点から、環状エーテル基は、エポキシ基又はオキセタニル基であることが好ましく、オキセタニル基であることがより好ましい。特定重合体における重合性基の種類は、コレステリック液晶層の特定液晶化合物における重合性基の種類と同じであることが好ましい。さらに、キラル化合物における重合性基は、コレステリック液晶層の特定液晶化合物における重合性基と同じであることが好ましい。

溶解性及び中間層とコレステリック液晶層との密着性の観点から、特定重合体は、下記式（Ｉ）で表される変性ポリビニルアルコールを含むことが好ましい。

式（Ｉ）中、Ｌ^１１は、アミド結合、エーテル結合、ウレタン結合又はエステル結合を含む連結基を表し、Ｒ^１１は、アルキレン基又はアルキレンオキシ基を表し、Ｌ^１２は、単結合又は連結基を表し、Ｑ^１１は、エチレン性不飽和基又は環状エーテル基を表し、ｘ１＋ｙ１＋ｚ１＝１００ｍｏｌ％の前提にて、ｘ１は、１０ｍｏｌ％～９９．９ｍｏｌ％を表し、ｙ１は、０．０１ｍｏｌ％～８０ｍｏｌ％を表し、ｚ１は、０ｍｏｌ％～７０ｍｏｌ％を表し、ｋは、０又は１であり、ｈは、０又は１である。

式（Ｉ）におけるＬ^１１で表される連結基の炭素数は、１～８であることが好ましく、２～６であることがより好ましく、２～４であることが更に好ましい。

式（Ｉ）におけるＬ^１１で表される連結基は、アミド結合、エーテル結合、ウレタン結合又はエステル結合に加えて、他の原子団を含んでもよい。他の原子団としては、例えば、アルキレン基が挙げられる。アルキレン基は、直鎖状又は分岐状のアルキレン基であってもよい。アルキレン基の炭素数は、１～８であることが好ましい。アミド結合とアルキレン基とを含む連結基としては、例えば、－（ＣＨ_２）_ｎ－ＣＯ－ＮＨ－が挙げられる。「－（ＣＨ_２）_ｎ－ＣＯ－ＮＨ－」におけるｎは、１～８の整数を表す。ｎは、１～６であることが好ましく、１～４であることがより好ましく、１又は２であることが更に好ましく、１であることが特に好ましい。

式（Ｉ）におけるＬ^１１は、アミド結合を含む連結基であることが好ましく、アミド結合とアルキレン基とを含む連結基であることがより好ましく、－（ＣＨ_２）_ｎ－ＣＯ－ＮＨ－であることが更に好ましく、－ＣＨ_２－ＣＯ－ＮＨ－であることが特に好ましい。

式（Ｉ）におけるＲ^１１で表されるアルキレン基は、直鎖状又は分岐状のアルキレン基であってもよい。アルキレン基は、直鎖状アルキレン基であることが好ましい。アルキレン基の炭素数は、１～６であることが好ましく、２～４であることがより好ましく、２であることが更に好ましい。アルキレン基としては、例えば、－ＣＨ_２－、－Ｃ_２Ｈ_４－、－Ｃ_３Ｈ_６－及び－Ｃ_４Ｈ_８－が挙げられる。

式（Ｉ）におけるＲ^１１で表されるアルキレンオキシ基は、直鎖状又は分岐状のアルキレンオキシ基であってもよい。アルキレンオキシ基の炭素数は、１～６であることが好ましく、２～４であることがより好ましく、２であることが更に好ましい。アルキレンオキシ基としては、例えば、－ＣＨ_２－Ｏ－、－Ｃ_２Ｈ_４－Ｏ－、－Ｃ_３Ｈ_６－Ｏ－及び－Ｃ_４Ｈ_８－Ｏ－が挙げられる。

式（Ｉ）におけるＬ^１２で表される連結基の炭素数は、１～８であることが好ましく、１～４であることがより好ましく、１～２であることが更に好ましい。連結基としては、例えば、－ＣＯ－ＮＨ－、－Ｏ－、－ＮＨ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－Ｏ－、アルキレン基及びアルキレンオキシ基が挙げられる。

式（Ｉ）におけるＱ^１１で表されるエチレン性不飽和基としては、例えば、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミド基、ビニル基、ビニルエステル基及びビニルエーテル基が挙げられる。反応性の観点から、エチレン性不飽和基は、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基であることが好ましい。

式（Ｉ）におけるＱ^１１で表される環状エーテル基としては、例えば、エポキシ基及びオキセタニル基が挙げられる。反応性の観点から、環状エーテル基は、エポキシ基又はオキセタニル基であることが好ましく、オキセタニル基であることがより好ましい

熱耐久性の観点から、式（Ｉ）におけるｘ１は、４０ｍｏｌ％～９５ｍｏｌ％であることが好ましく、６０ｍｏｌ％～９５ｍｏｌ％であることがより好ましく、８０ｍｏｌ％～９５ｍｏｌ％であることが更に好ましい。

密着性及び成型性の両立の観点から、式（Ｉ）におけるｙ１は、０．５ｍｏｌ％～２５ｍｏｌ％であることが好ましく、０．５ｍｏｌ％～２０ｍｏｌ％であることがより好ましく、０．５ｍｏｌ％～１５ｍｏｌ％であることが更に好ましい。

溶剤への溶解性の観点から、式（Ｉ）におけるｚ１は、０．１ｍｏｌ％～５０ｍｏｌ％であることが好ましく、１ｍｏｌ％～３０ｍｏｌ％であることがより好ましく、３ｍｏｌ％～２０ｍｏｌ％であることが更に好ましい。

式（Ｉ）においてｋは、１であることが好ましい。

式（Ｉ）においてｈは、０であることが好ましい。

中間層は、１種又は２種以上の特定重合体を含んでもよい。

熱耐久性の観点から、特定重合体の重合度は、１００～１５００であることが好ましく、１００～１０００であることがより好ましく、１００～７００であることが更に好ましい。重合度が１００以上であると、熱耐久性が向上する。重合度が１５００以下であると、粘度の低下に伴って成膜過程で気泡が残存しにくくなり、結果として熱耐久性が向上する。

中間層の固形分の総量に対する特定重合体の総量の割合は、６０質量％以上である。上記した割合が６０質量％以上であると、熱環境下でコレステリック液晶層に含まれる低分子化合物が中間層を介して粘着層に移動することが更に抑制され、熱耐久性が向上する。上記した割合は、７０質量％以上であることが好ましく、８０質量％以上であることがより好ましく、８５質量％以上であることが更に好ましい。熱耐久性の向上という目的において、上記した割合の上限は制限されない。上記した割合は、１００質量％以下であってもよい。上記した割合は、９５質量％以下であってもよい。

中間層は、必要に応じて、他の成分を更に含んでもよい。他の成分としては、例えば、特定重合体以外の重合体（例えば、２３．０ＭＰａ^１／２未満のＳＰ値を有する重合体）、重合開始剤、溶剤、架橋剤（例えば、グルタルアルデヒド）、架橋剤の触媒（例えば、クエン酸エステル）などが挙げられる。

熱耐久性、湿熱耐久性及び密着性の観点から、中間層の厚さは、０．１μｍ～１０μｍであることが好ましく、０．３μｍ～７μｍであることがより好ましく、０．５μｍ～３μｍであることが更に好ましい。

目的とする中間層が得られる限り、中間層の製造方法は制限されない。中間層は、例えば、中間層形成用組成物を用いて形成される。中間層形成用組成物は、例えば、特定重合体と、必要に応じて他の成分との混合によって製造される。混合方法は、公知の混合方法から選択されてもよい。中間層形成用組成物は、公知の方法によって乾燥されてもよい。中間層形成用組成物は、放置又は風乾によって乾燥されてもよい。中間層形成用組成物は、加熱によって乾燥されてもよい。

（粘着層）
本開示の一実施形態に係る成型用加飾シートは、中間層に接触した粘着層を含む。粘着層の成分としては、例えば、粘着剤及び接着剤が挙げられる。

粘着剤としては、例えば、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤及びシリコーン系粘着剤が挙げられる。また、粘着剤としては、例えば、「剥離紙・剥離フィルムおよび粘着テープの特性評価とその制御技術」、情報機構、２００４年、第２章に記載のアクリル系粘着剤、紫外線（ＵＶ）硬化型粘着剤及びシリコーン粘着剤が挙げられる。なお、アクリル系粘着剤とは、（メタ）アクリルモノマーの重合体（（メタ）アクリルポリマー）を含む粘着剤をいう。粘着層が粘着剤を含む場合、粘着層は粘着付与剤を更に含んでもよい。

接着剤としては、例えば、ウレタン樹脂接着剤、ポリエステル接着剤、アクリル樹脂接着剤、エチレン酢酸ビニル樹脂接着剤、ポリビニルアルコール接着剤、ポリアミド接着剤及びシリコーン接着剤が挙げられる。接着強度がより高いという観点から、ウレタン樹脂接着剤又はシリコーン接着剤が好ましい。

目的とする粘着層が得られる限り、粘着層の製造方法は制限されない。粘着層は、例えば、粘着剤及び接着剤からなる群より選択される少なくとも１種を含む組成物を用いて形成される。粘着層は、例えば、シート状の粘着剤又は接着剤を用いて形成されてもよい。シート状の粘着剤の市販品としては、例えば、成型用基材レス両面テープＧ２５（日榮新化株式会社）が挙げられる。

粘着力及びハンドリング性の両立の点で、粘着層の厚さは、５μｍ～１００μｍであることが好ましい。

（基材）
本開示の一実施形態に係る成型用加飾シートは、必要に応じて、基材を含んでもよい。基材は、剥離性を有する基材であってもよい。基材は、樹脂基材であることが好ましく、樹脂フィルムであることが好ましい。

基材の成分としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、アクリル樹脂、ポリウレタン、ウレタン－アクリル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、アクリル－ポリカーボネート樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）及びアクリロニトリル／ブタジエン／スチレン共重合樹脂（ＡＢＳ樹脂）が挙げられる。成型加工性及び強度の観点から、基材は、ポリエチレンテレフタレート、アクリル樹脂、ポリウレタン、ウレタン－アクリル樹脂、ポリカーボネート、アクリル－ポリカーボネート樹脂及びポリプロピレン樹脂からなる群より選択される少なくとも１種を含むことが好ましく、アクリル樹脂、ポリカーボネート及びアクリル－ポリカーボネート樹脂からなる群より選択される少なくとも１種を含むことがより好ましい。

成型性の向上の観点から、基材は、高い延伸性を有する基材であることが好ましい。８０℃の環境下で測定される基材の破断伸度は、１０％以上であることが好ましく、１５％以上であることがより好ましく、２０％以上であることが更に好ましい。成型性という目的において、破断伸度の上限は制限されない。成型前後の加飾シートの厚みの制御の観点から、８０℃の環境下で測定される基材の破断伸度は、３００％以下又は２００％以下であってもよい。高い延伸性を有する基材としては、例えば、ポリカーボネート（ＰＣ）及びポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）が挙げられる。基材の破断伸度は、既述した成型用加飾シートの破断伸度の測定方法に準ずる方法によって測定される。

基材は、２層以上の積層樹脂基材であってもよい。例えば、積層樹脂基材としては、アクリル樹脂／ポリカーボネート積層フィルムが好ましく挙げられる。

基材は、必要に応じ、添加物を含んでもよい。添加物としては、例えば、鉱油、炭化水素、脂肪酸、アルコール、脂肪酸エステル、脂肪酸アミド、金属石けん、天然ワックス、シリコーン等の潤滑剤；水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム等の無機難燃剤；ハロゲン系、リン系等の有機難燃剤；金属粉、タルク、炭酸カルシウム、チタン酸カリウム、ガラス繊維、カーボン繊維、木粉等の有機又は無機の充填剤；酸化防止剤、紫外線防止剤、滑剤、分散剤、カップリング剤、発泡剤、着色剤等の添加剤、及び、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリアセタール、ポリアミド、ポリフェニレンエーテル等であって、上述した樹脂以外のエンジニアリングプラスチックが挙げられる。

基材は、市販品であってもよい。市販品としては、例えば、テクノロイ（登録商標）シリーズ（アクリル樹脂フィルム、又はアクリル樹脂／ポリカーボネート樹脂積層フィルム、住友化学株式会社製）、ＡＢＳフィルム（オカモト株式会社製）、ＡＢＳシート（積水成型工業株式会社製）、テフレックス（登録商標）シリーズ（ＰＥＴフィルム、帝人フィルムソリューション株式会社製）、ルミラー（登録商標）易成型タイプ（ＰＥＴフィルム、東レ株式会社製）及びピュアサーモ（ポリプロピレンフィルム、出光ユニテック株式会社製）が挙げられる。市販品としては、例えば、コスモシャイン（東洋紡株式会社製）も挙げられる。高い延伸性を有する基材の市販品としては、例えば、Ａ－ＰＥＴフィルム（ミネロン化成工業株式会社製）が挙げられる。

基材の厚さは、例えば、作製する成型物の用途及びシートの取り扱い性に応じて決定される。基材の厚さは、１μｍ以上であることが好ましく、１０μｍ以上であることがより好ましく、２０μｍ以上であることが更に好ましく、５０μｍ以上であることが特に好ましい。また、基材の厚さは、５００μｍ以下であることが好ましく、４５０μｍ以下であることがより好ましく、２００μｍ以下であることが更に好ましい。

（他の層）
本開示の一実施形態に係る成型用加飾シートは、必要に応じて、他の層を含んでもよい。他の層は、例えば、公知の加飾材料に含まれる層から選択されてもよい。他の層としては、例えば、配向層、着色層、保護層、樹脂層、紫外線吸収層、反射層、自己修復層、帯電防止層、防汚層、防電磁波層及び導電性層が挙げられる。配向層、着色層、保護層、樹脂層及び紫外線吸収層の好ましい態様は、例えば、国際公開第２０２０／１２２２３２号に記載されている。上記文献の内容は、参照により本明細書に取り込まれる。

（各層の配置）
コレステリック液晶層と、コレステリック液晶層に接触した中間層と、中間層に接触した粘着層とがこの順に配置されている限り、成型用加飾シートの各層の配置は制限されない。成型用加飾シートの各層は、次のように配置されてもよい。「／」は、層の境界を示す。
（１）コレステリック液晶層／中間層／粘着層
（２）基材／コレステリック液晶層／中間層／粘着層
（３）コレステリック液晶層／中間層／粘着層／基材
（４）基材／コレステリック液晶層／中間層／粘着層／基材
（５）着色層／コレステリック液晶層／中間層／粘着層
（６）粘着層／中間層／コレステリック液晶層／中間層／粘着層
（７）コレステリック液晶層／中間層／粘着層／中間層／コレステリック液晶層／基材

（成型用加飾シートの製造方法）
目的とする成型用加飾シートが得られる限り、成型用加飾シートの製造法は制限されない。本開示の一実施形態に係る成型用加飾シートの製造方法は、基材の上に液晶組成物を含む組成物（すなわち、液晶組成物）を塗布することと、基材の上に塗布された液晶組成物を硬化して、コレステリック液晶層を形成することと、コレステリック液晶層の上に中間層を形成することと、中間層の上に粘着層を形成することと、を含むことが好ましい。

液晶組成物の態様は、上記「コレステリック液晶層」の項に記載されている。液晶組成物の好ましい態様は、上記「コレステリック液晶層」の項に記載された液晶組成物の好ましい態様と同じである。

基材としては、例えば、上記「基材」の項に記載された基材が挙げられる。

液晶組成物の塗布方法としては、例えば、ロールコーティング方式、グラビア印刷方式及びスピンコート方式が挙げられる。液晶組成物の塗布方法としては、例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法及びダイコーティング法も挙げられる。液晶組成物は、インクジェット装置を用いてノズルから吐出されてもよい。

基材の上に塗布された液晶組成物は、硬化前に、公知の方法によって乾燥されてもよい。液晶組成物は、例えば、上記「コレステリック液晶層」の項に記載された方法によって乾燥される。

基材の上に塗布された液晶組成物の硬化方法は、制限されない。液晶組成物は、例えば、上記「コレステリック液晶層」の項に記載された方法によって硬化される。

中間層は、例えば、上記「中間層」の項に記載された方法によって形成される。本開示では、コレステリック液晶層と中間層との貼り合わせによって、コレステリック液晶層の上に中間層を形成することが好ましい。コレステリック液晶層と中間層との貼り合わせにおいて、基材と中間層とを含む積層体を使用することが好ましい。基材と中間層とを含む積層体は、例えば、基材の上に中間層形成用組成物を塗布することによって製造される。コレステリック液晶層と中間層との貼り合わせは、公知のラミネーターを用いて実施されてもよい。コレステリック液晶層と中間層との貼り合わせは、加熱条件下で実施されてもよい。

粘着層は、例えば、上記「粘着層」の項に記載された方法によって形成される。本開示では、中間層と粘着層との貼り合わせによって、中間層の上に粘着層を形成することが好ましい。中間層と粘着層との貼り合わせは、公知のラミネーターを用いて実施されてもよい。中間層と粘着層との貼り合わせは、加熱条件下で実施されてもよい。

（成型用加飾シートの用途）
本開示の一実施形態に係る成型用加飾シートは、成型を経て対象物を装飾できる。対象物としては、例えば、自動車（例えば、自動車の内外装）、電子デバイス（例えば、電子デバイスの筐体）及び包装容器が挙げられる。本開示の一実施形態に係る成型用加飾シートは、対象物を装飾する際に成型されてもよい。本開示の一実施形態に係る成型用加飾シートは、対象物を装飾する前に成型されてもよい。好ましい成型方法は、下記「成型物」の項に記載されている。

＜成型物＞
本開示の一実施形態に係る成型物は、本開示の一実施形態に係る成型用加飾シートを成型してなる成型物である。

成型用加飾シートの態様は、上記「成型用加飾シート」の項に記載されている。成型用加飾シートの好ましい態様は、上記「成型用加飾シート」の項に記載された成型用加飾シートの好ましい態様と同じである。

成型用加飾シートの成型方法は、制限されない。成型用加飾シートは、公知の方法によって成型されてもよい。好ましい成型方法としては、例えば、立体成型及びインサート成型が挙げられる。

立体成型としては、例えば、熱成型、真空成型、圧空成型及び真空圧空成型が挙げられる。真空とは、室内を真空引きし、１００Ｐａ以下の真空度とした状態を指す。

立体成型における温度は、６０℃以上であることが好ましく、８０℃以上であることがより好ましく、１００℃以上であることが更に好ましい。立体成型における温度の上限は、２００℃であることが好ましい。

真空成型は、例えば、真空下の加熱した状態で実施されることが好ましい。真空成型は、例えば、成型分野で広く知られている真空成型技術を利用して実施される。真空成型は、例えば、日本製図器工業株式会社製のＦｏｒｍｅｃｈ５０８ＦＳを用いて実施されてもよい。

インサート成型において、成型物は、例えば、金型内に成型用加飾シートを予め配置して、金型内に基材樹脂を射出成型することにより得られる。インサート成型により、樹脂成型物の表面に成型用加飾シートが一体化された成型物が得られる。インサート成型の好ましい態様は、例えば、国際公開第２０２０／１２２２３２号に記載されている。上記文献の内容は、参照により本明細書に取り込まれる。

本開示の一実施形態に係る成型物の用途としては、例えば、自動車（例えば、自動車の内外装）、電子デバイス（例えば、電子デバイスの筐体）及び包装容器が挙げられる。ただし、本開示の一実施形態に係る成型物の用途は、上記した具体例に制限されるものではない。

＜成型物＞
本開示の一実施形態に係る電子デバイスは、本開示の一実施形態に係る成型物を含む。成型物の態様は、上記「成型物」の項に記載されている。電子デバイスにおける成型物の配置及び形状は、目的に応じて決定されてもよい。成型物は、電子デバイスの筐体に含まれてもよい。電子デバイスとしては、例えば、スマートフォン、携帯電話及びタブレットが挙げられる。

以下、実施例により本開示を詳細に説明するが、本開示はこれらに限定されるものではない。以下の説明において、特に断りのない限り、「％」とは「質量％」を意味し、「部」とは「質量部」を意味する。

＜原材料＞
（液晶化合物１）
液晶化合物１は、以下の化学式により表される。

（液晶化合物２）
液晶化合物２は、以下の化学式により表される。

（液晶化合物３）
液晶化合物３は、以下の化学式により表される。

（キラル化合物１）
キラル化合物１は、以下の化学式により表される。

（キラル化合物２）
キラル化合物２は、以下の化学式により表される。

（界面活性剤１）
界面活性剤１は、以下の化学式により表される。

（界面活性剤２）
界面活性剤２は、以下の化学式により表される。

（変性ポリビニルアルコール１）
変性ポリビニルアルコール１は、以下の化学式により表される。各構成単位の右下に記載された数字の単位はｍｏｌ％を表す。変性ポリビニルアルコール１のＳＰ値は、２４．０ＭＰａ^１／２である。変性ポリビニルアルコール１は、本開示における特定重合体である。変性ポリビニルアルコール２の重合度は、４００である。

（変性ポリビニルアルコール２）
変性ポリビニルアルコール２は、以下の化学式により表される。各構成単位の右下に記載された数字の単位はｍｏｌ％を表す。変性ポリビニルアルコール２のＳＰ値は、２４．０ＭＰａ^１／２である。変性ポリビニルアルコール２は、本開示における特定重合体であり、かつ、式（Ｉ）で表される変性ポリビニルアルコールに包含される。変性ポリビニルアルコール２の重合度は、２８０である。

（変性ポリビニルアルコール３）
変性ポリビニルアルコール３は、以下の化学式により表される。各構成単位の右下に記載された数字の単位はｍｏｌ％を表す。変性ポリビニルアルコール２のＳＰ値は、２４．１ＭＰａ^１／２である。変性ポリビニルアルコール３は、本開示における特定重合体であり、かつ、式（Ｉ）で表される変性ポリビニルアルコールに包含される。変性ポリビニルアルコール３の重合度は、３５０である。

（変性ポリビニルアルコール４）
変性ポリビニルアルコール４は、以下の化学式により表される。各構成単位の右下に記載された数字の単位はｍｏｌ％を表す。変性ポリビニルアルコール４のＳＰ値は、２３．８ＭＰａ^１／２である。変性ポリビニルアルコール４は、本開示における特定重合体であり、かつ、式（Ｉ）で表される変性ポリビニルアルコールに包含される。変性ポリビニルアルコール４の重合度は、３００である。

（比較化合物１）
比較化合物１は、以下の化学式により表される。比較化合物１のＳＰ値は、２２．８ＭＰａ^１／２である。比較化合物１の重量平均分子量は、３００である。

＜実施例１＞
以下の手順に従って、コレステリック液晶層形成用基材と、コレステリック液晶層１と、中間層１と、粘着層と、透明ＰＥＴ重剥離フィルムと、をこの順に含む積層体１Ａを得た。「ＰＥＴ」は、ポリエチレンテレフタレートの略称である。

（コレステリック液晶層形成用基材の準備）
コスモシャインＡ４１６０（厚み：１００μｍ、片面易接着処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、東洋紡株式会社製）を幅手方向２１０ｍｍ、長手方向３００ｍｍに裁断し、コレステリック液晶層形成用基材（以下、本段落において「基材」という。）を準備した。次に、基材の易接着処理面とは反対の面に対して、基材の短辺方向を基準に反時計回りに３°回転させた方向にラビング処理（レーヨン布、圧力：０．１ｋｇｆ、回転数：１，０００ｒｐｍ（revolutions per minute、以下同じ。）、搬送速度：１０ｍ／分、回数：１回）を施した。

（液晶組成物の調製）
下記の組成を有する液晶組成物１を調製した。液晶組成物１の固形分の総量に対する多官能重合性化合物の総量の割合は、１７．６質量％である。本段落における「多官能重合性化合物」とは、具体的に、液晶化合物３を意味する。
・液晶化合物１：１０．５９質量部
・液晶化合物２：１０．５９質量部
・液晶化合物３：５．２９質量部
・キラル化合物１：２．６５質量部
・光重合開始剤（２，４－ジエチル－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン）：０．７９質量部
・界面活性剤１：０．０８質量部
・界面活性剤２：０．０１質量部
・有機溶剤１（メチルエチルケトン）：６３．００質量部
・有機溶剤２（シクロヘキサノン）：７．００質量部

（コレステリック液晶層の形成）
コレステリック液晶層形成用基材のラビング処理面に対し、ワイヤーバー（番手＃７）を用いて液晶組成物１を塗布した後、８０℃で２分間乾燥させ、コレステリック液晶層形成用基材と液晶層とを含む積層体を得た。次に、６０℃のホットプレートの上に積層体を置いて、低酸素雰囲気下（酸素濃度：１，０００ｐｐｍ以下）で、積層体の液晶層に対して、メタルハライドランプ(株式会社ＧＳユアサ製ＭＡＬ６２５ＮＡＬ)を用いて３００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で光を照射し、液晶層を硬化させ、コレステリック液晶層１を形成した。

（中間層形成用基材の準備）
テクノロイＣ０００（厚み：１００μｍ、ポリカーボネートフィルム、住化アクリル販売株式会社製）を幅手方向２１０ｍｍ、長手方向３００ｍｍに裁断し、中間層形成用基材を準備した。

（中間層形成用組成物の調製）
下記の組成を有する中間層形成用組成物１を調製した。
・変性ポリビニルアルコール１：３．００質量部
・水（溶剤）：６７．９０質量部
・メタノール（溶剤）：２９．１０質量部

（中間層の形成）
中間層形成用基材に対し、ワイヤーバー（番手＃１４）を用いて中間層形成用組成物１を塗布した後、１００℃にて２分間乾燥させ、中間層形成用基材と中間層１とを含む積層体を得た。コレステリック液晶層１の表面及び中間層１の表面の各々に対して、卓上コロナ処理装置（ＴＥＣ－８ＸＡ、春日電機株式会社製、設定出力：７０Ｗ、操作速度：１ｍ／分、回数：５往復）を用いてコロナ処理を行った。コレステリック液晶層１と中間層１とを向かい合わせた状態で、８０℃に加熱したラミネーター(ＦＥＬＬＯＷＥＳ社製ＰＲＯＴＥＵＳ Ａ３)を用いてコレステリック液晶層１と中間層１を貼り合わせた。得られた積層体は、コレステリック液晶層形成用基材と、コレステリック液晶層１と、中間層１と、中間層形成用基材と、をこの順に含む。

（粘着層の形成）
日榮新化株式会社製Ｇ２５(アクリル系粘着剤、粘着層の厚み：２５μｍ、層構成：透明ＰＥＴ軽剥離フィルム／粘着層／透明ＰＥＴ重剥離フィルム)を幅手方向２１０ｍｍ、長手方向３００ｍｍに裁断し、粘着シートを準備した。中間層１から中間層形成用基材を剥離した。粘着シートから透明ＰＥＴ軽剥離フィルムを剥離した。中間層と粘着層とを向かい合わせた状態で、常温のラミネーター(ＦＥＬＬＯＷＥＳ社製ＰＲＯＴＥＵＳ Ａ３)を用いて中間層１と粘着層とを貼り合わせた。得られた積層体１Ａは、コレステリック液晶層形成用基材と、コレステリック液晶層１と、中間層１と、粘着層と、透明ＰＥＴ重剥離フィルムと、をこの順に含む。

＜実施例２＞
中間層形成用組成物１を中間層形成用組成物２に変更したこと以外は、実施例１と同じ手順に従って、コレステリック液晶層形成用基材と、コレステリック液晶層１と、中間層２と、粘着層と、透明ＰＥＴ重剥離フィルムと、をこの順に含む積層体２Ａを得た。中間層形成用組成物２の組成を以下に示す。
・変性ポリビニルアルコール２：２．６３質量部
・クエン酸エステル（ＡＳ３、三共化学株式会社製）：０．０５質量部
・グルタルアルデヒド：０．１３質量部
・光重合開始剤（Ｏｍｎｉｒａｄ２９５９、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ.Ｖ.社製）：０．２０質量部
・水（溶剤）：６７．９０質量部
・メタノール（溶剤）：２９．１０質量部

＜実施例３＞
中間層形成用組成物２を中間層形成用組成物３に変更したこと以外は、実施例２と同じ手順に従って、コレステリック液晶層形成用基材と、コレステリック液晶層１と、中間層３と、粘着層と、透明ＰＥＴ重剥離フィルムと、をこの順に含む積層体３Ａを得た。中間層形成用組成物３の組成は、変性ポリビニルアルコール２を変性ポリビニルアルコール３に変更したこと以外は、中間層形成用組成物２と同じ組成である。

＜実施例４＞
中間層形成用組成物２を中間層形成用組成物４に変更したこと以外は、実施例２と同じ手順に従って、コレステリック液晶層形成用基材と、コレステリック液晶層１と、中間層４と、粘着層と、透明ＰＥＴ重剥離フィルムと、をこの順に含む積層体４Ａを得た。中間層形成用組成物４の組成は、変性ポリビニルアルコール２を変性ポリビニルアルコール４に変更したこと以外は、中間層形成用組成物２と同じ組成である。

＜実施例５＞
以下の組成を有する液晶組成物２を調製した。液晶組成物２の固形分の総量に対する多官能重合性化合物の総量の割合は、３５．３質量％である。本段落における「多官能重合性化合物」とは、具体的に、液晶化合物３を意味する。
・液晶化合物１：７．９４質量部
・液晶化合物２：７．９４質量部
・液晶化合物３：１０．５８質量部
・キラル化合物１：２．６５質量部
・光重合開始剤（２，４－ジエチル－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン）：０．７９質量部
・界面活性剤１：０．０８質量部
・界面活性剤２：０．０１質量部
・有機溶剤１（メチルエチルケトン）：６３．００質量部
・有機溶剤２（シクロヘキサノン）：７．００質量部

液晶組成物１を液晶組成物２に変更したこと以外は、実施例４と同じ手順に従って、コレステリック液晶層形成用基材と、コレステリック液晶層２と、中間層４と、粘着層と、透明ＰＥＴ重剥離フィルムと、をこの順に含む積層体５Ａを得た。

＜実施例６＞
実施例１の「コレステリック液晶層形成用基材の準備」の項に記載された方法に従って、ラビング処理されたコレステリック液晶層形成用基材（すなわち、コスモシャインＡ４１６０をいう。以下、本段落において「基材」という。）を準備した。実施例４の記載に従って、中間層形成用組成物４を調製した。基材のラビング処理面に対し、ワイヤーバー（番手＃１４）を用いて中間層形成用組成物４を塗布し、１００℃で２分間乾燥させ、中間層４Ａを形成した。中間層４Ａの表面に対して、基材の短辺方向を基準に反時計回りに３°回転させた方向にラビング処理（レーヨン布、圧力：０．１ｋｇｆ、回転数：１，０００ｒｐｍ、搬送速度：１０ｍ／分、回数：１回）を施した。以上の手順によって、基材と、中間層４Ａと、を含む積層体を得た。

コレステリック液晶層形成用基材を既述の積層体に変更したこと以外は、実施例４と同じ手順に従って、コレステリック液晶層形成用基材と、中間層４Ａと、コレステリック液晶層１と、中間層４と、粘着層と、透明ＰＥＴ重剥離フィルムと、をこの順に含む積層体を得た。

中間層４Ａからコレステリック液晶層形成用基材を剥離した。別途準備した日榮新化株式会社製Ｇ２５から透明ＰＥＴ軽剥離フィルムを剥離し、粘着層の表面を露出した。中間層４Ａと粘着層とを向い合わせた状態で、常温のラミネーター(ＦＥＬＬＯＷＥＳ社製ＰＲＯＴＥＵＳ Ａ３)を用いて中間層４Ａと粘着層とを貼り合わせた。得られた積層体６Ａは、透明ＰＥＴ重剥離フィルムと、粘着層と、中間層４Ａと、コレステリック液晶層１と、中間層４と、粘着層と、透明ＰＥＴ重剥離フィルムと、をこの順に含む。

＜実施例７＞
中間層形成用組成物の塗布に用いるワイヤーバー（番手＃１４）をワイヤーバー（番手＃７）に変更したこと以外は、実施例４と同じ手順に従って、コレステリック液晶層形成用基材と、コレステリック液晶層１と、中間層４と、粘着層と、透明ＰＥＴ重剥離フィルムと、をこの順に含む積層体７Ａを得た。

＜実施例８＞
以下の組成を有する液晶組成物３を調製した。液晶組成物３の固形分の総量に対する多官能重合性化合物の総量の割合は、１８．１質量％である。本段落における「多官能重合性化合物」とは、具体的に、液晶化合物３及びキラル化合物２を意味する。
・液晶化合物１：１０．８７質量部
・液晶化合物２：１０．８７質量部
・液晶化合物３：５．４４質量部
・キラル化合物２：１．９０質量部
・光重合開始剤（２，４－ジエチル－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン）：０．８２質量部
・界面活性剤１：０．０８質量部
・界面活性剤２：０．０１質量部
・有機溶剤１（メチルエチルケトン）：６３．００質量部
・有機溶剤２（シクロヘキサノン）：７．００質量部

液晶組成物１を液晶組成物３に変更したこと以外は、実施例４と同じ手順に従って、コレステリック液晶層形成用基材と、コレステリック液晶層３と、中間層４と、粘着層と、透明ＰＥＴ重剥離フィルムと、をこの順に含む積層体を得た。

更に、中間層４Ａと粘着層とを貼り合わせる工程を除いた以外は実施例６と同じ手順に従って、中間層４Ａと、コレステリック液晶層１と、中間層４と、粘着層と、透明ＰＥＴ重剥離フィルムと、をこの順に含む積層体を得た。

コレステリック液晶層形成用基材と、コレステリック液晶層３と、中間層４と、粘着層と、透明ＰＥＴ重剥離フィルムと、をこの順に含む積層体の透明ＰＥＴ重剥離フィルムを剥離し、粘着層の表面を露出した。中間層４Ａと露出した粘着層とを向い合わせた状態で、常温のラミネーター(ＦＥＬＬＯＷＥＳ社製ＰＲＯＴＥＵＳ Ａ３)を用いて中間層４Ａと粘着層とを貼り合わせた。得られた積層体８Ａは、コレステリック液晶層形成用基材と、コレステリック液晶層３と、中間層４と、粘着層と、中間層４Ａと、コレステリック液晶層１と、中間層４と、粘着層と、透明ＰＥＴ重剥離フィルムと、をこの順に含む。

＜比較例１＞
中間層形成用組成物１を中間層形成用組成物５に変更したこと以外は、実施例１と同じ手順に従って、コレステリック液晶層形成用基材と、コレステリック液晶層１と、中間層５と、粘着層と、透明ＰＥＴ重剥離フィルムと、をこの順に含む積層体１Ｂを得た。中間層形成用組成物５の組成を以下に示す。
・比較化合物１：２．７９質量部
・光重合開始剤（Ｏｍｎｉｒａｄ２９５９、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ.Ｖ.社製）：０．２１質量部
・アセトン（溶剤）：９７．００質量部

＜比較例２＞
中間層を設けず、コレステリック液晶層１に粘着層を接触させたこと以外は、実施例１と同じ手順に従って、コレステリック液晶層形成用基材と、コレステリック液晶層１と、粘着層と、透明ＰＥＴ重剥離フィルムと、をこの順に含む積層体２Ｂを得た。

＜比較例３＞
以下の組成を有する液晶組成物４を調製した。液晶組成物４の組成を以下に示す。液晶組成物４の固形分の総量に対する多官能重合性化合物の総量の割合は、５２．９質量％である。本段落における「多官能重合性化合物」とは、具体的に、液晶化合物３を意味する。
・液晶化合物１：５．２９質量部
・液晶化合物２：５．２９質量部
・液晶化合物３：１５．８８質量部
・キラル化合物１：２．６５質量部
・光重合開始剤（２，４－ジエチル－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン）：０．７９質量部
・界面活性剤１：０．０８質量部
・界面活性剤２：０．０１質量部
・有機溶剤１（メチルエチルケトン）：６３．００質量部
・有機溶剤２（シクロヘキサノン）：７．００質量部

液晶組成物１を液晶組成物４に変更したこと以外は、比較例２と同じ手順に従って、コレステリック液晶層形成用基材と、コレステリック液晶層４と、粘着層と、透明ＰＥＴ重剥離フィルムと、をこの順に含む積層体３Ｂを得た。

＜比較例４＞
液晶組成物１を、液晶組成物４に変更したこと以外は、実施例４と同じ手順に従って、コレステリック液晶層形成用基材と、コレステリック液晶層４と、中間層４と、粘着層と、透明ＰＥＴ重剥離フィルムと、をこの順に含む積層体４Ｂを得た。

＜比較例５＞
実施例１の記載に従って、コレステリック液晶層形成用基材（以下、本段落において「基材」という。）の上にコレステリック液晶層１を形成した。実施例１の記載に従って、粘着シートを準備し、粘着シートから透明ＰＥＴ軽剥離フィルムを剥離した。基材と粘着層とを向かい合わせた状態で、常温のラミネーター（ＦＥＬＬＯＷＥＳ社製ＰＲＯＴＥＵＳ Ａ３）を用いて基材と粘着層とを貼り合わせた。得られた積層体５Ｂは、透明ＰＥＴ重剥離フィルムと、粘着層と、基材と、コレステリック液晶層１と、をこの順に含む。

＜比較例６＞
中間層形成用組成物４を中間層形成用組成物６に変更したこと以外は、実施例４と同じ手順に従って、コレステリック液晶層形成用基材と、コレステリック液晶層１と、中間層６と、粘着層と、透明ＰＥＴ重剥離フィルムと、をこの順に含む積層体６Ｂを得た。中間層形成用組成物６の組成は、変性ポリビニルアルコール４の２．６３質量部のうち１．５８質量部を比較化合物１に置き換えたこと以外は、中間層形成用組成物４と同じ組成である。

＜中間層の厚さの測定＞
ローラーカッターを用いて、積層体から幅５ｍｍ×長さ２ｍｍのサンプル片を切り出した。サンプル片をエポキシ樹脂で包埋し、ミクロト－ム（製品名「ＲＭ２２６５」、Ｌｅｉｃａ社製）を用いて、積層体の厚み方向に向かって切断した。走査型電子顕微鏡（型式「Ｓ-５５００」、株式会社日立ハイテク製、観察倍率：１０，０００倍、加速電圧：２．０ｋＶ）を用いて、断面のＳＥＭ画像を観察し、中間層の厚さを測定した。測定結果を表１及び表２に示す。複数の中間層を含む積層体に関して、特に断りのない限り、表１及び表２に示される中間層の厚さは、各中間層の厚さを示す。

＜評価＞
実施例及び比較例で得られた各積層体（すなわち、積層体１Ａ～８Ａ及び１Ｂ～６Ｂ）を用いて、以下の評価を行った。

（反射帯域中心波長）
紫外可視近赤外分光光度計ＵＶ－３１００ＰＣ（株式会社島津製作所製）を用いて、積層体の透過スペクトルを測定した。得られた透過率スペクトルの強度を反転させ、積層体の反射スペクトルとして扱った。反射スペクトルを用いて、反射率の極大値、かつ、最大値をＲ_ｍａｘ（％）とし、下記式で表される半値反射率Ｒ^１／２（％）を示す２つの波長の平均値を反射帯域中心波長とした。測定結果を表１及び表２に示す。
式：Ｒ^１／２＝Ｒ_ｍａｘ÷２

（熱耐久性）
積層体から透明ＰＥＴ重剥離フィルムを剥離した後、露出した粘着層とＰＥＴフィルム（厚み：１００μｍ、コスモシャインＡ４３６０、東洋紡株式会社製）とを貼り合わせた。なお、実施例６で得られた積層体については、積層体から２枚の透明ＰＥＴ重剥離フィルムを剥離した後、露出した２つの粘着層の各々とＰＥＴフィルムとを貼り合わせた。紫外可視近赤外分光光度計ＵＶ－３１００ＰＣ（株式会社島津製作所製）を用いて、得られた積層体の透過スペクトルを測定した。次に、積層体を、８０℃のオーブン中で５００時間静置した。オーブンとして、エスペック株式会社製のＳＨ－２２１を使用した。５００時間経過後、既述した方法に従って、積層体の透過スペクトルを測定した。得られた透過率スペクトルの強度を反転させ、積層体の反射スペクトルとして扱った。反射スペクトルを用いて、反射率の極大値、かつ、最大値をＲ_ｍａｘ（％）とし、下記式で表される半値反射率Ｒ^１／２（％）を示す２つの波長の平均値を反射帯域中心波長とした。
式：Ｒ^１／２＝Ｒ_ｍａｘ÷２

加熱前の積層体の透過スペクトルに基づいて算出された反射帯域中心波長λ１と、加熱後の積層体の透過スペクトルに基づいて算出された反射帯域中心波長λ２との差の絶対値を求めた。λ１とλ２との差の絶対値（｜λ１－λ２｜）、すなわち、反射帯域中心波長の変化の度合いに基づいて、以下の基準に従って、熱耐久性を評価した。評価結果を表１及び表２に示す。Ａ又Ｂが合格レベルである。
・Ａ：｜λ１－λ２｜≦５ｎｍ
・Ｂ：５ｎｍ＜｜λ１－λ２｜≦１５ｎｍ
・Ｃ：１５ｎｍ＜｜λ１－λ２｜

（湿熱耐久性）
８０℃のオーブン中で積層体を加熱する方法を、６０℃及び９０％ＲＨの湿熱オーブン中で積層体を加熱する方法に変更したこと以外は、上記「熱耐久性」の項に記載した方法及び基準に従って、湿熱耐久性を評価した。湿熱オーブンとして、エスペック株式会社製のＳＨ－２２１を使用した。評価結果を表１及び表２に示す。

（成型性）
積層体から透明ＰＥＴ重剥離フィルムを剥離した後、露出した粘着層とＡ－ＰＥＴフィルム（厚み：２００μｍ、ミネロン化成工業株式会社製）とを貼り合わせた。なお、実施例６で得られた積層体については、積層体から２枚の透明ＰＥＴ重剥離フィルムを剥離した後、露出した２つの粘着層の各々とＡ－ＰＥＴフィルムとを貼り合わせた。さらに、積層体（ただし、実施例６及び比較例５で得られた積層体を除く。）のコレステリック液晶層形成用基材を剥離した。積層体を１０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに裁断し、熱テンシロン（株式会社エー・アンド・デイ社製ＲＴＦ－１３１０及び恒温試験装置ＴＫＣ）を用いて、８０℃の雰囲気中で１，０００ｍｍ／秒の速度で引っ張り試験を行った。試料が破断せずに延伸できる最大値を測定し、得られた値を破断伸度として採用した。以下の基準に従って、成型性を評価した。評価結果を表１及び表２に示す。Ａ又Ｂが合格レベルである。
・Ａ：２０％≦破断伸度
・Ｂ：１０％≦破断伸度＜２０％
・Ｃ：破断伸度＜１０％

（密着性）
積層体（ただし、実施例６で得られた積層体を除く。）の透明ＰＥＴ重剥離フィルムを剥離した後、露出した粘着層とガラスとを貼り合わせた。実施例６で得られた積層体については、コレステリック液晶層を基準に中間層４Ａに近い透明ＰＥＴ重剥離フィルムを剥離した後、露出した粘着層とガラスとを貼り合わせ、さらに、コレステリック液晶層を基準に中間層４に近い透明ＰＥＴ重剥離フィルムを剥離した後、露出した粘着層にＰＥＴフィルム(厚み：３８μｍ、コスモシャインＡ４３６０、東洋紡株式会社製)を貼り付けた。次に、積層体（ただし、実施例６及び比較例５で得られた積層体を除く。）のコレステリック液晶層形成用基材を剥離した。「ＪＩＳ Ｋ ５６００」に定められた方法でクロスカット試験を行い、以下の基準に従って、ガラスに対する積層体の密着性を評価した。評価結果を表１及び表２に示す。
・Ａ：１００マス中の剥離数が０マスであった。
・Ｂ：１００マス中の剥離数が１マス～１９マスであった。
・Ｃ：１００マス中の剥離数が２０マス以上であった。

表１及び表２における次の用語は、それぞれ、以下の意味を有する。
「基材」：コレステリック液晶層形成用基材
「液晶層」：コレステリック液晶層
「剥離フィルム」：透明ＰＥＴ重剥離フィルム
「多官能重合性化合物の含有率」：液晶組成物の固形分の総量に対する多官能重合性化合物の総量の割合
「特定重合体の含有率」：中間層の固形分の総量に対する特定重合体の総量の割合
「ＳＰ値」：特定重合体又は比較化合物のＳＰ値
「ｙ１」：式（Ｉ）で表される変性ポリビニルアルコールにおけるｙ１（単位：ｍｏｌ％）

表１及び表２は、比較例１～６に比べて、実施例１～８における成型性及び熱耐久性が優れていることを示す。

Claims (10)

1. コレステリック液晶層と、
   前記コレステリック液晶層に接触した中間層と、
   前記中間層に接触した粘着層と、をこの順に含み、
   前記中間層が、２３．０ＭＰａ^１／２以上のＳＰ値を有する重合体を含み、
   前記中間層の固形分の総量に対する前記重合体の総量の割合が、６０質量％以上であり、
   ８０℃の環境下で測定される破断伸度が、１０％以上である、
   成型用加飾シート。
2. 前記重合体が、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールからなる群より選択される少なくとも１種を含む、請求項１に記載の成型用加飾シート。
3. 前記重合体が、エチレン性不飽和基及び環状エーテル基からなる群より選択される少なくとも１種を有する変性ポリビニルアルコールを含む、請求項１又は請求項２に記載の成型用加飾シート。
4. 前記重合体が、下記式（Ｉ）で表される変性ポリビニルアルコールを含む、請求項１～請求項３のいずれか１項に記載の成型用加飾シート。
   

   

   
   式（Ｉ）中、Ｌ^１１は、アミド結合、エーテル結合、ウレタン結合又はエステル結合を含む連結基を表し、Ｒ^１１は、アルキレン基又はアルキレンオキシ基を表し、Ｌ^１２は、単結合又は連結基を表し、Ｑ^１１は、エチレン性不飽和基又は環状エーテル基を表し、ｘ１＋ｙ１＋ｚ１＝１００ｍｏｌ％の前提にて、ｘ１は、１０ｍｏｌ％～９９．９ｍｏｌ％を表し、ｙ１は、０．０１ｍｏｌ％～８０ｍｏｌ％を表し、ｚ１は、０ｍｏｌ％～７０ｍｏｌ％を表し、ｋは、０又は１であり、ｈは、０又は１である。
5. 前記ｙ１が、０．５ｍｏｌ％～１５ｍｏｌ％である、請求項４に記載の成型用加飾シート。
6. 反射帯域中心波長が、３５０ｎｍ～１，２００ｎｍである、請求項１～請求項５のいずれか１項に記載の成型用加飾シート。
7. ８０℃の環境下で５００時間の加熱試験前に測定される反射帯域中心波長と、８０℃の環境下で５００時間の加熱試験後に測定される反射帯域中心波長との差の絶対値が、０ｎｍ～１５ｎｍである、請求項１～請求項６のいずれか１項に記載の成型用加飾シート。
8. ６０℃及び９０％ＲＨの環境下で５００時間の加熱試験前に測定される反射帯域中心波長と、６０℃及び９０％ＲＨの環境下で５００時間の加熱試験後に測定される反射帯域中心波長との差の絶対値が、０ｎｍ～１５ｎｍである、請求項１～請求項７のいずれか１項に記載の成型用加飾シート。
9. 請求項１～請求項８のいずれか１項に記載の成型用加飾シートを成型してなる成型物。
10. 請求項９に記載の成型物を含む電子デバイス。